特許 7355475 バッチ・ウエハ処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-09-25

(45)【発行日】2023-10-03

(54)【発明の名称】バッチ・ウエハ処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/673 20060101AFI20230926BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 T

【請求項の数】 15

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2019104246

(22)【出願日】2019-06-04

(65)【公開番号】P2019212911

(43)【公開日】2019-12-12

【審査請求日】2022-03-07

(31)【優先権主張番号】16/000,353

(32)【優先日】2018-06-05

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】519237203

【氏名又は名称】エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】デ リッデル，クリス ヘー．エム．

(72)【発明者】

【氏名】オーステルラケン，テオドルス ヘー．エム．

(72)【発明者】

【氏名】ハルセン，アードリアーン

【審査官】渡井 高広

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１１－０７１２７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０３－２３０５４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－２７７６０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００４－５１５９１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１６／００２５８９３（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開平０８－１１１４５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／１５７４６２（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／６７３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ウエハ・ボート（２８）内に支持されるウエハ（１２、２２）のバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置（２６）であって、
前記バッチ・ウエハ処理装置は、
複数のカセット受容サイト（２０）であって、各々が、２５個のウエハ・スロットを備えた標準化ウエハ・カセット（１４）を保管するように構成される、複数のカセット受容サイト（２０）と、
ダミー・ウエハ（１２）を保管するための専用のダミー・ウエハ保管カセット（１０）であって、前記ダミー・ウエハ（１２）を収容するための３０個を超えるウエハ・スロット（１６）を有する、少なくも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）とを含む保管デバイス（１８）を具備し、
前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセットは、２５個の前記ウエハ・スロットを備えた前記標準化ウエハ・カセット（１４）と実質同じ外側寸法を有し、前記ダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）のピッチは、前記標準化ウエハ・カセット（１４）における前記ウエハ・スロットのピッチよりも小さい、バッチ・ウエハ処理装置（２６）。

【請求項2】

直径３００ｍｍのウエハを保管するための前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）のピッチは、３ｍｍ～９ｍｍ、好ましくは、４ｍｍ～８ｍｍ、最も好ましくは、５ｍｍ～７ｍｍである、請求項１に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項3】

前記標準化ウエハ・カセット及び前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセットは、箱型のＦＯＵＰウエハ・カセットであり、開いた前部と、前記箱の前記開いた前部を閉じるためのドアとを備え、内部を画定し、前記箱は、上部壁、１対の側壁、後壁、及び底部を有し、前記側壁は、前記開いた前部を通して直径３００ｍｍのウエハを受容するための複数のスロットを画定する前記内部の各側に２セットの対向する延長部を更に具備する、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項4】

前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、３００ｍｍのウエハを保管するために構成され、２９０ｍｍ～３２０ｍｍの高さを有する、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項5】

前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、直径が１５０ｍｍ又は２００ｍｍであるウエハを保管するために構成され、１５０ｍｍ～３００ｍｍの高さを有する、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項6】

直径が１５０ｍｍ又は２００ｍｍのウエハを保管するための前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）のピッチは、２ｍｍ～６ｍｍ、好ましくは、３ｍｍ～４ｍｍである、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項7】

前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、５０個のウエハ・スロット（１６）を有する、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項8】

前記保管デバイス（１８）は、カセット保管カルーセルとして構成される、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項9】

前記カセット保管カルーセルは、
少なくとも１つのプラットフォーム・ステージ（２４）
を備え、
前記カセット受容サイト（２０）は、前記少なくとも１つのプラットフォーム・ステージ（２４）に設けられ、各プラットフォーム・ステージ（２４）は、中央サポートに接続され、前記中央サポートは、前記中央サポートを通る鉛直軸のまわりを回転可能に装着される、請求項８に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項10】

前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、前記保管デバイス（１８）に堅固に装着される、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項11】

前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、前記保管デバイス（１８）内に取り外し可能に支持される、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項12】

前記バッチ・ウエハ処理装置（２６）は、
ウエハ（１２、２２）の前記ボート（２８）を処理するための処理チャンバ（３０）と、
前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）のウエハ・スロット（１６）と前記ボート（２８）との間のダミー・ウエハ（１２）を扱うためのウエハ・ハンドラ（３２）であって、前記ウエハ・ハンドラ（３２）は、直径３００ｍｍのダミー・ウエハ（１２）を扱うために構成及び配置され、前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）内で、３ｍｍ～９ｍｍ、好ましくは、４ｍｍ～８ｍｍ、最も好ましくは、５ｍｍ～７ｍｍのピッチで位置決めされる、ウエハ・ハンドラ（３２）と
を備える、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項13】

前記バッチ・ウエハ処理装置（２６）は、
ウエハ（１２、２２）の前記ボート（２８）を処理するための処理チャンバ（３０）と、
前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）のウエハ・スロット（１６）と前記ボート（２８）との間のダミー・ウエハ（１２）を取り扱うためのウエハ・ハンドラ（３２）であって、前記ウエハ・ハンドラ（３２）は、直径１５０ｍｍ又は２００ｍｍのダミー・ウエハ（１２）を取り扱うために構成及び配置され、前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）内で、２ｍｍ～６ｍｍ、好ましくは、３ｍｍ～４ｍｍのピッチで位置決めされる、ウエハ・ハンドラ（３２）と
を備える、請求項１又は２に記載のバッチ・ウエハ処理装置。

【請求項14】

ウエハ・ボート（２８）内で支持されるウエハ（１２、２２）のバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置（２６）の処理チャンバ（３０）においてウエハ（１２、２２）を処置するための方法であって、前記方法は、
２５個のウエハ・スロットを備えた標準化ウエハ・カセット（１４）を用意し、複数の生産ウエハ（２２）を収容することと、
３０個を超えるウエハ・スロットを有する専用のダミー・ウエハ保管カセット（１０）を用意し、複数のダミー・ウエハ（１２）を収容することと、
前記標準化ウエハ・カセット（１４）からの前記複数の生産ウエハ（２２）のうちの少なくとも１つと、前記バッチ・ウエハ処理装置（２６）の前記ウエハ・ボートにおける前記ダミー・ウエハ保管カセット（１０）からの少なくとも１つのダミー・ウエハ（１２）と、を配置することと、
前記処理チャンバ（３０）内で前記ウエハ・ボート（２８）の前記ウエハ（１２、２２）を処理することと、
前記少なくとも１つのダミー・ウエハ（１２）を前記ダミー・ウエハ保管カセット（１０）に配置して戻すことと
を含み、
前記ダミー・ウエハ保管カセットは、前記標準化ウエハ・カセット（１４）と実質同じ外側寸法を有し、前記ダミー・ウエハ保管カセット（１０）の前記ウエハ・スロット（１６）のピッチは、前記標準化ウエハ・カセット（１４）における前記ウエハ・スロットのピッチよりも小さい構成とされる、
方法。

【請求項15】

ウエハ・ボート（２８）内に支持されるウエハ（１２、２２）のバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置（２６）であって、
前記バッチ・ウエハ処理装置は、
複数のカセット受容サイト（２０）であって、各々が、２５個のウエハ・スロットを備えた標準化ウエハ・カセット（１４）を保管するように構成される、複数のカセット受容サイト（２０）と、
ダミー・ウエハ（１２）を保管するための専用のダミー・ウエハ保管カセット（１０）であって、前記ダミー・ウエハ（１２）を収容するための３０個を超えるウエハ・スロット（１６）を有する、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）とを含む保管デバイス（１８）を具備し、
前記少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット（１０）は、前記保管デバイス（１
８）に堅固に装着される、バッチ・ウエハ処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ダミー・ウエハを保管するためのダミー・ウエハ保管カセット、及び、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセットを備えるバッチ・ウエハ処理装置に関する。

【0002】

本発明は、ダミー・ウエハ保管カセットを用いてバッチ・ウエハ処理装置の処理チャンバ内でウエハを処置するための方法にも関する。

【背景技術】

【0003】

ＥＰ１３４１２１３は、とりわけ、カセット保管カルーセルを備える、ウエハを処置するための装置を説明している。カルーセルは、ウエハの保管のためにカセットを収容することができる。前記使用されるカセットは、直径３００ｍｍのウエハのための高標準化ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）ウエハ保管カセット、又は、２５個のウエハを収容するための２５個のスロットを有し得る、直径２００ｍｍのウエハのための他のタイプの標準化カセットであり得る。

【0004】

装置は、ウエハ保管箱取り扱い装置を有してもよく、ウエハ保管箱取り扱い装置は、カセットを入力／出力のステーションから取って、そのカセットをカセット保管カルーセル内に配置し得る。カセットは、カセット保管カルーセル内に手動で配置されることもある。装置は、ウエハ・ハンドラも備えることがあり、ウエハ・ハンドラを用いて、ウエハは、カセットから取りされ、装置の処理チャンバ内での処置のためにボートに配置され得る。

【0005】

バッチ炉の処理チャンバ内でのウエハの処置の間、処理にとって、ウエハ・ボート内の全ての空間を満たしておくことは、有益となり得る。フィラーとも呼ばれるダミー・ウエハが、生産ウエハ間の空の空間を満たすために使用されることがある。ダミー・ウエハは、ウエハ・ボート内のウエハ・スタックの上部及び／又は底部に配置されて、これらのダミー・ウエハ間に配置された生産ウエハの反応特性を改善し得る。一般に、ダミー・ウエハは、再使用されることが可能であり、それらが掃除される必要があるまで装置内に留まることがある。ダミー・ウエハを装置内で使用するとき、ダミー・ウエハを保管デバイス内に保管することは、生産ウエハのための保管能力を減少させる。多数のダミー・ウエハが必要とされる構成の場合、これは、保管上の課題につながり得る。この課題に対する自明な解決策は、保管デバイス内のカセット受容サイトの数を増加させることである。しかしながら、そういった解決策は、装置内に余分な空間を必要とし、これは利用できないことがあり、及び／又は高価となることがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】ＥＰ１３４１２１３

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

したがって、ダミー・ウエハのための改善された保管解決策を提供する必要があり得る。

【課題を解決するための手段】

【0008】

一実施形態によれば、特許請求の範囲に記載されたダミー・ウエハ保管カセットが提供され得る。ウエハ保管カセットは、ダミー・ウエハを保管するためのダミー・ウエハ保管カセットとすることができ、ダミー・ウエハを収容するための３０を越えるウエハ・スロットを有し得る。

【0009】

標準化ウエハ・カセットにおいてよりも、ダミー・ウエハ保管カセットにおいて、より多くのダミー・ウエハが保管され得るという理由で、同じ量のダミー・ウエハを保管するために必要とされる前記ダミー・ウエハ保管カセットは、２５個のスロットを有する標準化ウエハ・カセットを使用するときに必要とされるであろう場合よりも少ない。したがって、保管デバイス内のより多くの空間が、生産ウエハを収容する標準化ウエハ・カセットを保管するために利用可能となり得る。

【0010】

更なる実施形態によれば、特許請求の範囲に記載されたバッチ・ウエハ処理装置が提供される。より詳細には、本発明は、ウエハ・ボート内に支持されるウエハのバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置を提供する。バッチ・ウエハ処理装置は、複数のカセット受容サイトと、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセットとを含む保管デバイスを具備し得る。複数のカセット受容サイトの各カセット受容サイトは、２５個のウエハ・スロットを備えた標準化ウエハ・カセットを保管するように構成される。

【0011】

バッチ・ウエハ処理装置の保管デバイスがダミー・ウエハ保管カセットを使用するという理由で、同じ量のダミー・ウエハを保管するために必要とされる前記ダミー・ウエハ保管カセットは、標準化ウエハ・カセットを使用するときに必要とされるであろう場合よりも少ない。これは、保管デバイスの設計を変える必要なく、生産ウエハを備えたより多くの標準化されたウエハ・カセットが保管され得ることを意味する。したがって、本発明は、保管の課題に対する解決策を提供する。

【0012】

更に別の実施形態によれば、特許請求の範囲に記載された方法が提供される。より詳細には、本発明は、ウエハ・ボート内に支持されるウエハのバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置の処理チャンバにおいてウエハを処置するための方法を提供する。本方法は、例えば２５個のスロットを備えた標準化ウエハ・カセットを提供し、複数の生産ウエハを収容することと、複数の生産ウエハのうちの少なくとも１つと、バッチ・ウエハ処理装置のウエハ・ボートにおいてダミー・ウエハを収容するための３０個より多くのウエハ・スロットを有する専用のダミー・ウエハ保管カセットからの少なくとも１つのダミー・ウエハと、を配置することと、処理チャンバ内でウエハ・ボートのウエハを処置することと、少なくとも１つのダミー・ウエハをダミー・ウエハ保管カセットに配置して戻すことと、を含む。

【0013】

ダミー・ウエハは複数回使用することができるので、ダミー・ウエハ保管カセットは、バッチ・ウエハ処理装置の内部に保持され得る。ダミー・ウエハが必要とされるときだけ、ダミー・ウエハは、ダミー・ウエハ保管カセットから取り出され、ウエハ・ボートに配置され得る。処置後に、ダミー・ウエハは、再度必要とされるまで、保管のためにダミー・ウエハ保管カセット内に配置されて戻され得る。３０個を超えるウエハ・スロットを有するダミー・ウエハ保管カセットを使用することによって、ダミー・ウエハを保管するために標準化ウエハ・カセットを使用することによって可能であろう場合よりも、より多量のダミー・ウエハが保管され得る。したがって、この方法は、上述した保管上の課題を軽減する。

【0014】

様々な実施形態は、従属請求項において特許請求されており、図に示された例を参照して、より解明されるであろう。実施形態は、組み合わされてもよく、又は、互いに別々に適用されてもよい。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明に係るダミー・ウエハ保管カセットの例をその中に備えた、本発明に係る保管デバイスの例の側面断面図である。

【図2】本発明に係るウエハ処理装置の例の斜視側面／上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

本出願では、類似の又は対応する特徴部は、類似の又は対応する参照符号によって示される。様々な実施形態の説明は、図面に示された例に限定されず、詳細な説明及び特許請求の範囲において使用される参照番号は、実施形態の説明を限定することを意図しておらず、図面に示された例を参照することによって実施形態を解明するために含められる。

【0017】

本開示は、直径が１５０ｍｍ、２００ｍｍ、又は３００ｍｍのウエハ１２、２２を保管するためのウエハ保管カセット１０に関する。本開示に係るウエハ保管カセット１０は、ダミー・ウエハ１２を保管するための専用のダミー・ウエハ保管カセット１０であることがあり、また、ダミー・ウエハ１２を収容するための３０個より多くのウエハ・スロット１６を有し得る。

【0018】

ウエハ保管カセット１０の効果及び利点は、概要の段落に説明されており、それらの効果及び利点は、参照によってここに挿入される。

【0019】

一実施形態では、ウエハ保管カセット１０は、先行技術の２５個のウエハ・スロット付き標準化ウエハ・カセット１４と実質上同じ外側寸法を有し得る。ダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６のピッチは、先行技術の標準化ウエハ・カセット１４におけるウエハ・スロットのピッチよりも小さくすることができ、直径３００ｍｍのウエハを保管するための保管カセットのために１０ｍｍとし得る。直径３００ｍｍのウエハを保管するためのダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６のピッチは、３ｍｍ～９ｍｍ、好ましくは、４ｍｍ～８ｍｍ、最も好ましくは、５ｍｍ～７ｍｍとし得る。

【0020】

標準化ウエハ・カセット１４のウエハ・スロットのための１０ｍｍのピッチは、標準化ウエハ・カセット１４内の生産用に使用されるウエハ２２が半導体工場で任意の取り扱いツールによって取り扱われる場合がある、ということを確実にするように寸法決めされる。ダミー・ウエハに関して、この要件は、さほど厳格でないことがあり、その理由は、それらが、大部分の時間、１つのウエハ・ハンドラによって１つのツール内で取り扱われるだけだからである。ダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６の小さめのピッチは、標準化ウエハ・カセット１４と対照的に、ダミー・ウエハ保管カセット１０内の多くのウエハ・スロット１６を有することを可能にし得る。

【0021】

一実施形態では、ウエハ保管カセットは、ＦＯＵＰウエハ・カセットであることがあり、箱に形状付けされて、開いた前部と、箱の開いた前部を閉じるためのドアと、を備えて内部を画定する。箱は、上部壁、１対の側壁、後壁、及び底部を有し得る。側壁は、開いた前部を通して直径３００ｍｍのウエハを受容するための複数のスロットを画定する内部の各側に２セットの対向する延長部を具備し得る。

【0022】

一実施形態では、直径３００ｍｍｍのウエハを保管するためのダミー・ウエハ保管カセット１０は、２９０ｍｍ～３２０ｍｍの高さを有し得る。それは、直径３００ｍｍのウエハを保管するための標準化ＦＯＵＰウエハ・カセットと同じ高さである。

【0023】

一実施形態では、直径が１５０ｍｍ又は２００ｍｍのウエハを保管するためのダミー・ウエハ保管カセット１０は、先行技術の標準化ウエハ・カセット１４の、直径２００ｍｍのウエハのための、およそ６ｍｍであり得るウエハ・スロットのピッチよりも小さくなり得るピッチを有し得る。例えば、ダミー・ウエハ・カセットのピッチは、直径２００ｍｍのウエハに関して、２から６ｍｍ、好ましくは、３ｍｍ～４ｍｍとし得る。ダミー・ウエハ・カセットは、１５０～３００ｍｍの高さを有し得る。

【0024】

一実施形態では、ダミー・ウエハ保管カセット１０は、５０個のウエハ・スロット１６を有し得る。このように、ダミー・ウエハ保管カセット１０は、標準化ウエハ・カセット１４と比較して２倍の容量を有する。

【0025】

また、本開示は、ウエハ・ボート２８内に支持されるウエハ１２、２２のバッチのバッチ処置のためのバッチ・ウエハ処理装置を提供する。バッチ・ウエハ処理装置は、複数のカセット受容サイト２０と、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０と、を含む保管デバイス１８を具備し得る。複数のカセット受容サイト２０の各カセット受容サイト２０は、２５個のウエハ・スロットを備えた標準化ウエハ・カセット１４を保管するように構成され得る。少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０は、複数のダミー・ウエハ１２を収容してもよく、複数のカセット受容サイト２０の１つに実装されてもよい。

【0026】

バッチ・ウエハ処理装置２６の効果及び利点は、概要の段落に説明されており、それらの効果及び利点は、参照によってここに挿入される。

【0027】

一実施形態では、保管デバイス１８は、カセット保管カルーセルであり得る。カセット保管カルーセルは、少なくとも１つのプラットフォーム・ステージ２４を含み得る。カセット受容サイト２０は、少なくとも１つのプラットフォーム・ステージ２４に設けられ得る。各プラットフォーム・ステージ２４は、中央サポートに接続されて、中央サポートを通る鉛直軸のまわりに回転可能に実装され得る。

【0028】

カルーセルは、カセット１０、１４を保管するために小型の様態である。カセット１０、１４、例えば、標準化ウエハ・カセット１４は、一方の側でカルーセルに配置されることが可能であり、他方、カルーセルの回転は、複数のカセット受容サイト２０へのアクセスを提供する。カルーセルが少なくとも１つのプラットフォーム・ステージ２４を含むとき、カセットは、前記プラットフォーム・ステージ２４上に配置されることが可能である。

【0029】

一実施形態では、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０は、保管デバイス１８に堅固に実装され得る。別の実施形態では、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０は、保管デバイス１８に取り外し可能に支持されてもよい。

【0030】

ダミー・ウエハ１２は、複数回使用することができるので、それらのダミー・ウエハ１２は、バッチ処置後にバッチ・ウエハ処理装置２６の外に移動させる必要がない。ダミー・ウエハ保管カセット１０は、それ故にウエハ処理装置２６の内側に保持される場合もある。

【0031】

一実施形態では、バッチ・ウエハ処理装置２６は、ウエハ１２、２２のボート２８を処理するための処理チャンバ３０と、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６とボート２８との間のダミー・ウエハ１２を取り扱うためのウエハ・ハンドラ３２と、を含み得る。ウエハ・ハンドラ３２は、直径３００ｍｍのダミー・ウエハ１２を取り扱うために構成されて配置されることがあり、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６内で、３から９、好ましくは、４から８、最も好ましくは、５ｍｍ～７ｍｍのピッチで位置決めされる。その代わりに、ウエハ・ハンドラ３２は、直径１５０ｍｍ又は２００ｍｍのダミー・ウエハ１２を取り扱うために構成されて配置されることがあり、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６内で、２ｍｍ～９ｍｍ、好ましくは、３ｍｍ～４ｍｍのピッチで位置決めされる。

【0032】

本開示は、更に、ウエハ・ボート２８内に支持されるウエハ１２、２２のバッチのバッチ処置のために、バッチ・ウエハ処理装置２６の処理チャンバ３０内でウエハ１２、２２を処置するための方法を提供する。本方法は、２５個のスロットを備えた標準化ウエハ・カセット１４を提供して、複数の生産ウエハ２２を収容することと、複数の生産ウエハ２２の少なくとも１つと、バッチ・ウエハ処理装置２６のウエハ・ボートにダミー・ウエハ１２を収容するための３０個より多くのウエハ・スロットを有する専用のダミー・ウエハ保管カセット１０からの少なくとも１つのダミー・ウエハ１２と、を配置することと、処理チャンバ３０内でウエハ・ボートのウエハ１２、２２を処置することと、少なくとも１つのダミー・ウエハ１２をダミー・ウエハ保管カセット１０に配置して戻すことと、を含む。複数の生産ウエハ２２の少なくとも１つ、及び／又は、少なくとも１つのダミー・ウエハ１２、を配置することは、ウエハ・ハンドラ３２で済ますことができる。ウエハ・ハンドラ３２は、ダミー・ウエハ１２を取り扱うために構成されて配置されることがあり、少なくとも１つのダミー・ウエハ保管カセット１０のウエハ・スロット１６内で、３から９、好ましくは、４から８、最も好ましくは、５ｍｍ～７ｍｍのピッチで位置決めされる。

【0033】

本方法の効果及び利点は、概要の段落において説明されており、これらの効果及び利点は、参照によってここに挿入される。専用のダミー・ウエハ保管カセットは、本発明に係る上記に説明したダミー・ウエハ保管カセット１０とし得る。

【0034】

ダミー・ウエハ１２は、標準化ウエハ・カセット１４を備えたバッチ・ウエハ処理装置２６の内及び外に搬送され得る。しかしながら、それらを装置２６内の専用のダミー・ウエハ保管カセット１０に搬送することは有利であり、その理由は、それらの専用のダミー・ウエハ保管カセット１０がより多くの保管空間を有するからである。ツールのウエハ・ハンドラは、カセット１０、１４内の異なったピッチに位置決めされるウエハ１２、２２を取り扱うことができる。また、ダミー・ウエハ１２を、専用のダミー・ウエハ保管カセット１０と共に、バッチ・ウエハ処理装置２６の内及び外に、搬送することもできる。後者は、半導体製造における他のツールが、ダミー・ウエハ保管カセット１０内のウエハのピッチを取り扱うことが可能であり得る場合にだけ可能となり得る。

【0035】

上記で説明されている様々な実施形態は、互いから独立して使用され、実装されてもよく、様々な手法で互いに組み合わされてもよい。詳細な説明及び特許請求の範囲において使用される参照番号は、実施形態の説明を限定せず、特許請求の範囲も限定しない。参照番号は、明確にするためだけに使用される。

【符号の説明】

【0036】

１０ ダミー・ウエハ保管カセット
１２ ダミー・ウエハ
１４ 標準化ウエハ・カセット
１６ ウエハ・スロット
１８ 保管デバイス
２０ カセット受容サイト
２２ 生産ウエハ
２４ プラットフォーム・ステージ
２６ バッチ・ウエハ処理装置
２８ ウエハ・ボート
３０ 処理チャンバ
３２ ウエハ・ハンドラ

【図1】

【図2】