発明の名称 リソグラフィプロセスのサブフィールド制御及び関連する装置
出願人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. (識別番号 504151804)
特許公開件数ランキング 226 位(142件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 338 位(77件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7431319
公報発行日 2024年2月14
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7431319
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