特許7398934IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

表示装置用支持基板、この表示装置用支持基板を備える有機EL表示装置、および有機EL表示装置の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、従来の有機樹脂層を含むフレキシブル有機EL表示装置用支持基板は、薄膜トランジスタ(以下、「TFT」ともいう)回路層を形成する際におよそ450℃に焼成されるため、基板に含まれる有機樹脂層が黄変してしまうという問題があった。そのため、例えば、スマートフォンやタブレットなど、カメラモジュールと表示装置を搭載している携帯情報端末等の電子機器において、表示装置の有機樹脂層が黄変してしまっている場合、表示装置の背面にカメラモジュールを重ねて設けることができないという問題があった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討し、10~150μmの厚さのTFTガラス基板と、前記TFTガラス基板に接して設けられた150nm以下の厚さの高耐熱性を有するポリイミド樹脂層との組み合わせをを含む表示装置用支持基板により、高温に晒された場合であっても表示装置用支持基板の着色を抑制でき、その結果課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の表示装置用支持基板によれば、薄型化およびフレキシブル化を実現しつつ、高い透明性を有する有機EL表示装置を提供できる。また、本発明の有機EL表示装置によれば、本発明の表示装置用支持基板を備えるので、薄型であり、フレキシブル性を有するとともに、高い透明性を有する有機EL表示装置を提供できる。また、本発明の有機EL表示装置の製造方法によれば、薄型であり、フレキシブル性を有するとともに、高い透明性を有する有機EL表示装置を製造できる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図1は、本発明の表示装置用支持基板の構造を示す模式的な断面図である。
【図2】 図2は、本発明の有機EL表示装置の構造を示す模式的な断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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