特許7411521荷電粒子ビーム調整方法、荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム照射装置

発明の名称　荷電粒子ビーム調整方法、荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム照射装置

出願人　株式会社ニューフレアテクノロジー　（識別番号 504162958）

　　　　特許公開件数ランキング 415 位（25件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 688 位（10件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7411521

公報発行日　2024年1月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7411521

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