特許 7403634 除去加工装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-12-14

(45)【発行日】2023-12-22

(54)【発明の名称】除去加工装置

(51)【国際特許分類】

   B24B 55/06 20060101AFI20231215BHJP

   B24B 55/02 20060101ALI20231215BHJP

   B24B 41/06 20120101ALI20231215BHJP

   B24B 7/00 20060101ALI20231215BHJP

   B24B 7/04 20060101ALI20231215BHJP

   B23Q 11/00 20060101ALI20231215BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20231215BHJP

【ＦＩ】

B24B55/06

B24B55/02 B

B24B41/06 L

B24B7/00 A

B24B7/04 A

B23Q11/00 N

B23Q11/00 Q

H01L21/304 622G

H01L21/304 631

【請求項の数】 16

(21)【出願番号】P 2022509450

(86)(22)【出願日】2021-03-02

(86)【国際出願番号】 JP2021007824

(87)【国際公開番号】W WO2021192837

(87)【国際公開日】2021-09-30

【審査請求日】2022-09-12

(31)【優先権主張番号】P 2020052488

(32)【優先日】2020-03-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2020161269

(32)【優先日】2020-09-25

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】坂本 貴浩

(72)【発明者】

【氏名】児玉 宗久

【審査官】須中 栄治

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１３－１８８８１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０２７５９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－０７９７４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２４７２８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－０３６１６２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０５８９９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－２１２８３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－２５５９５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－２２９９０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－１１４７６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０２－２６８４３２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２４Ｂ５／００－７／３０

Ｂ２４Ｂ４１／００－５７／０４

Ｂ２３Ｑ１１／００－１３／００

Ｈ０１Ｌ２１／３０４；２１／４６３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

鉛直な回転中心線を中心に回転する水平なテーブルと、
前記テーブルの回転中心線の周りに間隔をおいて配置される複数のチャックと、
前記チャックで保持された基板に加工液を供給するノズルと、
前記テーブルの上方にて前記加工液を受けるテーブルカバーと、を有し、
前記テーブルカバーは、前記テーブルの回転中心線から遠いほど高さが低く且つ前記テーブルの回転方向に高さが一定である円錐形状の傾斜部を含む、除去加工装置であって、
前記除去加工装置は、前記テーブルカバーの前記傾斜部から上方に突出し、前記チャックの周囲にて前記加工液を受けるチャックカバーを更に有し、
前記チャックカバーは、前記テーブルカバーの前記傾斜部から上方に突出する筒部を含み、
前記テーブルカバーの前記傾斜部には、前記筒部が挿通される穴が形成され、
前記除去加工装置は、前記テーブルの上方であって前記テーブルカバーの下方にて前記加工液を受けるベースカバーと、前記テーブルカバーの前記傾斜部の下方にて前記チャックカバーの前記筒部が載置されるスタンドと、を有し、
前記スタンドは、前記ベースカバーの上面に突設される、除去加工装置。

【請求項2】

前記チャックカバーは、前記チャックの回転中心線から遠いほど高さが低く且つ前記チャックの回転方向に高さが一定である円錐形状の環状部を有し、
前記筒部は、前記環状部の下縁から下方に延びる、請求項１に記載の除去加工装置。

【請求項3】

前記チャックカバーは、前記環状部と前記筒部の角を丸める曲線部と、を含む、請求項２に記載の除去加工装置。

【請求項4】

前記チャックカバーは、前記筒部の外周に水平に設けられる板状部を更に含み、
前記テーブルカバーの前記傾斜部の前記穴の開口縁には、前記チャックカバーの前記板状部が通過する切り欠きが形成され、
前記チャックカバーの前記板状部は、前記スタンドの上に載置され、前記スタンドに対して取り外し可能に取り付けられる、請求項１～３のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【請求項5】

前記チャックが取り付けられる回転台と、
前記回転台の回転中心から鉛直下方に延びる回転軸と、
前記回転台の周縁から下方に延びる外筒部と、
を有し、
前記ベースカバーは、前記テーブルの上方に水平に配置される円盤部と、前記回転軸が挿通される開口部と、前記開口部の開口縁から上方に延びる内筒部と、を含み、
前記内筒部は、前記外筒部の内側に配置される、請求項１～４のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【請求項6】

鉛直な回転中心線を中心に回転する水平なテーブルと、
前記テーブルの回転中心線の周りに間隔をおいて配置される複数のチャックと、
前記チャックで保持された基板に加工液を供給するノズルと、
前記テーブルの上方にて前記加工液を受けるテーブルカバーと、を有し、
前記テーブルカバーは、前記テーブルの回転中心線から遠いほど高さが低く且つ前記テーブルの回転方向に高さが一定である円錐形状の傾斜部を含む、除去加工装置であって、
前記除去加工装置は、前記テーブルの上方であって前記テーブルカバーの下方にて前記加工液を受けるベースカバーと、前記チャックが取り付けられる回転台と、前記回転台の回転中心から鉛直下方に延びる回転軸と、前記回転台の周縁から下方に延びる外筒部と、を有し、
前記ベースカバーは、前記テーブルの上方に水平に配置される円盤部と、前記回転軸が挿通される開口部と、前記開口部の開口縁から上方に延びる内筒部と、を含み、
前記内筒部は、前記外筒部の内側に配置される、除去加工装置。

【請求項7】

鉛直な回転中心線を中心に回転する水平なテーブルと、
前記テーブルの回転中心線の周りに間隔をおいて配置される複数のチャックと、
前記チャックで保持された基板に加工液を供給するノズルと、
前記テーブルの上方にて前記加工液を受けるテーブルカバーと、を有し、
前記テーブルカバーは、前記テーブルの回転中心線から遠いほど高さが低く且つ前記テーブルの回転方向に高さが一定である円錐形状の傾斜部を含む、除去加工装置であって、
前記チャックは、前記基板を保持する保持台と、前記保持台の下縁に設けられるフランジと、を含み、
前記除去加工装置は、前記チャックを載せる回転台と、前記チャックの前記フランジを前記回転台に対して固定する固定具と、前記チャックと共に回転するチャックカバーと、を備え、
前記チャックカバーは、中央に前記保持台の入る開口部を形成する環状の庇部を含み、
前記庇部は、前記フランジよりも上方に配置され、前記固定具を上方から覆う、除去加工装置。

【請求項8】

前記チャックカバーの前記庇部と、前記チャックの前記フランジとの間に隙間を形成するスペーサを備える、請求項７に記載の除去加工装置。

【請求項9】

前記テーブルは、複数の前記回転台を介して複数の前記チャックを回転自在に支持し、前記チャックの回転中心線とは別の回転中心線を中心に回転し、
前記テーブルカバーの前記傾斜部は、頂部と裾部の間に、前記回転台の入る開口部を形成し、
前記テーブルカバーは、前記開口部の開口縁から上方に立ち上がる内筒部を含み、
前記チャックカバーは、前記庇部の周縁から前記内筒部の上端よりも下方に延び前記内筒部を囲む外筒部を含む、請求項７又は８に記載の除去加工装置。

【請求項10】

前記テーブルカバーの前記内筒部は、前記テーブルカバーの前記傾斜部に対して固定された第１円弧筒部と、前記第１円弧筒部に対して取り外し可能に連結される第２円弧筒部と、前記第１円弧筒部と前記第２円弧筒部を環状に連結する連結部と、を含む、請求項９に記載の除去加工装置。

【請求項11】

前記第２円弧筒部は、前記第１円弧筒部よりも、前記テーブルの径方向外方に配置され、
前記第２円弧筒部の下縁の少なくとも一部は、前記回転台の上面よりも下方に配置される、請求項１０に記載の除去加工装置。

【請求項12】

前記テーブルカバーは、前記傾斜部の下縁から下方に延びる直線部と、前記傾斜部と前記直線部の角を丸める曲線部と、を含む、請求項１～１１のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【請求項13】

前記テーブルカバーは、前記テーブルの回転方向に隣り合う前記チャックの間にて複数の分割カバーに分割され、
複数の前記分割カバーは、個別に、前記テーブルに対して取り外し可能に取り付けられる、請求項１～１２のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【請求項14】

前記テーブルカバーの前記傾斜部の裾部に対して上方から洗浄液を供給する第２ノズルを含む、請求項１～１３のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【請求項15】

複数の前記チャックを収容する筐体と、前記筐体の内部を前記テーブルの前記回転中心線の周りに複数の部屋に仕切る固定仕切壁と、を備え、
複数の前記部屋は、前記基板の研削が行われる研削室と、前記基板の搬入出が行われる搬入出室と、を含み、
前記第２ノズルは、前記研削室の前記搬入出室との境界付近に位置する、請求項１４に記載の除去加工装置。

【請求項16】

前記テーブルカバーの前記傾斜部の頂部と前記チャックの間にて、前記傾斜部に対して洗浄液を供給する第３ノズルを備える、請求項１～１５のいずれか１項に記載の除去加工装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、除去加工装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１に記載の加工装置は、第１搬送ユニットと、位置調整機構と、第２搬送ユニットと、ターンテーブルと、チャックテーブルと、加工ユニットと、洗浄機構とを備える。第１搬送ユニットは、カセットから位置調整機構に基板を搬送する。位置調整機構は、基板の位置を調整する。第２搬送ユニットは、位置調整機構からターンテーブル上のチャックテーブルに基板を搬送する。チャックテーブルが基板を吸引保持すると、ターンテーブルが回転し、基板が加工ユニットの下方に配置される。加工ユニットは、研削ホイールで基板を研削する。第２搬送ユニットは、研削後の基板を吸引保持して旋回し、洗浄機構に搬送する。洗浄機構は、研削後の基板を洗浄する。第１搬送ユニットは、洗浄後の基板を洗浄機構からカセットに搬送する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】日本国特開２０１９－１８５６４５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示の一態様は、加工屑を含む加工液がカバーの上に残るのを抑制し、カバーの上に加工屑が堆積するのを抑制する、技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様に係る除去加工装置は、鉛直な回転中心線を中心に回転する水平なテーブルと、前記テーブルの回転中心線の周りに間隔をおいて配置される複数のチャックと、前記チャックで保持された基板に加工液を供給するノズルと、前記テーブルの上方にて前記加工液を受けるテーブルカバーと、を有する。前記テーブルカバーは、前記テーブルの回転中心線から遠いほど高さが低く且つ前記テーブルの回転方向に高さが一定である円錐形状の傾斜部を含む。前記除去加工装置は、前記テーブルカバーの前記傾斜部から上方に突出し、前記チャックの周囲にて前記加工液を受けるチャックカバーを更に有する。前記チャックカバーは、前記テーブルカバーの前記傾斜部から上方に突出する筒部を含む。前記テーブルカバーの前記傾斜部には、前記筒部が挿通される穴が形成される。前記除去加工装置は、前記テーブルの上方であって前記テーブルカバーの下方にて前記加工液を受けるベースカバーと、前記テーブルカバーの前記傾斜部の下方にて前記チャックカバーの前記筒部が載置されるスタンドと、を有する。前記スタンドは、前記ベースカバーの上面に突設される。

【発明の効果】

【0006】

本開示の一態様によれば、加工屑を含む加工液がカバーの上に残るのを抑制でき、カバーの上に加工屑が堆積するのを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、一実施形態に係る研削装置の平面図である。

【図2】図２は、研削ユニットの一例を示す断面図である。

【図3】図３は、研削位置カバーの一例を示す斜視図である。

【図4】図４は、テーブルカバーとチャックカバーとベースカバーとの一例を示す断面図である。

【図5】図５は、テーブルカバーとチャックカバーとベースカバーとの変形例を示す断面図である。

【図6】図６は、チャックカバーとテーブルカバーとベースカバーとの第２変形例を示す断面図である。

【図7】図７（Ａ）は図６に示す内筒部の一例を示す上面図であり、図７（Ｂ）は図７（Ａ）の内筒部の一部を取り外した状態を示す上面図である。

【図8】図８は、図６に示す内筒部の一部を取り外した状態の一例を示す断面図である。

【図9】図９は、洗浄液の流れの一例を示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面において同一の又は対応する構成には同一の符号を付し、説明を省略することがある。本明細書において、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は互いに垂直な方向である。Ｘ軸方向およびＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向である。

【0009】

先ず、図１を参照して、研削装置１について説明する。研削装置１は、基板Ｗを研削する。基板Ｗは、シリコンウェハ若しくは化合物半導体ウェハ等の半導体基板、又はガラス基板を含む。基板Ｗは、半導体基板又はガラス基板の表面に形成されるデバイス層を更に含んでもよい。デバイス層は、電子回路を含む。また、基板Ｗは、複数の基板を接合した重合基板であってもよい。研削は、研磨を含む。研削に用いる砥粒は、固定砥粒、及び遊離砥粒のいずれでもよい。研削装置１は、例えば、テーブル１０と、４つのチャック２０と、３つの研削ユニット３０と、を有する。

【0010】

テーブル１０は、回転中心線Ｒ１の周りに４つのチャック２０を等間隔で保持し、回転中心線Ｒ１を中心に回転する。上方から見て、テーブル１０の回転方向は、時計回り方向と、反時計回り方向とに切り替えられる。４つのチャック２０のそれぞれは、テーブル１０と共に回転し、搬入出位置Ａ０と、１次研削位置Ａ１と、２次研削位置Ａ２と、３次研削位置Ａ３と、搬入出位置Ａ０とにこの順番で移動する。

【0011】

搬入出位置Ａ０は、チャック２０に対する基板Ｗの搬入出が行われる位置であり、基板Ｗの搬入が行われる位置と、基板Ｗの搬出が行われる位置とを兼ねる。なお、本実施形態では搬入位置と搬出位置とは同じ位置であるが、搬入位置と搬出位置とは異なる位置であってもよい。１次研削位置Ａ１は、基板Ｗの１次研削が行われる位置である。２次研削位置Ａ２は、基板Ｗの２次研削が行われる位置である。３次研削位置Ａ３は、基板Ｗの３次研削が行われる位置である。

【0012】

４つのチャック２０は、それぞれの回転中心線Ｒ２（図２参照）を中心に回転自在に、テーブル１０に取り付けられる。１次研削位置Ａ１、２次研削位置Ａ２および３次研削位置Ａ３において、チャック２０はそれぞれの回転中心線Ｒ２を中心に回転する。

【0013】

１つの研削ユニット３０は、１次研削位置Ａ１にて、基板Ｗを１次研削する。別の研削ユニット３０は、２次研削位置Ａ２にて、基板Ｗを２次研削する。残りの研削ユニット３０は、３次研削位置Ａ３にて、基板Ｗを３次研削する。

【0014】

研削ユニット３０は、研削工具Ｄを駆動する工具駆動部である。工具駆動部３０は、研削工具Ｄを回転させたり、昇降させたりする。なお、研削ユニット３０の数は、１つ以上であればよい。また、チャック２０の数は、研削ユニット３０の数よりも多ければよい。

【0015】

次に、図２を参照して研削ユニット３０について説明する。研削ユニット３０は、研削工具Ｄが装着される可動部３１を含む。研削工具Ｄは、基板Ｗに接触させられ、基板Ｗを研削する。研削工具Ｄは、例えば円盤状の研削ホイールＤ１と、研削ホイールＤ１の下面にリング状に配列される複数の砥石Ｄ２と、を含む。

【0016】

可動部３１は、研削工具Ｄが装着されるフランジ３２と、フランジ３２が下端に設けられるスピンドル軸３３と、スピンドル軸３３を回転させるスピンドルモータ３４と、を有する。フランジ３２は水平に配置され、その下面に研削工具Ｄが装着される。スピンドル軸３３は鉛直に配置される。スピンドルモータ３４は、スピンドル軸３３を回転し、フランジ３２に装着された研削工具Ｄを回転させる。研削工具Ｄの回転中心線Ｒ３は、スピンドル軸３３の回転中心線である。

【0017】

研削ユニット３０は、更に、可動部３１を昇降させる昇降部３５を有する。昇降部３５は、例えば、鉛直なＺ軸ガイド３６と、Ｚ軸ガイド３６に沿って移動するＺ軸スライダ３７と、Ｚ軸スライダ３７を移動させるＺ軸モータ３８と、を有する。Ｚ軸スライダ３７には可動部３１が固定され、Ｚ軸スライダ３７と共に可動部３１及び研削工具Ｄが昇降する。昇降部３５は、研削工具Ｄの位置を検出する位置検出器３９を更に有する。位置検出器３９は、例えばＺ軸モータ３８の回転を検出し、研削工具Ｄの位置を検出する。

【0018】

昇降部３５は、研削工具Ｄを待機位置から下降させる。研削工具Ｄは、下降しながら回転し、回転する基板Ｗの上面と接触し、基板Ｗの上面全体を研削する。基板Ｗの厚みが設定値に達すると、昇降部３５は研削工具Ｄの下降を停止する。その後、昇降部３５は、研削工具Ｄを待機位置まで上昇させる。

【0019】

図２に示すように、研削装置１は、研削位置カバー４０と、ノズル５０とを有する。研削位置カバー４０は、筐体である。研削位置カバー４０は、例えば１次研削位置Ａ１、２次研削位置Ａ２及び３次研削位置Ａ３の上方及び側方を覆う。また、研削位置カバー４０は、チャック２０と、研削工具Ｄと、ノズル５０とを収容する。ノズル５０は、チャック２０で保持された基板Ｗに、研削液を供給する。

【0020】

研削位置カバー４０は、研削屑等のパーティクル、及び研削液が外部に飛散するのを抑制する。研削位置カバー４０は、水平に配置される上面パネル４１と、鉛直に配置される側面パネル４２と、を含む。上面パネル４１には、可動部３１の挿入口４３が形成される。研削位置カバー４０は、内部に、基板Ｗの研削が行われる研削室を形成する。研削位置カバー４０の下部には、不図示の回収パンが設置される。回収パンは、パーティクル及び研削液を回収する。

【0021】

ノズル５０は、研削液を供給する。研削液は、例えば、ＤＩＷ（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ）等の純水である。研削液は、基板Ｗと研削工具Ｄの間に入り込み、研削抵抗を減らし、熱の発生を抑制する。

【0022】

図３に示すように、研削位置カバー４０は、固定仕切壁４５を含む。固定仕切壁４５は、上面パネル４１の下面に設けられる。固定仕切壁４５は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに等間隔で複数配置され、搬入出位置Ａ０と、１次研削位置Ａ１と、２次研削位置Ａ２と、３次研削位置Ａ３とを仕切る。固定仕切壁４５は、上面パネル４１の下面に固定される。上方から見て、固定仕切壁４５は、テーブル１０の径方向（回転中心線Ｒ１に直交する方向）に延びている。

【0023】

図１に示すように、固定仕切壁４５は、例えば、十字状に設けられ、筐体４０の内部を、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに４つの部屋Ｂ０～Ｂ３に仕切る。３つの部屋Ｂ１～Ｂ３は、基板Ｗの研削が行われる研削室である。Ｂ１は１次研削室であり、Ｂ２は２次研削室であり、Ｂ３は３次研削室である。残り１つの部屋Ｂ０は、基板Ｗの搬入出が行われる搬入出室である。基板Ｗの搬入出は、外部の搬送装置とチャック２０とが基板Ｗを受け渡すことを含む。搬入出室Ｂ０は、上方に開放されている。

【0024】

上方から見て、筐体４０の内部は、反時計回り方向に、搬入出室Ｂ０と、１次研削室Ｂ１と、２次研削室Ｂ２と、３次研削室Ｂ３とにこの順番で仕切られている。なお、４つの部屋Ｂ０～Ｂ３の順番は逆でもよく、上方から見て、筐体４０の内部は、時計回り方向に、搬入出室Ｂ０と、１次研削室Ｂ１と、２次研削室Ｂ２と、３次研削室Ｂ３とにこの順番で仕切られていてもよい。なお、部屋の数は、４つには限定されず、２つ以上であればよい。

【0025】

図３に示すように、固定仕切壁４５は、例えば、上面部４６と、側面部４７とを含む。上面部４６は、上面パネル４１の下面に取り付けられ、テーブル１０との間に隙間を形成する。その隙間は、テーブル１０の回転時に、チャック２０及び基板Ｗを通過させるものである。上面部４６の下縁には、基板Ｗとの間を塞ぐ短冊状の可撓性シート４８が設けられる。側面部４７は、側面パネル４２の内壁面に取り付けられる。側面部４７は、上面部４６よりも下方に突出し、テーブル１０の側面と側面パネル４２との間を塞ぐ。

【0026】

一方、回転仕切壁１５は、テーブル１０の上面に設けられ、テーブル１０と共に回転する。回転仕切壁１５は、固定仕切壁４５と同数設けられ、テーブル１０の回転停止時に、固定仕切壁４５の真下に配置される。固定仕切壁４５と回転仕切壁１５とによって、研削室の内部にて発生したパーティクルが研削室の外部に流出するのを抑制できる。例えば、１次研削室Ｂ１及び３次研削室Ｂ３から搬入出室Ｂ０への研削屑等の侵入を抑制し、搬入出室Ｂ０を清浄に保つ。また、粒径の大きい１次研削屑が１次研削室Ｂ１から２次研削室Ｂ２に侵入するのを抑制し、２次研削後の研削面の荒れを抑制する。更に、粒径の大きい２次研削屑が２次研削室Ｂ２から３次研削室Ｂ３に侵入するのを抑制し、３次研削後の研削面の荒れを抑制する。

【0027】

図４に示すように、研削装置１は、テーブルカバー６０を有する。テーブルカバー６０は、テーブル１０の上方にて研削液を受ける。テーブルカバー６０は、テーブル１０に対して固定され、テーブル１０と共に回転する。

【0028】

テーブルカバー６０は、傾斜部６１を有する。傾斜部６１は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１から遠いほど高さが低く、且つテーブル１０の回転方向に高さが一定である円錐形状を有する。円錐形状の傾斜部６１は、その頂端に開口部６１ｂを有してもよい。

【0029】

円錐形状の傾斜部６１は、水平な平板部とは異なり、研削液を重力によって斜め下に排出できる。従って、研削液がテーブルカバー６０上に残ることを抑制でき、研削液に含まれる研削屑の堆積を抑制できる。

【0030】

また、円錐形状の傾斜部６１は、四角錘形状などの角錘形状の傾斜部とは異なり、図３に矢印で示すように研削液を放射状に排出でき、研削液をテーブル１０の回転方向に均等に分散して排出できる。

【0031】

テーブルカバー６０が、円錐形状の傾斜部６１の代わりに、四角錘形状の傾斜部を有する場合、図３に二点鎖線で示す溝Ｇが形成される。溝Ｇの底部にチャック２０が位置しており、チャック２０の近傍に研削液が集まりやすく、研削屑が堆積しやすい。

【0032】

本実施形態によれば、テーブルカバー６０が円錐形状の傾斜部６１を有する。それゆえ、上記の通り、図３に矢印で示すように研削液を放射状に排出でき、チャック２０の近傍に研削屑が堆積するのを抑制できる。

【0033】

研削屑の堆積を抑制できるので、研削装置１の汚れを低減できる。それゆえ、研削工具Ｄの交換、又はチャック２０の交換等のメンテナンスの際に作業者、又は作業ロボットが汚れるのを抑制できる。また、堆積した研削屑が剥がれてチャック２０又は基板Ｗに付着するのを抑制できる。

【0034】

図４に示すように、テーブルカバー６０は、傾斜部６１の下縁から下方に延びる直線部６３を有する。直線部６３は、本実施形態では傾斜部６１の下縁から真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。直線部６３は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１を中心とする筒形状を有する。直線部６３は、傾斜部６１から流れ落ちる研削液を下方に導く。直線部６３は、テーブル１０よりも、テーブル１０の回転中心線Ｒ１から遠くに配置され、研削液をテーブル１０の外に落下させる。

【0035】

テーブルカバー６０は、テーブル１０の回転方向に隣り合うチャック２０の間にて複数（図３には１つのみ図示）の分割カバー６０Ａに分割される。分割カバー６０Ａの数と、チャック２０の数とは、同数である。テーブル１０の回転方向に隣り合う分割カバー６０Ａの間には、回転仕切壁１５が配置される。

【0036】

複数の分割カバー６０Ａは、個別に、テーブル１０に対して取り外し可能に取り付けられる。メンテナンスの際に分割カバー６０Ａを個別に取り外せばよく、テーブルカバー６０の全体をまとめて取り外さずに済むので、作業性を向上できる。

【0037】

図４に示すように、研削装置１は、チャックカバー７０を有する。チャックカバー７０は、テーブルカバー６０の傾斜部６１から上方に突出し、チャック２０の周囲にて研削液を受ける。

【0038】

チャックカバー７０は、チャック２０ごとに設けられる。チャックカバー７０は、チャック２０の回転時にチャック２０に物体が巻き込まれるのを防止する役割も有する。チャックカバー７０は、テーブル１０に対して固定され、テーブル１０と共に回転する。

【0039】

チャックカバー７０は、環状部７１を有する。環状部７１は、チャック２０の回転中心線Ｒ２から遠いほど高さが低く、且つチャック２０の回転方向に高さが一定である円錐形状を有する。

【0040】

円錐形状の環状部７１は、水平な平板部とは異なり、研削液を重力によって斜め下に排出できる。従って、研削液がチャックカバー７０上に残ることを抑制でき、研削液に含まれる研削屑の堆積を抑制できる。

【0041】

また、円錐形状の環状部７１は、角錘形状の環状部とは異なり、研削液を放射状に排出でき、研削液をチャック２０の回転方向に均等に分散して排出できる。研削液の偏りを抑制でき、研削屑の堆積を抑制できる。

【0042】

チャック２０は、基板Ｗを保持する保持台２１を含む。保持台２１は、円盤状の多孔質体２１ａと、多孔質体２１ａが配置される凹部を含む基台２１ｂと、を有する。基台２１ｂの上面に凹部が形成され、その凹部に多孔質体２１ａが埋め込まれる。

【0043】

多孔質体２１ａの内部の気体が吸引され、多孔質体２１ａの気圧が大気圧よりも低い負圧になると、基板Ｗが多孔質体２１ａに吸着される。一方、気体の吸引が停止され、多孔質体２１ａの気圧が大気圧に戻されると、基板Ｗの吸着が解除される。

【0044】

チャック２０は、保持台２１の下縁に設けられるフランジ２３を有する。フランジ２３は、ボルト２４などの固定具によって回転台２５に対して取り外し可能に取り付けられる。ボルト２４は、フランジ２３の周方向に間隔をおいて複数設けられる。

【0045】

環状部７１は、開口部７１ａを有する。開口部７１ａの直径は、基板Ｗの直径よりも大きく、且つチャック２０のフランジ２３の直径よりも小さい。環状部７１の真下にボルト２４を隠すことができ、研削液がボルト２４にぶつかるのを抑制でき、研削液の飛散を抑制できる。

【0046】

チャックカバー７０は、環状部７１の下縁から下方に延びる筒部７３を有する。筒部７３は、本実施形態では環状部７１の下縁から真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。筒部７３の中心線は、チャック２０の回転中心線Ｒ２である。筒部７３は、環状部７１から流れ落ちる研削液を下方に導く。

【0047】

筒部７３は、テーブルカバー６０の傾斜部６１の穴６４に挿通される。穴６４は、筒部７３に沿って流れ落ちる研削液を、傾斜部６１の下方に導く。穴６４がなく、筒部７３が傾斜部６１の上に載置される場合に比べて、傾斜部６１の上に研削液が溜まるのを抑制でき、研削屑の堆積を抑制できる。

【0048】

図４に示すように、研削装置１は、スタンド８０と、ベースカバー９０と、を有する。スタンド８０は、テーブルカバー６０の傾斜部６１の下方にて、チャックカバー７０の筒部７３が載置されるものである。ベースカバー９０は、テーブル１０の上方であってテーブルカバー６０の下方にて、傾斜部６１の穴６４から落ちる研削液を受ける。ベースカバー９０は、テーブル１０に対して固定され、テーブル１０と共に回転する。

【0049】

スタンド８０は、ベースカバー９０の上面に突設される。スタンド８０は、ベースカバー９０の上方にてチャックカバー７０の筒部７３を支持する。筒部７３がベースカバー９０の上面に載置される場合に比べて、筒部７３の長さを短縮できる。

【0050】

チャックカバー７０は、筒部７３の外周に水平に設けられる板状部７４を更に含む。テーブルカバー６０の傾斜部６１の穴６４の開口縁には、チャックカバー７０の板状部７４が通過する切り欠き６５が形成される。チャックカバー７０の板状部７４は、例えば筒部７３の下端に形成され、スタンド８０の上に載置され、ボルト８１などでスタンド８０に対して取り外し可能に取り付けられる。テーブルカバー６０を取り付けた状態で、切り欠き６５に工具を挿入し、工具でボルト８１を緩めたり締めたりでき、チャックカバー７０を取り外したり、取り付けたりできる。

【0051】

ベースカバー９０は、テーブル１０の上方に水平に配置される円盤部９１を有する。円盤部９１の直径は、テーブル１０の直径よりも大きい。円盤部９１の上に落ちた研削液は、円盤部９１と、テーブルカバー６０の直線部６３との隙間から排出される。

【0052】

円盤部９１には、開口部９１ａが複数形成される。複数の開口部９１ａは、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに等間隔で配置される。開口部９１ａには、回転台２５を回転させる回転軸２６が挿通される。

【0053】

回転軸２６は、回転台２５の回転中心から鉛直下方に延びている。回転台２５の周縁には、下方に延びる外筒部２７が設けられる。外筒部２７は、本実施形態では回転台２５の周縁から真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。外筒部２７の内側には、内筒部９３が配置される。

【0054】

内筒部９３は、円盤部９１の開口部９１ａの開口縁から上方に延びる。内筒部９３は、本実施形態では円盤部９１の開口部９１ａの開口縁から真上に延びるが、斜め上に延びてもよい。内筒部９３の上端の高さは、外筒部２７の下端の高さよりも高い。内筒部９３と外筒部２７とによって、研削液の浸入を抑制するラビリンスを形成できる。

【0055】

開口部９１ａは、上記の通り、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに等間隔で複数配置される。テーブル１０の回転方向に隣り合う開口部９１ａの間に、回転仕切壁１５が配置される。回転仕切壁１５は、円盤部９１の上に設けられる。円盤部９１の上には、スタンド８０も設けられる。

【0056】

ベースカバー９０は、円盤部９１の周縁から下方に延びる筒部９４を有する。筒部９４は、本実施形態では円盤部９１の周縁から真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。筒部９４の中心線は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１である。筒部９４は、テーブル１０よりも、テーブル１０の回転中心線Ｒ１から遠くに配置され、研削液をテーブル１０の外に落下させる。筒部９４は、テーブルカバー６０の直線部６３の延長線上に配置され、直線部６３に沿って流れ落ちる研削液を、更に下方に導く。

【0057】

次に、図５を参照して、変形例に係るテーブルカバー及びチャックカバーについて説明する。以下、本変形例と、上記実施形態との相違点について主に説明する。

【0058】

テーブルカバー６０は、傾斜部６１と直線部６３の角を丸める曲線部６６を有する。曲線部６６は、いわゆるＲ面取り形状を有する。曲線部６６によって傾斜部６１から直線部６３に研削液を滑らかに導くことができ、研削液の飛散を抑制できる。

【0059】

同様に、チャックカバー７０は、環状部７１と筒部７３の角を丸める曲線部７６を有する。曲線部７６は、いわゆるＲ面取り形状を有する。曲線部７６によって環状部７１から筒部７３に研削液を滑らかに導くことができ、研削液の飛散を抑制できる。

【0060】

次に、図６等を参照して、第２変形例に係る研削装置１について説明する。なお、本変形例の内容は、上記実施形態等にも適用可能である。

【0061】

図６に示すように、研削装置１は、チャック２０と共に回転するチャックカバー７０を備える。チャック２０は、基板Ｗを保持する保持台２１と、保持台２１の下縁に設けられるフランジ２３とを含む。保持台２１は、多孔質体２１ａと、基台２１ｂと、を有する。保持台２１の上面に凹部が形成され、その凹部に円盤状の多孔質体２１ａが埋め込まれる。

【0062】

多孔質体２１ａの内部の気体が吸引され、多孔質体２１ａの気圧が大気圧よりも低い負圧になると、基板Ｗが多孔質体２１ａに吸着される。一方、気体の吸引が停止され、多孔質体２１ａの気圧が大気圧に戻されると、基板Ｗの吸着が解除される。

【0063】

チャック２０は、回転台２５の上に載置され、回転台２５に対して固定具で固定される。その固定具は、特に限定されないが、例えばボルト２４である。ボルト２４は、チャック２０のフランジ２３の周方向に間隔をおいて複数設けられる。ボルト２４の軸部は、フランジ２３の貫通穴を通り、回転台２５のボルト穴にねじ込まれる。ボルト２４の頭部が、フランジ２３を上方から押さえる。ボルト２４を緩めたり締めたりすることで、チャック２０を交換できる。

【0064】

チャックカバー７０は、環状の庇部７１を含む。環状の庇部７１は、その中央に、チャック２０の保持台２１が入る開口部７１ａを形成する。庇部７１の上面は、チャック２０の保持台２１の上面と同じ高さか、保持台２１の上面よりも下方に配置される。また、庇部７１の上面は、テーブルカバー６０の傾斜部６１よりも上方に配置される。

【0065】

庇部７１の上面は、チャック２０の回転中心線Ｒ２から遠ざかるほど下方に傾斜する。なお、庇部７１の上面は、水平であってもよい。但し、庇部７１の上面が傾斜していれば、重力によって斜め下に研削液を排出でき、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制できる。庇部７１の上面は、例えば円錐形状を有する。

【0066】

庇部７１は、チャック２０のフランジ２３よりも上方に配置され、固定具であるボルト２４を上方から覆う。庇部７１の中央に形成される開口部７１ａの直径は、保持台２１の直径よりも大きく、且つフランジ２３の直径よりも小さい。庇部７１の真下にボルト２４を隠すことができ、研削液がボルト２４にぶつかるのを抑制でき、研削液の飛散を抑制できる。

【0067】

本変形例によれば、チャックカバー７０は、チャック２０と共に回転する。基板Ｗの研削時にチャック２０を回転させると、庇部７１が回転し、遠心力によって庇部７１に付着した研削液を径方向外方に吹き飛ばすことができる。従って、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制でき、研削屑がチャック２０の周辺に堆積するのを抑制できる。その結果、チャック２０又は研削工具Ｄの交換等のメンテナンスの際に作業者又は作業ロボットが汚れるのを抑制できる。また、堆積した研削屑が剥がれてチャック２０又は基板Ｗに付着するのを抑制できる。

【0068】

チャックカバー７０の庇部７１と、チャック２０のフランジ２３との間には、スペーサ２８が設けられる。スペーサ２８は、フランジ２３の周方向に間隔をおいて複数設けられる。複数のスペーサ２８の上に、庇部７１が載置される。なお、スペーサ２８は庇部７１と一体化されていてもよく、その場合、スペーサ２８がフランジ２３の上に載置され、後述するボルト２９の軸部がフランジ２３のボルト穴にねじ込まれる。

【0069】

スペーサ２８は、庇部７１とフランジ２３の間に隙間を形成する。隙間が無い場合に比べて、庇部７１の厚みを薄くでき、庇部７１を軽量化できる。また、庇部７１とフランジ２３の間に、ボルト２４の頭部を配置するスペースを確保できる。

【0070】

スペーサ２８は、その上面にボルト穴を有する。そのボルト穴には、スペーサ２８に対して庇部７１を固定するボルト２９の軸部がねじ込まれる。ボルト２９の頭部は、庇部７１を上方から押さえる。庇部７１の上面には、チャック２０の径方向に延びる溝７１ｂが形成される。その溝７１ｂがボルト２９の頭部を収容し、ボルト２９の頭部が溝７１ｂの底面を上方から押さえる。

【0071】

庇部７１の上面は傾斜しているのに対し、庇部７１の下面は水平になっている。庇部７１の下面が水平であれば、庇部７１を複数のスペーサ２８の上に安定的に載置できる。スペーサ２８の数は、好ましくは３個以上である。

【0072】

チャックカバー７０は、庇部７１の周縁から下方に延びる外筒部７７を含む。外筒部７７は、図６では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。外筒部７７は、テーブルカバー６０の内筒部６７の上端よりも下方に延び、その内筒部６７を囲む。内筒部６７と外筒部７７とによって、研削液の浸入を抑制するラビリンスを形成できる。

【0073】

庇部７１と外筒部７７の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の境界の場合、その境界を液滴が乗り越えるのを、液滴の表面張力が阻害する。その結果、リング状の液だまりが形成されやすい。庇部７１と外筒部７７の境界が曲線形状を有していれば、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に固着するのを抑制できる。

【0074】

図６に示すように、研削装置１は、テーブル１０と共に回転するテーブルカバー６０を有する。テーブルカバー６０は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１から遠ざかるほど下方に傾斜する傾斜部６１を有する。

【0075】

傾斜部６１は、チャック２０の保持台２１の上面よりも下方に配置され、且つテーブル１０の上方に配置される。傾斜部６１は、水平な平板部とは異なり、重力によって斜め下に研削液を排出できる。それゆえ、研削液に混じる研削屑の堆積を抑制できる。

【0076】

傾斜部６１は、例えばテーブル１０の周方向に高さが一定である円錐形状を有する。傾斜部６１が円錐形状を有する場合、図３に矢印で示すように研削液を放射状に排出でき、チャック２０の周辺に研削屑が堆積するのを抑制できる。

【0077】

傾斜部６１は、頂部と裾部の間に、回転台２５の入る開口部６１ａを形成する。開口部６１ａは、回転台２５毎に形成され、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに間隔をおいて複数形成される。複数の開口部６１ａは、例えば等間隔で形成される。

【0078】

テーブルカバー６０は、傾斜部６１の開口部６１ａの開口縁から上方に立ち上がる内筒部６７を含む。内筒部６７は、図６では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。内筒部６７の上縁は、周方向全体に亘って水平である。内筒部６７は、研削液が開口部６１ａに浸入するのを防止する。

【0079】

図７（Ａ）に示すように、内筒部６７は、第１円弧筒部６７ａと、第２円弧筒部６７ｂと、連結部６７ｃと、を含む。第１円弧筒部６７ａは、傾斜部６１に対して固定される。第２円弧筒部６７ｂは、第１円弧筒部６７ａに対して取り外し可能に連結される。連結部６７ｃは、第１円弧筒部６７ａと第２円弧筒部６７ｂを環状に連結する。

【0080】

連結部６７ｃは、例えば、連結板６７ｃ１と、ボルト６７ｃ２と、を含む。連結板６７ｃ１は、例えば第２円弧筒部６７ｂの内周面に固定され、第１円弧筒部６７ａの内周面まで延びている。ボルト６７ｃ２の軸部は、第１円弧筒部６７ａの貫通穴を通り、連結板６７ｃ１のボルト穴にねじ込まれる。ボルト６７ｃ２の頭部が、第１円弧筒部６７ａを径方向外側から押さえる。

【0081】

なお、連結部６７ｃの構造は、特に限定されない。例えば、連結板６７ｃ１は、第１円弧筒部６７ａの内周面に固定され、第２円弧筒部６７ｂの内周面まで延びていてもよい。この場合、ボルト６７ｃ２の軸部は、第２円弧筒部６７ｂの貫通穴を通り、連結板６７ｃ１のボルト穴にねじ込まれる。ボルト６７ｃ２の頭部が、第２円弧筒部６７ｂを径方向外側から押さえる。

【0082】

いずれにしろ、ボルト６７ｃ２を緩めたり締めたりすることで、第２円弧筒部６７ｂを取り外したり取り付けたりできる。図７（Ｂ）から明らかなように、第２円弧筒部６７ｂを取り外すことにより、チャック２０の交換が容易になる。

【0083】

図６に示すように、第２円弧筒部６７ｂは、第１円弧筒部６７ａよりも、テーブル１０の径方向外方に配置される。そして、第２円弧筒部６７ｂの下縁の少なくとも一部は、回転台２５の上面よりも下方に配置される。

【0084】

その結果、第２円弧筒部６７ｂを取り外せば、図８に示すように、回転台２５の上面に載せたチャック２０を横に引き摺り出せる。チャック２０と回転台２５との密着力が強く、チャック２０を上に引き剥がせない場合に有効である。

【0085】

図６に示すように、内筒部６７は、第２円弧筒部６７ｂを載せる第３円弧筒部６７ｄを更に含んでもよい。第３円弧筒部６７ｄは、傾斜部６１に対して固定され、第１円弧筒部６７ａと一体化されてもよい。

【0086】

内筒部６７は、第２円弧筒部６７ｂと第３円弧筒部６７ｄを位置合わせする位置合わせ部６７ｅを更に含んでもよい。位置合わせ部６７ｅは、例えば、第２円弧筒部６７ｂの内周面に固定され、第３円弧筒部６７ｄの内側に差し込まれ、その内周面に接触することで、第２円弧筒部６７ｂと第３円弧筒部６７ｄを位置合わせする。

【0087】

テーブルカバー６０は、傾斜部６１の下縁から下方に延びる筒部６３を有する。筒部６３は、図６では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。筒部６３は、研削液をテーブル１０の外に落下させる。筒部６３の外径は、テーブル１０の直径よりも大きい。

【0088】

傾斜部６１と筒部６３の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の境界の場合に比べて、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に固着するのを抑制できる。

【0089】

傾斜部６１は、その頂部に、固定軸１１が通る開口部６１ｂを形成する。テーブルカバー６０は、傾斜部６１の開口部６１ｂの開口縁から上方に立ち上がる中央筒部６９を有する。中央筒部６９は、図６では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。中央筒部６９は、研削液が開口部６１ｂに浸入するのを防止する。

【0090】

テーブルカバー６０は、テーブル１０の周方向に複数の分割カバーに分割される。分割カバーの数と、チャック２０の数とは、同数である。周方向に隣り合う分割カバーの間には、回転仕切壁１５が配置される。

【0091】

複数の分割カバーは、個別に、テーブル１０に対して取り外し可能に取り付けられる。メンテナンスの際に分割カバーを個別に取り外せばよく、テーブルカバー６０の全体をまとめて取り外さずに済むので、作業性を向上できる。

【0092】

研削装置１は、ベースカバー９０を備える。ベースカバー９０は、水平な円盤部９１を有する。円盤部９１は、テーブルカバー６０の下方であってテーブル１０の上方に配置され、テーブル１０と同心円状に配置される。円盤部９１の直径は、テーブル１０の直径よりも大きい。

【0093】

円盤部９１は、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに、チャック２０の回転軸２６が通る開口部９１ａを形成する。開口部９１ａは、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに等間隔で複数形成される。

【0094】

ベースカバー９０は、開口部９１ａの開口縁から上方に立ち上がる内筒部９３を含む。内筒部９３は、図６では真上に立ち上がるが、斜め上に立ち上がってもよい。内筒部９３には、回転軸２６が挿通される。

【0095】

回転軸２６は、回転台２５の回転中心から鉛直下方に延びている。回転台２５の周縁には、下方に延びる外筒部２７が設けられる。外筒部２７は、図６では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。

【0096】

外筒部２７は、ベースカバー９０の内筒部９３の上端よりも下方に延び、その内筒部９３を囲む。内筒部９３と外筒部２７とによって、研削液の浸入を抑制するラビリンスを形成できる。

【0097】

開口部９１ａは、上記の通り、テーブル１０の回転中心線Ｒ１の周りに等間隔で複数配置される。テーブル１０の周方向に隣り合う開口部９１ａの間に、回転仕切壁１５が配置される。回転仕切壁１５は、円盤部９１の上に設けられる。

【0098】

ベースカバー９０は、円盤部９１の周縁から下方に延びる筒部９４を有する。筒部９４は、図６では真下に延びるが、斜め下に延びてもよい。

【0099】

円盤部９１と筒部９４の境界は、例えば面取り形状を有し、曲線形状を有する。折れ線形状の場合に比べて、その境界を液滴が乗り越え易く、研削液が排出されやすい。従って、研削液に混じる研削屑がリング状に固着するのを抑制できる。

【0100】

図６に示すように、研削装置１は、テーブルカバー６０の傾斜部６１の頂部とチャック２０の間にて、傾斜部６１に対して洗浄液を供給するノズル５１を備える。ノズル５１は、傾斜部６１に対して上方から洗浄液を供給する。ノズル５１は、中央筒部６９に設けられてもよい。洗浄液は、例えば純水である。洗浄液は、傾斜部６１に供給された後、重力によって斜め下に流れ落ちる。洗浄液によって、傾斜部６１の広い範囲を洗浄でき、チャック２０の周辺に研削屑が堆積するのを抑制できる。ノズル５１は、洗浄液が傾斜部６１の頂部に届く位置にて、傾斜部６１に対して洗浄液を供給してもよい。傾斜部６１の頂部から裾部まで全体を洗浄できる。

【0101】

ノズル５１は、例えば基板Ｗの研削時に、洗浄液を吐出し、傾斜部６１に付着する研削液及び研削屑を洗い流す。ノズル５１は、１次研削室Ｂ１だけではなく、２次研削室Ｂ２及び３次研削室Ｂ３にも設けられる。ノズル５１は、搬入出室Ｂ０にも設けられてもよい。ノズル５１は、基板Ｗの研削時以外の時に、洗浄液を吐出してもよい。

【0102】

テーブルカバー６０の傾斜部６１は、その頂部に、固定軸１１が通る開口部６１ｂを形成する。開口部６１ｂの開口縁から中央筒部６９が立ち上がり、中央筒部６９の径方向外方にノズル５１が配置される。中央筒部６９の内側に洗浄液が浸入するのを防止できる。

【0103】

図９に示すように、ノズル５１の供給口５１ａは、テーブルカバー６０の周方向（テーブルカバー６０の回転方向）に間隔をおいて複数設けられる。１つの部屋（例えば１次研削室Ｂ１）に、複数の供給口５１ａが設けられてもよい。複数の供給口５１ａによって、テーブルカバー６０の傾斜部６１の周方向の広い範囲を同時に洗浄できる。また、ノズル５１の供給口５１ａは、テーブルカバー６０の周方向に沿う円弧状のスリットである。テーブルカバー６０の傾斜部６１の頂部に近い位置で洗浄液を供給できる。なお、ノズル５１の供給口５１ａは、直線状のスリットであってもよいし、円形の穴であってもよい。

【0104】

ところで、傾斜部６１の裾部では、その裾部を液滴が乗り越えるのを、液滴の表面張力が阻害する。その結果、リング状の液だまりが形成されやすく、リング状の汚れが固着しやすい。

【0105】

そこで、研削装置１は、テーブルカバー６０の傾斜部６１の裾部に対して上方から洗浄液を供給するノズル５２－１、５２－２を備える。洗浄液は、例えば純水である。洗浄液は、研削屑で汚れた研削液を洗い流し、リング状の汚れが固着するのを抑制する。

【0106】

ノズル５２－１は、例えば１次研削室Ｂ１の搬入出室Ｂ０との境界付近に位置する。その境界付近とは、その境界である固定仕切壁４５から５０ｍｍ以内の範囲をいう。その範囲内に、ノズル５２－１の吐出口の少なくとも一部があればよい。

【0107】

一方、ノズル５２－２は、３次研削室Ｂ３の搬入出室Ｂ０との境界付近に位置する。その境界付近とは、その境界である固定仕切壁４５から５０ｍｍ以内の範囲をいう。その範囲内に、ノズル５２－２の吐出口の少なくとも一部があればよい。

【0108】

制御部１６は、上方から見て時計回り方向にテーブル１０を回転する間、１次研削室Ｂ１に配置したノズル５２－１からテーブルカバー６０の傾斜部６１の裾部に対して洗浄液を供給する。傾斜部６１の裾部が１次研削室Ｂ１から搬入出室Ｂ０に移動する直前に、傾斜部６１の裾部を洗浄でき、搬入出室Ｂ０に汚れが持ち込まれるのを防止できる。

【0109】

一方、制御部１６は、上方から見て反時計回り方向にテーブル１０を回転する間、３次研削室Ｂ３に配置したノズル５２－２からテーブルカバー６０の傾斜部６１の裾部に対して洗浄液を供給する。傾斜部６１の裾部が３次研削室Ｂ３から搬入出室Ｂ０に移動する直前に、傾斜部６１の裾部を洗浄でき、搬入出室Ｂ０に汚れが持ち込まれるのを防止できる。

【0110】

研削装置１は、制御部１６を備える。制御部１６は、例えばコンピュータであり、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）１７と、メモリ等の記憶媒体１８とを備える。記憶媒体１８には、研削装置１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１６は、記憶媒体１８に記憶されたプログラムをＣＰＵ１７に実行させることにより、研削装置１の動作を制御する。

【0111】

以上、本開示に係る研削装置について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組み合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。

【0112】

例えば、本開示の技術は、上記実施形態では研削装置１に適用したが、切削装置等にも適用できる。研削は研磨を含む。本開示の技術は、基板Ｗの一部を除去する除去加工装置であれば、適用できる。基板Ｗの一部を除去する加工によって、加工屑が生じるからである。なお、基板Ｗの一部を除去する加工では、基板Ｗと加工工具との摩擦抵抗を減らすべく、加工液が基板Ｗに供給される。

【0113】

本出願は、２０２０年３月２４日に日本国特許庁に出願した特願２０２０－０５２４８８号及び２０２０年９月２５日に日本国特許庁に出願した特願２０２０－１６１２６９号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０２０－０５２４８８号及び特願２０２０－１６１２６９号の全内容を本出願に援用する。

【符号の説明】

【0114】

１ 研削装置（除去加工装置）
１０ テーブル
２０ チャック
５０ ノズル
６０ テーブルカバー
６１ 傾斜部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】