特許7416062レジスト下層膜形成組成物

発明の名称　レジスト下層膜形成組成物

出願人　日産化学工業株式会社　（識別番号 3986）

　　　　特許公開件数ランキング 399 位（78件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 205 位（148件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7416062

公報発行日　2024年1月17

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7416062

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