特許 7330273出願番号特願 2021-526278
リソグラフィシステムのための自己整合システム及び方法

出願人アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド（識別番号 390040660）

2026年特許公開件数ランキング 31位 550件（※）

2026年特許取得件数ランキング 44位 403件（※）

公報発行日　2023年8月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7330273　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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［０００１］本開示の概して、１つ又は複数の基板を処理するための装置、システム、及び方法に関し、より具体的には、フォトリソグラフィプロセスを実行するための装置、システム、及び方法に関する。より具体的には、開示の態様は、自己整合デジタルリソグラフィツール及び方法

【図1A】本明細書に開示されたフォトリソグラフィシステムの斜視図である。

【図1B】本明細書に開示されたフォトリソグラフィシステムの斜視図である。

【図2A】本明細書に開示された画像投影装置の概略斜視図である。

【図2B】本明細書に開示された画像投影装置の概略斜視図である。

【図2C】本明細書に開示された画像投影装置の概略斜視図である。

【図3】マークセルがステージ上に位置付けされた状態のステージの概略図である。

【図4A】アイカメラＦＯＶを有するステージの概略図である。

【図4B】アイカメラＦＯＶを有するステージの概略図である。

【図5】並行位置合わせの目的で使用されるステージの概略図である。

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