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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-09-01
(45)【発行日】2023-09-11
(54)【発明の名称】真空処理装置
(51)【国際特許分類】
C23C 14/56 20060101AFI20230904BHJP
C23C 16/54 20060101ALI20230904BHJP
H01L 21/31 20060101ALI20230904BHJP
H01L 21/3065 20060101ALI20230904BHJP
H01L 21/677 20060101ALI20230904BHJP
【ＦＩ】
C23C14/56 G
C23C16/54
H01L21/31 A
H01L21/302 101G
H01L21/68 A
【請求項の数】
2
(21)【出願番号】P 2019175751
(22)【出願日】2019-09-26
(65)【公開番号】P2021050403
(43)【公開日】2021-04-01
【審査請求日】2022-07-07
(73)【特許権者】
【識別番号】000231464
【氏名又は名称】株式会社アルバック
(74)【代理人】
【識別番号】110000305
【氏名又は名称】弁理士法人青莪
(72)【発明者】
【氏名】深尾 万里
(72)【発明者】
【氏名】岩瀬 大輔
(72)【発明者】
【氏名】西ノ坊 泰樹
【審査官】富永 泰規
(56)【参考文献】
【文献】特開２００５－０７９４０９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－００８２３８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００２－３２９７６３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１２２２３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１１／０２１７４６９（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００８－０２８０３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－０６７８７８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－２５８０７７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｃ １６／００ －１６／５６
Ｃ２３Ｃ １４／００ －１４／５８
Ｈ０１Ｌ ２１／２０５
Ｈ０１Ｌ ２１／３１
Ｈ０１Ｌ ２１／３６５
Ｈ０１Ｌ ２１／４６９
Ｈ０１Ｌ ２１／８６
Ｈ０１Ｌ ２１／６７ －２１／６８３
Ｂ０１Ｊ ３／００ － ３／０３
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
真空雰囲気の形成が可能な少なくとも１個の上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバと、上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板を移送する移送手段とを備える真空処理装置において、上流側チャンバと中間チャンバとが、上流側チャンバに設けられる第１の開閉バルブと、中間チャンバに設けられる第２の開閉バルブと、第１及び第２の各開閉バルブの間に設けられてその内部空間の被処理基板の通過を許容する伸縮自在な第１の連結部材とを介して連結されると共に、中間チャンバと下流側チャンバとが、中間チャンバに設けられる第３の開閉バルブと、下流側チャンバに設けられる第４の開閉バルブと、第３及び第４の各開閉バルブの間に設けられてその内部空間の被処理基板の通過を許容する伸縮自在な第２の連結部材とを介して連結され、第１の連結部材と第２の連結部材とにその内部空間の大気開放を可能とするベントラインが接続され、
上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバが設置される面内で互いに直交する二軸をＸ軸方向及びＹ軸方向、その面内の回転方向をθ方向及びその面内に直交する方向を上下方向とし、中間チャンバが、その内部に被処理基板が格納された状態でＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向の少なくとも一方向に移動自在とする移動手段を備え、
中間チャンバ内で被処理基板を保持する保持手段と、Ｘ軸方向またはＹ軸方向にのびる回転軸回りに中間チャンバを回転駆動させて、保持手段で保持された被処理基板を上下反転する回転手段とを備え、
中間チャンバの回転に先立って当該中間チャンバを上下方向に上昇または下降させる昇降機構を更に備えることを特徴とする真空処理装置。
【請求項2】
前記第１及び第２の各連結部材の内部空間を真空排気する真空ポンプが設けられることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、真空処理装置に関し、より詳しくは、複数の真空チャンバの間で被処理基板を移送できるようにしたものに関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造工程においては、ガラスなどの板状の基板（被処理基板）の一方の面（成膜面）に、下部電極、単層又は多層の有機膜（有機発光層）、上部電極や保護層を真空雰囲気で一貫して形成する場合があり、これには、開閉バルブ（ゲートバルブ）を介して互いに連設される真空雰囲気の形成が可能な複数の真空チャンバを備える真空処理装置が一般に利用されている（例えば、特許文献１参照）。従来例のものでは、被処理基板の搬送を可能とする搬送ロボットを内蔵した搬送室を備え、搬送室の周囲には、被処理基板に対する成膜処理など所定の真空処理を夫々実施できる上流側チャンバと下流側チャンバとが設けられている。
【0003】
ここで、近年、処理しようとする基板のサイズが次第に大型化している（例えば、Ｇ１０．５世代）。このような場合に、上記従来例のような構成を採用すると、搬送チャンバ内に搬送ロボットにより上流側チャンバから被処理基板を受け取り、搬送チャンバを経て下流側チャンバへと受け渡すときに搬送ロボットによる基板搬送が許容できる空間が確保されるように、基板サイズに応じて搬送チャンバをサイズアップする必要があり、これに伴って、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を招来する。
【0004】
ところで、上流側チャンバと下流側チャンバとで夫々実施される真空処理の時間（例えば、成膜時間）は必ずしも一致せず、しかも、真空処理時の基板の姿勢（所謂デポアップ、デポダウン）も異なることがある。このとき、複数の真空処理工程を経て所望の製品を得る際の所謂タクトタイムを可及的に短くしようと、例えば、上流側チャンバで実施される真空処理の時間がその下流側チャンバで実施されるものより長い場合には２個以上の上流側チャンバを設け、各上流側チャンバで処理済みの基板を交互に搬送チャンバを介して下流側チャンバに搬送することが考えられる（所謂、レーンチェンジ）。然し、このような構成を採用しようとすると、搬送チャンバを更にサイズアップする必要があり、また、基板の姿勢を変えるには、上流側チャンバと下流側チャンバとの間に、搬送チャンバに加えて、姿勢変更用の他の搬送チャンバを設ける必要が生じる。このため、真空処理装置のフットプリントが多大になってしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特開２００９－２２４２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、以上の点に鑑み、複数の真空チャンバの間で被処理基板を移送して所定の処理をする際に、大型の真空チャンバを必要とすることなく、上流側チャンバから下流側チャンバへと効率よく被処理基板を移送できる構成を持つ真空処理装置を提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するために、真空雰囲気の形成が可能な少なくとも１個の上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバと、上流側チャンバから中間チャンバを経て下流側チャンバに被処理基板を移送する移送手段とを備える本発明の真空処理装置は、上流側チャンバと中間チャンバとが、上流側チャンバに設けられる第１の開閉バルブと、中間チャンバに設けられる第２の開閉バルブと、第１及び第２の各開閉バルブの間に設けられてその内部空間の被処理基板の通過を許容する伸縮自在な第１の連結部材とを介して連結されると共に、中間チャンバと下流側チャンバとが、中間チャンバに設けられる第３の開閉バルブと、下流側チャンバに設けられる第４の開閉バルブと、第３及び第４の各開閉バルブの間に設けられてその内部空間の被処理基板の通過を許容する伸縮自在な第２の連結部材とを介して連結され、第１の連結部材と第２の連結部材とにその内部空間の大気開放を可能とするベントラインが接続され、上流側チャンバ、中間チャンバ及び下流側チャンバが設置される面内で互いに直交する二軸をＸ軸方向及びＹ軸方向、その面内の回転方向をθ方向及びその面内に直交する方向を上下方向とし、中間チャンバが、その内部に被処理基板が格納された状態でＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向の少なくとも一方向に移動自在とする移動手段を備え、中間チャンバ内で被処理基板を保持する保持手段と、Ｘ軸方向またはＹ軸方向にのびる回転軸回りに中間チャンバを回転駆動させて、保持手段で保持された被処理基板を上下反転する回転手段とを備え、中間チャンバの回転に先立って当該中間チャンバを上下方向に上昇または下降させる昇降機構を更に備えることを特徴とする。
【0008】
本発明によれば、第１及び第２の各開閉バルブが開状態で（中間チャンバに設けられている他の第３の開閉バルブは閉状態となっている）、且つ、上流側チャンバと中間チャンバとを連通する伸位置に第１の連結部材が夫々位置する状態で、移送手段により互いに真空雰囲気の上流側チャンバから中間チャンバへの被処理基板が移送される。このとき、下流側チャンバは、第４の開閉バルブが閉状態でその内部が真空雰囲気とされている。中間チャンバ内で被処理基板が移送されると、第１及び第２の各開閉バルブを閉状態とし、上流側チャンバと中間チャンバとを互いに隔絶する。そして、ベントラインを介して所定のガスを第１の連結部材に導入し、その内部が大気開放される（即ち、大気圧になる）と、移動される中間チャンバに干渉しない縮位置に第１の連結部材が移動される。
【0009】
次に、移動手段により中間チャンバ自体が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向の少なくとも一方向に適宜所定位置に移動され、中間チャンバと下流側チャンバとの同一線上に沿って被処理基板が同一線上を移送できる姿勢とされる（つまり、第２の連結部材の伸縮方向両側に中間チャンバと下流側チャンバとが位置するようにする）。そして、中間チャンバと下流側チャンバとを連通する伸位置に第２の連結部材が移動され（必要に応じて、第２の連結部材の内部が真空ポンプにより所定圧力まで真空排気される）、その後、第３及び第４の各開閉バルブが開状態とされ、互いに真空雰囲気の中間チャンバから下流側チャンバに被処理基板が移送される。
【0010】
このように本発明では、上流側チャンバから移送されてきた被処理基板を格納した状態で中間チャンバ自体を移動させる構成を採用したため、中間チャンバ自体は、被処理基板を格納する空間だけあれば済み、搬送ロボットによる基板搬送が許容できる空間を確保する必要がある上記従来例のものと比較して、中間チャンバ（従来例の搬送チャンバに相当）のサイズを大幅に小さくすることができる。その結果、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を解消することができる。その上、中間チャンバは、同一平面内で移動及び回転自在であるため、例えば２個以上の上流側チャンバで処理済みの被処理基板を交互に下流側チャンバに移送するような場合にも簡単に対応（即ち、移送される被処理基板の所謂レーンチェンジを効率よく）することができる。
【0011】
本発明においては、前記中間チャンバ内に、前記被処理基板を保持する保持手段と、この中間チャンバに設けられた回転軸回りに中間チャンバを回転駆動する回転手段とを備える構成を採用してもよい。これによれば、真空処理時の被処理基板の姿勢（所謂デポアップ、デポダウン）が上流側チャンバと下流側チャンバとで互いに異なるような場合でも、被処理基板の姿勢を変えるための別途の真空チャンバを必要とせず、真空処理装置のフットプリントの増大を抑制でき、有利である。
【0012】
なお、本発明においては、前記第１及び第２の各連結部材の内部空間を真空排気する真空ポンプが設けられることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明の第１実施形態の真空処理装置の模式横断面図。
【図3】本発明の第２実施形態の真空処理装置の模式縦断面図。
【図4】本発明の第３実施形態の真空処理装置の模式横断面図。
【図5】中間チャンバの上下反転を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、図面を参照して、水平面内で互いに直交する２方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向をＺ軸方向、その面内の回転方向をθ方向とし、上、下といった方向は図２を基準とする。また、被処理基板を矩形の輪郭を持つガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とし、基板Ｓｗがその一方の面を開放した状態で保持するキャリアＣａにセットされて、その面をＺ軸方向上方に向けた水平姿勢で２個の上流側チャンバのいずれか一方から中間チャンバを経て１個の下流側チャンバに移送される場合を例に本発明の真空処理装置ＶＭ１の第１実施形態を説明する。なお、キャリアＣａの形態やキャリアＣａに対する基板Ｓｗのセット方法としては、クランプを利用したもの等、公知のものが利用できるため、以下ではその説明を省略する。
【0015】
図１及び図２を参照して、本実施形態の真空処理装置ＶＭ１は、Ｙ軸方向に間隔を存して設けられる２個の上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と、中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを備え、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と下流側チャンバＤｃとにおいて、水平姿勢の基板Ｓｗの一方の面に対して所定の真空処理が実施されるようになっている。各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と下流側チャンバＤｃとは、同等の構成を有し、真空ポンプＶｃ１からの排気管Ｖｐ１が接続されて、それらの内部を所定圧力の真空雰囲気に維持できるようにしている。真空処理としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法やＣＶＤ法による成膜処理、熱処理、エッチング処理といった各種の真空処理が挙げられ、図１中、特に図示して説明しないが、基板Ｓｗに対して実施しようとする真空処理に応じて公知の構造を持つ必要な機器が各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と下流側チャンバＤｃとに夫々設けられている。
【0016】
各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとには、基板ＳｗがセットされたキャリアＣａを水平姿勢で移送する移送手段が設けられている。移送手段は、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２及び下流側チャンバＤｃ内に夫々設けられる第１のローラユニット１ａ，１ｂ，１ｃと、中間チャンバＭｃ内に設けられる第２のローラユニット２とを備える。第１及び第２の両ローラユニット１ａ，１ｂ，１ｃ，２は同一の構成を有し、例えば、一方の上流側チャンバＵｃ１に設けられる第１のローラユニット１ａを例に説明すると、第１のローラユニット１ａは、上流側チャンバＵｃ１の互いに対向するＹ軸方向の側壁ＵｗにＸ軸方向に所定間隔で夫々列設された複数の移送ローラ１１で構成され、各移送ローラ１１が、基板Ｓｗの外周よりＹ軸方向に突出したキャリアＣａの部分を支持するようになっている。
【0017】
側壁Ｕｗ，Ｕｗから上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２外に突出した各移送ローラ１１の駆動軸１２の部分には、特に図示して説明しないが、プーリが設けられ、これらのプーリとの間にはベルトが掛け回されている。そして、図外のモータによりいずれかのプーリを回転駆動すると、ベルトを介して各移送ローラ１１が同方向に同期して回転し、キャリアＣａがＸ軸方向一方からその他方に向けて（図１中、左から右に）移送されるようになっている。なお、上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２及び下流側チャンバＤｃ内に夫々設けられる移送手段の構成要素は、キャリアＣａをＸ軸方向に移送できるものであれば、上記第１のローラユニット１ａ，１ｂ，１ｃによるものに限定されるものではなく、単軸ロボットによるもの等、公知のものが利用できる。
【0018】
中間チャンバＭｃはステージＳｔ上に設けられ、ステージＳｔの下面には、スライダ２１，２１が設けられ、スライダ２１，２１が、真空処理装置ＶＭ１が設置される床面ＦにＹ軸方向にのびるように敷設された２本のレール２２，２２に夫々摺動自在に係合し、中間チャンバＭｃが、その内部に基板Ｓｗが格納された状態でＹ軸方向に移動自在となっている。この場合、スライダ２１，２１を介してレール２２，２２上を移動するステージＳｔが本実施形態の移動手段を構成する。なお、本実施形態では、基板ＳｗがＸ軸一方に向けて移送されるように、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と下流側チャンバＤｃとが配置されているため、中間チャンバＭｃをＹ軸方向に移動自在としているが、下流側チャンバＤｃの姿勢や中間チャンバＭｃに対する向きによっては、ステージＳｔをＸ－Ｙ－θステージで構成し、適宜Ｘ軸方向、Ｙ軸方向またはθ方向に移動自在としてもよい。また、中間チャンバＭｃには、ステージＳｔ上に設置された真空ポンプＶｃ２からの排気管Ｖｐ２が接続されて、その内部を所定圧力の真空雰囲気に維持できるようにしている。
【0019】
ステージＳｔの移動により中間チャンバＭｃをＹ軸方向に移動させたときに、中間チャンバＭｃに対峙する各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２の壁面には第１の開閉バルブとしての第１のゲートバルブ３１が設けられると共に、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２に対峙し得る中間チャンバＭｃの壁面には第２の開閉バルブとしての第２のゲートバルブ３２が設けられている。同様に、ステージＳｔの移動により中間チャンバＭｃをＹ軸方向に移動させたときに、下流側チャンバＤｃに対峙する中間チャンバＭｃの壁面には第３の開閉バルブとしての第３のゲートバルブ３３が設けられると共に、中間チャンバＭｃに対峙する下流側チャンバＤｃの壁面には第４の開閉バルブとしての第４のゲートバルブ３４が設けられている。そして、第１～第４のゲートバルブ３１～３４を閉じると、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとをその内部の真空雰囲気を維持したまま互いに隔絶できるようになっている。なお、第１～第４の開閉バルブとして、第１～第４のゲートバルブ３１～３４を例に説明しているが、各チャンバ内からのキャリアＣａの移動を許容できるものであれば、例えばバタフライ式のものなど他の公知のものを利用できる。
【0020】
第１のゲートバルブ３１及び第４のゲートバルブ３４には、Ｘ軸方向に長手の第１及び第２の各連結部材４１，４２が夫々取り付けられている。第１及び第２の各連結部材４１，４２は、基板Ｓｗの通過を許容する内径を持つベローズ管で構成されている。各連結部材４１，４２の中間チャンバＭｃ側の端面にはフランジ部４１ａ，４２ａが形成され、フランジ部４１ａ，４２ａにＯリング等の真空シール４１ｂ，４２ｂが設けられている。また、第１及び第２の各連結部材４１，４２には、駆動手段としてのエアシリンダ４３の駆動軸４３ａが連結され、エアシリンダ４３によりＸ軸方向に伸縮自在、即ち、Ｙ軸方向に移動される中間チャンバＭｃに干渉しない縮位置と、フランジ部４１ａ，４２ａの真空シール４１ｂ，４２ｂが、中間チャンバＭｃの第２及び第３の各ゲートバルブ３２，３３の対峙面に当接して、その内部を気密保持した状態とする伸位置との間で第１及び第２の各連結部材４１，４２が伸縮自在となる。
【0021】
第１及び第２の各連結部材４１，４２には、真空ポンプＶｃ３からの排気管Ｖｐ３と、ベントガス導入用バルブＶｇからのベントガス導入管（ベントライン）Ｖｌとが接続され、その内部を真空雰囲気と大気雰囲気とに適宜切り換えることができるようにしている。真空ポンプＶｃ３としては、上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と中間チャンバＭｃとを及び中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを再度連通するときに、上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と下流側チャンバＤｃとに求められる圧力（真空度）に応じて、公知のものから適宜選択されるが、その圧力やベローズ管４１，４２の容積によっては、真空ポンプＶｃ３を省略することができる。また、ベントガスとしては、例えば、窒素ガスなどの不活性ガスが用いられる。以下に、真空処理装置ＶＭ１による基板Ｓｗの移送を具体的に説明する。
【0022】
図１に示す真空処理装置ＶＭ１では、ステージＳｔの移動により一方の上流側チャンバＵｃ１と中間チャンバＭｃとが（具体的には、ゲートバルブ３１，３２の孔軸が）Ｘ軸方向の同一軸線上に位置し、このとき、第１及び第２の各ゲートバルブ３１，３２が開状態である一方で、第３のゲートバルブ３３が閉状態であり、且つ、一方の上流側チャンバＵｃ１と中間チャンバＭｃとを連通する伸位置に第１の連結部材４１がある。また、一方の上流側チャンバＵｃ１と中間チャンバＭｃとは、真空ポンプＶｃ１，Ｖｃ２により所定圧力まで真空排気され、更に、真空雰囲気の上流側チャンバＵｃ１内では、第１のローラユニット１ａの各移送ローラ１１で、上面に基板ＳｗがセットされたキャリアＣａが支持されている。なお、下流側チャンバＤｃでは、第４のゲートバルブ３４が閉状態であり、且つ、第２の連結部材４２が縮位置にあり、その内部が真空ポンプＶｃ１により所定圧力まで真空排気された状態となっている。また、他方の上流側チャンバＵｃ２では、第１のゲートバルブ３１が閉状態であり、且つ、第１の連結部材４１が縮位置にあり、その内部が真空ポンプＶｃ１により所定圧力まで真空排気された状態となっている。
【0023】
一方の上流側チャンバＵｃ１から中間チャンバＭｃを経て下流側チャンバＤｃに基板Ｓｗを移送する場合、先ず、第１のローラユニット１ａと、第２のローラユニット２とを夫々稼働し、上流側チャンバＵｃ１から第１の連結部材４１を通して中間チャンバＭｃ内へとキャリアＣａを移送し、第２のローラユニット２でキャリアＣａが支持された状態とする。次に、第１及び第２の各ゲートバルブ３１，３２を閉状態とし、一方の上流側チャンバＵｃ１と中間チャンバＭｃとをその内部を真空雰囲気とした状態で互いに隔絶する。この状態で、ベントガス導入管Ｖｌを介してベントガスを第１の連結部材４１に夫々導入してその内部を大気雰囲気とする。そして、エアシリンダ４３により第１の連結部材４１を縮位置に移動する。
【0024】
次に、ステージＳｔにより中間チャンバＭｃをその内部に基板Ｓｗが格納された状態でＹ軸方向に移動し、中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを（具体的には、ゲートバルブ３３，３４の孔軸を）Ｘ軸方向の同一軸線上に位置させる。そして、第２の連結部材４２が伸位置に移動され、真空シール４２ｂが第３のゲートバルブ３３の対峙面に当接し、この状態で真空ポンプＶｃ３により第２の連結部材４２内が真空排気される。第２の連結部材４２内が所定圧力まで真空排気されると、第３及び第４の各ゲートバルブ３３，３４が開状態とされ、第２のローラユニット２と第１のローラユニット１ｃとを夫々稼働して、中間チャンバＭｃから第２の連結部材４２を通して下流側チャンバＤｃ内へとキャリアＣａを移送する。
【0025】
中間チャンバＭｃから下流側チャンバＤｃ内へのキャリアＣａの移送が終了すると、ベントガス導入管Ｖｌを介してベントガスを第２の連結部材４２に導入してその内部を大気雰囲気とする。そして、エアシリンダ４３により第２の連結部材４２を縮位置に移動する。そして、ステージＳｔにより中間チャンバＭｃをＹ軸方向に移動し、上記と同じ手順で他方の上流側チャンバＵｃ２から基板Ｓｗを移送することができる。
【0026】
以上の実施形態によれば、各上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２から移送されてきた基板Ｓｗを格納した状態で中間チャンバＭｃ自体を移動させる構成を採用したため、中間チャンバＭｃ自体は、基板Ｓｗとそれを移送する機構（即ち、第２のローラユニット２）を格納できる空間だけあれば済み、搬送ロボットによる基板搬送が許容できる空間を確保する必要がある上記従来例のものと比較して、中間チャンバＭｃ（従来例の搬送チャンバに相当）のサイズを大幅に小さくすることができる。その結果、その内部を真空排気するために多数の真空ポンプが必要になったり、また、真空チャンバの材料費が大幅に増加したりするといった問題を解消することができる。しかも、２個の上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２で処理済みの基板Ｓｗを交互に下流側チャンバＤｃに移送するような場合にも簡単に対応（即ち、移送される基板Ｓｗの所謂レーンチェンジを効率よく）することができる。
【0027】
以上、本発明の第１実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記第１実施形態では、真空処理装置ＶＭ１として、２個の上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２、中間チャンバＭｃ及び下流側チャンバＤｃを持つものを例に説明したが、チャンバの数はこれに限定されるものではなく、複数個の上流側チャンバと複数個の下流側チャンバとの間で基板Ｓｗを移送する場合にも本発明は広く適用することができ、このとき、中間チャンバＭｃの数を適宜増加させることもできる。また、上記実施形態では、水平面内で所謂レーンチェンジして基板Ｓｗを移送する場合を例に説明しているが、鉛直方向で所謂レーンチェンジして基板Ｓｗを移送する場合も本発明の範疇に属することは明らかである。即ち、同一の部材、要素について同一の符号を付した図３に示すように、第２実施形態の真空処理装置ＶＭ２では、上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２がＺ軸方向上下に間隔を存して配置されている。この場合、中間チャンバＭｃを支持するステージＳｔをＺ軸方向にのびるように立設した２本のレール２２，２２に沿って移動自在とすればよい。
【0028】
また、上記第１実施形態では、第１及び第２の各連結部材４１，４２がベローズ管で構成され、これらのベローズ管４１，４２を駆動手段４３で伸縮させてＸ軸方向に進退させるものを例に説明したが、上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２と中間チャンバＭｃとを及び中間チャンバＭｃと下流側チャンバＤｃとを連通またはその解除ができて中間チャンバＭｃの移動を阻害しないものであれば、特に制限はない。例えば、特に図示して説明しないが、ゲートバルブに金属製の枠体を設け、枠体で支持されるようにゴム製のシール体を装着し、枠体内に流体を導入することで、シール体を膨張させて、中間チャンバＭｃのゲートバルブ３２の対峙面に当接させて真空シールする一方で、枠体内の流体を排出することで、中間チャンバＭｃの移動を許容する隙間が形成されるように構成したものを用いることができる。
【0029】
更に、上記第１実施形態では、水平姿勢で上流側チャンバＵｃ１，Ｕｃ２から中間チャンバＭｃを経て下流側チャンバＤｃに移送される場合を例に説明したが、その途中でＺ軸方向にて上下反転させて基板Ｓｗを搬送することもできる。同一の部材、要素について同一の符号を付した図４及び図５に示すように、第３実施形態の真空処理装置ＶＭ３では、中間チャンバＭｃ２自体が上下反転されるように構成されている。即ち、中間チャンバＭｃ２内に設けられる第２のローラユニット２０は、中間チャンバＭｃ２内で互いに対峙させて設けられるＺ軸方向上下一対のもので構成されている（以下では、図５中、Ｚ軸方向上側のものを「上ローラユニット２０ｕ」、Ｚ軸方向下側のものを「下ローラユニット２０ｄ」とする）。各ローラユニット２０ｕ，２０ｄは、同一の構成を有し、中間チャンバＭｃ２の互いに対向するＹ軸方向の側壁ＭｗにＸ軸方向に所定間隔で夫々列設された複数の移送ローラ２１０（２１０ａ，２１０ｂ）を備え、後述する中間チャンバＭｃ２の姿勢に応じて、下ローラユニット２０ｄ（または上ローラユニット２０ｕ）の各移送ローラ２１０ｂ（または２１０ａ）が、基板Ｓｗの外周よりＹ軸方向に突出したキャリアＣａの部分を支持するようになっている。
【0030】
図５に示すＺ軸方向下側に位置する下ローラユニット２０ｄを例に説明すると、中間チャンバＭｃ２の側壁Ｍｗには、Ｚ軸方向に長手のスリット孔ＭｓがＸ軸方向に列設され、スリット孔Ｍｓを夫々挿通して中間チャンバＭｃ２外にＹ軸方向に夫々突出した各移送ローラ２１０ｂの駆動軸２２０の部分にはプーリ２３０が設けられ、これらのプーリ２３０の間にはベルト２４０が掛け回されている。そして、モータ２５０によりいずれかのプーリ２３０を回転駆動すると、ベルト２４０を介して各移送ローラ２１０ｂが同方向に同期して回転し、キャリアＣａがＸ軸方向一方からその他方に向けて（図４中、左から右に）移送されるようになっている。
【0031】
また、駆動軸２２０の部分、プーリ２３０やベルト２４０といったキャリアＣａを移送するための部品は、ボックス２６０内に一体に組み付けられ、ボックス２６０が、中間チャンバＭｃ２の側壁Ｍｗ外側に夫々取り付けた真空雰囲気の形成が可能な拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ内に格納されている。拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ内には、保持手段としての直動モータ２７０が設けられ、直動モータ２７０の駆動軸２７０ａがボックス２６０の所定位置に接続され、上ローラユニット２０ｕと下ローラユニット２０ｄとを（即ち、各ローラユニット２０ｕ，２０ｄの各移送ローラ２１０ａ，２１０ｂを）互いに近接または離間するようにＺ軸方向に夫々移動できるようになっている。なお、拡張チャンバＥｃ，Ｅｃ自体は、中間チャンバＭｃ２にスリット孔Ｍｓを介して連通しているが、その内部を独立して真空排気する真空ポンプを設けていてもよい。
【0032】
各拡張チャンバＥｃ，ＥｃのＹ軸方向の外側壁の所定位置には、Ｙ軸方向で同軸上に位置させて回転軸２８０ａ，２８０ｂが夫々突設され、回転軸２８０ａ，２８０ｂは、ステージＳｔに設置される支持ブロック２９０ａ，２９０ｂに軸支されている。これにより、回転モータＭｏにより回転軸２８０ａ，２８０ｂを回転させると、その回転方向及び回転角に応じて中間チャンバＭｃ２が回転してその姿勢を変更するようになる。このとき、中間チャンバＭｃ２の回転が阻害されないように、支持ブロック２９０ａ，２９０ｂをＺ軸方向に昇降する昇降手段３００を設け、中間チャンバＭｃ２の回転に先立って、中間チャンバＭｃ２を所定の高さ位置までＺ軸方向に持上げるようにしてもよい。なお、中間チャンバＭｃ２の回転を阻害しないように、真空ポンプＶｃ２からの排気管Ｖｐ２の中間チャンバＭｃ２への接続位置や、その長さなどが適宜設定されている。
【0033】
以上によれば、先ず、第１のローラユニット１ａと、第２のローラユニット２０の下ローラユニット２０ｄとを夫々稼働し、一方の上流側チャンバＵｃ１から第１の連結部材４１を通して中間チャンバＭｃ２内へと移送し、下ローラユニット２０ｄでキャリアＣａが支持される状態とする。そして、上記と同手順で一方の上流側チャンバＵｃ１と中間チャンバＭｃ２とをその内部を真空雰囲気とした状態で互いに隔絶すると共に、直動モータ２７０を稼動させて、上ローラユニット２０ｕと下ローラユニット２０ｄとをＺ軸方向で互いに近接するように移動させることで、一対のローラユニット２０ｕ，２０ｄでキャリアＣａを挟持することで保持する。
【0034】
次に、キャリアＣａを保持（つまり、その移動を規制）した状態で、回転モータＭｏにより回転軸２８０ａ，２８０ｂを１８０度回転させる。すると、中間チャンバＭｃ２の回転に伴ってキャリアＣａが上下反転する。これにより、基板Ｓｗの処理面がＺ軸方向下方を向く姿勢に変更される。この状態で、直動モータ２７０を稼働させて、上ローラユニット２０ｕと下ローラユニット２０ｄとをＺ軸方向で互いに離間するように移動させると、キャリアＣａが、Ｚ軸方向下側に位置するようになった第２のローラユニット２０の上ローラユニット２０ｕで支持されるようになる。そして、上記と同手順で中間チャンバＭｃ２から下流側チャンバＤｃへと基板Ｓｗが移送される。この場合、中間チャンバＭｃ２自体を回転させてその内部で保持されるキャリアＣａ、ひいては、基板Ｓｗの姿勢を変更する構成を採用したため、中間チャンバＭｃ２自体は、基板ＳｗがセットされたキャリアＣａと第２のローラユニット２０とを格納する空間だけあれば済み、有利である。
【0035】
なお、上記第３実施形態では、中間チャンバＭｃ２にて基板Ｓｗを上下反転させるものを例に説明したが、これに限定されるものではない。特に図示して説明しないが、例えば、上流側チャンバＵｃ１で基板Ｓｗの処理面が鉛直方向上方を向く姿勢（水平姿勢）で処理を行い、中間チャンバＭｃ２にて基板Ｓｗの処理面が水平方向を向く姿勢（垂直姿勢）に姿勢変更し、この姿勢で下流側チャンバＤｃに基板Ｓｗを移送することもできる。このような場合、中間チャンバＭｃ２に、垂直姿勢にされた基板Ｓｗを移送する移送手段を適宜設けておけばよい。更に、直動モータ２７０を稼動させて、上ローラユニット２０ｕと下ローラユニット２０ｄとをＺ軸方向で互いに近接または離間するように移動できる構成を採用し、上下一対のローラユニット２０ｕ，２０ｄでキャリアＣａを挟持することで保持するものを例に説明したが、中間チャンバＭｃ２自体を回転させるときにキャリアＣａまたは基板Ｓｗを保持できるものであれば、これに限定されるものではなく、保持するための機構は、キャリアＣａまたは基板Ｓｗを移送するものと別体で構成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【0036】
Ｄｃ…下流側チャンバ、Ｍｃ，Ｍｃ２…中間チャンバ、Ｍｏ…回転モータ（回転手段）、Ｓｔ…ステージ（移動手段）、Ｓｗ…基板（被処理基板）、Ｕｃ１，Ｕｃ２…上流側チャンバ、Ｖｃ３…真空ポンプ、Ｖｌ…ベントガス導入管（ベントライン）、ＶＭ１，ＶＭ２…真空処理装置、１ａ，１ｂ，１ｃ…第１のローラユニット（移送手段）、２…第２のローラユニット（移送手段）、３１…第１のゲートバルブ（第１の開閉バルブ）、３２…第２のゲートバルブ（第２の開閉バルブ）、３３…第３のゲートバルブ（第３の開閉バルブ）、３４…第４のゲートバルブ（第４の開閉バルブ）、４１…ベローズ管（第１の連結部材）、４２…ベローズ管（第２の連結部材）、２７０…直動モータ（保持手段）、２８０ａ，２８０ｂ…回転軸。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】