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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-12-22
(45)【発行日】2024-01-05
(54)【発明の名称】光学積層体
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20231225BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20231225BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02F1/1335 510
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2019194279
(22)【出願日】2019-10-25
(65)【公開番号】P2021067870
(43)【公開日】2021-04-30
【審査請求日】2022-09-27
(73)【特許権者】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】松本 寿和
【審査官】加藤 範久
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１７／０１７６６５７（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－１２８６６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／０１７４８３（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｇ０２Ｆ １／１３３５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
偏光子複合体の片面側又は両面側に保護層を有する光学積層体であって、前記偏光子複合体は、偏光子、位相差層、及び補強材を有し、
前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において前記偏光領域に囲まれた非偏光領域と、を有し、
前記位相差層は、位相差特性を有し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在する位相差領域と、位相差特性を有さず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非位相差領域と、を有し、
前記補強材は、
開口端面を有するセルを複数有し、且つ、各開口端面が前記偏光子の面に対向するように配列しており、
前記セルが存在し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在するセル領域と、前記セルが存在せず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非セル領域と、を有し、
前記非偏光領域、前記非位相差領域、及び前記非セル領域は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含み、
前記非偏光領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記偏光領域に囲まれた貫通穴に設けられ、
前記非位相差領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記位相差領域に囲まれた貫通穴に設けられており、
前記保護層は、厚みが２０μｍ以上の樹脂フィルムであり、
前記偏光子複合体の片面側の前記保護層は、前記偏光子の片面側の全面を被覆し、かつ、粘着剤層又は接着剤層のみを介して前記偏光子に積層されている、光学積層体。
【請求項2】
前記補強材は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、前記補強材の前記偏光子とは反対側に、前記位相差層を有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記位相差層は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、前記位相差層の前記偏光子とは反対側に、前記補強材を有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記位相差領域の厚みは、１５μｍ以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みと同じである、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも小さい、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項7】
前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも大きい、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記位相差領域は、重合性液晶化合物の重合硬化層である、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項9】
前記非偏光領域は、透光性を有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項10】
前記非偏光領域の平面視における径は、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項11】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項12】
前記エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含む、請求項１１に記載の光学積層体。
【請求項13】
前記セルの前記開口の形状は、多角形状、円形状、又は楕円形状である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項14】
さらに、前記セルの内部空間に透光性の充填材が設けられている、請求項１～１３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項15】
前記セルの前記開口端面に直交する方向の長さは、１５μｍ以下である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、偏光子複合体及び光学積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
偏光子は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置等の表示装置における偏光の供給素子として、また偏光の検出素子として広く用いられている。偏光子を備えた表示装置は、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話等のモバイル機器にも展開されており、表示目的の多様化、表示区分の明確化、装飾化等への要求から、透過率の異なる領域を有する偏光子が要求されている。特にスマートフォンやタブレット型端末に代表される中小型の携帯端末においては、装飾性の観点から全面にわたって境目のないデザインとするため、表示面全面に偏光子を貼り合わせることがある。この場合、カメラレンズの領域、画面下のアイコン又はロゴ印刷の領域にも偏光子が重なることがあるため、カメラの感度が悪くなったり、意匠性に劣ったりするという問題がある。
【0003】
例えば特許文献１には、偏光板に含まれる偏光子に二色性物質の含有量が相対的に低い二色性物質低濃度部を部分的に設け、この二色性物質低濃度部に対応させてカメラを配置することにより、カメラ性能に悪影響を与えないようにすることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１５－２１５６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１では、二色性物質を含む樹脂フィルムに塩基性溶液を接触させるという化学処理を施すことにより、樹脂フィルムを部分的に脱色して二色性物質低濃度部を形成している。脱色のために用いた塩基性溶液は、廃液として処理するために手間やコストを要する。また、特許文献１には、二色性物質としてのヨウ素を用いた場合に塩基性溶液を接触させることにより、ヨウ素の含有量を低減して二色性物質低濃度部を形成できることが記載されている。しかしながら、ヨウ素以外の二色性物質を用いた場合に二色性物質低濃度部を形成する具体的な方法については開示がない。
【0006】
本発明は、脱色等の化学処理によって二色性物質の含有量の少ない領域を形成した偏光子に代わる、新規な偏光子を備える偏光子複合体及び光学積層体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、以下の偏光子複合体及び光学積層体を提供する。
〔１〕 偏光子、位相差層、及び補強材を有する偏光子複合体であって、
前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において前記偏光領域に囲まれた非偏光領域と、を有し、
前記位相差層は、位相差特性を有し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在する位相差領域と、位相差特性を有さず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非位相差領域と、を有し、
前記補強材は、
開口端面を有するセルを複数有し、且つ、各開口端面が前記偏光子の面に対向するように配列しており、
前記セルが存在し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在するセル領域と、前記セルが存在せず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非セル領域と、を有し、
前記非偏光領域、前記非位相差領域、及び前記非セル領域は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含み、
前記非偏光領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記偏光領域に囲まれた貫通穴に設けられ、
前記非位相差領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記位相差領域に囲まれた貫通穴に設けられている、偏光子複合体。
〔２〕 前記補強材は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、
前記補強材の前記偏光子とは反対側に、前記位相差層を有する、〔１〕に記載の偏光子複合体。
〔３〕 前記位相差層は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、
前記位相差層の前記偏光子とは反対側に、前記補強材を有する、〔１〕に記載の偏光子複合体。
〔４〕 前記偏光子の他方の面側に、さらに前記補強材を有する、〔２〕又は〔３〕に記載の偏光子複合体。
〔５〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みと同じである、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔６〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも小さい、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔７〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも大きい、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔８〕 前記位相差領域は、重合性液晶化合物の重合硬化層である、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔９〕 前記非偏光領域は、透光性を有する、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１０〕 前記非偏光領域の平面視における径は、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１１〕 前記活性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含む、〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１２〕 前記エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含む、〔１１〕に記載の偏光子複合体。
〔１３〕 前記セルの前記開口の形状は、多角形状、円形状、又は楕円形状である、〔１〕～〔１２〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１４〕 さらに、前記セルの内部空間に透光性の充填材が設けられている、〔１〕～〔１３〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１５〕 〔１〕～〔１４〕のいずれかに記載の偏光子複合体の片面側又は両面側に保護層を有する、光学積層体。
〔１６〕 前記偏光子複合体の片面側に設けられた前記保護層は、前記非偏光領域、前記非位相差領域、及び前記非セル領域に含まれる前記硬化物を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂である、〔１５〕に記載の光学積層体。
〔１〕 偏光子、位相差層、及び補強材を有する偏光子複合体であって、
前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において前記偏光領域に囲まれた非偏光領域と、を有し、
前記位相差層は、位相差特性を有し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在する位相差領域と、位相差特性を有さず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非位相差領域と、を有し、
前記補強材は、
開口端面を有するセルを複数有し、且つ、各開口端面が前記偏光子の面に対向するように配列しており、
前記セルが存在し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在するセル領域と、前記セルが存在せず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非セル領域と、を有し、
前記非偏光領域、前記非位相差領域、及び前記非セル領域は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含み、
前記非偏光領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記偏光領域に囲まれた貫通穴に設けられ、
前記非位相差領域に含まれる前記硬化物は、平面視において前記位相差領域に囲まれた貫通穴に設けられている、偏光子複合体。
〔２〕 前記補強材は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、
前記補強材の前記偏光子とは反対側に、前記位相差層を有する、〔１〕に記載の偏光子複合体。
〔３〕 前記位相差層は、前記偏光子の一方の面側に設けられ、
前記位相差層の前記偏光子とは反対側に、前記補強材を有する、〔１〕に記載の偏光子複合体。
〔４〕 前記偏光子の他方の面側に、さらに前記補強材を有する、〔２〕又は〔３〕に記載の偏光子複合体。
〔５〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みと同じである、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔６〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも小さい、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔７〕 前記硬化物の厚みは、前記偏光子複合体における前記偏光領域、前記位相差領域、及び前記セル領域を含む積層構造部分の厚みよりも大きい、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔８〕 前記位相差領域は、重合性液晶化合物の重合硬化層である、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔９〕 前記非偏光領域は、透光性を有する、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１０〕 前記非偏光領域の平面視における径は、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１１〕 前記活性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含む、〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１２〕 前記エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含む、〔１１〕に記載の偏光子複合体。
〔１３〕 前記セルの前記開口の形状は、多角形状、円形状、又は楕円形状である、〔１〕～〔１２〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１４〕 さらに、前記セルの内部空間に透光性の充填材が設けられている、〔１〕～〔１３〕のいずれかに記載の偏光子複合体。
〔１５〕 〔１〕～〔１４〕のいずれかに記載の偏光子複合体の片面側又は両面側に保護層を有する、光学積層体。
〔１６〕 前記偏光子複合体の片面側に設けられた前記保護層は、前記非偏光領域、前記非位相差領域、及び前記非セル領域に含まれる前記硬化物を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂である、〔１５〕に記載の光学積層体。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、新規な偏光子を備える偏光子複合体及び光学積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】（ａ）は、本発明の偏光子複合体の一例を模式的に示す概略断面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す偏光子複合体の補強材側の概略平面図であり、（ｃ）は、（ａ）に示す偏光子複合体の位相差層側の概略平面図である。
【図2】（ａ）～（ｄ）は、本発明の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図3】（ａ）及び（ｂ）は、偏光子複合体の非偏光領域、非セル領域、及び非位相差領域周辺の断面の一例を模式的に示す図であって、非偏光領域、非セル領域、及び非位相差領域に設けられた硬化物の厚みを決定する方法を説明するための説明図である。
【図4】本発明の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図5】本発明の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図6】本発明の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図7】（ａ）～（ｄ）は、本発明の偏光子複合体の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図9】（ａ）～（ｃ）は、本発明の偏光子複合体の製造方法の他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図11】（ａ）～（ｅ）は、本発明の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図13】（ａ）～（ｄ）は、本発明の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図15】本発明の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図16】本発明の光学積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図17】本発明の光学積層体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図18】本発明の光学積層体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、図面を参照して本発明の偏光子複合体、及び光学積層体の好ましい実施形態について説明する。以下のすべての図面においては、各構成要素を理解しやすくするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。
【0011】
＜偏光子複合体＞
（偏光子複合体（１））
図１（ａ）は、本実施形態の偏光子複合体の一例を模式的に示す概略断面図であり、図１は、図１（ａ）に示す偏光子複合体の補強材側の概略平面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）に示す偏光子複合体の位相差層側の概略平面図である。図２（ａ）～（ｄ）は、本実施形態の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１（ａ）に示す偏光子複合体４０は、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１をこの順に有する。
（偏光子複合体（１））
図１（ａ）は、本実施形態の偏光子複合体の一例を模式的に示す概略断面図であり、図１は、図１（ａ）に示す偏光子複合体の補強材側の概略平面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）に示す偏光子複合体の位相差層側の概略平面図である。図２（ａ）～（ｄ）は、本実施形態の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１（ａ）に示す偏光子複合体４０は、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１をこの順に有する。
【0012】
偏光子複合体４０が有する偏光子１０は、図１（ａ）に示すように、偏光領域１１と非偏光領域１２とを有する。偏光領域１１の厚みは、１５μｍ以下である。非偏光領域１２は、偏光子１０の平面視において偏光領域１１に囲まれた領域である。
【0013】
偏光子１０における偏光領域１１及び非偏光領域１２の配置は、偏光領域１１が非偏光領域１２を取り囲むように設けられていれば特に限定されない。偏光子１０の平面視において、偏光領域１１が占有する総面積は、非偏光領域１２が占有する総面積よりも大きいことが好ましい。偏光子１０は、非偏光領域１２を１つ有していればよく、非偏光領域１２を２つ以上有していてもよい。非偏光領域１２を２つ以上有する場合、それぞれの非偏光領域１２の形状は互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0014】
偏光子複合体４０が有する補強材５０は、図１（ｂ）に示すように、開口端面を有するセル５１を複数有し、且つ、各開口端面が偏光子１０の面に対向するように配列している。補強材５０は、セル５１が存在するセル領域５５と、セル５１が存在しない非セル領域５６とを有する。セル５１は、セル５１を区画するセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の構造を有し、柱状の構造の軸方向両端が開口した開口端面となっているものである。セル５１が存在しない非セル領域５６とは、セル５１を構成するセル隔壁５３及びセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の空間が存在していない領域である。
【0015】
補強材５０において、セル領域５５は、偏光子１０に存在する偏光領域１１に対応する領域に存在し、非セル領域５６は、偏光子１０の非偏光領域１２に対応する領域に存在する。ここで、セル領域５５が偏光領域１１に対応する領域に存在するとは、平面視方向において、セル領域５５及び偏光領域１１が互いに略同形状、略同寸法であることをいい、同様に、非セル領域５６が非偏光領域１２に対応する領域にあるとは、平面視方向において、非セル領域５６及び非偏光領域１２が略同じ位置に、略同形状、略同寸法（径）であることをいう。換言すれば、非セル領域５６を、平面視方向で、偏光子１０に投影したとき、非セル領域５６の投影領域と、当該偏光子１０にある非偏光領域１２とが略同一であることをいう。後述する偏光子複合体の製造手段によれば、セル領域５５が偏光領域１１に対応する領域に存在する偏光子複合体を、効率的に製造できる。偏光子複合体４０に含まれる偏光子１０が２つ以上の非偏光領域１２を有する場合、少なくとも１つの非偏光領域１２に対応する領域に非セル領域５６が存在していれば、他の非偏光領域１２に対応（投影）する領域にはセル領域５５が存在していてもよい。
【0016】
位相差層７１は、補強材５０の偏光子１０とは反対側に、図示しない貼合層を介して設けることができる。貼合層としては、粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。粘着剤層を形成するための粘着剤及び接着剤層を形成するための接着剤としては、例えば、後述する充填材を構成するために用いる粘着剤及び接着剤が挙げられる。補強材５０と位相差層７１との間に介在する貼合層は、補強材５０のセル５１の内部空間にも設けられることが好ましい。補強材５０のセル５１の内部空間が空洞であると、セル隔壁５３とセル５１の内部空間との屈折率の違い等により表示装置の視認性が低下する虞がある。そのため、補強材５０と位相差層７１との間に介在する貼合層を構成する材料を、補強材５０のセル５１の内部空間を埋めるように設けることにより、表示装置での視認性の低下を抑制することができる。後述するように複数のセル５１の間に隙間が設けられている場合には、この隙間にも貼合層を構成する材料が設けられることが好ましい。
【0017】
位相差層７１は、図１（ａ）に示すように、位相差特性を有する位相差領域７５と、位相差特性を有さない非位相差領域７６とを有する。位相差領域７５とは、波長５９０ｎｍｎｍの波長において、面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうちの少なくとも一方が４０ｎｍ超である領域をいう。非位相差領域７６とは、波長５９０ｎｍの波長において、面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）がそれぞれ４０ｎｍ以下である領域をいう。
【0018】
面内位相差値（Ｒ０）は、位相差層７０の厚み方向とは垂直な方向（面内方向）の位相差値であり、下式（Ｉ）によって求めることができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、位相差層７０の厚み方向の位相差値であり、下式（ＩＩ）によって求めることができる。面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、いずれも温度２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定される。
Ｒ０＝（Ｎｘ－Ｎｙ）×ｄ （Ｉ）
Ｒｔｈ＝［｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２｝－Ｎｚ］×ｄ （ＩＩ）
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、
Ｎｘは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｙは、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｚは、厚さ方向の屈折率であり、
ｄは、位相差層の厚み［ｎｍ］である。］
面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、例えば、王子計測機器社製の複屈折測定装置（商品名ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）により測定することができる。
Ｒ０＝（Ｎｘ－Ｎｙ）×ｄ （Ｉ）
Ｒｔｈ＝［｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２｝－Ｎｚ］×ｄ （ＩＩ）
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、
Ｎｘは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｙは、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｚは、厚さ方向の屈折率であり、
ｄは、位相差層の厚み［ｎｍ］である。］
面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、例えば、王子計測機器社製の複屈折測定装置（商品名ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）により測定することができる。
【0019】
偏光子複合体４０に含まれる位相差層７１において、位相差領域７５は偏光子１０の偏光領域１１に対応する領域に存在し、非位相差領域７６は偏光子１０の非偏光領域１２に対応する領域に存在する。ここで、位相差領域７５が偏光領域１１に対応する領域に存在するとは、平面視方向において、位相差領域７５及び偏光領域１１が互いに略同形状、略同寸法であることをいい、同様に、非位相差領域７６が非偏光領域１２に対応する領域にあるとは、平面視方向において、非位相差領域７６及び非偏光領域１２が略同じ位置に、略同形状、略同寸法（径）であることをいう。換言すれば、非位相差領域７６を、平面視方向で、偏光子１０に投影したとき、非位相差領域７６の投影領域と、当該偏光子１０にある非偏光領域１２とが略同一であることをいう。後述する偏光子複合体の製造手段によれば、位相差領域７５が偏光領域１１に対応する領域に存在する偏光子複合体を、効率的に製造できる。偏光子複合体４０に含まれる偏光子１０が２つ以上の非偏光領域１２を有する場合、少なくとも１つの非偏光領域１２に対応する領域に非位相差領域７６が存在していればよく、他の非偏光領域１２に対応する領域には位相差領域７５が存在していてもよい。少なくとも１つの非位相差領域７６は、非偏光領域１２に対応する領域であって且つ非セル領域５６に対応する領域に設けることが好ましい。
【0020】
偏光子複合体４０は、補強材５０の偏光子１０とは反対側に、１層の位相差層７１を有していてもよく、２層以上の位相差層７１を有していてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、位相差層は互いに貼合層を介して積層することができ、位相差特性は互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、少なくとも１層が位相差層７１であれば、他の位相差層は、全体が位相差領域からなる位相差層（非位相差領域を有さない位相差層）であってもよい。この場合、位相差層７１は、偏光子１０に相対的に近い側に設けられることが好ましい。
【0021】
偏光子１０の非偏光領域１２、補強材５０の非セル領域５６、及び位相差層７１の非位相差領域７６は、活性エネルギー線硬化性樹脂（以下、「硬化性樹脂（Ｘ）」ということがある。）の硬化物を含む。非偏光領域１２は、平面視において偏光領域１１に囲まれた貫通穴２２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられた領域とすることができる。非セル領域５６は、複数のセル５１の全体又は一部を切欠くように設けられ、且つ上記した貫通穴２２に対応する領域に設けられた貫通穴５２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられた領域とすることができる。非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれ、且つ上記した貫通穴２２に対応する領域に設けられた貫通穴７２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられた領域である。
【0022】
偏光子１０の貫通穴２２、補強材５０の貫通穴５２、及び位相差層７１の貫通穴７２は、平面視において同形状とすることができる。貫通穴２２、貫通穴５２、及び貫通穴７２は、偏光領域１１の厚み方向に連通したものとすることができ、連通する上記貫通穴２２，５２，７２に亘って硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けることができる。
【0023】
偏光子複合体４０が有する偏光子１０は、図１（ａ）に示すように、非偏光領域１２を有している。そのため、スマートフォンやタブレット型端末等に展開される液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置に、偏光子複合体４０を適用する際に、非偏光領域１２に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができる。特に、偏光子複合体４０では、位相差層７１が非位相差領域７６を有している。そのため、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、より一層カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができる。
【0024】
偏光子１０は非偏光領域１２を有するため、表示装置に適用した場合等に受ける温度変化に伴う偏光子１０の収縮によって非偏光領域１２の周辺にクラックが発生しやすいと考えられる。また、偏光子１０は、偏光領域１１の厚みが１５μｍ以下と薄いため、衝撃を受けた場合にクラックが発生しやすいと考えられる。偏光子複合体４０では、上記のように偏光子１０の片面に補強材５０が設けられているため、温度変化や衝撃を受けた場合のクラックの発生や、微細なクラックが大きなクラックに進行することを抑制できると考えられる。
【0025】
偏光子複合体４０では、非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６が硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことにより、偏光子１０の貫通穴２２、非セル領域５６の貫通穴５２、及び非位相差領域７６の貫通穴７２を中実とすることができる。偏光子複合体４０が有する偏光子１０は厚みは１５μｍ以下と薄いため、非偏光領域１２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられておらず貫通穴２２が中空の状態であると、表示装置に適用した際等に曝される温度変化に伴う偏光子の収縮によって貫通穴２２の周辺にクラックが発生したりする等の不具合を生じる虞がある。これに対し、偏光子複合体４０が有する偏光子１０のように、貫通穴２２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられることによって非偏光領域１２を中実とすることができるため、上記の不具合の発生を抑制することができる。
【0026】
偏光子複合体４０に設けられる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光子複合体４０における偏光領域１１、セル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みと同じであってもよく（図１（ａ））、当該積層構造部分の厚みよりも小さくてもよく（図２（ａ），（ｂ））、当該積層構造部分の厚みよりも大きくてもよい（図２（ｃ），（ｄ））。上記積層構造部分の厚みとは、偏光領域１１の厚みとセル領域５５の厚みと位相差領域７５との厚みの合計厚みであってもよく、この合計厚みに偏光領域１１、セル領域５５、位相差領域７５との間に介在する層の厚みが含まれていてもよい。例えば、偏光子複合体４０が偏光子１０と位相差層７１との間に貼合層を有している場合、上記積層構造部分の厚みは、偏光領域１１の厚みとセル領域５５の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みに貼合層の厚みも加味したものとなる。偏光子複合体４０に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２の少なくとも一部、補強材５０の貫通穴５２の少なくとも一部、及び位相差層７１の貫通穴７２の少なくとも一部を埋めるように設けられていればよい。偏光子複合体４０が偏光子１０と位相差層７１との間に貼合層を有する場合、貼合層に設けられた貫通穴の少なくとも一部を埋めるように、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられていればよい。硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２全体を埋めるように設けられることが好ましく、偏光子１０の貫通穴２２全体、補強材５０の貫通穴５２全体、位相差層７１の貫通穴７２全体、及び上記貼合層の貫通穴全体を埋めるように設けられることがより好ましい。
【0027】
偏光子複合体４０における偏光領域１１、セル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、１８μｍ以下であってもよく、１６μｍ以下であってもよく、通常２μｍ以上である。上記積層構造部分の厚みが上記範囲を超えると、後述するように非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けるための作業性が低下しやすい。厚みは、例えば接触式膜厚測定装置（ＭＳ－５Ｃ、株式会社ニコン製）を用いて測定することができる。なお、セル領域の厚みは、セル５１の高さ（セル５１の開口端面に直交する方向の長さ）をいう。
【0028】
偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みは、次のようにして決定する。まず、偏光子複合体４０において、偏光子１０の偏光領域１１の表面（補強材５０側とは反対側の表面）を含む第１平面と、位相差層７１の位相差領域７５の表面（補強材５０側とは反対側の表面）を含む第２平面とを仮定する。次に、非偏光領域１２において、偏光子１０側における硬化物の表面と第１平面とがなす最短距離が最大となる位置である第１位置、及び、位相差層７１側における硬化物の表面と第２平面とがなす最短距離が最大となる第２位置を決定する。そして、第１位置における最短距離（ｄｍ）、第２位置における最短距離（ｄｎ）、及び、第１平面と第２平面との距離（Ｄ）を合計した値（ｄｍ＋ｄｎ＋Ｄ）を、偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みとする。
【0029】
非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みと、偏光子複合体４０における偏光領域１１、セル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みが異なる場合の厚みの決定方法について、図３に基づいて具体的に説明する。図３（ａ）及び（ｂ）は、偏光子複合体の非偏光領域、非セル領域、及び非位相差領域周辺の断面の一例を模式的に示す図であって、非偏光領域、非セル領域、及び非位相差領域に設けられた硬化物の厚みを決定する方法を説明するための説明図である。
【0030】
図３（ａ）に示すように非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に硬化物が設けられている場合、偏光子１０の補強材５０側とは反対側の表面側に沿って非偏光領域１２にある直線を第１平面１１ｍと仮定する。この第１平面１１ｍ上の任意の点と、非偏光領域１２に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ａ）中の「ｄｍ」）が最大となるときの位置を第１位置とする。次に、図３（ａ）に示すように、位相差層７１の補強材５０側とは反対側の表面側に沿って非位相差領域７６にある一点鎖線で示す直線を第２平面１１ｎと仮定する。この第２平面１１ｎ上の任意の点と、非位相差領域７６に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ａ）中の「ｄｎ」）が最大となるときの位置を第２位置とする。ここで、図３（ａ）に示すように、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の表面が、偏光子複合体４０の厚み方向において、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎよりも内面側（補強材５０側）に存在する場合、ｄｍ及びｄｎは負の値として示すものとする。また、第１平面１１ｍと第２平面１１ｎとの間の距離（積層構造部分の厚みに相当）をＤとする。そうすると、図３（ａ）に示す非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みは、Ｄ＋ｄｍ＋ｄｎ（ｄｍ及びｄｎは負の値）として決定することができる。
【0031】
また、図３（ｂ）に示すように非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に硬化物が設けられている場合についても上記と同様に、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎを仮定することにより、非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みを決定することができる。具体的には、まず、第１平面１１ｍ上の任意の点と、非偏光領域１２に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ｂ）中の「ｄｍ」）が最大となるときの位置を第１位置とする。次に、第２平面１１ｎ上の任意の点と、非位相差領域７６に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ｂ）中の「ｄｎ」）が最大となるときの位置を第２位置とする。ここで、図３（ｂ）に示すように、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の表面が、偏光子複合体４０の厚み方向において、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎよりも外面側（補強材５０側とは反対側）に存在する場合、ｄｍ及びｄｎは正の値として示すものとする。そうすると、図３（ｂ）に示す非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みは、Ｄ＋ｄｍ＋ｄｎ（ｄｍ及びｄｎは正の値）として決定することができる。
【0032】
（偏光子複合体（２））
図４は、本実施形態の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図４に示す偏光子複合体４１は、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０の偏光子１０側にさらに補強材５０を設けたものであり、補強材５０、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１をこの順に有する。補強材５０、偏光子１０、及び位相差層７１については上記で説明したとおりである。
図４は、本実施形態の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図４に示す偏光子複合体４１は、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０の偏光子１０側にさらに補強材５０を設けたものであり、補強材５０、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１をこの順に有する。補強材５０、偏光子１０、及び位相差層７１については上記で説明したとおりである。
【0033】
偏光子複合体４１は、上記した偏光子複合体４０と同様に、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、より一層カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができ、上記した不具合の発生を抑制することができる。また、偏光子複合体４１では、偏光子１０の両面に補強材５０が設けられているため、温度変化や衝撃を受けた場合に発生する偏光子１０のクラック、微細なクラックが大きなクラックに進行することを抑制できると考えられる。
【0034】
偏光子複合体４１に設けられる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光子複合体４１における偏光領域１１、２つの補強材におけるセル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みと同じであってもよく（図４）、当該積層構造部分の厚みよりも小さくてもよく、当該積層構造部分の厚みよりも大きくてもよい。上記積層構造部分の厚みとは、偏光領域１１の厚みと２つのセル領域５５の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みであってもよく、この合計厚みに偏光領域１１、セル領域５５、及び位相差領域７５の間に介在する層の厚みが含まれていてもよい。例えば、この介在する層が貼合層である場合、上記積層構造部分の厚みは、偏光領域１１の厚みと２つのセル領域５５の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みに貼合層の厚みも加味したものとなる。貼合層を有する場合、貼合層に設けられた貫通穴の少なくとも一部を埋めるように、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられていればよい。偏光子複合体４１に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、２つの補強材５０のそれぞれの貫通穴５２の少なくとも一部、偏光子１０の貫通穴２２の少なくとも一部、及び位相差層７１の貫通穴７２の少なくとも一部を埋めるように設けられていればよい。硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２全体を埋めるように設けられることが好ましく、２つの補強材５０の貫通穴５２全体、偏光子１０の貫通穴２２全体、位相差層７１の貫通穴７２全体、及び上記貼合層の貫通穴全体を埋めるように設けられることがより好ましい。
【0035】
偏光子複合体４１における偏光領域１１、２つの補強材におけるセル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、１８μｍ以下であってもよく、１６μｍ以下であってもよく、通常２μｍ以上である。上記積層構造部分の厚みが上記の範囲を超えると、後述するように非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けるための作業性が低下しやすい。各厚み及び厚みの測定方法については上記で説明したとおりである。
【0036】
偏光子複合体４１に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第１平面を、２つの補強材５０のうち、偏光子１０の位相差層７１側とは反対側に設けられた補強材５０のセル領域５５の開口端面（偏光子１０側とは反対側の開口端面）を含む平面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。
【0037】
補強材５０は、偏光子複合体４１に含まれた状態で表示装置等に適用される。補強材５０のセル５１の内部空間が空洞であると、セル隔壁５３とセル５１の内部空間との屈折率の違い等により表示装置の視認性が低下する虞がある。補強材５０において、後述するように複数のセル５１の間に隙間が設けられている場合には、この隙間も表示装置の視認性の低下を引き起こす原因になり得る。そのため、上記した偏光子複合体４０で説明したように、偏光子１０と位相差層７１との間に存在する補強材５０のセル５１の内部空間及び複数のセル５１の間の隙間には、補強材５０と位相差層７１との間に介在する貼合層が設けられることが好ましい。一方、偏光子複合体４１における偏光子１０の位相差層７１側とは反対側に設けられる補強材５０のセル領域５５においては、セル５１の内部空間及び複数のセル５１の間に隙間に、透光性の充填材が設けられることが好ましい。このような充填材については後述する。
【0038】
本明細書において、透光性とは波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の可視光が８０％以上透過する性質（透過率）をいい、８５％以上透過するもの好ましく、９０％以上透過するものがより好ましく、９２％以上透過するものさらに好ましい。以下における「透光性」の定義及び可視光に対する透過率の好ましい範囲も上記と同じである。
【0039】
（偏光子複合体（３））
図５は、本実施形態の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図５に示す偏光子複合体４２は、偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０をこの順に有する。偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０については上記で説明したとおりである。
図５は、本実施形態の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図５に示す偏光子複合体４２は、偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０をこの順に有する。偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０については上記で説明したとおりである。
【0040】
位相差層７１は、偏光子１０の一方の面側に、図示しない貼合層を介して設けることができる。偏光子複合体４２は、偏光子１０の一方の面側に、１層の位相差層７１を有していてもよく、２層以上の位相差層７１を有していてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、位相差層は互いに貼合層を介して積層してもよく、補強材５０の偏光子１０側とは反対側にさらに位相差層を設けてもよい。２層以上の位相差層の位相差特性は、互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。偏光子複合体４２において、補強材５０の偏光子１０側とは反対側にさらに位相差層を有する場合、この位相差層は、位相差層７１であってもよく、全体が位相差領域からなる位相差層（非位相差層を有さない位相差層）であってもよい。
【0041】
偏光子複合体４２も、偏光子複合体４１と同様に、偏光子１０の非偏光領域１２、位相差層７１の非位相差領域７６、及び補強材５０の非セル領域５６は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、「硬化性樹脂（Ｘ）」ということがある。）の硬化物を含む。
【0042】
偏光子複合体４２は、上記した偏光子複合体４０，４１と同様に、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、より一層カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができ、上記した不具合の発生を抑制することができる。また、偏光子複合体４２では、補強材５０が設けられているため、温度変化や衝撃を受けた場合に発生する偏光子１０のクラックや、微細なクラックが大きなクラックに進行することを抑制できると考えられる。特に、偏光子複合体４２では、位相差層７１の偏光子１０側とは反対側に補強材５０を設けているため、偏光子複合体４２の耐衝撃性を向上しやすいと考えられる。
【0043】
偏光子複合体４２に設けられる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光子複合体４２における偏光領域１１、位相差領域７５、及びセル領域５５を含む積層構造部分の厚みと同じであってもよく（図５）、当該積層構造部分の厚みよりも小さくてもよく、当該積層構造部分の厚みよりも大きくてもよい。上記積層構造部分の厚みとは、偏光領域１１の厚みと位相差領域７５との厚みとセル領域５５の厚みとの合計厚みであってもよく、この合計厚みに偏光領域１１、位相差領域７５、及びセル領域５５の間に介在する層の厚みが含まれていてもよい。例えば、この介在する層が貼合層である場合、上記積層構造部分の厚みは、偏光領域１１の厚みとセル領域５５の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みに貼合層の厚みも加味したものとなる。貼合層を有する場合、貼合層に設けられた貫通穴の少なくとも一部を埋めるように、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられていればよい。偏光子複合体４２に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２の少なくとも一部、位相差層７１の貫通穴７２の少なくとも一部、及び補強材５０の貫通穴５２の少なくとも一部を埋めるように設けられていればよい。硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２全体を埋めるように設けられることが好ましく、偏光子１０の貫通穴２２全体、位相差層７１の貫通穴７２全体、補強材５０の貫通穴５２、及び上記貼合層の貫通穴全体全体を埋めるように設けられることがより好ましい。
【0044】
偏光子複合体４２における偏光領域１１、位相差領域７５、及びセル領域５５を含む積層構造部分の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、１８μｍ以下であってもよく、１６μｍ以下であってもよく、通常２μｍ以上である。上記積層構造部分の厚みが上記の範囲を超えると、後述するように非偏光領域１２、非位相差領域７６、及び非セル領域５６に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けるための作業性が低下しやすく、歩留まりが低下しやすい。各厚み及び厚みの測定方法については上記で説明したとおりである。
【0045】
偏光子複合体４２に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第２平面を、補強材５０のセル領域５５の開口端面（位相差層７１側とは反対側の開口端面）を含む平面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。
【0046】
補強材５０は、偏光子複合体４２に含まれた状態で表示装置等に適用される。そのため、上記した偏光子複合体４１でも説明したように、補強材５０のセル領域５５においては、セル５１の内部空間及び複数のセル５１の間に隙間に透光性の充填材が設けられることが好ましい。
【0047】
（偏光子複合体（４））
図６は、本実施形態の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図６に示す偏光子複合体４３は、図５に示す偏光子複合体４２の偏光子１０側にさらに補強材５０を設けたものであり、補強材５０、偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０をこの順に有する。補強材５０、偏光子１０、及び位相差層７１については上記で説明したとおりである。
図６は、本実施形態の偏光子複合体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図６に示す偏光子複合体４３は、図５に示す偏光子複合体４２の偏光子１０側にさらに補強材５０を設けたものであり、補強材５０、偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０をこの順に有する。補強材５０、偏光子１０、及び位相差層７１については上記で説明したとおりである。
【0048】
偏光子複合体４３は、上記した偏光子複合体４０～４２と同様に、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、より一層カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができ、上記した不具合の発生を抑制することができる。また、偏光子複合体４３では、偏光子１０の一方の面側及び位相差層７１の一方の面側にそれぞれ補強材５０が設けられているため、温度変化や衝撃を受けた場合に発生する偏光子１０のクラックや、微細なクラックが大きなクラックに進行することを抑制でき、偏光子複合体４３の耐衝撃性を向上しやすいと考えられる。
【0049】
偏光子複合体４３に設けられる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光子複合体４３における２つの補強材におけるセル領域５５、偏光領域１１、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みと同じであってもよく（図６）、当該積層構造部分の厚みよりも小さくてもよく、当該積層構造部分の厚みよりも大きくてもよい。上記積層構造部分の厚みとは、２つのセル領域５５の厚みと偏光領域１１の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みであってもよく、この合計厚みにセル領域５５、偏光領域１１、及び位相差領域７５の間に介在する層の厚みが含まれていてもよい。例えば、この介在する層が貼合層である場合、上記積層構造部分の厚みは、２つのセル領域５５の厚みと偏光領域１１の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みに貼合層の厚みも加味したものとなる。貼合層を有する場合、貼合層に設けられた貫通穴の少なくとも一部を埋めるように、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられていればよい。偏光子複合体４３に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、２つの補強材５０のそれぞれの貫通穴５２の少なくとも一部、偏光子１０の貫通穴２２の少なくとも一部、及び位相差層７１の貫通穴７２の少なくとも一部を埋めるように設けられていればよい。硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２全体を埋めるように設けられることが好ましく、２つの補強材５０の貫通穴５２全体、偏光子１０の貫通穴２２全体、位相差層７１の貫通穴７２全体、及び上記貼合層の貫通穴全体を埋めるように設けられることがより好ましい。
【0050】
偏光子複合体４３における２つの補強材におけるセル領域５５、偏光領域１１、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、１８μｍ以下であってもよく、１６μｍ以下であってもよく、通常２μｍ以上である。上記積層構造部分の厚みが上記の範囲を超えると、後述するように非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けるための作業性が低下しやすい。各厚み及び厚みの測定方法については上記で説明したとおりである。
【0051】
偏光子複合体４３に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第１平面及び第２平面を次のように設定して、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。第１平面を、２つの補強材５０のうち、偏光子１０の位相差層７１側とは反対側に設けられた補強材５０のセル領域５５の開口端面（偏光子１０側とは反対側の開口端面）を含む平面とする。第２平面を、２つの補強材５０のうち、位相差層７１の偏光子１０側とは反対側に設けられた補強材５０のセル領域５５の開口端面（位相差層７１側とは反対側の開口端面）を含む平面とする。
【0052】
補強材５０は、偏光子複合体４３に含まれた状態で表示装置等に適用される。そのため、上記した偏光子複合体４１でも説明したように、補強材５０のセル領域５５においては、セル５１の内部空間及び複数のセル５１の間に隙間に透光性の充填材が設けられることが好ましい。
【0053】
上記で説明した偏光子複合体４０～４３は、円偏光板であってもよい。この場合、位相差層７１の位相差領域７５は、１／４波長板として機能する位相差特性を有することができる。偏光子複合体４０～４３が円偏光板である場合、偏光子１０の一方の面側に、位相差層を２層以上有していてもよい。例えば、偏光子１０の一方の面側に、位相差領域７５の位相差特性が［ａ］１／２波長板及び１／４波長板の順、［ｂ］逆波長分散性の１／４波長板及びポジティブＣ板の順、又は、［ｃ］ポジティブＣ板及び逆波長分散性の１／４波長板の順に配置されるように位相差層７１を積層してもよい。
【0054】
偏光子複合体４０～４３は、枚葉体であってもよく、保管時や輸送時等に巻回されてロール形状とされる長さを有する長尺体であってもよい。偏光子複合体４０～４３の平面形状及び大きさは、特に限定されない。
【0055】
（偏光領域）
偏光子１０の偏光領域１１は、好ましくは波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の波長において吸収二色性を示す。偏光子１０は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するが、この性質は主に偏光領域１１によって得ることができる。
偏光子１０の偏光領域１１は、好ましくは波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の波長において吸収二色性を示す。偏光子１０は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するが、この性質は主に偏光領域１１によって得ることができる。
【0056】
偏光領域１１は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質が吸着・配向されたもの；ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等、ポリエン系配向フィルムや液晶化合物を配向させたものに二色性物質が吸着・配向されたもの；等を用いることができる。その中でも、光学特性に優れたものとして、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し、一軸延伸して得られたものを用いることが好ましい。
【0057】
まず、好ましい偏光領域１１となる、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られたものについて、簡単にその製造方法を説明する。
【0058】
ヨウ素による染色は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。一軸延伸の延伸倍率は、３～７倍であることが好ましい。延伸は、染色処理後に行ってもよく、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。
【0059】
ポリビニルアルコール系フィルムには、必要に応じて、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させて染色ムラ等を防止することができる。
【0060】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸処理、染色処理、架橋処理（ホウ酸処理）、水洗処理、乾燥処理は、例えば、特開２０１２－１５９７７８号公報に記載されている方法に準じて行ってもよい。この文献記載の方法では、基材フィルムへのポリビニルアルコール系樹脂のコーティングにより、偏光領域１１となるポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。この際、用いた基材フィルムは、後述する第１支持層２５として用いることもできる。
【0061】
続いて、液晶化合物を配向させたものに二色性色素が吸着・配向してなる偏光領域１１について簡単に説明する。この場合の偏光領域１１としては、例えば特開２０１３－３７３５３号公報、特開２０１３－３３２４９号公報、特開２０１６－１７０３６８号公報特開２０１７－８３８４３号公報等に記載されるように、液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。二色性色素としては、波長３８０～８００ｎｍの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。このような液晶化合物が重合した硬化膜は、基材フィルム上に形成されていてもよく、その場合は、上記基材フィルムは、後述する第１支持層２５として用いることもできる。
【0062】
上記のようにして偏光領域１１に用いられる偏光フィルムを作製した後に、穴あけ加工により非偏光領域１２を形成して偏光子１０を形成することも好ましい。本明細書では、このような偏光領域１１のみで形成された偏光フィルムを原料偏光子２０ということがある。
【0063】
偏光領域１１の視感度補正偏光度（Ｐｙ）は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上であり、特に好ましくは９９％以上である。偏光領域１１の単体透過率（Ｔｓ）は、通常５０％未満であり、４６％以下であってもよい。偏光領域１１の単体透過率（Ｔｓ）は、好ましくは３９％以上であり、より好ましくは３９．５％以上であり、さらに好ましくは４０％以上であり、特に好ましくは４０．５％以上である。
【0064】
単体透過率（Ｔｓ）は、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）に準拠して測定して視感度補正を行ったＹ値である。視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び単体透過率（Ｔｓ）は、例えば、紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製、製品名：Ｖ７１００）を用いて測定することができ、視感度補正を行った平行透過率Ｔｐ及び直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
Ｐｙ［％］＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
Ｐｙ［％］＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
【0065】
（非偏光領域）
一般的に「非偏光」とは、電界成分に観測し得る規則性がない光を指す。換言すると、非偏光とは、優位な特定の偏光状態が観測されないランダムな光である。また、「部分偏光」とは、偏光と非偏光との中間の状態にある光を指し、直線偏光、円偏光及び楕円偏光の少なくとも１つと非偏光とが交じり合った光を意味する。偏光子１０における非偏光領域１２とは、当該非偏光領域１２を透過する光（透過光）が、非偏光又は部分偏光となることを意味するものである。特に、透過光が非偏光である非偏光領域が好ましい。
一般的に「非偏光」とは、電界成分に観測し得る規則性がない光を指す。換言すると、非偏光とは、優位な特定の偏光状態が観測されないランダムな光である。また、「部分偏光」とは、偏光と非偏光との中間の状態にある光を指し、直線偏光、円偏光及び楕円偏光の少なくとも１つと非偏光とが交じり合った光を意味する。偏光子１０における非偏光領域１２とは、当該非偏光領域１２を透過する光（透過光）が、非偏光又は部分偏光となることを意味するものである。特に、透過光が非偏光である非偏光領域が好ましい。
【0066】
偏光子１０の非偏光領域１２は、平面視において偏光領域１１に囲まれた領域である。非偏光領域１２は、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含む。非偏光領域１２は、偏光領域１１のみで形成された偏光子（原料偏光子２０）に設けられた貫通穴に、後述する硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を設けたものであることが好ましい。非偏光領域１２は透光性を有する。
【0067】
偏光子１０の非偏光領域１２が透光性を有することにより、非偏光領域１２に所定の透明性を確保することができる。これにより、偏光子複合体４０～４３を表示装置に適用する際に、非偏光領域１２に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下や意匠性の低下を抑制することができる。
【0068】
非偏光領域１２の平面形状は特に限定されないが、円形；楕円形；小判形；三角形や四角形等の多角形；多角形の少なくとも１つの角が角丸（Ｒを有する形状）とされた角丸多角形等とすることができる。
【0069】
非偏光領域１２の径は、０．５ｍｍ以上であることが好ましく、１ｍｍ以上であってもよく、２ｍｍ以上であってもよく、３ｍｍ以上であってもよい。非偏光領域１２の径は、２０ｍｍ以下であることが好ましく、１５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以下であってもよく、７ｍｍ以下であってもよい。非偏光領域１２の径とは、当該非偏光領域１２の外周の任意の二点を結ぶ直線のうち最も長さが長い直線における長さをいう。
【0070】
非偏光領域１２に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光領域１１の厚みと同じであってもよく、偏光領域１１の厚みよりも小さくてもよく、偏光領域１１の厚みよりも大きくてもよい。上記したように、非偏光領域１２に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、貫通穴２２全体を埋めるように設けられていることが好ましい。
【0071】
非偏光領域１２に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第２平面を、偏光子１０の偏光領域１１の表面のうち、第１平面に含まれるとした表面とは反対側の表面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。
【0072】
（セル領域）
セル領域５５は、補強材５０のセル５１が存在する領域である。セル５１は、図１（ｂ）に示すように、セル５１を区画するセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の構造を有し、柱状の構造の軸方向両端が開口した開口端面となっているものである。セル５１は、開口端面として、偏光子複合体４０～４３の偏光子１０との距離が相対的に近い側に配置される第１開口端面と、相対的に遠い側に配置される第２開口端面とを有する。セル領域５５は、第１開口端面及び第２開口端面のうちの少なくとも一方が、偏光子１０に対向するように配列していればよく、第１開口端面及び第２開口端面の両方が、偏光子１０に対向するように配列していることが好ましい。
セル領域５５は、補強材５０のセル５１が存在する領域である。セル５１は、図１（ｂ）に示すように、セル５１を区画するセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の構造を有し、柱状の構造の軸方向両端が開口した開口端面となっているものである。セル５１は、開口端面として、偏光子複合体４０～４３の偏光子１０との距離が相対的に近い側に配置される第１開口端面と、相対的に遠い側に配置される第２開口端面とを有する。セル領域５５は、第１開口端面及び第２開口端面のうちの少なくとも一方が、偏光子１０に対向するように配列していればよく、第１開口端面及び第２開口端面の両方が、偏光子１０に対向するように配列していることが好ましい。
【0073】
セル領域５５が有するセル５１の開口の形状は特に限定されないが、多角形状、円形状、又は楕円形状であることが好ましい。第１開口端面の開口の形状と、第２開口端面の開口の形状とは、同じ大きさの同じ形状であることが好ましいが、異なる形状であってもよく、同じ形状であって大きさが異なっていてもよい。また、セル領域５５が有する複数のセル５１の開口の形状は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0074】
セル領域５５が有する複数のセル５１は、開口端面の平面視において、各セル５１の開口が互いに隣接するように配列していることが好ましい。複数のセル５１は、開口端面の平面視において、例えば図１（ｂ）に示すセル５１の開口の形状が六角形等である場合のように、セル５１が互いに隙間なく配置されるように配列していてもよい。あるいは、複数のセル５１は、開口端面の平面視において、セル５１の開口の形状が円形等である場合のように、複数のセル５１のセル隔壁５３の一部が接しており、複数のセル５１の間に隙間を有して配置されるように配列されていてもよい。
【0075】
補強材５０のセル領域５５は、例えば図１（ｂ）に示すように、第１開口端面及び第２開口端面のいずれにおいても開口の形状が六角形状であり、偏光子複合体４０～４３の面方向において、開口が互いに隣り合い隙間なく配置されるように複数のセル５１が配列したハニカム構造を有することが好ましい。
【0076】
セル５１の開口の大きさは特に限定されないが、非偏光領域１２の径よりも小さい径を有することが好ましい。セル５１の径は、３ｍｍ以下であることが好ましく、２ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以下であってもよく、通常、０．１ｍｍ以上であり、０．５ｍｍ以上であってもよい。このセル５１の開口の径は、開口の外周の任意の二点を結ぶ直線のうち最も長さが長い直線における長さをいう。
【0077】
セル５１の高さ（セル５１の開口端面に直交する方向の長さ）は、通常０．１μｍ以上であり、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、３μｍ以上であってもよく、また、通常１５μｍ以下であり、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよい。
【0078】
セル領域５５のセル５１を区画するセル隔壁５３は、透光性を有することが好ましい。
【0079】
補強材５０のセル隔壁５３の線幅は、例えば０．０５ｍｍ以上であり、０．１ｍｍ以上であってもよく、０．５ｍｍ以上であってもよく、１ｍｍ以上であってもよく、また、通常５ｍｍ以下であり、３ｍｍ以下であってもよい。
【0080】
セル領域５５のセル隔壁５３は、例えば樹脂材料又は無機酸化物によって形成することができ、樹脂材料によって形成されることが好ましい。樹脂材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等の硬化性樹脂等が挙げられる。樹脂材料としては、例えば、上記した硬化性樹脂（Ｘ）；上記充填材に用いる熱可塑性樹脂として例示した熱可塑性樹脂等が挙げられる。無機酸化物としては、酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム等が挙げられる。
【0081】
（非セル領域）
非セル領域は５６、補強材５０のセル５１が存在しない領域であり、上記したように、セル５１を構成するセル隔壁５３及びセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の空間が存在していない領域である。非セル領域５６は、複数のセル５１の全体又は一部を切欠くように設けられ、偏光子１０の貫通穴２２に対応する領域に設けられた貫通穴５２を有する。非セル領域５６は、この貫通穴５２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことができる。
非セル領域は５６、補強材５０のセル５１が存在しない領域であり、上記したように、セル５１を構成するセル隔壁５３及びセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の空間が存在していない領域である。非セル領域５６は、複数のセル５１の全体又は一部を切欠くように設けられ、偏光子１０の貫通穴２２に対応する領域に設けられた貫通穴５２を有する。非セル領域５６は、この貫通穴５２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことができる。
【0082】
非セル領域５６の平面形状及び径は特に限定されず、非偏光領域１２の平面形状として例示した形状及び径が挙げられる。非セル領域５６の平面形状及び径は、非偏光領域１２の平面形状及び径と同じであることが好ましい。
【0083】
（位相差領域）
位相差層７１は位相差特性を有するが、この性質は主に位相差領域７５によって得ることができる。位相差領域７５の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうち少なくとも一方が４０ｎｍ超であり、それぞれ独立して１００ｎｍ以上であってもよく、５００ｎｍ以上であってもよく、１０００ｎｍ以上であってもよく、通常１５０００ｎｍ以下である。
位相差層７１は位相差特性を有するが、この性質は主に位相差領域７５によって得ることができる。位相差領域７５の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうち少なくとも一方が４０ｎｍ超であり、それぞれ独立して１００ｎｍ以上であってもよく、５００ｎｍ以上であってもよく、１０００ｎｍ以上であってもよく、通常１５０００ｎｍ以下である。
【0084】
位相差領域７５は、例えば、１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。上記したとおり、互いに位相差特性の異なる位相差層を複数種積層して、位相差領域７５とすることもできる。
【0085】
位相差領域７５は、後述する全体が位相差領域である原料位相差層によって形成される領域とすることができる。互いに位相差特性の異なる位相差層を複数種積層したものを位相差領域７５とする場合には、この複数種積層したものを原料位相差層とすればよい。そのため、位相差領域７５は、後述する原料位相差層を構成する材料によって形成され、具体的には熱可塑性樹脂を含むことができる。位相差領域は、例えば、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム、又は、重合性液晶性化合物の重合硬化層等によって形成することができる。
【0086】
位相差領域７５の厚みは、１５μｍ以下であることが好ましく、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよく、通常１μｍ以上である。
【0087】
（非位相差領域）
位相差層７１の非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれた領域である。非位相差領域７６の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、４０ｎｍ以下であり、それぞれ独立して３５ｎｍ以下であってもよく、３０ｎｍ以下であってもよく、２０ｎｍ以下であってもよく、０ｎｍであってもよい。
位相差層７１の非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれた領域である。非位相差領域７６の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、４０ｎｍ以下であり、それぞれ独立して３５ｎｍ以下であってもよく、３０ｎｍ以下であってもよく、２０ｎｍ以下であってもよく、０ｎｍであってもよい。
【0088】
非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれた貫通穴７２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことができる。非位相差領域７６に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、位相差領域７５の厚みと同じであってもよく、非位相差領域７６の厚みよりも小さくてもよく、非位相差領域７６の厚みよりも大きくてもよい。上記したように、非位相差領域７６に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、貫通穴７２全体を埋めるように設けられていることが好ましい。後述のように、このような非位相差領域７６を、非偏光領域１２に対応させて設けることにより、偏光子複合体４０～４３を表示装置に適用する際に、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下や意匠性の低下を抑制することができる。
【0089】
非位相差領域７６に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した偏光子複合体４０に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第１平面を、位相差層７１の位相差領域７５の表面のうち、第２平面に含まれるとした表面とは反対側の表面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。
【0090】
非位相差領域７６の平面形状及び径は特に限定されず、非偏光領域１２の平面形状として例示した形状及び径が挙げられる。非位相差領域７６の平面形状及び径は、非偏光領域１２の平面形状及び径とそれぞれ同じであることが好ましい。
【0091】
（活性エネルギー線硬化性樹脂（硬化性樹脂（Ｘ）））
偏光子複合体４０～４３における非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６は上記のとおり、活性エネルギー線硬化性樹脂（硬化性樹脂（Ｘ））の硬化物が設けられた領域であり、好ましくは、当該硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、「硬化性樹脂組成物」ということがある。）により形成される。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化するものである。硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化型の接着剤であってもよく、この場合、紫外線硬化型の接着剤であることがより好ましい。
偏光子複合体４０～４３における非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６は上記のとおり、活性エネルギー線硬化性樹脂（硬化性樹脂（Ｘ））の硬化物が設けられた領域であり、好ましくは、当該硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、「硬化性樹脂組成物」ということがある。）により形成される。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化するものである。硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化型の接着剤であってもよく、この場合、紫外線硬化型の接着剤であることがより好ましい。
【0092】
硬化性樹脂組成物は無溶剤型であることが好ましい。無溶剤型とは、積極的には溶剤を添加していないことをいい、具体的には、無溶剤型の硬化性樹脂組成物とは、当該硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して溶剤の含有量が５重量％以下であることをいう。
【0093】
硬化性樹脂（Ｘ）は、エポキシ化合物を含むことが好ましい。エポキシ化合物とは、分子内に１個以上、好ましくは２個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物（脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル）等を挙げることができる。硬化性樹脂（Ｘ）に含まれるエポキシ化合物は、１種であってもよく、２種以上であってもよい。
【0094】
エポキシ化合物の含有量は、硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して、４０重量％以上であることが好ましく、５０重量％以上であることがより好ましく、６０重量％以上であることがさらに好ましい。エポキシ化合物の含有量は、硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して、１００重量％以下であればよく、９０重量％以下であってもよく、さらには８０重量％以下であってもよいし、７５重量％以下であってもよい。
【0095】
エポキシ化合物のエポキシ当量は通常、４０～３０００ｇ／当量、好ましくは５０～１５００ｇ／当量の範囲内である。エポキシ当量が３０００ｇ／当量を超えると、硬化性樹脂（Ｘ）に含有される他の成分との相溶性が低下する可能性がある。
【0096】
硬化性樹脂（Ｘ）に含まれるエポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含有することが好ましい。脂環式エポキシ化合物は、脂環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有するエポキシ化合物である。「脂環に結合したエポキシ基」とは、下記式に示される構造における橋かけの酸素原子－Ｏ－を意味する。下記式中、ｍは２～５の整数である。
【化1】
【0097】
上記式における（ＣＨ２）ｍ中の１個又は複数個の水素原子を取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物となり得る。（ＣＨ２）ｍ中の１個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基等の直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。脂環式エポキシ化合物の中でも、オキサビシクロヘキサン環（上記式においてｍ＝３のもの）や、オキサビシクロヘプタン環（上記式においてｍ＝４のもの）を有するエポキシ化合物は、偏光子１０の偏光領域１１、位相差層７１の位相差領域７５、及び補強材５０のセル領域５５と、非偏光領域１２、非位相差領域７６、及び非セル領域５６を形成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物との間に優れた密着性を与えることから好ましく用いられる。以下に、好ましく用いられる脂環式エポキシ化合物を具体的に例示するが、これらの化合物に限定されるものではない。
【0098】
［ａ］下記式（ＩＶ）で示されるエポキシシクロヘキシルメチル エポキシシクロヘキサンカルボキシレート類：
［式（ＩＶ）中、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化2】
［式（ＩＶ）中、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0099】
［ｂ］下記式（Ｖ）で示されるアルカンジオールのエポキシシクロヘキサンカルボキシレート類：
［式（Ｖ）中、Ｒ１０及びＲ１１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｎは２～２０の整数を表す。］
【化3】
［式（Ｖ）中、Ｒ１０及びＲ１１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｎは２～２０の整数を表す。］
【0100】
［ｃ］下記式（ＶＩ）で示されるジカルボン酸のエポキシシクロヘキシルメチルエステル類：
［式（ＶＩ）中、Ｒ１２及びＲ１３は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｐは２～２０の整数を表す。］
【化4】
［式（ＶＩ）中、Ｒ１２及びＲ１３は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｐは２～２０の整数を表す。］
【0101】
［ｄ］下記式（ＶＩＩ）で示されるポリエチレングリコールのエポキシシクロヘキシルメチルエーテル類：
［式（ＶＩＩ）中、Ｒ１４及びＲ１５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｑは２～１０の整数を表す。］
【化5】
［式（ＶＩＩ）中、Ｒ１４及びＲ１５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｑは２～１０の整数を表す。］
【0102】
［ｅ］下記式（ＶＩＩＩ）で示されるアルカンジオールのエポキシシクロヘキシルメチルエーテル類：
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ１６及びＲ１７は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｒは２～２０の整数を表す。］
【化6】
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ１６及びＲ１７は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表し、ｒは２～２０の整数を表す。］
【0103】
［ｆ］下記式（ＩＸ）で示されるジエポキシトリスピロ化合物：
［式（ＩＸ）中、Ｒ１８及びＲ１９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化7】
［式（ＩＸ）中、Ｒ１８及びＲ１９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0104】
［ｇ］下記式（Ｘ）で示されるジエポキシモノスピロ化合物：
［式（Ｘ）中、Ｒ２０及びＲ２１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化8】
［式（Ｘ）中、Ｒ２０及びＲ２１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0105】
［ｈ］下記式（ＸＩ）で示されるビニルシクロヘキセンジエポキシド類：
［式（ＸＩ）中、Ｒ２２は、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化9】
［式（ＸＩ）中、Ｒ２２は、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0106】
［ｉ］下記式（ＸＩＩ）で示されるエポキシシクロペンチルエーテル類：
［式（ＸＩＩ）中、Ｒ２３及びＲ２４は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化10】
［式（ＸＩＩ）中、Ｒ２３及びＲ２４は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0107】
［ｊ］下記式（ＸＩＩＩ）で示されるジエポキシトリシクロデカン類：
［式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ２５は、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【化11】
［式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ２５は、水素原子又は炭素数１～５の直鎖状アルキル基を表す。］
【0108】
脂肪族エポキシ化合物としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルが挙げられる。より具体的には、１，４－ブタンジオールのジグリシジルエーテル；１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル；グリセリンのトリグリシジルエーテル；トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル；プロピレングリコールのジグリシジルエーテル；エチレングリコール、プロピレングリコール又はグリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0109】
水素化エポキシ化合物は、芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより得られるものである。芳香族ポリオールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール型化合物；フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラック樹脂等のノボラック型樹脂；テトラヒドロキシジフェニルメタン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ポリビニルフェノール等の多官能型の化合物が挙げられる。水素化エポキシ化合物の中でも好ましいものとして、水素化されたビスフェノールＡのジグリシジルエーテルが挙げられる。
【0110】
硬化性樹脂（Ｘ）は、エポキシ化合物等の活性エネルギー線硬化性化合物とともに（メタ）アクリル系化合物等を含有してもよい。（メタ）アクリル系化合物を併用することにより、偏光子１０の偏光領域１１、位相差層７１の位相差領域７５、及び補強材５０のセル領域５５と、非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６を形成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物との間の密着性、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の硬度及び機械的強度を高める効果が期待でき、さらには、硬化性樹脂（Ｘ）の粘度や硬化速度等の調整をより容易に行うことができるようになる。「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも一方を意味する。
【0111】
硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては、光カチオン系重合剤等のカチオン系重合剤やラジカル重合開始剤が挙げられる。光カチオン系重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等の活性エネルギー線の照射によりカチオン種又はルイス酸を発生し、エポキシ基の重合反応を開始させるものである。上述のように硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂であることが好ましく、硬化性樹脂（Ｘ）は脂環式エポキシ化合物を含むことが好ましいため、この場合の重合開始剤は、紫外線の照射によりカチオン種又はルイス酸を発生するものが好ましい。
【0112】
硬化性樹脂組成物は、さらに、光増感剤、重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤等の添加剤を含有することができる。
【0113】
（充填材）
補強材５０に設けてもよい充填材は透光性を有し、補強材５０のセル５１の内部空間を埋めることができるものであれば特に限定されない。充填材は、補強材５０のセル隔壁５３を構成する材料とは異なる材料であることが好ましく、樹脂材料を含むことが好ましい。当該樹脂材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等の硬化性樹脂等からなる群より選ばれる１種以上が挙げられ、粘着剤又は接着剤であってもよい。
補強材５０に設けてもよい充填材は透光性を有し、補強材５０のセル５１の内部空間を埋めることができるものであれば特に限定されない。充填材は、補強材５０のセル隔壁５３を構成する材料とは異なる材料であることが好ましく、樹脂材料を含むことが好ましい。当該樹脂材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等の硬化性樹脂等からなる群より選ばれる１種以上が挙げられ、粘着剤又は接着剤であってもよい。
【0114】
熱可塑性樹脂としては、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリエーテル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；フッ素系樹脂等が挙げられる。
【0115】
硬化性樹脂としては、例えば上記した硬化性樹脂（Ｘ）が挙げられる。
【0116】
粘着剤は、それ自体を被着体に貼り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。粘着剤としては、（メタ）アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、又はゴム系ポリマー等のポリマーを主成分として含むものが挙げられる。本明細書において、主成分とは、粘着剤の全固形分のうち５０質量％以上を含む成分をいう。粘着剤は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよく、活性エネルギー線照射や加熱により、架橋度や接着力を調整してもよい。
【0117】
接着剤は、硬化性の樹脂成分を含むものであって、感圧型接着剤（粘着剤）以外の接着剤である。接着剤としては、硬化性の樹脂成分を水に溶解又は分散させた水系接着剤、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤、熱硬化性接着剤等が挙げられる。
【0118】
接着剤として、偏光板の技術分野で汎用されている水系接着剤を用いることもできる。水系接着剤に含有される樹脂成分としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン系樹脂等が挙げられる。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する組成物が挙げられる。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、上記した硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を用いてもよい。熱硬化性接着剤としては、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等を主成分として含むものが挙げられる。
【0119】
（偏光子複合体（１）の製造方法）
図７及び図８は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。図７及び図８では、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０を得る場合を示しているが、図２（ｂ）及び（ｄ）に示す偏光子複合体４０も、下記に説明する方法によって製造することができる。偏光子複合体４０は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し且つ非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０（図７（ａ））、原料位相差層として全体が位相差領域である重合硬化層８５（図７（ｂ））、及び、原料偏光子２０又は重合硬化層８５のいずれか一方に、セル領域５５のみからなり非セル領域５６を有していない補強材形成用構造体５８（以下、「構造体５８」ということがある。）を形成したものを用いて製造することができる。以下では、原料偏光子２０に構造体５８を形成した場合を例に挙げて説明するが、原料位相差層である重合硬化層８５に構造体５８を形成してもよい。
図７及び図８は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。図７及び図８では、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０を得る場合を示しているが、図２（ｂ）及び（ｄ）に示す偏光子複合体４０も、下記に説明する方法によって製造することができる。偏光子複合体４０は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し且つ非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０（図７（ａ））、原料位相差層として全体が位相差領域である重合硬化層８５（図７（ｂ））、及び、原料偏光子２０又は重合硬化層８５のいずれか一方に、セル領域５５のみからなり非セル領域５６を有していない補強材形成用構造体５８（以下、「構造体５８」ということがある。）を形成したものを用いて製造することができる。以下では、原料偏光子２０に構造体５８を形成した場合を例に挙げて説明するが、原料位相差層である重合硬化層８５に構造体５８を形成してもよい。
【0120】
原料偏光子２０は上記した偏光子１０の偏光領域１１のみで形成されているため、原料偏光子２０の厚みは、偏光子１０の偏光領域１１と同じ厚みである１５μｍ以下であることが好ましい。重合硬化層８５は上記した位相差層７１の位相差領域７５となるため、重合硬化層８５の厚みは、位相差層７１の位相差領域７５と同じ厚みであることが好ましい。構造体５８は上記した補強材５０のセル領域５５となるため、構造体５８の厚み（セル５１の高さ）は、補強材５０のセル領域５５の厚み（セル５１の高さ）と同じであることが好ましい。
【0121】
偏光子複合体４０は、例えば次の工程で製造することができる。まず、原料偏光子２０の一方の面に、原料偏光子２０の一方の面に、原料偏光子２０に対して剥離可能に第１支持層２５を設けた後、原料偏光子２０の他方の面に構造体５８を形成して、第１積層体３１を準備する（図７（ａ））。構造体５８は、例えば、樹脂材料又は無機酸化物を用いて、原料偏光子２０の表面にセル５１を区画するセル隔壁５３を形成することによって得ることができる。
【0122】
樹脂材料を用いてセル隔壁５３を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法；フォトリソグラフィ法；ノズルやダイ等を用いた塗布法等が挙げられる。上記方法では、樹脂材料を、溶媒、添加剤等と混合した樹脂組成物を用いてもよい。添加剤としては、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、粘着付与剤、有機又は無機の充填剤、顔料、老化防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が挙げられる。セル隔壁５３は、印刷又は塗布された樹脂組成物に、必要に応じて固化又は硬化のための処理を行って形成してもよい。
【0123】
無機酸化物を用いてセル隔壁５３を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、無機酸化物を蒸着することによって形成することができる。
【0124】
基材層８４上で重合性液晶化合物を重合硬化して、基材層８４上に、全体が位相差領域である重合硬化層８５が形成された基材層付き重合硬化層８０を準備する（図７（ｂ））。
【0125】
準備した第１積層体３１の構造体５８側に、図示しない貼合層を介して、基材層付き重合硬化層８０の重合硬化層８５側を積層する（図７（ｃ））。このとき、貼合層は、構造体５８のセル５１の内部空間及び複数のセル５１の間の隙間に入り込むように設けられることが好ましい。これにより、基材層８４、重合硬化層８５、構造体５８、原料偏光子２０、及び第１支持層２５がこの順に積層された第２積層体３２を得る（図７（ｃ））。第２積層体３２に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３３を形成し（図７（ｄ））、第１支持層２５を剥離して第３積層体３４を得る（図８（ａ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、構造体５８に貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９、及び重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。
【0126】
続いて、第３積層体３４の穴あき偏光子２１側に第２支持層２６を積層し（図８（ｂ））、基材層８４を剥離する（図８（ｃ））。第２支持層２６は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２の一方側を塞ぐように設ける。その後、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，５２，７２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する（図８（ｄ））。これにより、第２支持層２６上に偏光子複合体４０を得る。偏光子複合体４０は、第２支持層２６上に、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第２支持層２６は剥離してもよい。得られた偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。得られた補強材５０は、穴あき構造体５９の貫通穴５２以外の領域がセル領域５５となり、硬化物が設けられた貫通穴５２の領域が非セル領域５６となっている。得られた位相差層７１は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２以外の領域が位相差領域７５となり、硬化物が設けられた貫通穴７２の領域が非位相差領域７６となっている。
【0127】
上記した方法に代えて、図１に示す偏光子複合体４０は、例えば次のようにして製造することもできる。以下では、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０を得る場合を示しているが、図２（ａ）及び（ｃ）に示す偏光子複合体４０も、下記に説明する方法によって製造することができる。図７（ｃ）及び（ｄ）に示すように、第２積層体３２に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３３を形成した後、基材層８４を剥離する。続いて、基材層８４を剥離して露出した側（穴あき位相差層８１側）に第３支持層を積層し、第１支持層２５を剥離する。その後、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，５２，７２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する。これにより、第３支持層上に偏光子複合体４０を得る。偏光子複合体４０は、第３支持層上に、位相差層７１、補強材５０、及び偏光子１０がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第３支持層は剥離してもよい。
【0128】
穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、特に限定されない。例えば、分注器又はディスペンサー等を用いて貫通穴２２，５２，７２に硬化性樹脂組成物を注入してもよく、穴あき位相差層８１の表面上又は穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングしながら、貫通穴２２，５２，７２に硬化性樹脂組成物を充填してもよい。貫通穴２２，５２，７２への硬化性樹脂組成物の充填を、穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングしながら行う場合、穴あき偏光子２１の表面上にコーティングされた硬化性樹脂組成物の硬化物層は、後述する保護層とすることができる。硬化性樹脂組成物をコーティングする場合は、コーティングにより形成された塗布層表面を覆うように基材フィルムを設けてもよい。基材フィルムは、後述する保護層として用いてもよく、この場合、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層は、後述する保護層を貼合するための貼合層としてもよい。基材フィルムは、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化後に剥離してもよい。
【0129】
第１支持層２５は、後述する原料偏光子２０の製造時に用いられる支持層であってもよく、硬化性樹脂組成物をコーティングする際に用いた上記基材フィルムを用いてもよい。あるいは、原料偏光子２０に、水等の揮発性液体によって貼合された剥離可能な支持層であってもよく、原料偏光子２０に対して剥離可能な粘着シートであってもよい。第２支持層２６は、穴あき偏光子２１に水等の揮発性液体によって貼合された剥離可能な支持層であってもよく、穴あき偏光子２１に対して剥離可能な粘着シートであってもよい。第３支持層及び第４支持層を設ける方法としては、第１支持層２５及び第２支持層２６を設ける方法として例示した方法が挙げられる。
【0130】
上記のように、原料偏光子２０の厚みが１５μｍ以下であることにより、穴あき偏光子２１に設けられる貫通穴２２の深さも１５μｍ以下とすることができる。偏光子複合体４０について説明したように、偏光子複合体４０における偏光領域１１、セル領域５５、及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは３０μｍ以下であることが好ましいため、構造体５８の厚み及び原料位相差層である重合硬化層８５の厚みの合計厚みも１５μｍ以下であることが好ましい。これにより、貫通穴２２、５２，７２の合計深さを３０μｍ以下とすることができる。したがって、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層７１の貫通穴７２への硬化性樹脂組成物の充填や、貫通穴２２，５２，７２に充填された硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化処理を短時間で行うことができるため、作業性の低下を抑制できる。
【0131】
（偏光子複合体（２）の製造方法）
図９及び図１０は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図９及び図１０では、図４に示す偏光子複合体４１を得る場合を示している。偏光子複合体４１は、偏光子複合体４０の製造方法で得た第２積層体３２（図７（ｃ））を用いて製造することができる。まず、図７（ｃ）に示す第２積層体３２から、第１支持層２５を剥離し（図９（ａ））、この剥離によって露出した露出面（偏光子１０側の面）に、構造体５８を形成する。構造体５８は上記で説明した方法によって形成することができる。これにより、基材層８４、重合硬化層８５、構造体５８、原料偏光子２０、及び構造体５８がこの順に積層された第４積層体３５を得る（図９（ｂ））。第４積層体３５に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３６を形成する（図９（ｃ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、２つの構造体５８にそれぞれ貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９、及び重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。
図９及び図１０は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図９及び図１０では、図４に示す偏光子複合体４１を得る場合を示している。偏光子複合体４１は、偏光子複合体４０の製造方法で得た第２積層体３２（図７（ｃ））を用いて製造することができる。まず、図７（ｃ）に示す第２積層体３２から、第１支持層２５を剥離し（図９（ａ））、この剥離によって露出した露出面（偏光子１０側の面）に、構造体５８を形成する。構造体５８は上記で説明した方法によって形成することができる。これにより、基材層８４、重合硬化層８５、構造体５８、原料偏光子２０、及び構造体５８がこの順に積層された第４積層体３５を得る（図９（ｂ））。第４積層体３５に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３６を形成する（図９（ｃ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、２つの構造体５８にそれぞれ貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９、及び重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。
【0132】
貫通穴３６が形成された第４積層体３５の穴あき構造体５９側（穴あき位相差層８１とは反対側）に、第４支持層２７を積層する（図１０（ａ））。第４支持層２７は、穴あき構造体５９の貫通穴５２の一方側を塞ぐように設ける。その後、基材層８４を剥離し（図１０（ｂ））、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，５２，７２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する（図１０（ｃ））。これにより、第４支持層２７上に偏光子複合体４１を得る。偏光子複合体４１は、第４支持層２７上に、補強材５０、偏光子１０、補強材５０、及び位相差層７１がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第４支持層２７は剥離してもよい。得られた偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。得られた補強材５０は、穴あき構造体５９の貫通穴５２以外の領域がセル領域５５となり、硬化物が設けられた貫通穴５２の領域が非セル領域５６となっている。得られた位相差層７１は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２以外の領域が位相差領域７５となり、硬化物が設けられた貫通穴７２の領域が非位相差領域７６となっている。そして、偏光子１０にある非偏光領域１２と、補強材５０にある非セル領域５６と、位相差層７１にある非位相差領域７６とは互いに連通している。
【0133】
穴あき偏光子２１の貫通穴２２、２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、偏光子複合体４０の製造方法で説明した充填方法が挙げられる。第４支持層２７を設ける方法としては、第１支持層２５及び第２支持層２６を設ける方法として例示した方法が挙げられる。
【0134】
（偏光子複合体（３）の製造方法）
図１１及び図１２は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１１及び図１２では、図５に示す偏光子複合体４２を得る場合を示している。偏光子複合体４２は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し、非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０（図１１（ａ））、及び、原料位相差層として全体が位相差領域である重合硬化層８５（図１１（ｂ））を用いて製造することができる。原料偏光子２０、重合硬化層８５、及び構造体５８については、上記で説明したとおりである。
図１１及び図１２は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１１及び図１２では、図５に示す偏光子複合体４２を得る場合を示している。偏光子複合体４２は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し、非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０（図１１（ａ））、及び、原料位相差層として全体が位相差領域である重合硬化層８５（図１１（ｂ））を用いて製造することができる。原料偏光子２０、重合硬化層８５、及び構造体５８については、上記で説明したとおりである。
【0135】
偏光子複合体４２は、例えば次の工程で製造することができる。まず、原料偏光子２０の一方の面に、原料偏光子２０の一方の面に、原料偏光子２０に対して剥離可能に第１支持層２５を設ける（図１１（ａ））。基材層８４上で重合性液晶化合物を重合硬化して、基材層８４上に、全体が位相差領域である重合硬化層８５が形成された基材層付き重合硬化層８０を準備する（図１１（ｂ））。第１支持層２５上の原料偏光子２０上に、図示しない貼合層を介して、基材層付き重合硬化層８０の重合硬化層８５側を積層し（図１１（ｃ））、基材層８４を剥離する（図１１（ｄ））。基材層８４を剥離して露出した面（重合硬化層８５側の面）に、構造体５８を形成する（図１１（ｅ））。構造体５８は上記で説明した方法によって形成することができる。これにより、構造体５８、重合硬化層８５、原料偏光子２０、及び第１支持層２５がこの順に積層された第５積層体３７を得る（図１１（ｅ））。
【0136】
第５積層体３７に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３８を形成する（図１２（ａ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１、及び構造体５８にそれぞれ貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９が得られる。貫通穴３８が形成された第５積層体３７の穴あき構造体５９側（穴あき位相差層８１とは反対側）に、第５支持層２８を積層する（図１２（ｂ））。第５支持層２８は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２の一方側を塞ぐように設ける。
【0137】
その後、第１支持層２５を剥離し（図１２（ｃ））、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき位相差層８１の貫通穴７２、及び穴あき構造体５９の貫通穴５２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，７２，５２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき位相差層８１の貫通穴７２、穴あき構造体５９の貫通穴５２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する（図１２（ｄ））。これにより、第５支持層２８上に偏光子複合体４２を得る。偏光子複合体４２は、第５支持層２８上に、補強材５０、位相差層７１、及び偏光子１０がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第５支持層２８は剥離してもよい。得られた偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。得られた補強材５０は、穴あき構造体５９の貫通穴５２以外の領域がセル領域５５となり、硬化物が設けられた貫通穴５２の領域が非セル領域５６となっている。得られた位相差層７１は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２以外の領域が位相差領域７５となり、硬化物が設けられた貫通穴７２の領域が非位相差領域７６となっている。
【0138】
穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき位相差層８１の貫通穴７２、及び穴あき構造体５９の貫通穴５２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、偏光子複合体（１）の製造方法で説明した充填方法が挙げられる。第５支持層２８を設ける方法としては、第１支持層２５及び第２支持層２６を設ける方法として例示した方法が挙げられる。
【0139】
（偏光子複合体（４）の製造方法）
図１３及び図１４は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１３及び図１４では、図６に示す偏光子複合体４３を得る場合を示している。偏光子複合体４３は、偏光子複合体４２の製造方法で得た第５積層体３７（図１１（ｅ））を用いて製造することができる。まず、図１１（ｅ）に示す第５支持層２８の構造体５８側に第６支持層２９を積層し（図１３（ａ））、その後、第１支持層２５を剥離する（図１３（ｂ））。この剥離によって露出した露出面（偏光子１０側の面）に、構造体５８を形成する。構造体５８は上記で説明した方法によって形成することができる。これにより、第６支持層２９、構造体５８、重合硬化層８５、原料偏光子２０、及び構造体５８がこの順に積層された第６積層体３９を得る（図１３（ｃ））。第６積層体３９に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴９１を形成する（図１３（ｄ））。これにより、２つの構造体５８にそれぞれ貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、及び重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。
図１３及び図１４は、本実施形態の偏光子複合体の製造方法のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図１３及び図１４では、図６に示す偏光子複合体４３を得る場合を示している。偏光子複合体４３は、偏光子複合体４２の製造方法で得た第５積層体３７（図１１（ｅ））を用いて製造することができる。まず、図１１（ｅ）に示す第５支持層２８の構造体５８側に第６支持層２９を積層し（図１３（ａ））、その後、第１支持層２５を剥離する（図１３（ｂ））。この剥離によって露出した露出面（偏光子１０側の面）に、構造体５８を形成する。構造体５８は上記で説明した方法によって形成することができる。これにより、第６支持層２９、構造体５８、重合硬化層８５、原料偏光子２０、及び構造体５８がこの順に積層された第６積層体３９を得る（図１３（ｃ））。第６積層体３９に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴９１を形成する（図１３（ｄ））。これにより、２つの構造体５８にそれぞれ貫通穴５２が形成された穴あき構造体５９、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、及び重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。
【0140】
貫通穴９１が形成された第６積層体３９において、穴あき偏光子２１の穴あき位相差層８１とは反対側に設けられた穴あき構造体５９側に、第７支持層９２を積層する（図１４（ａ））。第７支持層９２は、穴あき構造体５９の貫通穴５２の一方側を塞ぐように設ける。その後、第６支持層２９を剥離し（図１４（ｂ））、２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴５２，２２，７２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する（図１４（ｃ））。これにより、第７支持層９２上に偏光子複合体４３を得る。偏光子複合体４３は、第７支持層９２上に、補強材５０、偏光子１０、位相差層７１、及び補強材５０がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第７支持層９２は剥離してもよい。得られた偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。得られた２つの補強材５０は、穴あき構造体５９の貫通穴５２以外の領域がセル領域５５となり、硬化物が設けられた貫通穴５２の領域が非セル領域５６となっている。得られた位相差層７１は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２以外の領域が位相差領域７５となり、硬化物が設けられた貫通穴７２の領域が非位相差領域７６となっている。
【0141】
２つの穴あき構造体５９の貫通穴５２、穴あき偏光子２１の貫通穴２２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、偏光子複合体（１）の製造方法で説明した充填方法が挙げられる。第６支持層２９及び第７支持層９２を設ける方法としては、第１支持層２５及び第２支持層２６を設ける方法として例示した方法が挙げられる。
【0142】
（原料偏光子）
原料偏光子２０は、貫通穴２２に充填された硬化性樹脂組成物中の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させるために照射する活性エネルギー線によって著しく変質しにくいものであることが好ましい。このような原料偏光子２０は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムや、重合性液晶化合物の硬化層中で二色性色素が配向しているものであり、これらの製造方法は、上述の偏光領域１１において説明したとおりである。
原料偏光子２０は、貫通穴２２に充填された硬化性樹脂組成物中の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させるために照射する活性エネルギー線によって著しく変質しにくいものであることが好ましい。このような原料偏光子２０は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムや、重合性液晶化合物の硬化層中で二色性色素が配向しているものであり、これらの製造方法は、上述の偏光領域１１において説明したとおりである。
【0143】
（原料位相差層）
原料位相差層は、全体が位相差特性を有する位相差領域からなる。原料位相差層は、例えば、上記で説明した位相差領域７５が有する位相差特性を有することができる。原料位相差層は、例えば１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。
原料位相差層は、全体が位相差特性を有する位相差領域からなる。原料位相差層は、例えば、上記で説明した位相差領域７５が有する位相差特性を有することができる。原料位相差層は、例えば１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。
【0144】
原料位相差層は、例えば、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム、又は重合性液晶性化合物の重合硬化層等である。
【0145】
延伸フィルムを構成する熱可塑性樹脂としては、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチルナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；又はこれらの混合物、共重合物等が挙げられる。
【0146】
重合硬化層を構成する重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基としては、原料偏光子で例示した重合性反応基が挙げられる。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【0147】
原料位相差層は、［ｖ］例えば基材フィルム上に形成した配向層上に、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させる方法、［ｖｉ］基材層上に、位相差層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材層とともに延伸する方法によって形成することができる。基材層としては、原料偏光子で説明した上記の［ｉｉ］で用いた基材フィルムが挙げられる。
【0148】
原料位相差層を構成する延伸フィルム及び重合硬化層としては、例えば、国際公開２０１８／００３４１６号に記載の位相差層が挙げられる。
【0149】
（補強材形成用構造体（構造体））
構造体５８は、セル領域５５のみからなり非セル領域５６を有していない構造体である。構造体５８は、上記したように、樹脂材料又は無機酸化物を用いて、セル５１を区画するセル隔壁５３を形成することによって得ることができる。樹脂材料及び無機酸化物として用いることができる材料、及びこれらを用いてセル隔壁５３を形成する方法としては、上記で例示した材料及び方法が挙げられる。
構造体５８は、セル領域５５のみからなり非セル領域５６を有していない構造体である。構造体５８は、上記したように、樹脂材料又は無機酸化物を用いて、セル５１を区画するセル隔壁５３を形成することによって得ることができる。樹脂材料及び無機酸化物として用いることができる材料、及びこれらを用いてセル隔壁５３を形成する方法としては、上記で例示した材料及び方法が挙げられる。
【0150】
＜光学積層体＞
図１５～図１８は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。光学積層体は、図１、図４～５に示す偏光子複合体４０～４３の片面側又は両面側に保護層を有するものである。
（光学積層体（１））
図１５に示す光学積層体４５は、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４５は、偏光子複合体４０の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。光学積層体４５に含まれる偏光子複合体４０は、図２（ａ）～（ｄ）に示す偏光子複合体４０であってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４０上に設けることができる。この場合、例えば、貼合層を介して、偏光子複合体４０にフィルム状の保護層を積層すればよい。保護層１７，１８は、貼合層を介さずに偏光子複合体４０に直接接するように設けてもよい。この場合、例えば、保護層１７，１８を構成する樹脂材料を含む組成物を、偏光子複合体４０上に塗布し、この塗布層を固化又は硬化すること等によって保護層１７，１８を形成することができる。
図１５～図１８は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。光学積層体は、図１、図４～５に示す偏光子複合体４０～４３の片面側又は両面側に保護層を有するものである。
（光学積層体（１））
図１５に示す光学積層体４５は、図１（ａ）に示す偏光子複合体４０の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４５は、偏光子複合体４０の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。光学積層体４５に含まれる偏光子複合体４０は、図２（ａ）～（ｄ）に示す偏光子複合体４０であってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４０上に設けることができる。この場合、例えば、貼合層を介して、偏光子複合体４０にフィルム状の保護層を積層すればよい。保護層１７，１８は、貼合層を介さずに偏光子複合体４０に直接接するように設けてもよい。この場合、例えば、保護層１７，１８を構成する樹脂材料を含む組成物を、偏光子複合体４０上に塗布し、この塗布層を固化又は硬化すること等によって保護層１７，１８を形成することができる。
【0151】
光学積層体４５が、図２（ａ）又は（ｃ）に示す偏光子複合体４０の偏光子１０側に貼合層を介して保護層１７を設けたものである場合は、偏光子１０の偏光領域１１と非偏光領域１２との厚み差を埋めるように貼合層を設けて、保護層１７を設けることが好ましい。光学積層体４５が、図２（ｂ）又は（ｄ）に示す偏光子複合体４０の偏光子１０側に貼合層を介して保護層１８を設けたものである場合は、偏光子１０の偏光領域１１と非偏光領域１２との厚み差を埋めるように貼合層を設けて、保護層１８を設けることが好ましい。
【0152】
光学積層体４５が、図２（ａ）又は（ｃ）に示す偏光子複合体４０の位相差層７１側に直接接するように保護層１８を設けたものである場合には、位相差層７１の位相差領域７５と非位相差領域７６との厚み差を埋めるように保護層１８を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１８を形成することが好ましい。光学積層体４５が、図２（ｂ）又は（ｄ）に示す偏光子複合体４０の位相差層７１側に直接接するように保護層１８を設けたものである場合には、位相差層７１の位相差領域７５と非位相差領域７６との厚み差を埋めるように保護層１８を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１８を形成することが好ましい。
【0153】
光学積層体４５において保護層１７は、偏光子１０上に直接設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層であってもよい。硬化物層である保護層１７を構成する硬化性樹脂（Ｘ）としては、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する樹脂であれば特に限定されず、例えば上記で説明した硬化性樹脂（Ｘ）が挙げられる。保護層１７は、非偏光領域１２、非セル領域５６、及び非位相差領域７６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層であることが好ましい。
【0154】
保護層１７が、偏光子１０の硬化物、補強材５０の硬化物、及び位相差層７１の硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層である場合、保護層１７は少なくとも偏光子１０の非偏光領域１２を被覆することが好ましい。保護層１７は、偏光子１０の片面の少なくとも一部を被覆していればよいが、偏光子１０の片面の全面を被覆することが好ましい。
【0155】
光学積層体４５を製造するためには、例えば、偏光子複合体４０の偏光子１０側に硬化性樹脂組成物をコーティングし、活性エネルギー線を照射することによって硬化性樹脂（Ｘ）（穴あき偏光子２１の貫通穴２２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に充填された硬化性樹脂（Ｘ）とともに）を硬化させる。これにより、偏光子１０上に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層である保護層１７を形成して光学積層体４５を得てもよい。
【0156】
あるいは、偏光子複合体４０を製造する工程において、穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂（Ｘ）をコーティングすることにより、穴あき位相差層８１の貫通穴７２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を充填し、穴あき偏光子２１の表面にも硬化性樹脂組成物の塗布層を形成する。その後、活性エネルギー線の照射により、穴あき位相差層８１の貫通穴７２内、穴あき構造体５９の貫通穴５２内、穴あき偏光子２１の貫通穴２２内、及び穴あき偏光子２１上の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、硬化物及び硬化物層である保護層１７を形成して光学積層体４５を得てもよい。この場合、非位相差領域７６、非偏光領域１２、及び非セル領域５６に含まれる硬化物と、保護層１７を構成する硬化物層とを一体化することができ、保護層１７を構成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、非位相差領域７６、非偏光領域１２、及び非セル領域５６に含まれる硬化物と同じとすることができる。
【0157】
（光学積層体（２））
図１６に示す光学積層体４６は、図４に示す偏光子複合体４１の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４６は、偏光子複合体４１の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４１上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４１に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４１に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５に示す光学積層体４５において偏光子複合体４０に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
図１６に示す光学積層体４６は、図４に示す偏光子複合体４１の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４６は、偏光子複合体４１の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４１上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４１に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４１に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５に示す光学積層体４５において偏光子複合体４０に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
【0158】
光学積層体４６が、偏光子複合体４１の補強材５０側に貼合層を介して保護層１７を設けたものである場合は、補強材５０のセル５１の内部空間、及び複数のセル５１の間の隙間等を埋めるように貼合層を設けて、保護層１７を形成することが好ましい。光学積層体４６が、偏光子複合体４０の補強材５０側に直接接するように保護層１７を設けたものである場合は、補強材５０のセル５１の内部空間、及び複数のセル５１の間の隙間等を埋めるように、保護層１７を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１７を形成することが好ましい。
【0159】
（光学積層体（３））
図１７に示す光学積層体４７は、図５に示す偏光子複合体４２の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４７は、偏光子複合体４２の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４２上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４２に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４２に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５及び図１６に示す光学積層体４５，４６において偏光子複合体４０，４１に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
図１７に示す光学積層体４７は、図５に示す偏光子複合体４２の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４７は、偏光子複合体４２の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４２上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４２に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４２に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５及び図１６に示す光学積層体４５，４６において偏光子複合体４０，４１に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
【0160】
（光学積層体（４））
図１８に示す光学積層体４８は、図６に示す偏光子複合体４３の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４８は、偏光子複合体４３の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４３上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４３に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４３に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５～図１７に示す光学積層体４５～４７において偏光子複合体４０～４２に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
図１８に示す光学積層体４８は、図６に示す偏光子複合体４３の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４８は、偏光子複合体４３の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４３上に設けてもよく、貼合層を介さずに偏光子複合体４３に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４３に保護層１７，１８を設ける方法については、上記した図１５～図１７に示す光学積層体４５～４７において偏光子複合体４０～４２に保護層１７，１８を設ける方法と同様の手順で行うことができる。
【0161】
偏光子複合体４０～４３の片面側に設けられる保護層１７（又は１８）が、偏光子複合体４０～４３に直接接するように設けられた層である場合、この保護層１７（又は１８）は、偏光子複合体４０～４３の非位相差領域７６、非偏光領域１２、及び非セル領域５６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層とすることができる。この場合、偏光子複合体４０～４３を製造する際に、穴あき位相差層８１の貫通穴７２、穴あき構造体５９の貫通穴５２、及び穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を充填しながら、穴あき位相差層８１、穴あき偏光子２１、穴あき構造体５９の表面上にコーティングされた硬化性樹脂組成物を硬化した硬化物層を保護層１７（又は１８）とすればよい。これにより、非位相差領域７６、非偏光領域１２、及び非セル領域５６に含まれる硬化物と、保護層１７（又は１８）を構成する硬化物層とを一体化することができ、保護層１７（又は１８）を構成する硬化性樹脂（Ｘ）は、非位相差領域７６、非偏光領域１２、及び非セル領域５６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じものとすることができる。
【0162】
図１５～図１８に示す光学積層体４５～４８において、保護層１７，１８は、一方を貼合層を介して設けた保護層とし、他方を貼合層を介さずに設けた保護層としてもよい。光学積層体４５～４８に含まれる保護層１７，１８は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0163】
硬化性樹脂（Ｘ）をコーティングする場合は、コーティングにより形成された塗布層表面を覆うように基材フィルムを設けてもよい。この場合、基材フィルムを保護層１７，１８とし、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層を、偏光子複合体４０～４３に保護層１７，１８を貼合するための貼合層としてもよい。基材フィルムは、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化後に剥離してもよい。
【0164】
（保護層）
保護層１７，１８は、光を透過可能な樹脂層であることが好ましく、樹脂フィルムであってもよく、樹脂材料を含む組成物を塗布して形成した塗布層であってもよい。樹脂層に用いられる樹脂としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂であることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、上記した原料偏光子２０の製造に用いてもよい基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂が挙げられる。光学積層体４５～４８が両面に保護層１７，１８を有する場合、保護層１７，１８の樹脂組成は、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
保護層１７，１８は、光を透過可能な樹脂層であることが好ましく、樹脂フィルムであってもよく、樹脂材料を含む組成物を塗布して形成した塗布層であってもよい。樹脂層に用いられる樹脂としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂であることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、上記した原料偏光子２０の製造に用いてもよい基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂が挙げられる。光学積層体４５～４８が両面に保護層１７，１８を有する場合、保護層１７，１８の樹脂組成は、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0165】
保護層１７，１８の厚みは、薄型化の観点から、通常２００μｍ以下であり、１５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であってもよく、６０μｍ以下であってもよい。保護層１７，１８の厚みは、通常５μｍ以上であり、１０μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよい。保護層１７，１８は位相差を有していても、有していなくてもよい。光学積層体４５～４８が両面に保護層１７，１８を有する場合、保護層１７，１８の厚みは、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0166】
（貼合層）
貼合層は、粘着剤層又は接着剤層である。粘着剤層を形成するための粘着剤及び接着剤層を形成するための接着剤としては、例えば、上記した充填材を構成するために用いる粘着剤及び接着剤が挙げられる。
貼合層は、粘着剤層又は接着剤層である。粘着剤層を形成するための粘着剤及び接着剤層を形成するための接着剤としては、例えば、上記した充填材を構成するために用いる粘着剤及び接着剤が挙げられる。
【0167】
＜光学表示素子用貼合層を有する積層体＞
図１～図６に示す偏光子複合体４０～４３、図１５～図１８に示す光学積層体４５～４８は、さらに、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置の光学表示素子（液晶パネル、有機ＥＬ素子）に貼合するための光学表示素子用貼合層を有していてもよい。
図１～図６に示す偏光子複合体４０～４３、図１５～図１８に示す光学積層体４５～４８は、さらに、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置の光学表示素子（液晶パネル、有機ＥＬ素子）に貼合するための光学表示素子用貼合層を有していてもよい。
【0168】
図２（ａ）～（ｄ）に示す偏光子複合体４０のように偏光領域１１と非偏光領域１２との間、又は、位相差領域７５と非位相差領域７６との間に厚み差が生じている表面に光学表示素子用貼合層を設ける場合は、この厚み差を埋めるように光学表示素子用貼合層を設けることが好ましい。
【0169】
偏光子複合体４１～４３及び光学積層体４６～４８において、補強材５０の表面に光学表示素子用貼合層を設ける場合は、補強材５０に設けられる充填材として光学表示素子用貼合層を構成する材料を用い、補強材５０のセル５１の内部空間等への充填材の充填と、光学表示素子用貼合層の形成とを同時に行ってもよい。
【符号の説明】
【0170】
１０ 偏光子、１１ 偏光領域、１１ｍ 第１平面、１１ｎ 第２平面、１２ 非偏光領域、１７，１８ 保護層、２０ 原料偏光子、２１ 穴あき偏光子、２２ 貫通穴、２５ 第１支持層、２６ 第２支持層、２７ 第４支持層、２８ 第５支持層、２９ 第６支持層、３１ 第１積層体、３２ 第２積層体、３３ 貫通穴、３４ 第３積層体、３５ 第４積層体、３６ 貫通穴、３７ 第５積層体、３８ 貫通穴、３９ 第６積層体、４０～４３ 偏光子複合体、４５～４８ 光学積層体、５０ 補強材、５１ セル、５２ 貫通穴、５３ セル隔壁、７０，７１ 位相差層、７２ 貫通穴、７５ 位相差領域、７６ 非位相差領域、８０ 基材層付き重合硬化層、８１ 穴あき位相差層、８４ 基材層、８５ 重合硬化層、９１ 貫通穴、９２ 第７支持層。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】