(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-08-15
(45)【発行日】2023-08-23
(54)【発明の名称】含フッ素シラン化合物
(51)【国際特許分類】
C07F 7/12 20060101AFI20230816BHJP
C07F 7/18 20060101ALI20230816BHJP
【ＦＩ】
C07F7/12 Q CSP
C07F7/18 E
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2022085410
(22)【出願日】2022-05-25
(62)【分割の表示】P 2019503037の分割
【原出願日】2018-02-27
(65)【公開番号】P2022116175
(43)【公開日】2022-08-09
【審査請求日】2022-05-25
(31)【優先権主張番号】P 2017039894
(32)【優先日】2017-03-02
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002000
【氏名又は名称】弁理士法人栄光事務所
(72)【発明者】
【氏名】臼田 司
【審査官】土橋 敬介
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１６－１０８５６６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開昭５７－１４０７８８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０４－２９６３３６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０４－２８３５９０（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０７Ｆ
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（４）で表される化合物。【化1】
）
【請求項2】
ｃは０であり、Ｒ
１１
は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、請求項１に記載の化合物。
【請求項3】
下記式（５）で表される化合物。【化2】
【請求項4】
ｃは０であり、Ｒ
１
は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、請求項３に記載の化合物。
【請求項5】
下記式（６）で表される化合物。【化3】
【請求項6】
ｃは０であり、Ｒ
１
は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、請求項５に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、クロスメタセシス反応により含フッ素シラン化合物を製造する方法及び含フッ素シラン化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
フッ素原子を含む有機基を表面層に有する基材は、ディスプレイやメガネ、タッチパネルなど、撥水、撥油、防汚性が求められる用途において産業上有用である。ここで、フッ素原子を含む有機基は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、基材の表面処理剤に好適に用いられる。該表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。
【0003】
基材の表面に含フッ素化合物を導入する方法としては、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いる方法などが知られている。
例えば、特許文献１には含フッ素シラン化合物として、分子内に２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いる表面処理剤が開示されている。
例えば、特許文献１には含フッ素シラン化合物として、分子内に２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いる表面処理剤が開示されている。
【0004】
一方、金属触媒による二重結合組み換え反応であるオレフィンメタセシス反応（以下、単に、「オレフィンメタセシス」または「メタセシス」ということもある。）は、多彩な置換基を有するオレフィンの製造方法として広く利用されている。
例えば、非特許文献１では、種々の置換基を有するオレフィンの反応性が調べられており、非特許文献２では、ルテニウム錯体とフッ化ビニリデン（すなわち、１，１－ジフルオロエチレン）のオレフィンメタセシスが検討されている。
例えば、非特許文献１では、種々の置換基を有するオレフィンの反応性が調べられており、非特許文献２では、ルテニウム錯体とフッ化ビニリデン（すなわち、１，１－ジフルオロエチレン）のオレフィンメタセシスが検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】国際公開第２０１４／０６９５９２号
【非特許文献】
【0006】
【文献】Ｃｈａｔｔｅｒｊｅｅ，Ａ．Ｋ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２００３，１２５，１１３６０－１１３７０．
【文献】Ｔｒｎｋａ，Ｔ．ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００１，４０，３４４１－３４４４．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、従来の含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤は長期の使用による性能の低下が懸念され、例えば、摩擦耐久性が充分でない等、改善の余地があった。
【0008】
また、電子求引性置換基を有する電子不足オレフィンは反応性が低いため、オレフィンメタセシスに利用することは容易ではない。実際、非特許文献１では、電子不足オレフィンの反応性が低いと記載されている。
さらに、フッ素原子や塩素原子等、ハロゲン原子を有するオレフィンも電子不足オレフィンであるため、オレフィンメタセシスに用いた報告はほとんどなく、非特許文献２では、期待した生成物すなわちエチレン及びテトラフルオロエチレンは全く得られなかったと述べられている。
さらに、フッ素原子や塩素原子等、ハロゲン原子を有するオレフィンも電子不足オレフィンであるため、オレフィンメタセシスに用いた報告はほとんどなく、非特許文献２では、期待した生成物すなわちエチレン及びテトラフルオロエチレンは全く得られなかったと述べられている。
【0009】
そのため、工業的に入手容易な含フッ素化合物を用いて、反応性炭素－炭素二重結合を有する含フッ素シラン化合物を、温和な条件下で簡便かつ効率的に製造できれば、基材表面に架橋性部位を有する含フッ素アルキル基を導入する事が可能となり、既存手法と比較して耐久性の高い基材を製造できる。
【0010】
本発明は、上記従来の実情を鑑みてなされたものであって、オレフィンメタセシスにより、反応性炭素－炭素二重結合を有する含フッ素シラン化合物を温和な条件下で簡便かつ効率的に製造できる製造方法及び新規な含フッ素シラン化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、特定の化合物同士をクロスメタセシス反応させることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は下記＜１＞～＜１１＞に関するものである。
＜１＞下記式（１’）で表される化合物と、下記式（２）で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式（３’）で表される化合物の製造方法。
すなわち、本発明は下記＜１＞～＜１１＞に関するものである。
＜１＞下記式（１’）で表される化合物と、下記式（２）で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式（３’）で表される化合物の製造方法。
【0012】
【化1】
【0013】
（式中、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｑはフッ素原子を含み、かつヘテロ原子を有していてもよいｈ価の有機基であり、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアル
キル基を表し、ｈは２以上の自然数を表し、複数存在するＺ１、Ｚ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｒ４、Ｘがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
キル基を表し、ｈは２以上の自然数を表し、複数存在するＺ１、Ｚ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｒ４、Ｘがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【0014】
＜２＞下記式（１）で表される化合物と、下記式（２）で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式（３）で表される化合物の製造方法。
【0015】
【化2】
【0016】
（式中、ａは０または１であり、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ１はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ４、Ｘがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【0017】
＜３＞ａは０または１であり、ｂは０であり、ｃは０であり、Ｘは塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基を表し、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、前記＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ（メトキシメトキ
シ）基、ペルフルオロ（プロポキシプロポキシ）基、ペンタフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニルオキシ基を表す、前記＜２＞または＜３＞に記載の製造方法。
＜５＞下記式（３’）で表される化合物。
＜４＞Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ（メトキシメトキ
シ）基、ペルフルオロ（プロポキシプロポキシ）基、ペンタフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニルオキシ基を表す、前記＜２＞または＜３＞に記載の製造方法。
＜５＞下記式（３’）で表される化合物。
【0018】
【化3】
【0019】
（式中、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、Ｑはフッ素原子を含み、かつヘテロ原子を有していてもよいｈ価の有機基であり、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、ｈは２以上の自然数を表し、Ｒ４、Ｘがそれぞれ複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【0020】
＜６＞下記式（４）で表される化合物。
【0021】
【化4】
【0022】
（式中、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１１は１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ１１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ４が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。）
【0023】
＜７＞ｃは０であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１１は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、前記＜６＞に記載の化合物。
＜８＞下記式（５）で表される化合物。
＜８＞下記式（５）で表される化合物。
【0024】
【化5】
【0025】
（式中、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ４が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。）
【0026】
＜９＞ｂは０であり、ｃは０であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、前記＜８＞に記載の化合物。
＜１０＞下記式（６）で表される化合物。
＜１０＞下記式（６）で表される化合物。
【0027】
【化6】
【0028】
（式中、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ５は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ４、Ｒ５がそれぞれ複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【0029】
＜１１＞ｃは０であり、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｒ１は炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基を表し、Ｒ２はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表し、Ｒ３はフッ素原子、トリフルオ
ロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、前記＜１０＞に記載の化合物。
ロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基を表す、前記＜１０＞に記載の化合物。
【発明の効果】
【0030】
本発明によれば、新規で有用な反応性炭素－炭素二重結合を有する含フッ素シラン化合物を温和な条件下で簡便かつ効率的に製造できる。
【発明を実施するための形態】
【0031】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。また、本発明は金属触媒によるオレフィンメタセシスに関するものであり、従来技術と共通する一般的特徴については記載を省略することがある。
なお、本明細書において、「式（ｎ）で表される化合物」のことを、単に「化合物（ｎ）」と称する場合がある。
なお、本明細書において、「式（ｎ）で表される化合物」のことを、単に「化合物（ｎ）」と称する場合がある。
【0032】
また、本明細書において、炭素数とは、ある基全体に含まれる炭素原子の総数を意味し、該基が置換基を有さない場合は当該基の骨格を形成する炭素原子の数を表し、該基が置換基を有する場合は当該基の骨格を形成する炭素原子の数に置換基中の炭素原子の数を加えた総数を表す。
【0033】
エーテル性酸素原子とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子である。
アリール基とは、芳香族化合物において芳香環を形成する炭素原子の内いずれか１つの炭素原子に結合した１つの水素原子を取り去った残基に相当する一価の基を意味し、炭素環化合物から誘導されるホモアリール基と、ヘテロ環化合物から誘導されるヘテロアリール基とを合わせた総称で用いる。
（ペル）フルオロアルキル基とは、フルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称で用いる。すなわち該基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。（ペル）フルオロアルコキシ基、（ペル）フルオロアリール基、（ペル）フルオロアリールオキシ基についても同様である。
アリール基とは、芳香族化合物において芳香環を形成する炭素原子の内いずれか１つの炭素原子に結合した１つの水素原子を取り去った残基に相当する一価の基を意味し、炭素環化合物から誘導されるホモアリール基と、ヘテロ環化合物から誘導されるヘテロアリール基とを合わせた総称で用いる。
（ペル）フルオロアルキル基とは、フルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称で用いる。すなわち該基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。（ペル）フルオロアルコキシ基、（ペル）フルオロアリール基、（ペル）フルオロアリールオキシ基についても同様である。
【0034】
［クロスメタセシス反応］
本発明の一態様は、下記式（１）で表される化合物（化合物（１））と、下記式（２）で表される化合物（化合物（２））とをクロスメタセシス反応させることによる、下記式（３）で表される化合物（化合物（３））の製造方法に関するものである。
本発明の一態様は、下記式（１）で表される化合物（化合物（１））と、下記式（２）で表される化合物（化合物（２））とをクロスメタセシス反応させることによる、下記式（３）で表される化合物（化合物（３））の製造方法に関するものである。
【0035】
【化7】
【0036】
式中、ａは０または１であり、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ１はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ４、Ｘがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
クロスメタセシス反応においては、式（１）における二重結合の左側カルベン部分（化合物（１）からＣＺ１Ｚ２を除いた部分）と式（３）における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式（２）における二重結合の右側カルベン部分（化合物（２）からＣＺ３Ｚ４を除いた部分）と式（３）における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
クロスメタセシス反応においては、式（１）における二重結合の左側カルベン部分（化合物（１）からＣＺ１Ｚ２を除いた部分）と式（３）における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式（２）における二重結合の右側カルベン部分（化合物（２）からＣＺ３Ｚ４を除いた部分）と式（３）における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
【0037】
また、本発明の別の態様は、下記式（１’）で表される化合物（化合物（１’））と、下記式（２）で表される化合物（化合物（２））とをクロスメタセシス反応させることによる、下記式（３’）で表される化合物（化合物（３’））の製造方法に関するものである。
【0038】
【化8】
【0039】
式中、ｂは０または１であり、ｃは０、１または２であり、ｃとｄの和は３であり、Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｑはフッ素原子を含み、かつヘテロ原子を有していてもよいｈ価の有機基であり、Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、ｈは２以上の自然数を表し、複数存在するＺ１、Ｚ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｒ４、Ｘがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
クロスメタセシス反応においては、式（１’）における二重結合の左側カルベン部分（化合物（１’）からＣＺ１Ｚ２を除いた部分）と式（３’）における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式（２）における二重結合の右側カルベン部分（化合物（２）からＣＺ３Ｚ４を除いた部分）と式（３’）における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
クロスメタセシス反応においては、式（１’）における二重結合の左側カルベン部分（化合物（１’）からＣＺ１Ｚ２を除いた部分）と式（３’）における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式（２）における二重結合の右側カルベン部分（化合物（２）からＣＺ３Ｚ４を除いた部分）と式（３’）における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
【0040】
（原料化合物）
本発明においては、化合物（１）と化合物（２）をクロスメタセシス反応させる。
本発明においては、化合物（１）と化合物（２）をクロスメタセシス反応させる。
【0041】
化合物（１）及び化合物（２）において、ａは０または１であり、好ましくは１である。
ｂは０または１であり、好ましくは０である。
ｃは０、１または２であり、好ましくは０である。
ｃとｄの和は３である。すなわち、ｄは１、２または３であり、好ましくは３である。
ｂは０または１であり、好ましくは０である。
ｃは０、１または２であり、好ましくは０である。
ｃとｄの和は３である。すなわち、ｄは１、２または３であり、好ましくは３である。
【0042】
Ｘは塩素原子または炭素数１～６のアルコキシ基を表し、ｄが２または３である場合、同一分子内に複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。
炭素数１～６のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、またはプロポキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基である。
炭素数１～６のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、またはプロポキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基である。
【0043】
Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－を表し、好ましくは、単結合、エーテル性酸素原子である。
【0044】
Ｚ１～Ｚ４はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
１価の有機基としては、例えば、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数５～２０のアリール基、炭素数５～２０のアリールオキシ基、炭素数１～１２の（ペル）ハロゲン化アルキル基、炭素数１～１２の（ペル）ハロゲン化アルコキシ基、炭素数５～２０の（ペル）ハロゲン化アリール基及び炭素数５～２０の（ペル）ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基が挙げられ、前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、（ペル）ハロゲン化アルキル基、（ペル）ハロゲン化アルコキシ基、（ペル）ハロゲン化アリール基及び（ペル）ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を１以上含んでもよい。
１価の有機基としては、例えば、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数５～２０のアリール基、炭素数５～２０のアリールオキシ基、炭素数１～１２の（ペル）ハロゲン化アルキル基、炭素数１～１２の（ペル）ハロゲン化アルコキシ基、炭素数５～２０の（ペル）ハロゲン化アリール基及び炭素数５～２０の（ペル）ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基が挙げられ、前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、（ペル）ハロゲン化アルキル基、（ペル）ハロゲン化アルコキシ基、（ペル）ハロゲン化アリール基及び（ペル）ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を１以上含んでもよい。
【0045】
これらの中でも、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ（メトキシメトキシ）基、ペルフルオロ（プロポキシプロポキシ）基、ペンタフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニルオキシ基である。
【0046】
Ｒ１はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表す。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基である。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基である。
【0047】
Ｒ２は水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表す。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である。
【0048】
Ｒ３はフッ素原子または１価の含フッ素有機基を表し、好ましくは、フッ素原子、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基であり、より好ましくはフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である。
【0049】
Ｒ４は炭素数４～２０のアリール基または炭素数１～６のアルキル基を表し、ｃが２である場合、２つ存在するＲ４は同一でも異なっていてもよい。
炭素数４～２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が挙げられる。
炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フェニル基、メチル基、エチル基である。
炭素数４～２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が挙げられる。
炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フェニル基、メチル基、エチル基である。
【0050】
本発明の別の態様においては、化合物（１’）と化合物（２）をクロスメタセシス反応させる。
【0051】
化合物（１’）におけるｈは２以上の自然数を表し、Ｑはフッ素原子を含み、かつヘテロ原子を有していてもよいｈ価の有機基である。
ｈは２～５の自然数が好ましく、２または３がより好ましい。
Ｑは酸素原子を含む炭素数２～４００の含フッ素有機基、酸素原子とケイ素原子を含む炭素数２～４００の含フッ素有機基等が好ましい。
なお、化合物（１’）におけるＺ１及びＺ２は、先述した化合物（１）と化合物（２）とのクロスメタセシス反応における化合物（１）のＺ１及びＺ２とそれぞれ同様であり、好ましい態様も同様である。また、複数存在するＺ１、Ｚ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
ｈは２～５の自然数が好ましく、２または３がより好ましい。
Ｑは酸素原子を含む炭素数２～４００の含フッ素有機基、酸素原子とケイ素原子を含む炭素数２～４００の含フッ素有機基等が好ましい。
なお、化合物（１’）におけるＺ１及びＺ２は、先述した化合物（１）と化合物（２）とのクロスメタセシス反応における化合物（１）のＺ１及びＺ２とそれぞれ同様であり、好ましい態様も同様である。また、複数存在するＺ１、Ｚ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0052】
化合物（２）におけるｂ～ｄ、Ｘ、Ｚ３、Ｚ４及びＲ４は、先述した化合物（１）と化合物（２）とのクロスメタセシス反応における化合物（２）のｂ～ｄ、Ｘ、Ｚ３、Ｚ４及びＲ４とそれぞれ同様であり、好ましい態様も同様である。
【0053】
化合物（１）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。なお、化学式中、複数種類のオキシペルフルオロアルキレン基が並んでいる場合（例えば［－Ｏ－ＣＦ２－］ｃ５－［－Ｏ－ＣＦ２－ＣＦ２－］ｃ６の場合）、当該複数種類のオキシペルフルオロアルキレン基はブロック鎖であってもランダム鎖であってもよい。
【0054】
【化9】
【0055】
【化10】
【0056】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0057】
【化11】
【0058】
化合物（１’）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0059】
【化12】
【0060】
化合物（２）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0061】
【化13】
【0062】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0063】
【化14】
【0064】
（生成化合物）
本発明のクロスメタセシスにより化合物（３）が製造される。
化合物（３）中の、ａ、ｂ、ｃ、ｃとｄの和、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記定義と同様である。また、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（３）としては、ａが０または１、ｂが０、ｃが０、ｄが３、Ｘが塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
本発明のクロスメタセシスにより化合物（３）が製造される。
化合物（３）中の、ａ、ｂ、ｃ、ｃとｄの和、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記定義と同様である。また、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（３）としては、ａが０または１、ｂが０、ｃが０、ｄが３、Ｘが塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基、Ｙは単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
【0065】
化合物（３）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0066】
【化15】
【0067】
【化16】
【0068】
【化17】
【0069】
【化18】
【0070】
【化19】
【0071】
【化20】
【0072】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0073】
【化21】
【0074】
【化22】
【0075】
本発明のクロスメタセシスにより化合物（３’）が製造される。
化合物（３’）中の、ｂ、ｃ、ｃとｄの和、Ｘ、Ｑ、Ｒ４及びｈは前記定義と同様である。
化合物（３’）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
化合物（３’）中の、ｂ、ｃ、ｃとｄの和、Ｘ、Ｑ、Ｒ４及びｈは前記定義と同様である。
化合物（３’）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0076】
【化23】
【0077】
（製造方法）
本発明はクロスメタセシスによる含フッ素シラン化合物の製造方法に関するものであり
、「化合物（１）及び化合物（２）」と、または「化合物（１’）及び化合物（２）」と触媒とを接触させることによってクロスメタセシスを行い、原料とは異なるオレフィン（化合物（３）または化合物（３’））を得るものである。
本発明はクロスメタセシスによる含フッ素シラン化合物の製造方法に関するものであり
、「化合物（１）及び化合物（２）」と、または「化合物（１’）及び化合物（２）」と触媒とを接触させることによってクロスメタセシスを行い、原料とは異なるオレフィン（化合物（３）または化合物（３’））を得るものである。
【0078】
化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）の、二重結合上の幾何異性は特に限定はない。
目的物収率向上の点で、化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）は脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）について、前記脱気及び脱水操作は通常触媒と接触させる前に行う。
目的物収率向上の点で、化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）は脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）について、前記脱気及び脱水操作は通常触媒と接触させる前に行う。
【0079】
また化合物（１）、化合物（１’）及び化合物（２）は微量の不純物（例えばフッ化水素、過酸化物）を含むことがあるので、目的物収率向上の点で精製してもよい。精製方法については特に制限はない。例えば、文献（Ａｒｍａｒｅｇｏ，Ｗ．Ｌ．Ｆ．ｅｔ ａｌ．，Ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｓｉｘｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ），２００９，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ）記載の方法に従って行うことができる。
【0080】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）は、反応容器にあらかじめ混合してから投入しても、別々に投入しても構わない。第一のオレフィンを触媒と接触させて得られた混合物に、第二のオレフィンを接触させる場合もある。
【0081】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）のモル比に特に限定はないが、通常基準となるオレフィン１モルに対して、もう一方のオレフィンを０．０１～１００モル用い、好ましくは、０．１～１０モル用いる。
【0082】
触媒は試薬として投入しても、系内で発生させてもよい。
試薬として投入する場合、市販の触媒をそのまま用いてもよく、あるいは市販試薬から公知の方法で合成した市販されていない触媒を用いてもよい。
系内で発生させる場合、公知の方法で前駆体となる金属錯体から調製した触媒を本発明に用いることができる。
試薬として投入する場合、市販の触媒をそのまま用いてもよく、あるいは市販試薬から公知の方法で合成した市販されていない触媒を用いてもよい。
系内で発生させる場合、公知の方法で前駆体となる金属錯体から調製した触媒を本発明に用いることができる。
【0083】
触媒としては、例えば、金属－カルベン錯体化合物が挙げられる。
【0084】
金属－カルベン錯体化合物のうち金属がルテニウムである化合物は、一般的にルテニウム－カルベン錯体と称されるものであり、例えばＶｏｕｇｉｏｕｋａｌａｋｉｓ，Ｇ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，２０１０，１１０，１７４６－１７８７．に記載されているルテニウム－カルベン錯体を利用することができる。
また、例えばＡｌｄｒｉｃｈ社やＵｍｉｃｏｒｅ社から市販されているルテニウム－カルベン錯体を利用することができる。
また、例えばＡｌｄｒｉｃｈ社やＵｍｉｃｏｒｅ社から市販されているルテニウム－カルベン錯体を利用することができる。
【0085】
ルテニウム－カルベン錯体の具体例としては、例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）－３－メチル－２－ブテニリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジイソプロピルイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジシクロヘキシルイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチルイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメ
シチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ビス（２－メチルフェニル）－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ジシクロヘキシル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）［ビス（３－ブロモピリジン）］ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（２－イソプロポキシフェニルメチリデン）ルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）［（トリシクロヘキシルホスホラニル）メチリデン］ジクロロルテニウムテトラフルオロボラート、ＵｍｉｃｏｒｅＭ２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５１、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＰｒ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒが挙げられる。
シチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ビス（２－メチルフェニル）－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、［１，３－ジシクロヘキシル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン］（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）［ビス（３－ブロモピリジン）］ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（２－イソプロポキシフェニルメチリデン）ルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）［（トリシクロヘキシルホスホラニル）メチリデン］ジクロロルテニウムテトラフルオロボラート、ＵｍｉｃｏｒｅＭ２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５１、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＰｒ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒが挙げられる。
【0086】
これらの中でも、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）（２－イソプロポキシフェニルメチリデン）ルテニウムジクロリド、（１，３－ジメシチル－４，５－ジヒドロイミダゾール－２－イリデン）［（トリシクロヘキシルホスホラニル）メチリデン］ジクロロルテニウムテトラフルオロボラート、ＵｍｉｃｏｒｅＭ２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５１、ＵｍｉｃｏｒｅＭ５２、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７１ＳＩＰｒ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＭｅｓ、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒが特に好ましい。
【0087】
なお、上記錯体のうち、「Ｕｍｉｃｏｒｅ」で始まる名称は、Ｕｍｉｃｏｒｅ社の製品の商品名である。また、上記ルテニウム－カルベン錯体は、単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。さらに必要に応じてシリカゲルやアルミナ、ポリマー等の担体に担持して用いてもよい。
【0088】
金属－カルベン錯体化合物のうち金属がモリブデンまたはタングステンである化合物は、一般的にモリブデン－カルベン錯体やタングステン－カルベン錯体と称されるものであり、例えばＧｒｅｌａ，Ｋ．（Ｅｄ）Ｏｌｅｆｉｎ Ｍｅｔａｔｈｅｓｉｓ：Ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ，Ｗｉｌｅｙ，２０１４．に記載されているモリブデン－カルベン錯体またはタングステン－カルベン錯体を利用することができる。
また、例えばＡｌｄｒｉｃｈ社やＳｔｒｅｍ社から市販されているモリブデン－カルベン錯体またはタングステン－カルベン錯体を利用することができる。
また、例えばＡｌｄｒｉｃｈ社やＳｔｒｅｍ社から市販されているモリブデン－カルベン錯体またはタングステン－カルベン錯体を利用することができる。
【0089】
なお、上記モリブデン－カルベン錯体またはタングステン－カルベン錯体は、単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。さらに必要に応じてシリカゲルやアルミナ、ポリマー等の担体に担持して用いてもよい。
【0090】
モリブデン－カルベン錯体の具体例を下記に示す。
なお、Ｍｅとはメチル基を、ｉ－Ｐｒとはイソプロピル基を、ｔ－Ｂｕとはターシャリーブチル基を、Ｐｈとはフェニル基を、それぞれ意味する。
なお、Ｍｅとはメチル基を、ｉ－Ｐｒとはイソプロピル基を、ｔ－Ｂｕとはターシャリーブチル基を、Ｐｈとはフェニル基を、それぞれ意味する。
【0091】
【化24】
【0092】
【化25】
【0093】
タングステン－カルベン錯体の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【0094】
【化26】
【0095】
触媒の量としては、特に制限はないが、化合物（１）または化合物（１’）及び化合物
（２）の内、基準となるオレフィン１モルに対して、通常０．０００１～１モル用い、好ましくは、０．００１～０．２モル用いる。
（２）の内、基準となるオレフィン１モルに対して、通常０．０００１～１モル用い、好ましくは、０．００１～０．２モル用いる。
【0096】
触媒は、通常固体のまま反応容器に投入するが、溶媒に溶解または懸濁させて投入してもよい。
【0097】
この時用いる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない範囲で特に制限はなく、有機溶媒、含フッ素有機溶媒、イオン液体、水等を単独または混合して用いることができる。なお、これらの溶媒分子中、一部またはすべての水素原子が重水素原子で置換されていてもよい。
【0098】
有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、グライム、ジグライム等のエーテル系溶媒を使用することができる。
【0099】
含フッ素有機溶媒としては、例えば、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン、ジクロロペンタフルオロプロパンを使用することができる。
【0100】
イオン液体としては、例えば、各種ピリジニウム塩、各種イミダゾリウム塩を用いることができる。
【0101】
上記溶媒の中でも、触媒の溶解性等の点で、ベンゼン、トルエン、ｏ－，ｍ－，ｐ－キシレン、メシチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、α，α，α－トリフルオロメチルベンゼン、及びこれらの混合物が好ましい。
【0102】
なお、目的物収率向上の点で、前記溶媒は脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。前記脱気及び脱水操作は通常触媒と接触させる前に行う。
【0103】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる雰囲気としては、特に限定はないが、触媒の長寿命化の点で、不活性気体雰囲気下が好ましく、中でも窒素またはアルゴン雰囲気下が好ましい。
ただし、反応条件において気体となるオレフィンを原料として用いる場合、これらの気体雰囲気下で行うことができる。
ただし、反応条件において気体となるオレフィンを原料として用いる場合、これらの気体雰囲気下で行うことができる。
【0104】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒を接触させる相としては、特に制限はないが、反応速度の点で、通常は液相が用いられる。化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）のうち少なくとも一方が反応条件下で気体の場合、液相で実施するのが難しいため、気－液二相で実施することもできる。なお、液相で実施する場合には溶媒を用いることができる。
【0105】
このとき用いる溶媒としては、上記、触媒の溶解または懸濁に用いた溶媒と同様のものを利用することができる。なお、化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）のうち少なくとも一方が反応条件下で液体の場合、無溶媒で実施できることがある。
【0106】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる容器としては、反応に悪影響を与えない範囲で特に制限はなく、例えば金属製容器またはガラス製容器を用いることができる。なお、本発明にかかるクロスメタセシスは反応条件下、気体状態のオレフィンを扱うことがあるので、高気密が可能な耐圧容器が好ましい。
【0107】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる温度としては、特に制限はないが、通常－１００～２００℃の範囲で実施することができ、反応速度の点で、０～１５０℃が好ましい。なお、低温では反応が開始せず、高温では錯体の速やかな分解が生じることがあるので適宜温度の下限と上限を設定する必要がある。通常、用いる溶媒の沸点以下の温度で実施される。
【0108】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる時間としては、特に制限はないが、通常１分～４８時間の範囲で実施される。
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる圧力としては、特に制限はないが、加圧下でも、常圧下でもよいし、減圧下でもよい。通常０．００１～１０ＭＰａ程度、好ましくは、０．０１～１ＭＰａ程度である。
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる圧力としては、特に制限はないが、加圧下でも、常圧下でもよいし、減圧下でもよい。通常０．００１～１０ＭＰａ程度、好ましくは、０．０１～１ＭＰａ程度である。
【0109】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させる際に、反応に悪影響を及ぼさない範囲で無機塩や有機化合物、金属錯体を共存させてもよい。
【0110】
また、反応に悪影響を及ぼさない範囲で、化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒との混合物を攪拌してもよい。このとき、攪拌の方法としては、メカニカルスターラーやマグネティックスターラーを用いることができる。
【0111】
化合物（１）または化合物（１’）及び化合物（２）と触媒とを接触させた後、目的物は通常複数のオレフィンの混合物として得られるため、公知の方法で単離してもよい。
単離方法としては、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィー、リサイクル分取ＨＰＬＣが挙げられ、必要に応じてこれらを単独または複数組み合わせて用いることができる。
単離方法としては、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィー、リサイクル分取ＨＰＬＣが挙げられ、必要に応じてこれらを単独または複数組み合わせて用いることができる。
【0112】
本反応で得られた化合物（３）または化合物（３’）は、通常の有機化合物と同様の公知の方法で同定することができる。例えば、１Ｈ－，１９Ｆ－，１３Ｃ－ＮＭＲやＧＣ－ＭＳが挙げられ、必要に応じてこれらを単独または複数組み合わせて用いることができる。
【0113】
［化合物（４）］
また、本発明は、下記式（４）で表される化合物（化合物（４））に関するものである。
化合物（４）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（４－１）及び化合物（２）として下記の化合物（４－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い、得ることができる。
また、本発明は、下記式（４）で表される化合物（化合物（４））に関するものである。
化合物（４）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（４－１）及び化合物（２）として下記の化合物（４－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い、得ることができる。
【0114】
【化27】
【0115】
式中、Ｒ１１は１価の含フッ素有機基を表す。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基である。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基である。
【0116】
Ｚ１～Ｚ４、ｃ、ｃとｄの和、Ｙ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記化合物（１）～（３）における定義とそれぞれ同様である。
また、Ｒ１１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（４）としては、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
また、Ｒ１１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（４）としては、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
【0117】
化合物（４）の具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
【0118】
【化28】
【0119】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0120】
【化29】
【0121】
［化合物（５）］
また、本発明は、下記式（５）で表される化合物（化合物（５））に関するものである。
化合物（５）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（５－１）及び化合物（２）として下記の化合物（５－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
また、本発明は、下記式（５）で表される化合物（化合物（５））に関するものである。
化合物（５）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（５－１）及び化合物（２）として下記の化合物（５－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
【0122】
【化30】
【0123】
Ｚ１～Ｚ４、ｂ、ｃ、ｃとｄの和、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記化合物（１）～（３）における定義とそれぞれ同様である。また、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（５）としては、ｂが０、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
化合物（５）としては、ｂが０、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
【0124】
化合物（５）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0125】
【化31】
【0126】
【化32】
【0127】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0128】
【化33】
【0129】
［化合物（６）］
また、本発明は、下記式（６）で表される化合物（化合物（６））に関するものである。
化合物（６）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（６－１）及び化合物（２）として下記の化合物（６－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
また、本発明は、下記式（６）で表される化合物（化合物（６））に関するものである。
化合物（６）は化合物（３）の一例であり、化合物（１）として下記の化合物（６－１）及び化合物（２）として下記の化合物（６－２）を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
【0130】
【化34】
【0131】
式中、Ｒ５は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ５が同一分子内に複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、またはプロピル基が挙げら
れる。これらの中でも、好ましくは、メチル基、エチル基である。
Ｚ１～Ｚ４、ｃ、ｃとｄの和、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記化合物（１）～（３）における定義と同様である。また、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（６）としては、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、またはプロピル基が挙げら
れる。これらの中でも、好ましくは、メチル基、エチル基である。
Ｚ１～Ｚ４、ｃ、ｃとｄの和、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記化合物（１）～（３）における定義と同様である。また、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３からなる群から選ばれる任意の２つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物（６）としては、ｃが０、ｄが３、Ｙが単結合、エーテル性酸素原子または－ＣＨ２Ｏ－、Ｒ１が炭素数１～１２の（ペル）フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルコキシ基、Ｒ２がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基、Ｒ３がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数２～４００の（ペル）フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
【0132】
化合物（６）の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
【0133】
【化35】
【0134】
これらの中でも、好ましくは、下記に示す化合物が挙げられる。
【0135】
【化36】
【実施例】
【0136】
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は何らこれらに限定されるものではない。
【0137】
＜市販試薬＞
本実施例において、触媒は、特に記載しない場合においては、市販品をそのまま反応に用いた。
溶媒（クロロホルム－ｄ）は、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製「クロロホルム－ｄ」をあらかじめ凍結脱気したあと、モレキュラーシーブ４Ａで乾燥してから反応に用いた。
本実施例において、触媒は、特に記載しない場合においては、市販品をそのまま反応に用いた。
溶媒（クロロホルム－ｄ）は、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製「クロロホルム－ｄ」をあらかじめ凍結脱気したあと、モレキュラーシーブ４Ａで乾燥してから反応に用いた。
【0138】
＜評価方法＞
本実施例において、合成した化合物の構造は日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置「ＪＮＭ－ＡＬ３００」により１Ｈ－ＮＭＲ、１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行うことで同定した。
本実施例において、合成した化合物の構造は日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置「ＪＮＭ－ＡＬ３００」により１Ｈ－ＮＭＲ、１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行うことで同定した。
【0139】
＜実施例１＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．２１７ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（１０．９ｍｍｏｌ、１．７６ｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（２．１７ｍｍｏｌ、１．００ｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（３．５ｍＬ）を１０ｍＬのフラスコの中に量り入れた。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．２１７ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（１０．９ｍｍｏｌ、１．７６ｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（２．１７ｍｍｏｌ、１．００ｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（３．５ｍＬ）を１０ｍＬのフラスコの中に量り入れた。
【0140】
フラスコを６０℃で加熱し２時間反応させた。反応終了後、ＮＭＲを測定して下記式Ａで表される化合物Ａの生成を確認した。収率は７４％であった。また、減圧蒸留により化合物Ａを単離した。
これら一連の反応を以下に示す。
これら一連の反応を以下に示す。
【0141】
【化37】
【0142】
得られた化合物Ａの評価結果を以下に示す。
【0143】
（化合物Ａ）
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ、テトラメチルシラン基準）：δ（ｐｐｍ）３．０７（２Ｈ、ｄｔ、Ｊ＝６，１７Ｈｚ）、６．１４（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、６．６１（１Ｈ、ｄｔ、Ｊ＝６，１８Ｈｚ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２８３ＭＨｚ、トリクロロフルオロメタン基準）：δ（ｐｐｍ）－８１．２（３Ｆ、ｔ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、－１１２．８（２Ｆ、ｔ、Ｊ＝１７Ｈｚ）、－１２２．２－－１２２．４（６Ｆ、ｍ）、－１２３．２－－１２３．４（４Ｆ、ｍ）、－１２６．６（２Ｆ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ、テトラメチルシラン基準）：δ（ｐｐｍ）３．０７（２Ｈ、ｄｔ、Ｊ＝６，１７Ｈｚ）、６．１４（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、６．６１（１Ｈ、ｄｔ、Ｊ＝６，１８Ｈｚ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２８３ＭＨｚ、トリクロロフルオロメタン基準）：δ（ｐｐｍ）－８１．２（３Ｆ、ｔ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、－１１２．８（２Ｆ、ｔ、Ｊ＝１７Ｈｚ）、－１２２．２－－１２２．４（６Ｆ、ｍ）、－１２３．２－－１２３．４（４Ｆ、ｍ）、－１２６．６（２Ｆ）．
【0144】
＜実施例２＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１）（０．０６ｍｍｏｌ、ｌの平均値：２０、平均分子量：４０００、０．２４ｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｂの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１）（０．０６ｍｍｏｌ、ｌの平均値：２０、平均分子量：４０００、０．２４ｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｂの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0145】
【化38】
【0146】
＜実施例３＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（３）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２５ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（３）（０．０３ｍｍｏｌ、ｍの平均値：２１、ｎの平均値：２４、平均分子量：４８００、０．１５ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れた。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し３時間反応させた。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｄの生成を確認した。収率は５６％であった。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２５ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（３）（０．０３ｍｍｏｌ、ｍの平均値：２１、ｎの平均値：２４、平均分子量：４８００、０．１５ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れた。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し３時間反応させた。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｄの生成を確認した。収率は５６％であった。
これら一連の反応を以下に示す。
【0147】
【化39】
【0148】
＜実施例４＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（４）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（４）（０．０６ｍｍｏｌ、１１ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｅの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（４）（０．０６ｍｍｏｌ、１１ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｅの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0149】
【化40】
【0150】
＜実施例５＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（５）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（５）（０．０６ｍｍｏｌ、１５ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｆの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（５）（０．０６ｍｍｏｌ、１５ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｆの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0151】
【化41】
【0152】
＜実施例６＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（６）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（６）（０．０６ｍｍｏｌ、１９ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｇの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（６）（０．０６ｍｍｏｌ、１９ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｇの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0153】
【化42】
【0154】
＜実施例７＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（７）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（７）（０．０６ｍｍｏｌ、１２ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応
終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｈの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（７）（０．０６ｍｍｏｌ、１２ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応
終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｈの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0155】
【化43】
【0156】
＜実施例８＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（８）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（８）（０．０６ｍｍｏｌ、２２ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｉの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（８）（０．０６ｍｍｏｌ、２２ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｉの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0157】
【化44】
【0158】
＜実施例９＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（９）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（９）（０．０６ｍｍｏｌ、１７ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｊの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（９）（０．０６ｍｍｏｌ、１７ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｊの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0159】
【化45】
【0160】
＜実施例１０＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（１０）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（１０）（０．０６ｍｍｏｌ、１３ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍ
Ｌ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｋの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（１０）（０．０６ｍｍｏｌ、１３ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍ
Ｌ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｋの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0161】
【化46】
【0162】
＜実施例１１＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒による含フッ素オレフィン（１１）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（１１）（０．０６ｍｍｏｌ、１８ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｌの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４８ｍｇ、５モル当量）、含フッ素オレフィン（１１）（０．０６ｍｍｏｌ、１８ｍｇ）及びクロロホルム－ｄ（０．５６ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｌの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0163】
【化47】
【0164】
＜実施例１２＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とビニルトリメトキシシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、ビニルトリメトキシシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４４ｍｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（０．０６ｍｍｏｌ、２８ｍｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５４ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｍの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）、ビニルトリメトキシシラン（０．３０ｍｍｏｌ、４４ｍｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（０．０６ｍｍｏｌ、２８ｍｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５４ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｍの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0165】
【化48】
【0166】
＜実施例１３＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とトリクロロアリルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏ
ｌ）、トリクロロアリルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、５２ｍｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（０．０６ｍｍｏｌ、２８ｍｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５４ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｎの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏ
ｌ）、トリクロロアリルシラン（０．３０ｍｍｏｌ、５２ｍｇ、５モル当量）、Ｃ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２（０．０６ｍｍｏｌ、２８ｍｇ、１モル当量）及びクロロホルム－ｄ（０．５４ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｎの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0167】
【化49】
【0168】
＜実施例１４＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
実施例１におけるＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒の使用量を０．１ｍｏｌ％（０．００２１７ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
実施例１におけるＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒の使用量を０．１ｍｏｌ％（０．００２１７ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
【0169】
＜実施例１５＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
実施例１における溶媒を重ベンゼン（Ｃ６Ｄ６）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
実施例１における溶媒を重ベンゼン（Ｃ６Ｄ６）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
【0170】
＜実施例１６＞Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒によるＣ８Ｆ１７－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
実施例１における触媒をＧｒｕｂｂｓ第二世代触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
実施例１における触媒をＧｒｕｂｂｓ第二世代触媒（１０ｍｏｌ％、０．００６ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様な方法により化合物Ａの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0171】
【化50】
【0172】
＜実施例１７＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１２）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１２）（０．０３ｍｍｏｌ、０．１１ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｏの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１２）（０．０３ｍｍｏｌ、０．１１ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｏの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0173】
【化51】
【0174】
＜実施例１８＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１３）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１３）（０．０３ｍｍｏｌ、５５ｍｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｐの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（１０ｍｏｌ％、０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ、５モル当量）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１３）（０．０３ｍｍｏｌ、５５ｍｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｐの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0175】
【化52】
【0176】
＜実施例１９＞ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒によるペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１４）とトリクロロビニルシランのクロスメタセシス
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１３）（０．１３ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｑの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、ＵｍｉｃｏｒｅＭ７３ＳＩＰｒ触媒（０．００３ｍｍｏｌ）、トリクロロビニルシラン（０．１５ｍｍｏｌ、２４ｍｇ）、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン（１３）（０．１３ｇ）及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（０．４４ｍＬ）、クロロホルム－ｄ（０．１１ｍＬ）をＮＭＲ測定管の中に量り入れる。ＮＭＲ管を６０℃で加熱し２時間反応させる。反応終了後、ＮＭＲを測定して化合物Ｑの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
【0177】
【化53】
【0178】
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１７年３月２日出願の日本特許出願（特願２０１７－０３９８９４）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【0179】
本発明の製造方法に係る含フッ素シラン化合物は、医農薬中間体、指紋除去剤、防汚剤、防湿コーティング剤として利用可能である。