▶ サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニーの特許一覧
特許7413535エキシマ放電チャンバ窓の塵埃付着を減らすための方向付けられたガスパージ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-04
(45)【発行日】2024-01-15
(54)【発明の名称】エキシマ放電チャンバ窓の塵埃付着を減らすための方向付けられたガスパージ
(51)【国際特許分類】
H01S 3/036 20060101AFI20240105BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20240105BHJP
【ＦＩ】
H01S3/036
G03F7/20 502
G03F7/20 505
【請求項の数】
18
(21)【出願番号】P 2022533236
(86)(22)【出願日】2020-12-09
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2023-02-22
(86)【国際出願番号】 US2020064124
(87)【国際公開番号】W WO2021126641
(87)【国際公開日】2021-06-24
【審査請求日】2022-07-20
(31)【優先権主張番号】62/951,860
(32)【優先日】2019-12-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】513192029
【氏名又は名称】サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100117189
【弁理士】
【氏名又は名称】江口 昭彦
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】メルキオール，ジョン，セオドア
【審査官】高椋 健司
(56)【参考文献】
【文献】米国特許第０５３７３５２３（ＵＳ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１０／０１０７８７０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開平１０－０７４９９３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０５－１６７１３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１１－０７４６０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許第０６０６９９０９（ＵＳ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｓ ３／００－３／３０
ＪＳＴＰｌｕｓ（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）
ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）
ＪＳＴＣｈｉｎａ（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、前記ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
前記チャンバに結合され、前記チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている金属フッ化物トラップと、
前記チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている窓ハウジング装置のセットと、
を備える光源装置であって、
各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって前記チャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った前記清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記インサートは、前記光学窓に沿った前記第１の流量が、前記アパーチャ装置を通る前記第２の流量以上になるように構成されている、光源装置。
【請求項2】
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、前記ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
前記チャンバに結合され、前記チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている金属フッ化物トラップと、
前記チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている窓ハウジング装置のセットと、
を備える光源装置であって、
各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって前記チャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った前記清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記インサートは、前記光学窓に沿った前記第１の流量を減少させ、前記アパーチャ装置を通る前記第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、光源装置。
【請求項3】
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、前記ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
前記チャンバに結合され、前記チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている金属フッ化物トラップと、
前記チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている窓ハウジング装置のセットと、
を備える光源装置であって、
各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって前記チャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った前記清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記窓ハウジング装置は、前記窓ハウジングの入力ポートと前記金属フッ化物トラップの前記出力ポートとの間に配置された、ボアを有するプラグを更に備える、光源装置。
【請求項4】
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、前記ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
前記チャンバに結合され、前記チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている金属フッ化物トラップと、
前記チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている窓ハウジング装置のセットと、
を備える光源装置であって、
各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって前記チャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った前記清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
複数のタングが、前記アパーチャ装置の外面に配置され、前記アパーチャ装置の周囲を前記インサートに向かって流れるように、前記清浄ガスを導くように構成され、
前記複数のタングは、前記アパーチャ装置の前記外面よりも大きい外径を有して、前記清浄ガスが貫流するためのギャップを提供する、光源装置。
【請求項5】
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、前記ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
前記チャンバに結合され、前記チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている金属フッ化物トラップと、
前記チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている窓ハウジング装置のセットと、
を備える光源装置であって、
各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって前記チャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った前記清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記窓ハウジングは、前記光学窓からのフレネル反射を捕捉及び吸収して前記光学窓にとって所望の反射－透過比を実現するように構成されたフレネルビーム捕捉ポケットを備える、光源装置。
【請求項6】
前記ガス放電媒体は、エキシマ及び／又はエキシプレックスを含む、請求項１から５の何れか一項に記載の光源装置。
【請求項7】
前記チャンバの周囲に光共振器を形成するように構成された光学要素のセットを更に備える、請求項１から６の何れか一項に記載の光源装置。
【請求項8】
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された、窓ハウジング装置であって、
前記光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記窓ハウジングは、前記窓ハウジング内に、前記アパーチャ装置及び前記インサートを受け取るように構成されたボアを含む、窓ハウジング装置。
【請求項9】
前記ボアは、前記窓ハウジング装置内の前記清浄ガスの体積を増加させるように構成されたアンダーカット及び／又は窪みを備える、請求項８に記載の窓ハウジング装置。
【請求項10】
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された、窓ハウジング装置であって、
前記光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
複数のタングは、前記アパーチャ装置の外面に沿って配置され、前記アパーチャ装置の周囲を前記インサートに向かって流れるように、前記清浄ガスを導くように構成されており、
前記複数のタングは、対称的に配置されている、窓ハウジング装置。
【請求項11】
前記アパーチャ装置の前記複数のタングは、前記インサート内の複数の窪みに機械的に嵌合する、請求項１０に記載の窓ハウジング装置。
【請求項12】
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された、窓ハウジング装置であって、
前記光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記アパーチャ装置は、チャンバに向かって前端部から後端部へと減少する直径を有する少なくとも５つのセルを備える、窓ハウジング装置。
【請求項13】
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された、窓ハウジング装置であって、
前記光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記窓ハウジング装置は、前記光学窓に沿った前記第１の流量が、前記アパーチャ装置を通る前記第２の流量以上になるように構成されている、窓ハウジング装置。
【請求項14】
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された、窓ハウジング装置であって、
前記光学窓を支持している窓ハウジングと、
前記窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、前記アパーチャ装置を通って前記光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートであって、前記インサートは、前記光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、前記アパーチャ装置を通る前記清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備え、
前記インサートは、前記光学窓に沿った前記第１の流量を減少させ、前記アパーチャ装置を通る前記第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、窓ハウジング装置。
【請求項15】
窓ハウジング装置内の光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らす方法であって、金属フッ化物トラップから前記窓ハウジング装置の入力ポートを通って流れるように清浄ガスを導くことと、
前記窓ハウジング装置の窓ハウジング内に配置されたアパーチャ装置の周囲を前記アパーチャ装置と前記光学窓との間に配置されたインサートに向かって流れるように前記清浄ガスを導くことと、
前記窓ハウジング内のチャネルを通って前記光学窓の内面に沿って流れるように前記清浄ガスを導くことと、
前記光学窓から前記アパーチャ装置を通って流れるように前記清浄ガスを導くことと、
を含む、方法。
【請求項16】
前記アパーチャ装置の周囲を流れるように前記清浄ガスを前記導くことは、前記アパーチャ装置の外面に配置された複数のタングを通って流れるように前記清浄ガスを導くことを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項17】
前記アパーチャ装置の周囲を流れるように前記清浄ガスを前記導くことは、前記インサート内のチャネルを通って流れるように前記清浄ガスを導くことを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項18】
前記光学窓から流れるように前記清浄ガスを前記導くことは、前記アパーチャ装置の前端部から後端部へと減少する直径を有する複数のセルを通って前記光学窓の前記内面から前記アパーチャ装置に向かって流れるように、前記清浄ガスを導くことを含む、請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、２０１９年１２月２０日に出願された「DIRECTED GAS PURGE TO REDUCE DUSTING OF EXCIMER DISCHARGE CHAMBER WINDOWS」と題する米国特許出願第６２／９５１，８６０号の優先権を主張し、その全体が、参照により本明細書に組み込まれる。
[0001] 本出願は、２０１９年１２月２０日に出願された「DIRECTED GAS PURGE TO REDUCE DUSTING OF EXCIMER DISCHARGE CHAMBER WINDOWS」と題する米国特許出願第６２／９５１，８６０号の優先権を主張し、その全体が、参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
[0002] 本開示は、窓ハウジング装置及びシステム、例えば、金属フッ化物塵埃付着を減らすための窓ハウジング装置及びシステムに関する。
【背景技術】
【0003】
[0003] リソグラフィ装置は、基板上に所望のパターンを適用するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用することができる。リソグラフィ装置は、例えば、パターニングデバイス（例えば、マスク、レチクル）のパターンを、基板上に提供された放射感応性材料（フォトレジスト、又は単に「レジスト」）の層上に投影することができる。
【0004】
[0004] 基板上にパターンを投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用する場合がある。この放射の波長は、基板上に形成できるフィーチャの最小サイズを決定する。２０～４００ｎｍの範囲内の波長、例えば１９３ｎｍ又は２４８ｎｍ、を有する深紫外（ＤＵＶ）線を使用するリソグラフィ装置を使用して、基板上にフィーチャを形成することができる。
【0005】
[0005] 主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）又は主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ）は、高干渉性増幅光ビームを生成する２ステージ光共振器構成である。ＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡの性能は、主発振器（ＭＯ）、パワー増幅器（ＰＡ）、及び／又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）に強く依存する可能性がある。ガス放電媒体を取り囲むＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡの電極が、時間の経過と共に劣化し、金属フッ化物塵埃を発生させる可能性がある。金属フッ化物塵埃は、ＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡの光学窓上に積もり、光学的損傷をもたらす可能性がある。光ビームのフルエンスは、ＭＯよりはむしろＰＡ又はＰＲＡの方が高く、したがって、金属フッ化物塵埃は、時間の経過と共にＰＡ又はＰＲＡに早期の光学的損傷をもたらす可能性がある。更に、ＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡにおける金属フッ化物塵埃の循環が更に、電極からの放電電圧の低下、及びレーザー性能の低下をもたらす可能性がある。
【発明の概要】
【0006】
[0006] したがって、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らし、窓ハウジング装置を通る流れ分布の制御を改善し、金属フッ化物トラップからの清浄ガス逆流速度を増加させることなく効率的なパージを提供し、金属フッ化物トラップと主発信器の両方の耐用寿命を延ばす必要がある。
【0007】
[0007] いくつかの実施形態では、光源装置は、チャンバ、金属フッ化物トラップ、及び窓ハウジング装置のセットを含む。チャンバは、ガス放電媒体を保持するように構成され、ガス放電媒体は、光ビームを出力する。金属フッ化物トラップはチャンバに結合されており、チャンバから発生する金属フッ化物塵埃をトラップし、清浄ガス、すなわちフッ化物塵埃をほとんど含まないガスを、出力ポートに沿って供給するように構成されている。窓ハウジング装置のセットは、チャンバに結合されており、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている。各窓ハウジング装置は、窓ハウジング、アパーチャ装置、及びインサートを含む。窓ハウジングは光学窓を支持している。アパーチャ装置は、窓ハウジングに結合され、アパーチャ装置を通って光学窓に向かってチャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを含む。インサートは、アパーチャ装置と光学窓との間に配置されている。インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量と、を制御するように構成されている。
【0008】
[0008] いくつかの実施形態では、インサートは、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている。いくつかの実施形態では、インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させ、アパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを含む。いくつかの実施形態では、チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加と、に比例する。
【0009】
[0009] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置は、窓ハウジングの入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置された、ボアを有するプラグを更に含む。いくつかの実施形態では、プラグ及び出力ポートは、チャンバのフレーム内に配置されている。いくつかの実施形態では、ボアは、窓ハウジング装置内への清浄ガスの流量を制御するように構成された直径を有する。
【0010】
[0010] いくつかの実施形態では、アパーチャ装置の外面上に複数のタングが配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成されている。いくつかの実施形態では、複数のタングは、アパーチャ装置の外面よりも大きい外径を有して、清浄ガスが貫流するためのギャップを提供する。
【0011】
[0011] いくつかの実施形態では、窓ハウジングは、清浄ガスを光学窓に沿ってフラッシュするように構成されたチャネルを含む。いくつかの実施形態では、窓ハウジングは、光学窓からのフレネル反射を捕捉及び吸収して光学窓にとって所望の反射－透過比を実現するように構成されたフレネルビーム捕捉ポケットを含む。
【0012】
[0012] いくつかの実施形態では、ガス放電媒体は、エキシマ及び／又はエキシプレックスを含む。いくつかの実施形態では、ガス放電媒体は、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、及び／又はＸｅＦを含む。
【0013】
[0013] いくつかの実施形態では、光源装置は、チャンバの周囲に光共振器を形成するように構成された光学要素のセットを更に含む。いくつかの実施形態では、光学要素のセットは、第１の窓ハウジング装置に光学的につながった光結合器と、第２の窓ハウジング装置に光学的につながった線幅狭隘化モジュールと、を含む。いくつかの実施形態では、光学要素のセットは、第１の窓ハウジング装置に光学的につながった波面エンジニアリングボックスと、第２の窓ハウジング装置に光学的につながったビーム反転器と、を含む。
【0014】
[0014] いくつかの実施形態では、インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量が、光学窓の内面に沿った熱境界層を減らすように構成されるように構成されている。
【0015】
[0015] いくつかの実施形態では、光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された窓ハウジング装置が、窓ハウジング、アパーチャ装置、及びインサートを含む。窓ハウジングは光学窓を支持している。アパーチャ装置は、窓ハウジングに結合されており、アパーチャ装置を通って光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを含む。インサートは、アパーチャ装置と光学窓との間に配置されている。インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量と、を制御するように構成されている。
【0016】
[0016] いくつかの実施形態では、窓ハウジングは、窓ハウジング内に、アパーチャ装置及びインサートを受け取るように構成されたボアを含む。いくつかの実施形態では、ボアは、窓ハウジング装置内の清浄ガスの体積を増加させるように構成されたアンダーカット及び／又は窪みを含む。いくつかの実施形態では、窓ハウジングは、清浄ガスがアパーチャ装置を通って流れる前に、光学窓に沿って流れるように導くように構成されたチャネルを含む。
【0017】
[0017] いくつかの実施形態では、アパーチャ装置の外面に沿って複数のタングが配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成されている。いくつかの実施形態では、複数のタングは対称的に配置されている。いくつかの実施形態では、アパーチャ装置の複数のタングは、インサートの複数の窪みと機械的に嵌合する。
【0018】
[0018] いくつかの実施形態では、アパーチャ装置は複数のセルを含み、各セルは、アパーチャ装置を通って光学窓に向かってチャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成されている。いくつかの実施形態では、アパーチャ装置は、チャンバに向かって前端部から後端部へと減少する直径を有する少なくとも５つのセルを含む。
【0019】
[0019] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置は、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている。
【0020】
[0020] いくつかの実施形態では、インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させ、アパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを含む。いくつかの実施形態では、チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加と、に比例する。
【0021】
[0021] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置における光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らす方法は、金属フッ化物トラップから窓ハウジング装置の入力ポートを通って流れるように、清浄ガスを導くことを含む。いくつかの実施形態では、この方法は、窓ハウジング装置の窓ハウジング内に配置されたアパーチャ装置の周囲を、アパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くことを更に含む。いくつかの実施形態では、この方法は、窓ハウジング内のチャネルを通って光学窓の内面に沿って流れるように、清浄ガスを導くことを更に含む。いくつかの実施形態では、この方法は、光学窓からアパーチャ装置を通って流れるように、清浄ガスを導くことを更に含む。
【0022】
[0022] いくつかの実施形態では、金属フッ化物トラップから流れるように清浄ガスを導くことは、入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置されたプラグのボアを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む。いくつかの実施形態では、ボアの直径は、窓ハウジング装置内への清浄ガスの流量を制御するように構成されている。
【0023】
[0023] いくつかの実施形態では、アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の外面に配置された複数のタングを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む。
【0024】
[0024] いくつかの実施形態では、アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、インサート内のチャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む。
【0025】
[0025] いくつかの実施形態では、チャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことは、光学窓の内面の全体に沿ってチャネルから流れるように清浄ガスを導くことを含む。
【0026】
[0026] いくつかの実施形態では、光学窓から流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の前端部から後端部へと減少する直径を有する複数のセルを通って光学窓の内面からアパーチャ装置に向かって流れるように、清浄ガスを導くことを含む。
【0027】
[0027] いくつかの実施形態では、光学窓は、光ビームを出力するガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバの一部分を形成し、ガス放電媒体に光ビームを生成させることを更に含む。
【0028】
[0028] 上述した、いずれかの技術の実現形態は、ＤＵＶ光源、システム、方法、プロセス、デバイス、及び／又は装置を含んでもよい。１つ以上の実現形態の詳細が、添付の図面及び以下の明細書に記述されている。他の特徴が、明細書及び図面、並びに特許請求の範囲から明らかになるであろう。
【0029】
[0029] 実施形態の更なる特徴及び例示的な態様、並びに様々な実施形態の構造及び動作が、添付の図面を参照して以下に詳細に記載されている。実施形態は、本明細書に記載される特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。そのような実施形態は、説明目的のためにのみ、本明細書で提示される。本明細書に含まれる教示に基づいて、更なる実施形態が、当業者には明らかになるであろう。
【0030】
[0030] 本明細書に組み込まれ本明細書の一部を形成する添付の図面は、本発明を例示し、また、説明文と併せて、本発明の原理を説明し、当業者が本発明を実施し使用できるように更に機能する。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1A】[0031]一実施形態による反射型リソグラフィ装置の概略図である。
【図1B】[0032]一実施形態による透過型リソグラフィ装置の概略図である。
【図2】[0033]例示的な一実施形態による、光源装置の概略図である。
【図8】[0039]例示的な一実施形態による、インサートの概略斜視図である。
【図10】[0041]例示的な一実施形態による、金属フッ化物塵埃付着を減らすためのフロー図を示す。
【発明を実施するための形態】
【0032】
[0042] 実施形態の特徴及び例示的な態様は、図面と併せて以下に記載する詳細な説明から、より明らかになるであろう。図面では、同様の参照符号は、全体を通じて対応する要素を特定する。図面では、同様の参照番号は一般的に同一の、機能的に類似の、かつ／又は構造的に類似の要素を示す。加えて、一般に、参照番号の最も左の桁は、参照番号が最初に現れる図面を特定している。特に断りの無い限り、本開示を通じて提供される図面は、縮尺通りの図面として解釈されるべきではない。
【0033】
[0043] 本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ１つ又は複数の実施形態について開示する。開示される実施形態は、本発明を単に例示するに過ぎない。本発明の範囲は、開示される実施形態に限定されない。本発明は、本明細書に添付の特許請求の範囲によって規定される。
【0034】
[0044] 記載される実施形態、及び「一実施形態」、「ある実施形態」、「例としての実施形態」、「例示的な実施形態」等への明細書中での言及は、説明される実施形態が、特定の特徴、構造、又は特性を含み得ることを示すが、必ずしも全ての実施形態が、その特定の特徴、構造、又は特性を含んでいなくてもよい。更に、そのような語句は、必ずしも同一の実施形態を指してはいない。更に、ある実施形態に関連して特定の特徴、構造、又は特性が説明される場合、明示的に説明されていようといまいと、そのような特徴、構造、又は特性を他の実施形態に関連してもたらすことは、当業者の知識の範囲内であると理解される。
【0035】
[0045] 「下」、「下方」、「下側」、「上方」、「上」、「上側」などの空間的に相対的な用語を、説明を簡単にするために使用して、図に示すような１つの要素又は特徴の、別の要素又は特徴に対する関係を説明することがある。空間的に相対的な用語は、図に示されている向きに加えて、使用中又は動作中のデバイスの異なる向きを包含することを意図している。装置は、それ以外の方向に向けられ（９０度回転され又は他の向きにされ）てもよく、本明細書で使用される空間的に相対的な記述子もそれに応じて同様に解釈されてもよい。
【0036】
[0046] 本明細書で使用される場合、「約」又は「実質的に」又は「およそ」という用語は、特定の技術に基づいて変動する可能性がある所与の数量の値を示す。特定の技術に基づいて、「約」又は「実質的に」又は「およそ」という用語は、例えば、値の１～１５％（例えば、値の±１％、±２％、±５％、±１０％、又は±１５％）内で変動する所与の数量の値を示す場合がある。
【0037】
[0047] 本開示の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組み合わせで実装されてもよい。本開示の実施形態はまた、機械可読媒体に記憶された命令として実装されてもよく、命令は、１つ以上のプロセッサにより読み出され実行されてもよい。機械可読媒体は、機械（例えば、コンピューティングデバイス）により読み出し可能な形式で情報を記憶又は送信するための任意のメカニズムを含んでもよい。例えば、機械可読媒体は、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）；ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）；磁気ディスク記憶媒体；光学的記憶媒体；フラッシュメモリデバイス；電気的、光学的、音響的又は他の形態の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、及びその他、を含んでもよい。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、及び／又は命令は、本明細書では、特定のアクションを実行するものとして説明される場合がある。しかしながら、そのような説明は単に便宜上のものであり、そのようなアクションは、実際には、コンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又はファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行する他のデバイスから生じることが理解されるべきである。
【0038】
[0048] しかしながら、そのような実施形態をより詳細に説明する前に、本開示の実施形態を実現することができる例示的な環境を提示することが有益である。
【0039】
[0049] 例示的なリソグラフィシステム
[0050] 図１Ａ及び図１Ｂは、それぞれ、本発明の実施形態を実施することができる、リソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’の概略図である。リソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’は、それぞれ、以下のものを含む、即ち、放射ビームＢ（例えば、深極端紫外線（ＤＵＶ）放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク、レチクル、又はダイナミックパターニングデバイス）ＭＡを支持するように構成され、かつパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、フォトレジスト塗布ウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ基板Ｗを正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、を含む。リソグラフィ装置１００及び１００’は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗの（例えば、１つ又は複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃに投影するように構成された、投影システムＰＳも有する。リソグラフィ装置１００では、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは反射型である。リソグラフィ装置１００’では、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは透過型である。
[0050] 図１Ａ及び図１Ｂは、それぞれ、本発明の実施形態を実施することができる、リソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’の概略図である。リソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’は、それぞれ、以下のものを含む、即ち、放射ビームＢ（例えば、深極端紫外線（ＤＵＶ）放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク、レチクル、又はダイナミックパターニングデバイス）ＭＡを支持するように構成され、かつパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、フォトレジスト塗布ウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ基板Ｗを正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、を含む。リソグラフィ装置１００及び１００’は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗの（例えば、１つ又は複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃに投影するように構成された、投影システムＰＳも有する。リソグラフィ装置１００では、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは反射型である。リソグラフィ装置１００’では、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは透過型である。
【0040】
[0051] 照明システムＩＬは、放射ビームＢの方向決め、成形、又は制御のための、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁気型、静電気型などの様々な種類の光学コンポーネント、又は他の種類の光学コンポーネント、又はそれらの任意の組み合わせを含むことがある。
【0041】
[0052] サポート構造ＭＴは、基準座標系に対するパターニングデバイスＭＡの向き、リソグラフィ装置１００及び１００’のうちの少なくとも１つの設計、及びパターニングデバイスＭＡが真空環境に保持されているか否かなどの他の条件、に依存するような態様で、パターニングデバイスＭＡを保持する。サポート構造ＭＴは、機械式、真空式、静電気式、又は他のクランプ技術を使用して、パターニングデバイスＭＡを保持することがある。サポート構造ＭＴは、例えば、必要に応じて固定であることも又は可動であることもあるフレーム又はテーブルであり得る。センサを使用することにより、サポート構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡが、例えば投影システムＰＳに対して所望の位置にあることを確実にすることができる。
【0042】
[0053] 「パターニングデバイス」ＭＡという用語は、基板Ｗのターゲット部分Ｃにパターンを生成するように、放射ビームＢの断面にパターンを付与するために使用することができる任意のデバイスを指すものとして、広く解釈されるべきである。放射ビームＢに付与されたパターンは、集積回路を形成するためにターゲット部分Ｃに生成されるデバイスの特定の機能層に対応することができる。
【0043】
[0054] パターニングデバイスＭＡは、（図１Ｂのリソグラフィ装置１００’のように）透過型であっても、又は（図１Ａのリソグラフィ装置１００のように）反射型であってもよい。パターニングデバイスＭＡの例としては、レチクル、マスク、プログラマブルミラーアレイ、又はプログラマブルＬＣＤパネルが挙げられる。マスクは、リソグラフィではよく知られており、バイナリ型、レベンソン型（交互位相シフト型）、又はハーフトーン型（減衰位相シフト型）などのマスクタイプ、並びに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型のミラーのマトリックス配置が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを異なる方向に反射するように、個々に傾斜していることがある。傾斜したミラーは、小型ミラーのマトリックスによって反射される放射ビームＢにパターンを付与する。
【0044】
[0055] 「投影システム」ＰＳという用語は、使用される露光放射に適した、又は基板Ｗ上での液浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁気型、及び静電気型の光学系、若しくはそれらの任意の組み合わせを含む、任意の種類の投影システムを包含することができる。真空環境は、ＤＵＶ又は電子ビーム放射用に使用することができる、というのも、他のガスは、放射線又は電子をあまりに多く吸収することがあるからである。従って、真空壁及び真空ポンプの助けを借りて、ビームパス全体に真空環境を提供することができる。
【0045】
[0056] リソグラフィ装置１００及び／又はリソグラフィ装置１００’は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブルＷＴ（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有する種類のものとすることができる。そのような「マルチステージ」の機械では、追加の基板テーブルＷＴを並行して使用することができ、又は、１つ又は複数のテーブルで準備工程を実行している間に、１つ又は複数の他の基板テーブルＷＴを露光用に使用することができる。場合によっては、追加のテーブルは基板テーブルＷＴではないことがある。
【0046】
[0057] リソグラフィ装置はまた、投影システムと基板との間の空間を満たすように、基板の少なくとも一部分が、比較的高い屈折率を有する液体、例えば水、によって覆われてもよいタイプのものであってもよい。液浸液もまた、リソグラフィ装置における他の空間に、例えばマスクと投影システムとの間に適用されてもよい。投影システムの開口数を増加させるために、液浸技術が当技術分野において周知である。本明細書で使用される場合、「液浸」という用語は、基板などの構造が液体中に浸漬されなければならないことを意味するのではなく、むしろ、露光中に液体が投影システムと基板との間に位置することを意味する。
【0047】
[0058] 図１Ａ及び図１Ｂを参照すると、イルミネータＩＬが放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。例えば、放射源ＳＯがエキシマレーザー（例えば、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）、主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ））である場合、放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置１００、１００’は、別個の物理的要素であることがある。そのような場合、放射源ＳＯはリソグラフィ装置１００又は１００’の一部を形成するとはみなされず、放射ビームＢは、例えば、適切な誘導ミラー及び／又はビーム拡大器を含む、ビームデリバリシステムＢＤ（図１Ｂ）の助けを借りて、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと通過する。他の場合では、例えば放射源ＳＯが水銀ランプである場合には、放射源ＳＯは、リソグラフィ装置１００、１００’の一体化された部分とすることができる。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとまとめて、放射システムと呼ばれることがある。
【0048】
[0059] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するためのアジャスタＡＤ（図１Ｂ）を含むことができる。一般的に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側及び／又は内側の径方向範囲（一般的に、それぞれ「σ-outer」及び「σ-inner」と呼ばれる）を調節することができる。更に、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの様々な他の構成要素（図１Ｂ）を含むことができる。イルミネータＩＬを使用して、放射ビームＢの断面において所望の均一性及び強度分布になるように放射ビームＢを調節することができる。
【0049】
[0060] 図１Ａを参照すると、放射ビームＢが、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスＭＡによってパターン付けされる。リソグラフィ装置１００では、放射ビームＢはパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡから反射される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡから反射された後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは放射ビームＢを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に集束させる。第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ２（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けを借りて、基板テーブルＷＴを、（例えば、放射ビームＢの経路に異なるターゲット部分Ｃを位置決めするように）正確に移動させることができる。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサＩＦ１を使用して、放射ビームＢの経路に対して正確にパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを位置決めすることができる。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。
【0050】
[0061] 図１Ｂを参照すると、放射ビームＢが、サポート構造（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン付けされる。マスクＭＡを横断した後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳはビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に集束させる。投影システムは、照明システムの瞳ＩＰＵに結合した瞳ＰＰＵを有する。放射の部分は、照明システムの瞳ＩＰＵでの強度分布から放射され、マスクパターンでの回折による影響を受けることなくマスクパターンを通り抜け、照明システムの瞳ＩＰＵにおける強度分布の像を生成する。
【0051】
[0062] 投影システムＰＳは、マスクパターンＭＰのイメージＭＰ’を投影し、イメージＭＰ’は、強度分布からの放射によりマークパターンＭＰから生成された回折ビームにより、基板Ｗ上にコーティングされたフォトレジスト層上に形成される。例えば、マスクパターンＭＰは、ライン及びスペースのアレイを含む場合がある。アレイにおける放射の回折は、ゼロ次回折とは異なり、ラインに垂直な方向への方向変化を有する進路変更された回折ビームを生成する。回折されていないビーム（すなわち、いわゆるゼロ次回折ビーム）は、伝搬方向を全く変えることなくパターンを通過する。ゼロ次回折ビームは、投影システムＰＳの瞳共役ＰＰＵの上流にある、投影システムＰＳの上部レンズ又は上部レンズ群を通り抜けて、瞳共役ＰＰＵに到達する。瞳共役ＰＰＵの平面内の強度分布の一部分であって、ゼロ次回折ビームに関連付けられているのは、照明システムＩＬの照明システム瞳ＩＰＵにおける強度分布のイメージである。アパーチャデバイスＰＤは、例えば、投影システムＰＳの瞳共役ＰＰＵを含む平面に又は実質的にその平面に配置される。
【0052】
[0063] 投影システムＰＳは、上部レンズ又は上部レンズ群Ｌ１、及び下部レンズ又は下部レンズ群Ｌ２により、ゼロ次回折ビームだけでなく、１次回折ビーム、又は１次とそれ以上の回折ビーム（図示せず）も捕捉するように配置されている。いくつかの実施形態では、ラインに垂直な方向に延びるラインパターンを画像化するためのダイポール照明を使用して、ダイポール照明の解像度向上効果を利用することができる。例えば、１次回折ビームは、ウェーハＷのレベルにおいて、対応するゼロ次回折ビームと干渉して、可能な限り最大の解像度とプロセスウィンドウで（すなわち、使用可能な焦点深度を、許容可能な露光量偏差と組み合わせて）、ラインパターンＭＰのイメージＭＰ’を構築する。いくつかの実施形態では、非点収差は、照明システム瞳ＩＰＵの対向する象限に放射極（図示せず）を設けることにより低減される場合がある。例えば、照明システム瞳ＩＰＵにおける照明は、ＢＭＷ照明と呼ばれることもある２つの対向する照明象限のみを使用してもよく、その結果、残りの２つの象限は照明に使用されないが、１次回折ビームを捕捉するように構成される。更に、いくつかの実施形態では、非点収差は、対向する象限における放射極に関連付けられた投影システムの瞳共役ＰＰＵにおいてゼロ次ビームを遮断することにより低減される場合がある。
【0053】
[0064] 第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けを借りて、基板テーブルＷＴを、（例えば、放射ビームＢの経路に異なるターゲット部分Ｃを位置決めするように）正確に移動させることができる。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１Ｂには図示せず）を使用して、（例えば、マスクライブラリの機械検索の後で、又は走査中に）放射ビームＢの経路に対して正確にマスクＭＡを位置決めすることができる。
【0054】
[0065] 一般的に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの一部を形成する、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けを借りて実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成する、ロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現することができる。（スキャナとは対照的に）ステッパの場合、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータのみに接続されるか、又は固定されることがある。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。基板アライメントマークは（図示するように）専用のターゲット部分を占めるが、これらのマークはターゲット部分同士の間のスペースに配置することもできる（スクライブレーンアライメントマークとして知られる）。同様に、マスクＭＡ上に２つ以上のダイが設けられる場合には、マスクアライメントマークはダイの間に配置されることがある。
【0055】
[0066] マスクテーブルＭＴ及びパターニングデバイスＭＡは真空チャンバＶ内にあることがあり、真空チャンバでは、真空内ロボットＩＶＲを使用して、マスクなどのパターニングデバイスを真空チャンバの内外へ移動させることができる。或いは、マスクテーブルＭＴ及びパターニングデバイスＭＡが真空チャンバの外側にある場合、真空内ロボットＩＶＲと同様に、真空外ロボットを様々な運搬動作用に使用することができる。真空内及び真空外ロボットの両方とも、移送ステーションの固定されたキネマティックマウントへ任意のペイロード（例えば、マスク）をスムーズに移送するために、較正する必要がある。
【0056】
[0067] リソグラフィ装置１００及び１００’は、以下のモードのうちの少なくとも１つで使用することができる。
【0057】
[0068] １．ステップモードでは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを基本的に静止状態に保ちながら、放射ビームＢに付与された全体パターンを、ターゲット部分Ｃに一度に投影する（即ち、単一静的露光）。次いで、基板テーブルＷＴは、異なるターゲット部分Ｃを露光することができるように、Ｘ及び／又はＹ方向にシフトされる。
【0058】
[0069] ２．スキャンモードでは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを同期して走査しながら、放射ビームＢに付与されたパターンを、ターゲット部分Ｃに投影する（即ち、単一動的露光）。サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの（縮小）倍率及び像反転特性によって決定されることがある。
【0059】
[0070] ３．別のモードでは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを、プログラマブルパターニングデバイスを保持させながら実質的に静止状態に保ち、また、基板テーブルＷＴを移動させるか又は走査しながら、放射ビームＢに付与されたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。パルス放射源ＳＯを使用することができ、また、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの各移動の後で、又は走査中の連続的な放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、プログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【0060】
[0071] 説明された使用モードの組み合わせ及び／若しくは変形例、又は全く異なる使用モードを使用することもできる。
【0061】
[0072] 更なる実施形態では、リソグラフィ装置１００は、ＥＵＶリソグラフィ用のＥＵＶ放射のビームを生成するように構成された、極端紫外線（ＥＵＶ）放射源を含む。
【0062】
[0073] 相対真空、すなわち大気圧よりかなり低い圧力の少量のガス（例えば水素）を、放射源ＳＯ、照明システムＩＬ、及び／又は投影システムＰＳに提供してもよい。放射源ＳＯは、レーザー生成プラズマ（ＬＰＰ）源、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源、自由電子レーザー（ＦＥＬ）、エキシマレーザー、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）、主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ）、又はＤＵＶ放射を発生することが可能な任意の他の放射源であってもよい。
【0063】
[0074] 例示的な光源装置
[0075] 上で論じたように、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）又は主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ）は、２ステージ光共振器構成である。主発振器（ＭＯ）（例えば、第１の光共振器ステージ）は、高干渉性光ビームを生成する。パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）（例えば、第２の光共振器ステージ）は、ビーム特性を維持しながら、光ビームの光パワーを増加させる。ＭＯは、ガス放電チャンバ、光結合器（ＯＣ）、及び線幅狭隘化モジュール（ＬＮＭ）を含むことができる。ＯＣ及びＬＮＭは、ガス放電チャンバを取り囲んで光共振器を形成することができる。ＰＡ又はＰＲＡは、第２のガス放電チャンバ、波面エンジニアリングボックス（ＷＥＢ）、及びビーム反転器（ＢＲ）を含むことができる。ＷＥＢ及びＢＲは、第２のガス放電チャンバを取り囲んで第２の光共振器を形成することができる。例えば、特定のＭＯＰＡ及びＭＯＰＲＡが、２０１０年１月５日に発行された米国特許第７，６４３，５２８号、及び２０１０年１０月２６日に発行された米国特許第７，８２２，０９２号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
[0075] 上で論じたように、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）又は主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ）は、２ステージ光共振器構成である。主発振器（ＭＯ）（例えば、第１の光共振器ステージ）は、高干渉性光ビームを生成する。パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）（例えば、第２の光共振器ステージ）は、ビーム特性を維持しながら、光ビームの光パワーを増加させる。ＭＯは、ガス放電チャンバ、光結合器（ＯＣ）、及び線幅狭隘化モジュール（ＬＮＭ）を含むことができる。ＯＣ及びＬＮＭは、ガス放電チャンバを取り囲んで光共振器を形成することができる。ＰＡ又はＰＲＡは、第２のガス放電チャンバ、波面エンジニアリングボックス（ＷＥＢ）、及びビーム反転器（ＢＲ）を含むことができる。ＷＥＢ及びＢＲは、第２のガス放電チャンバを取り囲んで第２の光共振器を形成することができる。例えば、特定のＭＯＰＡ及びＭＯＰＲＡが、２０１０年１月５日に発行された米国特許第７，６４３，５２８号、及び２０１０年１０月２６日に発行された米国特許第７，８２２，０９２号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0064】
[0076] ＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡの性能は、ＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡに、例えば、光ビームを出力するＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡの光学窓に、強く依存する可能性がある。エキシマレーザーは、エキシマ（例えば、励起二量体）又はエキシプレックス（例えば、励起錯体）を利用して、深紫外（ＤＵＶ）線を出力する。エキシマは、２つの種（Ａｒ２、Ｋｒ２、Ｆ２、Ｘｅ２など）から形成される短寿命のホモ二量体分子である。エキシプレックスは、３種以上の種（例えば、ＡｒＦ、ＫｒＣｌ、ＫｒＦ、ＸｅＢｒ、ＸｅＣｌ、ＸｅＦ）から形成されるヘテロ二量体分子である。ガス放電媒体（例えば、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、及び／又はＸｅＦ）を取り囲むＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡの電極が、時間の経過と共に劣化し、金属フッ化物塵埃（例えば、平均直径が約２．０μｍ）を発生させる可能性がある。金属フッ化物塵埃は、ＭＯ、ＰＡ、及び／又はＰＲＡの光学窓上に積もり、光学的損傷（例えば、局所的な熱吸着及び／又は加熱）をもたらす可能性がある。更に、ＭＯにおける金属フッ化物塵埃の循環が更に、電極からの放電電圧の低下及びレーザー性能の低下をもたらす可能性がある。
【0065】
[0077] いくつかの実施形態では、金属フッ化物トラップ（ＭＦＴ）を、ＭＯのチャンバに、並びにＰＡ及び／又はＰＲＡのチャンバに結合させて、ガス放電媒体中の汚染を減らすことができる。例えば、特定のＭＦＴが、２００１年５月２９日に発行された米国特許第６，２４０，１１７号、及び２０１０年１０月２６日に発行された米国特許第７，８１９，９４５号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。ガス放電媒体の一部分がＭＦＴを通過するにつれて、汚染されたガス放電媒体中の金属フッ化物塵埃がトラップフィルタで吸着され、残っているあらゆる粒子が静電集塵器により収集される。静電集塵器は、強力な電界（例えば、数ｋＶの印加電位）を介して、金属フッ化物トラップ（ＭＦＴ）を流れる塵埃粒子に静電荷を誘起する。例えば、集塵管（例えば、円筒形）を軸方向に通過する中心ワイヤに電圧を印加することができ、これにより集塵管の内面に静電荷が生成される。残っているあらゆる金属フッ化物塵埃が、集塵管の内面に付着する。得られた清浄ガスを、開示された光学窓ハウジングを通して循環させてＭＯチャンバ、ＰＡチャンバ、及び／又はＰＲＡチャンバ内へと戻して、窓に塵埃が存在しないようにすることができる。
【0066】
[0078] しかしながら、いくつかの実施形態では、ＭＦＴセットアップは依然として、金属フッ化物塵埃を取り除くこと、及び光学窓ハウジングに（例えば、無塵の）清浄ガスの逆流を供給することに失敗する可能性がある。例えば、光学窓への金属フッ化物塵埃の蓄積に起因する熱的過負荷は、壊滅的なすべり面（例えば、ＣａＦ２結晶転位及び／又は塑性変形）につながる場合があり、ＭＯチャンバ、ＰＡチャンバ、及び／又はＰＲＡチャンバの交換をもたらす場合がある。したがって、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすことが重要である。なぜなら、たとえ少量の塵埃付着であっても、ＭＯチャンバ、ＰＡチャンバ、及び／又はＰＲＡチャンバの性能及び寿命に回復不可能な変化をもたらす場合があるからである。更に、塵埃付着の問題を解決するために、ＭＦＴからの（例えば、無塵の）清浄ガスの逆流速度を単純に増加させることはできない。ＭＦＴからの清浄ガスの逆流速度を増加させること（例えば、入力ポートを開くこと）により、ＭＦＴは、ＭＯチャンバ、ＰＡチャンバ、及び／又はＰＲＡチャンバの寿命よりもはるかに速い速度で金属フッ化物塵埃を蓄積する場合があり、したがって、ＭＦＴ機能性及び全体としての光源寿命を限定する場合がある。具体的には、光ビームのフルエンスは、ＭＯよりはむしろＰＡ又はＰＲＡの方が高く、したがって、金属フッ化物塵埃は、時間の経過と共にＰＡ又はＰＲＡに早期の光学的損傷をもたらす可能性がある。したがって、清浄ガスの逆流速度（例えば、ＭＦＴの寿命に影響を及ぼす）と、（例えば、チャンバにさらされる）光学窓の内面を清浄ガスの逆流で効率的にパージして、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすこと（例えば、ＭＯチャンバ、ＰＡチャンバ、及び／又はＰＲＡチャンバの寿命に影響を及ぼす）、との間で適切なバランスを実現することができる。
【0067】
[0079] 以下に論じられる光源装置及びシステムの実施形態は、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らし、窓ハウジング装置を通る流れ分布の制御を改善し、金属フッ化物トラップからの清浄ガス逆流速度を増加させることなく効率的なパージを提供し、金属フッ化物トラップと、主発振器、パワー増幅器、及び／又はパワーリング増幅器と、の両方の耐用寿命を増加させて、エキシマレーザービーム（例えば、ＤＵＶ放射）を、例えばＤＵＶリソグラフィ装置に提供することができる。
【0068】
[0080] 図２は、様々な例示的な実施形態による、光源装置２００を示す。光源装置２００は、ガス放電ステージ２１０（例えば、ＭＯ、ＰＡ、ＰＲＡ）における金属フッ化物塵埃汚染を減らし、例えば高干渉性で整列した光ビーム（例えば、光ビーム２０２）を、ＤＵＶリソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１００’）に提供するように構成することができる。光源装置２００は、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０における金属フッ化物塵埃の蓄積を低減させ、ガス放電ステージ２１０（例えば、ＭＯ、ＰＡ、ＰＲＡ）及び／又は金属フッ化物トラップ（ＭＦＴ）２８０の耐用寿命及びレーザー性能を向上させるように更に構成することができる。光源装置２００が、スタンドアロン型の装置及び／又はシステムとして図２に示されているが、本開示の実施形態は、放射源ＳＯ、リソグラフィ装置１００、１００’、及び／又は他の光学システムなどであるが、これらに限定されない、他の光学システムと共に使用することができる。いくつかの実施形態では、光源装置２００は、リソグラフィ装置１００、１００’における放射源ＳＯであり得る。例えば、ＤＵＶ放射ビームＢは、光ビーム２０２であり得る。いくつかの実施形態では、光源装置２００は、ガス放電ステージ２１０（例えば、ＭＯ）と、第２のガス放電ステージ（例えば、ガス放電ステージ２１０と同様のＰＡ及び／又はＰＲＡ）（図示せず）とにより形成されるＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡとすることができる。上で論じたように、例えば、特定のＭＯＰＡ及びＭＯＰＲＡが、２０１０年１月５日に発行された米国特許第７，６４３，５２８号、及び２０１０年１０月２６日に発行された米国特許第７，８２２，０９２号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0069】
[0081] 図２に示すように、光源装置２００は、ガス放電ステージ２１０、電圧制御システム２３０、圧力制御システム２４０、及びＭＦＴ２８０を含むことができる。いくつかの実施形態では、上で列挙された構成要素の全てを、３次元（３Ｄ）フレーム２０１内に収容することができる。例えば、３Ｄフレーム２０１は、金属（例えば、アルミニウム、鋼など）、セラミック、及び／又は任意の他の好適な剛性材料を含むことができる。
【0070】
[0082] ガス放電ステージ２１０は、高干渉性光ビーム（例えば、光ビーム２０２）を出力するように構成することができる。ガス放電ステージ２１０は、光増幅器２０６、第１の光モジュール２５０（例えば、光結合器（ＯＣ）、波面エンジニアリングボックス（ＷＥＢ））、及び第２の光モジュール２６０（例えば、線幅狭隘化モジュール（ＬＮＭ）、ビーム反転器（ＢＲ））を含むことができる。いくつかの実施形態では、第１の光モジュール２５０が、第１の光共振器要素２５２を含むことができ、第２の光モジュール２６０が、第２の光共振器要素２６２を含むことができる。光共振器２７０は、第１の光モジュール２５０（例えば、第１の光共振器要素２５２を介して）及び第２の光モジュール２６０（例えば、第２の光共振器要素２６２を介して）により定義することができる。光共振器２７０を形成するために、第１の光共振器要素２５２は、部分的に反射性（例えば、部分ミラー）にすることができ、第２の光共振器要素２６２は、反射性（例えば、ミラー、回折格子など）にすることができる。光共振器２７０は、光増幅器２０６（例えば、自然放射増幅光（ＡＳＥ））により生成された光を、固定数のパスにわたって光増幅器２０６内へと導いて、光ビーム２０２を形成することができる。いくつかの実施形態では、ガス放電ステージ２１０は、光ビーム２０２を、ＭＯＰＡ構成の一部としてのＰＡステージ（図示せず）に、又はＭＯＰＲＡ構成の一部としてのＰＲＡステージ（図示せず）に出力することができる。いくつかの実施形態では、ガス放電ステージ２１０は、例えばＯＣ及びＬＮＭを有する、ＭＯステージであり得る。いくつかの実施形態では、ガス放電ステージ２１０は、例えばＷＥＢ及びＢＲを有する、ＰＡステージであり得る。いくつかの実施形態では、ガス放電ステージ２１０は、例えばＷＥＢ及びＢＲを有する、ＰＲＡステージであり得る。
【0071】
[0083] 図２に示すように、光増幅器２０６は、チャンバ２１１、第１の窓ハウジング装置２１８、及び第２の窓ハウジング装置２２０を含むことができる。チャンバ２１１は、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０内にガス放電媒体２１３を保持するように構成することができる。チャンバ２１１は、電極２０４、金属フッ化物塵埃２０８、ブロワ２１２、ガス放電媒体２１３、ＭＦＴ２８０の方に向いた入力ポート２１４、第１の窓ハウジング装置２１８の方に向いた第１の出力ポート２２２、及び第２の窓ハウジング装置２２０の方に向いた第２の出力ポート２２４を含むことができる。入力ポート２１４は、ガス放電媒体２１３の一部分をチャンバ２１１内の金属フッ化物塵埃２０８と共に、ＭＦＴ２８０内へと移送するように構成することができる。第１及び第２の出力ポート２２２、２２４は、ＭＦＴ２８０からのガス放電媒体２１３の一部分（例えば、金属フッ化物塵埃２０８が除去された清浄ガス）を、再びチャンバ２１１に通して、それぞれ第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０に移送するように構成することができる。
【0072】
[0084] 光増幅器２０６は、第１の光モジュール２５０及び第２の光モジュール２６０に光学的に結合することができる。光増幅器２０６は、自然放射増幅光（ＡＳＥ）及び／又は光ビーム２０２を出力するように構成することができる。光ビーム２０２は、第１の光モジュール２５０及び第２の光モジュール２６０によって規定される光共振器２７０のチャンバ２１１内の電極２０４間のガス放電媒体２１３中で生成することができる。チャンバ２１１は、ＭＦＴ２８０と、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０と、に結合することができる。ガス放電媒体２１３を、ブロワ２１２により、チャンバ２１１内の電極２０４の間で循環させることができる。いくつかの実施形態では、ブロワ２１２は、横流ブロワであり得る。ガス放電媒体２１３の一部分を、ブロワ２１２の下流の入力ポート２１４において引き込み、ＭＦＴ２８０を通して導くことができる。清浄ガスを、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０を通して循環させてチャンバ２１１内へと戻して、清浄ガスにレーザー残骸（例えば、金属フッ化物塵埃２０８）が存在しないようにできる。いくつかの実施形態では、ブロワ２１２及び／又は圧力制御システム２４０（例えば、真空ライン２４４）は、チャンバ２１１からＭＦＴ２８０（例えば、入力ポート２１４）内への流量を約１００ｓｃｃｍに維持することができる。
【0073】
[0085] ガス放電媒体２１３は、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２（例えば、１９３ｎｍ）を出力するように構成することができる。いくつかの実施形態では、ガス放電媒体２１３は、エキシマレイジング用のガス（例えば、Ａｒ２、Ｋｒ２、Ｆ２、Ｘｅ２、ＡｒＦ、ＫｒＣｌ、ＫｒＦ、ＸｅＢｒ、ＸｅＣｌ、ＸｅＦなど）を含むことができる。例えば、ガス放電媒体２１３は、ＡｒＦを含むことができ、チャンバ２１１内で取り囲んでいる電極２０４からの励起（例えば、印加電圧）により、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０を通してＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２（例えば、１９３ｎｍ）を出力する。いくつかの実施形態では、ガス放電媒体２１３は、エキシマ及び／又はエキシプレックスを含むことができる。例えば、ガス放電媒体２１３は、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、及び／又はＸｅＦを含むことができる。
【0074】
[0086] 第１の光モジュール２５０は、第２の窓ハウジング装置２２０と光学的につながるように構成することができる。いくつかの実施形態では、第１の光モジュール２５０は、光ビームを部分的に反射し、光共振器２７０の一部を形成するように構成することができる。例えば、第１の光モジュール（例えば、ＯＣ、ＷＥＢ）は、２０１１年２月８日に発行された米国特許第７，８８５，３０９号、及び２０１０年１月５日に発行された米国特許第７，６４３，５２８号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。図２に示すように、第１の光モジュール２５０は、第１の光共振器要素２５２を含んで、光増幅器２０６からの光（例えば、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２）を導いて、光増幅器２０６内へと戻すこと、及び／又は光ビーム２０２を出力することができる。いくつかの実施形態では、第１の光共振器要素２５２は調整する（例えば、傾斜させる）ことが可能である。
【0075】
[0087] 第２の光モジュール２６０は、第１の窓ハウジング装置２１８と光学的につながるように構成することができる。いくつかの実施形態では、第２の光モジュール２６０は、光ビームにスペクトル線の狭隘化を提供し、光共振器２７０の一部を形成するように構成することができる。例えば、第２の光モジュール（例えば、ＬＮＭ、ＢＲ）は、２０１２年２月２８日に発行された米国特許第８，１２６，０２７号、及び２０１０年１０月２６日に発行された米国特許第７，８２２，０９２号に以前に記載されており、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。図２に示すように、第２の光モジュール２６０は、第２の光共振器要素２６２を含んで、光増幅器２０６からの光（例えば、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２）を第１の光モジュール２５０に向かって導いて、光増幅器２０６内へと戻すことができる。いくつかの実施形態では、第２の光共振器要素２６２は調整する（例えば、傾斜させる、角度を付ける）ことが可能である。
【0076】
[0088] 電圧制御システム２３０は、チャンバ２１１内の電極２０４の両端に高電圧電気パルスを印加して、ガス放電媒体２１３を励起させて、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２（例えば、１９３ｎｍ）を出力するように構成することができる。電圧制御システム２３０は、電圧供給ライン２３２を含むことができる。いくつかの実施形態では、電圧制御システム２３０は、電極２０４の両端に高電圧電気パルスを提供するために、高電圧電源（図示せず）、電圧圧縮増幅器（図示せず）、パルスエネルギーモニタ（図示せず）、及び／又はコントローラ（図示せず）を含むことができる。例えば、電圧制御システムは、２００１年５月２９日に発行された米国特許第６，２４０，１１７号に以前に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0077】
[0089] 圧力制御システム２４０は、チャンバ２１１内のフッ素濃度を制御し、ガス放電媒体２１３をチャンバ２１１に提供するように構成することができる。圧力制御システム２４０は、ガス放電ライン２４２及び真空ライン２４４を含むことができる。ガス放電ライン２４２は、ガス放電媒体２１３の１種以上のガス成分（例えば、Ａｒ２、Ｋｒ２、Ｆ２、Ｘｅ２、ＡｒＦ、ＫｒＣｌ、ＫｒＦ、ＸｅＢｒ、ＸｅＣｌ、ＸｅＦ、ＫｒＮｅなど）をチャンバ２１１に供給するように構成することができる。真空ライン２４４は、例えば、１つ以上のガス成分をガス放電ライン２４２を介してガス放電媒体２１３に注入している間に、チャンバ２１１内のガス放電媒体２１３の一部分に負圧を印加する（例えば、引き出す）ように構成することができる。いくつかの実施形態では、圧力制御システム２４０は、チャンバ２１１内のフッ素濃度を制御し、チャンバ２１１内にガス放電媒体２１３を補充するために、１つ以上のガス源（図示せず）、１つ以上の圧力調整器（図示せず）、真空ポンプ（図示せず）、フッ素（Ｆ２）トラップ、及び／又はコントローラ（図示せず）を含むことができる。例えば、圧力制御システムは、２００１年５月２９日に発行された米国特許第６，２４０，１１７号に以前に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。いくつかの実施形態では、圧力制御システム２４０は、ガス放電ステージ２１０に結合され、ガス放電媒体２１３の一部分を金属フッ化物塵埃２０８と共に、ＭＦＴ２８０の入力ポート２１４を通して、ＭＦＴ２８０（例えば、充填層フィルタ）を通して、そしてＭＦＴ２８０の第１及び／又は第２の出力ポート２２２、２２４を通して流すように構成することができる。
【0078】
[0090] いくつかの実施形態では、ＭＦＴ２８０は、ガス放電ステージ２１０のチャンバ２１１内のガス放電媒体２１３中で生成された金属フッ化物塵埃２０８をトラップするように構成することができる。ＭＦＴ２８０は、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０における金属フッ化物塵埃２０８の蓄積を減らし、ガス放電ステージ２１０（例えば、ＭＯ、ＰＡ、ＰＲＡ）の耐用寿命及びレーザー性能を向上させるように更に構成することができる。いくつかの実施形態では、ＭＦＴ２８０は、光源装置２００の３Ｄフレーム２０１の外部にあり得る。例えば、ＭＦＴ２８０は、入力ポート２１４と、ＭＦＴ２８０が３Ｄフレーム２０１の外部に存在するように延ばすことができる第１及び第２の出力ポート２２２、２２４と、を介して、チャンバ２１１に接続することができる。
【0079】
[0091] いくつかの実施形態では、ＭＦＴ２８０は、ＭＦＴフレーム２８１、チャンバ２１１に結合された入力ポート２１４、チャンバ２１１及び第１の窓ハウジング装置２１８に結合された第１の出力ポート２２２、及びチャンバ２１１及び第２の窓ハウジング装置２２０に結合された第２の出力ポート２２４を含むことができる。いくつかの実施形態では、ＭＦＴフレーム２８１は円筒形であり得る。例えば、ＭＦＴフレーム２８１は、約１０ｍｍ（直径）×約１００ｍｍ（長さ）であり得る。
【0080】
[0092] いくつかの実施形態では、入力ポート２１４は、ガス放電媒体２１３の一部分をチャンバ２１１内の金属フッ化物塵埃２０８と共に、ＭＦＴ２８０内へと移送するように構成することができる。いくつかの実施形態では、ガス放電媒体２１３は、金属フッ化物塵埃収集器（図示せず）（例えば、充填層フィルタ）及び／又は静電集塵器（図示せず）を通って流れることができ、金属フッ化物塵埃２０８は、ＭＦＴ２８０内に吸着され得る。第１及び第２の出力ポート２２２、２２４は、ＭＦＴ２８０を通過したガス放電媒体２１３の一部分（例えば、金属フッ化物塵埃２０８が除去された清浄ガス）を、再びチャンバ２１１に通して、それぞれ第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０に移送するように構成することができる。いくつかの実施形態では、ＭＦＴ２８０は、ＭＦＴ２８０を通って流れる金属フッ化物塵埃２０８中に電荷を誘起し、残っている金属フッ化物塵埃２０８の吸着を促進するように構成された静電集塵器（図示せず）を含むことができる。
【0081】
[0093] 例示的な窓ハウジング装置
[0094] 図３は、例示的な一実施形態による、図２に示す光源装置２００の窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の概略断面図である。図４は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の窓ハウジング４００の概略斜視断面図である。図５は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のアパーチャ装置５００の概略斜視図である。図７は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のインサート７００の概略斜視図である。図９は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の概略的な流れ分布である。
[0094] 図３は、例示的な一実施形態による、図２に示す光源装置２００の窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の概略断面図である。図４は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の窓ハウジング４００の概略斜視断面図である。図５は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のアパーチャ装置５００の概略斜視図である。図７は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のインサート７００の概略斜視図である。図９は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の概略的な流れ分布である。
【0082】
[0095] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）は、光学窓（例えば、光学窓２２８）上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成することができる。窓ハウジング装置３００は、金属フッ化物塵埃をトラップし、光学窓（例えば、光学窓２２８）に沿った（例えば、無塵の）清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置（例えば、アパーチャ装置５００）を通る（例えば、無塵の）清浄ガスの第２の流量とを制御するように更に構成することができる。窓ハウジング装置３００は、光学窓（例えば、光学窓２２８）に沿った熱境界層（例えば、局所的なホットスポット、熱レンズ効果など）の形成を減らすように更に構成することができる。
【0083】
[0096] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００は、第１の窓ハウジング装置２１８及び／又は第２の窓ハウジング装置２２０であり得る。例えば、図３に示すように、窓ハウジング装置３００は、第２の窓ハウジング装置２２０であり得る。いくつかの実施形態では、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０は、類似している可能性がある（例えば、鏡面対称）。例えば、第１及び第２の窓ハウジング装置２１８、２２０の両方が、窓ハウジング装置３００に類似している可能性がある（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０を、窓ハウジング装置３００と同一にすることができ、第１の窓ハウジング装置２１８を、窓ハウジング装置３００に対して鏡面対称にすることができる）。窓ハウジング装置３００が、スタンドアロン型の装置及び／又はシステムとして図３に示されているが、本開示の実施形態は、放射源ＳＯ、リソグラフィ装置１００、１００’、光源装置２００、光増幅器２０６、チャンバ２１１、及び／又は他の光学システムなどであるが、これらに限定されない、他の光学システムと共に使用することができる。
【0084】
[0097] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００は、チャンバ２１１（例えば、Ｏリングシール４２０を介して）及び入力ポート２２７に結合されて、出力ポート２２４に沿ってＭＦＴ２８０から清浄ガス（例えば、無塵の及び／又はフィルタを通したガス）を受け取ることができる。いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００は、光学窓２２８、窓ハウジング４００、プラグ２２５、アパーチャ装置５００、及びインサート７００を含むことができる。いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００は、チャンバ２１１内へと延びることができる。例えば、図３に示すように、窓ハウジング装置３００（例えば、アパーチャ装置５００の後端部５０２）は、チャンバ２１１の光ポート（例えば、ボアホール２１９）を通ってチャンバ２１１の内部へと延びることができる。
【0085】
[0098] 光学窓２２８は、チャンバ２１１からのＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２を反射及び透過するように構成された（例えば、二色）ビームスプリッタであり得る。例えば、図３に示すように、光学窓２２８は、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２の一部分を上部窓ハウジング４０４（例えば、上部フレネルビーム捕捉ポケット４０５）に向けて導く（例えば、反射させる）ために、そして、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２の一部分を下部窓ハウジング４０２（例えば、下部フレネルビーム捕捉ポケット４０３）に向けて導く（例えば、透過させる）ために、入射角（例えば、約７０度）で窓ハウジング４００内に配置することができる。
【0086】
[0099] 窓ハウジング４００は、光学窓２２８を支持するように構成することができる。窓ハウジング４００は、光学窓２２８の内面２２９に沿って清浄ガスをフラッシュするように更に構成することができる。窓ハウジング４００は、光学窓２２８に所望の反射－透過比を提供するように更に構成することができる（例えば、下部及び上部フレネルビーム捕捉ポケット４０３、４０５を介して）。窓ハウジング４００（例えば、上部窓ハウジング４０４）が、スタンドアロン型の装置及び／又はシステムとして図４に示されているが、本開示の実施形態は、放射源ＳＯ、リソグラフィ装置１００、１００’、光源装置２００、光増幅器２０６、チャンバ２１１、窓ハウジング装置３００、第１の窓ハウジング装置２１８、第２の窓ハウジング装置２２０、及び／又は他の光学システムなどであるが、これらに限定されない、他の光学システムと共に使用することができる。いくつかの実施形態では、窓ハウジング４００は、金属（例えば、ステンレス鋼、アルミニウムなど）、セラミック、ポリマー、及び／又は任意の他の好適な剛性材料を含むことができる。
【0087】
[0100] 図３及び図４に示すように、いくつかの実施形態では、窓ハウジング４００は、下部窓ハウジング４０２及び上部窓ハウジング４０４を含むことができる。下部窓ハウジング４０２及び上部窓ハウジング４０４が、光学窓２２８を支持し、光学窓２２８に沿って接続されることができる。例えば、下部窓ハウジング４０２と上部窓ハウジング４０４及び光学窓２２８が、例えば、窓Ｏリングシール及び／又は１つ以上の締結具を介して、密封アセンブリを形成することができる。下部窓ハウジング４０２は、光ビーム（例えば、光ビーム２０２）を受け取り、光ビームを窓ハウジング装置３００（例えば、上部窓ハウジング４０４）内及びチャンバ２１１内へと伝達するように構成することができる。下部窓ハウジング４０２は、光学窓２２８から（例えば、フレネル反射から）の光ビーム（例えば、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２）の一部分を捕捉及び吸収する（例えば、マルチビームバウンス）ように構成された下部フレネルビーム捕捉ポケット４０３を含むことができる。下部フレネルビーム捕捉ポケット４０３は、光学窓２２８からのフレネル反射を捕捉及び吸収して、光学窓２２８にとって所望の反射－透過比を実現するように構成することができる。下部窓ハウジング４０２を、チャンバ２１１及び金属フッ化物塵埃２０８から（例えば、流体的に）分離することができ、したがって、ＭＦＴ２８０から清浄ガスを受け取らない場合がある。いくつかの実施形態では、下部窓ハウジング４０２（例えば、外部）を、別個の清浄ガス（例えば、Ｎ２）によりパージすることができる。
【0088】
[0101] 上部窓ハウジング４０４は、光ビーム（例えば、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２）を受け取り、光ビームを窓ハウジング装置３００から外に（例えば、下部窓ハウジング４０２に）、そして光増幅器２０６から外に透過させるように構成することができる。上部窓ハウジング４０４は、上部フレネルビーム捕捉ポケット４０５、ハウジングボア４０６、ハウジングポート４１０、ハウジングチャネル４１２、ハウジングＤスロット４１４、及びチャンバＯリングシール４２０を含むことができる。上部フレネルビーム捕捉ポケット４０５は、光学窓２２８から（例えば、フレネル反射から）の光ビーム（例えば、ＡＳＥ及び／又は光ビーム２０２）の一部分を捕捉及び吸収する（例えば、マルチビームバウンス）ように構成することができる。上部フレネルビーム捕捉ポケット４０５は、光学窓２２８からのフレネル反射を捕捉及び吸収して、光学窓２２８にとって所望の反射－透過比を実現するように構成することができる。図３に示すように、上部窓ハウジング４０４は、Ｏリングシール４２０を介してチャンバ２１１（例えば、チャンバフレーム２２３及びボアホール２１９）に結合することができる。例えば、アパーチャ装置５００の後端部５０２及び入力ポート２２７は、チャンバ２１１及び出力ポート２２４を入力ポート２２７、アパーチャ装置５００、及び窓ハウジング４００に対して流体的に密封するために、Ｏリングシール４２０の内径内に配置することができる。いくつかの実施形態では、Ｏリングシール４２０は、金属（例えば、モネル、ニッケル、ステンレス鋼、銅、アルミニウムなど）であり得る。いくつかの実施形態では、上部窓ハウジング４０４（例えば、内部）は、ＭＦＴ２８０からの清浄ガス（例えば、フッ化物塵埃をほとんど含まないガス）によりパージすることができる。
【0089】
[0102] ハウジングボア４０６は、アパーチャ装置５００（例えば、窓部分５２０）及びインサート７００を受け取るように構成することができる。ハウジングボア４０６は、ハウジングボアアンダーカット４０８、ハウジングの窪み４１６、及びハウジングリップ４１８を含むことができる。ハウジングボアアンダーカット４０８及び／又はハウジングの窪み４１６は、窓ハウジング装置３００内の清浄ガスの体積を増加させるように構成することができる。例えば、アパーチャ装置５００の周囲をインサート７００に向けて清浄ガスを導くために、ハウジングボアアンダーカット４０８及び／又はハウジングの窪み４１６の外径は、アパーチャ装置５００及び／又はインサート７００の外径よりも大きくすることができる。ハウジングの窪み４１６は、アパーチャ装置５００（例えば、第１及び第３のタング５２２、５２６）及びインサート７００との密な流体シールを形成するように構成することができる。ハウジングリップ４１８は、アパーチャ装置５００（例えば、窓部分５２０）及び入力ポート２２７との密な流体シールを形成するように構成することができる。ハウジングリップ４１８は、ハウジングボアアンダーカット４０８よりも小さい直径を有することができる。
【0090】
[0103] ハウジングポート４１０、ハウジングチャネル４１２、及びハウジングＤスロット４１４は、清浄ガスが、ハウジングチャネル４１２を通ってハウジングポート４１０内へと流れ、光学窓２２８の内面２２９に沿って、インサート７００及びアパーチャ装置５００に向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成することができる。ハウジングチャネル４１２は、光学窓２２８の内面２２９に沿って（例えば、無塵の）清浄ガスをフラッシュするように構成することができる。ハウジングチャネル４１２は、清浄ガスがアパーチャ装置５００及びインサート７００を通って流れる前に、光学窓２２８に沿って流れるように、清浄ガスを導くように更に構成することができる。いくつかの実施形態では、ハウジングチャネル４１２及び／又はハウジングポート４１０は、清浄ガスが光学窓２２８の内面２２９全体に沿ってハウジングチャネル４１２から流れるように、清浄ガスを導くように構成することができる。ハウジングボア４０６は、ハウジングチャネル４１２及びハウジングポート４１０（例えば、ハウジングＤスロット４１４の周囲）に流体接続することができる。
【0091】
[0104] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００は、ボア２２６を有するプラグ２２５を含むことができる。いくつかの実施形態では、プラグ２２５は、入力ポート２２７と出力ポート２２４との間に配置することができる。例えば、図３に示すように、出力ポート２２４は、チャンバ２１１内（例えば、チャンバフレーム２２３内）に配置することができ、プラグ２２５は、出力ポート２２４内に配置することができる。プラグ２２５は、ゴム、シリコーン、コルク、及び／又は、出力ポート２２４と入力ポート２２７との間でスルーボア２２６を除く場所で流体の流れを遮断することができる任意の他の好適な材料を含むことができる。いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００内への清浄ガスの流量（例えば、１００ｓｃｃｍ）を制御する（例えば、増加させる又は減少させる）ために、プラグ２２５を、異なるボア径を有する同様のプラグと置換及び／又は交換することができる（例えば、７０ミルから５０ミルに、６０ミルから１００ミルに、など）。
【0092】
[0105] ボア２２６は、出力ポート２２４と窓ハウジング装置３００の入力ポート２２７との間で清浄ガスを流体接続する貫通孔であり得る。ボア２２６は、ＭＦＴ２８０から窓ハウジング装置３００への清浄ガスの流量を制御するように構成された直径を有することができる。例えば、ボア２２６の直径（ｄ）は、入力ポート２２７内への清浄ガスの流量に比例することができる（例えば、ｄ４）（例えば、直径の減少は、流量の減少（例えば、１６倍）に比例し、直径の増加は、流量の増加（例えば、１６倍）に比例する）。いくつかの実施形態では、ボア２２６の直径は、約５０ミル（１．２７ｍｍ）から約１５０ミル（３．８１ｍｍ）であり得るが、他の実施形態では、他の直径が使用される。例えば、ボア２２６の直径は、約７０ミル（１．７７８ｍｍ）であり得る。
【0093】
[0106] いくつかの実施形態では、ＭＦＴ２８０からの清浄ガスの流れ分布は、出力ポート（例えば、第１及び／又は第２の出力ポート２２２、２２４）に沿って、プラグ２２５のボア２２６を通り、入力ポート２２７を通り、ハウジングボアアンダーカット４０８を通り、アパーチャ装置５００の周囲を通り（例えば、第１及び第２のタング５２２、５２４と第３及び第４のタング５２６、５２８との間の第２の外面５１４の周囲を通り）、インサート７００に向かい、ハウジングチャネル４１２を通り、ハウジングポート４１０を通り、ハウジングＤスロット４１４の周囲を通り、インサート７００を通り、そしてアパーチャ装置５００を通って進む。
【0094】
[0107] 例示的なアパーチャ装置
[0108] 図５は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のアパーチャ装置５００の概略斜視図である。図６は、例示的な一実施形態による、図５に示すアパーチャ装置５００の概略断面図である。
[0108] 図５は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のアパーチャ装置５００の概略斜視図である。図６は、例示的な一実施形態による、図５に示すアパーチャ装置５００の概略断面図である。
【0095】
[0109] アパーチャ装置５００は、アパーチャ装置５００を通って流れる金属フッ化物塵埃２０８をトラップするように構成することができる。アパーチャ装置５００が、スタンドアロン型の装置及び／又はシステムとして図５及び図６に示されているが、本開示の実施形態は、放射源ＳＯ、リソグラフィ装置１００、１００’、光源装置２００、光増幅器２０６、チャンバ２１１、窓ハウジング装置３００、第１の窓ハウジング装置２１８、第２の窓ハウジング装置２２０、窓ハウジング４００、及び／又は他の光学システムなどであるが、これらに限定されない、他の光学システムと共に使用することができる。
【0096】
[0110] 図５及び図６に示すように、いくつかの実施形態では、アパーチャ装置５００は、後端部５０２、前端部５０４、チャンバ部分５１０、ウィンドウ部分５２０、及び複数のセル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８を含むことができる。後端部５０２はチャンバ２１１に向くことができ、前端部５０４は光学窓２２８に向くことができる。チャンバ部分５１０は、チャンバ２１１内へと延びるように構成することができる（例えば、チャンバフレーム２２３内のボアホール２１９を介して）。チャンバ部分５１０は、第１の直径を有する第１の外面５１２を含むことができる。いくつかの実施形態では、アパーチャ装置５００は、金属（例えば、モネル、ニッケル、ステンレス鋼、アルミニウムなど）、セラミック、及び／又は任意の他の好適な剛性材料を含むことができる。
【0097】
[0111] 窓部分５２０は、窓ハウジング４００内へと延びるように構成することができる（例えば、ハウジングボア４０６を介して）。窓部分５２０は、チャンバ部分５１０の第１の直径よりも大きい第２の直径を有する第２の外面５１４を含むことができる。窓部分５２０は、ノッチ５１６及び複数のタング５２２、５２４、５２６、５２８を含むことができる。ノッチ５１６は、窓ハウジング４００及びチャンバフレーム２２３に入力ポート２２７を提供するように構成することができる。
【0098】
[0112] タング５２２、５２４、５２６、５２８は、アパーチャ装置５００（例えば、第２の外面５１４）の周囲をインサート７００に向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成することができる。図５に示すように、タング５２２、５２４、５２６、５２８は、第２の外面５１４上に配置することができる。タング５２２、５２４、５２６、５２８は、清浄ガスがインサート７００のインサートポート７２０に向かって流れるための小さなギャップを提供するために、第２の外面５１４よりも大きな外径を有することができる。第１及び第２のタング５２２、５２４は、第２の外面５１４に沿って互いに分離することができ、第３及び第４のタング５２６、５２８は、第２の外面５１４に沿って互いに分離することができる。いくつかの実施形態では、図５に示すように、第１及び第２のタング５２２、５２４並びに第３及び第４のタング５２６、５２８は対称的に配置することができる（例えば、２回対称、１８０度回転）。いくつかの実施形態では、図５に示すように、第１のタング５２２及び第３のタング５２６は、インサート７００及び／又はハウジングボア４０６（例えば、ハウジングの窪み４１６）に結合するために、前端部５０４（例えば、第１のバッフル５３０）を超えて延びることができる。例えば、第１のタング５２２及び第３のタング５２６は、インサート７００の窪み７１２、７１６と機械的に嵌合するように構成することができる。
【0099】
[0113] セル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８は、（例えば、バッフル５３０、５４０、５５０、５６０、５７０、５８０、及び／又はベンチュリ効果を介して）チャンバ２１１からアパーチャ装置５００を通って光学窓２２８に向かって上流に流れる金属フッ化物塵埃２０８をトラップするように構成することができる。各セル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８は、チャンバ２１１からアパーチャ装置５００を通って光学窓２２８に向かって上流に流れる金属フッ化物塵埃２０８をトラップするように構成することができる（例えば、清浄ガスの下流の流れは、前端部５０４から後端部５０２に向かい、チャンバ２１１からの金属フッ化物塵埃２０８の上流の流れは、後端部５０２から前端部５０４に向かう）。いくつかの実施形態では、セル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８は、チャンバ２１１に向かって前端部５０４から後端部５０２へと減少する外径を有することができる。例えば、図６に示すように、セル５４８はセル５５８よりも大きな直径を有することができ、セル５５８はセル５６８よりも大きな直径を有することができ、セル５６８はセル５７８よりも大きな直径を有することができ、セル５７８はセル５８８よりも大きな直径を有することができる。
【0100】
[0114] 図６に示すように、各セル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８は、対応するバッフル５３０、５４０、５５０、５６０、５７０、５８０から形成され得る。（例えば、前端部５０４における）第１のバッフル５３０は、第１の上部バッフル５３２、第１の下部バッフル５３４、及び第１のアパーチャ５３６を含むことができる。第２のバッフル５４０は、第２の上部バッフル５４２、第２の下部バッフル５４４、及び第２のアパーチャ５４６を含むことができる。第３のバッフル５５０は、第３の上部バッフル５５２、第３の下部バッフル５５４、及び第３のアパーチャ５５６を含むことができる。第４のバッフル５６０は、第４の上部バッフル５６２、第４の下部バッフル５６４、及び第４のアパーチャ５６６を含むことができる。第５のバッフル５７０は、第５の上部バッフル５７２、第５の下部バッフル５７４、及び第５のアパーチャ５７６を含むことができる。（例えば、後端部５０２における）第６のバッフル５８０は、第６の上部バッフル５８２、第６の下部バッフル５８４、及び第６のアパーチャ５８６を含むことができる。第１のセル５４８は、第１のバッフル５３０と第２のバッフル５４０との間に形成でき、第２のセル５５８は、第２のバッフル５４０と第３のバッフル５５０との間に形成でき、第３のセル５６８は、第３のバッフル５５０と第４のバッフル５６０との間に形成でき、第４のセル５７８は、第４のバッフル５６０と第５のバッフル５７０との間に形成でき、第５のセル５８８は、第５のバッフル５７０と第６のバッフル５８０との間に形成できる。
【0101】
[0115] いくつかの実施形態では、アパーチャ５３６、５４６、５５６、５６６、５７６、５８６は同じ直径を有することができる一方で、他の実施形態では、それらの直径は異なる。いくつかの実施形態では、１つ以上のバッフル５３０、５４０、５５０、５６０、５７０、５８０を、アパーチャ装置５００の横軸に対して角度付けすることができる。例えば、図６に示すように、第１のバッフル５３０を、前端部５０４に向かって角度付けすることができ、第６のバッフル５８０を、後端部５０２に向かって角度付けすることができる。
【0102】
[0116] 例示的なインサート
[0117] 図７及び図８は、様々な例示的な実施形態による、インサート７００、７００’の概略斜視図である。図７は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のインサート７００の概略斜視図である。
[0117] 図７及び図８は、様々な例示的な実施形態による、インサート７００、７００’の概略斜視図である。図７は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）のインサート７００の概略斜視図である。
【0103】
[0118] インサート７００は、光学窓２２８に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置５００を通る清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成することができる。インサート７００は、アパーチャ装置５００と光学窓２２８との間に配置することができる。いくつかの実施形態では、光学窓２２８に沿った第１の流量は、アパーチャ装置５００を通る第２の流量以上であり得る。インサート７００が、スタンドアロン型の装置及び／又はシステムとして図７に示されているが、本開示の実施形態は、放射源ＳＯ、リソグラフィ装置１００、１００’、光源装置２００、光増幅器２０６、チャンバ２１１、窓ハウジング装置３００、第１の窓ハウジング装置２１８、第２の窓ハウジング装置２２０、窓ハウジング４００、アパーチャ装置５００、及び／又は他の光学システムなどであるが、これらに限定されない、他の光学システムと共に使用することができる。
【0104】
[0119] 図７に示すように、いくつかの実施形態では、インサート７００は、後端部７０２、前端部７０４、第１の窪み７１２、第２の窪み７１６、インサートポート７２０、及びインサートアパーチャ７３０を含むことができる。後端部７０２は、アパーチャ装置５００（例えば、前端部５０４）に向くことができ、前端部７０４は、光学窓２２８に向くことができる。前端部７０４は、前面７０６を含むことができる。インサート７００は、アパーチャ装置５００の前端部５０４と同様の外径を有することができる。いくつかの実施形態では、インサート７００は、金属（例えば、モネル、ニッケル、ステンレス鋼、アルミニウムなど）、セラミック、及び／又は任意の他の好適な剛性材料を含むことができる。
【0105】
[0120] 第１及び第２の窪み７１２、７１６は、アパーチャ装置５００及びインサート７００を一緒に流体的に密封するために、アパーチャ装置５００の第１及び第３のタング５２２、５２６に機械的に嵌合するように構成することができる。インサートポート７２０は、ハウジングの窪み４１６と嵌合するように、及び／又はハウジングチャネル４１２に向かって流れるように清浄ガスを導くように、構成することができる。インサートアパーチャ７３０は、アパーチャ装置５００（例えば、第１のバッフル５３０）を通って流れるように清浄ガスを導くように構成することができる。いくつかの実施形態では、インサートポート７２０は、アパーチャ装置５００の第１のバッフル５３０と同様（例えば、長方形のアパーチャ）であり得る。例えば、インサートポート７２０の直径は、アパーチャ５３６、５４６、５５６、５６６、５７６、５８６と同じであり得る。
【0106】
[0121] 図８は、例示的な一実施形態による、インサート７００’の概略斜視図である。図７に示すインサート７００の実施形態と、図８に示すインサート７００’の実施形態は、類似していてもよい。図７に示すインサート７００の実施形態の同様の特徴と、図８に示すインサート７００’の実施形態の同様の特徴を示すために、同様の参照番号が使用されている。図７に示すインサート７００の実施形態と、図８に示すインサート７００’の実施形態との差の１つは、インサート７００’が、前面７０６’にインサートチャネル７２２を含み、インサートチャネル７２２は、インサートアパーチャ７３０を通って流れるように清浄ガスの一部分を導き、図７に示すインサート７００の前面７０６よりもむしろ、光学窓２２８の内面２２９に沿った、第１の流量を減少させるように構成されていることである。
【0107】
[0122] 図８に示すように、インサート７００’の例示的な態様はインサートチャネル７２２であり、インサートチャネル７２２は、例えば、ハウジングチャネル４１２、ハウジングポート４１０、及び光学窓２２８に向かって流れている清浄ガスの一部分をインサートアパーチャ７３０に進路変更することにより、インサートアパーチャ７３０を通って流れるように清浄ガスの一部分を導き、光学窓２２８の内面２２９に沿った第１の流量を減少させるように構成されている。いくつかの実施形態では、インサートチャネル７２２は、光学窓２２８に沿った第１の流量を減少させ、アパーチャ装置５００を通る第２の流量を増加させるように構成することができる。例えば、インサートチャネル７２２の断面積（例えば、直径ｄ）は、光学窓２２８の内面２２９に沿った第１の流量減少、及びインサートアパーチャ７３０内への第２の流量の増加に比例し得る（例えば、ｄ４）（例えば、インサートチャネル７２２の直径の減少は、インサートアパーチャ７３０内への第２の流量の減少（例えば、１６倍）、及び光学窓２２８の内面２２９に沿った第１の流量の増加（例えば、１６倍）に比例する）。同様に、インサートチャネル７２２の直径の増加は、光学窓２２８の内面２２９に沿った第１の流量の減少（例えば、１６倍）、及びインサートアパーチャ７３０内への第２の流量の増加（例えば、１６倍）に比例する。インサートチャネル７２２は、ハウジングチャネル４１２、ハウジングポート４１０、及び光学窓２２８に向かって流れる清浄ガスの一部分を、アパーチャ装置５００のインサートアパーチャ７３０及び第１のバッフル５３０に進路変更させ、したがって、光学窓２２８への第１の流量を減少させ、アパーチャ装置５００を通る第２の流量を増加させることができる。
【0108】
[0123] 例示的な流れ分布
[0124] 図９は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の流れ分布９００を示す概略図である。図９に示すように、流れ分布９００は、第１の流れ位置９０２（例えば、入力ポート２２７）、第２の流れ位置９０４（例えば、ハウジングボアアンダーカット４０８）、第３の流れ位置９０６（例えば、窓部分５２０の周囲）、第４の流れ位置９０８（例えば、ハウジングチャネル４１２を通る）、第５の流れ位置９１０（例えば、ハウジングポート４１０を通り、光学窓２２８の内面２２９に沿って）、及び第６の流れ位置９１２（例えば、インサート７００及びアパーチャ装置５００を通る）を含む。窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）内の清浄ガス流の方向（例えば、流れ分布９００）は、連続する流れ位置９０２、９０４、９０６、９０８、９１０、９１２に従う。いくつかの実施形態では、流れ分布９００は、光学窓２２８上の金属フッ化物塵埃付着を減らすために、光学窓２２８の内面２２９全体に沿って延びている。
[0124] 図９は、例示的な一実施形態による、図３に示す窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）の流れ分布９００を示す概略図である。図９に示すように、流れ分布９００は、第１の流れ位置９０２（例えば、入力ポート２２７）、第２の流れ位置９０４（例えば、ハウジングボアアンダーカット４０８）、第３の流れ位置９０６（例えば、窓部分５２０の周囲）、第４の流れ位置９０８（例えば、ハウジングチャネル４１２を通る）、第５の流れ位置９１０（例えば、ハウジングポート４１０を通り、光学窓２２８の内面２２９に沿って）、及び第６の流れ位置９１２（例えば、インサート７００及びアパーチャ装置５００を通る）を含む。窓ハウジング装置３００（例えば、第２の窓ハウジング装置２２０）内の清浄ガス流の方向（例えば、流れ分布９００）は、連続する流れ位置９０２、９０４、９０６、９０８、９１０、９１２に従う。いくつかの実施形態では、流れ分布９００は、光学窓２２８上の金属フッ化物塵埃付着を減らすために、光学窓２２８の内面２２９全体に沿って延びている。
【0109】
[0125] いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００内の流れ分布９００は、層流又は層流に近い流れであり得る。例えば、光学窓２２８の内面２２９に沿った流れ分布９００は、内面２２９上に形成されるいかなる熱境界層をも破壊するために、層流又は層流に近い流れであり得る。いくつかの実施形態では、窓ハウジング装置３００内の流れ分布９００は、高流量であり得る（例えば、約１００ｓｃｃｍを超える）。例えば、光学窓２２８の内面２２９に沿った流れ分布９００は、内面２２９の近くのいかなる金属フッ化物塵埃付着２０８にも短い滞留（滞在）時間をもたらすことができる。
【0110】
[0126] 例示的なフロー図
[0127] 図１０は、一実施形態による、窓ハウジング装置３００内の金属フッ化物塵埃付着２０８を減らすための流れ図１０００を示す。本明細書で提供される開示を実行するために、図１０の全てのステップが必要とは限らないことを理解されたい。更に、いくつかのステップは、同時に、連続して、及び／又は図１０に示すものとは異なる順序で実行されてもよい。流れ図１０００は、図２～図９を参照して説明されることになる。しかしながら、流れ図１０００は、それらの例示的な実施形態に限定されない。
[0127] 図１０は、一実施形態による、窓ハウジング装置３００内の金属フッ化物塵埃付着２０８を減らすための流れ図１０００を示す。本明細書で提供される開示を実行するために、図１０の全てのステップが必要とは限らないことを理解されたい。更に、いくつかのステップは、同時に、連続して、及び／又は図１０に示すものとは異なる順序で実行されてもよい。流れ図１０００は、図２～図９を参照して説明されることになる。しかしながら、流れ図１０００は、それらの例示的な実施形態に限定されない。
【0111】
[0128] ステップ１００２において、図２、図３、及び図９の例に示すように、ＭＦＴ２８０から窓ハウジング装置３００の入力ポート２２７を通って流れるように、（例えば、無塵の）清浄ガスを導くことができる。例えば、ステップ１００２は、図９に示す第１の流れ位置９０２を含むことができる。いくつかの実施形態では、ステップ１００２は、ＭＦＴ２８０の入力ポート２２７と出力ポート２２４との間に配置されたプラグ２２５のボア２２６を通って流れるように、清浄ガスを導くことを含むことができ、ボア２２６の直径は、窓ハウジング装置３００内への清浄ガスの流量を制御するように構成することができる。
【0112】
[0129] ステップ１００４において、図２～図９の例に示すように、窓ハウジング装置３００の窓ハウジング４００内のアパーチャ装置５００の周囲を、アパーチャ装置５００と光学窓２２８との間に配置されたインサート７００に向かって流れるように、（例えば、無塵の）清浄ガスを導くことができる。例えば、ステップ１００４は、図９に示す第２及び第３の流れ位置９０４、９０６を含むことができる。いくつかの実施形態では、ステップ１００４は、アパーチャ装置５００の第２の外面５１４上に配置されたタング５２２、５２４、５２６、５２８を通って流れるように、清浄ガスを導くことを含むことができる。いくつかの実施形態では、ステップ１００４は、インサート７００’内のインサートチャネル７２２を通って流れるように、清浄ガスを導くことを更に含むことができる。
【0113】
[0130] ステップ１００６において、図２～図９の例に示すように、窓ハウジング４００のハウジングチャネル４１２及びハウジングポート４１０を通って光学窓２２８の内面２２９に沿って流れるように、（例えば、無塵の）清浄ガスを導くことができる。例えば、ステップ１００６は、図９に示す第４及び第５の流れ位置９０８、９１０を含むことができる。いくつかの実施形態では、ステップ１００６は、光学窓２２８の内面２２９全体に沿ってハウジングチャネル４１２及びハウジングポート４１０から流れるように、清浄ガスを導くことを含むことができる。
【0114】
[0131] ステップ１００８において、図２～図９の例に示すように、光学窓２２８からアパーチャ装置５００を通って流れるように、（例えば、無塵の）清浄ガスを導くことができる。例えば、ステップ１００８は、図９に示す第６の流れ位置９１２を含むことができる。いくつかの実施形態では、ステップ１００８は、光学窓２２８の内面２２９からアパーチャ装置５００に向かって、アパーチャ装置５００の前端部５０４から後端部５０２へと直径が減少するセル５４８、５５８、５６８、５７８、５８８を通って流れるように、清浄ガスを導くことを含むことができる。
【0115】
[0132] 本明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的に言及されている可能性があるが、本明細書で説明するリソグラフィ装置は、磁区メモリ、フラットパネルディスプレイ、ＬＣＤ、薄膜磁気ヘッド等のためのガイダンス及び検出パターン、集積光学システムの製造などの、他の用途を有することがあることを理解されたい。当業者であれば、そのような代替の用途の文脈において、本明細書での「ウェーハ」又は「ダイ」という用語の使用は、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」というより一般的な用語の同義としてみなすことができることを、理解するであろう。本明細書で言及される基板は、露光の前又は後で、例えば、トラックユニット（通常、レジストの層を基板に塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、計測ユニット及び／又は検査ユニットで処理されることがある。適用可能である場合、本明細書の開示は、そのような他の基板処理ツールに適用することができる。更に、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために２度以上処理されることがあり、その結果、本明細書で使用する基板という用語は、複数の処理済層を既に包含している基板を指すこともある。
【0116】
[0133] 光リソグラフィに関連して、実施形態の使用について上記で具体的に言及してきたが、実施形態は他の用途、例えばインプリントリソグラフィにおいても使用することができ、状況が許せば、光リソグラフィに限定はされないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが、基板上に生成されるパターンを規定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジストの層にプレスされることがあり、基板上では、電磁放射、熱、圧力、又はそれらの組み合わせを印加することにより、レジストが硬化される。パターニングデバイスはレジストから外部に移動され、レジストが硬化された後でレジストにパターンを残す。
【0117】
[0134] 本明細書の語句又は用語は、説明の目的のためのものであり、限定するものではなく、本明細書の用語又は語句は、関連技術分野の当業者によって、本明細書の教示に照らし合わせて解釈されるべきものであることを、理解されたい。
【0118】
[0135] 本明細書で使用される場合、「基板」という用語は、その上に材料層が追加される材料を表す。いくつかの実施形態では、基板自体がパターン形成されてもよく、基板の上部に追加された材料もまたパターン形成されてもよく、又はパターン形成されないままであってもよい。
【0119】
[0136] 以下の例は、本開示の実施形態の例示であるが、限定するものではない。当分野で通常遭遇する、及び関連技術分野の当業者には明らかとなるであろう、様々な条件及びパラメータの他の好適な修正及び適合が、本開示の趣旨及び範囲内にある。
【0120】
[0137] 本明細書では、ＩＣの製造における装置及び／又はシステムの使用について具体的に言及されている場合があるが、そのような装置及び／又はシステムには多くの他の可能な用途があることを明確に理解すべきである。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンス及び検出パターン、ＬＣＤパネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造に使用できる。当業者であれば、そのような代替の用途との関連において、本明細書における「レチクル」、「ウェーハ」、又は「ダイ」という用語の使用は、それぞれ、「マスク」、「基板」、及び「ターゲット部分」という、より一般的な用語で置き換えられると考えるべきであることを理解するであろう。
【0121】
[0138] 具体的な実施形態について上記で説明したが、本実施形態は、説明したものとは別の態様で実施されてもよいことが理解されるであろう。説明は、特許請求の範囲を限定することを意図したものではない。
【0122】
[0139] 「発明の概要」及び「要約」の章ではなく、「発明を実施するための形態」の章が、請求項を解釈するために使用されるように意図されていることを理解されたい。「発明の概要」及び「要約」の章は、発明者らによって企図された例示的な実施形態の、全てではないが１つ又は複数を記載していることがあり、従って、いかなる態様でも、実施形態及び添付の特許請求の範囲を限定することを意図していない。
【0123】
[0140] 具体的な機能の実装及びそれらの関係を示す機能的構成ブロックの助けを借りて実施形態を上述してきた。これらの機能的構成ブロックの境界は、説明の便宜上、本明細書では任意に規定される。特定の機能及びそれらの関係が適切に実行される限り、代替の境界を規定することができる。
【0124】
[0141] 特定の実施形態についての前述の説明は、実施形態の一般的性質を完全に明らかにしているので、当分野の技術の範疇の知識を応用することによって、他者が、実施形態の一般的な概念から逸脱することなく、不適当な実験を行うことなしに、そのような特定の実施形態を容易に修正する及び／又は様々な用途へ適合させることができる。従って、そのような適合及び修正は、本明細書で提示された教示及び指導に基づいて、開示された実施形態の均等物の趣旨及び範囲の内部にあることが意図されている。
【0125】
[0142] 本発明の他の態様が、以下の番号付けされた条項に記載される。
条項１．
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
チャンバに結合され、チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている、金属フッ化物トラップと、
チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている、窓ハウジング装置のセットと、を備える光源装置であって、各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、アパーチャ装置を通って光学窓に向かってチャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
アパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートであって、インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備える、光源装置。
条項２．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている、条項１に記載の光源装置。
条項３．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させ、アパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、条項１に記載の光源装置。
条項４．
チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加とに比例する、条項３に記載の光源装置。
条項５．
窓ハウジング装置は、窓ハウジングの入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置された、ボアを有するプラグを更に備える、条項１に記載の光源装置。
条項６．
プラグ及び出力ポートは、チャンバのフレーム内に配置されている、条項５に記載の光源装置。
条項７．
複数のタングが、アパーチャ装置の外面に配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成され、複数のタングは、アパーチャ装置の外面よりも大きい外径を有して、清浄ガスが貫流するためのギャップを提供する、条項１に記載の光源装置。
条項８．
窓ハウジングは、清浄ガスを光学窓に沿ってフラッシュするように構成されたチャネルを備える、条項１に記載の光源装置。
条項９．
窓ハウジングは、光学窓からのフレネル反射を捕捉及び吸収して光学窓にとって所望の反射－透過比を実現するように構成されたフレネルビーム捕捉ポケットを備える、条項１に記載の光源装置。
条項１０．
ガス放電媒体は、エキシマ及び／又はエキシプレックスを含む、条項１に記載の光源装置。
条項１１．
ガス放電媒体は、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、及び／又はＸｅＦを含む、条項１０に記載の光源装置。
条項１２．
チャンバの周囲に光共振器を形成するように構成された光学要素のセットを更に備える、条項１に記載の光源装置。
条項１３．
光学要素のセットは、
第１の窓ハウジング装置に光学的につながった光結合器と、
第２の窓ハウジング装置に光学的につながった線幅狭隘化モジュールとを備える、条項１２に記載の光源装置。
条項１４．
光学要素のセットは、
第１の窓ハウジング装置に光学的につながった波面エンジニアリングボックスと、
第２の窓ハウジング装置に光学的につながったビーム反転器とを備える、条項１２に記載の光源装置。
条項１５．
インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量が、光学窓の内面に沿った熱境界層を減らすように構成されるように構成されている、条項１に記載の光源装置。
条項１６．
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された窓ハウジング装置であって、窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、アパーチャ装置を通って光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
アパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートであって、
インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、
を備える、窓ハウジング装置。
条項１７．
窓ハウジングは、窓ハウジング内に、アパーチャ装置及びインサートを受け取るように構成されたボアを含む、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項１８．
ボアは、窓ハウジング装置内の清浄ガスの体積を増加させるように構成されたアンダーカット及び／又は窪みを備える、条項１７に記載の窓ハウジング装置。
条項１９．
窓ハウジングは、清浄ガスがアパーチャ装置を通って流れる前に、光学窓に沿って流れるように導くように構成されたチャネルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２０．
複数のタングがアパーチャ装置の外面に沿って配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成されており、複数のタングは対称的に配置されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２１．
アパーチャ装置の複数のタングは、インサート内の複数の窪みに機械的に嵌合する、条項２０に記載の窓ハウジング装置。
条項２２．
アパーチャ装置は複数のセルを備え、各セルは、チャンバからアパーチャ装置を通って光学窓に向かって上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２３．
アパーチャ装置は、チャンバに向かって前端部から後端部へと減少する直径を有する少なくとも５つのセルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２４．
窓ハウジング装置は、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２５．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させアパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２６．
チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加とに比例する、条項２５に記載の窓ハウジング装置。
条項２７．
窓ハウジング装置内の光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らす方法であって、方法は、
金属フッ化物トラップから窓ハウジング装置の入力ポートを通って流れるように、清浄ガスを導くことと、
窓ハウジング装置の窓ハウジング内に配置されたアパーチャ装置の周囲をアパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くことと、
窓ハウジング内のチャネルを通って光学窓の内面に沿って流れるように、清浄ガスを導くことと、
光学窓からアパーチャ装置を通って流れるように、清浄ガスを導くことと、を含む方法。
条項２８．
金属フッ化物トラップから流れるように清浄ガスを導くことは、入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置されたプラグのボアを通って流れるように清浄ガスを導くことを含み、ボアの直径は、窓ハウジング装置内への清浄ガスの流量を制御するように構成されている、条項２７に記載の方法。
条項２９．
アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の外面に配置された複数のタングを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３０．
アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、インサート内のチャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３１．
チャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことは、光学窓の内面の全体に沿ってチャネルから流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３２．
光学窓から流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の前端部から後端部へと減少する直径を有する複数のセルを通って光学窓の内面からアパーチャ装置に向かって流れるように、清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３３．
光学窓は、光ビームを出力するガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバの一部分を形成し、ガス放電媒体に光ビームを生成させることを更に含む、条項２７に記載の方法。
条項１．
ガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバであって、ガス放電媒体は光ビームを出力する、チャンバと、
チャンバに結合され、チャンバから発生した金属フッ化物塵埃をトラップし、出力ポートに沿って清浄ガスを供給するように構成されている、金属フッ化物トラップと、
チャンバに結合され、光学窓上への金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成されている、窓ハウジング装置のセットと、を備える光源装置であって、各窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、アパーチャ装置を通って光学窓に向かってチャンバから上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
アパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートであって、インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、を備える、光源装置。
条項２．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている、条項１に記載の光源装置。
条項３．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させ、アパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、条項１に記載の光源装置。
条項４．
チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加とに比例する、条項３に記載の光源装置。
条項５．
窓ハウジング装置は、窓ハウジングの入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置された、ボアを有するプラグを更に備える、条項１に記載の光源装置。
条項６．
プラグ及び出力ポートは、チャンバのフレーム内に配置されている、条項５に記載の光源装置。
条項７．
複数のタングが、アパーチャ装置の外面に配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成され、複数のタングは、アパーチャ装置の外面よりも大きい外径を有して、清浄ガスが貫流するためのギャップを提供する、条項１に記載の光源装置。
条項８．
窓ハウジングは、清浄ガスを光学窓に沿ってフラッシュするように構成されたチャネルを備える、条項１に記載の光源装置。
条項９．
窓ハウジングは、光学窓からのフレネル反射を捕捉及び吸収して光学窓にとって所望の反射－透過比を実現するように構成されたフレネルビーム捕捉ポケットを備える、条項１に記載の光源装置。
条項１０．
ガス放電媒体は、エキシマ及び／又はエキシプレックスを含む、条項１に記載の光源装置。
条項１１．
ガス放電媒体は、Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦ、及び／又はＸｅＦを含む、条項１０に記載の光源装置。
条項１２．
チャンバの周囲に光共振器を形成するように構成された光学要素のセットを更に備える、条項１に記載の光源装置。
条項１３．
光学要素のセットは、
第１の窓ハウジング装置に光学的につながった光結合器と、
第２の窓ハウジング装置に光学的につながった線幅狭隘化モジュールとを備える、条項１２に記載の光源装置。
条項１４．
光学要素のセットは、
第１の窓ハウジング装置に光学的につながった波面エンジニアリングボックスと、
第２の窓ハウジング装置に光学的につながったビーム反転器とを備える、条項１２に記載の光源装置。
条項１５．
インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量が、光学窓の内面に沿った熱境界層を減らすように構成されるように構成されている、条項１に記載の光源装置。
条項１６．
光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らすように構成された窓ハウジング装置であって、窓ハウジング装置は、
光学窓を支持している窓ハウジングと、
窓ハウジングに結合されたアパーチャ装置であって、アパーチャ装置を通って光学窓に向かって流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成された複数のセルを備える、アパーチャ装置と、
アパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートであって、
インサートは、光学窓に沿った清浄ガスの第１の流量と、アパーチャ装置を通る清浄ガスの第２の流量とを制御するように構成されている、インサートと、
を備える、窓ハウジング装置。
条項１７．
窓ハウジングは、窓ハウジング内に、アパーチャ装置及びインサートを受け取るように構成されたボアを含む、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項１８．
ボアは、窓ハウジング装置内の清浄ガスの体積を増加させるように構成されたアンダーカット及び／又は窪みを備える、条項１７に記載の窓ハウジング装置。
条項１９．
窓ハウジングは、清浄ガスがアパーチャ装置を通って流れる前に、光学窓に沿って流れるように導くように構成されたチャネルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２０．
複数のタングがアパーチャ装置の外面に沿って配置され、アパーチャ装置の周囲をインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くように構成されており、複数のタングは対称的に配置されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２１．
アパーチャ装置の複数のタングは、インサート内の複数の窪みに機械的に嵌合する、条項２０に記載の窓ハウジング装置。
条項２２．
アパーチャ装置は複数のセルを備え、各セルは、チャンバからアパーチャ装置を通って光学窓に向かって上流に流れる金属フッ化物塵埃をトラップするように構成されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２３．
アパーチャ装置は、チャンバに向かって前端部から後端部へと減少する直径を有する少なくとも５つのセルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２４．
窓ハウジング装置は、光学窓に沿った第１の流量が、アパーチャ装置を通る第２の流量以上になるように構成されている、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２５．
インサートは、光学窓に沿った第１の流量を減少させアパーチャ装置を通る第２の流量を増加させるように構成されたチャネルを備える、条項１６に記載の窓ハウジング装置。
条項２６．
チャネルの断面積は、第１の流量の減少と、第２の流量の増加とに比例する、条項２５に記載の窓ハウジング装置。
条項２７．
窓ハウジング装置内の光学窓上の金属フッ化物塵埃付着を減らす方法であって、方法は、
金属フッ化物トラップから窓ハウジング装置の入力ポートを通って流れるように、清浄ガスを導くことと、
窓ハウジング装置の窓ハウジング内に配置されたアパーチャ装置の周囲をアパーチャ装置と光学窓との間に配置されたインサートに向かって流れるように、清浄ガスを導くことと、
窓ハウジング内のチャネルを通って光学窓の内面に沿って流れるように、清浄ガスを導くことと、
光学窓からアパーチャ装置を通って流れるように、清浄ガスを導くことと、を含む方法。
条項２８．
金属フッ化物トラップから流れるように清浄ガスを導くことは、入力ポートと金属フッ化物トラップの出力ポートとの間に配置されたプラグのボアを通って流れるように清浄ガスを導くことを含み、ボアの直径は、窓ハウジング装置内への清浄ガスの流量を制御するように構成されている、条項２７に記載の方法。
条項２９．
アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の外面に配置された複数のタングを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３０．
アパーチャ装置の周囲を流れるように清浄ガスを導くことは、インサート内のチャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３１．
チャネルを通って流れるように清浄ガスを導くことは、光学窓の内面の全体に沿ってチャネルから流れるように清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３２．
光学窓から流れるように清浄ガスを導くことは、アパーチャ装置の前端部から後端部へと減少する直径を有する複数のセルを通って光学窓の内面からアパーチャ装置に向かって流れるように、清浄ガスを導くことを含む、条項２７に記載の方法。
条項３３．
光学窓は、光ビームを出力するガス放電媒体を保持するように構成されたチャンバの一部分を形成し、ガス放電媒体に光ビームを生成させることを更に含む、条項２７に記載の方法。
【0126】
[0143] 実施形態の広さ及び範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、以降の請求項及びそれらの均等物に従ってのみ、規定されるべきである。
【図1A】
【図1B】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】