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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-02-22
(45)【発行日】2024-03-04
(54)【発明の名称】飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法
(51)【国際特許分類】
B41J 2/385 20060101AFI20240226BHJP
B33Y 10/00 20150101ALI20240226BHJP
B33Y 30/00 20150101ALI20240226BHJP
B41J 2/44 20060101ALI20240226BHJP
B22F 12/41 20210101ALI20240226BHJP
B22F 3/105 20060101ALI20240226BHJP
B22F 3/16 20060101ALI20240226BHJP
H05K 3/10 20060101ALN20240226BHJP
【ＦＩ】
B41J2/385 L
B33Y10/00
B33Y30/00
B41J2/44 103
B22F12/41
B22F3/105
B22F3/16
H05K3/10 C
【請求項の数】
11
(21)【出願番号】P 2021039828
(22)【出願日】2021-03-12
(65)【公開番号】P2021151772
(43)【公開日】2021-09-30
【審査請求日】2023-03-06
(31)【優先権主張番号】P 2020051182
(32)【優先日】2020-03-23
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000006747
【氏名又は名称】株式会社リコー
(73)【特許権者】
【識別番号】304021831
【氏名又は名称】国立大学法人千葉大学
(74)【代理人】
【識別番号】100107766
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠重
(74)【代理人】
【識別番号】100070150
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠彦
(74)【代理人】
【識別番号】100107515
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 浩一
(72)【発明者】
【氏名】金子 晃大
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 一己
(72)【発明者】
【氏名】青戸 淳
(72)【発明者】
【氏名】須原 浩之
(72)【発明者】
【氏名】岩田 宗朗
(72)【発明者】
【氏名】尾松 孝茂
(72)【発明者】
【氏名】中村 龍介
【審査官】大関 朋子
(56)【参考文献】
【文献】特開平１０－３３３３３３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０４－３２７９８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０５－１６９８６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１６／１３６７２２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００２－３５６０７０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２２－５０７０４２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１６－５３５８１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１７－５３００３１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ４１Ｊ ２／３８５
Ｂ４１Ｊ ２／４４
Ｂ４１Ｊ ２／４７５
Ｂ３３Ｙ １０／００
Ｂ４１Ｊ ２／４４
Ｂ２２Ｆ １２／４１
Ｂ２２Ｆ ３／１０５
Ｈ０５Ｋ ３／１０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層にレーザー光を照射して、前記レーザー光のエネルギーにより前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含み、
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η １ が、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする飛翔体発生方法。
【請求項2】
前記光吸収材の２５℃における粘度η
２
が、２０Ｐａ・ｓ以下である、請求項１に記載の飛翔体発生方法。
【請求項3】
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η
１
と、前記光吸収材の２５℃における粘度η
２
とが、η
２
＞η
１
を満たす、請求項２に記載の飛翔体発生方法。
【請求項4】
前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ
１
が、２９ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下である、請求項１から３のいずれかに記載の飛翔体発生方法。
【請求項5】
前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ
１
と、前記光吸収材の２５℃における静的表面張力σ
２
とが、σ
２
＜σ
１
を満たす、請求項４に記載の飛翔体発生方法。
【請求項6】
前記光吸収材層の平均厚みが、９μｍ以上である、請求項１から５のいずれかに記載の飛翔体発生方法。
【請求項7】
前記光吸収材層が、固体である、請求項１に記載の飛翔体発生方法。
【請求項8】
前記光吸収材層の平均厚みが、４０μｍ以下である、請求項７に記載の飛翔体発生方法。
【請求項9】
前記レーザー光が、光渦レーザーである、請求項１から８のいずれかに記載の飛翔体発生方法。
【請求項10】
基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層にレーザー光を照射して、前記レーザー光のエネルギーにより前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段を有し、
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η １ が、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする飛翔体発生装置。
【請求項11】
基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層にレーザー光を照射して、前記レーザー光のエネルギーにより前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η １ が、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法に関する。
【背景技術】
【0002】
レーザー励起前方転写（Ｌａｓｅｒ－Ｉｎｄｕｃｅｄ Ｆｏｒｗａｒｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ：ＬＩＦＴ）法は、（ドナー）基板上に配した転写対象材料（以下、飛翔対象物と称することがある）層を形成し、前記飛翔対象物層にレーザーを照射し、前記飛翔対象物を飛翔させ、前記飛翔対象物の対面に配置したアクセプター基板の所望の位置に前記飛翔対象物を配する方法である。
【0003】
前記ＬＩＦＴ法としては、様々な方法が研究されてきている。
例えば、前記ドナー基板と前記飛翔対象物の間にＤｙｎａｍｉｃ Ｒｅｌｅａｓｅ ｌａｙｅｒ（ＤＲＬ、吸収層とも称される）と呼ばれる中間層を設けた方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。前記レーザーを照射された前記ＤＲＬの一部は前記レーザーのエネルギーを吸収して蒸発（気化）し、前記レーザーが照射された前記ＤＲＬと同じ位置にある前記飛翔対象物を前記ＤＲＬが蒸発したエネルギーにより押し出して飛翔させる方法である。
また、例えば、レーザー吸収性材料と前記飛翔対象物とを混合し、前記ドナー基板上に配し、レーザー照射によってレーザー吸収性材料を蒸発させ、その蒸発エネルギーにより前記飛翔対象物を飛翔させるＭＡＰＬＥ－ＤＷ（Ｍａｔｒｉｘ－ａｓｓｉｓｔｅｄ ｐｕｌｓｅｄ ｌａｓｅｒ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ－ｄｉｒｅｃｔ ｗｒｉｔｅ）法などが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
例えば、前記ドナー基板と前記飛翔対象物の間にＤｙｎａｍｉｃ Ｒｅｌｅａｓｅ ｌａｙｅｒ（ＤＲＬ、吸収層とも称される）と呼ばれる中間層を設けた方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。前記レーザーを照射された前記ＤＲＬの一部は前記レーザーのエネルギーを吸収して蒸発（気化）し、前記レーザーが照射された前記ＤＲＬと同じ位置にある前記飛翔対象物を前記ＤＲＬが蒸発したエネルギーにより押し出して飛翔させる方法である。
また、例えば、レーザー吸収性材料と前記飛翔対象物とを混合し、前記ドナー基板上に配し、レーザー照射によってレーザー吸収性材料を蒸発させ、その蒸発エネルギーにより前記飛翔対象物を飛翔させるＭＡＰＬＥ－ＤＷ（Ｍａｔｒｉｘ－ａｓｓｉｓｔｅｄ ｐｕｌｓｅｄ ｌａｓｅｒ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ－ｄｉｒｅｃｔ ｗｒｉｔｅ）法などが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【0004】
近年では、前記ＬＩＦＴ法は、立体的な造形を行う３Ｄプリンタ分野、印刷技術により電子部品を形成するプリンテッドエレクトロニクス分野などにも応用が検討されている。
【0005】
具体的には、従来の画像形成で用いられる低粘度のインクのみならず、様々な物性の材料を所望の位置に正確に飛翔させる方法が提案されている。例えば、レーザーを高粘度のインクの塗膜に照射して重力方向にインクの突出部を形成し、形成した突出部を媒体に接触させることで、高粘度材料をプリントする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、飛翔対象である光吸収材の飛散を抑制して飛翔させることができる飛翔体発生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記課題を解決するための手段としての本発明の飛翔体発生方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含む。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、飛翔対象である光吸収材の飛散を抑制して飛翔させることができる飛翔体発生方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
（飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置）
本発明の飛翔体発生方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
本発明の飛翔体発生装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段を有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。
本発明の飛翔体発生方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
本発明の飛翔体発生装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段を有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。
【0011】
本発明者らは、従来の技術における以下の問題点について検討したところ、以下の知見を得た。
従来のＬＩＦＴ法を用いた技術では、飛翔対象である飛翔対象物の粘度が高く（例えば、１０Ｐａ・ｓ以上）、厚みが厚い（例えば、９μｍ以上）場合には、前記飛翔対象物の一部が前記ドナー基板から飛翔する際に、飛散してしまい、前記飛翔対象物を所望の位置へ配することが難しい場合があるという問題がある。
従来のＬＩＦＴ法を用いた技術では、飛翔対象である飛翔対象物の粘度が高く（例えば、１０Ｐａ・ｓ以上）、厚みが厚い（例えば、９μｍ以上）場合には、前記飛翔対象物の一部が前記ドナー基板から飛翔する際に、飛散してしまい、前記飛翔対象物を所望の位置へ配することが難しい場合があるという問題がある。
【0012】
そこで、本発明では、基板上に設けた飛翔対象物である光吸収材を配した光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材層を設けたドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材層の一部を飛翔させることとした。本発明のように、前記光吸収材が飛翔する側の面の前記光吸収材上に前記飛散抑制材を配することによって、光を照射された前記光吸収材が飛翔する際に、前記飛散抑制材に捕集されるため飛散することを抑制され、捕集された前記光吸収材が前記飛散抑制材と共に飛翔できることを見出した。
【0013】
＜光吸収材飛翔工程及び光吸収材飛翔手段＞
前記光吸収材飛翔工程は、前記ドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる工程である。
前記光吸収材飛翔手段は、前記ドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる手段である。
前記光吸収材飛翔工程は、前記光吸収材飛翔手段により好適に実施することができる。
前記光吸収材飛翔工程は、前記ドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる工程である。
前記光吸収材飛翔手段は、前記ドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる手段である。
前記光吸収材飛翔工程は、前記光吸収材飛翔手段により好適に実施することができる。
【0014】
－ドナー基板－
前記ドナー基板は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有し、更に必要に応じてその他の部材を有する。
本発明において、「飛翔」とは、空中を進むこと、又は空中を移動することを意味する。
本発明において、「飛散」とは、飛んで散乱することを意味する。
前記ドナー基板は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有し、更に必要に応じてその他の部材を有する。
本発明において、「飛翔」とは、空中を進むこと、又は空中を移動することを意味する。
本発明において、「飛散」とは、飛んで散乱することを意味する。
【0015】
－－基板－－
前記基板としては、その形状、構造、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記基板としては、その形状、構造、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【0016】
前記基板の形状としては、前記光吸収材を表面に担持し、前記光を前記基板上に配した前記光吸収材まで透過することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、平板状、真円又は楕円等の筒状、筒状の一部を切り出した面、無端ベルト状などが挙げられる。これらの中でも、前記基板が筒状であって、周方向に回転する前記基板の表面に前記光吸収材を供給する光吸収材供給手段を有することが好ましい。前記筒状の前記基板の表面に前記光吸収材を担持すると、前記外周方向における前記被付与物の寸法に依存せずに供給することができる。また、この場合、前記筒状の内部には前記光吸収材飛翔手段を配置し、前記内部から外周に向けて前記光を照射可能とし、前記基板が周方向に回転することで連続的に照射することができる。
また、平板状の前記基板としては、例えば、スライドガラスなどが挙げられる。
また、平板状の前記基板としては、例えば、スライドガラスなどが挙げられる。
【0017】
前記基板の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【0018】
前記基板の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光吸収材が付与される被付与物の幅に合わせた寸法とすることが好ましい。
【0019】
前記基板の材質としては、光を透過するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、酸化珪素を主成分とする各種ガラスなどの無機材料、透明性の耐熱プラスチック、エラストマーなどの有機材料が、透過率と耐熱性の点で、好ましい。
【0020】
前記基板における前記光の透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７５％以上が好ましく、８５％以上がより好ましい。前記透過率が好ましい範囲内であると、前記基板に吸収された前記光のエネルギーが熱に変換されにくいため、前記光吸収材に乾燥や溶融などの変化を与えることが少なく、また、前記光吸収材に与えるエネルギーが低下しにくいため、飛翔させた前記光吸収材を付与する位置のバラつきが生じにくい点で有利である。
なお、前記透過率の測定方法としては、例えば、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－６６０ＤＳ）などを用いて測定することができる。
なお、前記透過率の測定方法としては、例えば、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－６６０ＤＳ）などを用いて測定することができる。
【0021】
前記基板の表面粗さＲａとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光の屈折散乱を抑制し、前記光吸収材に付与するエネルギーを低下させないようにする点で、表面及び裏面のどちらも１μｍ以下であることが好ましい。また、前記表面粗さＲａが好ましい範囲内であると、前記光吸収材が付与される被付与物に付与した前記光吸収材の平均厚みのバラつきを抑制することができ、所望の量の前記光吸収材を付与させることができる点で有利である。
前記表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に従って測定することができ、例えば、触針式表面形状測定装置（Ｄｅｋｔａｋ１５０、ブルカー・エイエックスエス株式会社製）を用いて測定することができる。
前記表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に従って測定することができ、例えば、触針式表面形状測定装置（Ｄｅｋｔａｋ１５０、ブルカー・エイエックスエス株式会社製）を用いて測定することができる。
【0022】
－－光吸収材層－－
前記光吸収材層は、光吸収材を含む層である。
前記光吸収材層は、単層であっても複層であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。前記光吸収材層が単層である場合には、単に、光吸収材膜と称することがある。
前記光吸収材層は、基板上に一体的（連続的）に層（膜）を形成していてよく、断続的に層（膜）を形成していてもよい。
前記光吸収材層は、光吸収材を含む層である。
前記光吸収材層は、単層であっても複層であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。前記光吸収材層が単層である場合には、単に、光吸収材膜と称することがある。
前記光吸収材層は、基板上に一体的（連続的）に層（膜）を形成していてよく、断続的に層（膜）を形成していてもよい。
【0023】
－－－光吸収材－－－
前記光吸収材は、光吸収物質を有し、更に必要に応じて適宜選択した、その他の物質を有する。
前記光吸収材としては、光の波長に対する吸光度が１よりも大きいことが好ましく、２よりも大きいことがより好ましい。光吸収材が光の波長に対する吸光度が２よりも大きいと、エネルギー効率を高めることができる点で有利である。
前記光吸収材は、光吸収物質を有し、更に必要に応じて適宜選択した、その他の物質を有する。
前記光吸収材としては、光の波長に対する吸光度が１よりも大きいことが好ましく、２よりも大きいことがより好ましい。光吸収材が光の波長に対する吸光度が２よりも大きいと、エネルギー効率を高めることができる点で有利である。
【0024】
－－－－光吸収物質－－－－
前記光吸収物質としては、所定の波長の光を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、顔料、染料などの着色剤が挙げられる。
前記光吸収物質としては、所定の波長の光を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、顔料、染料などの着色剤が挙げられる。
【0025】
前記光吸収物質における所定の波長の光の吸収性能としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、膜厚が３μｍにおける塗膜状態での透過率（吸光度）として、８０％以下（０．１以上）が好ましく、５０％以下（０．３以上）がより好ましく、３０％以下（０．５以上）が特に好ましい。
また、光吸収性能を有する前記光吸収材により形成された塗膜において、前記光吸収材の膜厚における透過率（吸光度）としては、１０％以下（１以上）が好ましく、１％以下（２以上）がより好ましく、０．１％以下（３以上）がさらに好ましく、０．０１％以下（４以上）が特に好ましい。前記透過率が好ましい範囲内であると、基板に吸収された光のエネルギーが熱に変換されにくいため、前記光吸収材に乾燥や溶融などの変化を与えることが少ない点でも有利である。さらに、前記透過率が好ましい範囲内であると、前記光吸収材に与えるエネルギーが低下しにくいため、付与位置のバラつきが生じにくい点で有利である。
なお、前記透過率（吸光度）は、例えば、分光光度計（株式会社島津製作所製、ＵＶ３６００）などを用いて測定することができる。
また、光吸収性能を有する前記光吸収材により形成された塗膜において、前記光吸収材の膜厚における透過率（吸光度）としては、１０％以下（１以上）が好ましく、１％以下（２以上）がより好ましく、０．１％以下（３以上）がさらに好ましく、０．０１％以下（４以上）が特に好ましい。前記透過率が好ましい範囲内であると、基板に吸収された光のエネルギーが熱に変換されにくいため、前記光吸収材に乾燥や溶融などの変化を与えることが少ない点でも有利である。さらに、前記透過率が好ましい範囲内であると、前記光吸収材に与えるエネルギーが低下しにくいため、付与位置のバラつきが生じにくい点で有利である。
なお、前記透過率（吸光度）は、例えば、分光光度計（株式会社島津製作所製、ＵＶ３６００）などを用いて測定することができる。
【0026】
前記光吸収材としては、その形態、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光吸収材の形態としては、例えば、液体、固体、粉体などが挙げられる。特に、高粘性体又は固体を飛翔可能としたことは、従来のインクジェット記録方式には成し得ない長所となっている。なお、前記固体とは、２５℃において容器の形とは無関係にその形状を保持するものを意味する。
また、前記光吸収材が固体又は粉体であれば、前記光吸収材の形態としては、光を照射する際に前記光吸収材が粘性を有する状態であることが好ましい。具体的には、固体又は粉体を飛翔させたい場合には、例えば、光を照射する前に加熱して溶融状態にして粘性を有する形態にすることが好ましい。
前記光吸収材の形態としては、例えば、液体、固体、粉体などが挙げられる。特に、高粘性体又は固体を飛翔可能としたことは、従来のインクジェット記録方式には成し得ない長所となっている。なお、前記固体とは、２５℃において容器の形とは無関係にその形状を保持するものを意味する。
また、前記光吸収材が固体又は粉体であれば、前記光吸収材の形態としては、光を照射する際に前記光吸収材が粘性を有する状態であることが好ましい。具体的には、固体又は粉体を飛翔させたい場合には、例えば、光を照射する前に加熱して溶融状態にして粘性を有する形態にすることが好ましい。
【0027】
液体の前記光吸収材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、顔料及び溶剤を含むインク、導電体及び溶剤を含む導電性ペーストなどが挙げられる。なお、溶剤を含むインクに光を照射すると、溶剤が光を吸収しない場合には、溶剤以外の光を吸収する含有物に光のエネルギーが付与させ、その含有物とともにインクを飛翔させることができる。
液体の前記光吸収材の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｐａ・ｓ以上が好ましく、１Ｐａ・s以上２０Ｐａ・s以下がより好ましい。
なお、粘度は、例えば、回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ）、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
液体の前記光吸収材の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｐａ・ｓ以上が好ましく、１Ｐａ・s以上２０Ｐａ・s以下がより好ましい。
なお、粘度は、例えば、回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ）、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
【0028】
前記導電性ペーストは、導電体を含むインクであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回路基板の製造方法において公知乃至慣用の導電性ペーストなどが挙げられる。
前記導電体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、銀、金、銅、ニッケル、ＩＴＯ、カーボン、カーボンナノチューブ等の導電性を有する無機粒子；ポリアニリン、ポリチオフェン（例えば、ポリ（エチレンジオキシチオフェン）等）、ポリアセチレン、ポリピロール等の導電性の有機高分子からなる粒子などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記導電性ペーストの体積抵抗率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常の電極用途として使用できる点から１０３Ω・ｃｍ以下が好ましい。
前記導電体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、銀、金、銅、ニッケル、ＩＴＯ、カーボン、カーボンナノチューブ等の導電性を有する無機粒子；ポリアニリン、ポリチオフェン（例えば、ポリ（エチレンジオキシチオフェン）等）、ポリアセチレン、ポリピロール等の導電性の有機高分子からなる粒子などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記導電性ペーストの体積抵抗率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常の電極用途として使用できる点から１０３Ω・ｃｍ以下が好ましい。
【0029】
前記粉体の光吸収材としては、例えば、顔料及び結着樹脂を含むトナーや半田ボールの様な金属微粒子などが挙げられる。
この場合、光が照射されると、顔料に光のエネルギーが付与され、顔料とともに結着樹脂がトナーとして飛翔する。なお、前記粉体の光吸収材としては、顔料のみとしてもよい。
この場合、光が照射されると、顔料に光のエネルギーが付与され、顔料とともに結着樹脂がトナーとして飛翔する。なお、前記粉体の光吸収材としては、顔料のみとしてもよい。
【0030】
前記固体の光吸収材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スパッタや蒸着により製膜された金属薄膜、分散体などの粉体を押し固めたものなどが挙げられる。
【0031】
前記金属薄膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。金属としては、例えば、銀、金、アルミ、白金、銅など蒸着やスパッタ加工が可能な一般的な金属が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記金属薄膜を飛翔させて画像パターンを形成する方法としては、例えば、予めガラスやフィルムなどの基板上に金属薄膜を作成し、金属薄膜に光を照射して飛翔させることで画像パターンを形成させる方法が挙げられる。また、他の方法としては、非画像部を飛翔させることで画像パターンを形成させる方法などが挙げられる。
前記金属薄膜を飛翔させて画像パターンを形成する方法としては、例えば、予めガラスやフィルムなどの基板上に金属薄膜を作成し、金属薄膜に光を照射して飛翔させることで画像パターンを形成させる方法が挙げられる。また、他の方法としては、非画像部を飛翔させることで画像パターンを形成させる方法などが挙げられる。
【0032】
前記粉体を押し固めたものとしては、所定の平均厚みで層状であることが好ましく、基板の表面に層状の固体を担持されるようにしてもよい。
【0033】
前記光吸収材の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【0034】
前記光吸収材層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃における前記光吸収材層が液体の場合には、９μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下が更に好ましい。２５℃における前記光吸収材層が液体の場合に、前記光吸収材の平均厚みが１０μｍ以上であると、光を照射しときに光吸収材の飛散を抑制することができる。
また、２５℃における前記光吸収材層が液体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが９μｍ以上であると、前記光吸収材を層状にして供給した場合、連続して飛翔させたときであっても基板上の層の強度を確保することができるため、連臆して前記光吸収材を飛翔させることができる点で好ましい。
また、２５℃における前記光吸収材層が液体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが５０μｍ以下であると、前記光吸収材を飛翔させるのに必要な光のエネルギーが大きくなりすぎないため、特に光吸収材が有機物の場合、劣化や分解が発生しにくい点で有利である。
なお、塗布する方法によっては、一定のパターンを保持した層として供給することも可能となる。
前記光吸収材層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃における前記光吸収材層が固体の場合には、４０μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上２０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以上１８μｍ以下が更に好ましい。２５℃における前記光吸収材層が固体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが、４０μｍ以下であると、比較的弱い光エネルギーで転写が可能なため、光吸収材へのダメージを抑制することができる。
また、２５℃における前記光吸収材層が液体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが９μｍ以上であると、前記光吸収材を層状にして供給した場合、連続して飛翔させたときであっても基板上の層の強度を確保することができるため、連臆して前記光吸収材を飛翔させることができる点で好ましい。
また、２５℃における前記光吸収材層が液体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが５０μｍ以下であると、前記光吸収材を飛翔させるのに必要な光のエネルギーが大きくなりすぎないため、特に光吸収材が有機物の場合、劣化や分解が発生しにくい点で有利である。
なお、塗布する方法によっては、一定のパターンを保持した層として供給することも可能となる。
前記光吸収材層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃における前記光吸収材層が固体の場合には、４０μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上２０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以上１８μｍ以下が更に好ましい。２５℃における前記光吸収材層が固体の場合に、前記光吸収材層の平均厚みが、４０μｍ以下であると、比較的弱い光エネルギーで転写が可能なため、光吸収材へのダメージを抑制することができる。
【0035】
前記光吸収材層の平均厚みの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光吸収材層に対して任意の複数の点を選択し、複数の点の厚みの平均を算出することにより求める方法などが挙げられる。平均としては、５点の厚みの平均が好ましく、１０点の厚みの平均がより好ましく、２０点の厚みの平均が特に好ましい。
平均厚みの測定機器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザー変位計やマイクロメータなどの非接触または接触方式の方法が挙げられる。
平均厚みの測定機器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザー変位計やマイクロメータなどの非接触または接触方式の方法が挙げられる。
【0036】
前記光吸収材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述したものの他に、画像形成を行う場合にはトナーのような着色剤であってもよく、立体造形物を製造する場合には後述する立体造形剤であってもよい。
【0037】
前記着色剤としては、光吸収材と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、光吸収材を着色剤とした際に異なる点を説明する。
【0038】
液体の着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、溶剤としての水に、染料、顔料、着色粒子、着色油滴などの色材を分散させた水性インクが使用可能である。また、水性インクに限らず、溶剤として、例えば、炭化水素系の有機溶剤や各種アルコールなど、比較的低沸点の液体を含んだ着色剤も使用可能である。これらの中でも、揮発成分の安全性、爆発の危険性などの点から、水性インクが好ましい。
【0039】
また、画像形成装置では、版を用いるオフセット印刷用のプロセスインキ、ＪＡＰＡＮ ＣＯＬＯＲ対応インキ、特色インキなどでも画像形成が可能であるため、オフセット印刷で用いる色に合わせたデジタル画像を無版で容易に再現することができる。
更に、ＵＶ硬化インキでも画像形成が可能であるため、定着工程において紫外線を照射して硬化することにより、重なった記録媒体が貼り付くブロッキングの防止、及び乾燥工程の簡略化ができる。
更に、ＵＶ硬化インキでも画像形成が可能であるため、定着工程において紫外線を照射して硬化することにより、重なった記録媒体が貼り付くブロッキングの防止、及び乾燥工程の簡略化ができる。
【0040】
前記色材の材質としては、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【0041】
前記有機顔料としては、例えば、ジオキサジンバイオレット、キナクリドンバイオレット、銅フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、サップグリーン、モノアゾイエロー、ジスアゾイエロー、ポリアゾイエロー、ベンズイミダゾロンイエロー、イソインドリノンイエロー、ファーストイエロー、クロモフタルイエロー、ニッケルアゾイエロー、アゾメチンイエロー、ベンズイミダゾロンオレンジ、アリザリンレッド、キナクリドンレッド、ナフトールレッド、モノアゾレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アンスラキノニルレッド、ジケトピロロピロールレッド、ジケトピロロピロールオレンジ、ベンズイミダゾロンブラウン、セピア、アニリンブラック、などが挙げられ、有機顔料のうち金属レーキ顔料としては、例えば、ローダミンレーキ、キノリンイエローレーキ、ブリリアントブルーレーキなどが挙げられる。
【0042】
前記無機顔料としては、例えば、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトバイオレット、コバルトグリーン、ジンクホワイト、チタニウムホワイト、チタンイエロー、クロムチタンイエロー、ライトレッド、クロムオキサイドグリ－ン、マルスブラック、ビリジャン、イエローオーカー、アルミナホワイト、カドミウムイエロー、カドミウムレッド、バーミリオン、リトポン、ウルトラマリーン、タルク、ホワイトカーボン、クレー、ミネラルバイオレット、ローズコバルトバイオレット、シルバーホワイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化ストロンチウム、アルミン酸ストロンチウム、黄銅、金粉、ブロンズ粉、アルミニウム粉、真鍮顔料、アイボリーブラック、ピーチブラック、ランプブラック、カーボンブラック、プルシャンブルー、オーレオリン、雲母チタン、イエローオーカー、テールベルト、ローシェンナ、ローアンバー、カッセルアース、白亜、石膏、バーントシェンナ、バーントアンバー、ラピスラズリ、アズライト、マラカイト、オーピメント、辰砂、珊瑚末、胡粉、ベンガラ、群青、紺青、魚燐箔、酸化鉄処理パールなどが挙げられる。
【0043】
これらの中でも、ブラック顔料としては、色相、画像保存性の点から、カーボンブラックが好ましい。
シアン顔料としては、色相、画像保存性の点から、銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３が好ましい。
シアン顔料としては、色相、画像保存性の点から、銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３が好ましい。
【0044】
マゼンタ顔料としては、キナクリドンレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、ナフトールレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９、及びローダミンレーキであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド８１：４が好ましく、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９の混合物がより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（Ｐ．Ｒ．１２２）及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９（Ｐ．Ｒ．２６９）の混合物としては、Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が５：９５以上８０：２０以下の混合物が特に好ましい。Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が特に好ましい範囲内であると、色相がマゼンタ色として外れない。
【0045】
イエロー顔料としては、モノアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、ジスアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、ベンズイミダゾロンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、イソインドリンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５が好ましい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５がより好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【0046】
前記光吸収材を着色剤としてのプロセスカラーインクとして用いる場合、４色のインクセットで用いることが好ましい。
【0047】
前記無機顔料は、体積平均粒径が１０μｍを超える粒子からなるものが多い。体積平均粒径が１０μｍ以上の無機顔料を着色剤として用いる場合、着色剤としては、液体であることが好ましい。着色剤が液体であれば、静電気力など非静電付着力以外の力を用いることなく着色剤を安定した状態で維持できる点で有利である。また、この場合、ノズルつまりやインクの沈降などが顕著となりやすく、安定した連続印刷プロセスは望みにくいインクジェット記録方式と比較すると、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。更に、着色剤の粒子の表面積が小さくなると十分な帯電量が得られず、安定した連続印刷プロセスとして成立しない電子写真方式と比較しても、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。
【0048】
前記染料としては、例えば、モノアゾ染料、ポリアゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、スチルベンアゾ染料、チアゾールアゾ染料、アントラキノン誘導体、アントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、フタロシアニン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、ポリメチン染料、アゾメチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などが挙げられる。
【0049】
前記着色剤の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
記録媒体に浸透する液体の着色剤を用いた場合、記録媒体に付与した着色剤がフェザリングやブリーディングを発生することがあるが、本発明の飛翔体発生方法で取り扱いが可能である高粘度の着色剤にすると、記録媒体への浸透速度に対して乾きのほうが速いため、特にブリーディングの減少によって発色性の向上とエッジ部分の鮮鋭化が図れ、高画質の画像を形成することができる。また、着色剤を重ねて付与させる重ね打ちによる階調表現を行う場合にも、着色剤の量の増加による滲みも少なくすることができる。
更に、この飛翔体発生方法は、液体の着色剤を飛翔させて付与させるものであるため、例えば、フィルム状のドナー基板から熱により着色剤を溶融転写するいわゆる熱転写方式と比較すると、記録媒体に微小な凹凸が存在していても良好に記録を行うことができる。
記録媒体に浸透する液体の着色剤を用いた場合、記録媒体に付与した着色剤がフェザリングやブリーディングを発生することがあるが、本発明の飛翔体発生方法で取り扱いが可能である高粘度の着色剤にすると、記録媒体への浸透速度に対して乾きのほうが速いため、特にブリーディングの減少によって発色性の向上とエッジ部分の鮮鋭化が図れ、高画質の画像を形成することができる。また、着色剤を重ねて付与させる重ね打ちによる階調表現を行う場合にも、着色剤の量の増加による滲みも少なくすることができる。
更に、この飛翔体発生方法は、液体の着色剤を飛翔させて付与させるものであるため、例えば、フィルム状のドナー基板から熱により着色剤を溶融転写するいわゆる熱転写方式と比較すると、記録媒体に微小な凹凸が存在していても良好に記録を行うことができる。
【0050】
前記光吸収材の２５℃における粘度η２としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１Ｐａ・ｓ以上１００Ｐａ・ｓ以下が好ましく、２Ｐａ・ｓ以上２０Ｐａ・ｓ以下がより好ましい。
なお、前記光吸収材の２５℃における粘度η２は、例えば、前記基板上に付与する前の前記光吸収材を回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ）、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
なお、前記光吸収材の２５℃における粘度η２は、例えば、前記基板上に付与する前の前記光吸収材を回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ）、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
【0051】
前記光吸収材の２５℃における静的（プレート法）表面張力σ２としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０ｍＮ／ｍ以上８０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、３０ｍＮ／ｍ以上８０ｍＮ／ｍ以下がより好ましい。
前記光吸収材の２５℃における静的（プレート法）表面張力σ２の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）などが挙げられる。
前記光吸収材の２５℃における静的（プレート法）表面張力σ２の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）などが挙げられる。
【0052】
－－飛散抑制材層－－
前記飛散抑制材層は、飛散抑制材を含有する層である。
前記飛散抑制材層は、前記光吸収材層の上に形成されていれば特に制限はなく、単層であっても複層であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。前記飛散抑制材層が単層である場合には、単に、飛散抑制材膜と称することがある。
また、前記飛散抑制材層は、基板上に一体的に層（膜）を形成していてよく、断続的に層（膜）を形成していてもよい。
前記飛散抑制材層は、飛散抑制材を含有する層である。
前記飛散抑制材層は、前記光吸収材層の上に形成されていれば特に制限はなく、単層であっても複層であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。前記飛散抑制材層が単層である場合には、単に、飛散抑制材膜と称することがある。
また、前記飛散抑制材層は、基板上に一体的に層（膜）を形成していてよく、断続的に層（膜）を形成していてもよい。
【0053】
－－－飛散抑制材－－－
前記飛散抑制材としては、前記光吸収材層に対して特定の物性を満足するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記特定の物性としては、例えば、前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１と、前記光吸収材層の２５℃における粘度η２とが、η２＞η１を満たすこと、前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１と、前記光吸収材層の２５℃における静的表面張力σ２とが、σ２＜σ１を満たすこと、などが挙げられる。これらは全てを満たす必要はなく、少なくともいずれかを満たせばよい。
前記飛散抑制材としては、前記光吸収材層に対して特定の物性を満足するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記特定の物性としては、例えば、前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１と、前記光吸収材層の２５℃における粘度η２とが、η２＞η１を満たすこと、前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１と、前記光吸収材層の２５℃における静的表面張力σ２とが、σ２＜σ１を満たすこと、などが挙げられる。これらは全てを満たす必要はなく、少なくともいずれかを満たせばよい。
【0054】
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１及び前記光吸収材の２５℃における粘度η２、前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１と、前記光吸収材の２５℃における静的表面張力σ２の少なくともいずれかが、上記条件を満たすことにより、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる際に、前記光吸収材層の飛散を抑制することができる。
【0055】
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１は、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下が好ましく、０．００２Ｐａ・ｓ以上８０Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、４Ｐａ・ｓ以上８０Ｐａ・ｓ以下が更に好ましく、６Ｐａ・ｓ以上６０Ｐａ・ｓ以下が最も好ましい。前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１が、８０Ｐａ・ｓ以下であると、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる際に、前記光吸収材層の飛散を抑制する効果を向上させることができる。
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１は、例えば、前記基板上に付与する前の前記飛散抑制材をレオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１は、例えば、前記基板上に付与する前の前記飛散抑制材をレオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
【0056】
前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１は、２９ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下が好ましく、４０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下がより好ましい。前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１が、２９ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であると、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる際に、前記光吸収材層の飛散を抑制する効果を向上させることができる。
前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）などが挙げられる。
前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）などが挙げられる。
【0057】
前記飛散抑制材としては、上記の物性を満たしていれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシメチルセルロース３％水溶液（２５℃における静的表面張力σ１：７５．６７ｍＮ／ｍ）、カルボキシメチルセルロース４％水溶液（２５℃における静的表面張力σ１：７２．７５ｍＮ／ｍ）、水（２５℃における静的表面張力σ１：７１．１７ｍＮ／ｍ）などが挙げられる。
【0058】
本発明においては、前記ドナー基板を用いて、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる。
本発明において、「飛翔させる」とは、光吸収材層の一部の光吸収材が前記ドナー基板から脱離することを意味する。
本発明において、「飛翔させる」とは、光吸収材層の一部の光吸収材が前記ドナー基板から脱離することを意味する。
【0059】
前記光としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザービームが挙げられる。
前記レーザービームとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一般的なレーザービームであるガウスレーザービーム、螺旋状の等位相面を有する光渦レーザービームなどが挙げられる。これらの中でも光渦レーザービームが、飛翔させる前記光吸収材を飛散させにくい点で好ましい。
前記レーザービームとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一般的なレーザービームであるガウスレーザービーム、螺旋状の等位相面を有する光渦レーザービームなどが挙げられる。これらの中でも光渦レーザービームが、飛翔させる前記光吸収材を飛散させにくい点で好ましい。
【0060】
前記光渦レーザービームについてより説明する。
一般的なレーザービームは、位相が揃っているため、図１Ａに示すように平面状の等位相面（波面）を有している。レーザービームのポインティングベクトルの方向が平面状の等位相面の直交方向であることにより、レーザービームの照射方向と同じ方向となるため、レーザービームが光吸収材に照射された場合には、光吸収材に対して照射方向に力が作用する。しかし、レーザービームの断面における光強度分布が、図１Ｂに示すようにビームの中心が最も強い正規分布（ガウシアン分布）であるため、光吸収材が飛散しやすい。また、位相分布の観察を行うと図１Ｃに示すように位相差がないことが確認される。
これに対し、光渦レーザービームは、図２Ａに示すように螺旋状の等位相面を有している。光渦レーザービームのポインティングベクトルの方向が螺旋状の等位相面に対して直交方向であるため、光渦レーザービームが光吸収材に照射された場合には、直交方向に力が作用する。このため、図２Ｂに示すように光強度分布がビームの中央が零となる凹んだドーナツ状の分布となり、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加される。すると、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与する。また、位相分布の観察を行うと図２Ｃに示すように位相差が発生していることが確認される。
一般的なレーザービームは、位相が揃っているため、図１Ａに示すように平面状の等位相面（波面）を有している。レーザービームのポインティングベクトルの方向が平面状の等位相面の直交方向であることにより、レーザービームの照射方向と同じ方向となるため、レーザービームが光吸収材に照射された場合には、光吸収材に対して照射方向に力が作用する。しかし、レーザービームの断面における光強度分布が、図１Ｂに示すようにビームの中心が最も強い正規分布（ガウシアン分布）であるため、光吸収材が飛散しやすい。また、位相分布の観察を行うと図１Ｃに示すように位相差がないことが確認される。
これに対し、光渦レーザービームは、図２Ａに示すように螺旋状の等位相面を有している。光渦レーザービームのポインティングベクトルの方向が螺旋状の等位相面に対して直交方向であるため、光渦レーザービームが光吸収材に照射された場合には、直交方向に力が作用する。このため、図２Ｂに示すように光強度分布がビームの中央が零となる凹んだドーナツ状の分布となり、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加される。すると、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与する。また、位相分布の観察を行うと図２Ｃに示すように位相差が発生していることが確認される。
【0061】
図３Ａは、一般的なレーザービームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。図３Ｂは、光渦レーザービームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。
図３Ａと図３Ｂとを比較すると、図３Ａのほうが図３Ｂよりも光吸収材が飛散していることが確認できる。このことから、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加され、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与することがわかる。
図３Ａと図３Ｂとを比較すると、図３Ａのほうが図３Ｂよりも光吸収材が飛散していることが確認できる。このことから、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加され、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与することがわかる。
【0062】
光渦レーザービームか否かを判別する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述の位相分布の観察、干渉計測などが挙げられ、干渉計測が一般的である。
干渉計測は、レーザービームプロファイラ（Ｓｐｉｒｉｃｏｎ社製レーザービームプロファイラ、浜松ホトニクス株式会社製レーザービームプロファイラなど）を用いて観察でき、干渉計測した結果の一例を図４Ａ、図４Ｂに示す。
図４Ａは、光渦レーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図であり、図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
光渦レーザービームを干渉計測すると、図４Ａに示すように、エネルギー分布がドーナツ状であって、図１Ｃと同様に中心に光強度０の点を持つレーザービームであることが確認できる。
一方、中心に光強度０の点を有する一般的なレーザービームを干渉計測すると、図４Ｂに示すように、図４Ａで示した光渦レーザービームの干渉計測と類似しているが、ドーナツ状部のエネルギー分布が一様ではないことから、光渦レーザービームとの差異が確認できる。
干渉計測は、レーザービームプロファイラ（Ｓｐｉｒｉｃｏｎ社製レーザービームプロファイラ、浜松ホトニクス株式会社製レーザービームプロファイラなど）を用いて観察でき、干渉計測した結果の一例を図４Ａ、図４Ｂに示す。
図４Ａは、光渦レーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図であり、図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
光渦レーザービームを干渉計測すると、図４Ａに示すように、エネルギー分布がドーナツ状であって、図１Ｃと同様に中心に光強度０の点を持つレーザービームであることが確認できる。
一方、中心に光強度０の点を有する一般的なレーザービームを干渉計測すると、図４Ｂに示すように、図４Ａで示した光渦レーザービームの干渉計測と類似しているが、ドーナツ状部のエネルギー分布が一様ではないことから、光渦レーザービームとの差異が確認できる。
【0063】
－光吸収材飛翔手段－
前記光吸収材飛翔手段は、 前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射する、換言すると、前記光吸収材を表面に配した基板における、前記光吸収材が配された側とは反対側の基板の表面に光を照射することにより、光の照射方向に前記光吸収材を飛翔させる。
前記光吸収材飛翔手段は、 前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射する、換言すると、前記光吸収材を表面に配した基板における、前記光吸収材が配された側とは反対側の基板の表面に光を照射することにより、光の照射方向に前記光吸収材を飛翔させる。
【0064】
また、光吸収材飛翔手段としては、例えば、レーザー光源と、光渦変換部と、波長変換部とを有するものを用いることができ、光吸収材飛翔手段は、更に必要に応じて、その他の部材を有することが好ましい。
【0065】
－－レーザー光源－－
前記レーザー光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザービームを発生させる固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザーなどが挙げられ、パルス発振可能なものが好ましい。
前記固体レーザーとしては、例えば、ＹＡＧレーザー、チタンサファイアレーザーなどが挙げられる。
前記気体レーザーとしては、例えば、アルゴンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、炭酸ガスレーザーなどが挙げられる。
これらの中でも、出力が３０ｍＷ程度の半導体レーザーが、装置の小型化及び低コスト化の点で、好ましい。ただし、本実施例では、実験的にチタンサファイアレーザーを使用した。
前記レーザービームの波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｎｍ以上１１μｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのビーム径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ナノ秒以上１００ナノ秒以下が好ましく、２ナノ秒以上１０ナノ秒以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス周波数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０Ｈｚ以上２００Ｈｚ以下が好ましく、２０Ｈｚ以上１００Ｈｚ以下がより好ましい。
なお、前記レーザー光源としては、光渦レーザービームを出力可能なレーザー光源でもよい。
前記レーザー光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザービームを発生させる固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザーなどが挙げられ、パルス発振可能なものが好ましい。
前記固体レーザーとしては、例えば、ＹＡＧレーザー、チタンサファイアレーザーなどが挙げられる。
前記気体レーザーとしては、例えば、アルゴンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、炭酸ガスレーザーなどが挙げられる。
これらの中でも、出力が３０ｍＷ程度の半導体レーザーが、装置の小型化及び低コスト化の点で、好ましい。ただし、本実施例では、実験的にチタンサファイアレーザーを使用した。
前記レーザービームの波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｎｍ以上１１μｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのビーム径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ナノ秒以上１００ナノ秒以下が好ましく、２ナノ秒以上１０ナノ秒以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス周波数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０Ｈｚ以上２００Ｈｚ以下が好ましく、２０Ｈｚ以上１００Ｈｚ以下がより好ましい。
なお、前記レーザー光源としては、光渦レーザービームを出力可能なレーザー光源でもよい。
【0066】
－－光渦変換部－－
前記光渦変換部としては、レーザービームを光渦レーザービームに変換できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回折光学素子、マルチモードファイバ、液晶位相変調器などが挙げられる。
前記回折光学素子としては、例えば、螺旋位相板、ホログラム素子などが挙げられる。これらの中でも、螺旋位相板（Ｓｐｉｒａｌ Ｐｈａｓｅ Ｐｌａｔｅ）が好ましい。
なお、前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、前記光渦変換部を用いる方法に限らず、例えば、レーザー共振器から光渦を固有モードとして発振させる方法、ホログラム素子を共振器に挿入する方法などが挙げられる。他の前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、例えば、ドーナツビームに変換した励起光を用いる方法、暗点を有する共振器ミラーを用いる方法、側面励起固体レーザーで発生する熱レンズ効果を空間フィルタとして用いて光渦モード発振する方法などが挙げられる。
前記光渦変換部としては、レーザービームを光渦レーザービームに変換できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回折光学素子、マルチモードファイバ、液晶位相変調器などが挙げられる。
前記回折光学素子としては、例えば、螺旋位相板、ホログラム素子などが挙げられる。これらの中でも、螺旋位相板（Ｓｐｉｒａｌ Ｐｈａｓｅ Ｐｌａｔｅ）が好ましい。
なお、前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、前記光渦変換部を用いる方法に限らず、例えば、レーザー共振器から光渦を固有モードとして発振させる方法、ホログラム素子を共振器に挿入する方法などが挙げられる。他の前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、例えば、ドーナツビームに変換した励起光を用いる方法、暗点を有する共振器ミラーを用いる方法、側面励起固体レーザーで発生する熱レンズ効果を空間フィルタとして用いて光渦モード発振する方法などが挙げられる。
【0067】
－－波長変換部－－
前記波長変換部としては、前記光渦レーザービームに円偏光を付与することにより、以下の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪＬ，Ｓが、|ＪＬ，Ｓ|≧０となる条件を満たすことができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記波長変換部としては、例えば、１／４波長板などが挙げられる。１／４波長板の場合には、光学軸を＋４５°又は－４５°以外に設置して光渦レーザービームに楕円状の円偏光（楕円偏光）を付与してもよいが、光学軸を＋４５°又は－４５°に設置して前記光渦レーザービームに真円状の円偏光を付与し、上記の条件を満たすことが好ましい。これにより、飛翔体発生装置は、前記光吸収材を安定的に飛翔させ、飛散を抑制した形状で被付与物に付与させる効果を大きくすることができる。
前記波長変換部としては、前記光渦レーザービームに円偏光を付与することにより、以下の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪＬ，Ｓが、|ＪＬ，Ｓ|≧０となる条件を満たすことができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記波長変換部としては、例えば、１／４波長板などが挙げられる。１／４波長板の場合には、光学軸を＋４５°又は－４５°以外に設置して光渦レーザービームに楕円状の円偏光（楕円偏光）を付与してもよいが、光学軸を＋４５°又は－４５°に設置して前記光渦レーザービームに真円状の円偏光を付与し、上記の条件を満たすことが好ましい。これにより、飛翔体発生装置は、前記光吸収材を安定的に飛翔させ、飛散を抑制した形状で被付与物に付与させる効果を大きくすることができる。
【0068】
【数1】
【数2】
なお、トポロジカルチャージとは、光渦レーザービームの円筒座標系における方位方向の周期的境界条件から現れる量子数を意味する。また、ビームウエストサイズとは、光渦レーザービームにおけるビーム径の最小値を意味する。
【0069】
Ｌは、波長板における螺旋波面の巻数で決まるパラメータである。Ｓは、波長板における円偏光の向きで決まるパラメータである。なお、Ｌ及びＳはいずれも整数である。また、Ｌ及びＳの符号は、それぞれ螺旋の向き（時計回り、反時計回り）を表す。
なお、光渦レーザービームにおけるトータルの回転モーメントをＪとすると、Ｊ＝Ｌ＋Ｓと表すことができる。
なお、光渦レーザービームにおけるトータルの回転モーメントをＪとすると、Ｊ＝Ｌ＋Ｓと表すことができる。
【0070】
本発明の飛翔体発生装置は、例えば、レーザービームを光渦レーザービームに変換する光渦変換部、及び光渦レーザービームに円偏光を付与する波長変換部を備え、|ＪＬ，Ｓ|≧０と設定することにより、高粘度又は固体の光吸収材の飛翔物の直線指向性を発現させ、光吸収材の飛散を抑制する効果を向上させることができる。
【0071】
－－その他の部材－－
その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビーム径変更部材、ビーム波長変更素子、出力調整部などが挙げられる。
その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビーム径変更部材、ビーム波長変更素子、出力調整部などが挙げられる。
【0072】
－－－ビーム径変更部材－－－
ビーム径変更部材としては、レーザービーム又は光渦レーザービームのビーム径を変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、集光レンズなどが挙げられる。
光渦レーザービームのビーム径（照射径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。光渦レーザービームの照射径が１００μｍ以下であると、高解像度の画像を形成しやすい点で好ましい。
なお、ビーム径は、例えば、レーザースポット径及び集光レンズにより変更することが可能である。
また、光吸収材が分散体の場合、ビーム径としては、光吸収材の体積平均粒径の最大値以上が好ましく、分散体の最大値の３倍がより好ましい。ビーム径がより好ましい範囲内であると、光吸収材を安定して飛翔させることが可能となる点で有利である。
ビーム径変更部材としては、レーザービーム又は光渦レーザービームのビーム径を変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、集光レンズなどが挙げられる。
光渦レーザービームのビーム径（照射径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。光渦レーザービームの照射径が１００μｍ以下であると、高解像度の画像を形成しやすい点で好ましい。
なお、ビーム径は、例えば、レーザースポット径及び集光レンズにより変更することが可能である。
また、光吸収材が分散体の場合、ビーム径としては、光吸収材の体積平均粒径の最大値以上が好ましく、分散体の最大値の３倍がより好ましい。ビーム径がより好ましい範囲内であると、光吸収材を安定して飛翔させることが可能となる点で有利である。
【0073】
－－－ビーム波長変更素子－－－
ビーム波長変更素子としては、レーザービーム又は光渦レーザービームの波長を、光吸収材が吸収可能であり、かつ後述する基板を透過可能である波長に変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。ビーム波長変更素子としては、例えば、ＫＴＰ結晶、ＢＢＯ結晶、ＬＢＯ結晶、ＣＬＢＯ結晶などが挙げられる。
ビーム波長変更素子としては、レーザービーム又は光渦レーザービームの波長を、光吸収材が吸収可能であり、かつ後述する基板を透過可能である波長に変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。ビーム波長変更素子としては、例えば、ＫＴＰ結晶、ＢＢＯ結晶、ＬＢＯ結晶、ＣＬＢＯ結晶などが挙げられる。
【0074】
－－－出力調整部－－－
出力調整部としては、レーザービーム又は光渦レーザービームを適正な出力値に調整することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラスなどが挙げられる。
出力調整部としては、レーザービーム又は光渦レーザービームを適正な出力値に調整することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラスなどが挙げられる。
【0075】
光吸収材に照射する光渦レーザービームの出力値としては、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、以下では「出力値」を「照射エネルギー」と称することもある。
光渦レーザービームの照射エネルギーとしては、光吸収材の粘度や膜厚によっても適正値が変化するため、適宜調整されることが好ましいが、具体的には、１００μＪ／ドット以下がより好ましく、６０μＪ／ドット以下が更に好ましい。光渦レーザービームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下であると、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現しやすい点で有利である。
光渦レーザービームの照射エネルギーとしては、光吸収材の粘度や膜厚によっても適正値が変化するため、適宜調整されることが好ましいが、具体的には、１００μＪ／ドット以下がより好ましく、６０μＪ／ドット以下が更に好ましい。光渦レーザービームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下であると、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現しやすい点で有利である。
【0076】
＜その他の工程及びその他の手段＞
前記その他の工程としては、例えば、光吸収材供給工程、光走査工程、制御工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、例えば、光吸収材供給手段、光走査手段、制御手段などが挙げられる。
また、光吸収材飛翔手段、光吸収材供給手段、及び光走査手段を一体として光吸収材飛翔ユニットとして扱ってもよい。
前記その他の工程としては、例えば、光吸収材供給工程、光走査工程、制御工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、例えば、光吸収材供給手段、光走査手段、制御手段などが挙げられる。
また、光吸収材飛翔手段、光吸収材供給手段、及び光走査手段を一体として光吸収材飛翔ユニットとして扱ってもよい。
【0077】
＜＜光吸収材供給工程及び光吸収材供給手段＞＞
前記光吸収材供給工程としては、前記光吸収材飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記光吸収材を供給する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光吸収材供給手段を用いて好適に行うことができる。
前記光吸収材供給手段としては、前記光吸収材飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記光吸収材を供給する手段であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光吸収材供給工程としては、前記光吸収材飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記光吸収材を供給する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光吸収材供給手段を用いて好適に行うことができる。
前記光吸収材供給手段としては、前記光吸収材飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記光吸収材を供給する手段であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【0078】
前記光吸収材供給手段としては、例えば、円筒状の基板などが挙げられる。前記円筒状の基板を用いる場合には、光路上に前記円筒状の基板を配置し、前記円筒状の基板を介して、前記ドナー基板に前記光吸収材を供給するようにしてもよい。
より具体的には、前記光吸収材が液体であって、前記ドナー基板に光吸収材を供給する場合には、前記光吸収材供給手段として供給ローラ及び規制ブレードを設けることが、非常に簡単な構成で光吸収材を基板の表面に一定の平均厚みで供給することができるため好ましい。
この場合、前記供給ローラは、前記光吸収材を貯蔵する貯蔵槽に表面が一部浸漬し、前記光吸収材を表面に担持しながら回転して、前記ドナー基板に当接することにより前記光吸収材を供給する。前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記貯蔵槽の下流側に配置され、前記供給ローラが担持した前記光吸収材を規制して平均厚みを均一にし、飛翔させる前記光吸収材の量を安定させる。供給する前記光吸収材の平均厚みを非常に薄くすることにより、飛翔させる前記光吸収材の量を低減できるため、前記光吸収材を飛散が抑制された微小なドットとして前記被付与物に付与可能とし、網点が太るドットゲインを抑制することができる。なお、前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記供給ローラの下流側に配置されていてもよい。
より具体的には、前記光吸収材が液体であって、前記ドナー基板に光吸収材を供給する場合には、前記光吸収材供給手段として供給ローラ及び規制ブレードを設けることが、非常に簡単な構成で光吸収材を基板の表面に一定の平均厚みで供給することができるため好ましい。
この場合、前記供給ローラは、前記光吸収材を貯蔵する貯蔵槽に表面が一部浸漬し、前記光吸収材を表面に担持しながら回転して、前記ドナー基板に当接することにより前記光吸収材を供給する。前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記貯蔵槽の下流側に配置され、前記供給ローラが担持した前記光吸収材を規制して平均厚みを均一にし、飛翔させる前記光吸収材の量を安定させる。供給する前記光吸収材の平均厚みを非常に薄くすることにより、飛翔させる前記光吸収材の量を低減できるため、前記光吸収材を飛散が抑制された微小なドットとして前記被付与物に付与可能とし、網点が太るドットゲインを抑制することができる。なお、前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記供給ローラの下流側に配置されていてもよい。
【0079】
また、前記光吸収材が高粘度である場合には、前記供給ローラの材質は、前記ドナー基板と確実に接触させるようにする点で、少なくとも表面が弾性を有するものが好ましい。前記光吸収材が比較的低粘度である場合における、前記供給ローラとしては、例えば、精密ウェットコーティングで用いられるような、グラビアロール、マイクログラビアロール、フォーワードロールなどが挙げられる。
【0080】
更に、前記供給ローラを設けない前記光吸収材供給手段としては、前記貯蔵槽内の前記光吸収材に前記ドナー基板を直接接触させた後にワイヤーバーなどで余分な前記光吸収材を掻き取ることにより前記ドナー基板の表面に前記光吸収材の層を形成するようにしてもよい。
なお、前記貯蔵槽は、前記光吸収材供給手段とは別に設け、ホース等で前記光吸収材を前記光吸収材供給手段に供給するようにしてもよい。
なお、前記貯蔵槽は、前記光吸収材供給手段とは別に設け、ホース等で前記光吸収材を前記光吸収材供給手段に供給するようにしてもよい。
【0081】
＜＜光走査工程及び光走査手段＞＞
前記光走査工程としては、前記光を前記光吸収材に走査させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光走査手段を用いて好適に行うことができる。
前記光走査手段としては、前記光を前記光吸収材に対して走査可能であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記光走査手段は、光吸収材飛翔手段から照射された前記光を前記光吸収材に向けて反射させる反射鏡と、反射鏡の角度及び位置を変化させて前記光を前記光吸収材に対して走査させる反射鏡駆動部とを有するようにしてもよい。
前記光走査工程としては、前記光を前記光吸収材に走査させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光走査手段を用いて好適に行うことができる。
前記光走査手段としては、前記光を前記光吸収材に対して走査可能であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記光走査手段は、光吸収材飛翔手段から照射された前記光を前記光吸収材に向けて反射させる反射鏡と、反射鏡の角度及び位置を変化させて前記光を前記光吸収材に対して走査させる反射鏡駆動部とを有するようにしてもよい。
【0082】
＜＜制御工程及び制御手段＞＞
前記制御工程は、各工程を制御する工程であり、制御手段により好適に行うことができる。
前記制御手段としては、各手段の動きを制御することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シーケンサー、コンピュータ等の機器が挙げられる。
前記制御工程は、各工程を制御する工程であり、制御手段により好適に行うことができる。
前記制御手段としては、各手段の動きを制御することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シーケンサー、コンピュータ等の機器が挙げられる。
【0083】
次に、本発明における飛翔体発生装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、本発明の飛翔体発生装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
なお、本発明の飛翔体発生装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
【0084】
図５Ａは、本発明の飛翔体発生装置の一例を示す説明図である。
図５Ａにおいて、飛翔体発生装置３００は、光吸収材飛翔手段１と、光を吸収する光吸収材２０と、被付与物３０と、ドナー基板４０とを有する。前記ドナー基板４０は、図示しない飛散抑制材層を光吸収材２０のドナー基板４０とは反対側の上面に有している。
前記飛翔体発生装置３００は、前記ドナー基板４０に担持されている前記光吸収材２０に、前記光吸収材飛翔手段１によりレーザービーム１１２を照射し、前記レーザービーム１２のエネルギーにより前記光吸収材２０を照射方向に飛翔させる。図５中、被付与物３０は飛翔させた前記光吸収材２０を付与させる対象である。被付与物３０を前記光吸収材２０の対面に配置しておくことで、前記被付与物３０に前記光吸収材２０を付与することができる。
図５Ａにおいて、飛翔体発生装置３００は、光吸収材飛翔手段１と、光を吸収する光吸収材２０と、被付与物３０と、ドナー基板４０とを有する。前記ドナー基板４０は、図示しない飛散抑制材層を光吸収材２０のドナー基板４０とは反対側の上面に有している。
前記飛翔体発生装置３００は、前記ドナー基板４０に担持されている前記光吸収材２０に、前記光吸収材飛翔手段１によりレーザービーム１１２を照射し、前記レーザービーム１２のエネルギーにより前記光吸収材２０を照射方向に飛翔させる。図５中、被付与物３０は飛翔させた前記光吸収材２０を付与させる対象である。被付与物３０を前記光吸収材２０の対面に配置しておくことで、前記被付与物３０に前記光吸収材２０を付与することができる。
【0085】
前記光吸収材飛翔手段１は、レーザー光源２と、ビーム径変更部材３及び７と、ビーム波長変更部材４と、光渦変換部５と、波長変換部６と、を有している。
【0086】
前記レーザー光源２は、例えば、チタンサファイアレーザーであり、パルス発振させたレーザービーム１１を発生させ、前記ビーム径変更部材３に照射する。
前記ビーム径変更部材３は、例えば、集光レンズであり、前記レーザー光源２が発生させた前記レーザービーム１１の光路におけるレーザー光源２の下流に配置され、レーザービーム１１の径を変更する。
前記ビーム波長変更部材４は、例えば、ＫＴＰ結晶であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム径変更部材３の下流に配置され、前記レーザービーム１１の波長を前記光吸収材２０が吸収可能な波長に変更する。
前記光渦変換部５は、例えば、螺旋位相板であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム波長変更部材４の下流に配置され、前記レーザービーム１１を光渦レーザービーム１２に変換する。
前記波長変換部６は、例えば、１／４波長板であり、前記光渦レーザービーム１２に円偏光を付与する。
前記ビーム径変更部材３は、例えば、集光レンズであり、前記レーザー光源２が発生させた前記レーザービーム１１の光路におけるレーザー光源２の下流に配置され、レーザービーム１１の径を変更する。
前記ビーム波長変更部材４は、例えば、ＫＴＰ結晶であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム径変更部材３の下流に配置され、前記レーザービーム１１の波長を前記光吸収材２０が吸収可能な波長に変更する。
前記光渦変換部５は、例えば、螺旋位相板であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム波長変更部材４の下流に配置され、前記レーザービーム１１を光渦レーザービーム１２に変換する。
前記波長変換部６は、例えば、１／４波長板であり、前記光渦レーザービーム１２に円偏光を付与する。
【0087】
前記光吸収材２０は、前記光吸収材飛翔手段１から前記光渦レーザービーム１２を照射され、前記光渦レーザービーム１２の径の範囲におけるエネルギーを受けて飛翔する。被付与物３０を前記光吸収材２０の対面に配置しておくことで、前記被付与物３０に前記光吸収材２０を付与することができる。
なお、飛翔した前記光吸収材２０は、前記光渦レーザービーム１２により付与された、適度なエネルギーによる前方推進とジャイロ効果により、ビーム径の中心軸近傍に収束しながら捩じ切られることにより、周辺への飛散を抑制されつつ前記被付与物３０に付与する。
このとき、飛翔する前記光吸収材２０の飛翔量は、前記光渦レーザービーム１２が照射された前記光吸収材２０の面積のうち一部であり、前記波長変換部６などにより調整することができる。
なお、飛翔した前記光吸収材２０は、前記光渦レーザービーム１２により付与された、適度なエネルギーによる前方推進とジャイロ効果により、ビーム径の中心軸近傍に収束しながら捩じ切られることにより、周辺への飛散を抑制されつつ前記被付与物３０に付与する。
このとき、飛翔する前記光吸収材２０の飛翔量は、前記光渦レーザービーム１２が照射された前記光吸収材２０の面積のうち一部であり、前記波長変換部６などにより調整することができる。
【0088】
図５Ｂは、本発明の飛翔体発生装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｂにおいて、飛翔体発生装置３０１は、図５Ａに示した飛翔体発生装置３００の各手段などに加え、光走査手段６０とを有している。図５Ｂにおいては、前記ドナー基板４０は、前記ドナー基板４０の長軸方向がレーザービーム１２の照射方向と直交する方向に配されている。この飛翔体発生装置３０１は、前記光吸収材飛翔手段１が発生させたレーザービーム１２を、光走査手段６０により前記ドナー基板４０に走査する。これにより、飛翔体発生装置３０１は、前記ドナー基板４０の任意の位置に照射し、光吸収材２０を飛翔させることができる。これにより、前記被付与物３０を前記光吸収材２０の対面に配置し多場合に、前記被付与物３０の任意の位置に前記光吸収材２０を付与することができる。
図５Ｂにおいて、飛翔体発生装置３０１は、図５Ａに示した飛翔体発生装置３００の各手段などに加え、光走査手段６０とを有している。図５Ｂにおいては、前記ドナー基板４０は、前記ドナー基板４０の長軸方向がレーザービーム１２の照射方向と直交する方向に配されている。この飛翔体発生装置３０１は、前記光吸収材飛翔手段１が発生させたレーザービーム１２を、光走査手段６０により前記ドナー基板４０に走査する。これにより、飛翔体発生装置３０１は、前記ドナー基板４０の任意の位置に照射し、光吸収材２０を飛翔させることができる。これにより、前記被付与物３０を前記光吸収材２０の対面に配置し多場合に、前記被付与物３０の任意の位置に前記光吸収材２０を付与することができる。
【0089】
前記光走査手段６０は、レーザービーム１２の光路における光吸収材飛翔手段１の下流に配置され、反射鏡６１を有している。
前記反射鏡６１は、反射鏡駆動手段により図５Ｂ中矢印Ｓで示す走査方向に可動し、レーザービーム１２を前記光吸収材２０の任意の位置に反射する。
なお、前記光走査手段６０は、例えば、前記光吸収材飛翔手段１自体を移動させるか、前記光吸収材飛翔手段１を回動させて前記レーザービーム１２の照射方向を変化させるようにしてもよい。あるいは、前記光走査手段６０は、前記反射鏡６１として前記ポリゴンミラーを用いることにより、任意の位置にレーザービーム１２を走査させるようにしてもよい。
前記反射鏡６１は、反射鏡駆動手段により図５Ｂ中矢印Ｓで示す走査方向に可動し、レーザービーム１２を前記光吸収材２０の任意の位置に反射する。
なお、前記光走査手段６０は、例えば、前記光吸収材飛翔手段１自体を移動させるか、前記光吸収材飛翔手段１を回動させて前記レーザービーム１２の照射方向を変化させるようにしてもよい。あるいは、前記光走査手段６０は、前記反射鏡６１として前記ポリゴンミラーを用いることにより、任意の位置にレーザービーム１２を走査させるようにしてもよい。
【0090】
前記ドナー基板４０は、前記レーザービーム１２の光路における前記光走査手段６０の下流に配置され、例えば、前記光吸収材２０が高粘度の液体である場合、前記光吸収材２０が塗布されて固定する目的で用いられる。この前記ドナー基板４０は、前記光を透過可能であって、前記光吸収材２０を前記レーザービーム１２が照射される面とは反対側の面に担持している。
また、前記光吸収材２０が前記ドナー基板４０に担持される段階で、層を形成した光吸収材２０の平均厚みが一定となるように制御することにより、光吸収材２０の飛翔量を安定させることができる。
なお、光吸収材飛翔手段１と、前記光走査手段６０とを合わせたものをレーザービーム照射ユニット１００と称する。
また、前記光吸収材２０が前記ドナー基板４０に担持される段階で、層を形成した光吸収材２０の平均厚みが一定となるように制御することにより、光吸収材２０の飛翔量を安定させることができる。
なお、光吸収材飛翔手段１と、前記光走査手段６０とを合わせたものをレーザービーム照射ユニット１００と称する。
【0091】
図５Ｃは、本発明の飛翔体発生装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｃにおいて、飛翔体発生装置３０１ａは、図５Ｂに示した前記飛翔体発生装置３０１における前記光走査手段６０として、ガルバノスキャナ（ガルバノミラー）６２ａ及び６２ｂを有する。前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂは、それぞれが独立した走査方向（２次元）に可動し、前記レーザービーム１２を前記光吸収材２０の任意の位置に反射することができる。前記光走査手段６０として前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂを用いることにより、前記レーザービーム１２の走査スピード及び走査精度をより向上させることができる。
また、前記飛翔体発生装置３０１ａにおいては、例えば、ガルバノスキャナ６２ｂと基板４０の間に、ｆθレンズを配置することも好ましい。
図５Ｃにおいて、飛翔体発生装置３０１ａは、図５Ｂに示した前記飛翔体発生装置３０１における前記光走査手段６０として、ガルバノスキャナ（ガルバノミラー）６２ａ及び６２ｂを有する。前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂは、それぞれが独立した走査方向（２次元）に可動し、前記レーザービーム１２を前記光吸収材２０の任意の位置に反射することができる。前記光走査手段６０として前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂを用いることにより、前記レーザービーム１２の走査スピード及び走査精度をより向上させることができる。
また、前記飛翔体発生装置３０１ａにおいては、例えば、ガルバノスキャナ６２ｂと基板４０の間に、ｆθレンズを配置することも好ましい。
【0092】
本発明の飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置の用途としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像形成、立体造形物の製造、プリンタブル回路形成などが挙げられる。
【0093】
（画像形成方法及び画像形成装置）
本発明の画像形成方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
本発明の画像形成方法に係る画像形成装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段とを有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。
本発明の画像形成方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
本発明の画像形成方法に係る画像形成装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段とを有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。
【0094】
＜光吸収材飛翔工程及び光吸収材飛翔手段＞
前記光吸収材飛翔工程は、本発明の飛翔体発生方法における光吸収材飛翔工程と同様である。
前記光吸収材飛翔手段は、本発明の飛翔体発生装置における光吸収材飛翔手段と同様である。
前記光吸収材飛翔工程は、本発明の飛翔体発生方法における光吸収材飛翔工程と同様である。
前記光吸収材飛翔手段は、本発明の飛翔体発生装置における光吸収材飛翔手段と同様である。
【0095】
＜付与工程及び付与手段＞
前記付与工程は、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる工程である。
前記付与手段は、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる手段である。
前記付与工程は前記付与手段により好適に行われる。
なお、本発明において、「付与」は「付着」とほぼ同義の意味である。
前記付与手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光吸収材層から生じさせた前記光吸収材の液柱乃至液滴を被付与物に接触させる機構を備える手段などが挙げられる。具体的には、前記付与手段としては、例えば、被付与物と光吸収材との間隙を調整する機構や、被付与物を搬送する機構などが挙げられる。
前記付与工程は、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる工程である。
前記付与手段は、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる手段である。
前記付与工程は前記付与手段により好適に行われる。
なお、本発明において、「付与」は「付着」とほぼ同義の意味である。
前記付与手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光吸収材層から生じさせた前記光吸収材の液柱乃至液滴を被付与物に接触させる機構を備える手段などが挙げられる。具体的には、前記付与手段としては、例えば、被付与物と光吸収材との間隙を調整する機構や、被付与物を搬送する機構などが挙げられる。
【0096】
－被付与物－
前記被付与物としては、光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴が接触できれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、従来、画像形成装置で用いられている記録媒体や中間転写ベルト、立体造形物を形成するための造形物支持基板などが挙げられる。なお、本明細書においては、前記被付与物を被転写媒体と称することもある。
前記記録媒体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、コート紙、上質紙、フィルム、布、繊維などが挙げられる。
前記被付与物としては、光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴が接触できれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、従来、画像形成装置で用いられている記録媒体や中間転写ベルト、立体造形物を形成するための造形物支持基板などが挙げられる。なお、本明細書においては、前記被付与物を被転写媒体と称することもある。
前記記録媒体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、コート紙、上質紙、フィルム、布、繊維などが挙げられる。
【0097】
前記被付与物と前記光吸収材との間隙（ギャップ、距離）としては、前記被付与物と前記光吸収材とを接触させなければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、０．１０ｍｍ以上１ｍｍ以下がより好ましく、０．１０ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下が特に好ましい。前記被付与物と前記光吸収材との間隙が好ましい範囲内であると、前記被付与物に対する前記光吸収材の付与位置の精度が低下しにくくなる点で有利である。また、前記被付与物と前記光吸収材とを接触させないことにより、前記光吸収材、前記被付与物の組成を選ばず前記光吸収材を前記被付与物に付与させることが可能となる。
更に、間隙は、例えば、被付与物の位置を一定に維持する位置制御手段などにより一定に保たれることが好ましい。この場合、光吸収材及び被付与物の位置変動、平均厚みのバラつきを考慮して各部位を配置することが重要となる。
更に、間隙は、例えば、被付与物の位置を一定に維持する位置制御手段などにより一定に保たれることが好ましい。この場合、光吸収材及び被付与物の位置変動、平均厚みのバラつきを考慮して各部位を配置することが重要となる。
【0098】
また、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均直径（平均ドット径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１００μｍ以下とすることが、形成する画像や立体造形物の解像度をより向上させることができる点で好ましい。
また、前記平均ドット径は、例えば、マイクロスコープ等で前記光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、これを平均することにより求めることができる。
また、前記平均ドット径は、例えば、マイクロスコープ等で前記光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、これを平均することにより求めることができる。
【0099】
さらに、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均直径（ドット径）のばらつきの値としては、１０％以下とすることが好ましく、６％以下とすることがより好ましい。前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均直径のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。
また、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均直径のばらつきの値は、例えば、マイクロスコープ等で光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、各ドットの粒径分布の平均粒径と標準偏差から算出することにより求めることができる。
また、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均直径のばらつきの値は、例えば、マイクロスコープ等で光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、各ドットの粒径分布の平均粒径と標準偏差から算出することにより求めることができる。
【0100】
加えて、前記被付与物に付与された前記光吸収材の位置（ドット位置）のばらつきの値としては、１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。前記被付与物に付与された前記光吸収材の位置のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。なお、前記被付与物に付与された前記光吸収材の位置のばらつきの値としては、例えば、前記光吸収材のドットを一列に付与させる場合には、そのドットの列と直行する方向における、各前記光吸収材の位置のばらつきの値とすることができる。
例えば、マイクロスコープ等で前記光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出した各ドット領域の重心座標を算出、各重心の最小二乗法による近似直線からのずれを算出することにより求めることができる。
例えば、マイクロスコープ等で前記光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出した各ドット領域の重心座標を算出、各重心の最小二乗法による近似直線からのずれを算出することにより求めることができる。
【0101】
前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均厚みが１００μｍ以下であると、前記光吸収材を飛翔させるためのエネルギーを小さくできるため、前記光吸収材の耐久性、前記光吸収材が有機物である場合の組成の分解などが発生しにくくなる点で有利である。なお、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均厚みとしては、記録媒体、目的などにより適宜選択することができる。
【0102】
例えば、一般的なオフセット印刷で用いられるコート紙や平滑なフィルムを記録媒体として用い、色材を含有する前記光吸収材（以下、着色剤と称する）の場合には、前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均厚みとしては、０．５μｍ以上５μｍ以下が好ましい。前記被付与物に付与された前記光吸収材の平均厚みが好ましい範囲内であると、記録媒体の微小な平均厚みの違いによる色差が人間の目でも判別しにくくなるためコート紙でも彩度の高い画像になりやすくなるとともに、網点のドットゲインが顕著とならず鮮鋭な画像が表現しやすくなる点で有利である。
【0103】
また、例えば、オフィスなどで用いられる上質紙など、表面粗さがコート紙やフィルムよりも大きな記録媒体を用いる場合には、着色剤の平均厚みとしては、３μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。平均厚みが好ましい範囲内であると、記録媒体の表面粗さに影響されにくく良好な画質を得やすくなるとともに、特にプロセスカラーの着色剤でフルカラー画像を表現する場合、複数の着色剤の層を重ね合わせても段差感が顕著となりにくい。
【0104】
更に、例えば、布、繊維などを染色する捺染に用いる場合、記録媒体となる綿、絹、化学繊維などに着色剤を付与させるには、着色剤の平均厚みとしては、５μｍ以上の平均厚みが必要となる場合が多い。これは、繊維の太さが紙に比べ大きくなるため、多くの着色剤が必要となる場合が多い。
【0105】
＜その他の手工程及びその他の手段＞
前記その他の工程としては、本発明の飛翔体発生方法におけるその他の工程の他に、例えば、被付与物搬送工程、定着工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、本発明の飛翔体発生装置におけるその他の手段の他に、例えば、被付与物搬送手段、定着手段などが挙げられる。
前記その他の工程としては、本発明の飛翔体発生方法におけるその他の工程の他に、例えば、被付与物搬送工程、定着工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、本発明の飛翔体発生装置におけるその他の手段の他に、例えば、被付与物搬送手段、定着手段などが挙げられる。
【0106】
前記被付与物搬送工程としては、前記被付与物を搬送する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、被付与物搬送手段を用いて好適に行うことができる。
前記被付与物搬送手段としては、前記被付与物を搬送することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、搬送ローラ対などが挙げられる。
前記被付与物搬送手段としては、前記被付与物を搬送することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、搬送ローラ対などが挙げられる。
【0107】
前記定着手段としては、前記被付与物に付与させた前記光吸収材を定着させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱加圧部材を用いた熱圧着方式のものなどが挙げられる。
前記加熱加圧部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱ローラ、加圧ローラ、加熱ローラ及び加圧ローラを組み合わせたものなどが挙げられる。他の加熱加圧部材としては、例えば、これらに定着ベルトを組合せたもの、これらのうち加熱ローラを加熱ブロックに代えたものなどが挙げられる。
前記加熱加圧部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱ローラ、加圧ローラ、加熱ローラ及び加圧ローラを組み合わせたものなどが挙げられる。他の加熱加圧部材としては、例えば、これらに定着ベルトを組合せたもの、これらのうち加熱ローラを加熱ブロックに代えたものなどが挙げられる。
【0108】
前記加圧ローラとしては、前記被付与物搬送手段により搬送される前記被付与物と等速度で加圧面が移動するものが、擦れによる画像劣化を抑制する点で、好ましい。この中でも、表面近傍に弾性層を形成したものが、前記被付与物に対して接触加圧しやすい点で、より好ましい。更に、最表面にシリコーン系の撥水性材料やフッ素化合物などの低表面エネルギーの素材で撥水性表面層を形成した前記加圧ローラが、表面に前記光吸収材が付与することによる画像の乱れを抑制する点で、特に好ましい。
前記シリコーン系の撥水性材料からなる前記撥水性表面層としては、例えば、シリコーン系離型剤の皮膜、シリコーンオイル又は各種変性シリコーンオイルの焼付皮膜、シリコーンワニスの皮膜、シリコーンゴムの皮膜、シリコーンゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
前記フッ素化合物からなる前記撥水性表面層としては、フッ素樹脂の皮膜、有機フッ素化合物の皮膜、フッ素オイルの焼付皮膜又は吸着膜、フッ素ゴムの皮膜、若しくはフッ素ゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
前記シリコーン系の撥水性材料からなる前記撥水性表面層としては、例えば、シリコーン系離型剤の皮膜、シリコーンオイル又は各種変性シリコーンオイルの焼付皮膜、シリコーンワニスの皮膜、シリコーンゴムの皮膜、シリコーンゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
前記フッ素化合物からなる前記撥水性表面層としては、フッ素樹脂の皮膜、有機フッ素化合物の皮膜、フッ素オイルの焼付皮膜又は吸着膜、フッ素ゴムの皮膜、若しくはフッ素ゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
【0109】
前記加熱ローラにおける加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、８０℃以上２００℃以下が好ましい。
【0110】
前記定着ベルトとしては、耐熱性があり、機械的強度が高ければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリイミド、ＰＥＴ、ＰＥＮ等のフィルムなどが挙げられる。また、前記定着ベルトとしては、表面に前記光吸収材が付与することによる画像の乱れを抑制する点で、前記加圧ローラの最表面を形成する材料と同じものを用いることが好ましい。前記定着ベルトは、肉厚を薄くすることができることにより、ベルト自体を加熱するエネルギーを小さくできるため、電源を入れてすぐに使用することができる。このときの温度及び圧力は定着させる光吸収材の組成により変化するが、温度としては２００℃以下が省エネの観点から好ましく、圧力としては１ｋｇ／ｃｍ以下が装置の剛性の点で好ましい。
【0111】
なお、異なる色材を有する２種以上の前記光吸収材を用いる場合は、各色の前記光吸収材が前記被付与物に付与する毎に定着させてもよく、全種の前記光吸収材が前記被付与物に付与して積層された状態で定着させてもよい。
また、前記光吸収材が非常に高粘度であって、乾燥が遅くなり前記被付与物に対する付与速度の向上が困難な場合には、前記被付与物を追加で加熱し、乾燥を促進させてもよい。
更に、前記光吸収材の前記被付与物への浸透及び濡れが遅く、付与させた前記光吸収材が十分に平滑化していない状態で乾燥させた場合、前記光吸収材が付与した前記被付与物の表面が粗くなるため、前記被付与物の表面の光沢が得られない場合がある。前記被付与物の表面の光沢を得るためには、加圧して定着させる定着手段とすることにより、前記被付与物に付与した前記光吸収材をつぶしながら前記被付与物に押し込むよう定着させて、前記被付与物の表面粗さを小さくするようにしてもよい。
前記定着手段は、特に粉体を押し固めて形成した固体の前記光吸収材を用いた場合などに、前記被付与物に定着させるために必要となる。なお、必要に応じて、前記定着手段とともに公知の光定着器を用いてもよい。
前記定着工程としては、前記被付与物に付与させた前記光吸収材を、前記被付与物に定着させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、定着手段を用いて好適に行うことができる。
また、前記光吸収材が非常に高粘度であって、乾燥が遅くなり前記被付与物に対する付与速度の向上が困難な場合には、前記被付与物を追加で加熱し、乾燥を促進させてもよい。
更に、前記光吸収材の前記被付与物への浸透及び濡れが遅く、付与させた前記光吸収材が十分に平滑化していない状態で乾燥させた場合、前記光吸収材が付与した前記被付与物の表面が粗くなるため、前記被付与物の表面の光沢が得られない場合がある。前記被付与物の表面の光沢を得るためには、加圧して定着させる定着手段とすることにより、前記被付与物に付与した前記光吸収材をつぶしながら前記被付与物に押し込むよう定着させて、前記被付与物の表面粗さを小さくするようにしてもよい。
前記定着手段は、特に粉体を押し固めて形成した固体の前記光吸収材を用いた場合などに、前記被付与物に定着させるために必要となる。なお、必要に応じて、前記定着手段とともに公知の光定着器を用いてもよい。
前記定着工程としては、前記被付与物に付与させた前記光吸収材を、前記被付与物に定着させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、定着手段を用いて好適に行うことができる。
【0112】
本発明の画像形成方法及び画像形成装置においては、光吸収材飛翔手段、光吸収材供給手段、及び光走査手段を一体として光吸収材飛翔ユニットとして扱ってもよい。
例えば、前記光吸収材として色材を含有する着色剤を用いる場合における例を説明する。前記光吸収材飛翔ユニットを画像形成装置に４つ設け、プロセスカラーであるイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの前記着色剤を飛翔させるようにしてもよい。前記着色剤の色数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、必要に応じて光吸収材飛翔ユニット（以下、着色剤飛翔ユニット）の数を増減させてもよい。また、記録媒体の搬送方向における、プロセスカラーの前記着色剤を有する前記着色剤飛翔ユニットの上流側に、白色の着色剤を有する前記着色剤飛翔ユニットを配置することで、白色隠蔽層を設けることが可能となるため、透明な記録媒体に色再現性に優れた画像を形成できる。ただし、特にイエロー、白色、透明の着色剤においては、レーザービームの波長の光の透過率（吸光度）が適正となるように、レーザー光源を、例えば、ブルーレーザービーム、紫外線レーザービームなどに適宜選択してしなければならない場合がある。
例えば、前記光吸収材として色材を含有する着色剤を用いる場合における例を説明する。前記光吸収材飛翔ユニットを画像形成装置に４つ設け、プロセスカラーであるイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの前記着色剤を飛翔させるようにしてもよい。前記着色剤の色数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、必要に応じて光吸収材飛翔ユニット（以下、着色剤飛翔ユニット）の数を増減させてもよい。また、記録媒体の搬送方向における、プロセスカラーの前記着色剤を有する前記着色剤飛翔ユニットの上流側に、白色の着色剤を有する前記着色剤飛翔ユニットを配置することで、白色隠蔽層を設けることが可能となるため、透明な記録媒体に色再現性に優れた画像を形成できる。ただし、特にイエロー、白色、透明の着色剤においては、レーザービームの波長の光の透過率（吸光度）が適正となるように、レーザー光源を、例えば、ブルーレーザービーム、紫外線レーザービームなどに適宜選択してしなければならない場合がある。
【0113】
更に、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置では、高粘度の着色剤を用いることができるので、記録媒体上に順次異なる色の着色剤を重ねて画像を形成しても、着色剤が滲み出して交じり合うブリーディングの発生を抑制できるため、高画質のカラー画像を得ることができる。
本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の小型化などを目的として、着色剤飛翔ユニットを１つだけ設け、供給ローラ及びドナー基板に供給する着色剤自体を切り替えて複数色の画像を形成するようにしてもよい。
本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の小型化などを目的として、着色剤飛翔ユニットを１つだけ設け、供給ローラ及びドナー基板に供給する着色剤自体を切り替えて複数色の画像を形成するようにしてもよい。
【0114】
次に、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
なお、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
【0115】
図６Ａは、図５Ｂに示す飛翔体発生装置において、光吸収材供給手段及び被付与物搬送手段を付加した画像形成装置の一例を示す説明図である。
図６Ａにおいて、画像形成装置３０２は、図５Ｂに示した画像形成装置３０１の各手段などに加え、光吸収材供給手段５０と、被付与物搬送手段７０とを有しており、平板状の基板４０を円筒状の光吸収材担持ローラ４１に変更したものである。また、光吸収材担持ローラ４１の内側には、レーザービーム照射ユニット１００が配置されており、光吸収材担持ローラ４１が外周に担持する光吸収材２０にレーザービーム１２を照射する。
図６Ａにおいて、画像形成装置３０２は、図５Ｂに示した画像形成装置３０１の各手段などに加え、光吸収材供給手段５０と、被付与物搬送手段７０とを有しており、平板状の基板４０を円筒状の光吸収材担持ローラ４１に変更したものである。また、光吸収材担持ローラ４１の内側には、レーザービーム照射ユニット１００が配置されており、光吸収材担持ローラ４１が外周に担持する光吸収材２０にレーザービーム１２を照射する。
【0116】
光吸収材供給手段５０は、貯蔵槽５１と、供給ローラ５２と、規制ブレード５３とを有している。
貯蔵槽５１は、供給ローラ５２の下方の近傍に配置され、光吸収材２０を貯蔵する。
供給ローラ５２は、光吸収材担持ローラ４１と当接するように配置され、貯蔵槽５１の光吸収材２０に一部が浸漬されている。供給ローラ５２は、回転駆動手段により、又は光吸収材担持ローラ４１の回転に従動して図６Ａ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転しながら光吸収材２０を表面に付与させる。付与した光吸収材２０は、規制ブレード５３により平均厚みを均一にされ、光吸収材担持ローラ４１に転移することにより層として供給される。光吸収材担持ローラ４１の表面に供給された光吸収材２０は、光吸収材担持ローラ４１が回転することにより、レーザービーム１２が照射される位置に連続的に供給される。
規制ブレード５３は、図中矢印Ｒ２で示す回転方向における光吸収材担持ローラ４１の上流側に配置され、供給ローラ５２が表面に付与させた光吸収材２０を規制し、光吸収材担持ローラ４１に供給する光吸収材２０の平均厚みを均一にする。
貯蔵槽５１は、供給ローラ５２の下方の近傍に配置され、光吸収材２０を貯蔵する。
供給ローラ５２は、光吸収材担持ローラ４１と当接するように配置され、貯蔵槽５１の光吸収材２０に一部が浸漬されている。供給ローラ５２は、回転駆動手段により、又は光吸収材担持ローラ４１の回転に従動して図６Ａ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転しながら光吸収材２０を表面に付与させる。付与した光吸収材２０は、規制ブレード５３により平均厚みを均一にされ、光吸収材担持ローラ４１に転移することにより層として供給される。光吸収材担持ローラ４１の表面に供給された光吸収材２０は、光吸収材担持ローラ４１が回転することにより、レーザービーム１２が照射される位置に連続的に供給される。
規制ブレード５３は、図中矢印Ｒ２で示す回転方向における光吸収材担持ローラ４１の上流側に配置され、供給ローラ５２が表面に付与させた光吸収材２０を規制し、光吸収材担持ローラ４１に供給する光吸収材２０の平均厚みを均一にする。
【0117】
被付与物搬送手段７０は、光吸収材担持ローラ４１と搬送する被付与物３０が接触しないように光吸収材担持ローラ４１の近傍に配置され、被付与物搬送ローラ７１と、被付与物搬送ローラ７１に張架された被付与物搬送ベルト７２とを有している。この被付与物搬送手段７０は、回転駆動手段により被付与物搬送ローラ７１を回転させ、被付与物搬送ベルト７２により被付与物３０を図６Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向に搬送する。
このとき、レーザービーム照射ユニット１００は、画像情報に従って光吸収材担持ローラ４１の内側よりレーザービーム１２を照射し、被付与物３０に光吸収材２０を付与させる。被付与物３０を被付与物搬送ベルト７２により移動させながら、このような光吸収材２０を被付与物３０に付与させる付与動作を行うことにより、被付与物３０に２次元の画像を形成することができる。
このとき、レーザービーム照射ユニット１００は、画像情報に従って光吸収材担持ローラ４１の内側よりレーザービーム１２を照射し、被付与物３０に光吸収材２０を付与させる。被付与物３０を被付与物搬送ベルト７２により移動させながら、このような光吸収材２０を被付与物３０に付与させる付与動作を行うことにより、被付与物３０に２次元の画像を形成することができる。
【0118】
なお、光吸収材担持ローラ４１の表面に担持されたが飛翔させなかった光吸収材２０は、光吸収材担持ローラ４１が回転し、供給ローラ５２との当接により溜まっていき、やがて貯蔵槽５１に落下して回収される。また、光吸収材２０の回収方法としては、それに限られることなく、光吸収材担持ローラ４１の表面の光吸収材２０を掻き取るスクレーパなどを設けてもよい。
【0119】
図６Ｂは、図５Ｂに示す飛翔体発生装置において、光吸収材供給手段及び被付与物搬送手段を付加した画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図６Ｂにおいて、画像形成装置３０３は、図６Ａで示した画像形成装置３０２における円筒状の光吸収材担持ローラ４１を、軸方向に沿って２分割した光吸収材担持部４２とし、画像形成装置３０２の配置を変更したものである。
図６Ｂにおいて、画像形成装置３０３は、図６Ａで示した画像形成装置３０２における円筒状の光吸収材担持ローラ４１を、軸方向に沿って２分割した光吸収材担持部４２とし、画像形成装置３０２の配置を変更したものである。
【0120】
光吸収材担持部４２は、円筒状の一部の面となっており、かつ円筒中心線の対向側には面が無い形状である。このように対向面がない担持体とすることにより、レーザービーム照射ユニット１００を円筒状の光吸収材担持ローラ４１に設けることなく、レーザービーム１２の光路が確保しやすくなるため、装置を単純化することができる。
【0121】
図７Ａは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の一例を示す説明図である。
図７Ａにおいて、画像形成装置３０５は、図６Ａに示した画像形成装置３０２の各手段などに加え、定着手段８０を有しており、被付与物３０に付与させた光吸収材２０を定着させて平滑にするようにしている。なお、被付与物搬送手段７０の位置は、図６Ａでは光吸収材担持ローラ４１の側面としたが、図７Ａでは説明の便宜上、光吸収材担持ローラ４１の上方とした。
図７Ａにおいて、画像形成装置３０５は、図６Ａに示した画像形成装置３０２の各手段などに加え、定着手段８０を有しており、被付与物３０に付与させた光吸収材２０を定着させて平滑にするようにしている。なお、被付与物搬送手段７０の位置は、図６Ａでは光吸収材担持ローラ４１の側面としたが、図７Ａでは説明の便宜上、光吸収材担持ローラ４１の上方とした。
【0122】
定着手段８０は、加圧方式の定着手段であって、被付与物３０の図７Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、加圧ローラ８３と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８０は、光吸収材２０が付与した被付与物３０を、挟持しながら搬送することにより加圧して定着させる。
【0123】
加圧ローラ８３は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、表面が被付与物３０と接触し、対向ローラ８４とにより被付与物３０を挟持しながら加圧する。
対向ローラ８４は、加圧ローラ８３と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。
対向ローラ８４は、加圧ローラ８３と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。
【0124】
例えば、画像形成装置３０５を画像形成装置とし、１，０００ｍＰａ・ｓ以上である非常に高粘度の光吸収材２０を用いると、光吸収材２０の被付与物３０への浸透又は濡れが遅くなりやすい。そして、光吸収材２０がそのままの状態で乾燥してしまうと、画像の表面粗さが粗くなり、画像の光沢が低下してしまう場合がある。このような場合、定着手段８０は、光吸収材２０が付与した被付与物３０を加圧ローラ８３で加圧し、光吸収材２０を被付与物３０に押し込む、あるいは光吸収材２０を潰すことができるため、光吸収材２０が付与した被付与物３０の表面粗さを小さくできる。
【0125】
図７Ｂは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｂにおいて、画像形成装置３０６は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０を加熱加圧方式の定着手段８１に変更したものである。
定着手段８１は、被付与物３０の図７Ｂ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、加熱加圧ローラ８５と、定着ベルト８６と、従動ローラ８７と、ハロゲンランプ８８と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８１は、溶融が必要な材料を分散した分散液の光吸収材２０として用いた場合で、加圧のみでは狙いの画像を得られないときに用いられる。
図７Ｂにおいて、画像形成装置３０６は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０を加熱加圧方式の定着手段８１に変更したものである。
定着手段８１は、被付与物３０の図７Ｂ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、加熱加圧ローラ８５と、定着ベルト８６と、従動ローラ８７と、ハロゲンランプ８８と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８１は、溶融が必要な材料を分散した分散液の光吸収材２０として用いた場合で、加圧のみでは狙いの画像を得られないときに用いられる。
【0126】
加熱加圧ローラ８５は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、定着ベルト８６を介して、被付与物３０を対向ローラ８４と挟持しながら加熱及び加圧する。
定着ベルト８６は、無端のベルト状であり、加熱加圧ローラ８５及び従動ローラ８７に張架され、表面が被付与物３０と接触する。
従動ローラ８７は、加熱加圧ローラ８５の下方に配置され、加熱加圧ローラ８５の回転に従って従動する。
ハロゲンランプ８８は、加熱加圧ローラ８５の内部に配置され、被付与物３０に光吸収材２０を定着させるための熱を発生させる。
対向ローラ８４は、定着ベルト８６と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。
定着ベルト８６は、無端のベルト状であり、加熱加圧ローラ８５及び従動ローラ８７に張架され、表面が被付与物３０と接触する。
従動ローラ８７は、加熱加圧ローラ８５の下方に配置され、加熱加圧ローラ８５の回転に従って従動する。
ハロゲンランプ８８は、加熱加圧ローラ８５の内部に配置され、被付与物３０に光吸収材２０を定着させるための熱を発生させる。
対向ローラ８４は、定着ベルト８６と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。
【0127】
図７Ｃは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｃにおいて、画像形成装置３０７は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０をＵＶ照射方式の定着手段８２に変更したものである。
定着手段８２は、被付与物３０の図７Ｃ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、ＵＶランプ８９を有している。この定着手段８１は、光吸収材２０として紫外線硬化性材料を用いた場合に使用され、ＵＶランプ８９によりＵＶを照射して被付与物３０に定着させる。
図７Ｃにおいて、画像形成装置３０７は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０をＵＶ照射方式の定着手段８２に変更したものである。
定着手段８２は、被付与物３０の図７Ｃ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、ＵＶランプ８９を有している。この定着手段８１は、光吸収材２０として紫外線硬化性材料を用いた場合に使用され、ＵＶランプ８９によりＵＶを照射して被付与物３０に定着させる。
【0128】
図８Ａは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図８Ａにおいて、画像形成装置４００は、図７Ｂに示した画像形成装置３０６の各手段などに加え、光吸収材飛翔ユニット１２０を４つ有しており、光吸収材２０として色材を含有する着色剤２１を用いた場合に変更したものである。
また、光吸収材飛翔ユニット１２０は、光吸収材供給手段５０と、光吸収材飛翔手段１００と、図示しないビーム走査手段６０と、光吸収材担持ローラ４１と、光吸収材２０（着色剤２１）とにより構成される。
図８Ａにおいて、画像形成装置４００は、図７Ｂに示した画像形成装置３０６の各手段などに加え、光吸収材飛翔ユニット１２０を４つ有しており、光吸収材２０として色材を含有する着色剤２１を用いた場合に変更したものである。
また、光吸収材飛翔ユニット１２０は、光吸収材供給手段５０と、光吸収材飛翔手段１００と、図示しないビーム走査手段６０と、光吸収材担持ローラ４１と、光吸収材２０（着色剤２１）とにより構成される。
【0129】
光吸収材飛翔ユニット１２０Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋは、それぞれプロセスカラーであるイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｋ）の４色のトナーを着色剤２１として貯蔵している。
これにより、被付与物３０としての記録媒体３１上に各色の画像を順次形成し、カラー画像を得るカラープロセスに適用することができる。
これにより、被付与物３０としての記録媒体３１上に各色の画像を順次形成し、カラー画像を得るカラープロセスに適用することができる。
【0130】
【0131】
中間転写手段９０は、中間転写体９１と、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とを有している。
中間転写体９１は、例えば、無端状のベルトであり、４つの光吸収材飛翔ユニット１２０の上方に配置され、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とにより張架されている。
中間転写体駆動ローラ９２は、回転駆動手段により図８Ｂ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転し、中間転写体９１を回転させる。
中間転写体従動ローラ９３は、中間転写体駆動ローラ９２の回転に従って従動する。
このように、まず中間転写体９１に画像を形成し、これを所望の記録媒体３１に転写するようにしてもよい。この画像形成装置２０１においても、画像形成装置４００と同様に高画質のカラー画像を得ることができる。また、中間転写体９１に形成した画像を記録媒体３１に転写する際に中間転写体駆動ローラ９２により押圧するので、画像形成装置２００と同様に、着色剤２１を付与させた記録媒体３１の表面粗さを小さくすることができる。
中間転写体９１は、例えば、無端状のベルトであり、４つの光吸収材飛翔ユニット１２０の上方に配置され、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とにより張架されている。
中間転写体駆動ローラ９２は、回転駆動手段により図８Ｂ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転し、中間転写体９１を回転させる。
中間転写体従動ローラ９３は、中間転写体駆動ローラ９２の回転に従って従動する。
このように、まず中間転写体９１に画像を形成し、これを所望の記録媒体３１に転写するようにしてもよい。この画像形成装置２０１においても、画像形成装置４００と同様に高画質のカラー画像を得ることができる。また、中間転写体９１に形成した画像を記録媒体３１に転写する際に中間転写体駆動ローラ９２により押圧するので、画像形成装置２００と同様に、着色剤２１を付与させた記録媒体３１の表面粗さを小さくすることができる。
【0132】
また、図５Ｂでは、レーザービームを照射する方向を重力方向としたが、図５Ａ及び図６Ａ～図８Ｂでは、レーザービームを照射する方向を重力方向とは逆の方向にすることや、水平方向にすることを示した。
このように、本発明の画像形成方法では、基板の表面へのレーザービームの照射方向が非重力方向であり、液柱乃至液滴が非重力方向に生ずるようにしてもよい。これにより、装置の設計において自由度を高めることができる。
このように、本発明の画像形成方法では、基板の表面へのレーザービームの照射方向が非重力方向であり、液柱乃至液滴が非重力方向に生ずるようにしてもよい。これにより、装置の設計において自由度を高めることができる。
【0133】
また、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を、以下のように、立体造形物の製造方法及び立体造形物の製造装置に応用することもできる。
【0134】
（立体造形物の製造方法及び立体造形物の製造装置）
立体造形物の製造方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程と、前記光吸収材を硬化する硬化工程とを含み、前記光吸収材が、立体造形剤であり、更に必要に応じてその他の工程を含む。
立体造形物の製造装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段と、前記光吸収材を硬化する硬化手段とを有し、前記光吸収材が、立体造形剤であり、更に必要に応じてその他の手段を有する。
前記立体造形物の製造方法は前記立体造形物の製造装置により好適に実施することができる。
前記立体造形物の製造方法及び立体造形物の製造装置において、本発明の飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法及び画像形成装置と同じ文言については、本発明の飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法及び画像形成装置で説明したものと同様である。
立体造形物の製造方法は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程と、前記光吸収材を硬化する硬化工程とを含み、前記光吸収材が、立体造形剤であり、更に必要に応じてその他の工程を含む。
立体造形物の製造装置は、基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段と、前記光吸収材を硬化する硬化手段とを有し、前記光吸収材が、立体造形剤であり、更に必要に応じてその他の手段を有する。
前記立体造形物の製造方法は前記立体造形物の製造装置により好適に実施することができる。
前記立体造形物の製造方法及び立体造形物の製造装置において、本発明の飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法及び画像形成装置と同じ文言については、本発明の飛翔体発生方法及び飛翔体発生装置、並びに画像形成方法及び画像形成装置で説明したものと同様である。
【0135】
＜光吸収材飛翔工程及び光吸収材飛翔手段＞
前記光吸収材飛翔工程は、本発明の飛翔体発生方法及び画像形成方法における光吸収材飛翔工程と同様である。
前記光吸収材飛翔手段は、本発明の飛翔体発生装置及び画像形成装置における光吸収材飛翔手段と同様である。
なお、前記立体造形物の製造方法における光吸収材飛翔工程は、被付与物に対して立体造形剤としての光吸収材を層として積み重ね、立体的に付与する。
前記光吸収材飛翔工程は、本発明の飛翔体発生方法及び画像形成方法における光吸収材飛翔工程と同様である。
前記光吸収材飛翔手段は、本発明の飛翔体発生装置及び画像形成装置における光吸収材飛翔手段と同様である。
なお、前記立体造形物の製造方法における光吸収材飛翔工程は、被付与物に対して立体造形剤としての光吸収材を層として積み重ね、立体的に付与する。
【0136】
－立体造形剤－
前記立体造形剤としては、光吸収材と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、前記立体造形物の製造方法における光吸収材としての立体造形剤とした際に異なる点を説明する。
前記立体造形剤としては、光吸収材と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、前記立体造形物の製造方法における光吸収材としての立体造形剤とした際に異なる点を説明する。
【0137】
前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、求められる精密さなどにより変化するが、５μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みが５μｍ以上５００μｍ以下であると、立体造形物の精度、質感、滑らかさ、製造時間などの点で有利である。また、前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みとしては、５μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みがより好ましい範囲内であると、レーザービームのエネルギーを低く抑えられ、立体造形剤の劣化などを抑制する点で有利である。
【0138】
前記立体造形剤としては、硬化性材料を少なくとも含有してなり、更に必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【0139】
－－硬化性材料－－
前記硬化性材料としては、活性エネルギー線（紫外線、電子線等）照射、加熱等により重合反応を生起し硬化する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、活性エネルギー線硬化性化合物、熱硬化性化合物などが挙げられる。これらの中でも、常温で液体の材料が好ましい。
前記活性エネルギー線硬化性化合物は、分子構造中にラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する比較的低粘度のモノマーであり、単官能モノマー、多官能モノマーなどが挙げられる。
前記硬化性材料としては、活性エネルギー線（紫外線、電子線等）照射、加熱等により重合反応を生起し硬化する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、活性エネルギー線硬化性化合物、熱硬化性化合物などが挙げられる。これらの中でも、常温で液体の材料が好ましい。
前記活性エネルギー線硬化性化合物は、分子構造中にラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する比較的低粘度のモノマーであり、単官能モノマー、多官能モノマーなどが挙げられる。
【0140】
－－その他の成分－－
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、有機溶剤、光重合開始剤、界面活性剤、着色剤、安定化剤、水溶性樹脂、低沸点アルコール、表面処理剤、粘度調整剤、接着性付与剤、酸化防止剤、老化防止剤、架橋促進剤、紫外線吸収剤、可塑剤、防腐剤、分散剤などが挙げられる。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、有機溶剤、光重合開始剤、界面活性剤、着色剤、安定化剤、水溶性樹脂、低沸点アルコール、表面処理剤、粘度調整剤、接着性付与剤、酸化防止剤、老化防止剤、架橋促進剤、紫外線吸収剤、可塑剤、防腐剤、分散剤などが挙げられる。
【0141】
＜付与工程及び付与手段＞
前記付与工程は、本発明の画像形成方法における付与工程と同様である。
前記付与手段は、本発明の画像形成装置における付与手段と同様である。
前記付与工程は、本発明の画像形成方法における付与工程と同様である。
前記付与手段は、本発明の画像形成装置における付与手段と同様である。
【0142】
＜硬化工程及び硬化手段＞
前記硬化工程は、前記光吸収材としての立体造形剤を硬化する工程である。
前記硬化手段は、前記光吸収材としての立体造形剤を硬化する手段である。
前記硬化手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射器などが挙げられる。
前記硬化工程としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射工程などが挙げられ、紫外線照射手段を用いて好適に行うことができる。
前記硬化工程は、前記光吸収材としての立体造形剤を硬化する工程である。
前記硬化手段は、前記光吸収材としての立体造形剤を硬化する手段である。
前記硬化手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射器などが挙げられる。
前記硬化工程としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射工程などが挙げられ、紫外線照射手段を用いて好適に行うことができる。
【0143】
＜その他の工程及びその他の手段＞
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材供給工程、立体造形ヘッドユニット走査工程、被付与物位置調整工程、制御工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材供給手段、立体造形ヘッドユニット走査手段、被付与物位置調整手段、制御手段などが挙げられる。
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材供給工程、立体造形ヘッドユニット走査工程、被付与物位置調整工程、制御工程などが挙げられる。
前記その他の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材供給手段、立体造形ヘッドユニット走査手段、被付与物位置調整手段、制御手段などが挙げられる。
【0144】
＜＜立体造形剤供給工程及び立体造形剤供給手段＞＞
前記光吸収材供給工程は、前記光吸収材が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成方法における光吸収材供給工程と同様であるため、その説明を省略する。
前記光吸収材供給手段は、前記光吸収材が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成装置における光吸収材供給手段と同様であるため、その説明を省略する。
前記光吸収材供給工程は、前記光吸収材が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成方法における光吸収材供給工程と同様であるため、その説明を省略する。
前記光吸収材供給手段は、前記光吸収材が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成装置における光吸収材供給手段と同様であるため、その説明を省略する。
【0145】
＜＜立体造形ヘッドユニット走査工程及び立体造形ヘッドユニット走査手段＞＞
前記立体造形ヘッドユニット走査工程は、光吸収材飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる工程である。
前記立体造形ヘッドユニット走査手段は、光吸収材飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる手段である。
また、前記立体造形ヘッドユニットは複数設けるようにしてもよい。
前記立体造形ヘッドユニット走査工程は、光吸収材飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる工程である。
前記立体造形ヘッドユニット走査手段は、光吸収材飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる手段である。
また、前記立体造形ヘッドユニットは複数設けるようにしてもよい。
【0146】
＜＜被付与物位置調整工程及び被付与物位置調整手段＞＞
前記被付与物位置調整工程は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する工程である。
前記被付与物位置調整手段は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する手段である。
前記被付与物位置調整手段としては、例えば、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整可能な基体（ステージ）などが挙げられる。
前記被付与物位置調整工程は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する工程である。
前記被付与物位置調整手段は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する手段である。
前記被付与物位置調整手段としては、例えば、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整可能な基体（ステージ）などが挙げられる。
【0147】
＜＜制御工程及び制御手段＞＞
制御工程は、前述した画像形成装置の制御工程と同様である。
制御手段は、前述した画像形成装置の制御手段と同様である。
制御工程は、前述した画像形成装置の制御工程と同様である。
制御手段は、前述した画像形成装置の制御手段と同様である。
【0148】
次に、前記立体造形物の製造装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、前記立体造形物の製造装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
なお、前記立体造形物の製造装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
【0149】
図９は、立体造形物の製造装置の一例を示す説明図である。
図９において、立体造形物の製造装置５００は、被付与物としての造形物支持基板１２２と、ステージ１２３と、立体造形ヘッドユニット１３０とを有している。この立体造形物の製造装置５００は、付与した立体造形剤２２を硬化しながら積層して立体造形物１２４を製造する。
立体造形ヘッドユニット１３０は、立体造形物の製造装置５００の上部に配置され、駆動手段により図中矢印Ｌで示す方向に走査することができる。この立体造形ヘッドユニット１３０は、光吸収材飛翔ユニット１２０と、硬化手段として紫外線照射器１２１とを有している。
図９において、立体造形物の製造装置５００は、被付与物としての造形物支持基板１２２と、ステージ１２３と、立体造形ヘッドユニット１３０とを有している。この立体造形物の製造装置５００は、付与した立体造形剤２２を硬化しながら積層して立体造形物１２４を製造する。
立体造形ヘッドユニット１３０は、立体造形物の製造装置５００の上部に配置され、駆動手段により図中矢印Ｌで示す方向に走査することができる。この立体造形ヘッドユニット１３０は、光吸収材飛翔ユニット１２０と、硬化手段として紫外線照射器１２１とを有している。
【0150】
光吸収材飛翔ユニット１２０は、立体造形ヘッドユニット１３０の中央に配置され、下方に光吸収材２０を飛翔させ、造形物支持基板１２２又はすでに硬化させた光吸収材２０に付与する。
紫外線照射器１２１は、光吸収材飛翔ユニット１２０の両側面に配置され、光吸収材飛翔ユニット１２０が飛翔させた光吸収材２０に紫外線を照射して、光吸収材２０を硬化する。
造形物支持基板１２２は、立体造形物の製造装置５００の下部に配置され、立体造形ヘッドユニット１３０が立体造形剤２２の層を形成する際の基板となる。
ステージ１２３は、造形物支持基板１２２の下方に配置され、駆動手段により造形物支持基板１２２を図中垂直方向に移動させることができる。また、このステージ１２３は、図中矢印Ｈで示す方向に移動させることができ、立体造形ヘッドユニット１３０と立体造形物１２４との間隙を調整することができる。
紫外線照射器１２１は、光吸収材飛翔ユニット１２０の両側面に配置され、光吸収材飛翔ユニット１２０が飛翔させた光吸収材２０に紫外線を照射して、光吸収材２０を硬化する。
造形物支持基板１２２は、立体造形物の製造装置５００の下部に配置され、立体造形ヘッドユニット１３０が立体造形剤２２の層を形成する際の基板となる。
ステージ１２３は、造形物支持基板１２２の下方に配置され、駆動手段により造形物支持基板１２２を図中垂直方向に移動させることができる。また、このステージ１２３は、図中矢印Ｈで示す方向に移動させることができ、立体造形ヘッドユニット１３０と立体造形物１２４との間隙を調整することができる。
【0151】
なお、画像形成装置及び立体造形物の製造装置においては、被付与物（記録媒体）を搬送又は移動させる例を示したが、これに限らず、被付与物などを静止させて光吸収材飛翔ユニットなどを移動させてもよい。あるいは、被付与物などと光吸収材飛翔ユニットなどの両者を移動させてもよい。
また、被付与物の全面の画像を同時に形成する場合などでは、少なくとも記録時には両者が静止しレーザーのみ動作してもよい。
また、被付与物の全面の画像を同時に形成する場合などでは、少なくとも記録時には両者が静止しレーザーのみ動作してもよい。
【実施例】
【0152】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
以下、図５Ｂに示した飛翔体発生装置を備える画像形成装置を用いて、パルス発振させた光渦レーザービームを光吸収材としてのＵＶインクに照射して、被付与物にドットを形成するように付与させた実施例及び比較例について説明する。
以下、図５Ｂに示した飛翔体発生装置を備える画像形成装置を用いて、パルス発振させた光渦レーザービームを光吸収材としてのＵＶインクに照射して、被付与物にドットを形成するように付与させた実施例及び比較例について説明する。
【0153】
（実施例１）
＜ドナー基板の製造例＞
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成のＵＶインクを、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２０μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
このとき、膜状の光吸収材の５３２ｎｍ波長光の透過率は０．０１％以下（吸光度は４以上）であった。
また、回転粘度計（ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ、東機産業株式会社製）を用いて測定した前記ＵＶインクの２５℃における粘度η２は４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記ＵＶインクの２５℃における静的表面張力σ２は、２９．３２ｍＮ／ｍであった。
上記ＵＶインクで２０μｍの光吸収材料層を形成した後、ＵＶランプを１～２時間程度照射し、表面を指でなぞってもインクが付着しない状態にまで硬化した。
－ＵＶインク－
・ＵＶ Ｃｏｒｅ ＴＹＰＥ－Ａ紅（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製） １００質量部
・ＵＶフレキソ５００紅 （株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製） ５０質量部
＜ドナー基板の製造例＞
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成のＵＶインクを、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２０μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
このとき、膜状の光吸収材の５３２ｎｍ波長光の透過率は０．０１％以下（吸光度は４以上）であった。
また、回転粘度計（ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ、東機産業株式会社製）を用いて測定した前記ＵＶインクの２５℃における粘度η２は４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記ＵＶインクの２５℃における静的表面張力σ２は、２９．３２ｍＮ／ｍであった。
上記ＵＶインクで２０μｍの光吸収材料層を形成した後、ＵＶランプを１～２時間程度照射し、表面を指でなぞってもインクが付着しない状態にまで硬化した。
－ＵＶインク－
・ＵＶ Ｃｏｒｅ ＴＹＰＥ－Ａ紅（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製） １００質量部
・ＵＶフレキソ５００紅 （株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製） ５０質量部
【0154】
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液（以下、３％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み５０μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７５．６７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ３質量部
・純水 １００質量部
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７５．６７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ３質量部
・純水 １００質量部
【0155】
次に、光吸収材及び飛散抑制材を塗布したドナー基板の面を、被付与物であるＰＯＤグロスコート紙（三菱製紙株式会社製）と対向させ、光吸収材の裏面側から後述する光渦レーザービームを垂直に照射できるようにドナー基板を設置した。
なお、被付与物と光吸収材との間隙（ギャップ）を１．５ｍｍとした。
なお、被付与物と光吸収材との間隙（ギャップ）を１．５ｍｍとした。
【0156】
＜光吸収材飛翔手段＞
飛翔体発生装置における光吸収材飛翔手段は、レーザー光源と、ビーム径変更部材と、ビーム波長変更素子と、光渦変換部としての螺旋位相板と、波長変換部としての１／４波長板とを有する。
飛翔体発生装置における光吸収材飛翔手段は、レーザー光源と、ビーム径変更部材と、ビーム波長変更素子と、光渦変換部としての螺旋位相板と、波長変換部としての１／４波長板とを有する。
【0157】
レーザー光源としては、レーザー光源（ＹＡＧ）を用いた。このレーザー光源を用いて、発生させたレーザービームにおける波長を５３２ｎｍ、ビーム径を１．２５ｍｍ×１．２３ｍｍ、パルス幅を２ナノ秒、パルス周波数を５０Ｈｚとした１パルスのレーザービームを発生させた。発生させた１パルスのレーザービームを、ビーム径変更部材としての集光レンズ（シグマ光機株式会社製、ＹＡＧレーザー集光レンズ）に照射して、光吸収材に照射させたときのビーム径をΦ８０μｍとなるようにした。
次に、ビーム径変更部材を経たレーザービームを、螺旋位相板（株式会社ルミネックス製、Ｖｏｒｔｅｘフェイズプレート）に通過させて光渦レーザービームに変換させた。
次に、螺旋位相板により変換させた光渦レーザービームを、螺旋位相板の下流に配置されている１／４波長板（ＱＷＰ；株式会社光学技研製）に通過させた。このとき、上記の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪが２となるように、螺旋位相板と１／４波長板の光学軸を＋４５°に設定した。
変換させた光渦レーザービームを、エネルギー調整フィルタ（シグマ光機株式会社製、ＮＤフィルタ）に通過させることにより、光吸収材に照射したときのレーザー出力を調整し、２１９μＪ／ドットとした。
次に、ビーム径変更部材を経たレーザービームを、螺旋位相板（株式会社ルミネックス製、Ｖｏｒｔｅｘフェイズプレート）に通過させて光渦レーザービームに変換させた。
次に、螺旋位相板により変換させた光渦レーザービームを、螺旋位相板の下流に配置されている１／４波長板（ＱＷＰ；株式会社光学技研製）に通過させた。このとき、上記の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪが２となるように、螺旋位相板と１／４波長板の光学軸を＋４５°に設定した。
変換させた光渦レーザービームを、エネルギー調整フィルタ（シグマ光機株式会社製、ＮＤフィルタ）に通過させることにより、光吸収材に照射したときのレーザー出力を調整し、２１９μＪ／ドットとした。
【0158】
次に、以下のようにして「飛翔状態の評価」及び「付与状態の評価」を行った。結果を表２に示す。
【0159】
＜飛翔状態の評価＞
光渦レーザービームを光吸収材としてのＵＶインクに照射したときの飛翔状態を、高速度ビデオカメラ（ＨｙｐｅｒＶｉｓｉｏｎ ＨＰＶ－Ｘ、株式会社島津製作所製）を用いて、光吸収材の飛翔方向に直交する方向から１フレーム１００ｎｓで撮影し、以下の基準で評価した。撮影画像を図１０Ａ～図１０Ｄに示す。
［評価基準］
○： レーザービームの光路軸に収束し直進
△： レーザービームの光路軸に収束するが、直進性がやや乱れる
×： レーザービーム径以上に拡散して飛翔
光渦レーザービームを光吸収材としてのＵＶインクに照射したときの飛翔状態を、高速度ビデオカメラ（ＨｙｐｅｒＶｉｓｉｏｎ ＨＰＶ－Ｘ、株式会社島津製作所製）を用いて、光吸収材の飛翔方向に直交する方向から１フレーム１００ｎｓで撮影し、以下の基準で評価した。撮影画像を図１０Ａ～図１０Ｄに示す。
［評価基準］
○： レーザービームの光路軸に収束し直進
△： レーザービームの光路軸に収束するが、直進性がやや乱れる
×： レーザービーム径以上に拡散して飛翔
【0160】
＜付与状態の評価＞
飛翔させた光吸収材が付与した被付与物の付与状態について、被付与物を上方から観察し、レーザービームの光路と被付与物との交点を中心Ａとし、中心Ａから付与（着弾）した光吸収材の中心Ｂの最大距離をＸとし、レーザービームの半径４０μｍを用いて、距離Ｘとレーザービーム半径（４０μｍ）との比(Ｘ／４０)を算出し、以下の評価基準で評価した。光吸収材の付与状態を、光学顕微鏡 ＺＥＩＳＳ Ｉｍａｇｅｒ Ａ２ｍ ＡＸＩＯ（カールツァイスマイクロスコピー株式会社製）で撮影し、撮影画像を図１０Ｅ～図１０Ｆに示す。なお、本評価が○又は△であれば、実使用上問題ないレベルである。
［評価基準］
○：（Ｘ／４０）の値が１．２５以下
△：（Ｘ／４０）の値が１．２５超２．００以下
×：（Ｘ／４０）の値が２．００超
飛翔させた光吸収材が付与した被付与物の付与状態について、被付与物を上方から観察し、レーザービームの光路と被付与物との交点を中心Ａとし、中心Ａから付与（着弾）した光吸収材の中心Ｂの最大距離をＸとし、レーザービームの半径４０μｍを用いて、距離Ｘとレーザービーム半径（４０μｍ）との比(Ｘ／４０)を算出し、以下の評価基準で評価した。光吸収材の付与状態を、光学顕微鏡 ＺＥＩＳＳ Ｉｍａｇｅｒ Ａ２ｍ ＡＸＩＯ（カールツァイスマイクロスコピー株式会社製）で撮影し、撮影画像を図１０Ｅ～図１０Ｆに示す。なお、本評価が○又は△であれば、実使用上問題ないレベルである。
［評価基準］
○：（Ｘ／４０）の値が１．２５以下
△：（Ｘ／４０）の値が１．２５超２．００以下
×：（Ｘ／４０）の値が２．００超
【0161】
（実施例２）
実施例１において、レーザービームを螺旋位相板に通過させずにガウスレーザーを用いた以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例１において、レーザービームを螺旋位相板に通過させずにガウスレーザーを用いた以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0162】
（実施例３）
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成の結晶性ポリオレフィン樹脂を、ホットプレート上で９０℃に加熱した状態で、バーコーターを用いて一様に塗布し、平均厚み９μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
・ＨＳクリスタ-４１００（豊国製油株式会社） ９９質量部
・真球状ナノフェライト粉（パウダーテック株式会社） １質量部
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、グリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み３６μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定したグリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、０．０９Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定したグリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）の２５℃における静的表面張力σ１は、６２．１６ｍＮ／ｍであった。
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。なお、飛翔状態を図１１Ａ～図１１Ｄに示し、付与状態を図１１Ｅに示した。
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成の結晶性ポリオレフィン樹脂を、ホットプレート上で９０℃に加熱した状態で、バーコーターを用いて一様に塗布し、平均厚み９μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
・ＨＳクリスタ-４１００（豊国製油株式会社） ９９質量部
・真球状ナノフェライト粉（パウダーテック株式会社） １質量部
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、グリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み３６μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定したグリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、０．０９Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定したグリセリン（グリセリンＰケンエー、健栄製薬株式会社）の２５℃における静的表面張力σ１は、６２．１６ｍＮ／ｍであった。
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。なお、飛翔状態を図１１Ａ～図１１Ｄに示し、付与状態を図１１Ｅに示した。
【0163】
（実施例４）
実施例３と同様にして、平均厚み９μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として純水を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み３０μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した純水の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、０．００２Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記純水の２５℃における静的表面張力σ１は、７１．１７ｍＮ／ｍであった。
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例３と同様にして、平均厚み９μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として純水を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み３０μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した純水の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、０．００２Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記純水の２５℃における静的表面張力σ１は、７１．１７ｍＮ／ｍであった。
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0164】
（実施例５）
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成の結晶性ポリオレフィン樹脂を、ホットプレート上で９０℃に加熱した状態で、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
－結晶性ポリオレフィン樹脂－
・ＨＳクリスタ－４１００（豊国製油株式会社） ９０質量部
・ＳＹＭＵＬＥＲ ＦＡＳＴ ＲＥＤ １０２２（東京色材工業株式会社）１０質量部
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（６質量％）水溶液（以下、６％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２８μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記６％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４５Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記６％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、測定時プレートを測定対象に浸すことができず、測定できなかった。
－カルボキシメチルセルロース（６質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ６質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
基板としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上に、光吸収材として、以下の組成の結晶性ポリオレフィン樹脂を、ホットプレート上で９０℃に加熱した状態で、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
－結晶性ポリオレフィン樹脂－
・ＨＳクリスタ－４１００（豊国製油株式会社） ９０質量部
・ＳＹＭＵＬＥＲ ＦＡＳＴ ＲＥＤ １０２２（東京色材工業株式会社）１０質量部
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（６質量％）水溶液（以下、６％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２８μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記６％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４５Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記６％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、測定時プレートを測定対象に浸すことができず、測定できなかった。
－カルボキシメチルセルロース（６質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ６質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0165】
（実施例６）
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（５質量％）水溶液（以下、５％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２９μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記５％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、７４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記５％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、測定時プレートを測定対象に浸すことができず、測定できなかった。
－カルボキシメチルセルロース（５質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ５質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（５質量％）水溶液（以下、５％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２９μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記５％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、７４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記５％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、測定時プレートを測定対象に浸すことができず、測定できなかった。
－カルボキシメチルセルロース（５質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ５質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0166】
（実施例７）
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液（以下、３％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２９μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７５．６７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ３質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液（以下、３％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み２９μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、１４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記３％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７５．６７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（３質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ３質量部
・純水 １００質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0167】
（実施例８）
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液にドライウェル（富士フィルム株式会社）を添加し、静的表面張力を２８．８ｍＮ／ｍに調整したもの（以下２％ＣＭＣ溶液）を、バーコーターを用いて一様に塗布し、平均厚み１７μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、２．０Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、２８．８ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液（＋ドライウェル）－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ２質量部
・純水 １００質量部
・ドライウェル（富士フィルム株式会社） ３７質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液にドライウェル（富士フィルム株式会社）を添加し、静的表面張力を２８．８ｍＮ／ｍに調整したもの（以下２％ＣＭＣ溶液）を、バーコーターを用いて一様に塗布し、平均厚み１７μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、２．０Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、２８．８ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液（＋ドライウェル）－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ２質量部
・純水 １００質量部
・ドライウェル（富士フィルム株式会社） ３７質量部
次に実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0168】
（実施例９）
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液（以下、２％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み４５μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、３．４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７４．１７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ２質量部
・純水 １００質量部
レーザービームを螺旋位相板に通過させずにガウスレーザーを用いた以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例５と同様にして、平均厚み１６μｍの光吸収材層（膜）を形成した。
次に、形成した光吸収材層の上に、飛散抑制材として、以下の組成のカルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液（以下、２％ＣＭＣ溶液と称する）を、バーコーターを用いて一様に塗布して、平均厚み４５μｍの飛散抑制材層（膜）を形成し、ドナー基板を製造した。
このとき、膜状の飛散抑制材の５３２ｎｍ波長光の透過率は９０％以上であった。
また、レオメータ：ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃、剪断応力１．０Ｐａにおける粘度η１は、３．４Ｐａ・ｓであった。
また、自動表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学）を用いて測定した前記２％ＣＭＣ溶液の２５℃における静的表面張力σ１は、７４．１７ｍＮ／ｍであった。
－カルボキシメチルセルロース（２質量％）水溶液－
・カルボキシメチルセルロース（株式会社第一工業製薬製） ２質量部
・純水 １００質量部
レーザービームを螺旋位相板に通過させずにガウスレーザーを用いた以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0169】
【0170】
【0171】
（比較例３）
実施例５において、飛散抑制材層を設けなかった以外は、実施例５と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
実施例５において、飛散抑制材層を設けなかった以外は、実施例５と同様にして、飛翔状態及び付与状態を評価した。
【0172】
【表1】
【0173】
【表2】
【0174】
表２の結果から、実施例１～９において、高粘度のＵＶインク及び固形膜の飛翔状態及び付与状態が良好であった。特に、光渦レーザービームを用いた場合に優れた飛翔状態及び付与状態とすることができた。
一方、比較例１～３では、飛散抑制材層を設けなかったため、高粘度又は固形の光吸収材が飛散し、飛翔状態及び付与状態を安定させることが難しかった。
また、従来のＤｙｎａｍｉｃ Ｒｅｌｅａｓｅ ｌａｓｅｒ（ＤＲＬ）においても、飛散抑制材層を設けなかったため、高粘度の光吸収材が飛散し、飛翔状態及び付与状態を安定させることが難しかった。
一方、比較例１～３では、飛散抑制材層を設けなかったため、高粘度又は固形の光吸収材が飛散し、飛翔状態及び付与状態を安定させることが難しかった。
また、従来のＤｙｎａｍｉｃ Ｒｅｌｅａｓｅ ｌａｓｅｒ（ＤＲＬ）においても、飛散抑制材層を設けなかったため、高粘度の光吸収材が飛散し、飛翔状態及び付与状態を安定させることが難しかった。
【0175】
本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
＜１＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含む、ことを特徴とする飛翔体発生方法である。
＜２＞ 前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１が、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下である、前記＜１＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜３＞ 前記光吸収材の２５℃における粘度η２が、２０Ｐａ・ｓ以上である、前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜４＞ 前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１と、前記光吸収材の２５℃における粘度η２とが、η２＞η１を満たす、前記＜２＞から＜３＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜５＞ 前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１が、２９ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下である、前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜６＞ 前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１と、前記光吸収材の２５℃における静的表面張力σ２とが、σ２＜σ１を満たす、前記＜５＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜７＞ 前記光吸収材層の平均厚みが、９μｍ以上である、前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜８＞ 前記光吸収層が、固体である、前記＜１＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜９＞ 前記光吸収材層の平均厚みが、４０μｍ以下である、前記＜８＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜１０＞ 前記光が、光渦レーザーである、前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜１１＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段を有する、ことを特徴とする飛翔体発生装置である。
＜１２＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程とを含む、ことを特徴とする画像形成方法である。
＜１３＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段とを有する、ことを特徴とする画像形成装置である。
＜１４＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程と、
前記光吸収材を硬化する硬化工程とを含み、
前記光吸収材が、立体造形剤であることを特徴とする立体造形物の製造方法である。
＜１５＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段と、
前記光吸収材を硬化する硬化手段とを有し、
前記光吸収材が、立体造形剤であることを特徴とする立体造形物の製造装置である。
＜１＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程を含む、ことを特徴とする飛翔体発生方法である。
＜２＞ 前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１が、０．００２Ｐａ・ｓ以上１４５Ｐａ・ｓ以下である、前記＜１＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜３＞ 前記光吸収材の２５℃における粘度η２が、２０Ｐａ・ｓ以上である、前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜４＞ 前記飛散抑制材の２５℃における粘度η１と、前記光吸収材の２５℃における粘度η２とが、η２＞η１を満たす、前記＜２＞から＜３＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜５＞ 前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１が、２９ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下である、前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜６＞ 前記飛散抑制材の２５℃における静的表面張力σ１と、前記光吸収材の２５℃における静的表面張力σ２とが、σ２＜σ１を満たす、前記＜５＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜７＞ 前記光吸収材層の平均厚みが、９μｍ以上である、前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜８＞ 前記光吸収層が、固体である、前記＜１＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜９＞ 前記光吸収材層の平均厚みが、４０μｍ以下である、前記＜８＞に記載の飛翔体発生方法である。
＜１０＞ 前記光が、光渦レーザーである、前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法である。
＜１１＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段を有する、ことを特徴とする飛翔体発生装置である。
＜１２＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程とを含む、ことを特徴とする画像形成方法である。
＜１３＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段とを有する、ことを特徴とする画像形成装置である。
＜１４＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔工程と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与工程と、
前記光吸収材を硬化する硬化工程とを含み、
前記光吸収材が、立体造形剤であることを特徴とする立体造形物の製造方法である。
＜１５＞ 基板と、前記基板上に光吸収材を配した光吸収材層と、前記光吸収材層の上に前記光吸収材の飛翔時の飛散を抑制する飛散抑制材を配した飛散抑制材層とをこの順で有するドナー基板に対して、
前記ドナー基板の前記基板側から前記光吸収材層に光を照射して前記光吸収材を飛翔させる光吸収材飛翔手段と、
飛翔させた前記光吸収材を被付与物に付与させる付与手段と、
前記光吸収材を硬化する硬化手段とを有し、
前記光吸収材が、立体造形剤であることを特徴とする立体造形物の製造装置である。
【0176】
前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の飛翔体発生方法、前記＜１１＞に記載の飛翔体発生装置、前記＜１２＞に記載の画像形成方法、前記＜１３＞に記載の画像形成装置、前記＜１４＞に記載の立体造形物の製造方法、及び前記＜１５＞に記載の立体造形物の製造装置によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。
【符号の説明】
【0177】
１ 光吸収材飛翔手段
１１ レーザービーム
２０ 光吸収材
３０ 被付与物
３１ 記録媒体
３２ 基板
４０ ドナー基板
３００～３０７、４００、４０１ 画像形成装置
１１ レーザービーム
２０ 光吸収材
３０ 被付与物
３１ 記録媒体
３２ 基板
４０ ドナー基板
３００～３０７、４００、４０１ 画像形成装置
【先行技術文献】
【特許文献】
【0178】
【文献】特開２０１８－５６５６５号公報
【非特許文献】
【0179】
【文献】Ｌａｓｅｒ－Ｉｎｄｕｃｅｄ Ｆｏｒｗａｒｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ： Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ．Ｐｅｒｅ Ｓｅｒｒａ ａｎｄ Ａｌｂｅｒｔｏ Ｐｉｑｕｅ．Ａｄｖ． Ｍａｔｅｒ． Ｔｅｃｈｎｏｌ． ２０１９， ４， １８０００９９
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図6A】
【図6B】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図8A】
【図8B】
【図9】
【図10A】
【図10B】
【図10C】
【図10D】
【図10E】
【図10F】
【図11A】
【図11B】
【図11C】
【図11D】
【図11E】
【図12A】
【図12B】
【図12C】
【図12D】
【図12E】
【図13A】
【図13B】
【図13C】
【図13D】
【図13E】
