特許7356099IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

金属微粒子成膜体の製造方法及び金属被覆材に関し、より具体的には、金属微粒子同士が結合した金属微粒子成膜体の製造方法及び当該製造方法によって得られる金属被覆材

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献1に記載の金属被膜形成品の製造方法においては、基材の表面にレーザ光が照射されるため、当該照射による昇温によって基材表面が変質し、金属被膜を形成させた基材の性質が大きく変化してしまう。また、特許文献2に記載の金属ナノ粒子焼結膜の製造方法においては、フラッシュ光の短時間照射によって金属ナノ粒子焼結膜が形成されるため、基材への影響は低減されるが、基材表面の温度は金属ナノ粒子が融着する数百度の温度には昇温され、変質を完全に抑制することはできない。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者は目的を達成すべく、金属微粒子成膜体の製造方法及び金属被覆材について鋭意研究を重ねた結果、金属微粒子成膜体を構成する金属微粒子の原料として難溶性金属化合物を用いること等が極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、種々の基材に金属被膜を形成する簡便かつ効率的な方法であって、金属被膜形成による基材の変質を抑制でき、複雑形状を有する基材に対しても均質な金属被膜が形成できる環境負荷が小さい金属微粒子成膜体の製造方法を提供することができる。また、種々の基材の表面に金属微粒子からなる金属被膜が形成され、当該基材が本来有する性質が維持された金属被覆材を提供することもできる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の金属被覆材の表面概略図である。
【図2】 実施例1及び比較例1で得られたポリカーボネート基材のXRDパターンである。
【図3】 実施例1で形成した被膜のAFM像である。
【図4】 実施例2で得られたポリカーボネート基材のXRDパターンである。
【図5】 実施例2で得られたポリカーボネート基材のSEM観察像である。
【図6】 実施例2で形成した被膜のAFM像である。
【図7】 実施例3で得られたポリカーボネート基材のXRDパターンである。
【図8】 実施例3で形成した被膜のAFM像である。
【図9】 実施例6で得られたポリカーボネート基材のXRDパターンである。
【図10】 実施例6で得られたポリカーボネート基材のSEM観察像である。
【図11】 実施例8におけるパルプ製ウエスに関する赤外吸収スペクトルである。
【図12】 実施例8におけるポリプロピレン基材に関する赤外吸収スペクトルである。
【図13】 図11の赤外吸収スペクトルにおける800~2000cm-1の拡大図である。
【図14】 図12の赤外吸収スペクトルにおける800~2000cm-1の拡大図である。

代表図 図1本件の代表的な図

1・・・金属被覆材、 2・・・基材、 4・・・金属微粒子、 6・・・金属微粒子成膜体、 8・・・気孔。

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