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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-12-15
(45)【発行日】2023-12-25
(54)【発明の名称】防眩フィルム、及び防眩フィルムの製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20231218BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20231218BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20231218BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 C
B32B3/30
B32B7/023
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2022514071
(86)(22)【出願日】2021-04-05
(86)【国際出願番号】 JP2021014545
(87)【国際公開番号】W WO2021206066
(87)【国際公開日】2021-10-14
【審査請求日】2022-08-26
(31)【優先権主張番号】P 2020071190
(32)【優先日】2020-04-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002505
【氏名又は名称】弁理士法人航栄事務所
(72)【発明者】
【氏名】芥川 暢之
(72)【発明者】
【氏名】大西 基貴
【審査官】酒井 康博
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１９－２０３９３１（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１４／１０９４０７（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／０２
Ｂ３２Ｂ ３／３０
Ｂ３２Ｂ ７／０２３
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、前記第一層は、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む第一層形成用組成物の硬化物を含み、
前記第二層は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む第二層形成用組成物の硬化物を含み、
前記第二層は前記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
前記第二層の前記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
前記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
前記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、前記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
前記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
前記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
前記防眩フィルムの前記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルム。
【請求項2】
下記式（ｉ）で表される、前記第一層の屈折率ｎ１と前記第二層の屈折率ｎ２との差の絶対値Δｎが、０．０５以下である請求項１に記載の防眩フィルム。（ｉ） Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
【請求項3】
下記式（ｉｉ）で表される、前記第一層の弾性率Ｇ１と前記第二層の弾性率Ｇ２との差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下である請求項１又は２に記載の防眩フィルム。（ｉｉ） ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
【請求項4】
前記第二層の前記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが４０～１００ｎｍである請求項１～３のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
【請求項5】
前記防眩フィルムのヘイズが５～１０％である請求項１～４のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
【請求項6】
前記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～１５μｍである請求項１～５のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
【請求項7】
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムの製造方法であり、前記第二層は前記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
前記第二層の前記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
前記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
前記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、前記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
前記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
前記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
前記防眩フィルムの前記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムの製造方法であって、
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程、
（ＩＩ）前記第一層塗膜を半硬化する工程、
（ＩＩＩ）半硬化した前記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程、
（ＩＶ）半硬化した前記第一層塗膜、及び前記第二層塗膜を硬化することにより第一層及び第二層を形成する工程、をこの順に含み、
前記重合性化合物（ａ１）が、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記第二層形成用組成物が、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む、
防眩フィルムの製造方法。
【請求項8】
前記工程（ＩＩ）において半硬化した前記第一層塗膜における、前記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａ２が３０ｎｍ以下である、請求項７に記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項9】
前記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、前記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率が１～４０％である請求項７又は８に記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項10】
前記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率が２～５０％である請求項７～９のいずれか１項に記載の防眩フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、防眩フィルム、及び防眩フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）やマイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、マイクロＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に防眩フィルムが使用されている。
【0003】
防眩フィルムは、基材と、表面に凹凸形状を有する防眩層とを有する構成の光学フィルムであり、防眩層の表面で光を散乱することにより（表面散乱性により）防眩性を発現するものが知られている。
また、防眩層上に更に低屈折率層を積層し、防眩性に加えて反射防止性を発現する防眩性反射防止フィルムも知られている。この場合、反射防止性を発現するためには、通常、低屈折率層の膜厚を薄くする必要があることが知られている。
また、防眩層上に更に低屈折率層を積層し、防眩性に加えて反射防止性を発現する防眩性反射防止フィルムも知られている。この場合、反射防止性を発現するためには、通常、低屈折率層の膜厚を薄くする必要があることが知られている。
【0004】
例えば、特許文献１には、透明基材上に微細な凹凸構造をもつ防眩層を有し、防眩層上に０．０５～０．２０μｍの低屈折率層を有する反射防止フィルムが記載されている。特許文献１には、微粒子をバインダーに分散した塗布液を透明基材上に塗布して防眩層を形成する技術が開示されている。
【0005】
特許文献２には、基材と、表面に不規則な凹凸構造を有する反射防止層と、基材と反射防止層の間に設けられた半硬化物層とを備えた中間積層体を硬化させた透明基板が記載されている。特許文献２には、転写モールドを用いて凹凸構造を形成する技術が開示されている。
【0006】
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載された防眩フィルムを画像表示装置のディスプレイ表面に配置すると、表面の凹凸構造がレンズの働きをしてしまい、ギラツキが発生してしまうという問題があった。
【0007】
ギラツキを抑制する防眩フィルムとして、特許文献３には、複数の樹脂成分の相分離に伴って形成された長細状凸部を表面に有する防眩層を含む防眩フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【文献】国際公開第２００８／０８４６０４号
【文献】日本国特開２０１８－７７２７９号公報
【文献】日本国特開２０１４－８５３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
しかしながら、本発明者らが検討したところ、特許文献３に記載の防眩フィルムは、防眩性とギラツキの抑制には優れているものの、フィルム表面の耐擦傷性に問題があることが分かった。
本発明の課題は、防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れる防眩フィルム、及び上記防眩フィルムの製造方法を提供することにある。
本発明の課題は、防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れる防眩フィルム、及び上記防眩フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明者らは鋭意検討し、下記手段により上記課題が解消できることを見出した。
＜１＞
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第一層は、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む第一層形成用組成物の硬化物を含み、
上記第二層は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む第二層形成用組成物の硬化物を含み、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルム。
＜２＞
下記式（ｉ）で表される、上記第一層の屈折率ｎ１と上記第二層の屈折率ｎ２との差の絶対値Δｎが、０．０５以下である＜１＞に記載の防眩フィルム。
（ｉ） Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
＜３＞
下記式（ｉｉ）で表される、上記第一層の弾性率Ｇ１と上記第二層の弾性率Ｇ２との差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の防眩フィルム。
（ｉｉ） ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
＜４＞
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが４０～１００ｎｍである＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜５＞
上記防眩フィルムのヘイズが５～１０％である＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜６＞
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～１５μｍである＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜７＞
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムの製造方法であり、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムの製造方法であって、
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程、
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程、
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程、
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより第一層及び第二層を形成する工程、をこの順に含み、
上記重合性化合物（ａ１）が、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
上記第二層形成用組成物が、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む、
防眩フィルムの製造方法。
＜８＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した上記第一層塗膜における、上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａ２が３０ｎｍ以下である、＜７＞に記載の防眩フィルムの製造方法。
＜９＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、上記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率が１～４０％である＜７＞又は＜８＞に記載の防眩フィルムの製造方法。
＜１０＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率が２～５０％である＜７＞～＜９＞のいずれか１項に記載の防眩フィルムの製造方法。
本発明は、上記＜１＞～＜１０＞に係るものであるが、本明細書には参考のためその他の事項についても記載した。
＜１＞
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第一層は、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む第一層形成用組成物の硬化物を含み、
上記第二層は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む第二層形成用組成物の硬化物を含み、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルム。
＜２＞
下記式（ｉ）で表される、上記第一層の屈折率ｎ１と上記第二層の屈折率ｎ２との差の絶対値Δｎが、０．０５以下である＜１＞に記載の防眩フィルム。
（ｉ） Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
＜３＞
下記式（ｉｉ）で表される、上記第一層の弾性率Ｇ１と上記第二層の弾性率Ｇ２との差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の防眩フィルム。
（ｉｉ） ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
＜４＞
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが４０～１００ｎｍである＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜５＞
上記防眩フィルムのヘイズが５～１０％である＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜６＞
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～１５μｍである＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
＜７＞
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムの製造方法であり、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムの製造方法であって、
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程、
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程、
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程、
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより第一層及び第二層を形成する工程、をこの順に含み、
上記重合性化合物（ａ１）が、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン、ウレタン（メタ）アクリレート化合物及び（メタ）アクリルアミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
上記第二層形成用組成物が、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物及び含フッ素化合物を含む、
防眩フィルムの製造方法。
＜８＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した上記第一層塗膜における、上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａ２が３０ｎｍ以下である、＜７＞に記載の防眩フィルムの製造方法。
＜９＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、上記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率が１～４０％である＜７＞又は＜８＞に記載の防眩フィルムの製造方法。
＜１０＞
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率が２～５０％である＜７＞～＜９＞のいずれか１項に記載の防眩フィルムの製造方法。
本発明は、上記＜１＞～＜１０＞に係るものであるが、本明細書には参考のためその他の事項についても記載した。
【0011】
［１］
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルム。
［２］
下記式（ｉ）で表される、上記第一層の屈折率ｎ１と上記第二層の屈折率ｎ２との差の絶対値Δｎが、０．０５以下である［１］に記載の防眩フィルム。
（ｉ） Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
［３］
下記式（ｉｉ）で表される、上記第一層の弾性率Ｇ１と上記第二層の弾性率Ｇ２の弾性率との差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下である［１］又は［２］に記載の防眩フィルム。
（ｉｉ） ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
［４］
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが４０～１００ｎｍである［１］～［３］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［５］
上記防眩フィルムのヘイズが５～１０％である［１］～［４］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［６］
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～１５μｍである［１］～［５］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［７］
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムの製造方法であり
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムの製造方法であって、
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程、
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程、
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程、
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより第一層及び第二層を形成する工程、をこの順に含む防眩フィルムの製造方法。
［８］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した上記第一層塗膜における、上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａ２が３０ｎｍ以下である、［７］に記載の防眩フィルムの製造方法。
［９］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、上記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率が１～４０％である［７］又は［８］に記載の防眩フィルムの製造方法。
［１０］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率が２～５０％である［７］～［９］のいずれか１項に記載の防眩フィルムの製造方法。
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルム。
［２］
下記式（ｉ）で表される、上記第一層の屈折率ｎ１と上記第二層の屈折率ｎ２との差の絶対値Δｎが、０．０５以下である［１］に記載の防眩フィルム。
（ｉ） Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
［３］
下記式（ｉｉ）で表される、上記第一層の弾性率Ｇ１と上記第二層の弾性率Ｇ２の弾性率との差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下である［１］又は［２］に記載の防眩フィルム。
（ｉｉ） ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
［４］
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが４０～１００ｎｍである［１］～［３］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［５］
上記防眩フィルムのヘイズが５～１０％である［１］～［４］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［６］
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～１５μｍである［１］～［５］のいずれか１項に記載の防眩フィルム。
［７］
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムの製造方法であり
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムの製造方法であって、
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程、
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程、
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程、
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより第一層及び第二層を形成する工程、をこの順に含む防眩フィルムの製造方法。
［８］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した上記第一層塗膜における、上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａ２が３０ｎｍ以下である、［７］に記載の防眩フィルムの製造方法。
［９］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、上記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率が１～４０％である［７］又は［８］に記載の防眩フィルムの製造方法。
［１０］
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率が２～５０％である［７］～［９］のいずれか１項に記載の防眩フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れる防眩フィルム、及び上記防眩フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】実施例１で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の３Ｄ画像である。
【図2】実施例１で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の平面画像である。
【図3】実施例２で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の３Ｄ画像である。
【図4】実施例２で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の平面画像である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）～（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリルアミド」、「（メタ）アクリロイルオキシ」等も同様である。
【0015】
［防眩フィルム］
本発明の防眩フィルムは、
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムである。
本発明の防眩フィルムは、
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムである。
【0016】
本発明の防眩フィルムが、防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れるという効果を奏する理由については、完全には明らかになっていないが、本発明者は以下のように推定している。
本発明の防眩フィルムは、第二層の表面に長細状凸部を有しており、これらの長細状凸部によって形成された特定の凹凸構造に起因して防眩性を発現すると考えられる。また、凹凸構造が長細状凸部によるものであり、従来技術のような粒子によるものではないため、レンズ効果が生じにくくなり、ギラツキを抑制できると考えられる。
また、本発明の防眩フィルムは、後述するように、好適には、基材上に形成した第一層塗膜を半硬化し、その半硬化した第一層塗膜上に第二層形成用組成物を塗布する工程を含む方法によって製造される。上記工程において、第二層形成用組成物の一部が半硬化した第一層塗膜中に浸透し、その後の乾燥、硬化の際にフィルムの膜厚方向に体積膨張が生じ、長細状凸部が形成されるものと考えられる。
以下、本発明の防眩フィルムについて、詳細に説明する。
本発明の防眩フィルムは、第二層の表面に長細状凸部を有しており、これらの長細状凸部によって形成された特定の凹凸構造に起因して防眩性を発現すると考えられる。また、凹凸構造が長細状凸部によるものであり、従来技術のような粒子によるものではないため、レンズ効果が生じにくくなり、ギラツキを抑制できると考えられる。
また、本発明の防眩フィルムは、後述するように、好適には、基材上に形成した第一層塗膜を半硬化し、その半硬化した第一層塗膜上に第二層形成用組成物を塗布する工程を含む方法によって製造される。上記工程において、第二層形成用組成物の一部が半硬化した第一層塗膜中に浸透し、その後の乾燥、硬化の際にフィルムの膜厚方向に体積膨張が生じ、長細状凸部が形成されるものと考えられる。
以下、本発明の防眩フィルムについて、詳細に説明する。
【0017】
本発明の防眩フィルム（本発明のフィルムともいう。）は、少なくとも、基材と第一層と第二層とを有する。
本発明の防眩フィルムは、基材、第一層及び第二層をこの順に有する。すなわち、本発明の防眩フィルムは、基材上に第一層及び第二層がこの順に積層されている。
本発明の防眩フィルムは、基材、第一層及び第二層をこの順に有する。すなわち、本発明の防眩フィルムは、基材上に第一層及び第二層がこの順に積層されている。
【0018】
（第二層の凹凸構造）
第二層は基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有している。本発明の防眩フィルムはこの凹凸構造によって防眩性を発現することができる。
第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａは３０～１６０ｎｍである。本発明の防眩フィルムは、第二層表面の算術平均高さＳａが上記範囲であることにより、凹凸構造によるレンズ効果が生じにくくなり、画像表示装置（特に高精細の画像表示装置）のディスプレイ表面に配置しても、防眩性を損なうことなく、ギラツキを抑制できる。
算術平均高さＳａは、ＩＳＯ２５１７８に規定されており、走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）のｗａｖｅモード、対物レンズ１０倍の測定条件で測定されたデータを同解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒによって算出される。ＩＳＯはＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｓｔａｎｄａｒｄｉｚａｔｉｏｎの略称である。
第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａは３０～１６０ｎｍであり、４０～１００ｎｍであることが好ましく、４５～１００ｎｍであることがより好ましく、４５～６０ｎｍであることが更に好ましい。
第二層は基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有している。本発明の防眩フィルムはこの凹凸構造によって防眩性を発現することができる。
第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａは３０～１６０ｎｍである。本発明の防眩フィルムは、第二層表面の算術平均高さＳａが上記範囲であることにより、凹凸構造によるレンズ効果が生じにくくなり、画像表示装置（特に高精細の画像表示装置）のディスプレイ表面に配置しても、防眩性を損なうことなく、ギラツキを抑制できる。
算術平均高さＳａは、ＩＳＯ２５１７８に規定されており、走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）のｗａｖｅモード、対物レンズ１０倍の測定条件で測定されたデータを同解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒによって算出される。ＩＳＯはＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｓｔａｎｄａｒｄｉｚａｔｉｏｎの略称である。
第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａは３０～１６０ｎｍであり、４０～１００ｎｍであることが好ましく、４５～１００ｎｍであることがより好ましく、４５～６０ｎｍであることが更に好ましい。
【0019】
－長細状凸部－
第二層表面に存在する長細状凸部の形状は長細い形状であれば特に限定されない（すなわち、立方体や球形でなければ特に限定されない）。
長細状凸部は、例えばライン状であってもよい。長細状凸部がライン状（紐状）である場合のラインとしては、直線でもよいし、折れ線でもよいし、曲線でもよい。
長細状凸部は分岐構造を有していてもよいし、分岐構造を有していなくてもよい。
また、長細状凸部は網目状に形成されていてもよい。
本発明の防眩フィルムは長細状凸部を複数有することが好ましいが、それぞれの長細状凸部の形状は同一でも異なっていてもよく、異なっていることが好ましい（すなわち不均一であることが好ましい）。また、長細状凸部の大きさ（長さ、幅、高さ）は同一でも異なっていてもよく、異なっていることが好ましい（すなわち不均一であることが好ましい）。
第二層表面に存在する長細状凸部の形状は長細い形状であれば特に限定されない（すなわち、立方体や球形でなければ特に限定されない）。
長細状凸部は、例えばライン状であってもよい。長細状凸部がライン状（紐状）である場合のラインとしては、直線でもよいし、折れ線でもよいし、曲線でもよい。
長細状凸部は分岐構造を有していてもよいし、分岐構造を有していなくてもよい。
また、長細状凸部は網目状に形成されていてもよい。
本発明の防眩フィルムは長細状凸部を複数有することが好ましいが、それぞれの長細状凸部の形状は同一でも異なっていてもよく、異なっていることが好ましい（すなわち不均一であることが好ましい）。また、長細状凸部の大きさ（長さ、幅、高さ）は同一でも異なっていてもよく、異なっていることが好ましい（すなわち不均一であることが好ましい）。
【0020】
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離（平均凸間距離）は５～８０μｍである。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、ある長細状凸部と、その長細状凸部と隣り合う別の長細状凸部との間の距離Ａの平均値である。距離Ａは、基材の表面に直交する方向から撮影した第二層の表面の走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）写真において、ある長細状凸部の輪郭（外形線）上の点ａと、その長細状凸部と隣り合う別の長細状凸部の輪郭（外形線）上の点ｂとの距離である。点ｂは点ａの接線に直交する直線ｃと交わる長細状凸部の輪郭（外形線）上の点のうち、点ａから点ａが属する長細状凸部の内側に向かう方向とは反対の方向に存在する点であって、点ａからの距離が最も短い点である。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、任意の１０箇所以上で測定した値の平均値である。
上記平均距離が８０μｍを超えると、表面凹凸構造による防眩性能を十分に発揮できない。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、５～６０μｍであることが好ましく、５～５０μｍであることがより好ましく、５～３０μｍであることが更に好ましく、５～２０μｍであることが特に好ましく、５～１５μｍであることが最も好ましい。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、ある長細状凸部と、その長細状凸部と隣り合う別の長細状凸部との間の距離Ａの平均値である。距離Ａは、基材の表面に直交する方向から撮影した第二層の表面の走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）写真において、ある長細状凸部の輪郭（外形線）上の点ａと、その長細状凸部と隣り合う別の長細状凸部の輪郭（外形線）上の点ｂとの距離である。点ｂは点ａの接線に直交する直線ｃと交わる長細状凸部の輪郭（外形線）上の点のうち、点ａから点ａが属する長細状凸部の内側に向かう方向とは反対の方向に存在する点であって、点ａからの距離が最も短い点である。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、任意の１０箇所以上で測定した値の平均値である。
上記平均距離が８０μｍを超えると、表面凹凸構造による防眩性能を十分に発揮できない。
凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離は、５～６０μｍであることが好ましく、５～５０μｍであることがより好ましく、５～３０μｍであることが更に好ましく、５～２０μｍであることが特に好ましく、５～１５μｍであることが最も好ましい。
【0021】
細長状凸部は、１００μｍ以上（好ましくは２００μｍ以上、さらに好ましくは５００μｍ以上）の合計長さを有する長細状凸部であることが好ましい。長細状凸部の「合計長さ」とは、長細状凸部の全長を意味し、分岐構造を有する長細状凸部においては分岐した各枝の長さを合計した全長を意味する。
【0022】
第二層の平面視（基材の表面に直交する方向から見た場合）において、長細状凸部の形状（二次元形状）は、通常、部分的又は全体的に曲線部を有する紐状であり、長細状凸部の平均幅は０．１～３０μｍであることが好ましく、０．１～２０μｍであることがより好ましく、０．１～１５μｍであることが更に好ましく、０．１～１０μｍであることが特に好ましく、０．１～５μｍであることが最も好ましい。長細状凸部の平均幅を０．１μｍ以上とすることで、防眩性が得られやすくなり、３０μｍ以下とすることで、ギラツキの抑制効果が得られやすくなる。
【0023】
なお、本発明の防眩フィルムは、第二層表面に存在する全ての凸部が長細状である必要はなく、他の凸部（非長細状凸部）を含んでいてもよい。
【0024】
第二層の表面において、長細状凸部と他の凸部との長さ比は、例えば、長細状凸部の長さ／他の凸部の長さ＝１００／０～１０／９０の範囲から選択でき、例えば、１００／０～３０／７０、好ましくは１００／０～５０／５０、さらに好ましくは１００／０～７０／３０（特に１００／０～９０／１０）程度であり、略１００％（例えば、表面全体が長細状凸部のみを含む）が特に好ましい。
【0025】
第二層の表面における全凸部の面積割合は、全表面に対して、例えば、１０～１００％、好ましくは３０～１００％、さらに好ましくは５０～１００％（特に７０～１００％）程度である。面積割合を上記範囲とすることによって、防眩性とギラツキ抑制を両立しやすくなる。
【0026】
長細状凸部の長さ及び幅、形状（分岐構造の有無など）、並びに面積は、顕微鏡写真で観察される二次元的な形状に基づいて測定又は評価できる。また、平均値は任意の１０箇所以上で測定した値の平均値である。また、長細状凸部と他の凸部との長さ比は、１ｍｍ２の領域において各長さを測定して求めることができる。長細状凸部の形状は、顕微鏡観察において、凸部の頂点が連なった尾根状（稜線状）の部分に基づいて識別できる。さらに、本明細書では、長細状凸部の長さは、上記尾根部分の長さとして測定できる。
【0027】
（ヘイズ）
本発明の防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）は１～２０％である。
ヘイズを１％以上とすることで防眩性を発現することができ、２０％以下とすることで白茶け感を低減できる。本発明の防眩フィルムのヘイズは１～１５％が好ましく、３～１３％がより好ましく、５～１０％が更に好ましい。
本発明の防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）は１～２０％である。
ヘイズを１％以上とすることで防眩性を発現することができ、２０％以下とすることで白茶け感を低減できる。本発明の防眩フィルムのヘイズは１～１５％が好ましく、３～１３％がより好ましく、５～１０％が更に好ましい。
【0028】
（耐擦傷性）
本発明の防眩フィルムは、上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない。より詳細には、評価環境条件：２５℃、相対湿度６０％において、こすり材としてスチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．＃００００番）を用い、基材とは反対側の表面を荷重１ｋｇ／ｃｍ２にて往復１００回擦った際に目視観察において傷が確認されない。
本発明の防眩フィルムは、上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら、往復２５０回擦った際にも傷が生じないことが好ましく、往復５００回擦った際にも傷が生じないことがより好ましい。
なお、本発明の防眩フィルムの層構成が、「基材／第一層／第二層」である場合、基材側とは反対側の表面は第二層の表面である。
本発明の防眩フィルムは、上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない。より詳細には、評価環境条件：２５℃、相対湿度６０％において、こすり材としてスチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．＃００００番）を用い、基材とは反対側の表面を荷重１ｋｇ／ｃｍ２にて往復１００回擦った際に目視観察において傷が確認されない。
本発明の防眩フィルムは、上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら、往復２５０回擦った際にも傷が生じないことが好ましく、往復５００回擦った際にも傷が生じないことがより好ましい。
なお、本発明の防眩フィルムの層構成が、「基材／第一層／第二層」である場合、基材側とは反対側の表面は第二層の表面である。
【0029】
防眩フィルムの耐擦傷性を上記範囲とするには、防眩フィルム中の上記第一層及び第二層を形成する素材の組み合わせや、後述する防眩フィルムの製造方法における条件、例えば、これらの層を形成するために用いる組成物の固形分濃度や、層硬化条件を適宜調整することにより達成することが可能である。
【0030】
本発明の防眩フィルムは上記第二層における粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％である。
これは、本発明の防眩フィルムは、表面凹凸を形成し、防眩性の発現に寄与する粒子を第二層中に実質的に含まないことを意味する。
上記粒子の含有量は、第二層の全質量に対して、０～０．０５質量％であることが好ましく、０～０．０１質量％がより好ましく、０質量％である、すなわち、上記粒子を含まないことが最も好ましい。
これは、本発明の防眩フィルムは、表面凹凸を形成し、防眩性の発現に寄与する粒子を第二層中に実質的に含まないことを意味する。
上記粒子の含有量は、第二層の全質量に対して、０～０．０５質量％であることが好ましく、０～０．０１質量％がより好ましく、０質量％である、すなわち、上記粒子を含まないことが最も好ましい。
【0031】
本発明の防眩フィルムは、粒径が３００ｎｍ以上の粒子を第二層以外の層においても実質的に含まないことが好ましい。すなわち、本発明の防眩フィルムは、いずれの層においても、表面凹凸を形成し、防眩性の発現に寄与する粒子を含まないことが好ましい。
【0032】
本発明の防眩フィルムは、基材上に、第一層、第二層が順に積層されている。第一層及び第二層が有する機能は、特に限定されるものではないが、上記第一層はハードコート層であることが好ましい。また、上記第二層は、耐擦傷層であることが好ましい。
本発明の防眩フィルムは、第一層、第二層としてのハードコート層、耐擦傷層以外の機能層をさらに有していてもよい。
本発明の防眩フィルムの層構成としては、例えば以下のような層構成が挙げられる。
・基材／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／接着剤層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／導電層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／バリア層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／紫外線吸収層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）／耐指紋付着層（第三層）
本発明の防眩フィルムは、第一層、第二層としてのハードコート層、耐擦傷層以外の機能層をさらに有していてもよい。
本発明の防眩フィルムの層構成としては、例えば以下のような層構成が挙げられる。
・基材／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／接着剤層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／導電層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／バリア層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／紫外線吸収層／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）
・基材／ハードコート層（第一層）／耐擦傷層（第二層）／耐指紋付着層（第三層）
【0033】
〔基材〕
本発明の防眩フィルムは、基材を有する。以下、基材の素材（基材を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
本発明の防眩フィルムは、基材を有する。以下、基材の素材（基材を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
【0034】
本発明の防眩フィルムに用いる基材は、可視光領域の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
【0035】
（ポリマー）
基材はポリマーを含むことが好ましい。
ポリマーとしては、光学的な透明性、機械的強度、熱安定性などに優れるポリマーが好ましい。
基材はポリマーを含むことが好ましい。
ポリマーとしては、光学的な透明性、機械的強度、熱安定性などに優れるポリマーが好ましい。
【0036】
ポリマーとしては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマー、又は上記ポリマー同士の共重合体、上記ポリマー同士を混合したポリマーも挙げられる。
【0037】
特に、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー及びイミド系ポリマーは、ＪＩＳ（日本工業規格） Ｐ８１１５（２００１）に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が大きく、硬度も比較的高いことから、基材として好ましく用いることができる。例えば、特許第５６９９４５４号公報の実施例１にあるような芳香族ポリアミド、特表２０１５－５０８３４５号公報、特表２０１６－５２１２１６号公報、及びＷＯ２０１７／０１４２８７号公報に記載のポリイミドを基材として好ましく用いることができる。
アミド系ポリマーとしては、芳香族ポリアミド（アラミド系ポリマー）が好ましい。
基材は、イミド系ポリマー及びアラミド系ポリマーから選ばれる少なくとも１種のポリマーを含有することが好ましい。
アミド系ポリマーとしては、芳香族ポリアミド（アラミド系ポリマー）が好ましい。
基材は、イミド系ポリマー及びアラミド系ポリマーから選ばれる少なくとも１種のポリマーを含有することが好ましい。
【0038】
また、基材は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【0039】
（柔軟化素材）
基材は、上記のポリマーを更に柔軟化する素材を含有しても良い。柔軟化素材とは、破断折り曲げ回数を向上させる化合物を指し、柔軟化素材としては、ゴム質弾性体、脆性改良剤、可塑剤、スライドリングポリマー等を用いることが出来る。
柔軟化素材として具体的には、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［００５１］～［０１１４］に記載の柔軟化素材を好適に用いることができる。
基材は、上記のポリマーを更に柔軟化する素材を含有しても良い。柔軟化素材とは、破断折り曲げ回数を向上させる化合物を指し、柔軟化素材としては、ゴム質弾性体、脆性改良剤、可塑剤、スライドリングポリマー等を用いることが出来る。
柔軟化素材として具体的には、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［００５１］～［０１１４］に記載の柔軟化素材を好適に用いることができる。
【0040】
柔軟化素材は、ポリマーに単独で混合しても良いし、複数を適宜併用して混合しても良いし、また、ポリマーと混合せずに、柔軟化素材のみを単独又は複数併用で用いて基材としても良い。
【0041】
これらの柔軟化素材を混合する量は、とくに制限はなく、単独で十分な破断折り曲げ回数を持つポリマーを単独でフィルムの基材としても良いし、柔軟化素材を混合しても良いし、すべてを柔軟化素材（１００％）として十分な破断折り曲げ回数を持たせても良い。
【0042】
（その他の添加剤）
基材には、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点又は沸点において特に限定されるものではない。また添加剤を添加する時期は基材を作製する工程において何れの時点で添加しても良く、素材調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
その他の添加剤としては、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［０１１７］～［０１２２］に記載の添加剤を好適に用いることができる。
基材には、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点又は沸点において特に限定されるものではない。また添加剤を添加する時期は基材を作製する工程において何れの時点で添加しても良く、素材調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
その他の添加剤としては、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［０１１７］～［０１２２］に記載の添加剤を好適に用いることができる。
【0043】
以上の添加剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0044】
（基材の厚み）
基材はフィルム状であることが好ましい。
基材の厚みは、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であることが更に好ましく、５０μｍ以下が最も好ましい。また、基材の取り扱いの容易さの観点から基材の厚みは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、１５μｍ以上が最も好ましい。
基材はフィルム状であることが好ましい。
基材の厚みは、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であることが更に好ましく、５０μｍ以下が最も好ましい。また、基材の取り扱いの容易さの観点から基材の厚みは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、１５μｍ以上が最も好ましい。
【0045】
基材の少なくとも一方の面には、表面処理を施してもよい。
【0046】
〔第一層〕
本発明の防眩フィルムは、基材上に第一層を有する。第一層は、ハードコート層であることが好ましい。第一層は、ハードコート性に加え、導電性やバリア性等の機能を有していても良い。
本発明の防眩フィルムは、基材上に第一層を有する。第一層は、ハードコート層であることが好ましい。第一層は、ハードコート性に加え、導電性やバリア性等の機能を有していても良い。
【0047】
＜第一層の素材＞
本発明の防眩フィルムにおける第一層の素材（第一層を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
第一層は、第一層形成用組成物を硬化させてなるものであることが好ましい。すなわち、第一層は、第一層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましい。
本発明の防眩フィルムにおける第一層の素材（第一層を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
第一層は、第一層形成用組成物を硬化させてなるものであることが好ましい。すなわち、第一層は、第一層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましい。
【0048】
（重合性化合物（ａ１））
第一層形成用組成物は、重合性化合物（ａ１）（「化合物（ａ１）」ともいう）を含むことが好ましい。化合物（ａ１）としては特に限定されず、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
第一層形成用組成物は、重合性化合物（ａ１）（「化合物（ａ１）」ともいう）を含むことが好ましい。化合物（ａ１）としては特に限定されず、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
【0049】
ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、重合性不飽和基が挙げられ、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがさらに好ましく、（メタ）アクリルアミド基が特に好ましい。
【0050】
化合物（ａ１）は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物であることが好ましく、１分子中に３個以上のラジカル重合性基を有する化合物であることがより好ましい。
【0051】
化合物（ａ１）は、１分子中に１個以上のアミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を有する化合物が、好ましい態様として挙げられる。より好ましくは、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有し、且つ、１個以上のアミド結合、又はウレタン結合を有する化合物である。
なお、上記アミド結合は、（メタ）アクリルアミド基等のラジカル重合性基に含まれるアミド結合であってもよい。
なお、上記アミド結合は、（メタ）アクリルアミド基等のラジカル重合性基に含まれるアミド結合であってもよい。
【0052】
化合物（ａ１）の分子量は特に限定されず、モノマーでもよいし、オリゴマーでもよいし、ポリマーでもよい。
【0053】
－ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン－
化合物（ａ１）は、耐擦傷性の観点から、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン（ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）ともいう）を用いることが好ましい態様の１つとして挙げられる。
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）が有するラジカル重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることが好ましく、（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましい。
化合物（ａ１）は、耐擦傷性の観点から、ラジカル重合性基を有するポリオルガノシルセスキオキサン（ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）ともいう）を用いることが好ましい態様の１つとして挙げられる。
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）が有するラジカル重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることが好ましく、（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましい。
【0054】
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）は、下記一般式（Ｓ１－１）で表される構成単位、又は一般式（Ｓ２－１）で表される構成単位を有することが好ましい。
【0055】
【化1】
【0056】
一般式（Ｓ１－１）中、
Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又はこれらを組み合わせて得られる２価の連結基を表し、
Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｑ１１はラジカル重合性基を表す。
Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又はこれらを組み合わせて得られる２価の連結基を表し、
Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｑ１１はラジカル重合性基を表す。
【0057】
一般式（Ｓ１－１）中の「ＳｉＯ１．５」は、ポリオルガノシルセスキオキサン中、シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）により構成される構造部分を表す。
ポリオルガノシルセスキオキサンとは、加水分解性三官能シラン化合物に由来するシロキサン構成単位（シルセスキオキサン単位）を有するネットワーク型ポリマー又は多面体クラスターであり、シロキサン結合によって、ランダム構造、ラダー構造、ケージ構造などを形成し得る。本発明において、「ＳｉＯ１．５」が表す構造部分は、上記のいずれの構造であってもよいが、ラダー構造を多く含有していることが好ましい。ラダー構造を形成していることにより、ハードコートフィルムの変形回復性を良好に保つことができる。ラダー構造の形成は、ＦＴ－ＩＲ（Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を測定した際、１０２０－１０５０ｃｍ－１付近に現れるラダー構造に特徴的なＳｉ－Ｏ－Ｓｉ伸縮に由来する吸収の有無によって定性的に確認することができる。
ポリオルガノシルセスキオキサンとは、加水分解性三官能シラン化合物に由来するシロキサン構成単位（シルセスキオキサン単位）を有するネットワーク型ポリマー又は多面体クラスターであり、シロキサン結合によって、ランダム構造、ラダー構造、ケージ構造などを形成し得る。本発明において、「ＳｉＯ１．５」が表す構造部分は、上記のいずれの構造であってもよいが、ラダー構造を多く含有していることが好ましい。ラダー構造を形成していることにより、ハードコートフィルムの変形回復性を良好に保つことができる。ラダー構造の形成は、ＦＴ－ＩＲ（Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を測定した際、１０２０－１０５０ｃｍ－１付近に現れるラダー構造に特徴的なＳｉ－Ｏ－Ｓｉ伸縮に由来する吸収の有無によって定性的に確認することができる。
【0058】
一般式（Ｓ１－１）中、Ｌ１１はアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、ｉ－プロピレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－デシレン基等が挙げられる。
Ｌ１１が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ１１は、無置換の炭素数２～４の直鎖状のアルキレン基が好ましく、エチレン基、又はｎ－プロピレン基がより好ましく、さらに好ましくはｎ－プロピレン基である。
Ｌ１１が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ１１は、無置換の炭素数２～４の直鎖状のアルキレン基が好ましく、エチレン基、又はｎ－プロピレン基がより好ましく、さらに好ましくはｎ－プロピレン基である。
【0059】
一般式（Ｓ１－１）中、Ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又はこれらを組み合わせて得られる２価の連結基を表す。
－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－を組み合わせて得られる２価の連結基としては、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊、＊－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊＊、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊＊、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊、等が挙げられる。＊は一般式（Ｓ１－１）におけるＬ１１との結合手を表し、＊＊は一般式（Ｓ１－１）におけるＬ１２との結合手を表す。
－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－を組み合わせて得られる２価の連結基としては、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊、＊－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊＊、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊＊、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊、等が挙げられる。＊は一般式（Ｓ１－１）におけるＬ１１との結合手を表し、＊＊は一般式（Ｓ１－１）におけるＬ１２との結合手を表す。
【0060】
Ｒ１１は、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊、又は－Ｏ－であることが好ましく、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊＊、又は＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－＊＊であることがより好ましい。
【0061】
一般式（Ｓ１－１）中、Ｌ１２はアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、ｉ－プロピレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－デシレン基等が挙げられる。
Ｌ１２が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ１２は、炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、又は２－ヒドロキシ－ｎ－プロピレン基がより好ましく、メチレン基又はエチレン基がさらに好ましい。
Ｌ１２が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ１２は、炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、又は２－ヒドロキシ－ｎ－プロピレン基がより好ましく、メチレン基又はエチレン基がさらに好ましい。
【0062】
一般式（Ｓ１－１）中、Ｑ１１はラジカル重合性基を表す。ラジカル重合性基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがさらに好ましい。
【0063】
一般式（Ｓ１－１）で表される構成単位は、下記一般式（Ｓ１－２）で表される構成単位であることが好ましい。
【0064】
【化2】
【0065】
一般式（Ｓ１－２）中、
Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、又は－Ｏ－を表し、
Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
ｑ１１は－ＮＨ－、又は－Ｏ－を表し、
ｑ１２は水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、又は－Ｏ－を表し、
Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
ｑ１１は－ＮＨ－、又は－Ｏ－を表し、
ｑ１２は水素原子又はメチル基を表す。
【0066】
一般式（Ｓ１－２）中の「ＳｉＯ１．５」は、ポリオルガノシルセスキオキサン中、シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）により構成される構造部分を表す。
【0067】
一般式（Ｓ１－２）中、Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表す。Ｌ１１は一般式（Ｓ１－１）中のＬ１１と同義であり、好ましい例も同様である。
一般式（Ｓ１－２）中、Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表す。Ｌ１２は一般式（Ｓ１－１）中のＬ１２と同義であり、好ましい例も同様である。
ｑ１２は水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
一般式（Ｓ１－２）中、Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表す。Ｌ１２は一般式（Ｓ１－１）中のＬ１２と同義であり、好ましい例も同様である。
ｑ１２は水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
【0068】
【化3】
【0069】
一般式（Ｓ２－１）中、
Ｌ２１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｑ２１は（メタ）アクリルアミド基を表す。
Ｌ２１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、
Ｑ２１は（メタ）アクリルアミド基を表す。
【0070】
一般式（Ｓ２－１）中の「ＳｉＯ１．５」は、ポリオルガノシルセスキオキサン中、シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）により構成される構造部分を表す。
【0071】
一般式（Ｓ２－１）中、Ｌ２１はアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、ｉ－プロピレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－デシレン基等が挙げられる。
Ｌ２１が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ２１は、無置換の炭素数２～４の直鎖状のアルキレン基が好ましく、エチレン基、又はｎ－プロピレン基がより好ましく、さらに好ましくはｎ－プロピレン基である。
Ｌ２１が表すアルキレン基が置換基を有する場合の置換基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、シリル基等が挙げられる。
Ｌ２１は、無置換の炭素数２～４の直鎖状のアルキレン基が好ましく、エチレン基、又はｎ－プロピレン基がより好ましく、さらに好ましくはｎ－プロピレン基である。
【0072】
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）は、本発明の効果に影響を及ぼさない範囲において、上記一般式（Ｓ１－１）、又は（Ｓ２－１）で表される構成単位以外の構成単位を有していてもよい。ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）において、上記一般式（Ｓ１－１）、又は（Ｓ２－１）で表される構成単位以外の構成単位の含有モル比率は、全構成単位に対して、１０モル％以下であることが好ましく、５モル％以下であることがより好ましく、上記一般式（Ｓ１－１）、又は（Ｓ２－１）で表される構成単位以外の構成単位を含まないことがさらに好ましい。
【0073】
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。下記構造式において、「ＳｉＯ１．５」は、シルセスキオキサン単位を表す。
【0074】
【化4】
【0075】
鉛筆硬度向上の観点から、ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）のゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは５０００～１００００００であり、より好ましくは１００００～１００００００であり、更に好ましくは１００００～１０００００である。
【0076】
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）のＧＰＣによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、例えば１．０～４．０であり、好ましくは１．１～３．７であり、より好ましくは１．２～３．０であり、さらに好ましくは１．３～２．５である。Ｍｗは重量平均分子量を表し、Ｍｎは数平均分子量を表す。
【0077】
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の重量平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定する。
測定装置：商品名「ＬＣ－２０ＡＤ」（（株）島津製作所製）
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ－８０１×２本、ＫＦ－８０２、及びＫＦ－８０３（昭和電工（株）製）
測定温度：４０℃
溶離液：Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、試料濃度０．１～０．２質量％
流量：１ｍＬ／分
検出器：ＵＶ－ＶＩＳ検出器（商品名「ＳＰＤ－２０Ａ」、（株）島津製作所製）
分子量：標準ポリスチレン換算
測定装置：商品名「ＬＣ－２０ＡＤ」（（株）島津製作所製）
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ－８０１×２本、ＫＦ－８０２、及びＫＦ－８０３（昭和電工（株）製）
測定温度：４０℃
溶離液：Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、試料濃度０．１～０．２質量％
流量：１ｍＬ／分
検出器：ＵＶ－ＶＩＳ検出器（商品名「ＳＰＤ－２０Ａ」、（株）島津製作所製）
分子量：標準ポリスチレン換算
【0078】
－ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の製造方法－
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の製造方法は、特に限定されず、公知の製造方法を用いて製造することができるが、例えば、加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。上記加水分解性シラン化合物としては、下記一般式（Ｓｄ１－１）で表される化合物、下記一般式（Ｓｄ２－１）で表される化合物等を使用することが好ましい。
下記一般式（Ｓｄ１－１）で表される化合物は、上記一般式（Ｓ１－１）で表される構成単位に対応し、下記一般式（Ｓｄ２－１）で表される化合物は、上記一般式（Ｓ２－１）で表される構成単位に対応する。
ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の製造方法は、特に限定されず、公知の製造方法を用いて製造することができるが、例えば、加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。上記加水分解性シラン化合物としては、下記一般式（Ｓｄ１－１）で表される化合物、下記一般式（Ｓｄ２－１）で表される化合物等を使用することが好ましい。
下記一般式（Ｓｄ１－１）で表される化合物は、上記一般式（Ｓ１－１）で表される構成単位に対応し、下記一般式（Ｓｄ２－１）で表される化合物は、上記一般式（Ｓ２－１）で表される構成単位に対応する。
【0079】
【化5】
【0080】
一般式（Ｓｄ１－１）中、Ｘ１～Ｘ３は各々独立にアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｌ１１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ｒ１１は単結合、－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又はこれらを組み合わせて得られる２価の連結基を表し、Ｌ１２は置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ｑ１１はラジカル重合性基を表す。但し、一般式（Ｓ１－１）で表される構成単位は水素結合を形成し得る水素原子を含む基を少なくとも１つ有する。
一般式（Ｓｄ２－１）中、Ｘ４～Ｘ６は各々独立にアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｌ２１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ｑ２１は（メタ）アクリルアミド基を表す。
一般式（Ｓｄ２－１）中、Ｘ４～Ｘ６は各々独立にアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｌ２１は置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ｑ２１は（メタ）アクリルアミド基を表す。
【0081】
一般式（Ｓｄ１－１）中のＬ１１、Ｒ１１、Ｌ１２、及びＱ１１は、一般式（Ｓ１－１）中のＬ１１、Ｒ１１、Ｌ１２、及びＱ１１とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｓｄ２－１）中のＬ２１、及びＱ２１は、一般式（Ｓ２－１）中のＬ２１、及びＱ２１とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｓｄ２－１）中のＬ２１、及びＱ２１は、一般式（Ｓ２－１）中のＬ２１、及びＱ２１とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
【0082】
一般式（Ｓｄ１－１）、（Ｓｄ２－１）中、Ｘ１～Ｘ６は各々独立にアルコキシ基又はハロゲン原子を示す。
上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数１～４のアルコキシ基等が挙げられる。
上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Ｘ１～Ｘ６としては、アルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。なお、Ｘ１～Ｘ６は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数１～４のアルコキシ基等が挙げられる。
上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Ｘ１～Ｘ６としては、アルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。なお、Ｘ１～Ｘ６は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
【0083】
上記加水分解性シラン化合物の使用量及び組成は、所望するポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の構造に応じて適宜調整できる。
【0084】
また、上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うことも、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。
【0085】
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うことも、非存在下で行うこともでき、溶媒の存在下で行うことが好ましい。
上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。
上記溶媒としては、ケトン又はエーテルが好ましい。なお、溶媒は１種を単独で使用することも、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。
上記溶媒としては、ケトン又はエーテルが好ましい。なお、溶媒は１種を単独で使用することも、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【0086】
溶媒の使用量は、特に限定されず、通常、加水分解性シラン化合物の全量１００質量部に対して、０～２０００質量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。
【0087】
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。
上記酸触媒としては、特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸；リン酸エステル；酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等のスルホン酸；活性白土等の固体酸；塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。
上記アルカリ触媒としては、特に限定されず、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩；酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩（例えば、酢酸塩）；酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩（例えば、酢酸塩）；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔ－ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド；ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド；トリエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン等のアミン類（第３級アミン等）；ピリジン、２，２'－ビピリジル、１，１０－フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。
なお、触媒は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水又は溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。
上記酸触媒としては、特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸；リン酸エステル；酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等のスルホン酸；活性白土等の固体酸；塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。
上記アルカリ触媒としては、特に限定されず、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩；酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩（例えば、酢酸塩）；酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩（例えば、酢酸塩）；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔ－ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド；ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド；トリエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン等のアミン類（第３級アミン等）；ピリジン、２，２'－ビピリジル、１，１０－フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。
なお、触媒は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水又は溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。
【0088】
上記触媒の使用量は、特に限定されず、通常、加水分解性シラン化合物の全量１モルに対して、０．００２～０．２００モルの範囲内で、適宜調整することができる。
【0089】
上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、通常、加水分解性シラン化合物の全量１モルに対して、０．５～４０モルの範囲内で、適宜調整することができる。
【0090】
上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量（全使用量）を一括で添加しても、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加しても、間欠的に添加してもよい。
【0091】
上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されず、例えば４０～１００℃であり、好ましくは４５～８０℃である。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されず、例えば０．１～１５時間であり、好ましくは１．５～１０時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。
【0092】
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）を得ることができる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、触媒を中和してもよい。また、ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１）を、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。
【0093】
－ウレタン（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリルアミド化合物－
上記ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の他、化合物（ａ１）の好ましい態様として、ウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物は、１分子中に２個以上の重合性基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物が好ましく、１分子中に３個以上の重合性基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物がより好ましい。
具体的には、以下の化合物が好ましく挙げられる。
上記ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）の他、化合物（ａ１）の好ましい態様として、ウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物は、１分子中に２個以上の重合性基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物が好ましく、１分子中に３個以上の重合性基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物や（メタ）アクリルアミド化合物がより好ましい。
具体的には、以下の化合物が好ましく挙げられる。
【0094】
【化6】
【0095】
化合物（ａ１）は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
【0096】
第一層形成用組成物における化合物（ａ１）の含有率は、特に限定されないが、第一層形成用組成物の全固形分に対して、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましい。また、第一層形成用組成物における化合物（ａ１）の含有率は、第一層形成用組成物の全固形分に対して、９９．９質量％以下であることが好ましく、９８質量％以下であることがより好ましく、９７質量％以下であることが更に好ましい。
なお、全固形分とは溶剤以外の全成分のことである。
なお、全固形分とは溶剤以外の全成分のことである。
【0097】
＜重合開始剤＞
第一層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
第一層形成用組成物中に用いる化合物（ａ１）が有する重合性基がラジカル重合性基であれば、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤は、ラジカル光重合開始剤でも、ラジカル熱重合開始剤でも良いが、ラジカル光重合開始剤であることがより好ましい。
重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
第一層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
第一層形成用組成物中に用いる化合物（ａ１）が有する重合性基がラジカル重合性基であれば、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤は、ラジカル光重合開始剤でも、ラジカル熱重合開始剤でも良いが、ラジカル光重合開始剤であることがより好ましい。
重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
【0098】
ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のアセトフェノン類；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４′－メチル－ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４－ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、２－（３－ジメチルアミノ－２－ヒドロキシ）－３，４－ジメチル－９Ｈ－チオキサントン－９－オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等が挙げられる。また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４′－ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４′－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ジメチルアミノエチル安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、２，４－ジエチルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソン等を併用してもよい。
以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。
以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。
【0099】
第一層形成用組成物中の重合開始剤の含有率は、特に限定されるものではないが、例えば化合物（ａ１）１００質量部に対して、０．１～２００質量部が好ましく、１～５０質量部がより好ましい。
【0100】
＜溶媒＞
第一層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の一種または二種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。
第一層形成用組成物における溶媒の含有率は、第一層形成用組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、第一層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
第一層形成用組成物は、通常、液の形態をとる。
第一層形成用組成物の固形分の濃度は、通常、１０～９０質量％程度であり、好ましくは２０～８０質量％、特に好ましくは４０～７０質量％程度である。
第一層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の一種または二種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。
第一層形成用組成物における溶媒の含有率は、第一層形成用組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、第一層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
第一層形成用組成物は、通常、液の形態をとる。
第一層形成用組成物の固形分の濃度は、通常、１０～９０質量％程度であり、好ましくは２０～８０質量％、特に好ましくは４０～７０質量％程度である。
【0101】
＜その他の添加剤＞
第一層形成用組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機微粒子、分散剤、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤等を含有していてもよい。
界面活性剤は特に限定されず、例えば以下の構造の化合物を用いることができる。下記構造式において繰り返し単位の比率は質量比率である。
界面活性剤の分子量は特に限定されないが、例えば重量平均分子量が３０００以下であると好ましい。
第一層形成用組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機微粒子、分散剤、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤等を含有していてもよい。
界面活性剤は特に限定されず、例えば以下の構造の化合物を用いることができる。下記構造式において繰り返し単位の比率は質量比率である。
界面活性剤の分子量は特に限定されないが、例えば重量平均分子量が３０００以下であると好ましい。
【0102】
【化7】
【0103】
【化8】
【0104】
【化9】
【0105】
【化10】
【0106】
【化11】
【0107】
【化12】
【0108】
【化13】
【0109】
【化14】
【0110】
第一層形成用組成物は、以上説明した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
【0111】
本発明の防眩フィルムの第一層は、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物の硬化物を含むことが好ましく、より好ましくは、ポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）及び重合開始剤を含む第一層形成用組成物の硬化物を含むものである。
第一層形成用組成物の硬化物は、少なくとも、重合性化合物（ａ１）の重合性基が重合反応により結合してなる硬化物を含むことが好ましい。
本発明の防眩フィルムの第一層における、上記第一層形成用組成物の硬化物の含有率は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。
第一層形成用組成物の硬化物は、少なくとも、重合性化合物（ａ１）の重合性基が重合反応により結合してなる硬化物を含むことが好ましい。
本発明の防眩フィルムの第一層における、上記第一層形成用組成物の硬化物の含有率は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。
【0112】
（第一層の屈折率）
第一層の屈折率ｎ１は、干渉ムラの観点から、１．４８～１．７０が好ましく、１．５０～１．６５がより好ましく、１．５１～１．６０がさらに好ましい。
上記第一層の屈折率ｎ１は、例えば、重合性化合物（ａ１）の種類により調整することができる。
第一層の屈折率ｎ１は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計 ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定される。
第一層の屈折率ｎ１は、干渉ムラの観点から、１．４８～１．７０が好ましく、１．５０～１．６５がより好ましく、１．５１～１．６０がさらに好ましい。
上記第一層の屈折率ｎ１は、例えば、重合性化合物（ａ１）の種類により調整することができる。
第一層の屈折率ｎ１は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計 ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定される。
【0113】
（第一層の弾性率）
第一層の２５℃における弾性率Ｇ１は、耐擦傷性及び鉛筆硬度の観点から、４～１５ＧＰａが好ましく、６～１２ＧＰａがより好ましく、７～１０ＧＰａがさらに好ましい。
上記第一層の弾性率Ｇ１は、例えば、重合性化合物（ａ１）の種類により調整することができる。
第一層の２５℃における弾性率Ｇ１は、第一層の基材側とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用い、下記条件で測定した。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
第一層の２５℃における弾性率Ｇ１は、耐擦傷性及び鉛筆硬度の観点から、４～１５ＧＰａが好ましく、６～１２ＧＰａがより好ましく、７～１０ＧＰａがさらに好ましい。
上記第一層の弾性率Ｇ１は、例えば、重合性化合物（ａ１）の種類により調整することができる。
第一層の２５℃における弾性率Ｇ１は、第一層の基材側とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用い、下記条件で測定した。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
【0114】
（第一層の膜厚）
第一層の平均膜厚は特に限定されないが、０．５～３０μｍであることが好ましく、１～２５μｍであることがより好ましく、２～２０μｍであることが更に好ましく、２～１４μｍであることが特に好ましく、２～１０μｍであることが最も好ましい。
第一層の膜厚は、防眩フィルムの断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して算出する。断面試料は、断面切削装置ウルトラミクロトームを用いたミクロトーム法や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置を用いた断面加工法などにより作成できる。
第一層の平均膜厚は特に限定されないが、０．５～３０μｍであることが好ましく、１～２５μｍであることがより好ましく、２～２０μｍであることが更に好ましく、２～１４μｍであることが特に好ましく、２～１０μｍであることが最も好ましい。
第一層の膜厚は、防眩フィルムの断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して算出する。断面試料は、断面切削装置ウルトラミクロトームを用いたミクロトーム法や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置を用いた断面加工法などにより作成できる。
【0115】
〔第二層〕
本発明の防眩フィルムは、上記第一層の基材とは反対側に第二層を有する。第二層は、耐擦傷層であることが好ましい。
本発明の防眩フィルムは、上記第一層の基材とは反対側に第二層を有する。第二層は、耐擦傷層であることが好ましい。
【0116】
＜耐擦傷層の素材＞
本発明の防眩フィルムにおける第二層の素材（第二層を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
第二層は、第二層形成用組成物を硬化させてなるものであることが好ましい。すなわち、第二層は、第二層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましい。
本発明の防眩フィルムにおける第二層の素材（第二層を形成する材料）等の好ましい態様を説明する。
第二層は、第二層形成用組成物を硬化させてなるものであることが好ましい。すなわち、第二層は、第二層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましい。
【0117】
（重合性化合物（ｃ１））
第一層形成用組成物は、重合性化合物（ｃ１）（「化合物（ｃ１）」ともいう。）を含むことが好ましい。化合物（ｃ１）としては特に限定されず、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、重合性不飽和基が挙げられ、具体的には、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがさらに好ましく、（メタ）アクリルアミド基が特に好ましい。
第一層形成用組成物は、重合性化合物（ｃ１）（「化合物（ｃ１）」ともいう。）を含むことが好ましい。化合物（ｃ１）としては特に限定されず、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、重合性不飽和基が挙げられ、具体的には、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であることがさらに好ましく、（メタ）アクリルアミド基が特に好ましい。
【0118】
化合物（ｃ１）は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有する化合物であることが好ましく、１分子中に３個以上のラジカル重合性基を有する化合物であることがより好ましい。
【0119】
化合物（ｃ１）は、１分子中に１個以上のアミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を有する化合物が、好ましい態様として挙げられる。より好ましくは、１分子中に２個以上のラジカル重合性基を有し、且つ、１個以上のアミド結合、又はウレタン結合を有する化合物である。
なお、上記アミド結合は、（メタ）アクリルアミド基等のラジカル重合性基に含まれるアミド結合であってもよい。
なお、上記アミド結合は、（メタ）アクリルアミド基等のラジカル重合性基に含まれるアミド結合であってもよい。
【0120】
なお、化合物（ｃ１）の分子量は特に限定されず、モノマーでもよいし、オリゴマーでもよいし、ポリマーでもよい。
【0121】
化合物（ｃ１）としては、上述の化合物（ａ１）として挙げたポリオルガノシルセスキオキサン（ａ１－１）や、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、アクリルアミド化合物が好ましい態様として挙げられる。
【0122】
化合物（ｃ１）は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
【0123】
化合物（ｃ１）は、表面凹凸制御の観点から、化合物（ａ１）として挙げた化合物の他に、さらに１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を併用することも好ましい。
１分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、及びこれらの化合物を変性（例えば、アルキレンオキサイド変性）した化合物等が好適に例示される。
１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルが挙げられる。具体的には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの化合物を変性（例えば、アルキレンオキサイド変性）した化合物などが挙げられる。
１分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、及びこれらの化合物を変性（例えば、アルキレンオキサイド変性）した化合物等が好適に例示される。
１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルが挙げられる。具体的には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの化合物を変性（例えば、アルキレンオキサイド変性）した化合物などが挙げられる。
【0124】
化合物（ｃ１）として、上記１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を併用する場合の含有量としては、化合物（ｃ１）全量に対して、０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、２０～６０質量％がさらに好ましい。
【0125】
第二層形成用組成物中の化合物（ｃ１）の含有率は、第二層形成用組成物中の全固形分に対して、８０質量％以上であることが好ましく、８５質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。
【0126】
（重合開始剤）
第二層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
第二層形成用組成物中に用いる化合物（ｃ１）が有する重合性基がラジカル重合性基であれば、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤は、ラジカル光重合開始剤でも、ラジカル熱重合開始剤でも良いが、ラジカル光重合開始剤であることがより好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、前述の第一層形成用組成物が含んでいてもよいラジカル重合開始剤と同様である。
重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
第二層形成用組成物中のラジカル重合開始剤の含有率は、特に限定されるものではないが、例えば化合物（ｃ１）１００質量部に対して、０．１～２００質量部が好ましく、１～５０質量部がより好ましい。
第二層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
第二層形成用組成物中に用いる化合物（ｃ１）が有する重合性基がラジカル重合性基であれば、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤は、ラジカル光重合開始剤でも、ラジカル熱重合開始剤でも良いが、ラジカル光重合開始剤であることがより好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、前述の第一層形成用組成物が含んでいてもよいラジカル重合開始剤と同様である。
重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
第二層形成用組成物中のラジカル重合開始剤の含有率は、特に限定されるものではないが、例えば化合物（ｃ１）１００質量部に対して、０．１～２００質量部が好ましく、１～５０質量部がより好ましい。
【0127】
（溶媒）
第二層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、前述の第一層形成用組成物が含んでいてもよい溶媒と同様である。
第二層形成用組成物における溶媒の含有率は、第二層形成用組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、第二層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
後述するように、本発明の防眩フィルムは、半硬化した第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布する。この際、半硬化した第一層塗膜に第二層形成用組成物の一部が浸透するものと考えられるが、浸透率を調整するにあたり、第二層形成用組成物における溶媒の含有率を調整することも好ましい。
第二層形成用組成物は、通常、液の形態をとる。
第二層形成用組成物の固形分の濃度は、通常、５～５０質量％であり、好ましくは１０～４０質量％、特に好ましくは１５～３５質量％である。
第二層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、前述の第一層形成用組成物が含んでいてもよい溶媒と同様である。
第二層形成用組成物における溶媒の含有率は、第二層形成用組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、第二層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
後述するように、本発明の防眩フィルムは、半硬化した第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布する。この際、半硬化した第一層塗膜に第二層形成用組成物の一部が浸透するものと考えられるが、浸透率を調整するにあたり、第二層形成用組成物における溶媒の含有率を調整することも好ましい。
第二層形成用組成物は、通常、液の形態をとる。
第二層形成用組成物の固形分の濃度は、通常、５～５０質量％であり、好ましくは１０～４０質量％、特に好ましくは１５～３５質量％である。
【0128】
（その他添加剤）
第二層形成用組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機粒子、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、滑り剤、溶媒等を含有していてもよい。
特に、滑り剤として下記の含フッ素化合物を含有することが好ましい。
第二層形成用組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機粒子、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、滑り剤、溶媒等を含有していてもよい。
特に、滑り剤として下記の含フッ素化合物を含有することが好ましい。
【0129】
［含フッ素化合物］
含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでもよい。含フッ素化合物は、第二層中で化合物（ｃ１）との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性及び付加重合性のうちいずれかを示す重合性反応基であればよく、好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基が挙げられる。その中でもラジカル重合性基が好ましく、中でもアクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
含フッ素化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。
含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでもよい。含フッ素化合物は、第二層中で化合物（ｃ１）との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性及び付加重合性のうちいずれかを示す重合性反応基であればよく、好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基が挙げられる。その中でもラジカル重合性基が好ましく、中でもアクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
含フッ素化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。
【0130】
上記含フッ素化合物は、下記一般式（Ｆ）で表されるフッ素系化合物が好ましい。
一般式（Ｆ）： （Ｒｆ）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎｆ］ｍｆ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは単結合又は連結基、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎｆは１～３の整数を表す。ｍｆは１～３の整数を表す。）
一般式（Ｆ）： （Ｒｆ）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎｆ］ｍｆ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは単結合又は連結基、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎｆは１～３の整数を表す。ｍｆは１～３の整数を表す。）
【0131】
一般式（Ｆ）において、ＲＡは重合性不飽和基を表す。重合性不飽和基は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線を照射することによりラジカル重合反応を起こしうる不飽和結合を有する基（すなわち、ラジカル重合性基）であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換された基が好ましく用いられる。
【0132】
一般式（Ｆ）において、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を表す。
ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基及びパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。耐擦傷性の観点では、Ｒｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。
ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基及びパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。耐擦傷性の観点では、Ｒｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。
【0133】
（パー）フルオロアルキル基は、炭素数１～２０の基が好ましく、より好ましくは炭素数１～１０の基である。
（パー）フルオロアルキル基は、直鎖構造（例えば－ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、－ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ）であっても、分岐構造（例えば－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環で、例えばパーフルオロシクロへキシル基及びパーフルオロシクロペンチル基並びにこれらの基で置換されたアルキル基）であってもよい。
（パー）フルオロアルキル基は、直鎖構造（例えば－ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、－ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ）であっても、分岐構造（例えば－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環で、例えばパーフルオロシクロへキシル基及びパーフルオロシクロペンチル基並びにこれらの基で置換されたアルキル基）であってもよい。
【0134】
（パー）フルオロポリエーテル基は、（パー）フルオロアルキル基がエーテル結合を有している場合を指し、１価でも２価以上の基であってもよい。フルオロポリエーテル基としては、例えば－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、フッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。また、パーフルオロポリエーテル基としては、例えば、－（ＣＦ２Ｏ）ｐｆ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑｆ－、－［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｐｆ―［ＣＦ（ＣＦ３）］ｑｆ－、－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐｆ－、－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐｆ－などが挙げられる。
上記ｐｆ及びｑｆはそれぞれ独立に０～２０の整数を表す。ただしｐｆ＋ｑｆは１以上の整数である。
ｐｆ及びｑｆの総計は１～８３が好ましく、１～４３がより好ましく、５～２３がさらに好ましい。
上記含フッ素化合物は、耐擦傷性に優れるという観点から－（ＣＦ２Ｏ）ｐｆ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑｆ－で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが特に好ましい。
上記ｐｆ及びｑｆはそれぞれ独立に０～２０の整数を表す。ただしｐｆ＋ｑｆは１以上の整数である。
ｐｆ及びｑｆの総計は１～８３が好ましく、１～４３がより好ましく、５～２３がさらに好ましい。
上記含フッ素化合物は、耐擦傷性に優れるという観点から－（ＣＦ２Ｏ）ｐｆ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑｆ－で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが特に好ましい。
【0135】
本発明においては、含フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有することが好ましい。
【0136】
一般式（Ｆ）において、Ｗは連結基を表す。Ｗとしては、例えばアルキレン基、アリーレン基及びヘテロアルキレン基、並びにこれらの基が組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、オキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルイミノ基及びスルホンアミド基等、並びにこれらの基が組み合わさった官能基を有してもよい。
Ｗとして、好ましくは、エチレン基、より好ましくは、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基である。
Ｗとして、好ましくは、エチレン基、より好ましくは、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基である。
【0137】
含フッ素化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上が好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、４０～７０質量％がさらに好ましい。
【0138】
好ましい含フッ素化合物の例としては、ダイキン化学工業（株）製のＲ－２０２０、Ｍ－２０２０、Ｒ－３８３３、Ｍ－３８３３及びオプツールＤＡＣ（以上商品名）、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７９Ａ、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０、ディフェンサＭＣＦ－３００及びＭＣＦ－３２３（以上商品名）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【0139】
耐擦傷性の観点から、一般式（Ｆ）において、ｎｆとｍｆの積（ｎｆ×ｍｆ）は２以上が好ましく、４以上がより好ましい。
【0140】
重合性不飽和基を有する含フッ素化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定できる。
本発明で用いられる含フッ素化合物のＭｗは４００以上５００００未満が好ましく、４００以上３００００未満がより好ましく、４００以上２５０００未満が更に好ましい。
本発明で用いられる含フッ素化合物のＭｗは４００以上５００００未満が好ましく、４００以上３００００未満がより好ましく、４００以上２５０００未満が更に好ましい。
【0141】
含フッ素化合物の含有率は、第二層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。
【0142】
本発明に用いる第二層形成用組成物は、以上説明した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
【0143】
本発明の防眩フィルムの第二層は、化合物（ｃ１）を含む第二層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましく、より好ましくは、化合物（ｃ１）及びラジカル重合開始剤を含む第二層形成用組成物の硬化物を含むものである。
第二層形成用組成物の硬化物は、少なくとも、化合物（ｃ１）のラジカル重合性基が重合反応してなる硬化物を含むことが好ましい。
第二層における第二層形成用組成物の硬化物の含有率は、第二層の全質量に対して６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が更に好ましい。
第二層形成用組成物の硬化物は、少なくとも、化合物（ｃ１）のラジカル重合性基が重合反応してなる硬化物を含むことが好ましい。
第二層における第二層形成用組成物の硬化物の含有率は、第二層の全質量に対して６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が更に好ましい。
【0144】
（第二層の屈折率）
第二層の屈折率ｎ２は、干渉ムラの観点から、１．４８～１．７０が好ましく、１．５０～１．６５がより好ましく、１．５１～１．６０がさらに好ましい。
上記第二層の屈折率ｎ２は、例えば、重合性化合物（ｃ１）の種類により調整することができる。
第二層の屈折率ｎ２は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計 ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定される。
第二層の屈折率ｎ２は、干渉ムラの観点から、１．４８～１．７０が好ましく、１．５０～１．６５がより好ましく、１．５１～１．６０がさらに好ましい。
上記第二層の屈折率ｎ２は、例えば、重合性化合物（ｃ１）の種類により調整することができる。
第二層の屈折率ｎ２は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計 ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定される。
【0145】
本発明の防眩フィルムは、下記式（ｉ）で表される第一層の屈折率ｎ１と、第二層の屈折率ｎ２の差の絶対値Δｎが、０．０５以下であることが好ましい。
（ｉ）Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
Δｎを０．０５以下とすることによって、フィルム製造時に所望の表面凹凸構造を形成しやすくなる。Δｎは、０．００～０．０３であることがより好ましく、０．００～０．０２であることがさらに好ましい。
Δｎは、例えば重合性化合物（ａ１）と重合性化合物（ｃ１）の種類を適宜選択することにより、調整することができる。
（ｉ）Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
Δｎを０．０５以下とすることによって、フィルム製造時に所望の表面凹凸構造を形成しやすくなる。Δｎは、０．００～０．０３であることがより好ましく、０．００～０．０２であることがさらに好ましい。
Δｎは、例えば重合性化合物（ａ１）と重合性化合物（ｃ１）の種類を適宜選択することにより、調整することができる。
【0146】
（第二層の弾性率）
第二層の２５℃における弾性率Ｇ２は、硬度（耐擦性や鉛筆硬度）の観点から、４～１５ＧＰａが好ましく、６～１２ＧＰａがより好ましく、７～１０ＧＰａがさらに好ましい。
上記第二層の弾性率Ｇ２は、例えば、重合性化合物（ｃ１）の種類により調整することができる。
第二層の２５℃における弾性率Ｇ２は、第二層の基材側とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用い、下記条件で測定した。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
第二層の２５℃における弾性率Ｇ２は、硬度（耐擦性や鉛筆硬度）の観点から、４～１５ＧＰａが好ましく、６～１２ＧＰａがより好ましく、７～１０ＧＰａがさらに好ましい。
上記第二層の弾性率Ｇ２は、例えば、重合性化合物（ｃ１）の種類により調整することができる。
第二層の２５℃における弾性率Ｇ２は、第二層の基材側とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用い、下記条件で測定した。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
【0147】
本発明の防眩フィルムは、下記式（ｉｉ）で表される第一層の弾性率Ｇ１と、第二層の弾性率Ｇ２の弾性率の差の絶対値ΔＧが、２ＧＰａ以下であることが好ましい。
（ｉｉ）ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
ΔＧを２ＧＰａ以下とすることによって、フィルム製造時に所望の表面凹凸構造を形成しやすくなる。ΔＧは、０～１．５ＧＰａであることがより好ましく、０～１．２ＧＰａがさらに好ましい。
ΔＧは、例えば重合性化合物（ａ１）と重合性化合物（ｃ１）の種類を適宜選択することにより、調整することができる。
（ｉｉ）ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
ΔＧを２ＧＰａ以下とすることによって、フィルム製造時に所望の表面凹凸構造を形成しやすくなる。ΔＧは、０～１．５ＧＰａであることがより好ましく、０～１．２ＧＰａがさらに好ましい。
ΔＧは、例えば重合性化合物（ａ１）と重合性化合物（ｃ１）の種類を適宜選択することにより、調整することができる。
【0148】
（第二層の膜厚）
第二層の平均膜厚は０．３～３μｍである。第二層の膜厚が０．３μｍ未満であると、耐擦傷性が悪化してしまう。また、第二層の膜厚が３μｍを超えると、十分な防眩性を得られなくなる。膜厚は、０．５～２μｍが好ましく、０．７～１μｍがより好ましい。
第二層の膜厚は、防眩フィルムの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して算出する。断面試料は、断面切削装置ウルトラミクロトームを用いたミクロトーム法や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置を用いた断面加工法などにより作成できる。
第二層の平均膜厚は０．３～３μｍである。第二層の膜厚が０．３μｍ未満であると、耐擦傷性が悪化してしまう。また、第二層の膜厚が３μｍを超えると、十分な防眩性を得られなくなる。膜厚は、０．５～２μｍが好ましく、０．７～１μｍがより好ましい。
第二層の膜厚は、防眩フィルムの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して算出する。断面試料は、断面切削装置ウルトラミクロトームを用いたミクロトーム法や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置を用いた断面加工法などにより作成できる。
【0149】
［防眩フィルムの製造方法］
本発明の防眩フィルムの製造方法について説明する。
本発明の防眩フィルムの製造方法は、上述の本発明の防眩フィルムの製造方法であって、下記工程（Ｉ）～（ＩＶ）をこの順に含む製造方法である。
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより、第一層及び第二層を形成する工程
本発明の防眩フィルムの製造方法について説明する。
本発明の防眩フィルムの製造方法は、上述の本発明の防眩フィルムの製造方法であって、下記工程（Ｉ）～（ＩＶ）をこの順に含む製造方法である。
（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を形成する工程
（ＩＩ）上記第一層塗膜を半硬化する工程
（ＩＩＩ）半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程
（ＩＶ）半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより、第一層及び第二層を形成する工程
【0150】
上記防眩フィルムの製造方法により、
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムが製造される。
基材、第一層及び第二層をこの順に有する防眩フィルムであって、
上記第二層は上記基材側とは反対側の表面に長細状凸部を含む凹凸構造を有し、
上記第二層の上記基材側とは反対側の表面の算術平均高さＳａが３０～１６０ｎｍであり、
上記凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離が５～８０μｍであり、
上記第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量が、上記第二層の全質量に対して、０～０．１質量％であり、
上記第二層の平均膜厚が０．３～３μｍであり、
上記防眩フィルムのヘイズが１～２０％であり、
上記防眩フィルムの上記基材側とは反対側の表面を＃００００のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら往復１００回擦った場合に傷が発生しない、防眩フィルムが製造される。
【0151】
－工程（Ｉ）－
工程（Ｉ）は、基材上に重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を設ける工程である。
基材、重合性化合物（ａ１）、及び第一層形成用組成物については前述したとおりである。
工程（Ｉ）は、基材上に重合性化合物（ａ１）を含む第一層形成用組成物を塗布して第一層塗膜を設ける工程である。
基材、重合性化合物（ａ１）、及び第一層形成用組成物については前述したとおりである。
【0152】
第一層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【0153】
－工程（ＩＩ）－
工程（ＩＩ）は、上記第一層塗膜を半硬化する工程である。なお、第一層塗膜を半硬化するとは、第一層塗膜に含まれる重合性化合物（ａ１）の重合性基の一部を重合反応させることをいう。
工程（ＩＩ）は、上記第一層塗膜を半硬化する工程である。なお、第一層塗膜を半硬化するとは、第一層塗膜に含まれる重合性化合物（ａ１）の重合性基の一部を重合反応させることをいう。
【0154】
第一層塗膜の半硬化は、電離放射線の照射又は加熱に行われることが好ましい。
【0155】
電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が好ましく用いられる。例えば第一層塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２～２０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して重合性化合物（ａ１）の一部のみを硬化することが好ましい。２０ｍＪ／ｃｍ２～５００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましく、紫外線照射量は、４０ｍＪ／ｃｍ２～３００ｍＪ／ｃｍ２であることが更に好ましい。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。
【0156】
熱により硬化する場合、温度に特に制限はないが、８０℃以上２００℃以下であることが好ましく、１００℃以上１８０℃以下であることがより好ましく、１２０℃以上１６０℃以下であることがさらに好ましい。
【0157】
硬化時の酸素濃度は０～１．０体積％であることが好ましく、０～０．１体積％であることが更に好ましく、０～０．０５体積％であることが最も好ましい。
【0158】
第一層塗膜の半硬化は、電離放射線の照射量や、加熱の温度及び時間を調節することにより行うことができる。
【0159】
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、基材側とは反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ２）は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、０～２０ｎｍであることがより好ましく、０～１０ｎｍであることが更に好ましい。
Ｓａ２は、先に記載したＳａと同様の方法で算出される。
Ｓａ２は、先に記載したＳａと同様の方法で算出される。
【0160】
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、上記重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率は、１～４０％であることが好ましい。消費率が上記範囲となるように第一層塗膜の半硬化の程度を調整することによって、後述の工程（ＩＩＩ）で塗布される第二層形成用組成物の第一層塗膜への浸透の程度が調整され、最終的に得られる防眩フィルムにおける第二層の表面形状を所望の形状に調整し易くなる。重合性基の消費率は２～３０％がより好ましく、３～２５％がさらに好ましい。
なお、重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率は、下記式（ｉｉｉ）により表されるものであり、ＦＴ－ＩＲ（Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）一回反射ＡＴＲ（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）測定を行い、二重結合基に由来するピーク高さの変化を測定することによって算出することができる。
（ｉｉｉ） 重合性基の消費率（％）＝（半硬化前の二重結合基に由来するピーク高さ－半硬化後の二重結合基に由来するピーク高さ）／（半硬化後の二重結合基に由来するピーク高さ）
なお、重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率は、下記式（ｉｉｉ）により表されるものであり、ＦＴ－ＩＲ（Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）一回反射ＡＴＲ（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）測定を行い、二重結合基に由来するピーク高さの変化を測定することによって算出することができる。
（ｉｉｉ） 重合性基の消費率（％）＝（半硬化前の二重結合基に由来するピーク高さ－半硬化後の二重結合基に由来するピーク高さ）／（半硬化後の二重結合基に由来するピーク高さ）
【0161】
上記工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率は、２～５０％であることが好ましい。ここで、回復率とは、押し込みにかけたエネルギー（面積）と戻ってくるエネルギー（面積）の比のことを指す。つまり完全弾性体の場合は回復率１００％となる。上記回復率は、下記式で算出され、第一層塗膜の一方の面とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、第一層塗膜の他方の面（ガラスと接着していない面）に対して、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用い、下記条件で測定した。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
回復率（％）＝弾性エネルギー／（弾性エネルギー＋塑性エネルギー）
弾性エネルギーは荷重を印加ときのＳＳカーブ（応力－ひずみ曲線）の面積値で、塑性エネルギーは荷重を除荷したときのＳＳカーブの面積値である。
上記回復率は、２～４０％であることがより好ましく、１０～３０％がさらに好ましい。
最大荷重：５０ｍＮ
荷重印加時間：１０秒
クリープ：５秒
荷重除荷時間：１０秒
除荷重後保持時間：６０秒
測定回数：１０回
回復率（％）＝弾性エネルギー／（弾性エネルギー＋塑性エネルギー）
弾性エネルギーは荷重を印加ときのＳＳカーブ（応力－ひずみ曲線）の面積値で、塑性エネルギーは荷重を除荷したときのＳＳカーブの面積値である。
上記回復率は、２～４０％であることがより好ましく、１０～３０％がさらに好ましい。
【0162】
－工程（ＩＩＩ）－
工程（ＩＩＩ）は、半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程である。
第二層形成用組成物については前述したとおりである。
工程（ＩＩＩ）は、半硬化した上記第一層塗膜上に、第二層形成用組成物を塗布して第二層塗膜を形成する工程である。
第二層形成用組成物については前述したとおりである。
【0163】
第二層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【0164】
第一層塗膜は半硬化塗膜であるため、工程（ＩＩＩ）において塗布された第二層形成用組成物の一部は、第一層塗膜に浸透するものと考えられる。
【0165】
－工程（ＩＶ）－
工程（ＩＶ）は、半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより、第一層及び第二層を形成する工程である。
工程（ＩＶ）は、半硬化した上記第一層塗膜、及び上記第二層塗膜を硬化することにより、第一層及び第二層を形成する工程である。
【0166】
塗膜の硬化は、電離放射線の照射又は加熱に行われることが好ましい。電離放射線の照射及び加熱については、工程（ＩＩ）において記載したものと同様である。
なお、半硬化した第一層塗膜を硬化するとは、半硬化した第一層塗膜に含まれる未反応の重合性化合物（ａ１）中の重合性基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。また、第二層塗膜を硬化するとは、第二層塗膜に含まれる硬化性化合物（好ましくは重合性化合物（ｃ１））の重合性基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。
なお、半硬化した第一層塗膜を硬化するとは、半硬化した第一層塗膜に含まれる未反応の重合性化合物（ａ１）中の重合性基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。また、第二層塗膜を硬化するとは、第二層塗膜に含まれる硬化性化合物（好ましくは重合性化合物（ｃ１））の重合性基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。
【0167】
工程（ＩＶ）では、第二層塗膜を硬化するとともに、第一層の完全硬化を行うことが好ましい。
【0168】
工程（Ｉ）と工程（ＩＩ）の間、工程（ＩＩ）と工程（ＩＩＩ）の間、工程（ＩＩＩ）と工程（ＩＶ）の間、又は工程（ＩＶ）の後に、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送、第一層及び第二層が設けられていない面（基材面）からのローラーでの加熱等により行うことができる。加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。
【0169】
特に、工程（ＩＩＩ）と工程（ＩＶ）の間に乾燥処理工程を設けることが好ましい。上述のように、工程（ＩＩＩ）において塗布された第二層形成用組成物の一部は、第一層塗膜に浸透し、第一層塗膜が膜厚方向に体積膨張するものと考えられる。そのため、半硬化した第一層塗膜及び第二層塗膜の乾燥により、これが収縮することで第二層塗膜表面に凹凸が形成されると考えられる。上記乾燥の際は乾燥速度が重要であり、乾燥速度が速すぎると（例えば風を吹かせずきると）、面内に表面凹凸が発現する部分と発現しない部分が発生しやすい。
【0170】
［表示装置］
本発明の防眩フィルムは、耐擦傷性が高く、ギラツキが少ない。そのため、本発明の防眩フィルムは、種々の表示装置、例えば、液晶表示（ＬＣＤ）装置、有機ＥＬ表示（ＯＬＥＤ）装置、プラズマディスプレイ、タッチパネル付き表示装置などの表示装置に使用できる。特に、本発明の防眩フィルムは、２００ｐｐｉ以上（特に３００ｐｐｉ以上）の高精細表示装置においてもギラツキや文字ボケによって画質を損なうことがない部材として用いることが可能である。そのため、本発明の防眩フィルムは、これらの表示装置のうち、高精細表示装置として利用されることの多い装置、例えば、液晶表示装置（タッチパネル付き表示装置でもある液晶表示装置を含む）、有機ＥＬ表示装置（タッチパネル付き表示装置でもある有機ＥＬ装置を含む）に対して好ましく利用できる。
本発明の防眩フィルムは、耐擦傷性が高く、ギラツキが少ない。そのため、本発明の防眩フィルムは、種々の表示装置、例えば、液晶表示（ＬＣＤ）装置、有機ＥＬ表示（ＯＬＥＤ）装置、プラズマディスプレイ、タッチパネル付き表示装置などの表示装置に使用できる。特に、本発明の防眩フィルムは、２００ｐｐｉ以上（特に３００ｐｐｉ以上）の高精細表示装置においてもギラツキや文字ボケによって画質を損なうことがない部材として用いることが可能である。そのため、本発明の防眩フィルムは、これらの表示装置のうち、高精細表示装置として利用されることの多い装置、例えば、液晶表示装置（タッチパネル付き表示装置でもある液晶表示装置を含む）、有機ＥＬ表示装置（タッチパネル付き表示装置でもある有機ＥＬ装置を含む）に対して好ましく利用できる。
【実施例】
【0171】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。
【0172】
＜基材の作製＞
（ポリイミド粉末の製造）
攪拌器、窒素注入装置、滴下漏斗、温度調節器及び冷却器を取り付けた１Ｌの反応器に、窒素気流下、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）８３２ｇを加えた後、反応器の温度を２５℃にした。ここに、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）６４．０４６ｇ（０．２ｍｏｌ）を加えて溶解した。得られた溶液を２５℃に維持しながら、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）３１．０９ｇ（０．０７ｍｏｌ）とビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）８．８３ｇ（０．０３ｍｏｌ）を投入し、一定時間撹拌して反応させた。その後、塩化テレフタロイル（ＴＰＣ）２０．３０２ｇ（０．１ｍｏｌ）を添加して、固形分濃度１３質量％のポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液にピリジン２５．６ｇ、無水酢酸３３．１ｇを投入して３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹拌した後、常温に冷却した。ここにメタノール２０Ｌを加え、沈澱した固形分を濾過して粉砕した。その後、１００℃下、真空で６時間乾燥させて、１１１ｇのポリイミド粉末を得た。
（ポリイミド粉末の製造）
攪拌器、窒素注入装置、滴下漏斗、温度調節器及び冷却器を取り付けた１Ｌの反応器に、窒素気流下、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）８３２ｇを加えた後、反応器の温度を２５℃にした。ここに、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）６４．０４６ｇ（０．２ｍｏｌ）を加えて溶解した。得られた溶液を２５℃に維持しながら、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）３１．０９ｇ（０．０７ｍｏｌ）とビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）８．８３ｇ（０．０３ｍｏｌ）を投入し、一定時間撹拌して反応させた。その後、塩化テレフタロイル（ＴＰＣ）２０．３０２ｇ（０．１ｍｏｌ）を添加して、固形分濃度１３質量％のポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液にピリジン２５．６ｇ、無水酢酸３３．１ｇを投入して３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹拌した後、常温に冷却した。ここにメタノール２０Ｌを加え、沈澱した固形分を濾過して粉砕した。その後、１００℃下、真空で６時間乾燥させて、１１１ｇのポリイミド粉末を得た。
【0173】
（基材Ｓ－１の作製）
１００ｇの上記ポリイミド粉末を６７０ｇのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶かして１３質量％の溶液を得た。得られた溶液をステンレス板に流延し、１３０℃の熱風で３０分乾燥させた。その後フィルムをステンレス板から剥離して、フレームにピンで固定し、フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れ、１００℃から３００℃まで加熱温度を徐々に上げながら２時間加熱し、その後、徐々に冷却した。冷却後のフィルムをフレームから分離した後、最終熱処理工程として、さらに３００℃で３０分間熱処理して、ポリイミドフィルムからなる厚み５０μｍの基材Ｓ－１を得た。
１００ｇの上記ポリイミド粉末を６７０ｇのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶かして１３質量％の溶液を得た。得られた溶液をステンレス板に流延し、１３０℃の熱風で３０分乾燥させた。その後フィルムをステンレス板から剥離して、フレームにピンで固定し、フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れ、１００℃から３００℃まで加熱温度を徐々に上げながら２時間加熱し、その後、徐々に冷却した。冷却後のフィルムをフレームから分離した後、最終熱処理工程として、さらに３００℃で３０分間熱処理して、ポリイミドフィルムからなる厚み５０μｍの基材Ｓ－１を得た。
【0174】
（基材Ｓ－２の作製）
基材Ｓ－１の作製と同様にして、ポリイミドフィルムからなる厚み３０μｍの基材Ｓ－２を作製した。を作製した。
基材Ｓ－１の作製と同様にして、ポリイミドフィルムからなる厚み３０μｍの基材Ｓ－２を作製した。を作製した。
【0175】
（基材Ｓ－３の作製）
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
＜コア層セルロースアシレートドープ＞
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステルＢ １２質量部
・下記の化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
＜コア層セルロースアシレートドープ＞
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステルＢ １２質量部
・下記の化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
【0176】
化合物Ｇ
【0177】
【化15】
【0178】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。＜マット剤溶液＞
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。＜マット剤溶液＞
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
【0179】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み５０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み４６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは０ｎｍであった。
得られたセルロースアシレートフィルム１を基材Ｓ－３として用いた。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み５０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み４６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは０ｎｍであった。
得られたセルロースアシレートフィルム１を基材Ｓ－３として用いた。
【0180】
（ポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）の合成）
アクリルアミド３－（トリメトキシシリル）プロピル３００ミリモル（７０．０ｇ）、トリエチルアミン７．３９ｇ、及びアセトン４３４ｇを混合し、純水７３．９ｇを、滴下ロートを使用して３０分かけて滴下した。この反応液を５０℃に加熱し、重縮合反応を１０時間行った。
その後、反応溶液を冷却し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液１２ｍＬで中和後、１－メトキシ－２－プロパノール６００ｇを添加後、３０ｍｍＨｇ、５０℃の条件で濃縮し、固形分濃度４９質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）溶液として透明液状の生成物であるポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）を得た。１ｍｍＨｇは、１０１３２５／７６０Ｐａである。
アクリルアミド３－（トリメトキシシリル）プロピル３００ミリモル（７０．０ｇ）、トリエチルアミン７．３９ｇ、及びアセトン４３４ｇを混合し、純水７３．９ｇを、滴下ロートを使用して３０分かけて滴下した。この反応液を５０℃に加熱し、重縮合反応を１０時間行った。
その後、反応溶液を冷却し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液１２ｍＬで中和後、１－メトキシ－２－プロパノール６００ｇを添加後、３０ｍｍＨｇ、５０℃の条件で濃縮し、固形分濃度４９質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）溶液として透明液状の生成物であるポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）を得た。１ｍｍＨｇは、１０１３２５／７６０Ｐａである。
【0181】
アクリルアミドＳＱの構造を以下に示す。下記構造式において、「ＳｉＯ１．５」は、シルセスキオキサン単位を表す。アクリルアミドＳＱの重量平均分子量は１５１００であり、数平均分子量は５７００であった。
【0182】
【化16】
【0183】
また、以下に、実施例、比較例において使用した重合性化合物の構造式を示す。
【0184】
Ｕ－４ＨＡ：（新中村化学工業(株)製）
【0185】
【化17】
【0186】
ＦＡＭ－４０１：（富士フイルム(株)製）
【0187】
【化18】
【0188】
Ａ－ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業(株)製）
【0189】
【化19】
【0190】
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業(株)製）
【0191】
＜ハードコート層形成用組成物の調製＞
（ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１の調製）
ポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）のＰＧＭＥ溶液（固形分濃度４９質量％）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１とした。
（ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１の調製）
ポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）のＰＧＭＥ溶液（固形分濃度４９質量％）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１とした。
【0192】
ポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）のＰＧＭＥ溶液（固形分濃度４９質量％） ３２．７質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．０１８質量部
イルガキュア１２７ ０．４６質量部
ＰＧＭＥ １６．８３質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．０１８質量部
イルガキュア１２７ ０．４６質量部
ＰＧＭＥ １６．８３質量部
【0193】
【化20】
【0194】
（Ｚ－１）における各構成単位の比率（７６％と２４％）は質量比率である。
【0195】
なお、イルガキュア１２７（Ｉｒｇ．１２７）は、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ．社製のラジカル重合開始剤である。
【0196】
（ハードコート層形成用組成物ＨＣ－２の調製）
ウレタンアクリレート（Ｕ－４ＨＡ）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－２とした。
ウレタンアクリレート（Ｕ－４ＨＡ）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－２とした。
【0197】
ウレタンアクリレート（Ｕ－４ＨＡ） ８．３３質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．００９質量部
イルガキュア１２７ ０．２４質量部
ＰＧＭＥ １７．４２質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．００９質量部
イルガキュア１２７ ０．２４質量部
ＰＧＭＥ １７．４２質量部
【0198】
（ハードコート層形成用組成物ＨＣ－３の調製）
アクリルアミドモノマー（ＦＡＭ－４０１）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－３とした。
アクリルアミドモノマー（ＦＡＭ－４０１）に、界面活性剤（Ｚ－１）、イルガキュア１２７及びＰＧＭＥを添加し、各含有成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－３とした。
【0199】
アクリルアミドモノマー（ＦＡＭ－４０１） ８．３３質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．００９質量部
イルガキュア１２７ ０．２４質量部
メタノール １７．４２質量部
界面活性剤（Ｚ－１） ０．００９質量部
イルガキュア１２７ ０．２４質量部
メタノール １７．４２質量部
【0200】
＜耐擦傷層形成用組成物の調製＞
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１の調製）
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１とした。
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１の調製）
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１とした。
【0201】
ポリオルガノシルセスキオキサン（アクリルアミドＳＱ）のＰＧＭＥ溶液（固形分濃度４９質量％） ２３．５２質量部
Ａ－ＴＭＭＴ １２．５４質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ６０．７９質量部
Ａ－ＴＭＭＴ １２．５４質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ６０．７９質量部
【0202】
なお、ＲＳ－９０は以下のとおりである。
ＲＳ－９０：滑り剤、ＤＩＣ（株）製
ＲＳ－９０：滑り剤、ＤＩＣ（株）製
【0203】
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－２の調製）
上記ＳＲ－１において、固形分濃度が１５質量％となるようにＰＧＭＥの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－２を調製した。
上記ＳＲ－１において、固形分濃度が１５質量％となるようにＰＧＭＥの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－２を調製した。
【0204】
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－３の調製）
上記ＳＲ－１の調製において、アクリルアミドＳＱとＡ－ＴＭＭＴの総量に対して、Ａ－ＴＭＭＴの含有量が７０質量％となるようにＡ－ＴＭＭＴの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－３を調製した。
上記ＳＲ－１の調製において、アクリルアミドＳＱとＡ－ＴＭＭＴの総量に対して、Ａ－ＴＭＭＴの含有量が７０質量％となるようにＡ－ＴＭＭＴの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－３を調製した。
【0205】
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－４の調製）
上記ＳＲ－１の調製において、アクリルアミドＳＱとＡ－ＴＭＭＴの総量に対して、Ａ－ＴＭＭＴの含有量が８０質量％となるようにＡ－ＴＭＭＴの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－４を調製した。
上記ＳＲ－１の調製において、アクリルアミドＳＱとＡ－ＴＭＭＴの総量に対して、Ａ－ＴＭＭＴの含有量が８０質量％となるようにＡ－ＴＭＭＴの添加量を変更した以外は、ＳＲ－１の調製と同様にして、ＳＲ－４を調製した。
【0206】
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－５の調製）
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－５とした。
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－５とした。
【0207】
ウレタンアクリレート（Ｕ－４ＨＡ） １２．０４質量部
Ａ－ＴＭＭＴ １２．０４質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ７２．７８質量部
Ａ－ＴＭＭＴ １２．０４質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ７２．７８質量部
【0208】
（耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－６の調製）
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－６とした。
下記に記載の組成で各成分をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、固形分濃度２５質量％の耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－６とした。
【0209】
ＤＰＨＡ ２４．０７質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ７２．７８質量部
イルガキュア１２７ ０．６９質量部
ＲＳ－９０（１０％溶液） ２．４７質量部
ＰＧＭＥ ７２．７８質量部
【0210】
［実施例１］
＜ハードコートフィルム１の製造＞
厚さ５０μｍのポリイミド基材Ｓ－１上に上記ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１をワイヤーバー＃１２を用いて、硬化後の膜厚が４．８μｍとなるようにバー塗布し、基材上にハードコート層塗膜を設けた（工程（Ｉ））。
次いで、ハードコート層塗膜を１２０℃で１分間乾燥した後、２５℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）の条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。このようにしてハードコート層塗膜を半硬化した（工程（ＩＩ））。
上記半硬化したハードコート層塗膜上に上記耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１をワイヤーバー＃３を用いて、硬化後の平均膜厚が０．８μｍとなるようにバー塗布し、耐擦傷層塗膜を設けた（工程（ＩＩＩ））。
次いで、耐擦傷層塗膜を１００℃で１分間乾燥した後、２５℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度５２ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層塗膜及び耐擦傷層塗膜を硬化した。さらに架橋を進めるため、この耐擦傷層塗膜を硬化したサンプルを１００℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度５２ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層及び耐擦傷層を形成し、防眩フィルム１を得た（工程（ＩＶ））。
防眩フィルム１の第一層はハードコート層であり、第二層は耐擦傷層である。
＜ハードコートフィルム１の製造＞
厚さ５０μｍのポリイミド基材Ｓ－１上に上記ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１をワイヤーバー＃１２を用いて、硬化後の膜厚が４．８μｍとなるようにバー塗布し、基材上にハードコート層塗膜を設けた（工程（Ｉ））。
次いで、ハードコート層塗膜を１２０℃で１分間乾燥した後、２５℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）の条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。このようにしてハードコート層塗膜を半硬化した（工程（ＩＩ））。
上記半硬化したハードコート層塗膜上に上記耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１をワイヤーバー＃３を用いて、硬化後の平均膜厚が０．８μｍとなるようにバー塗布し、耐擦傷層塗膜を設けた（工程（ＩＩＩ））。
次いで、耐擦傷層塗膜を１００℃で１分間乾燥した後、２５℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度５２ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層塗膜及び耐擦傷層塗膜を硬化した。さらに架橋を進めるため、この耐擦傷層塗膜を硬化したサンプルを１００℃のホットプレート上に接地させ、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて空冷水銀ランプを用いて、照度５２ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層及び耐擦傷層を形成し、防眩フィルム１を得た（工程（ＩＶ））。
防眩フィルム１の第一層はハードコート層であり、第二層は耐擦傷層である。
【0211】
［実施例２及び３］
ハードコート層の硬化後の膜厚、及びハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム２及び３を得た。
ハードコート層の硬化後の膜厚、及びハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム２及び３を得た。
【0212】
［実施例４］
基材をＳ－３に変更し、ハードコート層、及び耐擦傷層の硬化後の膜厚を表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム４を得た。
基材をＳ－３に変更し、ハードコート層、及び耐擦傷層の硬化後の膜厚を表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム４を得た。
【0213】
［実施例５及び６］
基材をＳ－２に変更し、ハードコート層及び耐擦傷層の各層形成用組成物の種類、硬化後の膜厚、並びにハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム５及び６を得た。
基材をＳ－２に変更し、ハードコート層及び耐擦傷層の各層形成用組成物の種類、硬化後の膜厚、並びにハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム５及び６を得た。
【0214】
［実施例７］
耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１の固形分濃度を表１に記載のように変更した以外は実施例１と同様にして、防眩フィルム７を得た。
耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１の固形分濃度を表１に記載のように変更した以外は実施例１と同様にして、防眩フィルム７を得た。
【0215】
［比較例１］
ハードコート層の硬化後の膜厚、及びハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）を表１に記載のように変更し、耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１に代えて固形分濃度の低いＳＲ－２を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較防眩フィルムｒ１を得た。
ハードコート層の硬化後の膜厚、及びハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）を表１に記載のように変更し、耐擦傷層形成用組成物ＳＲ－１に代えて固形分濃度の低いＳＲ－２を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較防眩フィルムｒ１を得た。
【0216】
［比較例２及び３］
耐擦傷層形成用組成物の種類、及び耐擦傷層の硬化後の膜厚をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、比較防眩フィルムｒ２及び比較防眩フィルムｒ３を得た。
耐擦傷層形成用組成物の種類、及び耐擦傷層の硬化後の膜厚をそれぞれ表１に記載のように変更した以外は、実施例１と同様にして、比較防眩フィルムｒ２及び比較防眩フィルムｒ３を得た。
【0217】
［比較例４］
ハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）を表１に記載のように変更した以外は実施例５と同様にして、比較防眩フィルムｒ４を得た。
ハードコート層塗膜を半硬化する工程（ＩＩ）における紫外線の照射量（ＵＶ照射量）を表１に記載のように変更した以外は実施例５と同様にして、比較防眩フィルムｒ４を得た。
【0218】
［比較例５］
比較例５として、市販の防眩フィルムＰＦ２３－１２５（ダイセル（株）製）を用いた。
比較例５として、市販の防眩フィルムＰＦ２３－１２５（ダイセル（株）製）を用いた。
【0219】
＜第一層、第二層、ハードコートフィルムの性状＞
工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、基材側とは反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ２）、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率（重合性基消費率）、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率を求めた。
また、第一層と第二層の屈折率（ｎ１及びｎ２）と弾性率（Ｇ１及びＧ２）をそれぞれ求めた。式（ｉ）と式（ｉｉ）からΔｎとΔＧを求めた。
（ｉ）Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
（ｉｉ）ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
また、第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ）、第二層の基材側とは反対側の表面の長細状凸部を含む凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離（平均凸間距離）、防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）を求めた。
なお、すべての実施例及び比較例の防眩フィルムの第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量は、第二層の全質量に対して０質量％である。
工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、基材側とは反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ２）、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、重合性化合物（ａ１）中の重合性基の消費率（重合性基消費率）、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜の回復率を求めた。
また、第一層と第二層の屈折率（ｎ１及びｎ２）と弾性率（Ｇ１及びＧ２）をそれぞれ求めた。式（ｉ）と式（ｉｉ）からΔｎとΔＧを求めた。
（ｉ）Δｎ＝｜ｎ１－ｎ２｜
（ｉｉ）ΔＧ＝｜Ｇ１－Ｇ２｜
また、第二層の基材側とは反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ）、第二層の基材側とは反対側の表面の長細状凸部を含む凹凸構造における隣り合う凸部間の平均距離（平均凸間距離）、防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）を求めた。
なお、すべての実施例及び比較例の防眩フィルムの第二層における、粒径が３００ｎｍ以上の粒子の含有量は、第二層の全質量に対して０質量％である。
【0220】
（重合性基消費率）
重合性基消費率は前述の方法で算出した。
重合性基消費率は前述の方法で算出した。
【0221】
（回復率）
回復率は前述の方法で測定した。
回復率は前述の方法で測定した。
【0222】
（ヘイズ）
防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）および全光線透過率を測定した。ヘイズおよび全光線透過率は、共に、日本電色工業社製のＳＨ－４０００を用い、ヘイズはＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して、全光線透過率はＪＩＳ Ｋ ７３６１に準拠して、それぞれ測定した。
防眩フィルムのヘイズ（全ヘイズ）および全光線透過率を測定した。ヘイズおよび全光線透過率は、共に、日本電色工業社製のＳＨ－４０００を用い、ヘイズはＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して、全光線透過率はＪＩＳ Ｋ ７３６１に準拠して、それぞれ測定した。
【0223】
（Ｓａ）
Ｓａは前述の方法で算出した。すなわち、走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）のｗａｖｅモード、対物レンズ１０倍の測定条件で測定されたデータを同解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒによって算出した。
Ｓａは前述の方法で算出した。すなわち、走査型白色干渉顕微鏡（ｖｅｒｔｓｃａｎ（登録商標）２．０，株式会社日立ハイテクサイエンス）のｗａｖｅモード、対物レンズ１０倍の測定条件で測定されたデータを同解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒによって算出した。
【0224】
（Ｓａ２）
Ｓａ２は、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、基材側とは反対側の表面について、上記Ｓａと同様に算出した。
Ｓａ２は、工程（ＩＩ）において半硬化した第一層塗膜における、基材側とは反対側の表面について、上記Ｓａと同様に算出した。
【0225】
（平均凸間距離）
平均凸間距離は前述の方法で算出した。なお、平均凸間距離は任意の１０箇所で測定した値の平均値とした。
平均凸間距離は前述の方法で算出した。なお、平均凸間距離は任意の１０箇所で測定した値の平均値とした。
【0226】
（屈折率）
ｎ１及びｎ２は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定した。
ｎ１及びｎ２は、波長５５０ｎｍの屈折率であり、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子株式会社）の複数点同一解析（屈折率が同じで、膜厚の異なるサンプルから屈折率を算出する方法）によって測定した。
【0227】
（弾性率）
Ｇ１及びＧ２は前述の方法で測定した。
Ｇ１及びＧ２は前述の方法で測定した。
【0228】
図１及び図２に実施例１で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の３Ｄ画像及び平面画像を示す。
図３及び図４に実施例２で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の３Ｄ画像及び平面画像を示す。
図１～４において右側に記載された軸は高さを表す。
図３及び図４に実施例２で得られた防眩フィルムの第二層表面の走査型白色干渉顕微鏡写真の３Ｄ画像及び平面画像を示す。
図１～４において右側に記載された軸は高さを表す。
【0229】
＜防眩フィルムの評価＞
（耐擦傷性）
防眩フィルムの耐擦傷層の表面を、ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦り試験を行った。
評価環境条件：２５℃、相対湿度６０％
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．＃００００番）
試料と接触するテスターのこすり先端部（２ｃｍ×２ｃｍ）に巻いて、バンド固定
移動距離（片道）：１３ｃｍ
擦り速度：１３ｃｍ／秒
荷重：１ｋｇ／ｃｍ２
先端部接触面積：２ｃｍ×２ｃｍ
擦り回数：往復１０回、往復１００回、往復２５０回、往復５００回
試験後の防眩フィルムの擦った面（耐擦傷層の表面）とは逆側の面（基材の表面）に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、スチールウールと接触していた部分に傷が生じたときの擦り回数を計測し評価した。
Ａ：往復５００回擦った場合に傷が生じない。
Ｂ：往復２５０回擦った場合に傷が生じないが、往復５００回擦った場合に傷が生じる。
Ｃ：往復１００回擦った場合に傷が生じないが、往復２５０回擦った場合に傷が生じる。
Ｄ：往復１０回擦った場合に傷が生じないが、往復１００回擦った場合に傷が生じる。
Ｅ：往復１０回擦った場合に傷が生じる。
（耐擦傷性）
防眩フィルムの耐擦傷層の表面を、ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦り試験を行った。
評価環境条件：２５℃、相対湿度６０％
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．＃００００番）
試料と接触するテスターのこすり先端部（２ｃｍ×２ｃｍ）に巻いて、バンド固定
移動距離（片道）：１３ｃｍ
擦り速度：１３ｃｍ／秒
荷重：１ｋｇ／ｃｍ２
先端部接触面積：２ｃｍ×２ｃｍ
擦り回数：往復１０回、往復１００回、往復２５０回、往復５００回
試験後の防眩フィルムの擦った面（耐擦傷層の表面）とは逆側の面（基材の表面）に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、スチールウールと接触していた部分に傷が生じたときの擦り回数を計測し評価した。
Ａ：往復５００回擦った場合に傷が生じない。
Ｂ：往復２５０回擦った場合に傷が生じないが、往復５００回擦った場合に傷が生じる。
Ｃ：往復１００回擦った場合に傷が生じないが、往復２５０回擦った場合に傷が生じる。
Ｄ：往復１０回擦った場合に傷が生じないが、往復１００回擦った場合に傷が生じる。
Ｅ：往復１０回擦った場合に傷が生じる。
【0230】
（ギラツキ）
作製した防眩フィルムを、スマートフォン（Ａｐｐｌｅ社製ｉＰｈｏｎｅ（登録商標）６ｓ）を用い、スマートフォンの表示部の表示を緑色のベタ表示にした状態で、Ｂ、Ｇ、Ｒ各画素の部分的な拡大又は縮小が不均一に目視される状態（ギラツキ）の程度を以下の基準で目視評価した。
Ａ：ギラツキが認識できない。
Ｂ：ギラツキが認識できるが、全く気にならない。
Ｃ：ギラツキが認識できるが、ほぼ気にならない。
Ｄ：ギラツキが認識でき、気になる。
Ｅ：ギラツキが認識でき、非常に気になる。
作製した防眩フィルムを、スマートフォン（Ａｐｐｌｅ社製ｉＰｈｏｎｅ（登録商標）６ｓ）を用い、スマートフォンの表示部の表示を緑色のベタ表示にした状態で、Ｂ、Ｇ、Ｒ各画素の部分的な拡大又は縮小が不均一に目視される状態（ギラツキ）の程度を以下の基準で目視評価した。
Ａ：ギラツキが認識できない。
Ｂ：ギラツキが認識できるが、全く気にならない。
Ｃ：ギラツキが認識できるが、ほぼ気にならない。
Ｄ：ギラツキが認識でき、気になる。
Ｅ：ギラツキが認識でき、非常に気になる。
【0231】
【表1】
【0232】
【表2】
【0233】
表１～２に示した結果より、実施例の防眩フィルムは防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【0234】
本発明によれば、防眩性に優れ、ギラツキが抑制され、かつ耐擦傷性に優れる防眩フィルム、及び上記防眩フィルムの製造方法を提供することができる。
【0235】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０２０年４月１０日出願の日本特許出願（特願２０２０－０７１１９０）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
本出願は、２０２０年４月１０日出願の日本特許出願（特願２０２０－０７１１９０）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】