特許7432904酸化ガリウム半導体膜及び原料溶液

発明の名称　酸化ガリウム半導体膜及び原料溶液

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（374件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（372件）（共同出願を含む）

出願人　国立大学法人　和歌山大学　（識別番号 504145283）

　　　　特許公開件数ランキング 3806 位（7件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 9018 位（5件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7432904

公報発行日　2024年2月19

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7432904

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