特許 7443645 パターンフィルム、パターンフィルムの製造方法、およびこれを含む透過度可変デバイス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-02-27

(45)【発行日】2024-03-06

(54)【発明の名称】パターンフィルム、パターンフィルムの製造方法、およびこれを含む透過度可変デバイス

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1339 20060101AFI20240228BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20240228BHJP

   G09F 9/00 20060101ALI20240228BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1339 500

G02F1/13 505

G09F9/00 313

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2022539451

(86)(22)【出願日】2021-02-04

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-03-07

(86)【国際出願番号】 KR2021001474

(87)【国際公開番号】W WO2021167272

(87)【国際公開日】2021-08-26

【審査請求日】2022-07-04

(31)【優先権主張番号】10-2020-0019601

(32)【優先日】2020-02-18

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】500239823

【氏名又は名称】エルジー・ケム・リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110000877

【氏名又は名称】弁理士法人ＲＹＵＫＡ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ソン、チェオロック

(72)【発明者】

【氏名】セオ、ハン ミン

(72)【発明者】

【氏名】バエ、ナム ソク

(72)【発明者】

【氏名】ソン、ジェヒュン

(72)【発明者】

【氏名】リー、スン ホン

(72)【発明者】

【氏名】ギム、ミンジュン

【審査官】井亀 諭

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１３－５３０４２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－１４８６３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１９／０２２５６４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０２０－０２４２６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０１６－０１００５７５（ＫＲ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１５／００８７５８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１９／０２２５６５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特表２０１５－５０８９１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００９－５０１９５３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０２Ｆ １／１３３９

Ｇ０２Ｆ １／１３

Ｇ０９Ｆ ９／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材層、および
前記基材層上に形成されたスペーサパターン、
を含むパターンフィルムであって、
前記スペーサパターンは、複数のスペーサドット（ｄｏｔ）と、前記スペーサドットとスペーサドットを連結するスペーサライン（ｌｉｎｅ）とを含む隔壁スペーサ、およびボールスペーサを含み、
少なくとも一つの前記隔壁スペーサに、前記ボールスペーサが組み込み、一部組み込み、または接する形態で含まれ、
前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）が形成され、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、
前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが残りの辺とは異なり、
前記スペーサドット（ｄｏｔ）の不規則度は５０％以上であり、
ＬＥＤ光源から前記パターンフィルムに光を通過させた際、光が通過する領域を基準として長方形の２００×２００ピクセル領域を設定し、
前記長方形の２００×２００ピクセル領域の左下端角をｘ軸、ｙ軸（０、０）基準、（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００のピクセル領域は、下記式３を満たし、
［式３］
２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦１０
式３の中、
Ｄ１は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が０％である場合の回折比率を意味し、
Ｄ２は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が７０％である場合の回折比率を意味し、
前記回折比率は、下記式４を満たし、
［式４］
［１－Ｓｃ／Ｓ］×１００（％）
式４の中、
Ｓは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域での全体光量を意味し、
Ｓｃは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域中の（１００、１００）を原点とし、半径が５０ピクセルを有する領域のピクセル光量を意味する、
パターンフィルム。

【請求項2】

前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）および前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）は、下記式１を満たす、
［式１］
１．０≦Ｔ／Ｄ≦２０
請求項１に記載のパターンフィルム。

【請求項3】

前記基材層は、無機基材層または有機基材層である、請求項１または２に記載のパターンフィルム。

【請求項4】

前記スペーサパターンの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）は、０．４以上４以下である、請求項１から３のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項5】

前記スペーサパターンの線幅は、１０μｍ以上２００μｍ以下である、請求項１から４のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項6】

前記基材層の全体面積（Ａ）、および前記基材層上に形成されたスペーサパターンの前記基材層に接する面の面積（Ｂ）が、下記式２を満たす、
［式２］
５≦［Ｂ／Ａ］×１００（％）≦３０
請求項１から５のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項7】

前記隔壁スペーサの高さ（Ｈ）の平均値が２μｍ以上１００μｍ以下であり、前記隔壁スペーサの高さの標準偏差が０．０５μｍ以上０．５μｍ以下である、請求項１から６のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項8】

前記ボールスペーサの粒径の標準偏差が０．８μｍ以下である、請求項１から７のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項9】

前記閉図形をなす辺の長さのうち、同一の長さを有する辺の比率が８５％未満である、請求項１から８のいずれか一項に記載のパターンフィルム。

【請求項10】

基材層を準備するステップ、
前記基材層の一面にボールスペーサが含まれた紫外線硬化型樹脂層を形成するステップ、
前記紫外線硬化型樹脂層にフィルムマスクをラミネーション（Ｌａｍｉｎａｔｉｏｎ）するステップ、
前記フィルムマスク側から紫外線を照射するステップ、
前記フィルムマスクを前記紫外線硬化型樹脂層から剥離するステップ、および
前記紫外線硬化型樹脂層の未硬化領域を剥離するステップ、
を含む、請求項１～９のいずれか一項に記載のパターンフィルムを製造する、パターンフィルムの製造方法。

【請求項11】

請求項１～９のいずれか１項に記載のパターンフィルム、および
前記パターンフィルムと対向配置され、前記パターンフィルムのスペーサパターンにより前記パターンフィルムとの間隔が維持された基板、
を含む、透過度可変デバイス。

【請求項12】

前記パターンフィルムと前記基板との間に垂直配向力を有する接着剤層を含む、請求項１１に記載の透過度可変デバイス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は、２０２０年０２月１８日付にて韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０－２０２０－００１９６０１号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。

【0002】

本明細書は、パターンフィルム、パターンフィルムの製造方法、およびこれを含む透過度可変デバイスに関する。

【背景技術】

【0003】

透過度可変デバイスは、太陽光の透過率を調節できる機能性フィルムを意味し得る。

【0004】

透過度可変デバイスは、少なくとも２以上の異なる状態の間をスイッチングできるデバイスを意味する。このようなデバイスは、例えば、メガネまたはサングラスなどのアイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）、モバイル機器、仮想現実（ＶＲ：Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）用機器、拡張現実（ＡＲ：Ａｕｇｍｅｎｔｅｄ Ｒｅａｌｉｔｙ）用機器のようなウェアラブル（ｗｅａｒａｂｌｅ）デバイス、または車両のサンルーフなどに用いられるなど、その用途が次第に拡大している。

【0005】

透過度可変デバイスは、外部から流入される光の透過および遮断が容易であるため、建築用スマートウィンドウ、自動車用サンルーフ、および透明ディスプレイの遮光フィルムとして活用することができる。この際、透過度可変デバイスは、両基板の間に一定のセルギャップ（ｃｅｌｌ ｇａｐ）を維持することが必須である。

【0006】

セルギャップを維持するための方法としては、ボールスペーサ（Ｂａｌｌ Ｓｐａｃｅｒ）およびカラムスペーサ（Ｃｏｌｕｍｎ Ｓｐａｃｅｒ）、そしてメッシュ（Ｍｅｓｈ）、ハニカム（Ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）パターンのような隔壁を代表的に用いることができる。しかし、ボールスペーサ（Ｂａｌｌ Ｓｐａｃｅｒ）およびカラムスペーサ（Ｃｏｌｕｍｎ Ｓｐａｃｅｒ）の場合、大面積に垂直にフィルムが置かれる際に、重力により液相が下端に偏って発生する外観不良の問題が発生している。このため、透過度可変デバイス分野においては、隔壁をパターン化させる技術により外観不良の問題を解決しようとする研究が進められている。

【0007】

特に、隔壁をパターン化させる技術において、メッシュ（Ｍｅｓｈ）またはハニカム（Ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）構造の隔壁を規則パターンに形成し、ボールスペーサ（Ｂａｌｌ ｓｐａｃｅｒ）を含まないパターンが開発された。

【0008】

しかし、前記規則パターンの場合、光が透過した際、特定の方向に光の回折（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）現象が発生し、乱反射による特定事物の視認性が低下するなどの問題が発生している。

【0009】

したがって、セルギャップを維持するとともに透過度可変デバイスの視認性を増大できる研究が進められている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0010】

【文献】ヨーロッパ特許公開公報第００２２３１１号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0011】

本明細書は、パターンフィルム、パターンフィルムの製造方法、およびこれを含む透過度可変デバイスに関する。

【課題を解決するための手段】

【0012】

本出願の一実施態様は、基材層；および前記基材層上に形成されたスペーサパターンを含むパターンフィルムであって、
前記スペーサパターンは、複数のスペーサドット（ｄｏｔ）と、前記スペーサドットとスペーサドットを連結するスペーサライン（ｌｉｎｅ）とを含む隔壁スペーサ、およびボールスペーサを含み、
少なくとも一つの前記隔壁スペーサに、前記ボールスペーサが組み込み、一部組みく込み、または接する形態で含まれ、
前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）を形成した際、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、
前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが残りの辺とは異なり、
前記スペーサドット（ｄｏｔ）の不規則度は５０％以上である、パターンフィルムを提供する。

【0013】

他の一実施態様において、基材層を準備するステップ；前記基材層の一面にボールスペーサが含まれた紫外線硬化型樹脂層を形成するステップ；前記紫外線硬化型樹脂層にフィルムマスクをラミネーション（Ｌａｍｉｎａｔｉｏｎ）するステップ；前記フィルムマスク側から紫外線を照射するステップ；前記フィルムマスクを前記紫外線硬化型樹脂層から剥離するステップ；および前記紫外線硬化型樹脂層の未硬化領域を剥離するステップを含む、パターンフィルムの製造方法を提供しようとする。

【0014】

最後に、本出願のまた他の一実施態様において、本出願に係るパターンフィルム；および前記パターンフィルムと対向配置され、前記パターンフィルムのスペーサパターンにより前記パターンフィルムとの間隔が維持された基板を含む、透過度可変デバイスを提供しようとする。

【発明の効果】

【0015】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、スペーサパターンが隔壁スペーサおよびボールスペーサを含み、前記スペーサパターンをなすスペーサドットの不規則度が５０％以上であることにより、セルギャップを維持するとともに、パターンの不規則度を導入することで、既存の四角形（ｍｅｓｈ）または六角形（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）の１種類のパターンから、多様なパターンを含むパターンの構造を拡張し、不規則度を導入することで、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減され、視認性に優れるという特徴を有するようになる。

【0016】

また、本出願に係るパターンフィルムの製造において、無溶剤タイプの紫外線硬化型樹脂層を用いることにより、製造工程上のコーティングおよび露光工程を一括で行うことができるため、工程費用および時間が節減されるという効果を有し、大面積の均一な高さを有するパターンを形成できるという特徴を有するようになる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本出願の一実施態様によるパターンフィルムの側面図を示す図である。

【図2】スペーサパターンが規則パターンを有する場合を示す上面図である。

【図3】四角形スペーサパターンの５０％不規則度を操作する方法に関する図である。

【図4】四角形スペーサパターンの５０％不規則度を操作した後のパターンを示す図である。

【図5】本出願の一実施態様によるパターンフィルムの回折比率を測定する装置を示す概略図である。

【図6】本出願の一実施態様によるパターンフィルムの回折比率の測定方法を示す図である。

【図7】本出願の一実施態様によるパターンフィルムの製造工程を概略的に示す図である。

【図8】本出願の実施例１によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図9】本出願の実施例２によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図10】本出願の比較例１によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図11】本出願の実施例３によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図12】本出願の実施例４によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結を示す図である。

【図13】本出願の比較例２によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図14】本出願の実施例５によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図15】本出願の実施例６によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図16】本出願の比較例３によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図17】本出願の実施例７によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図18】本出願の実施例８によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【図19】本出願の比較例４によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本明細書についてさらに詳しく説明する。

【0019】

本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように、本発明の実施形態について添付図面を参照して詳しく説明する。但し、本発明は、種々の異なる形態に実現されてもよく、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。

【0020】

本出願の一実施態様は、基材層；および前記基材層上に形成されたスペーサパターンを含むパターンフィルムであって、
前記スペーサパターンは、複数のスペーサドット（ｄｏｔ）と、前記スペーサドットとスペーサドットを連結するスペーサライン（ｌｉｎｅ）とを含む隔壁スペーサ、およびボールスペーサを含み、
少なくとも一つの前記隔壁スペーサに、前記ボールスペーサが組み込み、一部組み込み、または接する形態で含まれ、
前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）を形成した際、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、
前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが残りの辺とは異なり、
前記スペーサドット（ｄｏｔ）の不規則度は５０％以上である、パターンフィルムを提供する。

【0021】

本出願の一実施態様において、前記隔壁スペーサは、複数のスペーサドット（ｄｏｔ）と、前記スペーサドットとスペーサドットを連結するスペーサライン（ｌｉｎｅ）とから形成され、前記スペーサドット（ｄｏｔ）は、本出願において、不規則度を調節する因子として用いられるものであって、前記スペーサラインで連結されるスペーサパターンが形成される場合、前記スペーサラインおよびスペーサドットは、隔壁スペーサと表示することができる。

【0022】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、スペーサパターンが隔壁スペーサおよびボールスペーサを含み、前記スペーサドットの不規則度が５０％以上であることにより、セルギャップを維持するとともに、パターンの不規則度を導入することで、既存の四角形（ｍｅｓｈ）または六角形（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）の１種類のパターンから、多様なパターンを含むパターンの構造を拡張し、不規則度を導入することで、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減され、視認性に優れるという特徴を有するようになる。

【0023】

本出願の一実施態様において、前記スペーサドットの不規則度が５０％であるとは、それぞれのスペーサドットの配置において、選択されたスペーサドットの正常ピッチ（ｐｉｔｃｈ）の５０％の半径（０．５ピッチ）を有する円領域内で、前記スペーサドットを無作為に移動して不規則なスペーサパターンを有することを意味する。

【0024】

すなわち、スペーサドットの不規則度がＸ％であるとは、選択されたスペーサドットの正常ピッチ（ｐｉｔｃｈ）のＸ％の半径（０．Ｘピッチ）を有する円領域内で、前記スペーサドットを無作為に移動して不規則度がＸ％を満たすことを意味し得る。

【0025】

具体的に、前記不規則度を操作する方法は下記のとおりである。

【0026】

不規則度が０、５０、７０％であるスペーサドットは、乱数座標発生プログラム（ＣＡＤ）を用いて、次のような方式により設計することができる。先ず、全体面積が約１０ｍｍ程度の基材層上に、１００個の点を２８０μｍ、９４０μｍの間隔（Ｐｉｔｃｈ）で、規則的（不規則度が０％）に四角形（Ｍｅｓｈ）または六角形配列で配置する。

【0027】

四角形配列の場合、４個のスペーサドットを任意に選択して構成した正方形において、個別スペーサドットが各スペーサを基準として正常ピッチ（Ｐ）の５０％の半径（０．５Ｐ）、または７０％の半径（０．７Ｐ）を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティングして、個別スペーサドットを移動させ、不規則度（５０％または７０％）を有するスペーサパターン配置を構成する。六角形配列の場合、６個のスペーサドットを選択して構成した正六角形の構成にのみ差があり、残りの過程は四角形配列と同様である。

【0028】

個別スペーサドットの直径を設定し、スペーサドットとスペーサドットを連結するスペーサラインを形成し、最終的にスペーサパターンを完成する。この際、形成されたスペーサパターンは、四角形パターンだけでなく、五角形、六角形のパターンが形成されてもよく、六角形配列パターンも、六角形だけでなく、四角形、五角形、七角形のパターンが形成されてもよい。

【0029】

図２は、スペーサドットが規則パターンを有する場合を示す上面図である。具体的に、メッシュ（ｍｅｓｈ）パターンおよびハニカム（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）パターンを有する場合の上面図であって、各パターンの正常ピッチおよび線幅を確認することができる。

【0030】

図３は、四角形スペーサパターンの５０％不規則度を操作する方法に関する図である。すなわち、四角形配列の場合、４個のスペーサドットを任意に選択して構成した正方形において、個別スペーサドットが各スペーサドットを基準として正常ピッチ（Ｐ）の５０％の半径（０．５Ｐ）を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティングして、個別スペーサドットを移動させ、不規則度（５０％）を有するスペーサ配置パターンを構成することを確認することができる。

【0031】

図４は、四角形スペーサパターンの５０％不規則度を操作した後のパターンを示す図である。具体的に、図３の操作により形成した四角形スペーサパターンの５０％不規則度を有するパターンであって、図２とは異なり、ピッチの間隔が異なることを確認することができた。

【0032】

本出願の一実施態様において、前記スペーサパターンの不規則度は、５０％以上であってもよく、９０％未満であってもよい。

【0033】

他の一実施態様において、前記スペーサパターンの不規則度は、５０％以上９０％未満、好ましくは５０％以上８０％未満、より好ましくは５０％以上７５％未満であってもよい。

【0034】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、スペーサパターンが隔壁スペーサおよびボールスペーサを含み、前記スペーサパターンの不規則度が前記範囲を満たすことにより、既存の四角形（ｍｅｓｈ）または六角形（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）の１種類のパターンから、多様なパターンを含むパターンの構造を拡張し、不規則度を導入することで、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減された、視認性に優れるという特徴を有するようになる。

【0035】

図１は、本出願の一実施態様によるパターンフィルムの側面図を示す図であって、前記パターンフィルムは、基材層１０上にスペーサパターンを有し、前記スペーサパターンは、隔壁スペーサ２０およびボールスペーサ３０を含むことを確認することができ、少なくとも一つの前記隔壁スペーサに、前記ボールスペーサが組み込み、一部組み込み、または接する形態で含まれることを確認することができる。

【0036】

特に、図１においては、ボールスペーサが含まれる形態を具体的に確認することができ、隔壁スペーサにボールスペーサが組み込まれたとは、内部に完全に組み込まれた形態を意味し、一部組み込まれたとは、ボールスペーサが隔壁スペーサの内部に組み込まれ、ボールスペーサの一部は外部に露出された形態を有する形態を意味し、接する形態で含まれるとは、前記隔壁スペーサの一面と前記ボールスペーサの一面が接することを意味する。

【0037】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）を形成した際、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが異なってもよい。

【0038】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上１０以下を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）を形成した際、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが異なってもよい。

【0039】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドット（ｄｏｔ）のうち任意に３以上６以下を選択し、前記選択されたスペーサドット（ｄｏｔ）で取り囲まれた閉図形を形成するように前記スペーサライン（ｌｉｎｅ）を形成した際、前記閉図形の内部にスペーサドット（ｄｏｔ）が存在せず、前記閉図形をなす辺の長さのうち少なくとも一つが異なってもよい。

【0040】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドットのうち任意に３個のスペーサドットを選択し、これを頂点として取り囲まれた閉図形は三角形であってもよい。

【0041】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドットのうち任意に４個のスペーサドットを選択し、これを頂点として取り囲まれた閉図形は四角形であってもよい。

【0042】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドットのうち任意に５個のスペーサドットを選択し、これを頂点として取り囲まれた閉図形は五角形であってもよい。

【0043】

本出願の一実施態様において、前記複数のスペーサドットのうち任意に６個のスペーサドットを選択し、これを頂点として取り囲まれた閉図形は六角形であってもよい。

【0044】

本出願の一実施態様において、前記閉図形をなす辺の長さのうち最大長さは、５０μｍ以上２，５００μｍ以下である、パターンフィルムを提供する。

【0045】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、前記スペーサパターンの不規則度が５０％を超過するものであって、前記閉図形である三角形、四角形、または六角形において、同一の長さを有する辺の比率が８５％未満であってもよい。

【0046】

一つの例示において、上記のように形成された閉図形である三角形、四角形、または六角形の辺のうち同一の長さを有する辺の個数の比率（％）（三角形の場合は１００×（同一長さの辺の個数）／３、四角形の場合は１００×（同一長さの辺の個数）／４、六角形の場合は１００×（同一長さの辺の個数）／６）は、８５％未満であってもよい。前記比率は、他の例示において、８４％以下、８０％以下、７６％以下、６７％以下、５５％以下、または４０％以下であってもよい。前記比率の下限は特に制限されない。すなわち、場合によっては、前記閉図形の全ての辺の長さが同一ではなくてもよいため、前記比率の下限は０％であってもよい。

【0047】

すなわち、前記スペーサパターンが同一の間隔を有する規則パターンではなく、不規則度が５０％を超過するものであって、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減された、視認性に優れるという特徴を有するようになる。

【0048】

本出願の一実施態様において、前記隔壁スペーサの高さ（Ｈ）の平均値が２μｍ以上１００μｍ以下であり、前記隔壁スペーサの高さの標準偏差が０．０５μｍ以上０．５μｍ以下である、パターンフィルムを提供する。

【0049】

他の一実施態様において、前記隔壁スペーサの高さ（Ｈ）の平均値が２μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上９０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上８０μｍ以下であってもよい。

【0050】

また他の一実施態様において、前記隔壁スペーサの高さの標準偏差が０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上０．４μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であってもよい。

【0051】

本出願の一実施態様において、前記スペーサパターンの線幅は、１０μｍ以上２００μｍ以下である、パターンフィルムを提供する。

【0052】

前記スペーサパターンの線幅は、例えば、１０μｍ～２００μｍであってもよく、他の例示において、１２μｍ以上、１３μｍ以上、１４μｍ以上、１５μｍ以上、１６μｍ以上、１７μｍ以上、１８μｍ以上、１９μｍ以上、２０μｍ以上、２１μｍ以上、２２μｍ以上、２３μｍ以上、２４μｍ以上、２５μｍ以上、または２６μｍ以上であるか、２００μｍ以下、１９５μｍ以下、１８０μｍ以下、１７０μｍ以下、１６０μｍ以下、１５０μｍ以下、１４９μｍ以下、１４８μｍ以下、１４７μｍ以下、または１４６μｍ以下であってもよい。

【0053】

本出願の一実施態様において、前記スペーサパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）は、５０μｍ以上１，５００μｍ以下である、パターンフィルムを提供する。

【0054】

前記スペーサパターンのピッチは、例えば、５０μｍ以上１，５００μｍ以下であってもよく、他の例示において、５０μｍ以上、１００μｍ以上、１５０μｍ以上、２００μｍ以上、２５０μｍ以上、または２８０μｍ以上であるか、１，５００μｍ以下、１，４００μｍ以下、または１，０００μｍ以下であってもよい。

【0055】

前記スペーサパターンのピッチおよび線幅は、本出願の目的を損なわない範囲内で適宜選択されてもよい。

【0056】

本出願の一実施態様において、前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）および前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）は、下記式１を満たす、パターンフィルムを提供する。
［式１］
１．０≦Ｔ／Ｄ≦２０

【0057】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムが前記式１を満たす場合、隔壁スペーサ下部の硬化度が適しており、後続工程（現像工程：Ｄｅｖｅｌｏｐ ｐｒｏｃｅｓｓ）に用いられるストリッパ（ｓｔｒｉｐｐｅｒ）溶液、洗浄溶液、または現像圧力（１ｂａｒ以上）によるスペーサパターンの下部が基材層から脱離するのを防止できるという特徴を有するようになる。すなわち、前記式１が１．０未満の値を有する場合には、隔壁スペーサ下部の硬化度が充分ではなく、後続工程（現像工程：Ｄｅｖｅｌｏｐ ｐｒｏｃｅｓｓ）に用いられるストリッパ（ｓｔｒｉｐｐｅｒ）溶液、洗浄溶液、または現像圧力（１ｂａｒ以上）によりスペーサパターンの下部が基材層から脱離し、隔壁スペーサが失われるという問題が発生し得る。また、前記式１が２０超過である場合には、隔壁スペーサ交差区間（スペーサドット区間）に過硬化現象が発生して、隔壁スペーサ以外の領域にも硬化が発生し、この場合、選択的露光／現像による隔壁スペーサの製造を難しくするという問題が発生し得る。

【0058】

本出願の一実施態様において、前記隔壁スペーサの線幅（Ｔ）は、その後のこれを含む透過度可変デバイスの透過率可変度を考慮して適宜調節されてもよい。

【0059】

具体的に、前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）は、１０μｍ～２００μｍであってもよく、他の例示において、２０μｍ以上、３０μｍ以上、４０μｍ以上、５０μｍ以上、６０μｍ以上、７０μｍ以上、または８０μｍ以上であるか、１９０μｍ以下、１８０μｍ以下、１７０μｍ以下、１６０μｍ以下、１５０μｍ以下、１４０μｍ以下、１３０μｍ以下、１２０μｍ以下、１１０μｍ以下、１００μｍ以下、または９０μｍ以下であってもよい。

【0060】

本出願において、前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）は、その後のこれを含む透過度可変デバイスの上部基板と下部基板との間の間隔を考慮して調節されてもよい。例えば、前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）は、１μｍ～１５μｍであってもよく、他の例示において、２μｍ以上、３μｍ以上、４μｍ以上、５μｍ以上、６μｍ以上、７μｍ以上、または８μｍ以上であるか、１５μｍ以下、１４μｍ以下、１３μｍ以下、１２μｍ以下、１１μｍ以下、１０μｍ以下、または９μｍ以下であってもよい。

【0061】

本出願の一実施態様において、前記ボールスペーサの粒径の標準偏差が０．８μｍ以下である、パターンフィルムを提供する。

【0062】

他の一実施態様において、前記ボールスペーサの粒径の標準偏差が０．８μｍ以下、好ましくは０．７μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下であってもよく、０．０５μｍ以上であってもよい。

【0063】

本出願の一実施態様において、前記スペーサパターンの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）は、０．４以上４以下である、パターンフィルムを提供する。

【0064】

前記光学密度は、前記スペーサパターンの透過率（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ、単位：％）を測定した後、これを光学密度の数式（光学密度＝－ｌｏｇ１０（Ｔ）、Ｔは前記透過率）に代入して求めることができる。

【0065】

他の一実施態様において、前記スペーサパターンの光学密度（Ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）は、０．４以上４．０以下、好ましくは０．５以上３．５以下、より好ましくは１．０以上３．０以下を満たしてもよい。

【0066】

光の透過率、色相、または反射率を調節できる透過度可変デバイスにおいて、スペーサパターンが存在する領域は光学的に不活性領域となり、本出願に係るパターンフィルムが前記光学密度の範囲を満たすことにより、光漏れを調節することができ、スペーサパターンの製造安定性を実現することで、その後の透過度可変デバイスに適用時に均一な光学性能を確保できるという特徴を有するようになる。すなわち、前記光学密度の範囲未満である場合には、デバイスの駆動時に光学的に不活性領域であるスペーサパターンの内部を通過することとなって光漏れの問題が発生し得るし、光学密度が前記範囲を超過する場合には、低い透過率（０．０１％）を実現するブラック粒子（カーボンブラックなど）の含量が増加して高分子樹脂のＵＶ硬化を妨害することにより、パターンの製造不良をもたらすという問題が発生し得る。

【0067】

本出願の一実施態様において、前記基材層としては、特に制限されず、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）のような公知の光学デバイスの構成において、基板に用いられる任意の基材層が適用されてもよい。例えば、基材層は、無機基材層であるか、または有機基材層であってもよい。無機基材層としては、ガラス（ｇｌａｓｓ）基材層などが挙げられ、有機基材層としては、多様なプラスチックフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムとしては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム；ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）フィルム；ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリルフィルム；ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）フィルム；ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）またはＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）などのポリオレフィンフィルム；ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）フィルム；ＤＡＣ（ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム；Ｐａｃ（Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）フィルム；ＰＥＳ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム；ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）フィルム；ＰＰＳ（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）フィルム；ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）フィルム；ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）フィルム；ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）フィルム；ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、またはＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）フィルムなどが挙げられるが、これに制限されるものではない。

【0068】

一つの例示において、前記基材層は、いわゆる、フレキシブル基材層であってもよい。フレキシブル基材層の具体的な種類は、特に制限されず、前述の基材層のうち主にプラスチックフィルムや、薄膜ガラス（ｔｈｉｎ ｇｌａｓｓ）のような非常に薄い無機基材などもフレキシブル基材層として用いられてもよい。

【0069】

前記基材層の厚さは、特に制限されず、用途に応じて適正範囲が選択されてもよく、具体的に、１μｍ以上１，０００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上９００μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以上５００μｍ以下の範囲を満たしてもよい。

【0070】

本出願の一実施態様において、前記基材層と前記スペーサパターンとの間に透過度可変デバイスの駆動に求められる他の要素をさらに含んでもよい。このような要素は、多様に公知されており、代表的には、電極層などが挙げられる。

【0071】

すなわち、本出願の一実施態様において、前記パターンフィルムは、前記基材層と前記スペーサパターンとの間に電極層をさらに含んでもよい。

【0072】

前記電極層としては、公知の素材が適用されてもよい。例えば、電極層は、金属合金、電気伝導性化合物、または上記したもののうち２種以上の混合物を含んでもよい。このような材料としては、金などの金属、ＣｕＩ、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＺＴＯ（Ｚｉｎｃ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、アルミニウムまたはインジウムがドープされた亜鉛オキシド、マグネシウムインジウムオキシド、ニッケルタングステンオキシド、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、またはＩｎ_２Ｏ_３などの酸化物材料や、ガリウムナイトライドのような金属ナイトライド、亜鉛セレナイドなどのような金属セレナイド、亜鉛スルフィドのような金属スルフィドなどが挙げられる。また、透明な正孔注入性電極層は、Ａｕ、Ａｇ、またはＣｕなどの金属薄膜と、ＺｎＳ、ＴｉＯ_２、またはＩＴＯなどのような高屈折の透明物質の積層体などを用いて形成してもよい。

【0073】

前記電極層は、蒸着、スパッタリング、化学蒸着、または電気化学的手段などの任意の手段により形成されてもよい。電極層のパターン化も、特に制限されず、公知の方式により行われてもよく、例えば、公知のフォトリソグラフィやシャドウマスクなどを用いた工程によりパターン化されてもよい。

【0074】

本出願の一実施態様において、前記基材層の全体面積（Ａ）、および前記基材層上に形成されたスペーサパターンの前記基材層に接する面の面積（Ｂ）が、下記式２を満たす、パターンフィルムを提供する。
［式２］
５≦［Ｂ／Ａ］×１００（％）≦３０

【0075】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムが前記式２を満たす場合、隔壁スペーサ下部の硬化度が適しており、後続工程（現像工程：Ｄｅｖｅｌｏｐ ｐｒｏｃｅｓｓ）に用いられるストリッパ（ｓｔｒｉｐｐｅｒ）溶液、洗浄溶液、または現像圧力（１ｂａｒ以上）によるスペーサパターンの下部が基材層から脱離するのを防止できるという特徴を有するようになる。すなわち、前記式２が５％未満の値を有する場合には、隔壁スペーサが硬化するのに十分な時間を有することができないため下部の硬化度が低下し、後続工程（現像工程：Ｄｅｖｅｌｏｐ ｐｒｏｃｅｓｓ）に用いられるストリッパ（ｓｔｒｉｐｐｅｒ）溶液、洗浄溶液、または現像圧力（１ｂａｒ以上）によりスペーサパターンの下部が基材層から脱離し、隔壁スペーサが失われるという問題が発生し得る。また、前記式２が３０％超過である場合には、隔壁スペーサ交差区間（スペーサドット区間）に過硬化現象が発生して、隔壁スペーサ以外の領域にも硬化が発生し、この場合、選択的露光／現像による隔壁スペーサの製造を難しくするという問題が発生し得る。

【0076】

本出願の一実施態様において、前記パターンフィルムのＬＥＤ光源から前記パターンフィルムに光を通過させた際、光が通過する領域を基準として長方形の２００×２００ピクセル領域を設定し、
前記長方形の２００×２００ピクセル領域の左下端角をｘ軸、ｙ軸（０、０）基準、（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域は、下記式３を満たす、パターンフィルムを提供する。
［式３］
２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦１０
前記式３の中、
Ｄ１は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が０％である場合の回折比率を意味し、
Ｄ２は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が７０％である場合の回折比率を意味し、
前記回折比率は、下記式４を満たし、
［式４］
［１－Ｓｃ／Ｓ］×１００（％）
前記式４の中、
Ｓは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域での全体光量を意味し、
Ｓｃは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域中の（１００、１００）を原点とし、半径が５０ピクセルを有する領域のピクセル光量を意味する。

【0077】

本出願において、前記パターンフィルムのＬＥＤ光源から前記パターンフィルムに光を通過させた際、光が通過する領域を基準として長方形の２００×２００ピクセル領域を設定することは、任意のピクセル領域を選定することであって、パターンフィルムの回折度を評価するための方法であってもよい。本出願において、ピクセル領域は限定されず、これを一般化すれば、Ｘ１×Ｙ１のピクセル領域に設定することができ、Ｘ１は１００～１０，０００の整数、Ｙ１は１００～１０，０００の整数であってもよい。

【0078】

この際、Ｓは、（０、０）～（Ｘ１、Ｙ１）の長方形Ｘ１×Ｙ１ピクセル領域での全体光量を意味し、Ｓｃは、（０、０）～（Ｘ１、Ｙ１）の長方形Ｘ１、Ｙ１ピクセル領域中の（Ｘ１／２、Ｙ１／２）を原点とし、半径が（ｘ１／２）＊１／２のピクセルを有する領域のピクセル光量を意味する。

【0079】

すなわち、前記式３および式４は、本出願に係るパターンフィルムの回折度が改善されることを示す資料であって、前記ピクセル領域には制限されない。
本出願の一実施態様において、前記ＬＥＤ光源から光を通過させて測定する方法としては、当業界で周知の多様な方法を用いてもよく、具体的に、３ｍｍ ＬＥＤ、５ｍｍ Ｈｏｌｅ、レンズ（Ｍｏｄｅｌ：ＦＬＣＣ－１６１４－２Ｍ、製造会社：Ｋｏｎｉｃａ Ｍｉｎｏｌｔａ）、およびＣＣＤ（Ｍｏｄｅｌ：ＣＡ－２５００、製造会社：Ｋｏｎｉｃａ Ｍｉｎｏｌｔａ）の装置を構成して測定してもよい。

【0080】

本出願の一実施態様において、前記回折比率を測定する方法は下記のとおりである。
１．測定対象であるパターンフィルムをレンズから０．１ｃｍの距離差をおいて固定する。
２．ＬＥＤ光源の光をオンにし、光が５ｍｍのホール（Ｈｏｌｅ）を通過し、測定対象であるパターンフィルムを通過する瞬間に発生する回折（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）をレンズおよびＣＣＤを介して赤色～青色に色格納をし、格納されたイメージから回折（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の定性的差を計算する。

【0081】

図５は、本出願の一実施態様によるパターンフィルムの回折比率を測定する装置を示す概略図である。

【0082】

本出願の一実施態様において、前記パターンフィルムのＬＥＤ光源から光を通過させることは、前記装置を介して光を通過させることができ、前記装置から本出願のパターンフィルムに光を通過した後、測定装置から得られたイメージの原本において、左下端角をｘ軸、ｙ軸（０、０）基準、（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域（フレーム）を形成する。

【0083】

すなわち、光が通過する領域を２００×２００の個別のピクセルに区分することができ、（０、０）、（０、１）、（０、２）などのそれぞれのピクセルの光量を計算することができ、計算方法は下記のとおりである。

【0084】

エッジ（Ｅｄｇｅ）の縁によるノイズ（ｎｏｉｓｅ）を除去するために、エッジの縁を除去（フレーム領域を除去）した画像ファイルをｊｐｇ形式で格納する。この際、エッジの縁を除去する方法は、ＭＳ－ｏｆｆｉｃｅの描画ツール／切り取り命令語を利用するか、その他のＩｍａｇｅ Ｊ、フォトショップ（登録商標）などのイメージ処理専門プログラムを利用するか、またはＭＡＴＬＡＢ（登録商標）、Ｐｙｔｈｏｎ（登録商標）などのプログラムでコーディングして実行してもよい。

【0085】

それぞれのピクセルのＲｅｄの総計は、Ｉｍａｇｅ Ｊなどのイメージ処理専門プログラムや、ＭＡＴＬＡＢ（登録商標）、Ｐｙｔｈｏｎ（登録商標）などのコーディングプログラムなど、画像ファイルを呼び込んでＲＧＢ Ｓｔａｃｋの個別ピクセル値および統計値を提供する如何なるプログラムで計算してもよく、Ｂｌａｃｋ／Ｗｈｉｔｅにイメージを変更して多くのプログラムが自動的に計算する方法を提供する。

【0086】

本出願の一実施態様において、パターンフィルムの回折比率は、下記式４を満たしてもよい。
［式４］
［１－Ｓｃ／Ｓ］×１００（％）
Ｓは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域での全体光量を意味し、
Ｓｃは、前記（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域（１００、１００）を原点とし、半径が５０ピクセルを有する領域のピクセル光量を意味する。

【0087】

すなわち、２００×２００のそれぞれのピクセルの光量をイメージ処理プログラムを介して上記のように計算することができ、前記Ｓは、２００×２００のピクセル領域の全体光量を意味し、Ｓｃは、（１００、１００）を原点とし、半径が５０ピクセルを有する領域の光量を意味するものであって、式４の値が大きいほど、回折（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）が多く発生することを意味し得る。

【0088】

本出願の一実施態様において、前記パターンフィルムは、下記式３を満たしてもよい。
［式３］
２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦１０
前記式３の中、
Ｄ１は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が０％である場合の回折比率を意味し、
Ｄ２は、パターンフィルムのスペーサドットの不規則度が７０％である場合の回折比率を意味する。

【0089】

本出願の一実施態様において、前記式３は、２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦１０、好ましくは２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦９、より好ましくは２≦Ｄ１－Ｄ２（％）≦８の範囲を満たしてもよい。

【0090】

本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、スペーサドット（ｄｏｔ）の不規則度を５０％超過に調節することにより、セルギャップを維持するとともに、パターンの不規則度を導入することで、既存の四角形（ｍｅｓｈ）または六角形（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）の１種類のパターンから、多様なパターンを含むパターンの構造を拡張し、不規則度を導入することで、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減され、視認性に優れるという特徴を有するものであって、前記式３の範囲を満たすことを確認することができる。

【0091】

図６は、本出願の一実施態様によるパターンフィルムの回折比率の測定方法を示す図である。具体的に、前記ＬＥＤ光源を介して本出願に係るパターンフィルムに光を通過させた後、測定装置からパターンイメージをＩｍａｇｅ Ｊプログラムにおいて呼び込んで原本を格納する。その後、エッジの縁によるノイズを除去するために、イメージの原本において、左下端角をｘ軸、ｙ軸（０、０）基準、（０、０）～（２００、２００）の長方形２００×２００ピクセル領域（フレーム）を形成し、フレームの外部領域を除去する。Ｉｍａｇｅメニュー内Ｔｙｐｅ／ＲＧＢ Ｓｔａｃｋに分離した後、ｒｅｄ ｓｔａｃｋのみを格納し、ｂｌａｃｋ／ｗｈｉｔｅに変換する。この際、ピクセル値の最小値は０（ｂｌａｃｋ領域）、最大値は２５５（ｗｈｉｔｅ領域）であり、（１００、１００）を原点とし、半径が５０ピクセルを有する領域を選択した後、それぞれの領域でのピクセル値を計算して回折比率を測定することができる。

【0092】

すなわち、図６において、前記パターンフィルムのエッジのフレーム（ｆｒａｍｅ）を除去した後、長方形の左下端が（０、０）が基準となり、右側が＋ｘ、上部が＋ｙを有するものであって、（１００、１００）を原点とし、半径が＋ｘを基準として（２００／２）＊１／２＝５０ピクセルを有する領域は、センター部の円形の領域と表示することができる。

【0093】

本出願の一実施態様において、基材層を準備するステップ；前記基材層の一面にボールスペーサが含まれた紫外線硬化型樹脂層を形成するステップ；前記紫外線硬化型樹脂層にフィルムマスクをインプリンティング（ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）するステップ；前記フィルムマスク側から紫外線を照射するステップ；前記フィルムマスクを前記紫外線硬化型樹脂層から剥離するステップ；および前記紫外線硬化型樹脂層の未硬化領域を剥離するステップを含む、パターンフィルムの製造方法を提供しようとする。

【0094】

図７は、本出願の一実施態様によるパターンフィルムの製造工程を概略的に示す図である。

【0095】

本出願の一実施態様において、前記フィルムマスクは、透明基材；前記透明基材の一面に形成された遮光パターン；および前記透明基材の前記遮光パターンが形成された面上に形成された表面離型層を含むパターンフィルムの製造方法を提供する。

【0096】

本出願の一実施態様において、本出願に係るパターンフィルム；および前記パターンフィルムと対向配置され、前記パターンフィルムのスペーサパターンにより前記パターンフィルムとの間隔が維持された基板を含む、透過度可変デバイスを提供する。

【0097】

上記のような透過度可変デバイスは、多様な用途に適用されてもよい。透過度可変デバイスが適用可能な用途には、ウィンドウまたはサンルーフなどのような建物、容器、または車両などを含む密閉された空間の開口部や、アイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）などや、窓戸用、ＯＬＥＤ（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅ）の遮光板などが挙げられる。前記アイウェアの範囲には、一般的なメガネ、サングラス、スポーツ用ゴーグルもしくはヘルメット、または仮想現実または拡張現実体験用機器などのようなウェアラブル機器など、観察者がレンズを介して外部を観察できるように形成された全てのアイウェアが含まれてもよい。

【0098】

本出願の透過度可変デバイスが適用可能な代表的な用途には、車両用サンルーフが挙げられる。

【0099】

一つの例示において、前記透過度可変デバイスは、それ自体で車両用サンルーフであってもよい。例えば、少なくとも一つ以上の開口部が形成されている車体を含む自動車において、前記開口部に取り付けられた前記透過度可変デバイスまたは車両用サンルーフを取り付けて用いられてもよい。

【0100】

サンルーフは、車両の天井に存在する、固定されているかまたは作動（ベンディングまたはスライディング）する開口部（ｏｐｅｎｉｎｇ）であって、光または新鮮な空気が車両の内部に流入されるように機能する装置を通称する意味であり得る。本出願において、サンルーフの作動方式は、特に制限されず、例えば、手動で作動するかまたはモータで駆動してもよく、サンルーフの形状、大きさ、またはスタイルは、目的とする用途に応じて適宜選択されてもよい。例えば、サンルーフは、作動方式に応じて、ポップ－アップタイプのサンルーフ、スポイラー（ｔｉｌｅ ＆ ｓｌｉｄｅ）タイプのサンルーフ、インビルトタイプのサンルーフ、フォールディングタイプのサンルーフ、トップ－マウントタイプのサンルーフ、パノラミックルーフシステムタイプのサンルーフ、除去可能なルーフパネル（ｔ－ｔｏｐｓまたはｔａｒｇａ ｒｏｏｆｔｓ）タイプのサンルーフ、またはソーラータイプのサンルーフなどが挙げられるが、これに制限されるものではない。

【0101】

本出願の例示的なサンルーフは、本出願の前記透過度可変デバイスを含んでもよく、この場合、透過度可変デバイスに対する具体的な事項は、前記透過度可変デバイスの項目で記述された内容が同様に適用されてもよい。

【0102】

本出願の一実施態様において、前記パターンフィルムと前記基板との間に垂直配向力を有する接着剤層を含む、透過度可変デバイスを提供する。

【実施例】

【0103】

以下、実施例により本明細書をさらに詳しく説明する。但し、以下の実施例は、本明細書を例示するためのものにすぎず、本明細書を限定するためのものではない。

【0104】

＜製造例＞
＜実施例１＞
隔壁スペーサの形成に用いられる硬化性組成物を次のような方式により製造した。

【0105】

紫外線硬化型アクリレート化合物、重合開始剤、および分散剤を含むバインダーとして、隔壁スペーサの製造に通常用いられるバインダーに、ブラックボールスペーサおよび暗色化材料を混合して硬化性組成物を製造した。この際、ブラックボールスペーサとしては、平均粒径が１０μｍ程度であり、ＣＶ（Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ ｏｆ Ｖａｒｉａｔｉｏｎ）が４であり、粒径の標準偏差が約０．４μｍ程度であるブラックボールスペーサ（製造会社：Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ、商品名：ＫＢＮ ５１０）を用いた。前記ブラックボールスペーサは、前記バインダー１００重量部に対して２．５重量部で配合した。また、暗色化材料として、カーボンブラックは、材料中に約３重量％の比率で配合した。前記製造された組成物の光学密度（ＯＤ）を確認した結果、約１．７の値に確認された。

【0106】

表面に非結晶質のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）電極層が形成された１軸延伸基材フィルム（ＰＥＴ、Ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））の前記電極層上に、上記で製造された硬化性組成物を２ｍＬ～３ｍＬ滴加（ｄｒｏｐｐｉｎｇ）し、マスクで前記滴加されたた混合物を圧着して基材層、電極層、硬化性組成物層、およびマスクを含む積層体を形成した状態で、前記マスクに向かって紫外線を照射して前記硬化性組成物層を硬化させた（紫外線の照射量：３８０ｍＪ／ｃｍ^２）。

【0107】

適用されたマスクとしては、図７に示すように、透明基材フィルムであるＰＥＴフィルム上に、パターン化された遮光層（ＡｇＸ、Ｘ＝Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、またはＩ）と離型層が順次形成された形態のマスクを用いた。前記遮光層パターンは、不規則度が約７０％であり、乱数座標発生プログラム（ＣＡＤ）を用いて次のような方式により設計した。

【0108】

先ず、全体面積が約１０ｍｍ程度の基材層上に、１００個のドット（ｄｏｔ）が、図３に示すように、２８０μｍの一定間隔（正常ピッチ）で配置されている状態を仮定した（正常配置状態）。この際、個別ドットの底部の断面積は、約１２μｍ程度となるように調整した。その後、４個のドットを選択して構成した正方形において、個別ドットがが各ドットを基準として前記正常ピッチの７０％の半径（０．７Ｐ）を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティングして、個別ドットを移動させ、配置パターンを構成した。その後、個別ドットを線で連結した。

【0109】

図４は、上記のように設計された隔壁スペーサ配置の例示を示すものであって、四角形だけでなく、五角形、六角形も示していることが分かる。前記閉図形の全ての辺の長さのうち最小長さは約５５μｍであり、最大長さは約４７０μｍ程度であった。

【0110】

紫外線の照射後、未硬化の硬化性組成物を除去（現像）して隔壁スペーサを形成した。図１は、上記のような方式により製造されたスペーサパターンが形成されたパターンフィルムの断面写真である。図１のように、隔壁スペーサは、ブラックボールスペーサが組み込み、一部組み込み、または接する形態のスペーサパターンを形成する。製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．２μｍであって、平均が約１０．１μｍ程度であり、線幅は約２７μｍ～３１μｍ程度であって、平均が約２８．５μｍ程度に測定された。

【0111】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７０μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．８５に測定された。

【0112】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２７．２％の定量値を示した。図８は、本出願の実施例１によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が７０％である長方形の形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0113】

＜実施例２＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターンが正常ピッチの５０％の半径［０．５Ｐ］を有する円領域で無作為に移動した設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0114】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．２μｍであって、平均が約１０．１μｍ程度であり、線幅は約２８μｍ～３２μｍ程度であって、平均が約２９．３μｍ程度に測定された。

【0115】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１７μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７５μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．９３に測定された。

【0116】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２９．３％の定量値を示した。図９は、本出願の実施例２によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が５０％である長方形の形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0117】

＜比較例１＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターンを規則パターンに設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0118】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約２７μｍ～３１μｍ程度であって、平均が約２８．７μｍ程度に測定された。

【0119】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１６μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７３μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．８７に測定された。

【0120】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが明確に観察され、式４により測定される回折比率は２９．９％の定量値を示した。図１０は、本出願の比較例１によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含むスペーサパターンを含むものであって、規則パターン（四角形）を有することと、回折ラインが明確に観察されることを確認することができた。

【0121】

＜実施例３＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］を９４０μｍに設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0122】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．２μｍであって、平均が約１０．１μｍ程度であり、線幅は約９５μｍ～１００μｍ程度であって、平均が約９７．８μｍ程度に測定された。

【0123】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．９０μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は９．７８に測定された。

【0124】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２０．５％の定量値を示した。図１１は、本出願の実施例３によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が７０％である長方形の形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0125】

＜実施例４＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］が９４０μｍ、遮光層パターンが正常ピッチの５０％の半径［０．５Ｐ］を有する円領域で無作為に移動した設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0126】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約９６μｍ～９９μｍ程度であって、平均が約９７．５μｍ程度に測定された。

【0127】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２１％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．８８μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は９．７５に測定された。

【0128】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２３．９％の定量値を示した。図１２は、本出願の実施例４によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が５０％である長方形の形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0129】

＜比較例２＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］が９４０μｍ、遮光層パターンを規則パターンに設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0130】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約９４μｍ～９７μｍ程度であって、平均が約９５．６μｍ程度に測定された。

【0131】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１６μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７９μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は９．５６に測定された。

【0132】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが明確に観察され、式４により測定される回折比率は２６．６％の定量値を示した。図１３は、本出願の比較例２によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含むスペーサパターンを含むものであって、規則パターン（四角形）を有することと、回折ラインが明確に観察されることを確認することができた。

【0133】

＜実施例５＞
前記実施例１において、マスクの設計（遮光層パターンは、６個のドットを選択して構成した正六角形において、個別ドットが各ドットを基準として前記正常ピッチの７０％の半径［０．７Ｐ］を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティングした設計）を変更したことを除いては、前記実施例１と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0134】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．２μｍであって、平均が約１０．１μｍ程度であり、線幅は約２７μｍ～３１μｍ程度であって、平均が約２８．９μｍ程度に測定された。

【0135】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７５μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．８９に測定された。

【0136】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２７．４％の定量値を示した。図１４は、本出願の実施例５によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が７０％であるハニカム形態のスペーサパターンを含むことを確認することがき、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0137】

＜実施例６＞
前記実施例５において、マスクの設計（正常ピッチの５０％の半径［０．５Ｐ］を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティングした設計）を変更したことを除いては、前記実施例５と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0138】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約２７μｍ～３０μｍ程度であって、平均が約２８．７μｍ程度に測定された。

【0139】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１６μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７５μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．８７に測定された。
回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２８．０％の定量値を示した。図１５は、本出願の実施例６によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が５０％であるハニカム形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0140】

＜比較例３＞
前記実施例５において、マスクの設計（遮光層パターンを規則パターンに設計）を変更したことを除いては、前記実施例５と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0141】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約２７μｍ～３０μｍ程度であって、平均が約２８．８μｍ程度に測定された。

【0142】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１９％～２０％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１６μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７５μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は２．８８に測定された。

【0143】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが明確に観察され、式４により測定される回折比率は３０．１％の定量値を示した。図１６は、本出願の比較例３によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含むスペーサパターンを含むものであって、規則パターン（ハニカム）を有することと、回折ラインが明確に観察されることを確認することができた。

【0144】

＜実施例７＞
前記実施例５において、マスクの設計（遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］を９４０μｍに設計）を変更したことを除いては、前記実施例５と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0145】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．２μｍであって、平均が約１０．１μｍ程度であり、線幅は約７０μｍ～７４μｍ程度であって、平均が約７２．９μｍ程度に測定された。

【0146】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１４％～１５％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７５μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は７．２９に測定された。

【0147】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２１．３％の定量値を示した。図１７は、本出願の実施例７によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が７０％であるハニカム形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0148】

＜実施例８＞
前記実施例５において、マスクの設計（正常ピッチの５０％の半径［０．５Ｐ］を有する円領域内で無作為に移動するようにプログラムをセッティング、および遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］を９４０μｍに設計）を変更したことを除いては、前記実施例５と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0149】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約７１μｍ～７４μｍ程度であって、平均が約７２．８μｍ程度に測定された。

【0150】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１４％～１６％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１６μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．７８μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は７．２８に測定された。

【0151】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが観察されず、式４により測定される回折比率は２１．９％の定量値を示した。図１８は、本出願の実施例８によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含む、不規則度が５０％であるハニカム形態のスペーサパターンを含むことを確認することができ、回折ラインが観察されないことを確認することができた。

【0152】

＜比較例４＞
前記実施例５において、マスクの設計（遮光層パターンを規則パターン、および遮光層パターン間隔［Ｐｉｔｃｈ］を９４０μｍに設計）を変更したことを除いては、前記実施例５と同様の方式によりパターンフィルムを形成した。

【0153】

製造された前記隔壁スペーサの高さは約９．９μｍ～１０．１μｍであって、平均が約１０．０μｍ程度であり、線幅は約７２μｍ～７５μｍ程度であって、平均が約７３．８μｍ程度に測定された。

【0154】

また、前記パターンフィルムの表面において前記スペーサパターンが存在する面積の比率は約１４％～１６％であった。上記でスペーサパターンの高さの標準偏差は約０．１５μｍ程度であり、ボールスペーサの直径の標準偏差は約０．８０μｍ程度であった。前記隔壁スペーサの隔壁の線幅（Ｔ）と前記ボールスペーサの平均粒径（Ｄ）との比率（Ｔ／Ｄ）は７．８３に測定された。

【0155】

回折（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）の評価結果、定性的にＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ Ｌｉｎｅが明確に観察され、式４により測定される回折比率は２６．４％の定量値を示した。図１９は、本出願の比較例４によるパターンフィルムの５０倍率光学顕微鏡、２００倍率光学顕微鏡イメージおよび回折評価結果を示す図である。具体的に、光学顕微鏡イメージの確認結果、ボールスペーサおよび隔壁スペーサを含むスペーサパターンを含むものであって、規則パターン（ハニカム）を有することと、回折ラインが明確に観察されることを確認することができた。

【0156】

前記実施例１～８および比較例１～４から分かるように、本出願の一実施態様によるパターンフィルムは、スペーサパターンが隔壁スペーサおよびボールスペーサを含み、前記スペーサパターンをなすスペーサドットの不規則度が５０％以上であることにより、セルギャップを維持するとともに、パターンの不規則度を導入することで、既存の四角形（ｍｅｓｈ）または六角形（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）の１種類のパターンから、多様なパターンを含むパターンの構造を拡張し、不規則度を導入することで、これを含む透過度可変デバイスは、回折現象を改善することができるため、乱反射が低減され、視認性に優れるという特徴を有することを確認することができた。

【0157】

具体的に、実施例１、実施例２、比較例１（構成１）／実施例３、実施例４、比較例２（構成２）／実施例５、実施例６、比較例３（構成３）／実施例７、実施例８、比較例４（構成４）に区分することができ、構成１～構成４は、それぞれピッチおよびスペーサパターンの模様を異にした場合をもってそれぞれを構成し、構成１～４において、それぞれ不規則度を７０％、５０％、および０％に調節した場合をもって実施例および比較例を構成した。

【0158】

ピッチおよびスペーサパターンの模様を異にしたそれぞれの構成において、スペーサドットの不規則度を７０％および５０％に調節してスペーサパターンを形成した場合のパターンフィルムは、スペーサドットの不規則度を０％（規則パターン）に調節してスペーサパターンを形成した場合のパターンフィルムよりも回折現象を大幅に改善することができるため、乱反射を低減し、その後のこれを含む透過度可変デバイスの視認性が大幅に改善されることを確認することができた。

【符号の説明】

【0159】

１０ ・・・基材層
２０ ・・・隔壁スペーサ
３０ ・・・ボールスペーサ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】