特許 7405431 洗浄装置、及び洗浄方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-12-18

(45)【発行日】2023-12-26

(54)【発明の名称】洗浄装置、及び洗浄方法

(51)【国際特許分類】

   B08B 3/02 20060101AFI20231219BHJP

   H01L 21/683 20060101ALI20231219BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20231219BHJP

【ＦＩ】

B08B3/02 A

H01L21/68 N

H01L21/304 643A

H01L21/304 643C

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2020207871

(22)【出願日】2020-12-15

(65)【公開番号】P2022094786

(43)【公開日】2022-06-27

【審査請求日】2023-07-19

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】316011226

【氏名又は名称】ＡＩメカテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107836

【弁理士】

【氏名又は名称】西 和哉

(72)【発明者】

【氏名】稲尾 吉浩

(72)【発明者】

【氏名】千葉 正樹

(72)【発明者】

【氏名】池田 孝生

【審査官】高橋 祐介

(56)【参考文献】

【文献】特開平１１－０６７７０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１０３２２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－２２３４６０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０８Ｂ ３／０２

Ｈ０１Ｌ ２１／６８３

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

矩形状の基板を前記基板の四つの角部が突出した状態で吸着し、鉛直軸周りに回転する吸着部と、
前記基板の被吸着面に向けて洗浄液を吐出するノズルと、
前記吸着部と前記ノズルとを収容し、上方側に開口部を備えるカップと、
を有し、
前記鉛直軸から前記鉛直軸に対する放射方向に向かって、前記ノズルの吐出口、前記基板の前記角部、前記カップの外郭が配置され、
前記ノズルは、前記カップの内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けて設けられるとともに、前記基板が１回転するときに、前記四つの角部の全てに洗浄液が直接当たるように設けられる、洗浄装置。

【請求項2】

前記基板は、短辺及び長辺を有する矩形状である、請求項１に記載の洗浄装置。

【請求項3】

前記開口部は、前記カップに対する前記基板の搬入又は搬出が可能な大きさに形成される、請求項１又は請求項２に記載の洗浄装置。

【請求項4】

前記ノズルは、前記四つの角部における全ての領域に洗浄液が直接当たるように設けられる、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の洗浄装置。

【請求項5】

前記ノズルは、２流体ノズルである、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の洗浄装置。

【請求項6】

前記ノズルは、複数配置される、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の洗浄装置。

【請求項7】

前記ノズルの少なくとも一つは、前記基板の前記角部より内側の領域に向けて洗浄液を吐出する、請求項６に記載の洗浄装置。

【請求項8】

前記ノズルは、前記鉛直軸に対する任意の放射方向において並んで配置される、請求項６又は請求項７に記載の洗浄装置。

【請求項9】

前記ノズルは、前記鉛直軸に対する複数の放射方向において前記鉛直軸からの距離が異なる位置にそれぞれ配置される、請求項６又は請求項７に記載の洗浄装置。

【請求項10】

吐出される洗浄液の少なくとも一部が前記基板に当たらない状態が発生する前記ノズルは、前記カップの内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けて設けられる、請求項６から請求項９のいずれか一項に記載の洗浄装置。

【請求項11】

矩形状の基板を前記基板の四つの角部が突出した状態で吸着部に吸着させ、前記基板を鉛直軸周りに回転させることと、
前記鉛直軸から前記鉛直軸に対する放射方向に向かって、前記基板の被吸着面に向けて洗浄液を吐出するノズルの吐出口、前記基板の前記角部、前記吸着部と前記ノズルとを収容して上方側に開口部を備えるカップの外郭が配置され、前記カップの内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けて設けられるノズルに、前記基板が１回転するときに、前記四つの角部の全てに洗浄液が直接当たるように吐出させることと、
を含む、洗浄方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、洗浄装置、及び洗浄方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、基板を洗浄する洗浄装置が知られている。特許文献１（特開２００７－２２２７５４号公報）では、基板の回転中心から異なる距離だけ離れた位置に設けられた裏面洗浄用のノズルから、上方及び基板の回転中心側の斜め上方に向けて洗浄液を吐出する洗浄装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００７－２２２７５４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

従来技術に係る洗浄装置では、基板を回転させながら基板の裏面に洗浄液を吐出する場合、遠心力による洗浄液の広がりが発生するものの、基板の全ての角部にまで広がることは期待できない。この結果、従来技術では、洗浄できない部分が発生する可能性がある。

【0005】

本発明は、洗浄できない部分が発生することを抑制する洗浄装置、及び洗浄方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の態様に従えば、矩形状の基板を基板の四つの角部が突出した状態で吸着し、鉛直軸周りに回転する吸着部と、基板の被吸着面に向けて洗浄液を吐出するノズルと、吸着部とノズルとを収容し、上方側に開口部を備えるカップと、を有し、鉛直軸から鉛直軸に対する放射方向に向かって、ノズルの吐出口、基板の角部、カップの外郭が配置され、ノズルは、カップの内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けて設けられるとともに、基板が１回転するときに、四つの角部の全てに洗浄液が直接当たるように設けられる、洗浄装置が提供される。

【0007】

本発明の態様に従えば、矩形状の基板を基板の四つの角部が突出した状態で吸着部に吸着させ、基板を鉛直軸周りに回転させることと、鉛直軸から鉛直軸に対する放射方向に向かって、基板の被吸着面に向けて洗浄液を吐出するノズルの吐出口、基板の角部、吸着部とノズルとを収容して上方側に開口部を備えるカップの外郭が配置され、カップの内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けて設けられるノズルに、基板が１回転するときに、四つの角部の全てに洗浄液が直接当たるように吐出させることと、を含む、洗浄方法が提供される。

【発明の効果】

【0008】

本発明の態様によれば、洗浄できない部分が発生することを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】第１実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図2】第１実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図3】第１実施形態に係る洗浄装置を制御する制御装置の構成例を示す図である。

【図4】第２実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図5】第２実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図6】第２実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図7】第２実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。

【図8】第３実施形態に係る下部供給部のノズルを１流体ノズルとして複数配置する例を示す図である。

【図9】第３実施形態に係る下部供給部のノズルを２流体ノズルとして複数配置する例を示す図である。

【図10】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図11】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図12】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図13】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図14】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図15】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【図16】第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。本発明は、以下で説明する実施形態に限定されない。また、図面では、実施形態の各構成を分かりやすくするために、一部を大きく又は強調して、或いは一部を簡略化して表しており、実際の構造又は形状、縮尺等が異なる場合がある。

【0011】

［第１実施形態］
図１及び図２は、第１実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。図１は、第１実施形態に係る洗浄装置を側面から見た断面図である。図２は、第１実施形態に係る洗浄装置を上方から見た図である。図１及び図２に示すように、洗浄装置１は、カップ２と、基板支持装置３と、上部供給部４と、下部供給部５とを主に備え、基板支持装置３上に載置された矩形状の基板１０を洗浄する。矩形状の基板１０は、四つの角部（角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ）有する。矩形状の基板１０は、短辺及び長辺を有する。例えば、矩形状の基板１０は、短辺が５１０ｍｍであり、長辺が５１５ｍｍである。カップ２は、上部供給部４、下部供給部５、及び基板支持装置３の基板支持部３１を収容し、上方側に開口部（後述する中間開口部２３ａ、上部開口部２４ａ等）を備える。なお、本明細書において「角部」とは、基板１０の中心から基板１０の短辺（基板１０が正方形の場合は中心から４つの辺のいずれか）までの最短距離よりも長い距離に位置する部分を指す。

【0012】

カップ２は、洗浄装置１の上部において外郭を形成し、立ち上がり壁２１と、トレイ２２と、中間カバー２３と、トップカバー２４と、底板部２５と、外周壁部２６と、外周立ち上がり壁部２７とを備える。また、カップ２は、底板部２５と、外周壁部２６とを一体に有する。立ち上がり壁２１は、トレイ２２、中間カバー２３、トップカバー２４、底板部２５、外周壁部２６、及び外周立ち上がり壁部２７よりも径方向内側に配置され、上方に向かって筒状に延びて形成される。立ち上がり壁２１は、平面視において円環状であり、径方向外側の少なくとも一部を接合面としてトレイ２２に接合される。円環状である立ち上がり壁２１の中央部には、下部開口部２１ａが形成される。

【0013】

トレイ２２は、中間カバー２３、トップカバー２４、及び基板支持部３１の下方に配置され、平面視において円環状である。トレイ２２の上面には、径方向外側に向かって下方に傾斜した傾斜面２２ａが形成される。トレイ２２は、基板支持部３１の下方において、基板支持部３１よりも径方向外側に延びており、洗浄液を受ける。トレイ２２の外周端部は、外周壁部２６との間に、径方向に隙間をあけて設けられる。傾斜面２２ａ上の洗浄液は、径方向外側に向けて流れ、トレイ２２の外周端部と外周壁部２６との隙間から、底板部２５に流れ落ちて回収される。底板部２５は、内部に空間を有し、洗浄液を回収する用途で使用される。

【0014】

底板部２５は、平面視で円環状に形成される。底板部２５の外周部には、図示しない複数のドレン穴が形成される。外周壁部２６は、底板部２５の外周部から上方に向かって立ち上がるように形成される。外周壁部２６には、周方向の複数箇所に図示しない排気孔が形成される。外周壁部２６の上端には、径方向外側に突出する外周フランジ部が形成されてもよい。カップ２において径方向外側に飛散した洗浄液は、外周壁部２６から底板部２５へと流れ落ちて回収される。

【0015】

中間カバー２３は、外周立ち上がり壁部２７の下端から径方向内側に延びて形成される。中間カバー２３は、基板支持部３１上に載置される矩形状の基板１０の上面よりも上方に位置する。中間カバー２３は、水平面内に沿って位置する。中間カバー２３を含む水平面内の中央部には、中間開口部２３ａが形成される。中間開口部２３ａは、中間開口部２３ａを通して矩形状の基板１０の搬入又は搬出が可能に、内径が矩形状の基板１０の対角寸法よりも大きく設定される。外周立ち上がり壁部２７は、上方に向かって筒状に延びて形成される。外周立ち上がり壁部２７の上端には、径方向内側に突出する図示しない上端受け部が一体に形成される。

【0016】

トップカバー２４は、外周立ち上がり壁部２７の上端から径方向内側に延びて形成される。トップカバー２４は、水平面内に沿って位置する。トップカバー２４を含む水平面内の中央部には、上部開口部２４ａが形成される。上部開口部２４ａは、中間開口部２３ａと同様に、上部開口部２４ａを通して矩形状の基板１０の搬入又は搬出が可能に、内径が矩形状の基板１０の対角寸法よりも大きく設定される。矩形状の基板１０は、上部開口部２４ａ及び中間開口部２３ａを通して、基板支持部３１に対して上下方向に搬入及び搬出可能である。中間カバー２３、トップカバー２４、及び外周立ち上がり壁部２７を含むカバー部材は、カップ２（立ち上がり壁２１、トレイ２２、底板部２５、及び外周壁部２６を含むカップ本体）に対して取り外し可能に構成される。また、トップカバー２４は、外周立ち上がり壁部２７に対して取り外し可能に構成される。

【0017】

基板支持装置３は、基板支持部（基板支持テーブル）３１と、支持軸３２と、第１負圧流路３３と、第２負圧流路３４と、内周吸着部３５と、外周吸着部３６とを備え、矩形状の基板１０が洗浄される際に、矩形状の基板１０を吸着した状態で回転する。基板支持部３１の上面は、円盤状に形成される。円盤状に形成された基板支持部３１の上面は、矩形状の基板１０を載置可能であり、矩形状の基板１０を支持する支持面となる。基板支持部３１の外周部には、下方に筒状に突出するスカート部３１ａが形成される。スカート部３１ａは、立ち上がり壁２１の径方向外側に間隔をあけて配置される。スカート部３１ａは、立ち上がり壁２１の上端よりも下方に延びて形成される。スカート部３１ａの下端は、トレイ２２の傾斜面２２ａとの間に、上下方向に間隔をあけて設けられる。このように、スカート部３１ａ及び立ち上がり壁２１により、ラビリンス構造が形成される。この結果、スカート部３１ａとトレイ２２の傾斜面２２ａとの隙間を通して、スカート部３１ａ及び立ち上がり壁２１よりも径方向内側に、洗浄液の飛沫等が浸入しにくくなる。

【0018】

基板支持部３１は、下面に支持軸３２を一体に有する。支持軸３２は、上下方向に延びる円柱状に形成される。支持軸３２は、図示しない電動モータ等の回転駆動源に接続される。これにより、支持軸３２は、鉛直軸Ｃｖ周りに回転自在に構成される。支持軸３２の内部には、第１負圧流路３３と、第２負圧流路３４とが設けられる。第１負圧流路３３及び第２負圧流路３４は、支持軸３２の内部に互いに独立して設けられてよい。支持軸３２の下部には、図示しない真空ポンプ等の負圧発生源が、図示しない配管を介して接続される。負圧発生源で発生する負圧は、第１負圧流路３３を介して、内周吸着部３５に付与される。すなわち、第１負圧流路３３は、内周吸着部３５で矩形状の基板１０を吸着するための負圧を付与する用途で用いられる。また、負圧発生源で発生する負圧は、第２負圧流路３４を介して、外周吸着部３６に付与される。すなわち、第２負圧流路３４は、外周吸着部３６で矩形状の基板１０を吸着するための負圧を付与する用途で用いられる。なお、第１負圧流路３３と第２負圧流路３４とで、別の負圧発生源を用いてもよいし、１つの負圧発生源を用いてもよい。

【0019】

内周吸着部３５及び外周吸着部３６を含む洗浄装置１の吸着部は、矩形状の基板１０を該基板１０の四つの角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄが突出した状態で吸着し、基板支持部３１による鉛直軸Ｃｖ周りの回転により、鉛直軸Ｃｖ周りに回転する。内周吸着部３５は、基板支持部３１の上面（矩形状の基板１０を支持する支持面）において内周部に設けられ、矩形状の基板１０の内周部（又は中央部分）を吸着する。内周吸着部３５は、基板支持部３１の上面における内周部に吸着溝を有する。基板支持装置３は、基板支持部３１の上面において矩形状の基板１０を支持した状態で、内周吸着部３５の吸着溝と矩形状の基板１０との間に形成される溝内空間に、第１負圧流路３３を通して負圧が作用されることで、矩形状の基板１０の内周部（又は中央部分）を吸着する。

【0020】

外周吸着部３６は、基板支持部３１の上面（矩形状の基板１０を支持する支持面）において外周部に設けられ、矩形状の基板１０の内周部よりも外側の部分を吸着する。外周吸着部３６は、平面視で円環状に設けられてもよい。外周吸着部３６は、基板支持部３１の上面における外周部に吸着溝を有する。基板支持装置３は、基板支持部３１の上面において矩形状の基板１０を支持した状態で、外周吸着部３６の吸着溝と矩形状の基板１０との間に形成される溝内空間に、第２負圧流路３４を通して負圧が作用されることで、矩形状の基板１０の内周部よりも外側の部分を吸着する。なお、内周吸着部３５と外周吸着部３６とを吸着部として備える構成に限られず、例えば、内周吸着部３５と外周吸着部３６とのうち一方を備える構成であってもよいし、内周吸着部３５及び外周吸着部３６を含む領域に、１つの吸着部を備える構成であってもよい。

【0021】

上部供給部４は、基板支持部３１の上方に間隔をあけて配置される。上部供給部４は、洗浄液を吐出するノズル４ａを一体に有する。また、上部供給部４は、基板支持部３１の上方において、径方向に移動可能であってもよい。上部供給部４は、ノズル４ａにより、基板支持部３１上に支持された矩形状の基板１０の上面に対して、上方から洗浄液を供給（吐出）する。図１及び図２において、上部供給部４は、１つである場合を例に挙げているが、１列に複数並べられた構成でもよい。上部供給部４が複数である場合、例えば、基板支持部３１の径方向に並べられた構成でもよい。上部供給部４には、配管を通して、図示しない洗浄液供給源から洗浄液が供給される。上部供給部４は、洗浄液供給源から供給された洗浄液を、ノズル４ａから下方に向かって吐出する。上部供給部４から吐出された洗浄液は、基板支持部３１に支持された矩形状の基板１０の上面に供給される。

【0022】

下部供給部５は、基板支持部３１に支持される矩形状の基板１０の下側に設けられる。下部供給部５は、基板支持部３１の径方向外側に設けられる。下部供給部５は、トレイ２２の傾斜面２２ａ上に支持台６を介して固定され、洗浄液を吐出するノズル５ａを一体に有する。下部供給部５のノズル５ａは、鉛直方向と平行に配置される。下部供給部５は、ノズル５ａにより、基板支持部３１上に支持された矩形状の基板１０の被吸着面となる下面に対して、下方から洗浄液を供給（吐出）する。下部供給部５のノズル５ａは、例えば、２流体ノズルである。下部供給部５は、矩形状の基板１０が鉛直軸Ｃｖ周りに１回転するときに、該基板１０の四つの角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄにおける全ての領域にノズル５ａからの洗浄液が当たるように設けられる。図２では、下部供給部５によって吐出される洗浄液が矩形状の基板１０に当たる箇所をハッチングで表している。図２では、下部供給部５の上方に、平面視において鉛直軸Ｃｖからの距離が最も遠い角部１０ｃが位置する場合を例に挙げている。つまり、平面視における、下部供給部５、矩形状の基板１０の角部１０ｃ（又は１０ａ）、及びカップ２の外郭の位置関係は、鉛直軸Ｃｖから該鉛直軸Ｃｖに対する放射方向（径方向外側の方向）に向かって、下部供給部５のノズル５ａの吐出口、矩形状の基板１０の角部１０ｃ（又は１０ａ）、カップ２の外郭が配置される。なお、下部供給部５のノズル５ａは、２流体ノズルであることが好ましいが、矩形状の基板１０が１回転するときに角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄの全ての領域に洗浄液が当たるのであれば、１流体ノズルであってもよい。

【0023】

図３は、第１実施形態に係る洗浄装置を制御する制御装置の構成例を示す図である。図３に示すように、制御装置１００は、吸着制御部１１０と、駆動制御部１２０と、供給制御部１３０とを有し、洗浄装置１の動作を統括して制御する。吸着制御部１１０は、真空ポンプ等の負圧発生源を制御し、第１負圧流路３３を介した内周吸着部３５への負圧の付与と、第２負圧流路３４を介した外周吸着部３６への負圧の付与とを行う。駆動制御部１２０は、電動モータ等の回転駆動源を制御し、支持軸３２の鉛直軸Ｃｖ周りの回転を実現する。供給制御部１３０は、上部供給部４及び下部供給部５を制御し、ノズル４ａ及びノズル５ａからの洗浄液の吐出を実現する。

【0024】

上述したように、洗浄装置１は、遠心力による洗浄液の広がりに頼ることなく、矩形状の基板１０の全ての角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄの領域に洗浄液が直接当たるように下部供給部５を設けるので、洗浄できない部分が発生することを抑制することができる。

【0025】

［第２実施形態］
第２実施形態では、上述した実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、同様の構成についての詳細な説明を省略する場合がある。図４～図７は、第２実施形態に係る洗浄装置の例を示す図である。図４及び図６は、第２実施形態に係る洗浄装置を側面から見た断面図である。図５及び図７は、第２実施形態に係る洗浄装置を上方から見た図である。また、図４及び図５では、下部供給部５の上方に、平面視において鉛直軸Ｃｖからの距離が最も遠い角部１０ｃが位置する場合を例に挙げる。図６及び図７では、矩形状の基板１０の回転により、下部供給部５のノズル５ａから吐出される洗浄液の少なくとも一部が該基板１０に当たらない状態である場合を例に挙げる。第２実施形態は、下部供給部５を傾けて配置することが第１実施形態とは異なる。

【0026】

図４～図７に示すように、下部供給部５は、基板支持部３１に支持される矩形状の基板１０の下側に設けられる。下部供給部５は、基板支持部３１の径方向外側に設けられる。下部供給部５は、トレイ２２の傾斜面２２ａ上に支持台６を介して固定され、洗浄液を吐出するノズル５ａを一体に有する。下部供給部５のノズル５ａは、鉛直方向から傾いて配置される。例えば、下部供給部５のノズル５ａは、カップ２の内面に洗浄液の吐出方向が向くように傾けられる（図６及び図７参照）。下部供給部５は、ノズル５ａにより、基板支持部３１上に支持された矩形状の基板１０の被吸着面となる下面に対して、下方から洗浄液を供給（吐出）する。下部供給部５のノズル５ａは、例えば、２流体ノズルである。下部供給部５は、矩形状の基板１０が鉛直軸Ｃｖ周りに１回転するときに、該基板１０の四つの角部１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄにおける全ての領域にノズル５ａからの洗浄液が当たるように設けられる。図５では、下部供給部５によって吐出される洗浄液が矩形状の基板１０に当たる箇所をハッチングで表している。

【0027】

上述したように、洗浄装置１は、カップ２の内面に洗浄液の吐出方向が向くように、下部供給部５が傾けて配置されるので、下部供給部５から吐出された洗浄液がカップ２外に飛散することを抑制することができる。

【0028】

［第３実施形態］
第３実施形態では、上述した実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、同様の構成についての詳細な説明を省略する場合がある。第３実施形態では、上述した実施形態で説明した構成に加えて、下部供給部５を複数配置する場合を例に挙げる。

【0029】

下部供給部５を複数配置するにあたり、１流体ノズルと２流体ノズルとによる洗浄液の吐出について説明する。図８は、第３実施形態に係る下部供給部のノズルを１流体ノズルとして複数配置する例を示す図である。図８では、下部供給部５のノズル５ａから吐出される洗浄液をハッチングにより表している。また、複数の下部供給部５同士の間隔を１３ｍｍ程度とし、矩形状の基板１０と下部供給部５のノズル５ａの吐出口との間隔を１５ｍｍ～２０ｍｍ程度とする場合を例に挙げる。図８に示すように、１流体ノズルとした下部供給部５を複数配置し、矩形状の基板１０に対して洗浄液が吐出される場合、各下部供給部５から吐出された洗浄液は、矩形状の基板１０の全ての領域に直接当たらない可能性がある。

【0030】

図９は、第３実施形態に係る下部供給部のノズルを２流体ノズルとして複数配置する例を示す図である。図９では、下部供給部５のノズル５ａから吐出される洗浄液をハッチングにより表している。また、複数の下部供給部５同士の間隔を１３ｍｍ程度とし、矩形状の基板１０と下部供給部５のノズル５ａの吐出口との間隔を１５ｍｍ～２０ｍｍ程度とする場合を例に挙げる。図９に示すように、２流体ノズルとした下部供給部５を複数配置し、矩形状の基板１０に対して洗浄液が吐出される場合、各下部供給部５から吐出された洗浄液は、矩形状の基板１０の全ての領域に直接当たる。

【0031】

１流体ノズルと２流体ノズルとのこのような特性を踏まえ、図１０～図１６を用いて、下部供給部５を複数配置する場合を説明する。図１０～図１６は、第３実施形態に係る下部供給部を複数配置する場合の例を示す図である。なお、図１０～図１６では、説明の便宜上、矩形状の基板１０、基板支持部３１、及び下部供給部５を主に図示し、このほかの構成については図示を省略して説明する。第３実施形態に係る洗浄装置１の構成は、下部供給部５を複数配置する構成を除いて、上述した実施形態と同様である。また、図１０～図１６では、複数の下部供給部５のそれぞれを区別するために、鉛直軸Ｃｖにより近い下部供給部５から、下部供給部５１～下部供給部５８として表している。

【0032】

具体的には、複数の下部供給部５は、矩形状の基板１０が１回転するときに、基板支持部３１に支持された面を除く矩形状の基板１０の下面の全ての領域に、洗浄液が直接当たるように配置される。例えば、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において並んで配置されてもよい。例えば、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置されてもよい。例えば、複数の下部供給部５の少なくとも一つは、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出してもよい。

【0033】

図１０に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４、下部供給部５５、下部供給部５６、下部供給部５７、下部供給部５８を配置させる。図１０に示す例では、下部供給部５１～５８を、同一直線上において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１０に示す下部供給部５１～５８は、１流体ノズルである。１流体ノズルは、吐出される洗浄液の広がりが２流体ノズルよりも小さい。また、任意の放射方向に下部供給部５１～５８を配置させようとすると、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液を直接当てることが困難であるため、複数の放射方向（２以上の放射方向）において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置に下部供給部５１～５８のそれぞれを配置させる。また、例えば、１流体ノズルである下部供給部５１にかえて、２流体ノズルである下部供給部５１’を配置させ、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させてもよい。

【0034】

図１１に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４、下部供給部５５、下部供給部５６、下部供給部５７、下部供給部５８を配置させる。図１１に示す例では、下部供給部５１～５８を、それぞれ異なる放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１１に示す下部供給部５１は２流体ノズルであり、下部供給部５２～５８は１流体ノズルである。２流体ノズルである下部供給部５１は、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させてもよい。なお、下部供給部５１は、図１０と同様に、１流体ノズルであってもよい。

【0035】

図１２に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において並んで配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４を配置させる。図１２に示す例では、下部供給部５１～５４を、鉛直軸Ｃｖから一方向の同一直線上において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１２に示す下部供給部５１～５４は、２流体ノズルである。２流体ノズルは、吐出される洗浄液の広がりが１流体ノズルよりも大きい。従って、２流体ノズルを使用する場合は、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向（一方向の同一直線上）に、１流体ノズルを使用するよりも少ない数の下部供給部５を配置させることで、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液を直接当てることができる。なお、下部供給部５１については、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させてもよい。

【0036】

図１３に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４を配置させる。図１３に示す例では、下部供給部５１～５４を、それぞれ異なる放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１３に示す下部供給部５１～５４は、２流体ノズルである。このように、２流体ノズルを使用する場合であっても、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において並んで配置するだけではなく、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させてもよい。なお、下部供給部５１については、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させてもよい。

【0037】

図１４に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において並んで配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４を配置させる。図１４に示す例では、下部供給部５１～５４を、鉛直軸Ｃｖから一方向の同一直線上において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１４に示す下部供給部５１～５４は、２流体ノズルである。加えて、下部供給部５１を除く下部供給部５２～５４は、基板支持部３１の径方向外側に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させる。また、例えば、下部供給部５１にかえて、２流体ノズルである下部供給部５１’を配置させ、矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させてもよい。

【0038】

図１５と図１６とは、矩形状の基板１０が回転する状況を表しており、複数の下部供給部５の配置は同一である。図１５及び図１６に示すように、複数の下部供給部５は、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置される。具体的には、矩形状の基板１０が１回転するときに、矩形状の基板１０の下面の全ての領域に洗浄液が直接当たるように、複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が近い順に、下部供給部５１、下部供給部５２、下部供給部５３、下部供給部５４を配置させる。図１５及び図１６に示す例では、下部供給部５１～５４を、それぞれ異なる放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置させている。また、図１５及び図１６に示す下部供給部５１～５４は、２流体ノズルである。加えて、下部供給部５１については矩形状の基板１０の角部より内側の領域に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させ、下部供給部５２～５４については基板支持部３１の径方向外側に向けて（傾けて）洗浄液を吐出させる。図１６に示す状況では、下部供給部５４から吐出される洗浄液の全てと、下部供給部５３から吐出される洗浄液の一部とが、矩形状の基板１０の下面に直接当たらない。上述したように、下部供給部５３及び下部供給部５４は、基板支持部３１の径方向外側に向けて（傾けて）洗浄液を吐出しているため、吐出された洗浄液はカップ２の内面に当たるようになっている。なお、図１０～図１６では、１流体ノズル又は２流体ノズルの下部供給部５からの洗浄液を、上方に又は傾けて吐出する場合の下部供給部５の様々な配置を例に挙げているが、図示した配置の例に限られない。

【0039】

上述したように、洗浄装置１は、矩形状の基板１０が１回転するときに、基板支持部３１に支持された面を除く矩形状の基板１０の下面の全ての領域に、洗浄液が直接当たるように配置され、その配置は、鉛直軸Ｃｖに対する任意の放射方向において並んで配置されてもよいし、鉛直軸Ｃｖに対する複数の放射方向において鉛直軸Ｃｖからの距離が異なる位置にそれぞれ配置されてもよい。この結果、洗浄装置１は、基板支持部３１に支持された矩形状の基板１０の下面について、洗浄できない部分が発生することを抑制できる。

【0040】

以上、本発明を実施形態により説明したが、本発明の技術的範囲は、上記実施形態に記載の範囲に限定されない。本発明は、上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。また、上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えた形態についても、本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

【0041】

なお、明細書の全体において、任意の部分が任意の構成要素を「含む」、「有する」、「備える」とするとき、特記がない限り、他の構成要素を除くことを意味せず、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。

【符号の説明】

【0042】

１ 洗浄装置
２ カップ
３ 基板支持装置
４ 上部供給部
４ａ ノズル
５ 下部供給部
５ａ ノズル
６ 支持台
１０ 基板（矩形状の基板）
１０ａ 基板の角部
１０ｂ 基板の角部
１０ｃ 基板の角部
１０ｄ 基板の角部
２１ 立ち上がり壁
２１ａ 下部開口部
２２ トレイ
２２ａ 傾斜面
２３ 中間カバー
２３ａ 中間開口部
２４ トップカバー
２４ａ 上部開口部
２５ 底板部
２６ 外周壁部
２７ 外周立ち上がり壁部
３１ 基板支持部
３１ａ スカート部
３２ 支持軸
３３ 第１負圧流路
３４ 第２負圧流路
３５ 内周吸着部
３６ 外周吸着部
１００ 制御装置
１１０ 吸着制御部
１２０ 駆動制御部
１３０ 供給制御部
Ｃｖ 鉛直軸

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】