(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-02-09
(45)【発行日】2024-02-20
(54)【発明の名称】メモリビットセルの電圧調整システム
(51)【国際特許分類】
H02M 3/155 20060101AFI20240213BHJP
【FI】
H02M3/155 H
(21)【出願番号】P 2021570330
(86)(22)【出願日】2020-05-27
(86)【国際出願番号】 US2020034712
(87)【国際公開番号】W WO2020243179
(87)【国際公開日】2020-12-03
【審査請求日】2023-04-07
(32)【優先日】2019-05-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】591016172
【氏名又は名称】アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
【氏名又は名称原語表記】ADVANCED MICRO DEVICES INCORPORATED
(74)【代理人】
【識別番号】100108833
【氏名又は名称】早川 裕司
(74)【代理人】
【識別番号】100111615
【氏名又は名称】佐野 良太
(74)【代理人】
【識別番号】100162156
【氏名又は名称】村雨 圭介
(72)【発明者】
【氏名】ミゲル ロドリゲス
(72)【発明者】
【氏名】ステファン ヴィクトル コソノキー
(72)【発明者】
【氏名】ケイシー リー ハーディ
【審査官】栗栖 正和
(56)【参考文献】
【文献】特開2000-293241(JP,A)
【文献】特開平07-038056(JP,A)
【文献】特開平09-285106(JP,A)
【文献】特開2010-231853(JP,A)
【文献】特開2014-187764(JP,A)
【文献】特開平10-247386(JP,A)
【文献】特開昭60-046766(JP,A)
【文献】特開平04-295270(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H02M 3/155
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
1つ以上のコンパレータと、
制御論理と、
電力ステージ回路と、を備え、
前記制御論理は、
第1の供給電圧レールを受け取ることと、
前記第1の供給電圧レールを1つ以上の閾値電圧と比較することに基づいて前記1つ以上のコンパレータによって生成された1つ以上の比較信号を受信することと、
前記1つ以上の比較信号に基づいて1つ以上のモード制御信号を生成すること
であって、前記1つ以上のモード制御信号は、1つ以上のモードインジケータと、バイパスイネーブルインジケータと、電圧基準選択インジケータと、を含む、ことと、
を行うように構成されており、
前記電力ステージ回路は、
前記1つ以上のモード制御信号を受信することと、
前記第1の供給電圧レールから第2の供給電圧レールを生成することであって、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記1つ以上のモード制御信号に基づいており、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記第1の供給電圧レールの電圧レベルに対して大きい、小さい、又は、同等のレベルとすることができる、ことと、
前記第2の供給電圧レールを用いて1つ以上のデバイスに電力を供給することと、
を行うように構成されている、
回路。
【請求項2】
前記制御論理は、前記1つ以上の比較信号に基づいて、ステップダウンモード、ステップアップモード又はバイパスモードのうち何れかを選択するように構成されており、前記電力ステージ回路は、前記制御論理による選択に基づいて、前記ステップダウンモード、ステップアップモード又はバイパスモードで動作するように構成されている、
請求項1の回路。
【請求項3】
第1のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも高く、第2のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも低い、
請求項1の回路。
【請求項4】
前記
電圧基準選択インジケータは、目標となる調整された電圧を決定するための閾値を決定する、
請求項1の回路。
【請求項5】
前記
第1の供給電圧レールは、少なくとも1つのプロセッサへの供給電圧である、
請求項
1の回路。
【請求項6】
前記第2の供給電圧レールは、少なくとも1つ以上の第2のデバイスへの供給電圧であり、前記1つ以上の第2のデバイスは、少なくとも1つのメモリデバイスを含む、
請求項
5の回路。
【請求項7】
第1の供給電圧レールを受け取ることと、
前記第1の供給電圧レールを1つ以上の閾値電圧と比較することに基づいて1つ以上のコンパレータによって生成された1つ以上の比較信号を受信することと、
前記1つ以上の比較信号に基づいて1つ以上のモード制御信号を生成すること
であって、前記1つ以上のモード制御信号は、1つ以上のモードインジケータと、バイパスイネーブルインジケータと、電圧基準選択インジケータと、を含む、ことと、
前記第1の供給電圧レールから第2の供給電圧レールを生成することであって、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記1つ以上のモード制御信号に基づいており、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記第1の供給電圧レールの電圧レベルに対して大きい、小さい、又は、同等のレベルとすることができる、ことと、
前記第2の供給電圧レールを用いて1つ以上のデバイスに電力を供給することと、を含む、
方法。
【請求項8】
制御論理が、前記1つ以上の比較信号に基づいて、ステップダウンモード、ステップアップモード又はバイパスモードのうち何れかを選択することと、
前記制御論理による選択に基づいて、電力ステージ回路を、ステップダウンモード、ステップアップモード又はバイパスモードで動作させることと、を含む、
請求項
7の方法。
【請求項9】
第1のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも高く、第2のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも低い、
請求項
7の方法。
【請求項10】
前記
電圧基準選択インジケータは、目標となる調整された電圧を決定するための閾値を決定する、
請求項
7の
方法。
【請求項11】
前記
第1の供給電圧レールは、少なくとも1つのプロセッサへの供給電圧である、
請求項
10の方法。
【請求項12】
前記第2の供給電圧レールは、少なくとも1つ以上の第2のデバイスへの供給電圧であり、前記1つ以上の第2のデバイスは、少なくとも1つのメモリを含む、
請求項
11の方法。
【請求項13】
第1の供給電圧レールによって電力供給される少なくとも1つのプロセッサと、
第2の供給電圧レールによって電力供給される少なくとも1つのメモリデバイスと、
電圧調整モジュールと、を備えるシステムであって、
前記電圧調整モジュールは、
前記第1の供給電圧レールを受け取ることと、
前記第1の供給電圧レールを1つ以上の閾値電圧と比較することに基づいて1つ以上の比較信号を生成することと、
前記1つ以上の比較信号に基づいて1つ以上のモード制御信号を生成すること
であって、前記1つ以上のモード制御信号は、1つ以上のモードインジケータと、バイパスイネーブルインジケータと、電圧基準選択インジケータと、を含む、ことと、
前記第1の供給電圧レールから前記第2の供給電圧レールを生成することであって、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記1つ以上のモード制御信号に基づいており、前記第2の供給電圧レールの電圧レベルは、前記第1の供給電圧レールの電圧レベルに対して大きい、小さい、又は、同等のレベルとすることができる、ことと、
を行うように構成されている、
システム。
【請求項14】
前記1つ以上のモードインジケータは、複数の位相インターリーブチャネルモジュール内の複数のデコーダに結合されている、
請求項
13のシステム。
【請求項15】
前記電圧調整モジュールは、前記1つ以上の比較信号に基づいて、ステップダウンモード、ステップアップモード又はバイパスモードで動作するように構成されている、
請求項
13のシステム。
【請求項16】
第1のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも高く、第2のモードにおいて、前記第2の供給電圧レールは前記第1の供給電圧レールよりも低い、
請求項
13のシステム。
【請求項17】
前記電圧調整モジュールは、前記1つ以上のモード制御信号に基づいて、複数の位相インターリーブ技術のうち所定の位相インターリーブ技術を使用するように構成された電力ステージ回路を含む、
請求項
13のシステム。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【0001】
(関連技術の説明)
現代の半導体チップは、異なる供給電圧要件を有する様々な回路及び構成要素を含む。例えば、半導体チップ(例えば、システムオンチップ(SoC))は、プロセッサやメモリビットセルアレイ等の多くの構成要素を含む。プロセッサへの供給電圧を、本明細書では「論理電圧(logic voltage)」と呼ぶことに留意されたい。メモリビットセルに電力を供給するための現在のソリューションは、2つのカテゴリに大別される。メモリビットセル電圧が論理電圧に接続されているか、メモリに別の電圧レールが使用されるかである。論理電圧をメモリビットセル電圧に接続すると、最大論理電圧と最小論理電圧が制限され、システムパフォーマンスに大きな影響を与える。別の電圧レールが使用される場合、別の電圧レールを外部又は内部で生成することができる。外部での生成は、パッケージと基板のリソースを費やし、コストと複雑さを増大させる。内部での生成は、通常、リニア電圧レギュレータを介して実現され、リニア電圧レギュレータは、所望の最大メモリビットセル電圧よりも高い個別の電圧レールを必要とする。このことは、パッケージとダイのレイアウトを複雑にするだけでなく、追加的な供給電圧を必要とする。また、ドロップアウトが大きい場合、リニア電圧レギュレータは非効率である。
【0002】
添付の図面と併せて以下の説明を参照することによって、本明細書に記載される方法及びメカニズムの利点をより良く理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【0003】
【
図1】汎用コンピューティングシステム(generic computing system)の一実施形態のブロック図である。
【
図2】コンピューティングシステムの一実施形態のブロック図である。
【
図3】電圧調整モジュールを実装するための回路の一部の一実施形態のブロック図である。
【
図4】コンピューティングシステム内の電圧調整モジュール回路の一実施形態のブロック図である。
【
図5】一実施形態による、電圧調整モジュールで使用される電力ステージ回路(power stage circuitry)の図である。
【
図6】電力ステージ回路の一実施形態を示す図である。
【
図7】論理電圧(VDD)に対してプロットされたメモリ電圧(VDDM)の異なる実施形態のグラフである。
【
図8】2つの供給電圧レールのうち何れがより高い電圧を有するかを決定するための高電圧(VHIGH)セレクタ回路の一実施形態を示す図である。
【
図9】1つ以上のプログラム可能な閾値に基づいて、入力電圧レールから生成された出力電圧レールを動的に調整する方法の一実施形態を示す一般化されたフロー図である。
【
図10】入力供給電圧レールよりも小さいダイナミックレンジを有する出力供給電圧レールを生成する方法の一実施形態を示す一般化されたフロー図である。
【
図11】電圧調整回路においてトランジスタ幅を動的に調整する方法の一実施形態を示す一般化されたフロー図である。
【
図12】回路表現を記憶する非一時的なコンピュータ可読記憶媒体の一実施形態を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0004】
以下の説明では、本明細書に示される方法及びメカニズムの十分な理解を提供するために、多数の具体的な詳細が示されている。しかしながら、当業者は、これらの具体的な詳細無しに様々な実施形態を実施できることを認識すべきである。本明細書に記載されたアプローチを曖昧にすることを避けるために、場合によっては、周知の構造、構成要素、信号、コンピュータプログラム命令及び技術が詳細に示されていない。説明を簡単且つ明確にするために、図面に示される要素は必ずしも縮尺通りに描かれていないことを理解されたい。例えば、いくつかの要素の寸法は、他の要素に比べて誇張されている場合がある。
【0005】
論理電圧レールからメモリビットセル電圧レールを動的に生成するための様々なシステム、装置及び方法が開示される。一実施形態では、電圧調整モジュールは、少なくとも1つ以上のコンパレータと、制御論理と、電力ステージ回路と、を含む。モジュールは、入力電圧レールを受け取り、1つ以上のコンパレータを使用して、入力電圧レールを1つ以上の閾値電圧と比較する。コンパレータ(複数可)からの比較信号(複数可)は、制御論理に結合される。制御論理は、比較信号に基づいて、及び、出力電圧レールに望ましいプログラム可能なダイナミックレンジに基づいて、モード制御信号を生成する。モード制御信号は、出力電圧レールの特定の電圧レベルを設定するために、電力ステージ回路に提供される。一実施形態では、出力電圧レールは、1つ以上のメモリビットセルアレイに供給するために使用される。出力電圧レールは、入力電圧レールよりも大きいか、小さいか、同等であり得る。一実施形態では、電力ステージ回路は、複数の再構成可能なスイッチトキャパシタ(switched-capacitors)を含む。別の実施形態では、電力ステージ回路は、複数の再構成可能なインダクタを含む。
【0006】
一般に、メモリビットセル電圧レールに対してより高い又はより低い電圧を論理電圧レールから生成することができる。様々な実施形態において、電圧調整モジュールは、論理電圧レールとメモリビットセル電圧レールとの間の変換比を動的に変更する機能を備えている。変換比の変更は、論理電圧レールの電圧レベルと、メモリビットセル電圧レールの所望の目標電圧レベルと、に基づいている。一実施形態では、電圧調整モジュールは、動作中に複数の異なるモードを切り替える。モードは、論理電圧レールの電圧レベルの変化を検出することに応じて自動的に切り替わる。モードを切り替えるための閾値はプログラム可能である。様々な実施形態において、電圧調整モジュールは、プログラムされた閾値に基づいて、(論理電圧とメモリビットセル電圧との間の)電圧変換比を変更する。
【0007】
様々な実施形態において、論理電圧レールは、プロセッサの電力管理命令によって、又は、プロセッサの動作モードの変化によって変わり得る。一実施形態では、メモリビットセルは、プロセッサのダイナミックレンジの全体を有しない。場合によっては、メモリビットセルは、変動する電力供給電圧で動作するためのダイナミックレンジがプロセッサよりも小さい。例えば、一実施形態では、メモリビットセルは、最小電圧レベルが論理電圧の最小電圧レベルよりも高く、メモリビットセルは、最大電圧レベルが論理電圧の最大電圧レベルよりも低い。そのため、メモリビットセル電圧レールのための供給電圧を論理電圧レールから引き出すのは困難であり得る。したがって、一実施形態では、電圧調整モジュールは、論理電圧を、比較的大きなダイナミックレンジから、メモリビットセルに供給するための比較的小さなダイナミックレンジに変換する。
【0008】
図1を参照すると、汎用コンピューティングシステム100の一実施形態のブロック図が示されている。一実施形態では、コンピューティングシステム100は、少なくとも第1のデバイス110と、電圧調整モジュール120と、第2のデバイス130と、を含む。コンピューティングシステム100は、図を曖昧にすることを避けるために図示されていない任意の数の他のデバイスを含むことができることに留意されたい。一実施形態では、第1のデバイス110は、第1の電圧レール115によって供給され、第2のデバイス130は、第2の電圧レール125によって供給される。電圧調整モジュール120は、第1の電圧レール115から第2の電圧レール125を生成し、第2の電圧レール125は、第1の電圧レール115よりも大きいか、小さいか、同等の電圧であり得る。
【0009】
一実施形態では、第1のデバイス110はプロセッサであり、第2のデバイス130はメモリデバイス(例えば、1つ以上のメモリビットセルアレイ)である。この実施形態では、メモリビットセル電圧(Vddm)は、論理電圧(Vdd)から生成され、Vddmの設定点は、システムのパフォーマンス及び電力を最適化するために、Vddよりも大きいか、小さいか、追従する(track)ことができる。他の実施形態では、第1のデバイス110は別のタイプのデバイスであり、及び/又は、第2のデバイス130は別のタイプのデバイスである。一実施形態では、電圧調整モジュール120はプログラム可能であり、第2の電圧レール125のダイナミックレンジを、第2のデバイス130の所望の動作範囲に基づいて設定することができる。様々な実施形態では、電圧調整モジュール120は、1つ以上のコンパレータと、制御論理と、電力ステージ回路と、を含む。一実施形態では、電力ステージ回路は、スイッチトキャパシタブーストを使用する。別の実施形態では、電力状態回路は、集積インダクタを使用する。他の実施形態では、電圧調整モジュール120は、他のタイプの電圧ブースト及び/又は変換技術を使用することができる。
【0010】
図2を参照すると、コンピューティングシステム200の一実施形態のブロック図が示されている。図示するように、システム200は、デスクトップコンピュータ210、ラップトップコンピュータ220、サーバ230、モバイルデバイス240等のチップ、回路、構成要素等を表す。他のデバイスも可能であり、企図されている。図示した実施形態では、システム200は、少なくとも、電圧レール203によって電力供給される第1のデバイス202と、電圧調整モジュール204と、電圧レール205によって電力供給される第2のデバイス206と、を含む。一実施形態では、第1のデバイス202は処理ユニットであり、第2のデバイス206はメモリデバイス(例えば、スタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)デバイス)である。システム200は、図を曖昧にすることを避けるために図示されていない他の任意の数の構成要素を含むことができることに留意されたい。一実施形態では、電圧調整モジュール204は、電圧レール203から電圧レール205を生成し、電圧レール205の電圧は、所望の設定点を満たし、第2のデバイス206のための所望のダイナミックレンジを有する。電圧調整モジュール204の動作に関する更なる詳細は、本開示の残りの部分を通して提供される。
【0011】
図3を参照すると、電圧調整モジュール300を実装するための回路の一部の一実施形態のブロック図が示されている。一実施形態では、コンパレータ305A~305Cは、入力電圧、1つ以上の基準電圧、及び、クロックを受信する。「入力電圧」、「Vdd」及び「論理電圧」という用語は、本明細書では交換可能に使用されることに留意されたい。また、「基準電圧」を、本明細書では「電圧閾値」と呼ぶことがあることに留意されたい。
図3に示すように、3つの別個の基準電圧を受ける3つのコンパレータ305A~305Cが存在する。コンパレータ305A~305Cの出力は、モードデコーダ310に提供される。3つのコンパレータ305A~305Cを有することは、1つの特定の実施形態を示していることを理解されたい。他の実施形態では、他の数のコンパレータ305A~305Cが、他の数の基準電圧を受け取ることができる。
【0012】
一実施形態では、モードデコーダ310は、モード制御信号S0,S1と、バイパスイネーブル信号BYP_ENと、電圧基準選択信号VREF_SELと、を生成する。一実施形態では、モード制御信号S0,S1は、複数の位相インターリーブチャネルユニット内のモードtoMUXデコーダブロック(mode to MUX decoder blocks)に提供される。一実施形態では、バイパスイネーブル信号は、入力電圧VINが出力電圧(VO)に直接接続されているかどうかを決定するバイパススイッチを制御する。一実施形態では、電圧基準選択信号VREF_SELは、何れの電圧閾値が、目標となる調整されたVO電圧を決定するために調整コンパレータに結合されるかを決定する。
【0013】
図4を参照すると、コンピューティングシステム内の電圧調整モジュール回路400の一実施形態のブロック図が示されている。一実施形態では、(
図3の)モードデコーダ310は、電圧調整モジュール回路400内の様々なユニットに結合されるS0、S1、VREF_SEL及びBYP_EN制御信号を生成することに留意されたい。一実施形態では、入力電圧V
IN及び出力電圧V
Oは、V
HIGHセレクタ405に提供され、V
HIGHセレクタ405は、何れの電圧が高いかを決定し、この電圧V
HIGHを、電圧調整モジュール回路400内の他のユニットに提供する。一実施形態では、V
HIGH信号は、インターリーブチャネルモジュール425A~425T内のレベルシフタ、ゲートドライバ及び電力ステージに結合される。V
HIGHセレクタ405の実施形態の一例が
図8に示されている。一実施形態では、バイパススイッチ410は、入力電圧V
INを受け取り、バイパス信号BYP_ENの値に応じて、入力電圧V
INを出力電圧V
Oに接続するか、入力電圧V
INを出力電圧V
Oから分離する。
【0014】
一実施形態では、VREFマルチプレクサ(MUX)425は、2つの電圧(VREF1及びVREF2)と、選択信号VREF_SELとを受け取る。VREFマルチプレクサ(MUX)425の出力は、コンパレータ415Aの一方の入力及びコンパレータ415Bの一方の入力に結合されている。出力電圧VOは、コンパレータ415A~415Bにも結合されている。コンパレータ415A~415Bは、何れの電圧が高いか(VREG又はVO)を示す出力CMP_R及びCMP_Fを生成する。コンパレータ415Aは、非反転クロック信号によってクロックされ、コンパレータ415Bは、反転クロック信号によってクロックされ、それによって、コンパレータ415A,415Bは、互いに位相がずれた状態に保たれることに留意されたい。コンパレータ415Aの出力CMP_Rは、位相インターリーバ420Aに結合され、コンパレータ415Bの出力CMP_Rは、位相インターリーバ420Bに結合される。位相インターリーバ420Aの出力は、インターリーブチャネルモジュール430A~430Jに結合され、位相インターリーバ420Bの出力は、インターリーブチャネルモジュール430K~430Tに結合される。位相インターリーバ420A~420Bは、互いに位相が異なるクロック信号を生成し、これらのクロック信号を、異なるインターリーブチャネルモジュール430A~430Tに送信する。
【0015】
示されているように、各インターリーブチャネルモジュール430A~430Jは、モードtoMUXデコーダ(mode to mux decoder)と、非オーバーラップクロックジェネレータと、VIN及びVHIGHとMUX_CTRL信号とPHI1x及びPHI2x信号とを受信するマルチプレクサ(mux)と、レベルシフタと、VIN及びVHIGHとレベルシフタからの出力とを受け取る電力ステージ及びゲートドライバと、を含む。同様に、各インターリーブチャネルモジュール430K~430Tは、モードtoMUXデコーダと、非オーバーラップクロックジェネレータと、マルチプレクサと、レベルシフタと、電力ステージ及びゲートドライバと、を含む。モードtoMUXデコーダは、モードデコーダ310によって生成された2つのモード信号S0,S1を受信する。モードtoMUXデコーダは、モードデコーダ310によって生成されたモード信号S0,S1の値に基づいて、所望のVINからVOへの変換比を達成するために、何れの制御信号が電力ステージ及びゲートドライバにルーティングされるかを決定する。インターリーブチャネルモジュール430A~430Tの出力は、供給電圧VDDMをメモリブロック440に提供する。
【0016】
回路及び回路400内の制御論理によって生成される制御信号の構成は、メモリブロック440へのメモリビットセル供給電圧VDDMが、入力電圧VINに対して大きい、小さい又は同等であることを可能とし得ることに留意されたい。回路400は、別個の供給電圧レールを必要とするのではなく、メモリビットセル供給電圧VDDMが論理電圧VINから生成されることを可能にする。
【0017】
図5を参照すると、一実施形態による電圧調整モジュールで使用される電力ステージ回路の図が示されている。回路510は、キャパシタC
F1,C
F2を備えた回路の一例であり、入力電圧V
INから出力電圧V
OUTへキャパシタC
Oを介して(R
Lで表される)負荷に供給される電圧の2:3ステップアップ変換を実施する。回路520は、入力電圧V
INから出力電圧V
OUTへの電圧の1:2ステップアップ変換を実施するための回路の一例である。回路530は、入力電圧V
INから出力電圧V
OUTへの電圧の1:1ステップダウン変換を実施するための回路の一例である。回路510,520,530の左側は、充電フェーズ中の回路を示し、右側は、スイッチ(図示省略)が切り替えられた後の放電フェーズ中の回路を示している。一実施形態では、これらの回路510,520,530は、(
図4の)各インターリーブチャネルモジュール430A~430Tの電力ステージ及びゲートドライバ内で使用される。他の実施形態では、他の回路を各インターリーブチャネルモジュールの電力ステージ及びゲートドライバ内で使用して、他のステップアップ又はステップダウン変換比を達成できることを理解されたい。
【0018】
図6を参照すると、電力ステージ回路600の一実施形態の図が示されている。一実施形態では、回路600は、論理電圧をメモリビットセル電圧に変換するための電圧調整モジュール回路(例えば、
図4の回路400)内に配置され、メモリビットセルは、負荷抵抗器R
Lによって表される。例えば、一実施形態では、回路600は、(
図4の)各インターリーブチャネルモジュール430A~430T内に配置されている。一実施形態では、電圧調整位相インターリーブ技術は、回路600を使用して実行される。例えば、回路600は、必要なキャパシタC
O及びV
OUTリップルを最小化するために位相インターリーブ技術を実施する。一実施形態では、回路600は、2つのフライングキャパシタC
F1,C
F2と、11個の電源スイッチSW1~11と、を含む。異なる充電又は放電経路をとることにより、回路600によって複数の異なる利得比を達成することができる。回路600は、一実施形態で使用可能な電力ステージ回路の一例に過ぎないことを理解されたい。他の実施形態では、他のタイプの電力ステージ回路(例えば、集積インダクタ)を電圧調整モジュール回路内で使用することができる。
【0019】
図7を参照すると、論理電圧(V
DD)に対してプロットされたメモリ電圧(V
DDM)の実施形態の異なるグラフ705,710が示されている。グラフ705,710は、電圧調整モジュール回路400(例えば、電圧調整モジュール回路400)においてプログラムすることができるメモリ電圧対論理電圧の2つの例を示していることを理解されたい。他の実施形態では、論理電圧からメモリ電圧を生成するための他の設定点及び変換比を電圧調整モジュール回路にプログラムして、他の所望の変換パターンを達成することができる。一実施形態では、グラフ705に示すように、論理電圧の図示された部分に対し、ステップアップモード、バイパスモード及びステップダウンモードを使用してメモリ電圧がプログラムされる。別の実施形態では、メモリ電圧が、グラフ710に示すパターンに従うようにプログラムされ、ステップアップモード又はステップダウンモードのみが使用される。他の実施形態では、メモリ電圧は、他の構成のステップアップモード、バイパスモード、及び/又は、ステップダウンモードを用いる他のパターンに従うようにプログラムされる。
【0020】
図8を参照すると、2つの供給電圧レールのうち何れがより高い電圧を有するかを決定するための高電圧(
HIGH)セレクタ回路800の一実施形態の図が示されている。一実施形態では、VDD1は、電圧調整モジュール回路(例えば、
図4の回路400)によって受け取られる入力電圧であり、VDD2は、電圧調整モジュール回路によって生成される出力電圧である。一実施形態では、入力電圧VDD1は、プロセッサ及び/又はシステムオンチップ(SoC)の1つ以上の他の構成要素に供給される論理電圧レールである。一実施形態では、出力電圧VDD2は、1つ以上のメモリビットセルアレイに供給されるメモリビットセル電圧レールである。一実施形態では、V
HIGHセレクタ回路800は、動的トランジスタ幅リサイジングを実施するための動的な幅のデバイス815,825,830,850を含む。
【0021】
一実施形態では、PMOS感知デバイス840は、VDD1及びVDD2電圧を感知するために使用される。これらの感知デバイス840の出力は、NMOSハーフラッチ820に結合され、次に、NMOSハーフラッチ820の出力は、V
HIGHセレクタスイッチ835を制御するためのサポート論理に結合される。V
HIGHセレクタスイッチ835は、VDD1及びVDD2のうち電圧の高い方をV
HIGH出力に通過させる。一実施形態では、V
HIGH出力は、位相インターリーブ回路(例えば、
図4のモジュール430A~430T)内のレベルシフタ、ゲートドライバ及び電力ステージに結合される。
【0022】
一実施形態では、フォース1:1モード論理845は、モードデコーダ(例えば、
図3のモードデコーダ310)によって生成されるモード選択信号S0,S1を受信する。論理845は、1:1ステップダウンモードが入力されるとハイになる信号OnetoOne_ENを生成する。一実施形態では、回路800は、g1及びg2制御信号の現在の状態をオーバライドして、強制的にg1をロー、g2をハイにするフォース1:1モード論理810を含む。その結果、1:1モードが入力されると、V
HIGHがV
INに接続される。
【0023】
一実施形態では、回路800のアーキテクチャは、正の金属酸化物半導体(PMOS)の感知及び負の金属酸化物半導体(NMOS)ラッチデバイスのための動的トランジスタ幅リサイジングを実施する。したがって、次のVHIGHスイッチ遷移状態を感知するために使用されるデバイス対の幅が実質的に増加する。これは、VHIGHスイッチ遷移を誘発するために必要なVINからVOUTへの変化量を減らすのに役立つ。新たなVHIGH遷移の後、デバイスの幅が通常のサイズに戻り、次のVHIGH遷移に必要な他のデバイスのセットの幅が増加する。
【0024】
回路800は、高電圧セレクタ回路の1つの特定の実施形態のためのトランジスタ及び他の論理の構成の一例であることを理解されたい。他の実施形態では、回路800は、他のトランジスタ及び/又は構成要素を含み、図示したトランジスタ及び/又は構成要素の1つ以上を省略することができ、及び/又は、他の適切な方法で構成することができることを理解されたい。
【0025】
図9を参照すると、1つ以上のプログラム可能な閾値に基づいて入力電圧レールから生成された出力電圧レールを動的に調整する方法900の一実施形態が示されている。説明のために、この実施形態のステップ及び
図10~
図11のステップを順番に示す。しかしながら、説明する方法の様々な実施形態において、説明する要素の1つ以上が同時に実行されてもよいし、図示した順序と異なる順序で実行されてもよいし、完全に省略されてもよいことに留意されたい。必要に応じて他の追加要素も実行される。本明細書に記載される様々なシステム又は装置の何れも、方法900を実施するように構成されている。
【0026】
一実施形態では、電圧調整モジュール回路は、第1の供給電圧レール(ブロック905)を受け取る。一実施形態では、第1の供給電圧レールは、1つ以上のプロセッサに供給される論理電圧である。一実施形態では、第1の供給電圧レールは、プロセッサ(複数可)のモード及び/又は他の動作条件に応じて変化する。回路は、第1の供給電圧レールを、1つ以上のプログラム可能な閾値と比較する(ブロック910)。第1の電圧と1つ以上のプログラム可能な閾値との比較に基づいて、回路は、モードデコーダ(ブロック915)に提供される1つ以上の比較制御信号を生成する。次に、モードデコーダは、比較制御信号に基づいて、回路を動作させるモードを決定する(ブロック920)。次に、モードデコーダは、第1の供給電圧レールから第2の供給電圧レールを生成するための電力ステージ回路を制御するためのモード制御信号を生成する(ブロック925)。一実施形態では、電力ステージ回路は、位相インターリーブスイッチトキャパシタを使用して、第2の供給電圧レールを生成する。別の実施形態では、電力ステージ回路は、インダクタを使用して第2の供給電圧レールを生成する。
【0027】
次に、電力ステージ回路は、モード制御信号に基づいて第2の供給電圧レールの電圧を動的に調整する。第2の供給電圧レールの電圧レベルは、第1の供給電圧レールの電圧レベルに対して大きい、小さい、又は、同等であり得る。(ブロック930)。次に、メモリ第2の供給電圧レールを用いてメモリビットセルアレイに電力を供給する(ブロック935)。ブロック935の後に、方法900は終了する。方法900は、回路が第1の供給電圧レールの電圧レベルの変化を動的に調整し、メモリビットセルアレイの所望の電圧範囲を満たすように第2の供給電圧レールの電圧レベルを調整するのを可能にすることに留意されたい。
【0028】
図10を参照すると、入力供給電圧レールよりも小さいダイナミックレンジを有する出力供給電圧レールを生成する方法1000の一実施形態が示されている。回路は、第1のダイナミックレンジを有する入力供給電圧レールを受け取る(ブロック1005)。この回路は、入力供給電圧レールを、1つ以上のプログラム可能な閾値と比較する(ブロック1010)。回路は、プログラマブルモードデコーダ及び電力ステージ回路を使用して、第1のダイナミックレンジよりも小さい第2のダイナミックレンジを有する出力供給電圧レールを生成する(ブロック1015)。ブロック1015の後に、方法1000は終了する。
【0029】
図11を参照すると、電圧調整モジュール回路内のトランジスタ幅を動的に調整する方法1100の一実施形態が示されている。高電圧(V
HIGH)セレクタ回路は、出力供給電圧レールが入力供給電圧レールよりも大きいかどうかを検出する(ブロック1105)。出力供給電圧レールが入力供給電圧レールよりも大きい場合(条件付きブロック1110:「はい」)、電圧調整モジュール回路は、トランジスタの第1のセットをオンにし、トランジスタの第2のセットをオフにする(ブロック1115)。一方、出力供給電圧レールが入力供給電圧レール以下である場合(条件付きブロック1110:「いいえ」)、回路は、トランジスタの第1のセットをオフにし、トランジスタの第2のセットをオンにする(ブロック1120)。ブロック1115,1120の後に方法1100はブロック1105に戻り、出力供給電圧レールと入力供給電圧レールとの間の関係を監視し続ける。
【0030】
図12を参照すると、回路表現1205を記憶する非一時的なコンピュータ可読記憶媒体1200の一実施形態を示すブロック図が示されている。一実施形態では、回路製造システム1210は、非一時的なコンピュータ可読記憶媒体1200に記憶された回路表現1205を処理し、回路表現1205に基づいて任意の数の集積回路1215A~1215Nを製造する。
【0031】
非一時的なコンピュータ可読記憶媒体1200は、様々な適切なタイプのメモリデバイス又はストレージデバイスのうち何れかを含むことができる。媒体1200は、インストール媒体(例えば、サムドライブ、CD-ROM)、コンピュータシステムメモリ若しくはランダムアクセスメモリ(例えば、DRAM、DDR RAM、SRAM、EDO RAM、Rambus RAM)、不揮発性メモリ(例えば、フラッシュ、磁気メディア、ハードドライブ、光ストレージ等)、レジスタ、又は、他のタイプのメモリ要素であり得る。媒体1200は、他のタイプの非一時的なメモリ、又は、これらの任意の組み合わせを含むことができる。媒体1200は、異なる場所(例えば、ネットワークを介して接続された異なるコンピュータシステム内)に存在する2つ以上のメモリ媒体を含むことができる。
【0032】
様々な実施形態において、回路表現1205は、VHDL、Verilog、SystemC、SystemVerilog、RHDL等を含むがこれらに限定されないハードウェア記述言語を含む様々な適切なコンピュータ言語のうち何れかを使用して指定される。回路表現1205は、回路製造システム1210によって、集積回路1215A~1215Nのうち1つ以上の少なくとも一部を製造するために使用可能である。回路表現1205のフォーマットは、少なくとも1つの回路製造システム1210によって認識可能である。いくつかの実施形態では、回路表現1205は、集積回路1215A~1215Nの合成及び/又はレイアウトを指定する1つ以上のセルライブラリを含む。
【0033】
回路製造システム1210は、集積回路を製造するように構成された様々な適切な要素のうち何れかを含む。これは、例えば、(例えば、マスキングを含むことができるウェーハ上に)半導体材料を堆積するための要素、材料の除去、堆積された材料の形状の変更、(例えば、材料のドーピング、又は、紫外線処理を使用した誘電率の変更による)材料の変更等を含むことができる。また、回路製造システム1210は、製造された回路の正しい動作のための試験を実行することができる。
【0034】
様々な実施形態において、集積回路1215A~1215Nは、回路表現1205によって指定された回路設計に従って動作し、これは、本明細書に記載された機能の何れかを実行することを含み得る。例えば、集積回路1215A~1215Nは、本明細書に示される回路及び/又はこれらの回路の複数のインスタンスに示される様々な要素のうち何れかを含むことができる。更に、集積回路1215A~1215Nは、他の構成要素と共に、本明細書に記載された様々な機能を実行することができる。例えば、集積回路1215A~1215Nは、(例えば、供給電圧自体を含むのではなく)供給電圧を提供するように構成された供給電圧回路に結合することができる。更に、本明細書に記載された機能は、複数の接続された集積回路によって実行することができる。
【0035】
本明細書で使用される場合、「回路の設計を指定する回路表現…」という形式の語句は、要素が満たされるために問題の回路が製造されなければならないことを意味しない。むしろ、この語句は、回路表現が、製造されると、示されたアクションを実行するように構成されるか、指定された構成要素を含む回路を記述することを示す。
【0036】
様々な実施形態において、プログラム命令は、本明細書に記載される方法及び/又はメカニズムを実施するために使用される。例えば、ハードウェアの動作や設計を記述するプログラム命令が記述されている。一実施形態では、このようなプログラム命令は、Verilog等のハードウェア設計言語(HDL)によって表される。様々な実施形態において、プログラム命令は、様々な非一時的なコンピュータ可読記憶媒体の何れかに記憶される。記憶媒体は、使用中にコンピューティングシステムによってアクセス可能であり、回路製造、プログラム実行、又は、その他のために、プログラム命令をコンピューティングシステムに提供する。一般的に、このようなコンピューティングシステムは、少なくとも1つ以上のメモリと、プログラム命令を実行するように構成された1つ以上のプロセッサと、を含む。
【0037】
上述した実施形態は、実施形態の非限定的な例に過ぎないことを強調しておきたい。上記の開示が十分に理解されると、多くの変形及び修正が当業者に明らかになるであろう。以下の特許請求の範囲は、このような変形及び修正の全てを包含するものと解釈されることが意図される。