特許 7355519 巻取式成膜装置及び真空処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-09-25

(45)【発行日】2023-10-03

(54)【発明の名称】巻取式成膜装置及び真空処理方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/56 20060101AFI20230926BHJP

【ＦＩ】

C23C14/56 B

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2019075392

(22)【出願日】2019-04-11

(65)【公開番号】P2020172687

(43)【公開日】2020-10-22

【審査請求日】2022-03-15

(73)【特許権者】

【識別番号】000231464

【氏名又は名称】株式会社アルバック

(74)【代理人】

【識別番号】110003339

【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100104215

【弁理士】

【氏名又は名称】大森 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100196575

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 満

(74)【代理人】

【識別番号】100168181

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 哲平

(74)【代理人】

【識別番号】100144211

【弁理士】

【氏名又は名称】日比野 幸信

(72)【発明者】

【氏名】木本 孝仁

(72)【発明者】

【氏名】横山 礼寛

(72)【発明者】

【氏名】江平 大

【審査官】山本 吾一

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－０５３４４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－３６７８４７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ

Ｂ３２Ｂ

Ｂ６５Ｈ １８／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

両端が第１端と第２端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、前記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する巻取式成膜装置であって、
前記成膜用フィルムは、前記成膜面である第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを有し、
前記成膜用フィルムが前記第１端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第２面において、前記第１端から前記巻出ローラまでの長さの１倍以上１．５倍以下の領域であり前記第１端を始点とする第１領域の少なくとも一部に対して、前記第１領域以外の表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をする表面処理機構を具備する巻取式成膜装置。

【請求項2】

両端が第１端と第２端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、前記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する真空処理方法であって、
前記成膜用フィルムは、前記成膜面である第１面と、前記第１面とは反対側の第２面とを有し、
前記成膜用フィルムが前記第１端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第２面において、前記第１端から前記巻出ローラまでの長さの１倍以上１．５倍以下の領域であり前記第１端を始点とする第１領域の少なくとも一部に対して、前記第１領域以外の表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をする真空処理方法。

【請求項3】

請求項２に記載された真空処理方法であって、
前記成膜用フィルムが前記第２端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第１面において、前記第２端から前記巻出ローラまでの長さの１倍以上１．５倍以下の領域であり前記第２端を始点とする第２領域の少なくとも一部が前記第２領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数となるように表面処理をする
真空処理方法。

【請求項4】

請求項３に記載された真空処理方法であって、
前記第１面において、前記第２領域の少なくとも一部が前記第２領域以外の領域における前記表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をする
真空処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

巻取式成膜装置では、巻出ローラから成膜用フィルム（ｗｅｂ）が繰り出され、その成膜面に成膜処理がなされた後、成膜用フィルムが巻取ローラに巻き取られる。但し、成膜用フィルムは、帯状で長尺であるため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生する場合がある。

【0003】

このような状況の中、成膜用フィルムに印加される張力、熱等の成膜条件を調整して、成膜用フィルムの皺発生を抑制する試みがなされている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００９－２２８０１４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、成膜中に発生する成膜用フィルムの皺発生を成膜条件で抑制しても、成膜用フィルムが巻取ローラに巻き取られる巻取開始時に、成膜用フィルムに既に皺が発生している場合には、続けて巻き取られる成膜用フィルムに該皺が転写される可能性がある。この場合、成膜条件で調整しても、成膜用フィルムに皺が残存することになる。

【0006】

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、より確実に皺発生が抑制される成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る成膜用フィルムは、巻出ローラから繰り出され、成膜面に真空処理がなされ、巻取ローラに巻き取られる帯状の成膜用フィルムである。
上記成膜用フィルムの両端は、第１端と第２端とで構成される。
上記成膜用フィルムが上記巻出ローラ及び上記巻取ローラに支持され、上記成膜用フィルムが上記第１端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第１端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第１領域は、上記第１領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数の領域を有する。

【0008】

このような成膜用フィルムであれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【0009】

上記の成膜用フィルムにおいては、上記成膜用フィルムは、上記成膜面である第１面と、上記第１面とは反対側の第２面とを有し、上記第２面において、上記第１領域の少なくとも一部が上記第１領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されてもよい。

【0010】

このような成膜用フィルムであれば、上記第２面において、上記第１領域の少なくとも一部が上記第１領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【0011】

上記の成膜用フィルムにおいては、上記成膜用フィルムが上記第２端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第２端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第２領域は、上記第２領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有してもよい。

【0012】

このような成膜用フィルムであれば、上記第２端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第２領域は、上記第２領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有しているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【0013】

上記の成膜用フィルムにおいては、上記第１面において、上記第２領域の少なくとも一部が上記第２領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されてもよい。

【0014】

このような成膜用フィルムであれば、上記第１面において、上記第２領域の少なくとも一部が上記第２領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【0015】

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜装置は、両端が第１端と第２端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、上記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する巻取式成膜装置である。
上記の巻取式成膜装置は、上記成膜用フィルムが上記第１端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第１端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第１領域に対して、上記第１領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする表面処理機構を具備する。

【0016】

このような巻取式成膜装置であれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【0017】

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る真空処理方法は、両端が第１端と第２端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、上記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する真空処理方法である。
上記の真空処理方法では、上記成膜用フィルムが上記第１端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第１端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第１領域に対して、上記第１領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理がされる。

【0018】

このような真空処理方法であれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。

【発明の効果】

【0019】

以上述べたように、本発明によれば、より確実に皺発生が抑制される成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】図（ａ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムの模式的斜視図である。図（ｂ）、（ｃ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻出ローラに巻き取られている様子を示す模式的斜視図である。

【図2】本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。

【図3】図（ａ）は、比較例に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。図（ｂ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0021】

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、ＸＹＺ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。

【0022】

図１（ａ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムの模式的斜視図である。図１（ｂ）、（ｃ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻出ローラに巻き取られている様子を示す模式的斜視図である。図２は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。

【0023】

図１（ａ）、（ｂ）に示す成膜用フィルム１００は、巻取式成膜装置１（図２）に設置される帯状であって長尺のフィルム基材である。成膜用フィルム１００としては、金属フィルム、樹脂フィルム、または金属膜がコーティングされた樹脂フィルム等があげられる。

【0024】

成膜用フィルム１００の両端は、第１端１０１と第２端１０２とで構成される。また、成膜用フィルム１００は、真空処理がされる第１面１１１と、第１面１１１とは反対側の第２面１１２とを有する。第１面１１１は、成膜面である。本実施形態では、第１面１１１のみが成膜面であるとは限らない。成膜用フィルム１００に両面成膜を試みる場合には、第２面１１２も成膜面になる。

【0025】

成膜用フィルム１００は、巻取式成膜装置１内では、巻出ローラ３１及び巻取ローラ３２に支持される。成膜用フィルム１００は、巻出ローラ３１から繰り出され、主ローラ１０で所定の巻付角度で巻回され、主ローラ１０上で、前処理、成膜処理等がなされる。この後、成膜用フィルム１００は、巻取ローラ３２に巻き取られる。

【0026】

ここで、成膜用フィルム１００が第１端１０１を始点として巻取ローラ３２に巻回され始めるときに、成膜用フィルム１００における第１端１０１から少なくとも巻出ローラ３１までの長さ領域を含む領域を第１領域１１０とする。

【0027】

例えば、第１端１０１から成膜用フィルム１００が巻出ローラ３１から放れる位置Ｐまでの領域を通紙領域１１０ａとした場合、第１領域１１０は、通紙領域１１０ａと、通紙領域１１０ａに連なる連通領域１１０ｂとを有する。

【0028】

第１領域１１０には、選択的な表面処理が施され、成膜用フィルム１００においては、第１領域１１０が第１領域１１０以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有している。つまり、第１領域１１０の少なくとも一部と、第１領域１１０以外とで、表面摩擦係数が異なっている。例えば、第２面１１２において、第１領域１１０の少なくとも一部における表面摩擦係数は、第１領域１１０以外の領域における表面摩擦係数よりも小さく構成されている。

【0029】

また、このような表面摩擦係数が領域によって異なる構成は、第２面１１２に限らず、第１面１１１において、第１領域１１０の少なくとも一部における表面摩擦係数が第１領域１１０以外の領域における表面摩擦係数よりも小さくてもよい。

【0030】

また、成膜用フィルム１００の第１面１１１に成膜処理がなされて、成膜用フィルム１００が巻取ローラ３２に巻き終えられた後、成膜用フィルム１００の第２面１１２に成膜を試みる場合は、成膜用フィルム１００を巻き取った巻取ローラ３２が巻出ローラ３１として転用される。

【0031】

例えば、図１（ｃ）に示すように、第２面１１２を成膜面として成膜用フィルム１００を巻出ローラ３１から繰り出す場合は、第２端１０２を始点として成膜用フィルム１００が巻取ローラ３２に巻回される。

【0032】

ここで、成膜用フィルム１００が第２端１０２を始点として巻取ローラ３２に巻回され始めるときに、成膜用フィルム１００における第２端１０１から少なくとも巻出ローラ３１までの長さ領域を含む領域を第２領域１２０とする。

【0033】

例えば、第２端１０２から成膜用フィルム１００が巻出ローラ３１から放れる位置Ｐまでの領域を通紙領域１２０ａとした場合、第２領域１２０は、通紙領域１２０ａと、通紙領域１２０ａに連なる連通領域１２０ｂとを有する。

【0034】

第２領域１１０に選択的な表面処理が施され、成膜用フィルム１００においては、第２領域１２０が第２領域１２０以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有している。つまり、第２領域１２０の少なくとも一部と、第２領域１２０以外とで、表面摩擦係数が異なっている。例えば、第１面１１１において、第２領域１２０の少なくとも一部における表面摩擦係数は、第２領域１２０以外の領域における表面摩擦係数よりも小さい。

【0035】

また、このような表面摩擦係数が領域によって異なる構成は、第１面１１１に限らず、第２面１１２において、第２領域１２０の少なくとも一部における表面摩擦係数が第２領域１２０以外の領域における表面摩擦係数よりも小さくてもよい。

【0036】

成膜用フィルム１００において、第１端１０１から第２端１０２までの長さをＬ０とした場合、長さＬ０は、１０ｍ以上１００００ｍ以下に構成されている。また、第１領域１１０の長さＬ１、または第２領域１２０の長さＬ２は、特に限ることなく、例えば、第１端１０１から巻出ローラ３１までの長さ領域の１倍以上１．５倍以下とされてよく、１ｍ以上５０ｍ以下である。また、成膜用フィルム１００の厚みは、４μｍ以上数１００μｍ以下である。

【0037】

成膜用フィルム１００の材料は、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、ステンレス箔、樹脂フィルムの少なくともいずれかを含む。樹脂としては、ＰＥＴ樹脂、ＯＰＰ樹脂、ＣＰＰ樹脂、ＰＥ樹脂、ＰＥＮ樹脂、ＰＩ樹脂、ＰＰ樹脂等のいずれかを含む。

【0038】

また、通紙領域１１０ａにおいては、第１端１０１から１ｍ以上２０ｍ以下の領域が表面処理されていない未処理領域であってもよい。また、通紙領域１２０ａにおいては、第２端１０２から１ｍ以上２０ｍ以下の領域が表面処理されていない未処理領域であってもよい。このような未処理領域は、巻取ローラ３２に成膜用フィルム１００を取り付け支持するための係止領域となる。

【0039】

成膜用フィルム１００における、第１領域１１０または第２領域１２０の表面摩擦係数は、巻取式成膜装置１内に成膜用フィルム１００を設置する事前に調整してもよく、後述する巻取式成膜装置１内で、第１領域１１０または第２領域１２０の表面摩擦係数を調整する表面処理を行ってもよい。

【0040】

図２に示す巻取式成膜装置１は、真空容器７０内で成膜用フィルム１００が走行しながら、成膜用フィルム１００の成膜面（第１面１１１または第２面１１２）に金属膜（例えば、リチウム膜）が形成される成膜装置である。巻取式成膜装置１は、例えば、主ローラ１０と、成膜源２０と、フィルム走行機構３０と、仕切板４０と、表面処理機構６０と、真空容器７０とを具備する。

【0041】

主ローラ１０は、鉄、ステンレス鋼、アルミニウム等の金属製の筒状ローラである。主ローラ１０は、中心軸Ｃ１を中心に回転する。主ローラ１０は、成膜用フィルム１００と、成膜源２０との間に配置される。主ローラ１０の直径は、特に限定されることなく、巻出ローラ３１及び巻取ローラ３２のそれぞれの直径よりも小さく構成されている。

【0042】

巻取式成膜装置１の外部には、主ローラ１０を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、主ローラ１０が回転駆動機構を有してもよい。あるいは、主ローラ１０は、回転駆動機構によって回転されず、中心軸１０ｃを中心に自由に回転するローラであってもよい。主ローラ１０においては、その外周面１０ｓがローラ面となり、外周面１０ｓが成膜用フィルム１００の成膜面とは反対側の成膜用フィルム１００の面に当接する。

【0043】

成膜用フィルム１００が矢印Ａの方向に走行しているとき、例えば、成膜用フィルム１００に接する主ローラ１０は、反時計回りに回転する。このとき、外周面１０ｓが中心軸１０ｃを中心に動く速度（接線速度）は、例えば、成膜用フィルム１００の走行速度と同じ速度に設定される。これにより、成膜用フィルム１００の走行中には、外周面１０ｓと成膜用フィルム１００との間でずれが起きにくく、成膜面に安定して膜を形成することができる。

【0044】

本実施形態においては、主ローラ１０の内部には、外周面１０ｓの温度を調節する温調媒体循環系等の温調機構が設けられてもよい。温調機構は、例えば、温調媒体循環系等の温調機構である。

【0045】

成膜源２０は、溶融容器２１（坩堝）と、天板２２と、噴出ノズル２３とを有する。成膜源２０は、主ローラ１０の外周面１０ｓに対向する。溶融容器２１には、例えば、リチウム（Ｌｉ）等の蒸着材料２５が収容される。蒸着材料２５は、例えば、溶融容器２１内において抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等の手法によって溶融される。

【0046】

フィルム走行機構３０は、巻出ローラ３１と、巻取ローラ３２と、ガイドローラ３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄとを有する。巻出ローラ３１及び巻取ローラ３２のそれぞれの直径は、特に限定されることなく、ガイドローラ３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄの直径よりも小さく構成されている。巻取式成膜装置１の外部には、巻出ローラ３１及び巻取ローラ３２を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、巻出ローラ３１及び巻取ローラ３２のそれぞれが回転駆動機構を有してもよい。

【0047】

成膜用フィルム１００は、予め巻出ローラ３１に巻かれ、巻出ローラ３１から繰り出される。この後、成膜用フィルム１００には、成膜処理が施され、成膜用フィルム１００は、巻取ローラ３２によって巻き取られる。

【0048】

例えば、巻出ローラ３１から連続的に繰り出された成膜用フィルム１００は、走行中にガイドローラ３３ａ、３３ｂによって支持されつつ、ガイドローラ３３ａ、３３ｂのそれぞれによって走行方向が変えられ、主ローラ１０に巻回される。

【0049】

主ローラ１０に巻回された成膜用フィルム１００は、主ローラ１０の外周面１０ｓに接触しながら、主ローラ１０によって支持されて、ガイドローラ３３ｃに導かれる。

【0050】

主ローラ１０の外周面１０ｓから離れた成膜用フィルム１００は、走行中にガイドローラ３３ｃ、３３ｄに支持されつつ、ガイドローラ３３ｃ、３３ｄのそれぞれによって走行方向が変えられ、巻取ローラ３２に連続的に巻き取られる。

【0051】

仕切板４０は、成膜源２０と主ローラ１０との間に配置される。仕切板４０には、成膜源２０を主ローラ１０の外周面１０ｓに向けて開口する開口４１が設けられている。

【0052】

表面処理機構６０は、成膜用フィルム１００の第１領域１１０に対して、第１領域１１０以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする。または、表面処理機構６０は、成膜用フィルム１００の第２領域１２０に対して、第２領域１２０以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする。

【0053】

例えば、表面処理としては、第１領域１１０または第２領域１２０の表面摩擦係数を選択的に減少する処理があげられる。例えば、成膜用フィルム１００を走行させながら、表面処理機構６０が第１領域１１０または第２領域１２０に対してコーティング剤の噴霧、プラズマクリーニング処理等を行う。コーティング剤としては、一例として、アルミナ、シリカ、チタニア、マグネシア等の無機フィラーが含まれた樹脂コート（例えば、アクリル系樹脂）を用いる。

【0054】

例えば、表面摩擦係数の調整は、一例として、成膜用フィルム１００の表面粗さによって調整される。第１領域１１０以外の領域または第２領域１２０以外の領域の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるのに対し、第１領域１１０または第２領域１２０の算術平均粗さＲａは、１０００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下に調整される。

【0055】

真空容器７０は、主ローラ１０、成膜源２０、フィルム走行機構３０、仕切板４０、表面処理機構６０、及び成膜用フィルム１００等を収容する。真空容器７０は、減圧状態を維持することができ、例えば、真空ポンプ等の真空排気系（不図示）に接続された排気管７１を通じて、その内部が所定の真空度に維持される。

【0056】

または、真空容器７０内には、ガス供給機構７２によって乾燥空気、不活性ガス（Ａｒ、Ｈｅ等）、二酸化炭素（ＣＯ_２）、窒素等の少なくともいずれかのガスが供給されてもよい。

【0057】

また、本実施形態においては、リチウム以外に、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ビスマス（Ｂｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、及びカリウム（Ｋ）等の少なくともいずれかが溶融容器２１内に収容されてもよい。

【0058】

［作用］

【0059】

図３（ａ）は、比較例に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。図３（ｂ）は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。

【0060】

図３（ａ）に示す成膜用フィルム１００は、第１領域１１０及び第２領域１２０を有していない。このため、成膜用フィルム１００が巻取ローラ３２に巻かれ始めると、成膜用フィルム１００は、例えば、軸心３２ｃの方向に逃げることができず、巻取ローラ３２上で成膜用フィルム１００に皺１３０が発生する可能性がある。

【0061】

従って、この状態で成膜用フィルム１００への成膜処理を続けると、皺１３０の上に巻回される成膜用フィルム１００にも皺１３０が転写される可能性がある。

【0062】

これに対して、図３（ｂ）に示す本実施形態では、成膜用フィルム１００が第１領域１１０または第２領域１２０を有している。このため、成膜用フィルム１００が巻取ローラ３２に巻かれ始めると、例えば、成膜用フィルム１００が軸心３２ｃの方向に容易に逃げることができ、巻取ローラ３２上で成膜用フィルム１００に皺１３０が発生しにくい。

【0063】

従って、この状態で成膜用フィルム１００への成膜処理を続けても、皺１３０の上に巻回される成膜用フィルム１００に皺１３０は転写されず、巻取ローラ３２に巻回される成膜用フィルム１００に皺が発生しにくくなる。

【0064】

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。

【符号の説明】

【0065】

１…巻取式成膜装置
１０…主ローラ
１０ｓ…外周面
１０ｃ…中心軸
２０…成膜源
２１…溶融容器
２２…天板
２３…噴出ノズル
２５…蒸着材料
３０…フィルム走行機構
３１…巻出ローラ
３２…巻取ローラ
３２ｃ…軸心
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ…ガイドローラ
４０…仕切板
４１…開口
６０…表面処理機構
７０…真空容器
７１…排気管
７２…ガス供給機構
１００…成膜用フィルム
１０１…第１端
１０２…第２端
１１０…第１領域
１２０…第２領域
１１０ａ、１２０ａ…通紙領域
１１０ｂ、１２０ｂ…連通領域
１１１…第１面
１１２…第２面
１３０…皺

【図1】

【図2】

【図3】