発明の名称 ガス検査方法、基板処理方法及び基板処理システム
出願人 東京エレクトロン株式会社 (識別番号 219967)
特許公開件数ランキング 36 位(601件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 20 位(804件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7398306
公報発行日 2023年12月14
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7398306
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