特許 7398638 特殊潜像模様形成体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-12-07

(45)【発行日】2023-12-15

(54)【発明の名称】特殊潜像模様形成体

(51)【国際特許分類】

   B41M 3/14 20060101AFI20231208BHJP

   B41M 1/24 20060101ALI20231208BHJP

   B42D 25/324 20140101ALI20231208BHJP

【ＦＩ】

B41M3/14

B41M1/24

B42D25/324

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2020104951

(22)【出願日】2020-06-18

(65)【公開番号】P2021194890

(43)【公開日】2021-12-27

【審査請求日】2022-09-14

(73)【特許権者】

【識別番号】303017679

【氏名又は名称】独立行政法人 国立印刷局

(72)【発明者】

【氏名】田中 利典

【審査官】高松 大治

(56)【参考文献】

【文献】特開２００２－０１９２５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－１２９１５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－３１３１６１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ４１Ｍ ３／１４

Ｂ４１Ｍ １／２４

Ｂ４２Ｄ ２５／３２４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

潜像模様が形成された潜像領域と、背景領域とが配置された基材と、
前記基材の表面上で、凹断面又は凸断面を有し、前記基材と同一色を有し、所定ピッチで一方向に沿って配置された凹凸画線と、
前記基材の表面上で、前記基材と異なる色を有し、前記所定ピッチで前記一方向に沿って配置された印刷画線と、
を備え、
前記凹凸画線は、前記潜像領域において形成された第１の凹凸画線と、前記背景領域において形成された第２の凹凸画線とを有し、前記第１の凹凸画線と前記第２の凹凸画線とはそれぞれの位相が相違し前記印刷画線に対する相対的位置が相違することによって、前記基材を傾けて観察した場合に前記潜像模様が視認され、
前記凹凸画線は、前記第１の凹凸画線に対して、前記第２の凹凸画線の中心線を境に線対称となる第３の凹凸画線、又は前記第２の凹凸画線に対して、前記第１の凹凸画線の中心を境に線対称となる第４の凹凸画線をさらに備えることを特徴とする特殊潜像模様形成体。

【請求項2】

前記背景領域と前記潜像領域との間にさらに輪郭領域が設けられており、
前記凹凸画線は、前記輪郭領域において、位相が連続的に変化して前記第１の凹凸画線と前記第２の凹凸画線とに連結する第５の凹凸画線をさらに備え、
前記凹凸画線は、前記輪郭領域において、位相が連続的に変化して前記第２の凹凸画線と前記第３の凹凸画線とに連結する第６の凹凸画線、又は位相が連続的に変化して前記第４の凹凸画線と前記第１の凹凸画線とに連結する第６の凹凸画線をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の特殊潜像模様形成体。

【請求項3】

前記背景領域と前記潜像領域との間にさらに輪郭領域が設けられており、
前記凹凸画線は、前記輪郭領域において、前記第１の凹凸画線の位相と前記第２の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第７の凹凸画線をさらに備え、
前記凹凸画線は、前記輪郭領域において、前記第２の凹凸画線の位相と前記第３の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第８の凹凸画線、又は前記第１の凹凸画線の位相と前記第４の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第９の凹凸画線をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の特殊潜像模様形成体。

【請求項4】

前記凹凸画線は、すき入れ、エンボス、印刷のいずれか一つによって形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の特殊潜像模様形成体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は特殊潜像模様形成体に関し、例えば、銀行券、パスポート、有価証券、カード、貴重印刷物等の偽造防止、改ざん防止が要求されるものに利用することが可能な特殊潜像模様形成体に関する。

【背景技術】

【0002】

銀行券、パスポート、有価証券、カード、貴重印刷物等は、その性質上、偽造防止、改ざん防止が要求される。そのようなものに偽造防止、改ざん防止策を施す技術として、紙層の厚さを部分的に変えることによるすき入れ、例えば特殊な物質を基材内に入れることによるすき入れやエンボス、印刷等によって基材上に凹凸画線を施したものを用いることが行われている。

【0003】

そして、すき入れ、エンボス、印刷等により形成された万線模様等の凹凸画線を有する基材の表面上に、凹凸画線に対して平行又は傾斜した印刷画線を印刷する。このようにして製造された特殊潜像模様形成体に対して、基材を所定角度の方向から観察すると、潜像模様となる所定の文字、図柄等が視認される。出願人は、このような特殊潜像模様形成体について、以下の特許文献１～４に示された特許を得ている。

【0004】

従来の特殊潜像模様形成体の基本的な構成について、図面を参照して説明する。
図示されない基材に、図１（ａ）に示されたように、すき入れ、エンボス、印刷等により凹凸画線１１が形成され、この凹凸画線１１は基材と同一色を有する。

【0005】

凹凸画線１１は、部分１１Ｘを拡大して上面から見た状態を示した図１（ｂ）、図１（ｂ）においてＹ－Ｙ線に沿う縦断面を示した図１（ｃ）に示されたように、ここでは一例として凸状の断面構造を有し、長手方向に沿って中心位置の稜線に相当する中心線１１ＣＬが位置する。

【0006】

さらに基材上に、図２に示されたように印刷画線１２が形成される。この印刷画線１２は、無色以外の有色インキで例えばオフセット印刷により印刷され、基材とは異なる色を有する。

【0007】

凹凸画線１１と印刷画線１２とは、図３に示されるように凹凸画線１１が１層目として形成され、その上に積層されるように印刷画線１２が形成される。

【0008】

図４に、特殊潜像模様形成体により形成される潜像模様の一例として数字「１」を示す。なお、潜像模様は数字には限定されず、例えば文字、図形、記号、模様等あらゆる模様が含まれる。

【0009】

図５に、特殊潜像模様形成体において、潜像模様「１」におけるＸ－Ｘ線に沿う位置における凹凸画線１１と印刷画線１２とが最も望ましい相対的位置で配置された状態を示す。ここで、凹凸画線１１から印刷画線１２までの距離をＺ１、隣接する凹凸画線１１の間のピッチをＰ１とする。また、潜像模様が形成された図中中央の領域をＡ領域、背景模様が形成された図中左右の両端の領域をＢ領域、さらに潜像模様の輪郭に相当する模様が形成された輪郭領域をＣ領域とする。

【0010】

視点Ｅ１から基材を所定角度に傾けて観察した場合、Ａ領域、Ｃ領域では凹凸画線１１の表面上に印刷画線１２がある程度見えるが、その両端のＢ領域では印刷画線１２が凹凸画線１１によって隠れて視認されない。これにより、模様２１のように潜像模様の「１」がポジ模様として視認される。

【0011】

さらに図５の状態に対して観察角度の違いによる潜像模様の視認原理を図６に示す。図６（ａ）は、視点と基材４との小さい角度ウからの視点Ｅ１と、視点と基材４との大きな角度アからの視点Ｅ１'、更に視点Ｅ１から視点Ｅ１'までの間の角度イのそれぞれの観察状態を示す。また、図６（ｂ）は、視点Ｅ１、視点Ｅ１'及び視点Ｅ１から視点Ｅ１'までのそれぞれの基材との角度を断面図として示したものである。

【0012】

図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、潜像模様を形成するＡ領域において、基材４の水平面方向から、凹凸画線１１の死角から印刷画線１２の一部が見える位置までの基材４との角度ウの視点Ｅ１と、背景を形成するＢ領域において、基材４に対して垂直方向の真上から、凹凸画線１１の死角となって印刷画線１２の一部が見えなくなった位置までの基材４との角度アの視点Ｅ１'では、いずれも潜像模様は確認できない。ただし、視点Ｅ１から視点Ｅ１'の間の角度イの範囲では、凹凸画線１１により印刷画線１２の一部が死角となり一部のみが見えることとなり、潜像模様がネガ模様として確認できる。。この角度イが大きい程、潜像模様の視認可能な視野角度が広くなるため、観察者には潜像が見易くなる。

【0013】

視点Ｅ１とは反対側の視点Ｅ２から基材を所定角度に傾けて観察した場合、Ａ領域では凹凸画線１１によって印刷画線１２が殆ど見えず、その両端のＢ領域、Ｃ領域では印刷画線１２は凹凸画線１１によって隠れることなく明瞭に視認される。これにより、模様２２のように潜像模様の「１」がネガ模様として視認される。

【0014】

図７に、特殊潜像模様形成体において、潜像模様「１」におけるＸ－Ｘ線に沿う位置における凹凸画線１１と印刷画線１２との間でやや望ましくない相対的位置、すなわち潜像模様がある程度は視認される状態で配置された状態を示す。ここで、凹凸画線１１から印刷画線１２までの距離をＺ２とする。

【0015】

視点Ｅ１から特殊潜像模様形成体を所定角度に傾けて観察した場合、Ａ領域では印刷画線１２が凹凸画線１１によって隠れて見えず、その両端のＢ領域、Ｃ領域では印刷画線１２が凹凸画線１１によって隠れることなく見える。これにより、模様２２のように潜像模様の「１」がネガ模様として視認される。さらに基材を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも印刷画線１２が凹凸画線１１によって完全に隠れた状態となり、模様２４に示されたように有色の印刷画線１２が全く見えず基材と同一色の凹凸画線１１のみが見えるため潜像模様の「１」は全く視認されない。

【0016】

視点Ｅ２から基材を所定角度に傾けて観察した場合、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも印刷画線１２が凹凸画線１１によって全く隠れず明瞭に見える状態となる。これにより、基材の真上から観察した状態と同様に、模様２３に示されたように有色の印刷画線１２が均一に分散された状態となり潜像模様の「１」は全く視認されない。

【0017】

図８に、特殊潜像模様形成体において、潜像模様「１」におけるＸ－Ｘ線に沿う位置における凹凸画線１１と印刷画線１２との間で最も望ましくない相対的位置、すなわち潜像模様が全く視認されない状態で配置された状態を示す。ここで、凹凸画線１１から印刷画線１２までの距離をＺ３とする。

【0018】

視点Ｅ１から基材を所定角度に傾けて観察した場合、印刷画線１２と凹凸画線１１とが離れているため、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも同様に、印刷画線１２が凹凸画線１１によって隠れることなく視認される。これにより、基材の真上から観察した状態と同様に、模様２３に示されたように有色の印刷画線１２が均一に分散された状態となり潜像模様の「１」は全く視認されない。さらに基材を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも印刷画線１２が凹凸画線１１によって完全に隠れた状態となり、模様αに示されたように有色の印刷画線１２が全く見えず基材と同一色の凹凸画線１１のみが見えるため潜像模様の「１」は全く視認されない。

【0019】

視点Ｅ２から基材を所定角度に傾けて観察した場合、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも印刷画線１２が凹凸画線１１によって全く隠れず明瞭に見える状態となるため、基材の真上から観察した状態と同様に、模様２３に示されたように有色の印刷画線１２が均一に分散された状態となり潜像模様の「１」は全く視認されない。さらに基材を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域とも印刷画線１２が凹凸画線１１によって完全に隠れた状態となり、模様βに示されたように有色の印刷画線１２が全く見えず基材と同一色の凹凸画線１１のみが見えるため潜像模様の「１」は全く視認されない。

【0020】

さらに図８の状態に対して観察角度の違いによる潜像模様の視認原理を図９に示す。図９（ａ）は、視点と基材４との小さい角度ウからの視点Ｅ１'と、視点と基材４との大きな角度アからの視点Ｅ１、更に視点Ｅ１から視点Ｅ１'までの間の角度イのそれぞれの観察状態を示す。また、図９（ｂ）は、視点Ｅ１'、視点Ｅ１及び視点Ｅ１'から視点Ｅ１までのそれぞれの基材との角度を断面図として示したものである。

【0021】

図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、潜像模様を形成するＡ領域において、基材４に対して垂直方向の真上から、凹凸画線１１の死角となって印刷画線１２の一部が見えなくなった位置までの基材４との角度アの視点Ｅ１と、背景を形成するＢ領域において、基材４の水平面方向から、凹凸画線１１の死角から印刷画線１２の一部が見える位置までの基材４との角度ウの視点Ｅ１'では、いずれも潜像模様は確認できない。ただし、視点Ｅ１'から視点Ｅ１の間の角度イの範囲では、凹凸画線１１により印刷画線１２の一部が死角となって一部のみが見えることとなり、潜像模様がネガ模様として確認できる。

【0022】

前述した図６を用いて説明した望ましい相対的位置における視点Ｅ１から視点Ｅ１'までの潜像模様を確認できる角度イの範囲は大きく、図９を用いて説明した望ましくない相対的位置における視点Ｅ１'から視点Ｅ１までの潜像模様を確認できるかくどイの範囲は狭い。したがって、本発明では、この潜像模様が確認できる角度イをいかに大きく確保できるように画線構成をとるかというところがポイントとなる。

【0023】

このように従来の特殊潜像模様形成体では、印刷画線と凹凸画線との相対的位置にずれがあると潜像模様が視認されないため、両者を高い精度で配置しなければならなかった。その結果、コストの上昇を招いていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0024】

【文献】特許第２６１５４０１号

【文献】特許第２６０００９４号

【文献】特許第４７３４６１６号

【文献】特許第５０６２６４５号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0025】

上述したように、従来の特殊潜像模様形成体では、印刷画線と凹凸画線との相対的位置を高い精度で配置しなければならず、コストの上昇を招くという課題があった。本発明は上記事情に鑑み、印刷画線と凹凸画線との相対的位置に高い精度を要求することなく潜像模様を視認することが可能であり、その結果コストを低減することができる特殊潜像模様形成体を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0026】

本発明の特殊潜像模様形成体は、潜像模様が形成された潜像領域と、背景領域とが配置された基材と、基材の表面上で、凹断面又は凸断面を有し、基材と同一色を有し、所定ピッチで一方向に沿って配置された凹凸画線と、基材の表面上で、基材と異なる色を有し、所定ピッチで一方向に沿って配置された印刷画線と、を備え、凹凸画線は、潜像領域において形成された第１の凹凸画線と、背景領域において形成された第２の凹凸画線とを有し、第１の凹凸画線と第２の凹凸画線とはそれぞれの位相が相違し印刷画線に対する相対的位置が相違することによって、基材を傾けて観察した場合に潜像模様が視認され、凹凸画線は、第１の凹凸画線に対して、第２の凹凸画線の中心線を境に線対称となる第３の凹凸画線、又は第２の凹凸画線に対して、第１の凹凸画線の中心を境に線対称となる第４の凹凸画線をさらに備えることを特徴とする。

【0027】

また、本発明の特殊潜像模様形成体は、背景領域と潜像領域との間にさらに輪郭領域が設けられており、凹凸画線は、郭領域において、位相が連続的に変化して第１の凹凸画線と第２の凹凸画線とに連結する第５の凹凸画線をさらに備え、凹凸画線は、輪郭領域において、位相が連続的に変化して第２の凹凸画線と第３の凹凸画線とに連結する第６の凹凸画線、又は位相が連続的に変化して第４の凹凸画線と第１の凹凸画線とに連結する第６の凹凸画線をさらに備えることを特徴とする。

【0028】

また、本発明の特殊潜像模様形成体は、背景領域と潜像領域との間にさらに輪郭領域が設けられており、凹凸画線は、輪郭領域において、第１の凹凸画線の位相と第２の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第７の凹凸画線をさらに備え、凹凸画線は、輪郭領域において、第２の凹凸画線の位相と第３の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第８の凹凸画線、又は第１の凹凸画線の位相と第４の凹凸画線の位相との間の位相を有する少なくとも１本の第９の凹凸画線をさらに備えたことを特徴とする。

【0029】

さらに、本発明の特殊潜像模様形成体は、凹凸画線は、すき入れ、エンボス、印刷等によって形成されたことを特徴とする。

【発明の効果】

【0030】

本発明の特殊潜像模様形成体によれば、印刷画線と凹凸画線との相対的位置に高い精度を要求することなく潜像模様を視認することが可能であり、コスト低減が可能である。

【図面の簡単な説明】

【0031】

【図1】従来の特殊潜像模様形成体における凹凸画線を示した平面図、部分拡大図及び縦断面図。

【図2】同特殊潜像模様形成体における印刷画線を示した平面図。

【図3】同特殊潜像模様形成体において凹凸画線の上に印刷画線が形成される積層順を示した平面図。

【図4】同特殊潜像模様形成体で形成された潜像模様の一例を示した説明図。

【図5】同特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線とが最も望ましい相対的位置で配置された状態を示した平面図。

【図6】同特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線とが最も望ましい相対的位置で配置された状態における観察状態を示した平面図。

【図7】同特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線とがやや望ましくない相対的位置で配置された状態を示した平面図。

【図8】同特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線とが最も望ましくない相対的位置で配置された状態を示した平面図。

【図9】同特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線とが最も望ましくない相対的位置で配置された状態における観察状態を示した平面図。

【図10】比較例としての特殊潜像模様形成体における凹凸画線を示した平面図。

【図11】本発明の第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体における凹凸画線を示した平面図。

【図12】上記第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線との相対的位置の一例と、視認状態とを示した平面図。

【図13】上記第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線との相対的位置の他の例と、視認状態とを示した平面図。

【図14】本発明の第２の実施の形態による特殊潜像模様形成体における凹凸画線を示した平面図。

【図15】上記第２の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線との相対的位置の一例と、視認状態とを示した平面図。

【図16】本発明の第３の実施の形態による特殊潜像模様形成体における凹凸画線を示した平面図。

【図17】上記第３の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線と印刷画線との相対的位置の一例と、視認状態とを示した平面図。

【発明を実施するための形態】

【0032】

本発明の一実施の形態による特殊潜像模様形成体について、図面を参照して説明する。本発明は、以下に述べる実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に含まれる様々な形態が含まれる。

【0033】

（１）第１の実施の形態
先ず、比較例としての特殊潜像模様形成体における凹凸画線を図１０に示す。この比較例は、図１に示された従来の特殊潜像模様形成体に相当し、潜像模様が形成され図中中央に位置するＡ領域に凹凸画線１０２を有し、背景模様が形成され図中左右の両端に位置するＢ領域に凹凸画線１０１を有する。さらにＡ領域とＢ領域の間に、潜像模様の輪郭に相当するものが形成されたＣ領域に凹凸画線１０３を有する。

【0034】

凹凸画線１０１の中心は中心線１０１ＣＬと一致し、凹凸画線１０２の中心は中心線１０１ＣＬに対して図中上下方向に偏移しており、その結果、凹凸画線１０１に対して位相がずれている。

【0035】

これに対し、本発明の第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体は、図１１に示されたように、凹凸画線１０１、１０２、１０３に加えて、Ａ領域に凹凸画線１０２Ａ、Ｃ領域に凹凸画線１０３Ａを有する。この凹凸画線１０２Ａは、その中心が、凹凸画線１０２に対して中心線１０１ＣＬを境に線対称となるように設けられ、凹凸画線１０３Ａは、その中心が、凹凸画線１０３に対して中心線１０１ＣＬを境に線対称となるように設けられている。

【0036】

この第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線１０１、１０２、１０２Ａと、印刷画線２０１との相対的位置の一例と、視認状態とを図１２に示す。この例では、印刷画線２０１がＡ領域において凹凸画線１０２Ａと少なくとも一部が重複し、印刷画線２０１がＣ領域において凹凸画線１０３Ａと少なくとも一部が重複するように位置している。

【0037】

特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向から観察すると、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域のいずれにおいても印刷画線２０１が凹凸画線１０１、１０２、１０２Ａ、１０３、１０３Ａによって隠れることなく見える。これにより、模様３０２のように潜像模様が視認されず印刷画線２０１による有色の万線模様のみが視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けて観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０２、１０２Ａによって隠れて見えず、Ｂ領域及びＣ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０１、１０３、１０３Ａによって隠れることなく見える。これにより、模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。

【0038】

また、特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向と反対のＥ２方向から観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０２、１０２Ａによって隠れて見えないが、Ｂ領域及びＣ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０１、１０３、１０３Ａによって隠れることなく見えて模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。

【0039】

次に、この第１の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線１０１、１０２、１０２Ａ、１０３、１０３Ａと、印刷画線２０１との相対的位置の他の例と、視認状態とを図１３に示す。

【0040】

この例では、印刷画線２０１がＡ領域において凹凸画線１０２Ａと、Ｃ領域において凹凸画線１０３Ａとほぼ全てが重複するように位置している。

【0041】

特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向から観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０２、１０２Ａによって隠れて見えないが、Ｂ領域及びＣ領域では凹凸画線１０１、１０３、１０３Ａによって印刷画線２０１が隠れることなく見えるため、模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０２、１０２Ａ、１０１によって隠れて見えず、Ｃ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１０３、１０３Ａによって隠れることなく見える。このため、模様３０４のように潜像模様の輪郭のみが視認される。

【0042】

また、特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向と反対のＥ２方向から観察すると、Ｂ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１０１によって隠れて見えず、Ａ領域、Ｃ領域では印刷画線が凹凸画線１０２、１０２Ａ、１０３、１０３Ａによって隠れることなく見えて、模様３０３のようにポジで潜像模様が視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１０２、１０２Ａ、１０１によって隠れて見えず、Ｃ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１０３、１０３Ａによって隠れることなく見える。これにより、模様３０４のように潜像模様の輪郭のみが視認される。

【0043】

なお、図１３に示すように、本発明において、凹凸画線１０１から位相がずれて配置されている凹凸画線１０２と、隣り合う凹凸画線１０１から位相がずれて配置されている凹凸画線１０２Ａは、共有することでもよい。このように凹凸画線１０２と凹凸画線１０２Ａを共有することで、凹凸画線１０１同士の間のピッチＰ１を狭く設定することも可能となり、潜像模様を狭い領域の範囲内に形成することができ、併せて、解像度の高い潜像模様を形成することができる。後述する別の実施の形態においても、同様である。

【0044】

（２）第２の実施の形態
本発明の第２の実施の形態による特殊潜像模様形成体は、図１４に示されたように、Ａ領域に凹凸画線１１２、Ｂ領域に凹凸画線１１１を有する。凹凸画線１１１の中心は中心線１１１ＣＬと一致し、凹凸画線１１２の中心は中心線１１１ＣＬに対して図中上下方向に偏移しており、その結果、凹凸画線１１１に対して位相がずれている。

【0045】

また、上記第１の実施の形態では、Ｂ領域の凹凸画線１０１とＡ領域の凹凸画線１０２との間で、位相が連続的に偏位して凹凸画線１０１と凹凸画線１０２とを連結する凹凸画線１０３がＣ領域に設けられている。このＣ領域には、Ａ領域が形成する潜像模様の輪郭に相当するものが形成される。これに対し第２の実施の形態では、Ｂ領域の凹凸画線１１１とＡ領域の凹凸画線１１２との間で位相が断続的に偏位し、輪郭を形成する領域が存在しない。

【0046】

そして凹凸画線１１２Ａが、その中心が凹凸画線１１２に対して中心線１１１ＣＬを境に線対称となるように設けられている。

【0047】

この第２の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線１１１、１１２、１１２Ａと、印刷画線２０１との相対的位置の一例と、視認状態とを図１５に示す。

【0048】

この例では、印刷画線２０１がＡ領域において凹凸画線１１２Ａと少なくとも一部が重複するように位置している。

【0049】

特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向から観察すると、Ｂ領域、Ａ領域、Ｃ領域のいずれにおいても印刷画線２０１が凹凸画線１１１、１１２、１１２Ａによって隠れることなく見える。これにより、模様３０２のように潜像模様が視認されず印刷画線２０１による有色の万線模様のみが視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けて観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１１２、１１２Ａによって隠れて見えず、Ｂ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１１１によって隠れることなく見える。これにより、模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。

【0050】

また、特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向と反対のＥ２方向から観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１１２、１１２Ａによって隠れて見えず、Ｂ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１１１によって隠れることなく見える。これにより、模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。

【0051】

（３）第３の実施の形態
本発明の第３の実施の形態による特殊潜像模様形成体は、図１６に示されたように、Ａ領域に凹凸画線１２２、Ｂ領域に凹凸画線１２１、Ｃ領域に凹凸画線１２３を有する。

【0052】

凹凸画線１２１の中心は中心線１２１ＣＬと一致し、凹凸画線１２２の中心は中心線１２１ＣＬに対して図中上下方向に偏移しており、その結果、凹凸画線１２１に対して位相がずれている。上記第１の実施の形態では、Ｂ領域の凹凸画線１０１とＡ領域の凹凸画線１０２との間に位相が連続的に偏位する凹凸画線１０３が設けられた輪郭領域に相当するＣ領域が存在する。そして、凹凸画線１０３は凹凸画線１０１と凹凸画線１０２とを連結する。同様に、凹凸画線１０３Ａは凹凸画線１０１と凹凸画線１０２Ａとを連結する。

【0053】

これに対し第３の実施の形態では、Ｂ領域の凹凸画線１２１とＡ領域の凹凸画線１２２との間に、断続的に位相が偏位する凹凸画線１２３が設けられた輪郭領域に相当するＣ領域が存在する。

【0054】

そして凹凸画線１２２Ａが、その中心が凹凸画線１２２に対して中心線１２１ＣＬを境に線対称となるように設けられており、さらに凹凸画線１２３Ａが、その中心が凹凸画線１２３に対して中心線１２１ＣＬを境に線対称となるように設けられている。Ｃ領域において、凹凸画線１２３は凹凸画線１２１と凹凸画線１２２との間の位相を有し、凹凸画線１２３Ａは凹凸画線１２１と凹凸画線１２２Ａとの間の位相を有する。

【0055】

この第３の実施の形態による特殊潜像模様形成体において、凹凸画線１２１、１２２、１２２Ａ、１２３、１２３Ａと、印刷画線２０１との相対的位置の一例と、視認状態とを図１７に示す。

【0056】

この例では、印刷画線２０１がＡ領域において凹凸画線１２２Ａの一部と、Ｃ領域において凹凸画線１２３Ａのほぼ全てと重複するように位置している。

【0057】

特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向から観察すると、Ａ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１２２、１２２Ａによって隠れて見えないが、Ｂ領域及びＣ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１２１、１２３、１２３Ａによって隠れることなく見えて模様３０１のようにネガで潜像模様が視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向から観察すると、Ａ領域、Ｂ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１２２、１２２Ａ、１２１によって隠れて見えず、Ｃ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１２３、１２３Ａによって隠れることなく見える。このため、模様３０４のように潜像模様の輪郭のみが視認される。

【0058】

特殊潜像模様形成体を傾けてＥ１方向と反対のＥ２方向から観察すると、Ａ領域、Ｃ領域では印刷画線２０１が凹凸画線１２２、１２２Ａ、１２３、１２３Ａによって隠れることなく見えて、Ｂ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１２１によって隠れて見えず、模様３０３のようにポジで潜像模様が視認される。さらに特殊潜像模様形成体を傾けて観察すると、Ａ領域、Ｂ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１２２、１２２Ａ、１２１によって隠れて見えず、Ｃ領域において印刷画線２０１が凹凸画線１２３、１２３Ａによって隠れることなく見える。これにより、模様３０４のように潜像模様の輪郭のみが視認される。

【0059】

以上説明したように、本実施の形態によれば、印刷画線と凹凸画線との相対的位置に高い精度を要求することなく潜像模様を視認することが可能であり、それによりコストを低減することができる。

【0060】

本発明の実施の形態について説明したが、この実施の形態は一例として提示したものであり、発明の技術的範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施の形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施の形態やその変形は、発明の技術的範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【0061】

例えば、図１１において凹凸画線１０２及び１０２Ａ、１０３及び１０３Ａは、それぞれ凹凸画線１０１と同一の画線幅であってもよい。しかしながら、凹凸画線をすき入れ、エンボス、印刷等で形成した場合に、凹凸画線を形成していない箇所と比較して濃度や光の透過度が変化する場合がある。そこで、このような変化が視認性に与える影響を緩和するように、例えば、凹凸画線１０２と凹凸画線１０２Ａの画線幅の合計値が凹凸画線１０１と一致し、同様に凹凸画線１０３と凹凸画線１０３Ａの画線幅の合計値が凹凸画線１０１と一致するように形成してもよい。これにより、単位面積当たりの凹凸画線の面積率が、凹凸画線１０２Ａ、１０３Ａを設けた場合と設けない場合とで変化せず、視認性への影響を緩和することができる。

【0062】

また上記第１の実施の形態では、潜像模様が形成されたＡ領域において凹凸画線１０２と線対称となる凹凸画線１０２Ａを形成し、上記第２の実施の形態では、Ａ領域において凹凸画線１１２と線対称となる凹凸画線１１２Ａを形成し、上記第３の実施の形態では、潜像模様が形成されたＡ領域において凹凸画線１２２と線対称となる凹凸画線１２２Ａを形成している。しかしながら、Ａ領域の替わりに背景模様が形成されたＢ領域において凹凸画線１０１、１１１、１２１とそれぞれ線対称となる凹凸画線を形成してもよい。

【符号の説明】

【0063】

１１、１０１、１０２、１０３、１１１、１１２、１２１、１２２、１２３、１０２Ａ、１０３Ａ、１１２Ａ、１２３Ａ 凹凸画線
１０１ＣＬ、１１１ＣＬ、１２１ＣＬ 中心線
１２、２０１ 印刷画線
３０１～３０４ 模様
４ 基材
Ｅ１、Ｅ２ 視点
Ａ 潜像模様が形成された領域
Ｂ 背景模様が形成された領域
Ｃ 輪郭模様が形成された領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】