特許 7373968 ガス供給システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-10-26

(45)【発行日】2023-11-06

(54)【発明の名称】ガス供給システム

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/3065 20060101AFI20231027BHJP

   H01L 21/31 20060101ALI20231027BHJP

   C23C 16/44 20060101ALI20231027BHJP

【ＦＩ】

H01L21/302 101G

H01L21/31 C

C23C16/44 Z

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2019199623

(22)【出願日】2019-11-01

(65)【公開番号】P2021072405

(43)【公開日】2021-05-06

【審査請求日】2022-09-08

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】澤地 淳

(72)【発明者】

【氏名】網倉 紀彦

【審査官】川原 光司

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－１１０２１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－０４８９２６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６５

Ｈ０１Ｌ ２１／３１

Ｃ２３Ｃ １６／４４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

中間接続点を有し、処理ガス供給源と基板処理容器との間に接続される第１ガス供給管と、
パージガス供給源と前記中間接続点との間に接続される第２ガス供給管と、
前記第１ガス供給管の前記中間接続点の上流に設けられた、空気作動式バルブである第１バルブと、
前記第１ガス供給管の前記第１バルブの上流に設けられた、空気作動式バルブである第２バルブと、
前記処理ガス供給源から前記基板処理容器に処理ガスを供給する第１モードにおいて、前記第１バルブ及び前記第２バルブを開き、前記パージガス供給源から前記基板処理容器にパージガスを供給する第２モードにおいて、前記第１バルブ及び前記第２バルブを閉じるように前記第１バルブ及び前記第２バルブを制御する制御部と、
分岐点を有し、空気供給源と前記第１バルブとの間に接続される第１空気供給管と、
前記分岐点と前記第２バルブとの間に接続される第２空気供給管と、
前記第１空気供給管の前記分岐点の上流に設けられた電磁バルブと
を有し、
前記制御部は、前記第１モードにおいて前記電磁バルブを開き、前記第２モードにおいて前記電磁バルブを閉じるように前記電磁バルブを制御する、ガス供給システム。

【請求項2】

前記制御部は、前記第１モードにおいて前記第１バルブ及び前記第２バルブを同時に開き、前記第２モードにおいて前記第１バルブ及び前記第２バルブを同時に閉じるように前記第１バルブ及び前記第２バルブを制御する、請求項１に記載のガス供給システム。

【請求項3】

前記第２空気供給管に設けられ、前記空気供給源から前記第２バルブへの空気の供給を遮断可能な遮断バルブをさらに有する、請求項１に記載のガス供給システム。

【請求項4】

前記遮断バルブは、空気作動式バルブである、請求項３に記載のガス供給システム。

【請求項5】

前記遮断バルブに接続された第３空気供給管と、
前記第３空気供給管に配置された手動バルブとをさらに有する、請求項４に記載のガス供給システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、ガス供給システム、基板処理装置及びガス供給システムの制御方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、基板処理に用いられる処理ガスが通流する配管にパージガス導入管を接続し、配管に通流させるガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に配管の上流側に設けられたバルブを開状態から閉状態へ切り替えることが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平２－５０４２１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、配管の上流側へのパージガスの逆流を抑制することができる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様によるガス供給システムは、基板処理に用いられる処理ガスが通流する配管と、前記配管に接続され、前記配管へパージガスを導入するパージガス導入管と、前記配管の、前記パージガス導入管との接続点よりも上流側に設けられた第１バルブと、前記配管の、前記第１バルブよりも上流側に設けられた第２バルブと、前記配管に前記処理ガスを通流させる場合、前記第１バルブ及び前記第２バルブを開状態に維持し、前記配管を通流するガスを前記処理ガスから前記パージガスへ切り替える場合、前記第１バルブ及び前記第２バルブを開状態から閉状態へ切り替える制御部と、を有する。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、配管の上流側へのパージガスの逆流を抑制することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、実施形態に係るプラズマ処理装置の断面の一例を概略的に示す図である。

【図2】図２は、実施形態に係るガス供給システムの概略的な構成の一例を示す図である。

【図3】図３は、実施形態のガスの切り替えを説明する図である。

【図4】図４は、実施形態のガスの切り替えを説明する図である。

【図5】図５は、実施形態のリークチェックの一例を説明する図である。

【図6】図６は、実施形態のリークチェックの一例を説明する図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。

【0009】

ところで、基板処理装置では、配管に通流させるガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に、配管の上流側に設けられたバルブにリークが発生することがある。配管の上流側に設けられたバルブにリークが発生している状況下でパージガス導入管から配管へのパージガスの導入が開始されると、導入されるパージガスがバルブを通過して配管の上流側へ逆流する。配管の上流側へのパージガスの逆流は、処理ガスに対するパージガスの混入が発生する要因となり、好ましくない。このため、配管の上流側へのパージガスの逆流を抑制することが期待されている。

【0010】

［基板処理装置の構成］
実施形態に係る基板処理装置の構成について説明する。基板処理装置は、ウエハ等の基板に対して所定の基板処理を行う装置である。本実施形態では、基板処理装置を、基板としてウエハＷに対してプラズマエッチング等の処理を行うプラズマ処理装置１０とした場合を例に説明する。図１は、実施形態に係るプラズマ処理装置の断面の一例を概略的に示す図である。図１に示すプラズマ処理装置１０は、容量結合型平行平板のプラズマエッチング装置である。プラズマ処理装置１０は、略円筒状の処理容器１２を備えている。

【0011】

処理容器１２内には、載置台１６が設けられている。載置台１６は、支持部材１８および基台２０を含んでいる。支持部材１８の上面は、プラズマ処理の対象となる被処理体が載置される載置面とされている。本実施形態では、被処理体として、プラズマエッチングの対象となるウエハＷが支持部材１８の上面に載置される。基台２０は、略円盤形状を有しており、その主部において、例えばアルミニウムといった導電性の金属から構成されている。基台２０は、下部電極を構成している。基台２０は、支持部１４によって支持されている。支持部１４は、処理容器１２の底部から延びる円筒状の部材である。

【0012】

基台２０には、整合器ＭＵ１を介して第１の高周波電源ＨＦＳが電気的に接続されている。第１の高周波電源ＨＦＳは、プラズマ生成用の高周波電力を発生する電源であり、２７～１００ＭＨｚの周波数、一例においては４０ＭＨｚの高周波電力を発生する。整合器ＭＵ１は、第１の高周波電源ＨＦＳの出力インピーダンスと負荷側（基台２０側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。

【0013】

また、基台２０には、整合器ＭＵ２を介して第２の高周波電源ＬＦＳが電気的に接続されている。第２の高周波電源ＬＦＳは、ウエハＷにイオンを引き込むための高周波電力（高周波バイアス電力）を発生して、当該高周波バイアス電力を基台２０に供給する。高周波バイアス電力の周波数は、４００ｋＨｚ～１３．５６ＭＨｚの範囲内の周波数であり、一例においては３ＭＨｚである。整合器ＭＵ２は、第２の高周波電源ＬＦＳの出力インピーダンスと負荷側（基台２０側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。

【0014】

基台２０上には、支持部材１８が設けられている。支持部材１８は、例えば、静電チャックである。支持部材１８は、クーロン力等の静電力によりウエハＷを吸着し、当該ウエハＷを保持する。支持部材１８は、セラミック製の本体部内に静電吸着用の電極Ｅ１を有している。電極Ｅ１には、スイッチＳＷ１を介して直流電源２２が電気的に接続されている。なお、支持部材１８は、ウエハＷの温度に制御するため、ヒーターが設けられてもよい。

【0015】

基台２０の上面の上、且つ、支持部材１８の周囲には、フォーカスリングＦＲが設けられている。フォーカスリングＦＲは、プラズマ処理の均一性を向上させるために設けられている。フォーカスリングＦＲは、実行すべきプラズマ処理に応じて適宜選択される材料から構成されており、例えば、シリコン、又は石英から構成され得る。

【0016】

基台２０の内部には、冷媒流路２４が形成されている。冷媒流路２４には、処理容器１２の外部に設けられたチラーユニットから配管２６ａを介して冷媒が供給される。冷媒流路２４に供給された冷媒は、配管２６ｂを介してチラーユニットに戻るようになっている。

【0017】

処理容器１２内には、ウエハＷに向けてガスを噴出するシャワーヘッドを兼ねる上部電極３０が設けられている。上部電極３０は、載置台１６の上方において、基台２０と対向配置されており、基台２０と上部電極３０とは、互いに略平行に設けられている。上部電極３０と下部電極ＬＥとの間は、ウエハＷにプラズマ処理を行うためのプラズマが生成される処理空間Ｓである。

【0018】

上部電極３０は、絶縁性遮蔽部材３２を介して、処理容器１２の上部に支持されている。上部電極３０は、電極板３４および電極支持体３６を含み得る。電極板３４は、処理空間Ｓに面している。電極板３４には、複数のガス吐出孔３４ａが設けられている。

【0019】

電極支持体３６は、例えばアルミニウムといった導電性材料から構成され、電極板３４を着脱自在に支持する。電極支持体３６は、水冷構造を有していてもよい。電極支持体３６の内部には、円板状の空間からなるガス拡散室３７が設けられている。ガス拡散室３７からは、それぞれガス吐出孔３４ａに連通する複数のガス通流孔３６ｂが下方にそれぞれ延びている。

【0020】

プラズマ処理装置１０には、プラズマ処理に用いる各種のガスを供給するガス供給源４０が設けられている。また、電極支持体３６には、ガス供給源４０から供給されるガスをガス拡散室３７に供給するガス供給システム１１０が接続されている。ガス供給システム１１０の詳細は、後述する。

【0021】

ガス拡散室３７に供給されたガスは、ガス通流孔３６ｂおよびガス吐出孔３４ａを介して処理空間Ｓに吐出される。プラズマ処理装置１０は、ガス供給源４０およびガス供給システム１１０を制御することにより、ガス拡散室３７のガス吐出孔３４ａから処理空間Ｓに吐出される処理ガスの流量を個別に制御可能とされている。

【0022】

処理容器１２の底部側においては、支持部１４と処理容器１２の内壁との間に排気プレート４８が設けられている。排気プレート４８は、例えば、アルミニウム材にＹ_２Ｏ_３等のセラミックスを被覆することにより構成されている。処理容器１２は、排気プレート４８の下方に排気口１２ｅが設けられている。排気口１２ｅには、排気管５２を介して排気装置５０が接続されている。排気装置５０は、ターボ分子ポンプなどの真空ポンプを有しており、処理容器１２内を所望の真空度まで減圧することができる。また、処理容器１２は、側壁にウエハＷの搬入出口１２ｇが設けられている。搬入出口１２ｇは、ゲートバルブ５４により開閉可能となっている。

【0023】

上記のように構成されたプラズマ処理装置１０は、制御部１００によって、動作が統括的に制御される。制御部１００は、例えば、コンピュータであり、プラズマ処理装置１０の各部を制御する。プラズマ処理装置１０は、制御部１００によって、動作が統括的に制御される。

【0024】

制御部１００は、ＣＰＵを備え、プラズマ処理装置１０の各部を制御するプロセスコントローラ１０１と、ユーザインターフェース１０２と、記憶部１０３とを有する。

【0025】

ユーザインターフェース１０２は、工程管理者がプラズマ処理装置１０を管理するためにコマンドの入力操作を行うキーボードや、プラズマ処理装置１０の稼動状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成されている。

【0026】

記憶部１０３には、プラズマ処理装置１０で実行される各種処理をプロセスコントローラ１０１の制御にて実現するための制御プログラム（ソフトウエア）や処理条件データ等が記憶されたレシピが格納されている。そして、プロセスコントローラ１０１が、ユーザインターフェース１０２からの指示等に応じて、任意のレシピを記憶部１０３から呼び出して実行することで、プロセスコントローラ１０１の制御下で、プラズマ処理装置１０での所望の処理が行われる。例えば、プロセスコントローラ１０１は、後述するガス供給システム１１０の制御方法を実行するようにプラズマ処理装置１０の各部を制御する。なお、制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータで読み取り可能なコンピュータ記録媒体（例えば、ハードディスク、ＣＤ、フレキシブルディスク、半導体メモリ等）などに格納された状態のものを利用してもよい。また、制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用してもよい。

【0027】

次に、実施形態に係るガス供給システム１１０の構成について説明する。図２は、実施形態に係るガス供給システムの概略的な構成の一例を示す図である。

【0028】

ガス供給源４０は、プラズマエッチングなどのプラズマ処理に用いる複数種類のガスソースを備えたガスソース群を有している。ガス供給源４０は、ガスソース群の複数のガスソースそれぞれに不図示のバルブや流量制御器などを備えており、プラズマ処理に応じて、１又は複数種類のガスを混合した処理ガスを供給する。

【0029】

ガス供給システム１１０は、ガス供給源４０から供給される処理ガスをガス拡散室３７に供給する。

【0030】

ガス供給源４０には、ガス拡散室３７に対して供給される処理ガスが通流する配管としてガス供給管１１１が接続されている。ガス供給源４０は、１又は複数種類のガスを混合した処理ガスをガス供給管１１１に供給する。例えば、処理ガスは、ＣＦ系ガス、ＳｉＣｌ４、ＢＣｌ４、ＳＯ２又はこれらを混合したガスである。ガス供給管１１１は、ガス拡散室３７に接続されている。

【0031】

ガス供給管１１１は、ガス拡散室３７に至る途中に、ガス拡散室３７に対して供給される処理ガスの流量を調整可能な流量制御器１１２が設けられている。ガス供給管１１１に供給された処理ガスは、流量制御器１１２によって流量が調整された後、ガス拡散室３７に到達する。

【0032】

また、ガス供給管１１１は、流量制御器１１２よりも上流側に、パージガス導入管１２１が接続されている。パージガス導入管１２１は、不図示のパージガス供給源に接続され、パージガス供給源から供給されるパージガスをガス供給管１１１へ導入する。例えば、パージガス導入管１２１は、パージガスとして、Ｎ２等の不活性ガスをガス供給管１１１へ導入する。ガス供給管１１１へパージガスが導入されることにより、ガス供給管１１１内や流量制御器１１２内に残留する処理ガスがパージされる。パージガス導入管１２１は、パージガス導入管１２１の開閉状態を切り替えるバルブ１２２が設けられている。

【0033】

ガス供給管１１１は、パージガス導入管１２１が接続される接続点１１１ａよりも上流側に、バルブ１３１が設けられている。また、ガス供給管１１１は、バルブ１３１よりも上流側に、バルブ１３２が設けられている。バルブ１３１及びバルブ１３２は、空気により閉状態から開状態に切り替わる空気作動式バルブである。バルブ１３１には、空気供給管１３１ａを介して電磁バルブ１４１が接続されている。バルブ１３２には、空気供給管１３１ａから分岐する分岐管１３２ａが接続されている。電磁バルブ１４１は、不図示の空気供給源に接続され、空気供給管１３１ａを介してバルブ１３１に空気を供給するとともに、分岐管１３２ａを介して空気供給管１３１ａを流れる空気をバルブ１３２に供給する。

【0034】

分岐管１３２ａは、供給許容状態と遮断状態とに選択的に切り替え可能な状態切替バルブ１４２が設けられている。状態切替バルブ１４２は、供給許容状態において、電磁バルブ１４１から分岐管１３２ａを介したバルブ１３２への空気の供給を許容する。一方、状態切替バルブ１４２は、遮断状態において、電磁バルブ１４１から分岐管１３２ａを介したバルブ１３２への空気の供給を遮断する。状態切替バルブ１４２が遮断状態に切り替えられてバルブ１３２への空気の供給が遮断されることにより、バルブ１３２は、常に閉状態となる。状態切替バルブ１４２は、空気を供給可能であり、手動により開閉状態が切り替え可能な手動バルブ１４３に接続され、手動バルブ１４３から空気が供給されることにより遮断状態から供給許容状態へ切り替わる。また、状態切替バルブ１４２は、手動バルブ１４３からの空気の供給が停止されることにより供給許容状態から遮断状態へ切り替わる。状態切替バルブ１４２は、基本的には供給許容状態に維持されるが、バルブ１３２のリークチェックが行われる場合に供給許容状態から遮断状態へ切り替えられる。

【0035】

また、ガス供給管１１１は、流量制御器１１２よりも下流側に、ガス供給管１１１の開閉状態を切り替えるバルブ１３３が設けられている。バルブ１３３は、プラズマ処理装置１０の稼働中において常に開状態に維持される。

【0036】

ところで、プラズマ処理装置１０では、ガス供給管１１１に通流させるガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に、ガス供給管１１１の、パージガス導入管１２１の接続点１１１ａよりも上流側に設けられたバルブ１３１を開状態から閉状態へ切り替える。このとき、バルブ１３１にリークが発生することがある。バルブ１３１にリークが発生している状況下でパージガス導入管１２１からガス供給管１１１へのパージガスの導入が開始されると、導入されるパージガスがバルブ１３１を通過してガス供給管１１１の上流側へ逆流する可能性がある。ガス供給管１１１の上流側へのパージガスの逆流は、処理ガスに対するパージガスの混入が発生する要因となり、好ましくない。

【0037】

そこで、プラズマ処理装置１０は、ガス供給管１１１の、バルブ１３１よりも上流側にバルブ１３２を設け、ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に、バルブ１３１及びバルブ１３２の両方を開状態から閉状態へ切り替える。

【0038】

図３及び図４は、実施形態のガスの切り替えを説明する図である。図３は、ガス供給管１１１に処理ガスを通流させる場合を示している。図４は、ガス供給管１１１にパージガスを通流させる場合を示している。ガス供給管１１１に処理ガスを通流させる場合、制御部１００は、図３に示すように、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態に維持する。具体的には、制御部１００は、パージガス導入管１２１に設けられたバルブ１２２を閉状態に維持した状態で、電磁バルブ１４１から空気を供給することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を開状態に維持する。これにより、ガス供給管１１１を通流する処理ガスがガス拡散室３７に供給される。

【0039】

ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える場合、制御部１００は、図４に示すように、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。具体的には、制御部１００は、電磁バルブ１４１からの空気の供給を停止することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。そして、制御部１００は、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替えた後に、パージガス導入管１２１に設けられたバルブ１２２を閉状態から開状態へ切り替える制御を行う。これにより、パージガス導入管１２１からガス供給管１１１へパージガスが導入される。

【0040】

このように、プラズマ処理装置１０は、ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に、バルブ１３１及びバルブ１３２の両方を開状態から閉状態へ切り替えることで、ガス供給管１１１の上流側を二重のバルブにより遮断できる。これにより、ガス供給管１１１の上流側へのパージガスの逆流を抑制できる。

【0041】

ところで、ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える際に、バルブ１３１及びバルブ１３２の両方にリークが発生すると、ガス供給管１１１の上流側へのパージガスの逆流が発生してしまう可能性がある。そこで、バルブ１３１及びバルブ１３２のリークチェックを個別に行うことが好ましい。バルブ１３１及びバルブ１３２のリークチェックについて説明する。

【0042】

図５及び図６は、実施形態のリークチェックの一例を説明する図である。図５は、バルブ１３１のリークチェックを行う場合を示している。図６は、バルブ１３２のリークチェックを行う場合を示している。

【0043】

バルブ１３１のリークチェックを行う場合、まず、制御部１００は、バルブ１３１及びバルブ１３２を所定期間だけ開状態に維持した後、図５に示すように、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。具体的には、制御部１００は、電磁バルブ１４１から空気を供給することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を所定期間だけ開状態に維持した後、電磁バルブ１４１からの空気の供給を停止することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。これにより、ガス供給管１１１のうち、バルブ１３１とバルブ１３２との間の部分に処理ガスが閉じ込められる。バルブ１３１とバルブ１３２との間の部分に処理ガスが閉じ込められた状態で、制御部１００は、排気装置５０による真空引きを行い、不図示の圧力計による処理容器１２内の圧力の測定結果を参照し、バルブ１３１のリークチェックを行う。

【0044】

バルブ１３１のリークチェックが終了すると、図６に示すように、状態切替バルブ１４２が供給許容状態から遮断状態へ切り替えられ、バルブ１３２のリークテストが開始される。バルブ１３２のリークチェックを行う場合、まず、制御部１００は、バルブ１３１を閉状態から開状態へ切り替える。具体的には、制御部１００は、電磁バルブ１４１から空気を供給することによりバルブ１３１を閉状態から開状態へ切り替える。ここで、状態切替バルブ１４２が遮断状態へ切り替えられているため、電磁バルブ１４１から分岐管１３２ａを介したバルブ１３２への空気の供給が遮断される。バルブ１３２への空気の供給が遮断されることにより、バルブ１３２は、常に閉状態となり、バルブ１３１のみが閉状態から開状態へ切り替わる。これにより、ガス供給管１１１のうち、バルブ１３１とバルブ１３２との間の部分に閉じ込められていた処理ガスがバルブ１３１の下流側へ解放される。その後、制御部１００は、排気装置５０による真空引きを行い、不図示の圧力計による処理容器１２内の圧力の測定結果を参照し、バルブ１３２のリークチェックを行う。

【0045】

プラズマ処理装置１０では、状態切替バルブ１４２を用いてバルブ１３２への空気の供給を遮断することで、バルブ１３２とは独立にバルブ１３１の開閉状態を切り替えることができ、バルブ１３１及びバルブ１３２のリークチェックを個別に行うことができる。

【0046】

以上のように、本実施形態に係るガス供給システム１１０は、ガス供給管１１１と、パージガス導入管１２１と、バルブ１３１と、バルブ１３２と、制御部１００と、を有する。ガス供給管１１１は、基板処理に用いられる処理ガスが通流する。パージガス導入管１２１は、ガス供給管１１１に接続され、ガス供給管１１１へパージガスを導入する。バルブ１３１は、ガス供給管１１１の、パージガス導入管１２１との接続点１１１ａよりも上流側に設けられている。バルブ１３２は、ガス供給管１１１の、バルブ１３１よりも上流側に設けられている。制御部１００は、ガス供給管１１１に処理ガスを通流させる場合、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態に維持する。また、制御部１００は、ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える場合、バルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。これにより、ガス供給システム１１０は、ガス供給管１１１の上流側へのパージガスの逆流を抑制することができる。

【0047】

また、ガス供給システム１１０において、バルブ１３１及びバルブ１３２は、供給される空気により閉状態から開状態へ切り替わる空気作動式バルブである。また、ガス供給システム１１０は、空気供給管１３１ａを介してバルブ１３１に空気を供給するとともに、空気供給管１３１ａから分岐する分岐管１３２ａを介して空気供給管１３１ａを流れる空気をバルブ１３２に供給する電磁バルブ１４１をさらに有する。そして、制御部１００は、ガス供給管１１１に処理ガスを通流させる場合、電磁バルブ１４１から空気を供給することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を開状態に維持する。また、制御部１００は、ガス供給管１１１を通流するガスを処理ガスからパージガスへ切り替える場合、電磁バルブ１４１からの空気の供給を停止することによりバルブ１３１及びバルブ１３２を開状態から閉状態へ切り替える。これにより、ガス供給システム１１０は、ガス供給管１１１の上流側を二重の空気作動式バルブにより遮断できるので、ガス供給管１１１の上流側へのパージガスの逆流を抑制することができる。

【0048】

また、ガス供給システム１１０は、分岐管１３２ａに設けられ、供給許容状態と遮断状態とに選択的に切り替え可能である状態切替バルブ１４２をさらに有する。状態切替バルブ１４２は、供給許容状態において、電磁バルブ１４１から分岐管１３２ａを介した１３２バルブへの空気の供給を許容し、遮断状態において、電磁バルブ１４１から分岐管１３２ａを介したバルブ１３２への空気の供給を遮断する。これにより、ガス供給システム１１０は、バルブ１３２とは独立にバルブ１３１の開閉状態を切り替えることができ、バルブ１３１及びバルブ１３２のリークチェックを個別に行うことができる。

【0049】

なお、今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【符号の説明】

【0050】

１０ プラズマ処理装置
１００ 制御部
１０１ プロセスコントローラ
１０２ ユーザインターフェース
１０３ 記憶部
１１０ ガス供給システム
１１１ ガス供給管
１２１ パージガス導入管
１３１、１３２ バルブ
１３１ａ 空気供給管
１３２ａ 分岐管
１４１ 電磁バルブ
１４２ 状態切替バルブ
１４３ 手動バルブ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】