技術分野
貫通孔とくり抜き部を有するガラス基板とその製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
このような半導体チップ埋め込み型のインターポーザでは、くり抜き部に半導体チップを埋め込む際に、くり抜き部内部に樹脂材料を充填することがある。そこで、充填する樹脂材料とガラス基板の結合を強め、半導体チップが抜け落ちないようにする必要がある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、第1の主面および第2の主面を有し、少なくとも1つのくり抜き部と、前記くり抜き部の周囲に形成された少なくとも1つの貫通孔を有し、
前記くり抜き部の前記第1の主面に垂直な断面において、前記くり抜き部の内部の最小径は、前記第1の主面および前記第2の主面における開口径より小さい、半導体パッケージ用ガラス基板、を提供する。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の半導体パッケージ用ガラス基板を用いれば、充填する樹脂材料がくり抜き部から抜け落ちることなく、半導体パッケージが製造できる。また、本発明の製造方法によれば、そのような半導体パッケージ用ガラス基板を製造できる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
第1の実施形態における半導体パッケージ用ガラス基板の上面および断面の模式図である。
【図2】
第1の実施形態におけるくり抜き部のガラス基板の第1の主面におけるすり鉢形状を示す断面の模式図である。
【図3】
第1の実施形態におけるくり抜き部の内壁が鋸歯形状を有する半導体パッケージ用ガラス基板の上面の模式図である。
【図4】
第1の実施形態における鋸歯形状の拡大図である。
【図5】
第1の製造方法における製造フローである。
【図6】
第1の製造方法のレーザ照射工程において初期孔が形成されたガラス基板の上面の模式図である。
【図7】
第1の製造方法のレーザ照射工程で用いられるレーザ照射装置の模式図である。
【図8】
第2の製造方法における製造フローである。
【図9】
実施例における上面図である。
【図10】
実施例における断面図である。
【図11】
実施例における上面図である。
【図12】
実施例における上面図である。
【図13】
実施例における上面図である
100 半導体パッケージ用ガラス基板
101 くり抜き部
102 貫通孔
103 平面部
104 すり鉢形状
105 くり抜き部内壁
D1 くり抜き部の第1の主面における開口径
D2 くり抜き部の内部の最小径
d1 貫通孔の第1の主面における開口径
d2 貫通孔の内部の最小径
P1 鋸歯形状の突起部同士の距離
W1 鋸歯形状の溝部の深さ
700 レーザ照射装置
750 ステージ
760 レーザ発振器
765 レーザビーム
770 ビーム調整光学系
775 レーザビーム
780 集光光学系
785 レーザビーム
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