特許7442013IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

プラズマにより半導体のウェハを加工するプラズマ処理装置の診断装置、診断方法、半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、プラズマ処理装置の診断において先行技術では虚報あるいは見逃しが多発し得るため、診断結果に基づく効果的な対策が困難である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

課題を解決するために、例えば、請求の範囲に記載の構成を採用する。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、プラズマ処理装置群の部品の保守要否の診断において、虚報および見逃しの少ない高精度な診断を実現でき、診断結果に基づく効果的な対策が可能となる。

した以外の課題、構成および効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図１は、一プラズマ処理装置および診断装置の全体構成図である。
【図2】 図２は、一診断処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図3】 図３は、一センサ波形記憶部に格納するデータの一例を示す図である。
【図4】 図４は、一分離したセンサ波形種別の一例を説明するための図である。
【図5】 図５は、センサ波形データの複数要因による複数センサ波形変化種別が混在する一例を説明するための図である。
【図6】 図６は、処理毎の劣化度の時系列データにノイズと断続的な劣化兆候の出現が混在する一例および劣化度フィルタ処理後の劣化度の時系列データの一例を示す図である。
【図7】 図７は、一劣化診断情報の表示画面の一例として劣化度の推移を示す図である。
【図8】 図８は、一劣化診断情報の表示画面の一例としてセンサ波形成分の比較を示す図である。
【図9】 図９は、別のプラズマ処理装置および診断装置の全体構成図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１：プラズマ処理装置群、２：診断装置、３０：計算機、５０：サーバ、３１１：センサ波形分離部、３１４：劣化度フィルタ部、３１５：装置毎劣化度学習部、５２２：劣化時センサ波形成分記憶部

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