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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-25
(45)【発行日】2023-11-02
(54)【発明の名称】光学積層体、偏光板複合体、及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20231026BHJP
C09J 163/00 20060101ALI20231026BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20231026BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20231026BHJP
B32B 27/16 20060101ALI20231026BHJP
B32B 27/38 20060101ALI20231026BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20231026BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20231026BHJP
G02F 1/13363 20060101ALI20231026BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20231026BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
C09J163/00
B32B7/023
B32B27/00 D
B32B27/16 101
B32B27/38
H10K59/10
G02F1/1335 510
G02F1/13363
G09F9/00 313
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2019092330
(22)【出願日】2019-05-15
(65)【公開番号】P2020056988
(43)【公開日】2020-04-09
【審査請求日】2022-03-22
(31)【優先権主張番号】P 2018184600
(32)【優先日】2018-09-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】藤田 政大
(72)【発明者】
【氏名】永安 智
(72)【発明者】
【氏名】李 正銀
【審査官】鈴木 俊光
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１８－０１７９９６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１７２１３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１４１０６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１０９１４３（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１２／１７３０５５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１４－０３７４７７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｈ１０Ｋ ５９／１０ － ５９／１９
Ｇ０２Ｆ １／１３３５
Ｇ０２Ｆ １／１３３６３
Ｂ３２Ｂ ７／０２３
Ｂ３２Ｂ ２７／００
Ｂ３２Ｂ ２７／１６
Ｂ３２Ｂ ２７／３８
Ｃ０９Ｊ １６３／００
Ｃ０９Ｊ １６３／０２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備え、第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤とを含み、
前記硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部含み、
脂環式エポキシ化合物又は単官能エポキシ化合物を含んでいてもよく、
前記脂環式エポキシ化合物の含有量が２５質量部未満であり、
前記単官能エポキシ化合物の含有量が２０質量部未満であり、
前記第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上である、光学積層体。
【請求項2】
前記多官能芳香族エポキシ化合物の含有量が、硬化性成分の全量１００質量部に対して、３０～７５質量部である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記多官能芳香族エポキシ化合物は、ナフタレン型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、又はこれらの組み合わせである、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、オキセタン化合物を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、温度２５℃での粘度が０．１８Ｐａ・ｓ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まない、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項7】
前記第２光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層である、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記第１接着層は、厚みが５μｍ以下である、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項9】
前記第１光学層及び前記第２光学層は、位相差層である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項10】
前記第１光学層は１／２波長層であり、前記第２光学層は１／４波長層である、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項11】
直線偏光板と、前記直線偏光板に積層された請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学積層体とを含み、前記光学積層体は、前記第１光学層が前記直線偏光板側に位置する向きで積層されている、偏光板複合体。
【請求項12】
円偏光板である、請求項１１に記載の偏光板複合体。
【請求項13】
画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された請求項１１又は１２に記載の偏光板複合体とを含む、画像表示装置。
【請求項14】
前記偏光板複合体は、前記直線偏光板が視認側に位置する向きで配置されている、請求項１３に記載の画像表示装置。
【請求項15】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項１３又は１４に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体、当該光学積層体と直線偏光板とを有する偏光板複合体、及び当該偏光板複合体を有する画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に反射防止性能を有する光学積層体を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。
【0003】
反射防止性能を有する光学積層体として、直線偏光板及び位相差層により構成される円偏光板が知られている。円偏光板では、画像表示パネルに向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差層により円偏光に変換する。円偏光に変換された外来光は、画像表示パネルの表面で反射されるものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差層により直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光される。その結果、外部への出射が著しく抑制される。
【0004】
円偏光板の構成要素として、複数の位相差層を接着層で接着してなる光学積層体が知られている。例えば、特許文献１，２には、１／２波長層と１／４波長層とを接着層で接着してなる光学積層体が記載されている。１／２波長層と１／４波長層は、液晶化合物からなる液晶層を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特開２０１５－２１９７５号公報
【文献】特開２０１５－２１９７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
光学積層体は、単独で、又は他の光学部材と組み合わされた構成で屈曲されることがある。例えば、搬送、巻き取り等の工程でロール状部材に接触することにより、又は、屈曲部を有する画像表示パネルの表面に配置されることにより、屈曲されることがある。光学積層体は、屈曲されている部分でシワが生じやすいとの問題があった。
【0007】
また、光学積層体において、接着層が液晶層と接する場合には、高い接着性を得にくいとの問題があった。
【0008】
本発明は、良好な接着性を有する接着層を備え、かつ、屈曲された場合であっても屈曲されている部分で生じるシワの発生を抑制し得る光学積層体、当該光学積層体と直線偏光板とを有する偏光板複合体、及び当該偏光板複合体を有する画像表示装置を提供することを目的とする。
【0009】
また、本発明は干渉ムラが抑制された光学積層体、当該光学積層体と直線偏光板とを有する偏光板複合体、及び当該偏光板複合体を有する画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明は、以下に示す光学積層体、偏光板複合体、及び画像表示装置を提供する。
〔１〕 第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備え、
第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤とを含み、
前記硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部含み、
脂環式エポキシ化合物又は単官能エポキシ化合物を含んでいてもよく、
前記脂環式エポキシ化合物の含有量が２５質量部未満であり、
前記単官能エポキシ化合物の含有量が２０質量部未満であり、
前記第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上である、光学積層体。
〔２〕 第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備える光学積層体であって、
前記第１光学層側の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて取得される前記最表面上の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比が４０％以上である、光学積層体。
〔３〕 前記第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤とを含み、
前記硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部含み、
脂環式エポキシ化合物又は単官能エポキシ化合物を含んでいてもよく、
前記脂環式エポキシ化合物の含有量が２５質量部未満であり、
前記単官能エポキシ化合物の含有量が２０質量部未満であり、
前記第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上である、請求項２に記載の光学積層体。
〔４〕 前記多官能芳香族エポキシ化合物の含有量が、硬化性成分の全量１００質量部に対して、３０～７５質量部である、〔１〕又は〔３〕に記載の光学積層体。
〔５〕 前記多官能芳香族エポキシ化合物は、ナフタレン型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、又はこれらの組み合わせである、〔１〕、〔３〕及び〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、オキセタン化合物を含む、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔７〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、温度２５℃での粘度が０．１８Ｐａ・ｓ以下である、〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔８〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まない、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔９〕 前記第２光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層である、〔１〕～〔８〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１０〕 前記第１接着層は、厚みが５μｍ以下である、〔１〕～〔９〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１１〕 前記第１光学層及び前記第２光学層は、位相差層である、〔１〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１２〕 前記第１光学層は１／２波長層であり、前記第２光学層は１／４波長層である、〔１〕～〔１１〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１３〕 直線偏光板と、前記直線偏光板に積層された〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の光学積層体とを含み、
前記光学積層体は、前記第１光学層が前記直線偏光板側に位置する向きで積層されている、偏光板複合体。
〔１４〕 円偏光板である、〔１３〕に記載の偏光板複合体。
〔１５〕 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された〔１３〕又は〔１４〕に記載の偏光板複合体とを含む、画像表示装置。
〔１６〕 前記偏光板複合体は、前記直線偏光板が視認側に位置する向きで配置されている、〔１５〕に記載の画像表示装置。
〔１７〕 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、〔１５〕又は〔１６〕に記載の画像表示装置。
〔１〕 第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備え、
第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤とを含み、
前記硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部含み、
脂環式エポキシ化合物又は単官能エポキシ化合物を含んでいてもよく、
前記脂環式エポキシ化合物の含有量が２５質量部未満であり、
前記単官能エポキシ化合物の含有量が２０質量部未満であり、
前記第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上である、光学積層体。
〔２〕 第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備える光学積層体であって、
前記第１光学層側の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて取得される前記最表面上の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比が４０％以上である、光学積層体。
〔３〕 前記第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤とを含み、
前記硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部含み、
脂環式エポキシ化合物又は単官能エポキシ化合物を含んでいてもよく、
前記脂環式エポキシ化合物の含有量が２５質量部未満であり、
前記単官能エポキシ化合物の含有量が２０質量部未満であり、
前記第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上である、請求項２に記載の光学積層体。
〔４〕 前記多官能芳香族エポキシ化合物の含有量が、硬化性成分の全量１００質量部に対して、３０～７５質量部である、〔１〕又は〔３〕に記載の光学積層体。
〔５〕 前記多官能芳香族エポキシ化合物は、ナフタレン型エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、又はこれらの組み合わせである、〔１〕、〔３〕及び〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、オキセタン化合物を含む、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔７〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、温度２５℃での粘度が０．１８Ｐａ・ｓ以下である、〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔８〕 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まない、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔９〕 前記第２光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層である、〔１〕～〔８〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１０〕 前記第１接着層は、厚みが５μｍ以下である、〔１〕～〔９〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１１〕 前記第１光学層及び前記第２光学層は、位相差層である、〔１〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１２〕 前記第１光学層は１／２波長層であり、前記第２光学層は１／４波長層である、〔１〕～〔１１〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１３〕 直線偏光板と、前記直線偏光板に積層された〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の光学積層体とを含み、
前記光学積層体は、前記第１光学層が前記直線偏光板側に位置する向きで積層されている、偏光板複合体。
〔１４〕 円偏光板である、〔１３〕に記載の偏光板複合体。
〔１５〕 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された〔１３〕又は〔１４〕に記載の偏光板複合体とを含む、画像表示装置。
〔１６〕 前記偏光板複合体は、前記直線偏光板が視認側に位置する向きで配置されている、〔１５〕に記載の画像表示装置。
〔１７〕 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、〔１５〕又は〔１６〕に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【0011】
本発明の光学積層体によれば、優れた接着性を有する接着層を備え、かつ、屈曲された場合であっても屈曲されている部分で生じるシワの発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】第１実施形態の光学積層体を模式的に示す概略断面図である。
【図2】液晶層を有する位相差層の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図3】（Ａ）～（Ｃ）は、第１実施形態の光学積層体の製造方法における各製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図4】光学積層体の検査方法を説明するための図である。
【図5】光学積層体が有するλ／２位相差層及びλ／４位相差層の配置関係を説明する図である。
【図6】光学積層体に対する第１偏光フィルター及び第２偏光フィルターの配置関係を説明する図である。
【図7】光学積層体が矩形である場合において、ＭＤ方向（搬送方向）に対する光学積層体の向きを説明するための図である。
【図8】実施例１９について第１直線に沿った輝度分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、図面を参照しながら本発明の光学積層体及び偏光板複合体について説明する。
【0014】
［光学積層体］
本発明の光学積層体の一例は、第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順で備える。第１光学層は、第１接着剤層側の表面が液晶化合物からなる液晶層である。
本発明の光学積層体の一例は、第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順で備える。第１光学層は、第１接着剤層側の表面が液晶化合物からなる液晶層である。
【0015】
本発明の光学積層体の他の例は、第１光学層と、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させてなる第１接着層と、第２光学層とをこの順に備え、第１光学層側の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて取得される前記最表面上の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比が４０％以上である。第１光学層は、第１接着剤層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であってもよい。
【0016】
光学積層体の厚みは、薄型化の観点から、２μｍ～１００μｍであることが好ましく、２μｍ～５０μｍであることがさらに好ましい。光学積層体の形態は、ロール・トゥ・ロール方式などにより作製された長尺状のもの、長尺状であってロール状に巻き取られたフィルムロール状のもの、長尺状のものを裁断することによって作製された枚葉状のもの（枚葉体）などが挙げられる。枚葉体の形状は特に制限されないが、長辺と短辺とを有する方形形状を有することが好ましく、典型的には長方形である。長辺及び短辺の長さは特に制限されないが、通常、枚葉体の長辺は５０ｍｍ以上であり、短辺は３０ｍｍ以上である。枚葉体の大きさは、例えば、長辺は３００～１５００ｍｍ、短辺は３００～１５００ｍｍである。
【0017】
＜活性エネルギー線硬化型接着剤＞
活性エネルギー線硬化型接着剤の一形態は、活性エネルギー線を照射して硬化するものである。活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤（Ｄ）とを含む。硬化性成分は、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）を含み、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は単官能エポキシ化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤中の硬化性成分は、硬化性成分の全量を１００質量部とすると、
多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）として、温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部、好ましくは３０～７５質量部含み、
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）を２５質量部未満、例えば１～２２質量部含み、
単官能エポキシ化合物（Ｃ）を２０質量部未満、例えば１～１８質量部含む。
活性エネルギー線硬化型接着剤の一形態は、活性エネルギー線を照射して硬化するものである。活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分と、カチオン重合開始剤（Ｄ）とを含む。硬化性成分は、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）を含み、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は単官能エポキシ化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤中の硬化性成分は、硬化性成分の全量を１００質量部とすると、
多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）として、温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部、好ましくは３０～７５質量部含み、
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）を２５質量部未満、例えば１～２２質量部含み、
単官能エポキシ化合物（Ｃ）を２０質量部未満、例えば１～１８質量部含む。
【0018】
硬化性成分は、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）及び単官能エポキシ化合物（Ｃ）以外の化合物を含んでいてもよく、多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）、オキセタン化合物（Ｆ）を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤中の硬化性成分は、硬化性成分の全量を１００質量部とすると、
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）を例えば１～５０質量部含み、
オキセタン化合物（Ｆ）を例えば１～５０質量部含む。
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まないことが好ましい。以下、各成分について詳細を説明する。
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）を例えば１～５０質量部含み、
オキセタン化合物（Ｆ）を例えば１～５０質量部含む。
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含まないことが好ましい。以下、各成分について詳細を説明する。
【0019】
（１）硬化性成分
（多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ））
多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、エポキシ基を２つ以上有し、芳香環を有する化合物である。ただし、本明細書でいう多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、分子内に脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。脂環式エポキシ基については後述する。
（多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ））
多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、エポキシ基を２つ以上有し、芳香環を有する化合物である。ただし、本明細書でいう多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、分子内に脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。脂環式エポキシ基については後述する。
【0020】
多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）の具体例は、ナフタレン、又はナフタレン誘導体のポリグリシジルエーテル化物（「ナフタレン型エポキシ化合物」とも称する。）；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のビスフェノール誘導体のポリグリシジルエーテル化物（「ビスフェノールＡ型エポキシ化合物」、「ビスフェノールＦ型エポキシ化合物」とも称する。）；エポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２個以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のポリグリシジルエーテル化物；ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を２個以上有する芳香族化合物のポリグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２個以上のカルボキシル基を有する多塩基酸芳香族化合物のポリグリシジルエステル；安息香酸のグリシジルエステルやトルイル酸、ナフトエ酸のポリグリシジルエステル等；スチレンオキサイドやアルキル化スチレンオキサイド、ビニルナフタレンのエポキシ化物等のスチレンオキサイド類又はジビニルベンゼンのジエポキシ化物等が挙げられる。
【0021】
本発明の活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化性成分は、全量を１００質量部とすると、多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）として、温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を１０～９０質量部、好ましくは３０～７５質量部含む。多官能芳香族エポキシ化合物（Ａ）として、温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物を用いることにより、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度を低くすることができる。また、接着剤硬化層の屈折率を向上させ、接着性を向上させ、かつ屈曲した際に光学積層体に生じるシワを抑制することができる。
【0022】
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物は、市販品を用いることができ、例えば、“デナコールＥＸ－２０１”、“デナコールＥＸ－７１１”及び“デナコールＥＸ－７２１”（以上、いずれもナガセケムテックス（株）製）；“オグソールＥＧ－２８０”及び“オグソールＣＧ－４００”（以上、いずれも大阪ガスケミカル（株）製）；“ＥＸＡ－８０ＣＲＰ”及び“ＨＰ４０３２Ｄ”（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）；““ｊＥＲ８２８”及び“ｊＥＲ８２８ＥＬ”（以上、いずれも三菱ケミカル（株）製）；“アデカレジンＥＰ－４１００”、“アデカレジンＥＰ－４１００Ｇ”、“アデカレジンＥＰ－４１００Ｅ”、“アデカレジンＥＰ－４１００Ｌ”、“アデカレジンＥＰ－４１００ＴＸ”、“アデカレジンＥＰ－４０００”、“アデカレジンＥＰ－４００５”、“アデカレジンＥＰ－４９０１”、“アデカレジンＥＰ－４９０１Ｅ”、（以上、いずれも（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
【0023】
温度２５℃での粘度が３０Ｐａ・ｓ以下である多官能芳香族エポキシ化合物としては、１種の化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0024】
（脂環式エポキシ化合物（Ｂ））
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物である。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物であれば、脂環式エポキシ基以外のエポキシ基をさらに有していてもよい。本明細書において、脂環式エポキシ基とは、脂環式環に結合したエポキシ基を意味し、下記式（ａ）で示される構造における橋かけの酸素原子－Ｏ－を意味する。
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物である。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、脂環式エポキシ基を１つ以上有する化合物であれば、脂環式エポキシ基以外のエポキシ基をさらに有していてもよい。本明細書において、脂環式エポキシ基とは、脂環式環に結合したエポキシ基を意味し、下記式（ａ）で示される構造における橋かけの酸素原子－Ｏ－を意味する。
【0025】
【化1】
【0026】
上記式（ａ）中、ｍは２～５の整数である。上記式（ａ）における（ＣＨ２）ｍ中の１個または複数個の水素原子を取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）となり得る。（ＣＨ２）ｍ中の１個または複数個の水素原子は、メチル基やエチル基のような直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化速度を調整することができ、また良好な高温耐性を有する接着剤硬化層を得ることができる。
【0027】
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）の具体例は、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、１，２－エポキシ－１－メチル－４－（１－メチルエポキシエチル）シクロヘキサン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル メタアクリレート、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの４－（１，２－エポキシエチル）－１，２－エポキシシクロヘキサン付加物、エチレン ビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、オキシジエチレン ビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、１，４－シクロヘキサンジメチル ビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、および３－（３，４－エポキシシクロヘキシルメトキシカルボニル）プロピル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。
【0028】
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）の中でも、適度な硬化性を有するとともに、比較的廉価に入手できることから、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル、３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましく用いられる。脂環式エポキシ化合物（Ｂ）としては、１種の脂環式エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0029】
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）は、市販品を用いることができ、例えば、それぞれ商品名で、（株）ダイセルから販売されている“セロキサイド（登録商標）”シリーズ及び“サイクロマー（登録商標）”、ダウケミカル社から販売されている“サイラキュア UVR”シリーズ等が挙げられる。
【0030】
（単官能エポキシ化合物（Ｃ））
単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、エポキシ基を１つ有する化合物である。ただし、本明細書でいう単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を分子内に有する化合物を除く。単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、芳香環を分子内に有していてもよく、有していなくてもよい。単官能エポキシ化合物（Ｃ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度を調整することができる。
単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、エポキシ基を１つ有する化合物である。ただし、本明細書でいう単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を分子内に有する化合物を除く。単官能エポキシ化合物（Ｃ）は、芳香環を分子内に有していてもよく、有していなくてもよい。単官能エポキシ化合物（Ｃ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度を調整することができる。
【0031】
芳香環を有する単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等の１価フェノール若しくはビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のビスフェノール誘導体、又はそれらのアルキレンオキサイド付加物のモノグリシジルエーテル化物；エポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２個以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のモノグリシジルエーテル化物；ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を２個以上有する芳香族化合物のモノグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２個以上のカルボキシル基を有する多塩基酸芳香族化合物のモノグリシジルエステル；安息香酸のグリシジルエステルやトルイル酸、ナフトエ酸のモノグリシジルエステル等が挙げられる。
【0032】
芳香環を有しない単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、脂肪族アルコールのグリシジルエーテル化物、アルキルカルボン酸のグリシジルエステル等が挙げられ、その具体例は、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ｓｅｃ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、炭素数１２及び１３混合アルキルグリシジルエーテル、アルコールのグリシジルエーテル、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル等を含む。単官能エポキシ化合物（Ｃ）としては、１種の単官能エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0033】
単官能エポキシ化合物（Ｃ）は市販品を用いることができ、例えば、“ＥＸ－１４２”、“ＥＸ－１４６”、ＥＸ－１４７”、“ＥＸ－１２１”（以上、いずれもナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。
【0034】
（多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ））
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、２個以上のエポキシ基を有し、芳香環を有さない化合物である。ただし、本明細書でいう多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）により、接着剤硬化層の接着性を調整することができる。
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、２個以上のエポキシ基を有し、芳香環を有さない化合物である。ただし、本明細書でいう多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）に含まれる、脂環式エポキシ基を有する化合物を除く。多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）により、接着剤硬化層の接着性を調整することができる。
【0035】
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、下記式（Ｉ）で表される脂肪族ジエポキシ化合物がより好ましい。下記式（Ｉ）で表される脂肪族ジエポキシ化合物を多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）として含むことにより、粘度が低く、塗布し易い活性エネルギー線硬化型接着剤を得ることができる。
【0036】
【化2】
【0037】
式（Ｉ）中、Ｚは炭素数１～９のアルキレン基、炭素数３もしくは４のアルキリデン基、２価の脂環式炭化水素基、または式－ＣｍＨ２ｍ－Ｚ１－ＣｎＨ２ｎ－で示される２価の基である。また、前記式－ＣｍＨ２ｍ－Ｚ１－ＣｎＨ２ｎ－中、－Ｚ１－は、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－または－ＣＯ－であり、ｍおよびｎは各々独立に１以上の整数を表し、ｍおよびｎの合計は９以下である。
【0038】
２価の脂環式炭化水素基は、例えば、炭素数４～８の２価の脂環式炭化水素基であってよく、例えば下記式（Ｉ－１）で示される２価の基等が挙げられる。
【0039】
【化3】
【0040】
式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、例えばアルカンジオールのジグリシジルエーテル、繰り返し数４程度までのオリゴアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、または脂環式ジオールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0041】
前記式（Ｉ）で示される化合物を形成し得るジオール（グリコール）としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－２，４－ペンタンジオール、２，４－ペンタンジオール、１，５－ペンタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、２，４－ジエチル－１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、３，５－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、２－メチル－１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール等のアルカンジオール；ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のオリゴアルキレングリコール；シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂環式ジオールが挙げられる。
【0042】
本発明において、多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、粘度が低く、塗布しやすい活性エネルギー線硬化型接着剤が得られるとの観点から、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルが好ましい。多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）としては、１種の脂肪族エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0043】
多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）は市販品を用いることができ、例えば、“ＥＰ－４０８８Ｓ”（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、“ＥＨＰＥ３１５０”（以上、（株）ダイセル製）、“ＥＸ－２１１Ｌ”、“ＥＸ－２１２Ｌ”（以上、いずれもナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。
【0044】
（オキセタン化合物（Ｆ））
本明細書において、オキセタン化合物（Ｆ）は、オキセタニル基を有する化合物であり、脂肪族化合物、脂環式化合物または芳香族化合物であってもよい。本明細書でいうオキセタン化合物（Ｆ）は、エポキシ基を有さない化合物とする。オキセタン化合物（Ｆ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化速度や粘度を調整することができ、また反応性を向上させることができる。
本明細書において、オキセタン化合物（Ｆ）は、オキセタニル基を有する化合物であり、脂肪族化合物、脂環式化合物または芳香族化合物であってもよい。本明細書でいうオキセタン化合物（Ｆ）は、エポキシ基を有さない化合物とする。オキセタン化合物（Ｆ）により、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化速度や粘度を調整することができ、また反応性を向上させることができる。
【0045】
オキセタン化合物（Ｆ）は、具体例として、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、３－エチル－３－［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３－エチル－３－（ヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（ヒドロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（クロロメチル）オキセタン等を含む。オキセタン化合物（Ｆ）としては、１種のオキセタン化合物を単独で用いても、異なる複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0046】
オキセタン化合物（Ｆ）は、市販品を用いることができ、例えば、それぞれ商品名で、東亞合成（株）から販売されている“アロンオキセタン（登録商標）”シリーズ、宇部興産（株）から販売されている“ETERNACOLL（登録商標）”シリーズなどが挙げられる。
【0047】
上記した硬化性成分（多官能エポキシ化合物（Ａ）、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）、単官能エポキシ化合物（Ｃ）、多官能脂肪族エポキシ化合物（Ｅ）、オキセタン化合物（Ｆ））は、活性エネルギー線硬化型接着剤を無溶剤とするために、有機溶剤などで希釈されていないものを用いることが好ましい。
【0048】
上記した硬化性成分は、通常室温において液体であり、溶剤を存在させなくても適度な流動性を有し、適切な接着強度を与えるものを選択し、それに適したカチオン重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤は、光学積層体の製造設備において、第１光学層と第２光学層とを接着する工程で溶剤を蒸発させるための乾燥設備を省くことができる。また、適切な活性エネルギー線量を照射することで硬化速度を促進させ、生産速度を向上させることができる。
【0049】
（その他の硬化性成分）
活性エネルギー線硬化型接着剤に含まれる硬化性成分は、上記した硬化性成分に限定されることはなく、上記したカチオン重合性の硬化性成分以外のカチオン重合性の硬化性成分、及びラジカル重合性の硬化性成分を含んでいてもよい。ラジカル重合性の硬化性成分としては、アクリル系化合物が例示される。
活性エネルギー線硬化型接着剤に含まれる硬化性成分は、上記した硬化性成分に限定されることはなく、上記したカチオン重合性の硬化性成分以外のカチオン重合性の硬化性成分、及びラジカル重合性の硬化性成分を含んでいてもよい。ラジカル重合性の硬化性成分としては、アクリル系化合物が例示される。
【0050】
ただし、ラジカル重合は硬化収縮が大きい傾向にあるため、活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性成分としてカチオン重合性の硬化性成分のみを含むことが好ましい。
【0051】
（２）カチオン重合開始剤（Ｄ）
活性エネルギー線硬化型接着剤は、カチオン重合開始剤（Ｄ）を含有する。これにより、硬化性成分を活性エネルギー線の照射によるカチオン重合で硬化させて接着剤層を形成することができる。カチオン重合開始剤（Ｄ）は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、硬化性成分の重合反応を開始させるものである。カチオン重合開始剤（Ｄ）は光で触媒的に作用するため、硬化性成分に混合しても保存安定性や作業性に優れる。カチオン重合開始剤（Ｄ）として使用し得る、活性エネルギー線の照射によりカチオン種やルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩；鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤は、カチオン重合開始剤（Ｄ）を含有する。これにより、硬化性成分を活性エネルギー線の照射によるカチオン重合で硬化させて接着剤層を形成することができる。カチオン重合開始剤（Ｄ）は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、硬化性成分の重合反応を開始させるものである。カチオン重合開始剤（Ｄ）は光で触媒的に作用するため、硬化性成分に混合しても保存安定性や作業性に優れる。カチオン重合開始剤（Ｄ）として使用し得る、活性エネルギー線の照射によりカチオン種やルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩；鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。
【0052】
芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレート、が挙げられる。
【0053】
芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－ノニルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、が挙げられる。
【0054】
芳香族スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４，４’－ビス〔ジフェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス〔ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス〔ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、７－〔ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ〕－２－イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、７－〔ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ〕－２－イソプロピルチオキサントン テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４－フェニルカルボニル－４’－ジフェニルスルホニオ－ジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、４－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルカルボニル）－４’－ジフェニルスルホニオ－ジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、４－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルカルボニル）－４’－ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ－ジフェニルスルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、が挙げられる。
【0055】
鉄－アレーン錯体としては、例えば、キシレン－シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ） ヘキサフルオロアンチモネート、クメン－シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ） ヘキサフルオロホスフェート、キシレン－シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ） トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタナイド、が挙げられる。
【0056】
カチオン重合開始剤（Ｄ）は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。上記の中でも特に芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ付近の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する接着剤硬化層を得ることができるため、好ましく用いられる。
【0057】
カチオン重合開始剤（Ｄ）の含有量は、硬化性成分の合計量１００質量部に対して０．５～１０質量部とされ、好ましくは１～４質量部である。カチオン重合開始剤（Ｄ）を１質量部以上含有させることにより、硬化性成分を十分に硬化させることができ、十分な接着強度と硬度を有する接着剤硬化層を得ることができる。一方、その量が多くなると、硬化物中のイオン性物質が増加することで硬化物の吸湿性が高くなり、光学積層体の耐久性能を低下させる可能性があるため、カチオン重合開始剤（Ｄ）の量は、硬化性成分の合計量１００質量部に対して１０質量部以下とする。
【0058】
硬化性成分としてラジカル重合性の硬化性成分を含む場合は、重合開始剤として、カチオン重合開始剤（Ｄ）に加えてラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
【0059】
（３）光増感剤
活性エネルギー線硬化型接着剤は、光増感剤を含有してもよい。上記のカチオン重合開始剤（Ｄ）は、３００ｎｍ付近又はそれより短い波長域に極大吸収を示し、その付近の波長の光に感応してカチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン重合性の硬化性成分のカチオン重合を開始させるが、それよりも長い波長の光にも感応するように、光増感剤は、３８０ｎｍより長い波長域に極大吸収を示すものであることが好ましい。かかる光増感剤として、アントラセン系化合物が好適に用いられる。
活性エネルギー線硬化型接着剤は、光増感剤を含有してもよい。上記のカチオン重合開始剤（Ｄ）は、３００ｎｍ付近又はそれより短い波長域に極大吸収を示し、その付近の波長の光に感応してカチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン重合性の硬化性成分のカチオン重合を開始させるが、それよりも長い波長の光にも感応するように、光増感剤は、３８０ｎｍより長い波長域に極大吸収を示すものであることが好ましい。かかる光増感剤として、アントラセン系化合物が好適に用いられる。
【0060】
アントラセン系化合物の具体例としては、例えば、
９，１０－ジメトキシアントラセン、
９，１０－ジエトキシアントラセン、
９，１０－ジプロポキシアントラセン、
９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、
９，１０－ジブトキシアントラセン、
９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、
９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン、
９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（２－エトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（２－ブトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（３－ブトキシプロポキシ）アントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジプロポキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン
が挙げられる。
９，１０－ジメトキシアントラセン、
９，１０－ジエトキシアントラセン、
９，１０－ジプロポキシアントラセン、
９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、
９，１０－ジブトキシアントラセン、
９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、
９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン、
９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（２－エトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（２－ブトキシエトキシ）アントラセン、
９，１０－ビス（３－ブトキシプロポキシ）アントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジプロポキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、
２－メチル又は２－エチル－９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン
が挙げられる。
【0061】
活性エネルギー線硬化型接着剤に光増感剤を含有させることにより、それを含有しない場合に比べ、接着剤の硬化性を向上させることができる。硬化性成分の合計量１００質量部に対する光増感剤の含有量を０．１質量部以上とすることにより、このような効果を発現させることができる。一方、光増感剤の含有量が多くなると、低温保管時に析出する等の問題が生じることから、その含有量は、硬化性成分の合計量１００質量部に対して２質量部以下とすることが好ましい。
【0062】
（４）光増感助剤
活性エネルギー線硬化型接着は、光増感助剤を含有してもよい。光増感助剤は、好ましくはナフタレン系光増感助剤である。
活性エネルギー線硬化型接着は、光増感助剤を含有してもよい。光増感助剤は、好ましくはナフタレン系光増感助剤である。
【0063】
ナフタレン系光増感助剤の具体例としては、例えば、
４－メトキシ－１－ナフトール、
４－エトキシ－１－ナフトール、
４－プロポキシ－１－ナフトール、
４－ブトキシ－１－ナフトール、 ４－ヘキシルオキシ－１－ナフトール、
１，４－ジメトキシナフタレン、
１－エトキシ－４－メトキシナフタレン、
１，４－ジエトキシナフタレン、
１，４－ジプロポキシナフタレン、
１，４－ジブトキシナフタレン
が挙げられる。
４－メトキシ－１－ナフトール、
４－エトキシ－１－ナフトール、
４－プロポキシ－１－ナフトール、
４－ブトキシ－１－ナフトール、 ４－ヘキシルオキシ－１－ナフトール、
１，４－ジメトキシナフタレン、
１－エトキシ－４－メトキシナフタレン、
１，４－ジエトキシナフタレン、
１，４－ジプロポキシナフタレン、
１，４－ジブトキシナフタレン
が挙げられる。
【0064】
活性エネルギー線硬化型接着剤にナフタレン系光増感助剤を含有させることにより、それを含有しない場合に比べ、接着剤の硬化性を向上させることができる。硬化性成分の合計量１００質量部に対するナフタレン系光増感助剤の含有量を０．１質量部以上とすることにより、このような効果を発現させることができる。一方、ナフタレン系光増感助剤の含有量が多くなると、低温保管時に析出する等の問題を生じることから、その含有量は、硬化性成分の合計量１００質量部に対して５質量部以下とすることが好ましい。ナフタレン系光増感助剤の含有量は、好ましくは、硬化性成分の合計量１００質量部に対して３質量部以下である。
【0065】
（５）添加剤成分
活性エネルギー線硬化型接着剤には、本発明の効果を損なわない限り、任意成分である他の成分として、添加剤成分を含有させることができる。添加剤成分としては、イオントラップ剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、色素、有機溶剤等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤には、本発明の効果を損なわない限り、任意成分である他の成分として、添加剤成分を含有させることができる。添加剤成分としては、イオントラップ剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、色素、有機溶剤等を挙げることができる。
【0066】
添加剤成分を含有させる場合、その含有量は、硬化性成分の合計量１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。含有量が１０質量部以下である場合、必須成分である硬化性成分、カチオン重合開始剤（Ｄ）の組み合わせによる、第１光学層と第２光学層との間の優れた接着強度、活性エネルギー線硬化性接着剤の低粘度化及びこれに伴う良好な塗工性、並びに硬化後の第１接着層における気泡欠陥の抑制という効果を良好に発揮することができる。
【0067】
上記したカチオン重合開始剤（Ｄ）、光増感剤、光増感助剤、及び添加剤成分は、活性エネルギー線硬化型接着剤の調製時に、溶剤を含まない状態で添加してもよいし、溶剤に希釈してから直接添加してもよい。上記した含有量の数値範囲は、いずれも固形分基準での数値範囲である。
【0068】
（６）粘度
活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度としては、種々の方法で塗工できる粘度を有するものであればよいが、その温度２５℃における粘度は、０．１８Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．０１Ｐａ・ｓ以上であることがより好ましい。その粘度があまり小さいと、所望の厚みでの層形成がしにくくなる傾向にある。一方、その粘度があまり大きいと、流動しにくくなって、ムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。ここでいう粘度は、Ｅ型粘度計を用いてその接着剤を２５℃に調温した後、１０ｒｐｍで測定される値である。
活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度としては、種々の方法で塗工できる粘度を有するものであればよいが、その温度２５℃における粘度は、０．１８Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．０１Ｐａ・ｓ以上であることがより好ましい。その粘度があまり小さいと、所望の厚みでの層形成がしにくくなる傾向にある。一方、その粘度があまり大きいと、流動しにくくなって、ムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。ここでいう粘度は、Ｅ型粘度計を用いてその接着剤を２５℃に調温した後、１０ｒｐｍで測定される値である。
【0069】
（７）硬化方法
活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型の態様で用いることができる。本明細書において、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型の態様で用いることができる。本明細書において、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。
【0070】
電子線硬化型において、電子線の照射条件は、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ～３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ～２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与えるおそれがある。照射線量としては、５～１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０～７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、光学層に損傷を与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所望の光学特性を得ることができない。
【0071】
電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる光学層にあえて酸素阻害を生じさせ、他の光学層へのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。
【0072】
紫外線硬化型において、活性エネルギー線硬化型接着剤の光照射強度は、接着剤の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、１０～１,０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましい。樹脂組成物への光照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ2未満であると、反応時間
が長くなりすぎ、１,０００ｍＷ／ｃｍ2を超えると、光源から輻射される熱および組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変を生じる可能性がある。なお、照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤（Ｄ）の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長４００ｎｍ以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長２８０～３２０ｎｍの波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量を、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００～１,０００ｍＪ／ｃｍ2となるように設定する。上記接着剤への積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ2未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が１,０００ｍＪ／ｃｍ2を超えると、照射時間が長くなり、生産性向上には不利なものとなる。この際、第１光学層及び第２光学層の種類や接着剤種の組み合わせなどによって、どの波長領域（ＵＶＡ（３２０～３９０ｎｍ）やＵＶＢ（２８０～３２０ｎｍ）など）での積算光量が必要かは異なる。
が長くなりすぎ、１,０００ｍＷ／ｃｍ2を超えると、光源から輻射される熱および組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変を生じる可能性がある。なお、照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤（Ｄ）の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長４００ｎｍ以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長２８０～３２０ｎｍの波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量を、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ2以上、さらに好ましくは１００～１,０００ｍＪ／ｃｍ2となるように設定する。上記接着剤への積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ2未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が１,０００ｍＪ／ｃｍ2を超えると、照射時間が長くなり、生産性向上には不利なものとなる。この際、第１光学層及び第２光学層の種類や接着剤種の組み合わせなどによって、どの波長領域（ＵＶＡ（３２０～３９０ｎｍ）やＵＶＢ（２８０～３２０ｎｍ）など）での積算光量が必要かは異なる。
【0073】
本発明における活性エネルギー線の照射により接着剤の重合硬化を行うために用いる光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。
【0074】
＜第１接着層＞
第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が好ましくは１．５３以上であり、より好ましくは１．５４以上である。第１接着層の屈折率が上記範囲内であることにより、屈折率が高い層、例えば液晶層の接着に用いられた場合であっても、界面反射光の強度を小さくすることができ、干渉ムラの発生を抑制することができる。第１接着層の厚みは、特に制限はないが、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。第１接着層の厚みは、接着性を確保する観点から、例えば、０．５μｍ以上である。
第１接着層は、波長５８９ｎｍでの屈折率が好ましくは１．５３以上であり、より好ましくは１．５４以上である。第１接着層の屈折率が上記範囲内であることにより、屈折率が高い層、例えば液晶層の接着に用いられた場合であっても、界面反射光の強度を小さくすることができ、干渉ムラの発生を抑制することができる。第１接着層の厚みは、特に制限はないが、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。第１接着層の厚みは、接着性を確保する観点から、例えば、０．５μｍ以上である。
【0075】
＜輝度分布＞
本発明の光学積層体は、第１光学層側の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて取得される最表面上の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比（最小輝度／最大輝度）が４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、５５％以上であることがさらに好ましい。かかる比が４０％以上であることにより、干渉ムラを抑制することができる。輝度分布の取得方法は、後述の実施例の方法にしたがう。第１直線は、任意の直線であってよく、後述の実施例の方法においては、所定の大きさに切り出したサンプルの最表面を横断する直線であり、搬送方向の直線である。光学積層体において、例えば、第１接着層の組成、厚み等を調整することにより、第１直線に沿った輝度分布における最大輝度に対する最小輝度の比を調整することができる。
本発明の光学積層体は、第１光学層側の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて取得される最表面上の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比（最小輝度／最大輝度）が４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、５５％以上であることがさらに好ましい。かかる比が４０％以上であることにより、干渉ムラを抑制することができる。輝度分布の取得方法は、後述の実施例の方法にしたがう。第１直線は、任意の直線であってよく、後述の実施例の方法においては、所定の大きさに切り出したサンプルの最表面を横断する直線であり、搬送方向の直線である。光学積層体において、例えば、第１接着層の組成、厚み等を調整することにより、第１直線に沿った輝度分布における最大輝度に対する最小輝度の比を調整することができる。
【0076】
＜第１光学層及び第２光学層＞
第１光学層及び第２光学層は、光を透過する層であれば特に限定されないが、例えば、透過する光に所定の位相差を与える位相差層である。第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であることが好ましい。液晶層は、屈折率が高く、これに接する接着層との間で界面反射が生じやすいものの、第１接着層の屈折率を１．５３以上とすることにより、界面反射を抑制することができる。第２光学層は、特に限定されないが、位相差層である場合には、光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは液晶化合物からなる液晶層を有する。
第１光学層及び第２光学層は、光を透過する層であれば特に限定されないが、例えば、透過する光に所定の位相差を与える位相差層である。第１光学層は、第１接着層側の表面が液晶化合物からなる液晶層であることが好ましい。液晶層は、屈折率が高く、これに接する接着層との間で界面反射が生じやすいものの、第１接着層の屈折率を１．５３以上とすることにより、界面反射を抑制することができる。第２光学層は、特に限定されないが、位相差層である場合には、光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは液晶化合物からなる液晶層を有する。
【0077】
＜第１実施形態＞
第１実施形態の光学積層体において、第１光学層と第２光学層は、位相差層である。図１は、第１実施形態の光学積層体を模式的に示す概略断面図である。図１に示すように、光学積層体５は、第１光学層である第１位相差層１と、第２光学層である第２位相差２と、第１位相差層１と第２位相差層２とを接着する第１接着層４とを含む。
第１実施形態の光学積層体において、第１光学層と第２光学層は、位相差層である。図１は、第１実施形態の光学積層体を模式的に示す概略断面図である。図１に示すように、光学積層体５は、第１光学層である第１位相差層１と、第２光学層である第２位相差２と、第１位相差層１と第２位相差層２とを接着する第１接着層４とを含む。
【0078】
光学積層体５は、単独で、又は他の光学部材と組み合わされた構成で屈曲されることがある。例えば、搬送、巻き取り等の工程でロール状部材により接触することにより、又は、屈曲部を有する画像表示パネルの表面に配置されることにより、屈曲されることがある。光学積層体５によると、屈曲されている部分でシワが生じることを抑制することができる。
【0079】
（１）第１位相差層及び第２位相差層
第１位相差層１及び第２位相差層２は、光に所定の位相差を与える位相差発現層を少なくとも一つ含む位相差層であれば特に限定されず、例えば、１／２波長層、１／４波長層、ポジティブＣプレート等の光学補償層であってもよい。位相差層は、正分散性の位相差層であっても、逆波長分散性の位相差層であってもよい。第１位相差層１及び第２位相差層２は、位相差発現層を少なとも一つ含むものであれば、位相差発現層のみからなるものであってもよいし、位相差発現層とともに他の層を含むものであってもよい。他の層としては、例えば、基材層、配向膜層、保護層等が挙げられる。なお、他の層は位相差の値には影響を及ぼさない。
第１位相差層１及び第２位相差層２は、光に所定の位相差を与える位相差発現層を少なくとも一つ含む位相差層であれば特に限定されず、例えば、１／２波長層、１／４波長層、ポジティブＣプレート等の光学補償層であってもよい。位相差層は、正分散性の位相差層であっても、逆波長分散性の位相差層であってもよい。第１位相差層１及び第２位相差層２は、位相差発現層を少なとも一つ含むものであれば、位相差発現層のみからなるものであってもよいし、位相差発現層とともに他の層を含むものであってもよい。他の層としては、例えば、基材層、配向膜層、保護層等が挙げられる。なお、他の層は位相差の値には影響を及ぼさない。
【0080】
位相差発現層としては、液晶層、又は延伸フィルムが挙げられる。第１位相差層１は、第１接着層４側の表面が、位相差発現層である液晶層である。第２位相差層２は、薄型化の観点から、位相差発現層が液晶層であることが好ましい。第２位相差層２は、例えば、第１接着層４側の表面が、位相差発現層である液晶層である。液晶層である位相差発現層の方が、延伸フィルムである位相差発現層よりも、一般的に薄膜化が容易である。本実施形態では、第１接着層４に接する第１位相差１及び第２位相差層２の表面層がともに液晶層である場合においても、第１接着層４について、波長５８９ｎｍでの屈折率が１．５３以上であることにより界面反射を抑制することができ、接着性を向上させることができる。さらに、屈曲された場合であっても屈曲されている部分で生じるシワの発生を抑制する。
【0081】
第１位相差層１及び第２位相差層２が、それぞれ位相差発現層のみからなる場合は、それぞれの厚さが０．５μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．５μｍ～５μｍであることがより好ましい。
第１位相差層１及び第２位相差層がそれぞれ位相差発現層以外の他の層（基材層、配向膜層、保護層等）を含む場合、全体の厚みが０．５μｍ～３００μｍであることが好ましく、０．５μｍ～１５０μｍであることがより好ましい。
第１位相差層１及び第２位相差層がそれぞれ位相差発現層以外の他の層（基材層、配向膜層、保護層等）を含む場合、全体の厚みが０．５μｍ～３００μｍであることが好ましく、０．５μｍ～１５０μｍであることがより好ましい。
【0082】
第１位相差層１及び第２位相差層２の厚さが薄いほど、光学積層体が屈曲された場合に、屈曲された部分において、第１位相差層１及び第２位相差層２にシワが発生しやすくなるが、本実施形態の光学積層体によると、第１位相差層１及び第２位相差層２が上記のように５μｍ以下と薄い場合であっても、屈曲された部分でシワが発生することを抑制することができる。
【0083】
本実施形態の光学積層体における第１位相差層１と第２位相差層２との組み合わせとしては、例えば、
ｉ）１／２波長層と、１／４波長層との組み合わせ、
ｉｉ）１／２波長層と、光学補償層との組み合わせ、
ｉｉｉ）１／４波長層と、光学補償層との組み合わせ、
等が挙げられる。
ｉ）１／２波長層と、１／４波長層との組み合わせ、
ｉｉ）１／２波長層と、光学補償層との組み合わせ、
ｉｉｉ）１／４波長層と、光学補償層との組み合わせ、
等が挙げられる。
【0084】
１／２波長層は、入射光の電界振動方向（偏光面）にπ（＝λ／２）の位相差を与えるものであり、直線偏光の向き（偏光方位）を変える機能を有している。また、円偏光の光を入射させると、円偏光の回転方向を反対回りにすることができる。
【0085】
１／２波長層は、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／２を満足する層である。可視光域の何れの波長においてＲｅ（λ）＝λ／２を達成されていればよいが、なかでも波長５５０ｎｍにおいて達成されることが好ましい。波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）は、２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍを満足することが好ましい。また、２２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２９０ｎｍを満足することがより好ましい。
【0086】
１／４波長層は、入射光の電界振動方向（偏光面）にπ／２（＝λ／４）の位相差を与えるものであり、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（又は円偏光を直線偏光に）変換する機能を有している。
【0087】
１／４波長層は、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満足する層であり、可視光域の何れかの波長において達成されていればよいが、なかでも波長５５０ｎｍで達成されることが好ましい。波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）が、１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍを満足することが好ましい。また、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満足することがより好ましい。
【0088】
光学補償層としては、例えば、ポジティブＡプレート、ポジティブＣプレート等が挙げられる。ポジティブＡプレートは、その面内における遅相軸方向の屈折率をＮｘ、その面内における進相軸方向の屈折率をＮｙ、その厚み方向における屈折率をＮｚとしたときに、Ｎｘ＞Ｎｙの関係を満足するものである。ポジティブＡプレートは、Ｎｘ＞Ｎｙ≧Ｎｚの関係を満足することが好ましい。また、ポジティブＡプレートは１／４波長層としても機能することができる。ポジティブＣプレートは、Ｎｚ＞Ｎｘ≧Ｎｙの関係を満足するものである。
【0089】
逆波長分散性とは、短波長での面内レタデーション値の方が長波長での面内レタデーション値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、下記式（ｂ）：
Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０） （ｂ）
を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内レタデーション値を表す。
Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０） （ｂ）
を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内レタデーション値を表す。
【0090】
位相差層の光学特性は、位相差発現層を構成する液晶化合物の配向状態、又は位相差発現層を構成する延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。位相差層の光学特性を適宜調節することにより、光学積層体５と直線偏光板とを積層して、反射防止性能を有する偏光板複合体を得ることができる。
【0091】
（２）液晶層から形成される位相差発現層
位相差発現層が液晶層である場合について説明する。図２は、液晶層である位相差発現層と他の層とを含む位相差層の一例を模式的に示す概略断面図である。図２に示すように、位相差層３０は、基材層３１、配向層３２、液晶層である位相差発現層３３がこの順に積層されてなる。位相差層は、液晶層の位相差発現層３３を含む構成であれば図２に示す位相差層３０に限定されることはなく、位相差層３０から基材層３１が剥離されて配向層３２と位相差発現層３３のみからなる構成であってもよく、位相差層３０から基材層３１と配向層３２が剥離されて液晶層の位相差発現層３３のみからなる構成であってもよい。薄膜化の観点から、位相差層は、基材層３１が剥離されている構成であることが好ましく、液晶層の位相差発現層３３のみからなる構成がさらに好ましい。基材層３１は、基材層３１上に形成される配向層３２、及び液晶層の位相差発現層３３を支持する支持層として機能を有する。基材層３１は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
位相差発現層が液晶層である場合について説明する。図２は、液晶層である位相差発現層と他の層とを含む位相差層の一例を模式的に示す概略断面図である。図２に示すように、位相差層３０は、基材層３１、配向層３２、液晶層である位相差発現層３３がこの順に積層されてなる。位相差層は、液晶層の位相差発現層３３を含む構成であれば図２に示す位相差層３０に限定されることはなく、位相差層３０から基材層３１が剥離されて配向層３２と位相差発現層３３のみからなる構成であってもよく、位相差層３０から基材層３１と配向層３２が剥離されて液晶層の位相差発現層３３のみからなる構成であってもよい。薄膜化の観点から、位相差層は、基材層３１が剥離されている構成であることが好ましく、液晶層の位相差発現層３３のみからなる構成がさらに好ましい。基材層３１は、基材層３１上に形成される配向層３２、及び液晶層の位相差発現層３３を支持する支持層として機能を有する。基材層３１は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
【0092】
樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。なお、上記「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。
【0093】
基材層３１は、上記の樹脂１種類又は２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層をなす樹脂は同じであってもよく異なっていてもよい。
【0094】
樹脂フィルムをなす樹脂材料には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
【0095】
基材層３１の厚さは、特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から５～２００μｍであることが好ましく、１０～２００μｍであることがより好ましく、１０～１５０μｍであることがさらに好ましい。
【0096】
基材層３１と配向層３２との密着性を向上させるために、少なくとも基材層３１の配向層３２が形成される側の表面にコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。なお、基材層３１、又は基材層３１及び配向層３２を剥離して位相差層とする場合には、剥離界面での密着力を調整することによって剥離を容易とすることができる。
【0097】
配向層３２は、これらの配向層３２上に形成される液晶層の位相差発現層３３に含まれる液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有する。配向層３２としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができる。配向層３２の厚みは、通常０．０１～１０μｍであり、０．０１～５μｍであることが好ましい。
【0098】
配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層３１に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。
【0099】
光配向ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材層３１に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向ポリマー層では、光配向ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。
【0100】
グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層３１に転写して硬化する方法、基材層３１に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。
【0101】
液晶層である位相差発現層３３は、光に所定の位相差を与えるものであれば特に限定されず、例えば、１／２波長層用の位相差発現層、１／４波長層用の位相差発現層、ポジティブＣプレートなどの光学補償層用の位相差発現層、逆波長分散性１／４波長層用の位相差発現層として機能するものを挙げることができる。
【0102】
液晶層である位相差発現層３３は、公知の液晶化合物を用いて形成することができる。液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報、特開２００５－２８９９８０号公報、特開２００７－１０８７３２号公報、特開２０１０－２４４０３８号公報、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報、特開２０１１－２０７７６５号公報、特開２０１６－８１０３５号公報、国際公開第２０１７／０４３４３８号及び特表２０１１－２０７７６５号公報に記載の液晶化合物が挙げられる。
【0103】
例えば、重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物を、配向層３２上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、位相差発現層３３を形成することができる。位相差発現層３３の厚みは、０．５μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがさらに好ましい。
重合性液晶化合物を含む組成物は、液晶化合物以外に、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、溶剤、密着改良剤、可塑剤、配向剤等が含まれていてもよい。重合性液晶化合物を含む組成物の塗布方法としては、ダイコーティング法等の公知の方法が挙げられる。重合性液晶化合物を含む組成物の硬化方法としては、活性エネルギー線（例えば紫外線）を照射する等の公知の方法が挙げられる。
重合性液晶化合物を含む組成物は、液晶化合物以外に、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、溶剤、密着改良剤、可塑剤、配向剤等が含まれていてもよい。重合性液晶化合物を含む組成物の塗布方法としては、ダイコーティング法等の公知の方法が挙げられる。重合性液晶化合物を含む組成物の硬化方法としては、活性エネルギー線（例えば紫外線）を照射する等の公知の方法が挙げられる。
【0104】
（３）延伸フィルムを位相差発現層として備える位相差層
位相差発現層が延伸フィルムである場合について説明する。延伸フィルムは通常、基材を延伸することで得られる。基材を延伸する方法としては、例えば、基材がロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度近傍（℃）～［ガラス転移温度＋１００］（℃）の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍（℃）～［ガラス転移温度＋５０］（℃）の範囲とする。当該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常１.１～６倍であり、好ましくは１.１～３.５倍である。
位相差発現層が延伸フィルムである場合について説明する。延伸フィルムは通常、基材を延伸することで得られる。基材を延伸する方法としては、例えば、基材がロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度近傍（℃）～［ガラス転移温度＋１００］（℃）の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍（℃）～［ガラス転移温度＋５０］（℃）の範囲とする。当該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常１.１～６倍であり、好ましくは１.１～３.５倍である。
【0105】
また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法は例えば、特開昭５０－８３４８２号公報や特開平２－１１３９２０号公報に記載された方法を挙げることができる。延伸することでフィルムに位相差性を付与する場合、延伸後の厚みは、延伸前の厚みや延伸倍率によって決定される。
【0106】
前記基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。
【0107】
セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部または全部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、“フジタック（登録商標）フィルム”（富士フイルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））などが挙げられる。
【0108】
ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステル（以下、ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステルをまとめて（メタ）アクリル系樹脂ということがある。）は、市場から容易に入手できる。
【0109】
（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの単独重合体や、メタクリル酸アルキルエステルとアクリル酸アルキルエステルとの共重合体などが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレートなどが、またアクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレートなどがそれぞれ挙げられる。かかる（メタ）アクリル系樹脂には、汎用の（メタ）アクリル系樹脂として市販されているものが使用できる。（メタ）アクリル系樹脂として、耐衝撃（メタ）アクリル樹脂と呼ばれるものを使用してもよい。
【0110】
さらなる機械的強度向上のために、（メタ）アクリル系樹脂にゴム粒子を含有させることも好ましい。ゴム粒子は、アクリル系のものが好ましい。ここで、アクリル系ゴム粒子とは、ブチルアクリレートや２－エチルヘキシルアクリレートのようなアクリル酸アルキルエステルを主成分とするアクリル系モノマーを、多官能モノマーの存在下に重合させて得られるゴム弾性を有する粒子である。アクリル系ゴム粒子は、このようなゴム弾性を有する粒子が単層で形成されたものであってもよいし、ゴム弾性層を少なくとも一層有する多層構造体であってもよい。多層構造のアクリル系ゴム粒子としては、上記のようなゴム弾性を有する粒子を核とし、その周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったもの、硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体を核とし、その周りを上記のようなゴム弾性を有するアクリル系重合体で覆ったもの、また硬質の核の周りをゴム弾性のアクリル系重合体で覆い、さらにその周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったものなどが挙げられる。弾性層で形成されるゴム粒子は、その平均直径が通常５０～４００ｎｍ程度の範囲にある。
【0111】
（メタ）アクリル系樹脂におけるゴム粒子の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部あたり、通常５～５０質量部程度である。（メタ）アクリル系樹脂及びアクリル系ゴム粒子は、それらを混合した状態で市販されているので、その市販品を用いることができる。アクリル系ゴム粒子が配合された（メタ）アクリル系樹脂の市販品の例として、住友化学（株）から販売されている“ＨＴ５５Ｘ”や“テクノロイ Ｓ００１”などが挙げ
られる。“テクノロイ Ｓ００１”は、フィルムの形で販売されている。
られる。“テクノロイ Ｓ００１”は、フィルムの形で販売されている。
【0112】
環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］および“アペル”（登録商標）［三井化学（株）］が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、例えば、溶剤キャスト法、溶融押出法などの公知の手段により製膜して、基材とすることができる。また、市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］および“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］が挙げられる。
【0113】
環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５～５０モル％の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレンおよびプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α－メチルスチレンおよびアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５～８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５～８０モル％である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。
【0114】
［光学積層体の製造方法］
第１実施形態の光学積層体は、図３（Ａ）に示すような第１位相差発現層１３、第１配向層１２及び第１基材層１１を含む第１位相差層１０と、図３（Ｂ）に示すような第２位相差発現層２３、第２配向層２２及び第１基材層２１を含む第２位相差層２０とを第１接着層４０を介して積層させることで製造できる。光学積層体は、例えば、図３（Ｃ）に示すように、第１基材層１１、第１配向層１２、第１位相差発現層１３、第１接着層４０、第２位相差発現層２３、第２配向層２２、第２基材層２１の順に積層された積層体である。また、光学積層体５０は、第１位相差発現層１３、第１配向層１２、第１基材層１１、第１接着層４０、第２基材層２１、第２配向層２２、第２位相差発現層２３の順に積層された積層体であってもよい。図３（Ａ）～（Ｃ）において、Ｗは光学積層体の幅方向を表す。
第１実施形態の光学積層体は、図３（Ａ）に示すような第１位相差発現層１３、第１配向層１２及び第１基材層１１を含む第１位相差層１０と、図３（Ｂ）に示すような第２位相差発現層２３、第２配向層２２及び第１基材層２１を含む第２位相差層２０とを第１接着層４０を介して積層させることで製造できる。光学積層体は、例えば、図３（Ｃ）に示すように、第１基材層１１、第１配向層１２、第１位相差発現層１３、第１接着層４０、第２位相差発現層２３、第２配向層２２、第２基材層２１の順に積層された積層体である。また、光学積層体５０は、第１位相差発現層１３、第１配向層１２、第１基材層１１、第１接着層４０、第２基材層２１、第２配向層２２、第２位相差発現層２３の順に積層された積層体であってもよい。図３（Ａ）～（Ｃ）において、Ｗは光学積層体の幅方向を表す。
【0115】
第１位相差層１０と第２位相差層２０とを接着させる方法としては、第１位相差層１０の貼合面又は第２位相差層２０の貼合面のいずれか又はその両方に活性エネルギー線硬化型接着剤を塗工し、これにもう一方の貼合面を積層し、第１接着層４０を構成する活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させる方法が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤の塗工には、例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーターなど、種々の塗工方式が利用できる。
【0116】
第１接着層４０を構成する活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化する方法としては、上述のように、活性エネルギー線で硬化する方法が好ましい。第１位相差層１０の貼合面又は第２位相差層２０の貼合面のいずれか又はその両方に、コロナ処理、プラズマ処理等を行ってもよいし、プライマー層を形成してもよい。
【0117】
本発明の光学積層体は、図３（Ｃ）に示すような積層体であってもよいし、第１基材層１１及び第２基材層２１の少なくとも一方の層を剥離した積層体であってもよい。また、図３（Ｃ）に示す積層体から第１基材層１１及び第１配向層１２が剥離された積層体であってもよいし、図３（Ｃ）に示す積層体から第２基材層２１及び第２配向層２２が剥離された積層体であってもよい。
【0118】
［偏光板複合体］
本発明の偏光板複合体は、直線偏光板と上記した光学積層体とが積層されてなるものである。光学積層体は、第１光学層側が直線偏光板側に配置されるものとする。偏光板複合体は、直線偏光板と光学積層体とを接着する第２接着層を含んでいてもよい。直線偏光板に積層する光学積層体の層構成を調整することにより、反射防止性能を有する光学積層体とすることができる。反射防止性能を有する光学積層体は、例えば円偏光板である。画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に反射防止性能を有する光学積層体を設けることにより、外来光の反射による視認性の低下を抑制することができる。
本発明の偏光板複合体は、直線偏光板と上記した光学積層体とが積層されてなるものである。光学積層体は、第１光学層側が直線偏光板側に配置されるものとする。偏光板複合体は、直線偏光板と光学積層体とを接着する第２接着層を含んでいてもよい。直線偏光板に積層する光学積層体の層構成を調整することにより、反射防止性能を有する光学積層体とすることができる。反射防止性能を有する光学積層体は、例えば円偏光板である。画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に反射防止性能を有する光学積層体を設けることにより、外来光の反射による視認性の低下を抑制することができる。
【0119】
外来光の反射による視認性の低下を抑制することができる、直線偏光板と、光学積層体とからなる偏光板複合体の層構成としては、
ｉｖ）視認側から直線偏光板、１／２波長層（第１光学層）、第１接着層、１／４波長層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
ｖ）視認側から直線偏光板、１／４波長層（第１光学層）、第１接着層、ポジティブＣプレート等の光学補償層層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
ｖｉ）視認側から直線偏光板、ポジティブＣプレート等の光学補償層（第１光学層）、第１接着層、１／４波長層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
が具体的に例示される。
ｉｖ）視認側から直線偏光板、１／２波長層（第１光学層）、第１接着層、１／４波長層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
ｖ）視認側から直線偏光板、１／４波長層（第１光学層）、第１接着層、ポジティブＣプレート等の光学補償層層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
ｖｉ）視認側から直線偏光板、ポジティブＣプレート等の光学補償層（第１光学層）、第１接着層、１／４波長層（第２光学層）がこの順で積層されてなる層構成の偏光板複合体、
が具体的に例示される。
【0120】
また、前記層構成のうち、前記（ｉｖ）の層構成を有する偏光板複合体は、直線偏光板に含まれる偏光子の透過軸と１／２波長層の遅相軸とがなす角度が１０～２０°であることが好ましく、偏光子の透過軸と１／２波長層の遅相軸とがなす角度が１５°であることがより好ましい。また、１／２波長層の遅相軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が５５～６５°であることが好ましく、１／２波長層の遅相軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が６０°であることがより好ましい。
上記（ｖ）及び（ｖｉ）の層構成を有する偏光板複合体は、直線偏光板に含まれる偏光子の透過軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が４０°～５０°であることが好ましく、偏光子の透過軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が４５°であることがより好ましい。
上記（ｖ）及び（ｖｉ）の層構成を有する偏光板複合体は、直線偏光板に含まれる偏光子の透過軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が４０°～５０°であることが好ましく、偏光子の透過軸と１／４波長層の遅相軸とがなす角度が４５°であることがより好ましい。
【0121】
偏光板複合体の厚みは、薄型化の観点から、通常３０～５００μｍであり、３０～２００μｍであることが好ましく、３０～１５０μｍであることがさらに好ましい。
【0122】
また、本発明における偏光板複合体は、偏光板の最表面から検査光を照射した際に生じる反射光の輝度に基づいて収得される最表面畝の第１直線に沿った輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比（最小輝度／最大輝度）が、７５％以上であることが好ましい。かかる比が７５％以上であることにより、干渉ムラを抑制することができる。輝度分布の収得方法は、後述の実施例の方法にしたがう。偏光板複合体において、例えば、第１接着剤層の組成、厚み等を調整することにより、最大輝度に対する最小輝度の比を調整することができる。
【0123】
＜直線偏光板＞
直線偏光板は、透過光より直線偏光を得る偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、あるいは、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られる液相層を有するフィルム等が挙げられる。
直線偏光板は、透過光より直線偏光を得る偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、あるいは、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られる液相層を有するフィルム等が挙げられる。
【0124】
（１）延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子である、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、及び二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程を有する、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。かかる偏光子をそのまま直線偏光板として用いてもよく、またはかかる偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを貼合したものを直線偏光板として用いてもよい。
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子である、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、及び二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程を有する、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。かかる偏光子をそのまま直線偏光板として用いてもよく、またはかかる偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを貼合したものを直線偏光板として用いてもよい。
【0125】
上記のようにしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚みは好ましくは５～４０μｍである。
【0126】
偏光子の片面又は両面に貼合される保護フィルムの材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのような樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、（メタ）アクリル系樹脂フィルム、ポリプロピレン系樹脂フィルムなど、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。保護フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常３００μｍ以下であり、２００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、また、通常５μｍ以上であり、２０μｍ以上であることが好ましい。また、視認側の保護フィルムは位相差を有していてもよいし、位相差を有していなくてもよい。一方、第１位相差層に積層される側の保護フィルムは、その位相差が１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0127】
（２）液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物、又は二色性色素と液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、単独で直線偏光板として用いてもよく、その片面又は両面に保護フィルムを有する構成で直線偏光板として用いてもよい。当該保護フィルムとしては、上記した延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板と同一のものが挙げられる。
【0128】
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。
【0129】
前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２－３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。
【0130】
前記吸収異方性を有する色素を、前記光学積層体の第１位相差層側に直接塗布することにより、光学積層体と直線偏光板とを積層してなる偏光板複合体を得てもよい。この場合、第２接着層を有することなく、光学積層体と直線偏光板とを積層することができる。
【0131】
（３）第２接着層
第２接着層は、例えば、粘着剤、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤及びこれらの組み合わせから構成することができる。この中でも、第２接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であることにより、本発明の光学積層体を含む偏光板複合体が折れ曲がった場合であっても、屈曲部におけるシワの発生をより抑制することができるので好ましい。本明細書において、「第２接着層」との用語は、接着剤から構成される接着層のみでなく、粘着剤から構成される粘着層をも含むものとする。
第２接着層は、例えば、粘着剤、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤及びこれらの組み合わせから構成することができる。この中でも、第２接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であることにより、本発明の光学積層体を含む偏光板複合体が折れ曲がった場合であっても、屈曲部におけるシワの発生をより抑制することができるので好ましい。本明細書において、「第２接着層」との用語は、接着剤から構成される接着層のみでなく、粘着剤から構成される粘着層をも含むものとする。
【0132】
第２接着層をなす活性エネルギー線硬化型接着剤については、上記第１接着層での説明が適用される。第１接着層及び第２接着層が活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される場合、第１接着層と第２接着層とは同じ活性エネルギー線硬化型接着剤から形成されてもよいし、異なる活性エネルギー線硬化型接着剤から形成されてもよい。
【0133】
［偏光板複合体の用途］
円偏光板である偏光板複合体は、画像表示パネルの視認側に配置されて反射防止性能を付与する偏光板複合体として、さまざまな画像表示装置に用いることができる。画像表示装置とは、画像表示パネルを有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの画像表示装置は、２次元画像を表示する画像表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体画像表示装置であってもよい。特に円偏光板である偏光板複合体は、屈曲部を有する画像表示パネルを備え得る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができる。
円偏光板である偏光板複合体は、画像表示パネルの視認側に配置されて反射防止性能を付与する偏光板複合体として、さまざまな画像表示装置に用いることができる。画像表示装置とは、画像表示パネルを有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの画像表示装置は、２次元画像を表示する画像表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体画像表示装置であってもよい。特に円偏光板である偏光板複合体は、屈曲部を有する画像表示パネルを備え得る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができる。
【0134】
本発明によると、第１接着層の屈折率が１．５３以上であることにより、第１光学層と第２光学層との接着性に優れ、屈曲部を有する画像表示パネルの表面にこれに沿わせるように偏光板複合体を屈曲させて配置しても、シワの発生が抑制された偏光板複合体を得ることができる。
【0135】
また、本発明によると、第１直線に沿った輝度分布における最大輝度に対する最小輝度の比が４０％以上であることにより、干渉ムラが抑制された偏光板複合体を得ることができる。
【実施例】
【0136】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。以下、使用量、含有量を表す部及び％は、特に断りのない限り質量基準であり、また固形分基準である。
【0137】
［実施例１～１６、比較例１～７］
＜活性エネルギー線硬化型接着剤の調製＞
以下に示すカチオン各成分を準備した。
（多官能芳香族エポキシ樹脂（Ａ））
Ａ－１：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名：ｊＥＲ８２８、三菱ケミカル（株）製、粘度１３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５７（波長５８９ｎｍ））
Ａ－２：ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（商品名：ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ、ＤＩＣ（株）製、粘度１．３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５７（波長５８９ｎｍ））
Ａ－３：ナフタレン型エポキシ樹脂（商品名：ＨＰ－４０３２Ｄ、ＤＩＣ株式会社製、粘度２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．６０（波長５８９ｎｍ））
Ａ－４：フルオレン型エポキシ樹脂（商品名：ＯＧＳＯＬ ＥＧ－２００、大阪ガスケミカル（株）製、粘度３０Ｐａ・ｓ（温度２５℃）を超える、屈折率１．６２（波長５８９ｎｍ））
＜活性エネルギー線硬化型接着剤の調製＞
以下に示すカチオン各成分を準備した。
（多官能芳香族エポキシ樹脂（Ａ））
Ａ－１：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名：ｊＥＲ８２８、三菱ケミカル（株）製、粘度１３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５７（波長５８９ｎｍ））
Ａ－２：ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（商品名：ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ、ＤＩＣ（株）製、粘度１．３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５７（波長５８９ｎｍ））
Ａ－３：ナフタレン型エポキシ樹脂（商品名：ＨＰ－４０３２Ｄ、ＤＩＣ株式会社製、粘度２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．６０（波長５８９ｎｍ））
Ａ－４：フルオレン型エポキシ樹脂（商品名：ＯＧＳＯＬ ＥＧ－２００、大阪ガスケミカル（株）製、粘度３０Ｐａ・ｓ（温度２５℃）を超える、屈折率１．６２（波長５８９ｎｍ））
【0138】
（脂環式エポキシ樹脂（Ｂ））
Ｂ－１：３',４'－エポキシシクロヘキシルメチル ３,４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、（株）ダイセル製、粘度０．２５Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５０（波長５８９ｎｍ））
Ｂ－１：３',４'－エポキシシクロヘキシルメチル ３,４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、（株）ダイセル製、粘度０．２５Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５０（波長５８９ｎｍ））
【0139】
（単官能エポキシ樹脂（Ｃ））
Ｃ－１：ビフェニル型エポキシ樹脂（商品名：ＥＸ－１４２、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．６０（波長５８９ｎｍ））
Ｃ－２：ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１４６、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
Ｃ－３：２－エチルヘキシルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１２１、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．００４Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４３（波長５８９ｎｍ））
Ｃ－１：ビフェニル型エポキシ樹脂（商品名：ＥＸ－１４２、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．６０（波長５８９ｎｍ））
Ｃ－２：ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１４６、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
Ｃ－３：２－エチルヘキシルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１２１、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．００４Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４３（波長５８９ｎｍ））
【0140】
（多官能脂肪族エポキシ樹脂（Ｅ））
Ｅ－１：ＤＣＰＤＭ型エポキシ樹脂（商品名：ＥＰ－４０８８Ｓ、（株）ＡＤＥＫＡ製、粘度０．２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５０（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－２：２,２－ビス(ヒドロキシメチル)－１－ブタノールの１,２－エポキシ－４－(２－オキシラニル)シクロヘキサン付加物（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、（株）ダイセル製、粘度３０Ｐａ・ｓ（温度２５℃）を超える、屈折率１．５４（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－３：ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１１Ｌ、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４５（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－４：１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１２Ｌ、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０１５Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４６（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－１：ＤＣＰＤＭ型エポキシ樹脂（商品名：ＥＰ－４０８８Ｓ、（株）ＡＤＥＫＡ製、粘度０．２３Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５０（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－２：２,２－ビス(ヒドロキシメチル)－１－ブタノールの１,２－エポキシ－４－(２－オキシラニル)シクロヘキサン付加物（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、（株）ダイセル製、粘度３０Ｐａ・ｓ（温度２５℃）を超える、屈折率１．５４（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－３：ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１１Ｌ、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４５（波長５８９ｎｍ））
Ｅ－４：１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１２Ｌ、ナガセケムテックス（株）製、粘度０．０１５Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４６（波長５８９ｎｍ））
【0141】
（オキセタン樹脂（Ｆ））
Ｆ－１：３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２２１、東亞合成（株）製、粘度０．０１２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４５（波長５８９ｎｍ））
Ｆ－２：キシリレンビスオキセタン（商品名：ＯＸＴ－１２１、東亞合成（株）製、粘度０．１７Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
Ｆ－３：３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２１１、東亞合成（株）製、粘度０．０１４Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
Ｆ－１：３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２２１、東亞合成（株）製、粘度０．０１２Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．４５（波長５８９ｎｍ））
Ｆ－２：キシリレンビスオキセタン（商品名：ＯＸＴ－１２１、東亞合成（株）製、粘度０．１７Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
Ｆ－３：３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２１１、東亞合成（株）製、粘度０．０１４Ｐａ・ｓ（温度２５℃）、屈折率１．５１（波長５８９ｎｍ））
【0142】
（カチオン重合開始剤（Ｄ））
Ｄ－１：カチオン重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００Ｐ、サンアプロ（株）製、５０質量％溶液）
Ｄ－１：カチオン重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００Ｐ、サンアプロ（株）製、５０質量％溶液）
【0143】
（光増感助剤）
Ｇ－１：１，４－ジエトキシナフタレン
Ｇ－１：１，４－ジエトキシナフタレン
【0144】
上記の各成分を、表１に示す配合割合（単位は質量部）で混合した後、脱泡して、実施例１～１６、比較例１～７の活性エネルギー線硬化型接着剤を調製した。なお、カチオン重合開始剤（Ｄ－１）は、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、表１はその固形分量で示した。
【0145】
＜光学積層体及び複合偏光板の製造＞
（直線偏光板の製造）
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。
（直線偏光板の製造）
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。
【0146】
ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５．３倍で、得られた偏光子の厚みは２７μｍであった。
【0147】
得られた偏光子に両面に、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（商品名：ＫＣ４ＵＹＴＡＣ、コニカミノルタ製、厚さ４０μｍ）を水系接着剤を介してニップロールで貼り合せた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、両面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する直線偏光板を得た。なお、上述の水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレポバールＫＬ３１８、クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（スミレーズレジン６５０、住化ケムテックス製、固形分濃度３０％の水溶液）１．５部を添加して調製した。
【0148】
（λ／２位相差層の製造）
透明樹脂基材に配向膜塗布液を塗布し乾燥することにより、λ／２配向処理をした。次いで、配向面に、ディスコチック液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、加熱およびＵＶ照射をして液晶化合物の配向を固定化することにより、透明樹脂基材上に厚み２μｍの位相差発現層を作製した。
透明樹脂基材に配向膜塗布液を塗布し乾燥することにより、λ／２配向処理をした。次いで、配向面に、ディスコチック液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、加熱およびＵＶ照射をして液晶化合物の配向を固定化することにより、透明樹脂基材上に厚み２μｍの位相差発現層を作製した。
【0149】
（λ／４位相差層の製造）
配向膜をラビング処理したλ／４配向用透明樹脂基材に、棒状で重合性のネマチック液晶モノマーを含む塗布液を塗布し、屈折率異方性を保持した状態で固化することにより、透明樹脂基材上に厚み１μｍの位相差発現層を得た。
配向膜をラビング処理したλ／４配向用透明樹脂基材に、棒状で重合性のネマチック液晶モノマーを含む塗布液を塗布し、屈折率異方性を保持した状態で固化することにより、透明樹脂基材上に厚み１μｍの位相差発現層を得た。
【0150】
（光学積層体の製造）
上記λ／２位相差層及びλ／４位相差層の液晶層側にコロナ処理を施した。λ／２位相差層の遅相軸と、λ／４位相差層の遅相軸とがなす角度が６０°となるよう配置し、表１に示す組成の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、接着剤厚みが３μｍとなるよう液晶層同士をラミネーターで貼合し、積層体を得た。
得られた積層体のλ／４位相差層側から、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕を用い、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 （ＵＶ－Ｂ）で紫外線照射を行い、接着剤を硬化させて第１接着層とし、「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する光学積層体を得た。
上記λ／２位相差層及びλ／４位相差層の液晶層側にコロナ処理を施した。λ／２位相差層の遅相軸と、λ／４位相差層の遅相軸とがなす角度が６０°となるよう配置し、表１に示す組成の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、接着剤厚みが３μｍとなるよう液晶層同士をラミネーターで貼合し、積層体を得た。
得られた積層体のλ／４位相差層側から、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕を用い、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2 （ＵＶ－Ｂ）で紫外線照射を行い、接着剤を硬化させて第１接着層とし、「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する光学積層体を得た。
【0151】
（偏光板複合体の製造）
得られた複合位相差板のλ／２位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、上記直線偏光板とλ／２位相差層の液晶層とをアクリル系粘着剤を用いて貼合した。なお、アクリル系粘着剤からなる接着層（第２接着層）の膜厚は５μｍであり、偏光子の透過軸とλ／２位相差層の遅相軸とがなす角度が１５°であった。
次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
得られた複合位相差板のλ／２位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、上記直線偏光板とλ／２位相差層の液晶層とをアクリル系粘着剤を用いて貼合した。なお、アクリル系粘着剤からなる接着層（第２接着層）の膜厚は５μｍであり、偏光子の透過軸とλ／２位相差層の遅相軸とがなす角度が１５°であった。
次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
【0152】
［評価方法］
＜粘度測定方法＞
上記で調製した各活性エネルギー線硬化型接着剤を、Ｅ型粘度計〔東機産業（株）製“ＴＶＥ－２５”〕を用いて、温度２５℃及び１０ｒｐｍにおける粘度を測定した。結果を表１に示す。
＜粘度測定方法＞
上記で調製した各活性エネルギー線硬化型接着剤を、Ｅ型粘度計〔東機産業（株）製“ＴＶＥ－２５”〕を用いて、温度２５℃及び１０ｒｐｍにおける粘度を測定した。結果を表１に示す。
【0153】
＜屈折率測定方法＞
上記で調製した各活性エネルギー線硬化型接着剤を、延伸ノルボルネン系樹脂フィルム〔日本ゼオン（株）製 “ゼオノアフィルム”〕の片面に、バーコーター〔第一理化（株
）製〕を用いて塗工し、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕で積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2 （ＵＶ－Ｂ）で紫外線を照射し硬化物を得た。得られた硬化物の膜厚は約３０μｍであった。
得られた硬化物からノルボルネン系樹脂フィルムを剥離し、硬化物層の屈折率（波長５８９ｎｍ）を２５℃環境下で多波長アッベ屈折計〔（株）アタゴ製“ＤＲ－Ｍ２”〕を用いて測定した。結果を表１に示す。
上記で調製した各活性エネルギー線硬化型接着剤を、延伸ノルボルネン系樹脂フィルム〔日本ゼオン（株）製 “ゼオノアフィルム”〕の片面に、バーコーター〔第一理化（株
）製〕を用いて塗工し、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕で積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2 （ＵＶ－Ｂ）で紫外線を照射し硬化物を得た。得られた硬化物の膜厚は約３０μｍであった。
得られた硬化物からノルボルネン系樹脂フィルムを剥離し、硬化物層の屈折率（波長５８９ｎｍ）を２５℃環境下で多波長アッベ屈折計〔（株）アタゴ製“ＤＲ－Ｍ２”〕を用いて測定した。結果を表１に示す。
【0154】
＜屈曲部のシワ評価方法＞
上記で作製した偏光板複合体のλ／４位相差層側にアクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を用いて屈曲部（２Ｒ）を有するアルミ板に貼合し、屈曲部でのシワ発生有無を目視で観察し、以下の基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
Ａ：シワ発生なし
Ｃ：シワ発生あり
上記で作製した偏光板複合体のλ／４位相差層側にアクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を用いて屈曲部（２Ｒ）を有するアルミ板に貼合し、屈曲部でのシワ発生有無を目視で観察し、以下の基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
Ａ：シワ発生なし
Ｃ：シワ発生あり
【0155】
＜１８０°剥離力測定方法＞
上記で作製した偏光板複合体のλ／４位相差層側にアクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を貼合し、長さ２００ｍｍ×幅２５ｍｍの大きさに裁断後、その粘着剤層面をソーダガラス基板に貼合した。
次いで、λ／２位相差層とλ／４位相差層の間にカッターの刃を入れ、長さ方向に端から３０ｍｍ剥離し、その剥離部分を万能引張試験機〔（株）島津製作所製“ＡＧ－１”〕のつかみ部でつかんだ。この状態の試験片を、温度２３℃相対湿度５５％の雰囲気中にて、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－２：１９９９「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第２部：１８０度はく離」に準じて、つかみ移動速度３００ｍｍ／分で１８０度はく離試験を行い、つかみ部の３０ｍｍを除く１７０ｍｍの長さにわたる平均剥離力を求め、以下の基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
Ａ：カッター刃がλ／２位相差層とλ／４位相差層の間に入らない
Ｂ：１８０°剥離力が０．５Ｎ以上
Ｃ：１８０°剥離力が０．５Ｎ未満
上記で作製した偏光板複合体のλ／４位相差層側にアクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を貼合し、長さ２００ｍｍ×幅２５ｍｍの大きさに裁断後、その粘着剤層面をソーダガラス基板に貼合した。
次いで、λ／２位相差層とλ／４位相差層の間にカッターの刃を入れ、長さ方向に端から３０ｍｍ剥離し、その剥離部分を万能引張試験機〔（株）島津製作所製“ＡＧ－１”〕のつかみ部でつかんだ。この状態の試験片を、温度２３℃相対湿度５５％の雰囲気中にて、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－２：１９９９「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第２部：１８０度はく離」に準じて、つかみ移動速度３００ｍｍ／分で１８０度はく離試験を行い、つかみ部の３０ｍｍを除く１７０ｍｍの長さにわたる平均剥離力を求め、以下の基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
Ａ：カッター刃がλ／２位相差層とλ／４位相差層の間に入らない
Ｂ：１８０°剥離力が０．５Ｎ以上
Ｃ：１８０°剥離力が０．５Ｎ未満
【0156】
【表1】
【0157】
［実施例１７～１９、比較例８］
＜活性エネルギー線硬化型接着剤Ａ，Ｂの調製＞
表１に示す各成分の内、表２に示す成分を準備した。準備した各成分を、表２に示す配合割合（単位は質量部）で混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤Ａ，Ｂを調製した。なお、カチオン重合開始剤（Ｄ－１）は、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、表２はその固形分量で示した。
＜活性エネルギー線硬化型接着剤Ａ，Ｂの調製＞
表１に示す各成分の内、表２に示す成分を準備した。準備した各成分を、表２に示す配合割合（単位は質量部）で混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤Ａ，Ｂを調製した。なお、カチオン重合開始剤（Ｄ－１）は、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、表２はその固形分量で示した。
【0158】
【表2】
【0159】
＜光学積層体の製造＞
（λ／２位相差層の製造）
透明樹脂基材（トリアセチルセルロース）に配向膜塗布液を塗布し乾燥することにより、λ／２配向処理をした。次いで、配向面に、ディスコチック液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、加熱およびＵＶ照射をして液晶化合物の配向を固定化することにより、透明樹脂基材上に厚み２μｍの位相差発現層を作製した。
（λ／２位相差層の製造）
透明樹脂基材（トリアセチルセルロース）に配向膜塗布液を塗布し乾燥することにより、λ／２配向処理をした。次いで、配向面に、ディスコチック液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、加熱およびＵＶ照射をして液晶化合物の配向を固定化することにより、透明樹脂基材上に厚み２μｍの位相差発現層を作製した。
【0160】
（λ／４位相差層の製造）
配向膜をラビング処理したλ／４配向用透明樹脂基材（トリアセチルセルロース）に、棒状で重合性のネマチック液晶モノマーを含む塗布液を塗布し、屈折率異方性を保持した状態で固化することにより、透明樹脂基材上に厚み１μｍの位相差発現層を得た。
配向膜をラビング処理したλ／４配向用透明樹脂基材（トリアセチルセルロース）に、棒状で重合性のネマチック液晶モノマーを含む塗布液を塗布し、屈折率異方性を保持した状態で固化することにより、透明樹脂基材上に厚み１μｍの位相差発現層を得た。
【0161】
（光学積層体の製造）
上記λ／２位相差層及びλ／４位相差層の液晶層側にコロナ処理を施した。λ／２位相差層の遅相軸と、λ／４位相差層の遅相軸とがなす角度が６０°となるよう配置し、表３に示す活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、第１接着層の厚みが表３に示すものとなるように液晶層同士をラミネーターで貼合し、積層体を得た。
得られた積層体のλ／４位相差層側から、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕を用い、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶ－Ｂ）で紫外線照射を行い、接着剤を硬化させて第１接着層とし、「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する、実施例１７～１９，比較例８の光学積層体を得た。
上記λ／２位相差層及びλ／４位相差層の液晶層側にコロナ処理を施した。λ／２位相差層の遅相軸と、λ／４位相差層の遅相軸とがなす角度が６０°となるよう配置し、表３に示す活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、第１接着層の厚みが表３に示すものとなるように液晶層同士をラミネーターで貼合し、積層体を得た。
得られた積層体のλ／４位相差層側から、紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムズ（株）製〕を用い、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶ－Ｂ）で紫外線照射を行い、接着剤を硬化させて第１接着層とし、「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する、実施例１７～１９，比較例８の光学積層体を得た。
【0162】
＜光学積層体の輝度分布の測定方法＞
図４は、本明細書で採用する、光学積層体１００の輝度分布の測定方法（検査工程）を説明するための図面である。ここで用いられる検査工程では、「λ／２位相差層」側の面を検査面１００ａとし、光源部１２１及び検出部１２２を有する検査光学系１２０を利用して光学積層体１００を検査する。検査光学系１２０は、光源部１２１及び検出部１２２が、光学積層体１００に対して同じ側に位置する反射光学系である。
図４は、本明細書で採用する、光学積層体１００の輝度分布の測定方法（検査工程）を説明するための図面である。ここで用いられる検査工程では、「λ／２位相差層」側の面を検査面１００ａとし、光源部１２１及び検出部１２２を有する検査光学系１２０を利用して光学積層体１００を検査する。検査光学系１２０は、光源部１２１及び検出部１２２が、光学積層体１００に対して同じ側に位置する反射光学系である。
【0163】
検査工程は、光学積層体１００を図４の白抜き矢印方向に搬送しながら、検査面１００ａに、光源部１２１から検査光Ｌ１を照射するとともに、光源部１２１から照射され光学積層体１００で反射した光（以下、「反射光Ｌ２」と称す）を、検出部１２２によって検出する。光学積層体１００は、光学積層体１００が枚葉状である場合、光学積層体１００は、例えばベルトコンベアで搬送され得る。光学積層体１００が長尺である場合、光学積層体１００は、例えば搬送ロールなどで搬送され得る。以下、光学積層体１００の搬送方向をＭＤ方向と称す。搬送速度の例は、１ｍ／ｍｉｎ～１００ｍ／ｍｉｎである。
【0164】
検査光学系１２０が有する光源部１２１及び検出部１２２を説明する。
【0165】
光源部１２１は、検査光Ｌ１を出力する。検査光Ｌ１のピーク波長は、例えば５００ｎｍ～７００ｎｍであり、好ましくは５５０ｎｍ～６８０ｎｍであり、更に好ましくは６００ｎｍ～６５０ｎｍである。光源部１２１は、例えば、複数のＬＥＤがライン状に配置されたラインＬＥＤ光源である。この場合、光源部１２１の延在方向は、光学積層体１００の法線ｎ及びＭＤ方向に直交する方向である。
【0166】
光源部１２１は、検査面１００ａ側に配置されている。光源部１２１と検査面１００ａとの間の距離ｄ１は、通常、１００ｍｍ～２０００ｍｍである。距離ｄ１は、例えば光源部１２１の光出射面と検査面１００ａとの間の距離である。光源部１２１の光軸と、検査面１００ａの法線ｎ（光学積層体１００の厚さ方向）との角度α１［°］は、通常、１°～６０°であり、好ましくは５°～５０°であり、更に好ましくは１０°～４５°である。
【0167】
検出部１２２は、検査面１００ａからの反射光Ｌ２を受光する。検出部１２２は２次元輝度計である。検出部１２２の例は、エリアセンサカメラ（２次元センサカメラ）であり、エリアセンサカメラの例は、ＣＣＤカメラである。検出部１２２は、ライン状の輝度計（例えば、ラインセンサカメラ）でもよい。
【0168】
検出部１２２は、検査面１００ａ側において、光学積層体１００によって検査光Ｌ１が反射した反射光Ｌ２を受光可能に配置されている。検出部１２２の光軸と検査面１００ａの法線ｎとのなす角度α２の大きさは、角度α１の大きさと実質的に同じである。検出部１２２と検査面１００ａとの間の距離ｄ２の例は、１００ｍｍ～２０００ｍｍである。検出部１２２と検査面１００ａとの間の距離ｄ２は、検出部１２２の受光面と検査面１００ａとの距離であり得る。
【0169】
検出工程では、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４を使用する。第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４は検査光学系１２０の一部でもよい。
【0170】
第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４は、直線偏光特性を有するフィルターである。第１偏光フィルター１２３は、光源部１２１と光学積層体１００の間に配置されている。第２偏光フィルター１２４は、光学フィルム１００と検出部１２２との間に配置されている。したがって、光源部１２１から出力された検査光Ｌ１は、第１偏光フィルター１２３を通過して直線偏光光として光学積層体１００に照射される。光学積層体１００で反射された検査光Ｌ１である反射光Ｌ２は、第２偏光フィルター１２４を介して検出部１２２に入射する。第１偏光フィルター１２３は検査光Ｌ１の光路上に配置されており、第２偏光フィルター１２４は反射光Ｌ２の光路上に配置されていれば、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置位置は限定されない。ただし、第１偏光フィルター１２３は、光源部１２１から発せられる熱の影響を加味し、光源部１２１から距離を置いた方がより好ましい。光源部１２１から第１偏光フィルター１２３までの距離は、５０ｍｍ以上が好ましい。
【0171】
図５及び図６を利用して、検査工程での光学積層体１００、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を説明する。配置関係の説明において、「λ／２位相差層」の面内位相差は、２３６ｎｍ±４ｎｍ又は２３４ｎｍ±５ｎｍであり、「λ／４位相差層」の面内位相差は、１１６ｎｍ±４ｎｍである。或いは、「λ／２位相差層」の面内位相差が２４０ｎｍ±５ｎｍであり、「λ／４位相差層」の面内位相差は１２０ｎｍ±４ｎｍである。
【0172】
図５は、光学積層体１００が有するλ／２位相差層及びλ／４位相差層の配置関係を説明する図面である。図５では、λ／２位相差層が有する第１遅相軸１１２ａと、λ／４位相差層が有する第２遅相軸１１３ａとの関係で、λ／２位相差層とλ／４位相差層の配置関係を示している。
【0173】
図５中のｘ軸及びｙ軸は、検査面１００ａに設定した仮想的な軸である。ｘ軸及びｙ軸は互いに直交していれば任意に設定され得る。一例として、ｘ軸方向はＭＤ方向である。以下の説明では、ＭＤ方向がｘ軸の方向である。第１遅相軸１１２ａ及び第２遅相軸１１３ａの角度を規定するために、ｙ軸を基準軸ＲＡとする。基準軸ＲＡに対する角度を規定する場合、光学積層体１００を検査面１００ａ側からみた場合に基準軸ＲＡに対して反時計回り（左回り）を正の角度方向とし、時計回り（右回り）を負の角度方向とする。
【0174】
図５に示したように、第１遅相軸１１２ａと基準軸ＲＡとの間の角度をθ１とし、第２遅相軸１１３ａと基準軸ＲＡとの間の角度をθ２とし、第１遅相軸１１２ａと第２遅相軸１１３ａとの間の角度をθ３としたとき、λ／２位相差層及びλ／４位相差層は、角度θ１、角度θ２及び角度θ３が下記の条件（１）～条件（３）を満たすように、配置されている。
（１）－４０°＜θ１＜―１０°
（２）＋１５°＜θ２＜＋５０°
（３）＋５５°＜θ３＜＋６５°
図５では、θ１及びθ２の許容範囲をハッチングで示している。条件（３）を満たすことで、光学積層体１０が円偏光板として機能する。
（１）－４０°＜θ１＜―１０°
（２）＋１５°＜θ２＜＋５０°
（３）＋５５°＜θ３＜＋６５°
図５では、θ１及びθ２の許容範囲をハッチングで示している。条件（３）を満たすことで、光学積層体１０が円偏光板として機能する。
【0175】
図６は、光学積層体１００に対する第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を説明する図面である。図６では、第１偏光フィルター１２３が有する第１吸収軸１２３ａと、第２偏光フィルター１２４が有する第２吸収軸１２４ａとの関係で、第１偏光フィルター１２３と第２偏光フィルター１２４の配置関係を示している。図６中のｘ軸及びｙ軸は、図５中のｘ軸及びｙ軸と同じである。換言すれば、図６中の第１吸収軸１２３ａは、図４において、第１偏光フィルター１２３を、法線ｎと直交する位置まで移動（角度α１が０°になるように回転）させた状態で、第１偏光フィルター１２３の第１吸収軸１２３ａを検査面１００ａに投影した軸に相当する。図６中の第２吸収軸１２４ａについても同様である。
【0176】
図６に示したように、第１吸収軸１２３ａと基準軸ＲＡとの間の角度をθ４とし、第２吸収軸１２４ａと基準軸ＲＡとの間の角度をθ５とし、第１吸収軸１２３ａと第２吸収軸１２４ａとの間の角度をθ６としたとき、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４は、角度θ４、角度θ５及び角度θ６が下記の条件（４）～条件（６）を満たすように、配置されている。
（４）－２０°＜θ４＜＋２０°
（５）＋７０°＜θ５＜＋１１０°
（６）＋７０°＜θ６＜＋１１０°
図６では、θ４及びθ５の許容範囲をハッチングで示している。条件（６）は、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４がクロスニコル状態にある点を、第１吸収軸１２３ａ及び第２吸収軸１２４ａが理想的に直交している状態に対して一定の許容範囲を考慮して表した式である。以下、説明の便宜のため、条件（６）を満たす第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を、クロスニコル状態と称す。
（４）－２０°＜θ４＜＋２０°
（５）＋７０°＜θ５＜＋１１０°
（６）＋７０°＜θ６＜＋１１０°
図６では、θ４及びθ５の許容範囲をハッチングで示している。条件（６）は、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４がクロスニコル状態にある点を、第１吸収軸１２３ａ及び第２吸収軸１２４ａが理想的に直交している状態に対して一定の許容範囲を考慮して表した式である。以下、説明の便宜のため、条件（６）を満たす第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を、クロスニコル状態と称す。
【0177】
条件（１）～条件（６）の角度θ１～角度θ６は、共通の基準軸ＲＡに対して規定されているため、条件（１）～条件（６）は、検出工程におけるλ／２位相差層１１２、λ／４位相差層１１３、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を規定している。図５及び図６を利用した条件（１）～条件（６）の関係の説明では、ｙ軸を基準軸ＲＡとした。しかしながら、基準軸ＲＡはｘ軸でもよい。換言すれば、光学フィルム１０を±９０°又は１８０°回転させてもよいし、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を反転させてもよい。
【0178】
図７に示したように、光学積層体１００の平面視形状（厚さ方向からみた形状）が矩形である場合、例えば、ＭＤ方向（図７の白抜き矢印方向）に対する光学フィルム１００の角度β、角度θ４、角度θ５のうち少なくとも一つを調整することによって、条件（１）～条件（６）を満たすように、光学積層体１００、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係を調整すればよい。光学積層体１００の平面視形状が矩形以外の四角形（例えば正方形）の場合も同様である。図７では、前述したｘ軸とＭＤ方向との関係を示すために、ｘ軸及びｙ軸を破線で示している。図７では、ｘ軸を示す破線に沿って光学積層体１００を横断する直線が第１直線であり、第１直線に沿った輝度分布が取得される。角度βは、光学積層体１００のＭＤ方向に対する向きを規定する。よって、図７では、角度βは、光学積層体１００の長辺とＭＤ方向との為す角度であるが、角度βは、光学積層体１００の短辺とＭＤ方向とのなす角度であってもよい。よって、光学積層体１００が長尺である場合、条件（１）～条件（６）を満たすように、角度θ４及び角度θ５のうち少なくとも一方を調整すればよい。
【0179】
図４に示したように、光学積層体１００は、背面板（支持板）１２５上に配置されていてもよい。背面板１２５の主面１２５ａ（光学積層体１００側の面）の正反射率は、例えば４５％以下である。背面板１２５は、上記例示した範囲の正反射率を有する材料で形成された板を使用してもよいし、板部材の表面に上記例示した範囲の正反射率を有する材料の例えばシートを貼合した構成を有してもよい。
【0180】
＜実施例１７～１９，比較例８の光学積層体の輝度分布の測定＞
実施例１７～１９，比較例８の光学積層体において、λ／２位相差層の面内位相差は２３６ｎｍ、λ／４位相差層の面内位相差は１１６ｎｍ、図５に示す角度θ３は６０°であった。
実施例１７～１９，比較例８の光学積層体において、λ／２位相差層の面内位相差は２３６ｎｍ、λ／４位相差層の面内位相差は１１６ｎｍ、図５に示す角度θ３は６０°であった。
【0181】
実施例１７～１９、比較例８の各光学積層体について、ＴＤの方向が長手方向となるようにして、長手方向２００ｍｍ、幅方向１５０ｍｍの矩形のサンプルを切り出して、図４を用いて説明した検出工程を実施した。
【0182】
光源部１２１として、複数の赤色ＬＥＤが配置されたライン光源を用いた。検査光Ｌ１のピーク波長は、６００ｎｍ～６５０ｎｍであった。光源部１２１の光軸と検査面１００ａとの法線ｎとの間の角度α１は２０°であった。同様に、検査面１００ａとの法線ｎと検出部１２２の法線ｎとの間の角度α２は、２０°であった。光源部１２１と検査面１００ａとの間の距離は１３５ｍｍであった。検査面１００ａと検出部１２２との間の距離ｄ２は７６０ｍｍであった。
【0183】
検出工程では、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４を使用した。光学積層体１００のサンプル、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４の配置関係が、条件（１）～条件（６）を満たすように、サンプル、第１偏光フィルター１２３及び第２偏光フィルター１２４を配置した。図７に示した角度βは４４°であった。サンプルを搬送速度５００ｍｍ／ｓで搬送しながら、検出工程を実施した。
【0184】
上記のように配置したサンプルについて、第１直線に沿って反射光Ｌ２の強度を検出して輝度分布を取得した。図８は、実施例１９の光学積層体について得られた第１直線に沿った輝度分布を示す。図中の輝度分布は、横軸が第１直線の位置（単位：ｍｍ）を示し、縦軸は輝度を示している。各サンプルの輝度分布に基づいて、最大輝度に対する最小輝度の比（［最小輝度Ｉｍｉｎ／最大輝度Ｉｍａｘ］×１００（％））を算出した。表３に算出結果を示す。
【0185】
＜偏光板複合体の製造＞
（直線偏光板の製造）
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。
得られた偏光子に両面に、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（商品名：ＫＣ４ＵＹＴＡＣ、コニカミノルタ製、厚さ４０μｍ）を水系接着剤を介してニップロールで貼り合せた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、両面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する直線偏光板を得た。なお、上述の水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレポバールＫＬ３１８、クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（スミレーズレジン６５０、住化ケムテックス製、固形分濃度３０％の水溶液）１．５部を添加して調製した。
（直線偏光板の製造）
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。
得られた偏光子に両面に、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（商品名：ＫＣ４ＵＹＴＡＣ、コニカミノルタ製、厚さ４０μｍ）を水系接着剤を介してニップロールで貼り合せた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、両面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する直線偏光板を得た。なお、上述の水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレポバールＫＬ３１８、クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（スミレーズレジン６５０、住化ケムテックス製、固形分濃度３０％の水溶液）１．５部を添加して調製した。
【0186】
得られた複合位相差板のλ／２位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、上記直線偏光板とλ／２位相差層の液晶層とをアクリル系粘着剤を用いて貼合した。なお、アクリル系粘着剤からなる接着層（第２接着層）の膜厚は５μｍであり、偏光子の透過軸とλ／２位相差層の遅相軸とがなす角度が１５°であった。
次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
【0187】
（干渉ムラ評価方法）
実施例および比較例の偏光板複合体を、アクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を介してアルミ反射板に貼りつけ、３波長形蛍光灯下で目視観察し、以下の基準に基づいて評価した。評価結果を表３に示す。
Ａ：干渉ムラが視認されない
Ｂ：干渉ムラが視認される
実施例および比較例の偏光板複合体を、アクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を介してアルミ反射板に貼りつけ、３波長形蛍光灯下で目視観察し、以下の基準に基づいて評価した。評価結果を表３に示す。
Ａ：干渉ムラが視認されない
Ｂ：干渉ムラが視認される
【0188】
【表3】
【0189】
＜実施例２０～２２＞
実施例１７～１９で得られた光学積層体において、「λ／２位相差層」から透明樹脂基材及びλ／２位相差層側の配向膜を剥離し、光学積層体（１）を得た。
得られた光学積層体（１）を実施例１７～１９と同様にして、輝度を求めた。結果を表４に示す。
得られた光学積層体（１）のλ／２位相差層の液晶層と上記直線偏光板とをアクリル系粘着剤を用いて貼合した。なお、アクリル系粘着剤からなる接着層（第２接着層）の膜厚は５μｍであり、偏光子の透過軸とλ／２位相差層の遅相軸とがなす角度が１５°であった。次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
得られた偏光板複合体を用いて、実施例１７～１９と同様にして干渉ムラを測定した。結果を表４に示す。
実施例１７～１９で得られた光学積層体において、「λ／２位相差層」から透明樹脂基材及びλ／２位相差層側の配向膜を剥離し、光学積層体（１）を得た。
得られた光学積層体（１）を実施例１７～１９と同様にして、輝度を求めた。結果を表４に示す。
得られた光学積層体（１）のλ／２位相差層の液晶層と上記直線偏光板とをアクリル系粘着剤を用いて貼合した。なお、アクリル系粘着剤からなる接着層（第２接着層）の膜厚は５μｍであり、偏光子の透過軸とλ／２位相差層の遅相軸とがなす角度が１５°であった。次いで、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、直線偏光板／第２接着層／「λ／２位相差層」／第１接着層／「λ／４位相差層」の積層構造を有する偏光板複合体（円偏光板）を得た。
得られた偏光板複合体を用いて、実施例１７～１９と同様にして干渉ムラを測定した。結果を表４に示す。
【0190】
【表4】
【0191】
＜実施例２３～２５＞
実施例１７～１９で得られた光学積層体において、「λ／２位相差層」から透明樹脂基材及びλ／２位相差層側の配向膜を剥離し、光学積層体を得た。得られた光学積層体のλ／２位相差層にアクリル系粘着剤（膜厚５μｍ）を介して実施例１７～１９で得た直線偏光板を積層させた。さらに、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、アクリル系粘着剤層（２５μｍ）を介して透明樹脂を積層させ、偏光板複合体を得た。得られた複合偏光板から透明樹脂を剥離し、実施例１７～１９と同様にして、輝度を求めた。結果を表５に示す。
得られた複合偏光板のアクリル系粘着剤を介してアルミ反射板に貼りつけ、実施例１７～１９と同様に干渉ムラを測定した。結果を表５に示す。
実施例１７～１９で得られた光学積層体において、「λ／２位相差層」から透明樹脂基材及びλ／２位相差層側の配向膜を剥離し、光学積層体を得た。得られた光学積層体のλ／２位相差層にアクリル系粘着剤（膜厚５μｍ）を介して実施例１７～１９で得た直線偏光板を積層させた。さらに、λ／４位相差層側の配向膜及び透明樹脂基材を剥離し、アクリル系粘着剤層（２５μｍ）を介して透明樹脂を積層させ、偏光板複合体を得た。得られた複合偏光板から透明樹脂を剥離し、実施例１７～１９と同様にして、輝度を求めた。結果を表５に示す。
得られた複合偏光板のアクリル系粘着剤を介してアルミ反射板に貼りつけ、実施例１７～１９と同様に干渉ムラを測定した。結果を表５に示す。
【0192】
【表5】
【符号の説明】
【0193】
１ 第１位相差層、２ 第２位相差層、４ 第１接着層、５，５０ 光学積層体、１０ 第１位相差層、１１ 第１基材層、１２ 第１配向層、１３ 第１位相差発現層、２０ 第２位相差層、２１ 第２基材層、２２ 第２配向層、２３ 第２位相差発現層、４０ 第１接着層、Ｗ 幅方向、１００ 光学積層体、１００ａ 検査面、１１２ａ 第１遅相軸、１１３ａ 第２遅相軸、１２０ 検査光学系、１２１ 光源部、１２２ 検出部、１２３ 第１偏光フィルター、１２３ａ 第１吸収軸、１２４ 第２偏光フィルター、１２４ａ 第２吸収軸、１２５ 背面板、１２５ａ 背面板の主面。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】