特許 7468685 活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュール

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-08

(45)【発行日】2024-04-16

(54)【発明の名称】活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュール

(51)【国際特許分類】

   C08F 290/06 20060101AFI20240409BHJP

   C08F 220/20 20060101ALI20240409BHJP

   C08F 230/08 20060101ALI20240409BHJP

   G02B 1/04 20060101ALI20240409BHJP

【ＦＩ】

C08F290/06

C08F220/20

C08F230/08

G02B1/04

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2022555408

(86)(22)【出願日】2021-09-30

(86)【国際出願番号】 JP2021036033

(87)【国際公開番号】W WO2022075162

(87)【国際公開日】2022-04-14

【審査請求日】2022-12-20

(31)【優先権主張番号】P 2020170362

(32)【優先日】2020-10-08

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002886

【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100161207

【弁理士】

【氏名又は名称】西澤 和純

(74)【代理人】

【識別番号】100215935

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 茂輝

(74)【代理人】

【識別番号】100189337

【弁理士】

【氏名又は名称】宮本 龍

(74)【代理人】

【識別番号】100188673

【弁理士】

【氏名又は名称】成田 友紀

(72)【発明者】

【氏名】男庭 一輝

(72)【発明者】

【氏名】井口 優子

(72)【発明者】

【氏名】石丸 竜士

(72)【発明者】

【氏名】中村 厚

【審査官】谷合 正光

(56)【参考文献】

【文献】特開２００４－０３５６００（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００８／１０８３９０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１１－２２５７７９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０８Ｆ ２９０／０６

Ｃ０８Ｆ ２２０／２０

Ｃ０８Ｆ ２３０／０８

Ｇ０２Ｂ １／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、
一分子中に下記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する（メタ）アクリロイル基変性オルガノシラン又は（メタ）アクリロイル基変性シリコーンオリゴマーである化合物（Ａ）と、
下記一般式（４）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）と、
一分子中に６個以上の（メタ）アクリロイル基と多分岐構造とを有する化合物（Ｄ）とを含有し、
前記化合物（Ａ）を、前記化合物（Ａ）を除く（メタ）アクリロイル基を有する化合物の合計質量１００質量％に対して、２．５～４０質量％含み、
前記ポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）を、前記活性エネルギー線硬化性組成物中に２０～６０質量％含み、
前記化合物（Ｄ）を、前記活性エネルギー線硬化性組成物中に１０～３５質量％含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。

【化1】

（式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、炭素原子数１～１０のアルキル基、アルコキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキシ基を示す。Ｘはメチレン基又は酸素原子を示す。）

【化2】

（式中、Ｒ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は、それぞれ独立して、炭素原子数１～１０の炭化水素基を示す。ｎは１～１０の整数である。）

【請求項2】

前記一般式（４）中のＲ２が、それぞれ独立して、炭素原子数５～６の直鎖状炭化水素基、シクロヘキサン構造、又はイソソルバイド構造を有するものである請求項１記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項3】

前記活性エネルギー線硬化性組成物が、さらに、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基とアルキレングリコール構造とを有する化合物（Ｃ）を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項4】

前記アルキレングリコール構造がエチレングリコール、プロピレングリコール、及びネオペンチルグリコールからなる群より選ばれる１種以上である請求項３記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項5】

前記アルキレングリコール構造の繰り返し単位数が２～１５の整数である請求項３又は４記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項6】

前記多分岐構造が、デンドロン構造、デンドリティック構造、ハイパーブランチ構造、及びスター構造からなる群より選ばれる１種以上である請求項１～５のいずれか一項記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項7】

前記活性エネルギー線硬化性組成物が、さらに、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基と一分子中に１個以上の水酸基とを有する化合物（Ｅ）を含有するものである請求項１～６のいずれか一項記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項8】

前記化合物（Ｅ）が、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールカーボネート変性２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、及びエチレンオキサイド変性ソルビトールジ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる１種以上である請求項７記載の活性エネルギー線硬化性組成物。

【請求項9】

請求項１～８のいずれか一項記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物。

【請求項10】

請求項９記載の硬化物を有することを特徴とするレンズ。

【請求項11】

請求項９記載の硬化物を有することを特徴とするウェハレベルレンズ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。

【背景技術】

【0002】

近年、スマートフォンやモバイルパソコン等の電子機器向け小型カメラモジュールの需要が急速に拡大しており、カメラモジュールの生産効率向上を目指した開発が精力的に取り組まれている。また、電子機器の薄型化が進んだことから、カメラモジュールの薄型化に対する要求も厳しくなっている。従来、シクロオレフィンポリマーに代表される熱可塑性樹脂を用いたインジェクションモールド等により樹脂レンズを成型し、レンズユニットを組み上げる方法によりカメラモジュールは生産されてきた。しかしながら、従来の方法では生産性と薄型化に限界があった。このような市場動向に伴い、レプリカ法により成形したウェハレベルレンズを重ね合わせてレンズユニットを組み上げることで、生産性と薄型化を両立させたカメラモジュールの生産方法が開示されている（特許文献１）。

【0003】

一般的にレンズユニットは光学定数、主に屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）、が異なるレンズを複数重ね合わせて色収差を補正し、高画素化を実現している。また、前記ウェハレベルレンズに用いる材料としては、生産性、透明性及び耐熱性等の観点から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が好適に用いられている。取り分け中屈折率で高アッベ数な光学定数を有するウェハレベルレンズ用材料として脂肪族骨格を有するポリカーボネートジオール（メタ）アクリレートを用いた樹脂組成物が開示されている（特許文献２）。

【0004】

ウェハレベルレンズは基板への直接実装が想定されることから、半田リフロー（１７０℃～２６０℃）に耐えられる耐熱性が求められる。耐熱性の向上にはチオール化合物や酸化防止剤を添加する方法が開示されている（特許文献３、特許文献４）。また、使用様態に合わせて高温高湿下での信頼性確認のため湿熱試験（８５℃－８５％ＲＨ－１０００ｈ）に耐えうる耐湿熱性が求められる。しかしながら、８５℃－８５％ＲＨという過酷な温湿度試験条件において、基板ハガレやレンズ内部の欠陥が発生することのない優れた耐湿熱性を有するウェハレベルレンズの報告はなされていない。取り分け、中屈折率で高アッベ数な光学定数を示す脂肪族骨格は疎水的で湿熱試験後に異常が発生しやすいという課題がある。

【0005】

撮像時のコントラストを向上させる目的でレンズ表面に反射防止層を設けることが一般的になされている。ウェハレベルレンズにも同様の反射防止層を設けた場合、実装後の半田リフロー工程を経て反射防止層にクラックが発生してしまう課題がある。既に、半田リフロー工程における反射防止層の耐クラック性に優れたレンズ用樹脂組成物として、シリカ微粒子を配合する方法が開示されている（特許文献５、特許文献６）。しかし、微粒子を用いることで、樹脂組成物中における微粒子の沈降や凝集、樹脂組成物の高粘度化等による製造プロセスでのハンドリング性低下が新たな課題となる。また、反射防止層とレンズの層間密着性が低い場合、湿熱試験により反射防止層の剥離やクラックが発生する。

【0006】

そこで、高いアッベ数及び透過率を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、かつ熱履歴や高温高湿下での表面に積層された反射防止層等の無機層のクラックや剥離を抑制したレンズを形成可能な材料が求められていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特開２００９－２５１３６８号公報

【文献】国際公開第２０１９／１２４１５６号

【文献】特開２０１４－５２４２４号公報

【文献】国際公開第２０１８／０３０３５１号

【文献】国際公開第２０１９／１４２６０１号

【文献】国際公開第２０１９／１６７４６１号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

本発明が解決しようとする課題は、高いアッベ数及び透過率を有し、半田リフロー後も透過率変化が少なく、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、表面に成膜された無機層が熱履歴を経てもなおクラックが発生しない耐クラック性を有し、かつ表面に成膜された無機層との密着性に優れるレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、一分子中に下記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）と、下記一般式（４）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）とを含有し、前記（Ａ）成分を、（Ａ）成分を除く（メタ）アクリロイル基を有する化合物の合計質量１００質量％に対して、１質量％以上５０質量％未満含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。

【0010】

すなわち、本発明は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、一分子中に下記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）と、下記一般式（４）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）とを含有し、前記（Ａ）成分を、（Ａ）成分を除く（メタ）アクリロイル基を有する化合物の合計質量１００質量％に対して、１質量％以上５０質量％未満含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。

【0011】

【化1】

（式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、炭素原子数１～１０のアルキル基、アルコキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基又は（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキシ基を示す。Ｘはメチレン基又は酸素原子を示す。）

【0012】

【化2】

（式中、Ｒ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は、それぞれ独立して、炭素原子数１～１０の炭化水素基を示す。ｎは１～１０の整数である。）

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、高いアッベ数及び透過率を有し、半田リフロー後も透過率変化が少なく、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、表面に成膜された無機層が熱履歴を経てもなおクラックが発生しない耐クラック性を有し、かつ表面に成膜された無機層との密着性に優れるレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物を提供することができる。

【0014】

また本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであり、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。

【0015】

前記に加え、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成されるレンズは高いアッベ数を有するものであり、色収差を小さくすることができる。また、前記レンズは半田リフロー前後で透過率の変化量が小さい耐熱性を有するものであり、ウェハレベルレンズに好適に用いることができる。さらに、高温高湿下でも基材からのハガレや欠陥を生じない耐湿熱性を有することから、長期安定性に優れたウェハレベルレンズとして好適に用いることができる。加えて、レンズ表面に成膜された無機層は熱履歴や高温高湿下によるクラックや剥離の発生が抑制されることから、反射防止層等の無機層を備えたウェハレベルレンズとして好適に用いることができる。

【発明を実施するための形態】

【0016】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、一分子中に下記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）と、下記一般式（４）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）とを含有し、前記（Ａ）成分を、（Ａ）成分を除く（メタ）アクリロイル基を有する化合物の合計質量１００質量％に対して、１質量％以上５０質量％未満含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物である。

【0017】

【化3】

（式中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、炭素原子数１～１０のアルキル基、アルコキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基又は（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキシ基を示す。Ｘはメチレン基又は酸素原子を示す。）

【0018】

【化4】

（式中、Ｒ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は、それぞれ独立して、炭素原子数１～１０の炭化水素基を示す。ｎは１～１０の整数である。）

【0019】

なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。また、「（メタ）アクリロイル」とは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルを意味する。さらに、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。

【0020】

前記一分子中に一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」と略記する。）としては、一分子中に、前記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造、２個以上の（メタ）アクリロイル基を必須として有するものである。前記（Ａ）成分を用いることで、高いアッベ数と優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、無機層の耐クラック性と密着性に優れるレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。

【0021】

前記（Ａ）成分は、前記一般式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる少なくとも一つの構造を有することから、オルガノシラン骨格、直鎖状および環状のシロキサン骨格、ランダム型、ラダー型及びかご型のシロセスキオキサン骨格等が含まれる。

【0022】

また、Ｒ^１としては、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、炭素原子数１～１０のアルキル基、アルコキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基及び（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキシ基が挙げられる。

【0023】

前記炭素原子数１～１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓ－ペンチル基、イソペンチル基、ｔ－ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｓ－オクチル基、イソオクチル基、ｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられる。

【0024】

前記アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。

【0025】

前記（メタ）アクリロイルオキシアルキル基の具体例としては、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシエチル基、（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、（メタ）アクリロイルオキシブチル基、（メタ）アクリロイルオキシペンチル基、（メタ）アクリロイルオキシヘキシル基等が挙げられる。

【0026】

前記（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキシ基の具体例としては、（メタ）アクリロイルオキシメチルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシプロピルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシブチルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシペンチルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシヘキシルオキシ基等が挙げられる。

【0027】

前記（Ａ）成分の２個以上の（メタ）アクリロイル基は、前記Ｒ^１の部分骨格として前記一般式（１）、（２）及び（３）に含まれても良い。また、前記（Ａ）成分が鎖状構造の場合、主鎖末端、主鎖骨格内部、分岐鎖末端、分岐鎖骨格内部のいずれかに位置していれば良く、環状分子の場合、環構造に直接結合、連結基を介して結合のいずれかであればよい。前記鎖状構造としては、例えば、ポリアルキレングリコール、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリウレタン、ポリシロキサン等が挙げられ、直鎖状構造でも分岐鎖状構造のいずれであっても良い。前記連結基としては、アルキレングリコール、カプロラクトン、アルキレンイソシアネート等が挙げられる。

【0028】

前記（Ａ）成分の具体例としては、例えば、（メタ）アクリロイル基変性オルガノシラン、（メタ）アクリロイル基変性シロキサン、（メタ）アクリロイル基変性ポリシロキサン、（メタ）アクリロイル基変性シロセスキオキサン、（メタ）アクリロイル基変性シリコーンオリゴマー、（メタ）アクリロイル基変性シリコーンオイル等が挙げられる。

【0029】

また、前記（Ａ）成分の市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製「Ｘ－１２－１０４８」、「Ｘ－１２－１０５０」、「Ｘ－１２－２４７５」、「Ｘ－１２－２４３０Ｃ」、「Ｘ－２２－１６４」、「Ｘ－２２－１６４ＡＳ」、「Ｘ－２２－１６４Ａ」、「Ｘ－２２－１６４Ｂ」、「Ｘ－２２－１６４Ｃ」、「Ｘ－２２－１６４Ｅ」、「Ｘ－２２－２４４５」、「Ｘ－４０－２４７５」、「Ｘ－４０－９２９６」、「Ｘ－４０－９３０８」、「ＫＰ－４１０」、「ＫＰ－４１１」、「ＫＰ－４１２」、「ＫＰ－４１３」、「ＫＰ－４１４」、「ＫＰ－４１５」、「ＫＰ－４２０」、「ＫＰ－４２３」、「ＫＲ－５１１」、「ＫＲ－５１３」、ビックケミー社製「ＢＹＫ ＵＶ－３５００」、「ＢＹＫ ＵＶ－３５３０」、「ＢＹＫ ＵＶ－３５７０」、「ＢＹＫ ＵＶ－３５７５」、「ＢＹＫ ＵＶ－３５７６」、ＪＮＣ株式会社製「サイラプレーンＦＭ－７７１１」、「サイラプレーンＦＭ－７７２１」、「サイラプレーンＦＭ－７７２５」、東亞合成株式会社製「ＡＣ－ＳＱ ＴＡ－１００」、「ＡＣ－ＳＱ ＳＩ－２０」、「ＭＡＣ－ＳＱ ＴＭ－１００」、「ＭＡＣ－ＳＱ ＳＩ－２０」等が挙げられる。

【0030】

前記（Ａ）成分の重量平均分子量は本発明の効果を有する範囲において特に限定されるものではないが、（Ａ）成分以外の（メタ）アクリロイル基を有する化合物と相溶しやすく透過率の高い硬化物が得られることから、１００～１０，０００の範囲が好ましく、２００～５０００の範囲がより好ましく、３００～３０００の範囲が特に好ましい。

【0031】

前記（Ａ）成分の含有割合は本発明の効果を有する範囲において特に限定されるものではないが、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、無機層の耐クラック性と密着性に優れるレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、（Ａ）成分を除く（メタ）アクリロイル基を有する化合物の合計質量１００質量％に対して、１質量％以上５０質量％未満の範囲が好ましく、２．５～４０質量％の範囲がより好ましく、５～３０質量％の範囲が特に好ましい。

【0032】

本発明において（Ａ）成分以外の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有しても良い。これら（A）成分以外の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、本発明の効果が得られる範囲において特に制限されるものではなく、後述する各種（Ｂ）～（Ｄ）成分として（メタ）アクリロイル基を有するものを用いてもよく、その他の添加成分として（メタ）アクリロイル基を有する化合物を添加して用いてもよい。

【0033】

前記一般式（４）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」と略記する。）としては、前記一般式（４）で表される構造を有するものである。前記（Ｂ）成分を用いることで高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。

【0034】

前記（Ｂ）成分としては、より一層高いアッベ数及び屈折率が得られ、かつ、より一層優れた透明性、柔軟性及び耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、前記一般式（４）中、Ｒ^２は水素原子が好ましく、Ｒ^３は、それぞれ独立して、炭素原子数５～６の直鎖状炭化水素基、炭素原子数６～１０の環状炭化水素基が好ましく、ｎは４～１０の整数が好ましい。また、更に結晶化やレンズの継時的な反りを防止しやすい点から、Ｒ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数５～６の直鎖状炭化水素基、シクロへキサン構造、又はイソソルバイド構造を有するものであることがより好ましく、ｎは、４～６の整数がより好ましい。

【0035】

なお、前記一般式（４）中、Ｒ^３が炭素原子数５～６の直鎖状炭化水素基及び炭素原子数６～１０の環状炭化水素基を示し、ｎが４～６の整数を示すものを用いる場合、前記炭素原子数５～６の直鎖状炭化水素基と、前記炭素原子数６～１０の環状炭化水素基との質量割合は、直鎖上炭化水素基／環状炭化水素基の比として１０／９０～９０／１０の範囲が好ましく、２０／８０～８０／２０の範囲がより好ましく、４０／６０～７５／２５の範囲が特に好ましい。

【0036】

前記（Ｂ）成分としては、例えば、ポリカーボネートジオールと、（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステルとの反応物等が挙げられる。

【0037】

前記ポリカーボネートジオールとしては、例えば、水酸基を２個以上有する化合物と炭酸エステルとの反応物等が挙げられる。

【0038】

前記水酸基を２個以上有する化合物としては、例えば、直鎖状構造を有するアルキレンジオール、分岐鎖状構造を有するアルキレンジオール、環状構造を有するアルキレンジオール、複素環状構造を有するジオール等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0039】

前記直鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２－エタンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール等が挙げられる。

【0040】

前記分岐鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２－プロパンジオール１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，２－ペンタンジオール、１，３－ペンタンジオール、１，４－ペンタンジオール、２，４－ペンタンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、２－メチル－１，３－ブタンジオール、１，２－ヘキサンジオール、１，５－ヘキサンジオール、２，５－ヘキサンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，３－ジメチル－２，３－ブタンジオール、２－エチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，２－ヘプタンジオール、２－メチル－２－プロピル－１，３－プロパンジオール、２，４－ジメチル－２，４－ペンタンジオール、３，６－オクタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、２，５－ジメチル－２，５－ヘキサンジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、１，２－ノナンジオール、１，８－ノナンジオール、２，８－ノナンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、２，４－ジエチル－１，５－ペンタンジオール、１，２－デカンジオール、２，２－ジイソブチル－１，３－プロパンジオール等が挙げられる。

【0041】

前記環状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、１，２－シクロペンタンジオール、１，３－シクロペンタンジオール、１，２－シクロヘキサンジオール、１，３－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジオール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，３－アダマンタンジオール、１－ヒドロキシ－３－アダマンチルメタノール等が挙げられる。

【0042】

前記複素環状構造を有するジオールとしては、例えば、３，４－テトラヒドロフランジオール、１，４－ジオキサン－２，３－ジオール、１，１－ビシクロヘキシル－４，４－ジオール、ヘキサヒドロフロ［３，２－ｂ］フラン－３，６－ジオール等が挙げられる。

【0043】

前記炭酸エステルとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0044】

前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0045】

また、前記（Ｂ）成分の市販品としては、例えば、宇部興産株式会社製「ＵＨ－１００ＤＡ」、「ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ」、「ＵＭ－９０（１／１）ＤＡ」、「ＵＭ－９０（３／１）ＤＡ」、「ＵＨ－１００ＤＭ」、「ＵＭ－９０（１／３）ＤＭ」、「ＵＭ－９０（１／１）ＤＭ」、「ＵＭ－９０（３／１）ＤＭ」等が挙げられる。

【0046】

前記（Ｂ）成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に５～７０質量％の範囲が好ましく、１０～６０質量％の範囲がより好ましく、２０～５０質量％の範囲が特に好ましい。

【0047】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分以外に、耐クラック性を更に向上させる目的で、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基とアルキレングリコール構造とを有する化合物（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」と略記する。）を用いることができる。本発明における（Ｃ）成分は一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基、アルキレングリコール構造を必須として有するものである。前記（Ｃ）成分を用いることで、さらに高いアッベ数と優れた耐熱性及び耐湿熱性を有し、無機層の耐クラック性に優れるレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。

【0048】

前記アルキレングリコール構造としては、例えば、１，２－エタンジオール（エチレングリコール）、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，２－プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，２－ペンタンジオール、１，３－ペンタンジオール、１，４－ペンタンジオール、２，４－ペンタンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、３－メチル－１，３－ブタンジオール、２－メチル－１，３－ブタンジオール、１，２－ヘキサンジオール、１，５－ヘキサンジオール、２，５－ヘキサンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，３－ジメチル－２，３－ブタンジオール、２－エチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，２－ヘプタンジオール、２－メチル－２－プロピル－１，３－プロパンジオール、２，４－ジメチル－２，４－ペンタンジオール、３，６－オクタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、２，５－ジメチル－２，５－ヘキサンジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、１，２－ノナンジオール、１，８－ノナンジオール、２，８－ノナンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、２，４－ジエチル－１，５－ペンタンジオール、１，２－デカンジオール、２，２－ジイソブチル－１，３－プロパンジオール等が挙げられる。これらのアルキレングリコール構造は、一分子中に１種のみで有することも、２種以上を有することもできる。また、これらの中でも、優れた耐熱性と耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコールが好ましい。更に、より優れた耐湿熱性と耐クラック性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、アルキレングリコール構造の繰り返し単位数が２～１５であることが好ましい。

【0049】

また、前記（Ｃ）成分は環状構造を有していても良く、例えば、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造、シクロデカン構造等の単環構造、パーヒドロインデン構造、パーヒドロアントラセン構造、パーヒドロフルオレン構造、パーヒドロフェナントレン構造、パーヒドロアセナフテン構造、パーヒドロフェナレン構造、ノルボルナン構造、イソボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、ビシクロ［３．３．０］オクタン構造、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造、トリシクロ［６．２．１．０^２，７］ウンデカン構造、ジシクロペンタニル構造、ジシクロペンテニル構造等の多環構造、テトラヒドロフラン構造、１，３－ジオキソラン構造、１，３－ジオキサン構造、１，４ジオキサン構造、ヘキサヒドロフロ［３，２－ｂ］フラン構造等の複素環構造、ベンゼン構造、ナフタレン構造、フルオレン構造、アセナフテン構造、フェナレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、テトラセン構造、クリセン構造、ピレン構造、トリフェニレン構造、ペンタセン構造、ベンゾピレン構造、ペリレン構造等の芳香環構造などが挙げられる。これらの環状構造は、一分子中に単独で有することも、２種以上を有することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、シクロヘキサン構造、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造が好ましい。

【0050】

前記（Ｃ）成分において、前記環状構造と前記（メタ）アクリロイル基は直接結合していてもよく、連結基を介して結合してもよい。

【0051】

前記連結基としては、例えば、酸素原子、炭素原子数１～１０の直鎖状及び／又は分岐鎖状炭化水素基、繰り返し数１～１０のアルキレンオキサイド基、カプロラクトンの開環重合体である繰り返し数１～１０のアルキルエステル基、アミド基等が挙げられる。

【0052】

前記環状構造を有する前記（Ｃ）成分の具体例としては、例えば、シクロペンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、１－メチルシクロペンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、１－エチルシクロペンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、シクロヘキシルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、１－メチルシクロヘキシルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、１－エチルシクロヘキシルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、４－ターシャリーブチルシクロヘキシルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、２－シクロヘキシルプロパニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクレート、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ベンジルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェノキシベンジルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェニルベンジルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ビフェニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、フルオレンアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソボルニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、イソボルニルアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレ－ト、ジシクロペンテニルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレ－ト、トリシクロデカンジオールアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、アダマンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、アダマンチルアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、２－メチルアダマンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、２－エチルアダマンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、２－イソプロピルアダマンチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、（２－オキソ－１，３－ジオキソラン－４－イル）メチルアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、イソソルバイドアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性、耐湿熱性及び耐クラック性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールアルキレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレートが好ましい。

【0053】

また、前記（Ｃ）成分の市販品としては、例えば、ＭＩＷＯＮ社製「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２０４０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３３」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３５」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８３」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１１４２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１４４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６６」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１６０２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１７０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２０２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１０１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２１６」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２２０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２２００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２２２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３０１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２３２」「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４１」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２４５」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８０」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８２」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８４」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２８６」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ２９０」、新中村化学工業株式会社製「ＮＫエステル Ａ－３０Ｇ」、「ＮＫエステル Ａ－９０Ｇ」、「ＮＫエステル Ａ－１３０Ｇ」、「ＮＫエステル Ａ－２００」、「ＮＫエステル Ａ－４００」、「ＮＫエステル Ａ－６００」、「ＮＫエステル Ａ－ＰＴＭＧ－６５」、「ＮＫエステル Ｍ－２０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｍ－３０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｍ－４０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｍ－９０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｍ－１３０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｍ－３０ＰＧ」、「ＮＫエステル ＥＨ－４Ｅ」、「ＮＫエステル Ｂ－２０Ｇ」、「ＮＫエステル Ｓ－１２Ｅ」、「ＮＫエステル ２Ｇ」、「ＮＫエステル ３Ｇ」、「ＮＫエステル ４Ｇ」、「ＮＫエステル ９Ｇ」、「ＮＫエステル １４Ｇ」、「ＮＫエステル ３ＰＧ」、「ＮＫエステル ９ＰＧ」、「ＮＫエステル ＡＰＧ－１００」、「ＮＫエステル ＡＰＧ－２００」、「ＮＫエステル ＡＰＧ－４００」、「ＮＫエステル ＡＰＧ－７００」、「ＮＫエステル ＡＭ－３０ＰＧ」、「ＮＫエステル ＡＭＰ－１０Ｇ」、「ＮＫエステル ＡＭＰ－２０ＧＹ」、「ＮＫエステル ７０２Ａ」、「ＮＫエステル Ａ－ＬＥＮ－１０」、「ＮＫエステル ４０１Ｐ」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥＦ」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥ－２」、「ＮＫエステル ＡＢＥ－３００」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥ－４」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥ－１０」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥ－２０」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＥ－３０」、「ＮＫエステル Ａ－ＢＰＰ－３」、「ＮＫエステル Ａ－Ｂ１２０６ＰＥ」、「ＮＫエステル ＰＨＥ－１Ｇ」、「ＮＫエステル ＰＨＥ－２Ｇ」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－８０Ｎ」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－１００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－２００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－３００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－５００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－９００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ－１３００Ｎ」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルＢＣ」、「ライトエステル１３０ＭＡ」、「ライトエステルＢＣ」、「ライトエステル２ＥＧ」、「ライトエステル３ＥＧ」、「ライトエステル４ＥＧ」、「ライトエステル９ＥＧ」、「ライトエステル１４ＥＧ」、「ライトアクリレートＥＣ－Ａ」、「ライトアクリレートＭＴＧ－Ａ」、「ライトアクリレートＥＨＤＧ－ＡＴ」、「ライトアクリレート１３０Ａ」、「ライトアクリレートＤＰＭ－Ａ」、「ライトアクリレートＰ２Ｈ－Ａ」、「ライトアクリレートＰ－２００Ａ」、「ライトアクリレート３ＥＧ－Ａ」、「ライトアクリレート４ＥＧ－Ａ」、「ライトアクリレート９ＥＧ－Ａ」、「ライトアクリレート１４ＥＧ－Ａ」、「ライトアクリレートＰＴＭＧＡ－２５０」、大阪有機化学工業株式会社製「ビスコート＃１９０」、「ビスコート＃ＭＴＧ」、「ＭＰＥ４００Ａ」、「ＭＰＥ５５０Ａ」、「ビスコート＃３１０ＨＰ」「ビスコート＃１９２」、「ビスコート＃７００ＨＶ」、「ビスコート＃５４０」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルＰＯ」、「ライトエステルＢＰ－２ＥＭＫ」、「ライトアクリレートＰＯ－Ａ」、「ライトアクリレートＰ２Ｈ－Ａ」、「ライトアクリレートＰ－２００Ａ」、「エポキシエステルＭ－６００Ａ」、「ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ」、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＧ４００ＤＡ」、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＧ４００ＤＡ」「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－１２８Ｈ」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－５５１」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－７１２」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティア ＭＥ－３」、「ニューフロンティア ＭＥ－４Ｓ」、「ニューフロンティア ＭＰＥ－６００」、「ニューフロンティア ＰＥ－２００」、「ニューフロンティア ＰＥ－３００」、「ニューフロンティア ＰＥ－４００」、「ニューフロンティア ＰＥ－６００」、「ニューフロンティア ＭＰＥＭ－４００」、「ニューフロンティア ＴＥＧＤＭＡ」、「ニューフロンティアＰＨＥ」、「ニューフロンティアＰＨＥ－２」、「ニューフロンティアＰＨＥ－２Ｄ」、「ニューフロンティアＮＰ－１」、「ニューフロンティアＮＰ－４」、「ニューフロンティアＮ－１７７Ｅ」、「ニューフロンティアＮ－ＰＧＡ」、「ニューフロンティアＯＰＰＥ」、「ニューフロンティアＢＰＥ－４」、「ニューフロンティアＢＰＥ－１０」、「ニューフロンティアＢＰＥ－２０」、「ニューフロンティアＢＰＥＭ－４」、「ニューフロンティアＢＰＥＭ－１０」、「ニューフロンティアＨＢＰＥ－４」、「ニューフロンティアＨＢＰＥＭ－１０」、日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ－２４０Ａ」、「ファンクリルＦＡ－Ｐ２４０Ａ」、「ファンクリルＦＡ－Ｐ２７０Ａ」、「ファンクリルＦＡ－ＰＴＧ９Ａ」、「ファンクリルＦＡ－４００Ｍ（１００）」、「ファンクリルＦＡ－２４０Ｍ」、「ファンクリルＦＡ－ＰＴＧ９Ｍ」、「ファンクリルＦＡ－３１０Ａ」、「ファンクリルＦＡ－３１４Ａ」、「ファンクリルＦＡ－３１８Ａ」、「ファンクリルＦＡ－３２１Ａ」、「ファンクリルＦＡ－３２４Ａ」、「ファンクリルＦＡ－３１０Ｍ」、「ファンクリルＦＡ－３２０Ｍ」、「ファンクリルＦＡ－３２１Ｍ」、「ファンクリルＦＡ－３２１８Ｍ」等が挙げられる。

【0054】

前記（Ｃ）成分の含有割合は、本発明の効果が得られる範囲において限定されるものではないが、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、１～４０質量％の範囲が好ましく、３～３０質量％の範囲がより好ましく、５～２０質量％の範囲が特に好ましい。

【0055】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分以外に、耐クラック性を更に向上させる目的で、一分子中に６個以上の（メタ）アクリロイル基及び多分岐構造を有する化合物（Ｄ）（以下、「（Ｄ）成分」と略記する。）を用いることができる。前記（Ｄ）成分は一分子中に６個の（メタ）アクリロイル基及び多分岐構造を必須として有するものである。

【0056】

前記（Ｄ）成分の一分子中の（メタ）アクリロイル基は、優れた耐クラック性を有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、６～９６個の範囲が好ましく、８～６４個の範囲がより好ましく、９～４８個の範囲が特に好ましい。

【0057】

前記多分岐構造としては、例えば、デンドロン構造、デンドリティック構造（樹枝状構造）、ハイパーブランチ構造（超分岐構造）、スター構造等が挙げられる。これらの多分岐構造は、一分子中に単独で有することも、２種以上を有することもできる。また、これらの中でも、特に優れた耐クラック性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、デンドリティック構造、ハイパーブランチ構造が好ましい。

【0058】

前記（Ｄ）成分の製造方法としては、特に制限されず、適宜公知の方法により製造することができる。例えば、中心コア分子に世代ごとに分子を結合させて分岐を形成するダイバージェント法、予め合成した枝部分をコア分子に結合させるコンバージェント法、２以上の反応点Ｂを有する分岐部分と別の反応点Ａを有するつなぎ部分とを１分子内に持つモノマーＡＢｘを用いて１段階で合成する方法等が挙げられる。なかでも、簡便な合成方法の一つとして前記ダイバージェント法が好ましく、例えば、多価アルコール（ａ）と、一分子中に１つ以上のカルボキシル基及び２つ以上の水酸基を有する化合物（ｂ）とを、エステル化反応させることで多分岐構造を有するポリオール化合物（ｃ）を得る。次いで、前記ポリオール化合物の末端水酸基と（メタ）アクリル酸との脱水縮合によるエステル化反応、前記ポリオール化合物の末端水酸基と（メタ）アクリル酸エステルとのエステル交換反応及び前記ポリオール化合物の末端水酸基と（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物との付加反応等により製造することができる。

【0059】

前記多価アルコール（ａ）としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、１，２，４－ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ソルビトール、マンニトール及びこれらアルコールのアルキレンオキサイド付加物もしくはカプロラクトンの開環付加物等が挙げられる。これらの多価アルコールは、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0060】

前記一分子中に１つ以上のカルボキシル基及び２つ以上の水酸基を有する化合物（ｂ）としては、例えば、２，３－ジヒドロキシプロピオン酸、２，２－ジメチロールプロピオン酸、２，２－ジメチロールブタン酸、酒石酸、２，３－ジヒドロキシ安息香酸、２，４－ジヒドロキシ安息香酸、２，５－ジヒドロキシ安息香酸、２，６－ジヒドロキシ安息香酸、３，４－ジヒドロキシ安息香酸、３，５－ジヒドロキシ安息香酸、３，５－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）安息香酸、２，６－ジヒドロキシ－４－メチル安息香酸、３，５－ジヒドロキシ－４－メチル安息香酸、シトラジン酸、２，３－ジヒドロキシフェニル酢酸、２，４－ジヒドロキシフェニル酢酸、２，５－ジヒドロキシフェニル酢酸、２，６－ジヒドロキシフェニル酢酸、３，４－ジヒドロキシフェニル酢酸、３，５－ジヒドロキシフェニル酢酸及びこれらの誘導体等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0061】

前記ポリオール化合物（ｃ）の市販品としては、例えば、パーストープ社製「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ２０」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ３０」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ４０」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ３１１」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ２００３」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ２００４」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｐ５００」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｐ５０１」、「ＢＯＬＴＯＲＮ Ｐ１０００」等が挙げられる。

【0062】

また、前記（Ｄ）成分の市販品としては、例えば、大阪有機化学工業株式会社製「ビスコート＃１０００ＬＴ」、新中村化学工業製「ＮＫエステル Ａ－ＨＢＲ－５」、ＭＩＷＯＮ社製「Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ１１０６」、Ａｒｋｅｍａ社製「ＣＮ２３０２」、「ＣＮ２３０３」、「ＣＮ２３０４」、ＩＧＭ社製「Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ５５００」等が挙げられる。

【0063】

前記（Ｄ）成分の含有割合は、本発明の効果が得られる範囲において特に限定されるものではないが、高いアッベ数、優れた耐熱性及び耐湿熱性、優れた耐クラック性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、１～５０質量％の範囲が好ましく、５～４０質量％の範囲がより好ましく、１０～３５質量％の範囲が特に好ましい。

【0064】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分以外に、必要に応じて、耐湿熱性を更に向上させる目的で、一分子中に１又は２個の（メタ）アクリロイル基及び一分子中に少なくとも１個以上の水酸基を有する化合物（Ｅ）（以下、「（Ｅ）成分」と略記する。）を用いることができる。

【0065】

前記（Ｅ）成分としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル（メタ）アクリレート２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェニルフェノールプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシ－３－メチルブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシ－１－アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５－ジヒドロキシ－１－アダマンチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールカーボネート変性２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ソルビトールモノ（メタ）アクリレート、ソルビトールジ（メタ）アクリレート、マンニトールモノ（メタ）アクリレート、マンニトールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、前記化合物が有する水酸基の一部又は全てをアルキレンオキサイド変性、カプロラクトン変性した化合物等も用いることができる。これらの化合物は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。またこれらの中でも、より一層高いアッベ数、耐熱性、耐湿熱性を得られる観点から、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールカーボネート変性２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ソルビトールエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレートが好ましい。

【0066】

また、前記（Ｅ）成分としては、一分子中に１又は２個のグリシジル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応物、一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基とグリシジル基を有する化合物（ｄ）と、カルボン酸及び／又は無水ジカルボン酸との反応物等のエポキシ（メタ）アクリレートなども用いることができる。

【0067】

前記一分子中に１又は２個のグリシジル基を有する化合物としては、例えば、ドデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１．６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノグリシジルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、３，４，３，４ ジエポキシビシクロヘキシル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールＡモノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦモノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル等が挙げられる。

【0068】

前記一分子中に（メタ）アクリロイル基とグリシジル基を有する化合物（ｄ）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0069】

前記カルボン酸及び／又は無水ジカルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４－メチルシクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、無水コハク酸、オクテニル無水コハク酸、テトラプロペニル無水コハク酸、３－ドデセニル無水コハク酸、３，３，４，４－テトラヒドロ－３，３－ビフラン－２，２，５，５－テトラオン、４－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物、ビス（１，３－ジヒドロ－１，３－ジオキソ－５－イソベンゾフランカルボン酸）２－アセチルオキシ－１，３－プロパンジイル等が挙げられる。

【0070】

前記（Ｅ）成分の市販品としては、例えば、ＭＩＷＯＮ社製「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１００」、「Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ１０５１」、新中村化学工業株式会社製「ＮＫエステル ７０２Ａ」、「ＮＫエステル ４０１Ｐ」、「ＮＫエステル ７０１Ａ」、「ＮＫエステルＥＡ－５５２１」、大阪有機化学工業株式会社製「ＨＥＡ」、「ＨＰＡ」、「４－ＨＢＡ」、「ビスコート＃５４０」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルＨＯ－２５０（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＰ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＰ－Ａ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＡ（Ｎ）」、「ライトエステルＨＯＢ（Ｎ）」、「ライトエステルＧ－１０１Ｐ」、「ライトエステルＧ－２０１Ｐ」、「ライトアクリレートＨＯＢ－Ａ」、「エポキシエステルＭ－６００Ａ」、「ＨＯＡ－ＭＰＥ（Ｎ）」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティア ＰＧＡ」、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－１２８Ｈ」、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－１６７」、東亜合成株式会社製「アロニックスＭ－９２０」、「アロニックスＭ－９２６」、三菱ケミカル株式会社製「４ＨＢＡ」、「ＣＨＤＭＭＡ」、株式会社ダイセル製「プラクセルＨＥＭＡＣ１」「レジストモノマーＨＭＡ」、「レジストモノマーＤＨＭＡ」等が挙げられる。

【0071】

前記（Ｅ）成分の含有割合は本発明の効果が得られる範囲において特に限定されるものではないが、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、０．５～２０質量％の範囲が好ましく、１～１５質量％の範囲がより好ましい。

【0072】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分、前記（Ｄ）成分、前記（Ｅ）成分以外に、その他の化合物を用いることもできる。

【0073】

前記その他の化合物としては、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、さらに前記水酸基を有する（メタ）アクリレートのアルキレンオキサイド変性及び／又はカプロラクトン変性された化合物、ウレタンアクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、ポリエステルポリオール（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。

【0074】

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することで硬化物やレンズを得ることができる。この活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。活性エネルギー線として紫外線を照射する場合には、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中に光重合開始剤（Ｆ）を添加し、硬化性を向上することが好ましい。一方、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を用いる場合には、光重合開始剤（Ｆ）を用いなくても速やかに硬化するので、特に光重合開始剤（Ｆ）を添加する必要はない。

【0075】

前記光重合開始剤（Ｆ）としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、オリゴ｛２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物；２，４，６－トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物；ベンジル（ジベンゾイル）、メチルフェニルグリオキシエステル、オキシフェニル酢酸２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステル、オキシフェニル酢酸２－（２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ）エチルエステル等のベンジル系化合物；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル－４－フェニルベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－メチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；ミヒラ－ケトン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物；１０－ブチル－２－クロロアクリドン、２－エチルアンスラキノン、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、１－［４－（４－ベンゾイルフェニルサルファニル）フェニル］－２－メチル－２－（４－メチルフェニルサルフォニル）プロパン－１－オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0076】

前記光重合開始剤（Ｆ）の市販品としては、例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １２７」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４２６５」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １０００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ－Ｌ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２０２２」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ２１００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ７５４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＰ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４ＭＢＺ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４ＰＢＺ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ４１０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＯＭＢＢ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＭＳ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ５００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＩＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＤＥＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＭＢＦ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＭＫ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ７８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ １３１２」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＣＩＭ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７２３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７２４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ ７５０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＢＬ７５１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＤＢ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＥＨＡ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＩＡＤＢ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １５０」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １００Ｆ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ ７５ＬＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ ＩＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＴＺＴ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴ５５」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＴＺＭ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ １００１Ｍ」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ １６０」、「Ｅｓａｃｕｒｅ Ａ １９８」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ ４６」、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＤＰ ２５０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ９１０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ９２１０」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＢＰ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＴＸ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ３ＴＸ」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＢＬ７２８」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ ＡＳＡ」、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ」、「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＭＢＰ」、「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ」、「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＥＰＡ」、「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＯＡ」、Ｓｔｏｆｆａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製「Ｖｉｃｕｒｅ １０」、「Ｖｉｃｕｒｅ ５５」、Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ社製「Ｔｒｉｇｏｎａｌ Ｐ１」、ＳＡＮＤＯＺ社製「ＳＡＮＤＯＲＡＹ １０００」、Ｕｐｊｏｈｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製「ＤＥＡＰ」、Ｗａｒｄ Ｂｌｅｎｋｉｎｓｏｐ社製「Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＰＤＯ」、「Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＩＴＸ」、「Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＥＰＤ」、Ｒｕｎｔｅｃ社製「Ｒｕｎｔｅｃｕｒｅ １１０４」等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。

【0077】

前記光重合開始剤（Ｆ）の使用量としては、十分な硬化性を得られる観点から、活性エネルギー線硬化性組成物中に、０．０５～２０質量部の範囲が好ましく、０．１～１０質量部の範囲がより好ましく、０．５～５質量部の範囲が特に好ましい。

【0078】

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記（Ａ）～（Ｆ）成分以外にもその他の添加剤を含有することができる。

【0079】

前記その他の添加剤としては、例えば、重合禁止剤、光増感剤、表面調整剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐候安定剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、有機顔料、無機顔料、顔料分散剤、シリカビーズ、有機ビーズ等の添加剤；酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アンチモン等の無機充填剤などが挙げられる。これらその他の添加剤は単独で用いることも２種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、耐熱性及び耐湿熱性を向上できることから、耐熱安定剤、及び酸化防止剤を添加することが好ましい。

【0080】

前記耐熱安定剤としては、例えば、エタンチオール、２－メチルプロパン－２－チオール、ｎ－ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５－ヘキサメチルヘキサン－２－チオール、２－メルカプトエタノール、４－メルカプト－１－ブタノール、メルカプト酢酸メチル、３－メルカプトプロピオン酸メチル、３－メルカプトプロピオン酸２－エチルヘキシル、３－メルカプトプロピオン酸３－メトキシブチル、３－メルカプトプロピオン酸ｎ－オクチル、３－メルカプトプロピオン酸ステアリル、３－（トリメトキシシリル）プロパン－１－チオール、３－（トリエトキシシリル）プロパン－１－チオール、ベンゼンチオール、ベンジルチオール、３－メチルベンゼンチオール、４－メチルベンゼンチオール、ナフタレン－２－チオール、ピリジン－２－チオール、ベンゾイミダゾール－２－チオール、ベンゾチアゾール－２－チオール、１，２―エタンジチオール、１，２－プロパンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，４－ブタンジチオール、２，３－ブタンジチオール、１，５－ペンタンジチオール、１，６－ヘキサンジチオール、１，１０－デカンジチオール、２，３－ジヒドロキシ－１，４－ブタンジチオール、３，６－ジオキサ－１，８－オクタンジチオール、３，７－ジチア－１，９－ノナンジチオール、１，４－ビス（３－メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，２－ベンゼンジチオール、１，３－ベンゼンジチオール、１，４－ベンゼンジチオール、２，３－ジアミノー１，４－ベンゼンジチオール、４，５－ジメチル－Ｏ－キシレンジチオール、トルエン－３，４－ジチオール、４，４’－ビフェニルジチオール、１，５－ナフタレンジチオール、６－（ジブチルアミノ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジチオール、２－アミノ－１，３，５－トリアジン－４，６－ジチオール、６－アニリノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジチオール、６－（４’－アニリノフェニル－イソプロピルアミノ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジチオール、６－（３’，５’－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシアニリノ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジチオール、キノキサリンー２，３－ジチオール、プリン－２，６－ジチオール、１，３，４－チアジアゾールー２，５－ジチオール、ビス（２－メルカプトエチル）エーテル、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－ベンゼントリチオール、１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリチオール、トリス［２－（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２－（３－メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトブチレート）等のメルカプト基を有する化合物などが挙げられる。また、これらの耐熱安定剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0081】

前記耐熱安定剤の市販品としては、例えば、花王株式会社製「チオカルコール２０」、昭和電工株式会社製「カレンズＭＴ ＰＥ１」、「カレンズＭＴ ＢＤ１」、「カレンズＭＴ ＮＲ１」、「ＴＰＭＢ」、「ＴＥＭＢ」、ＳＣ有機化学株式会社製「ＴＭＭＰ」、「ＴＥＭＰＩＣ」、「ＰＥＭＰ」、「ＥＧＭＰ－４」、「ＤＰＭＰ」、「ＴＭＭＰ ＩＩ－２０Ｐ」、「ＰＥＭＰ ＩＩ－２０Ｐ」等が挙げられる。

【0082】

前記耐熱安定剤の使用量としては、十分な耐熱性を得られる観点から、活性エネルギー線硬化性組成物中に、０．０１～１０質量部の範囲が好ましく、０．１～５質量部の範囲がより好ましく、０．５～３質量部の範囲が特に好ましい。

【0083】

前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0084】

前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、スチレン化フェノール、２，６－ジターシャリーブチル－ｐ－クレゾール、２，５－ジターシャリーブチルヒドロキノン、２，５－ジターシャリーアミルヒドロキノン、３－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシル、２，４－ビス（オクチルチオメチル）－６－メチルフェノール、２，２－メチレンビス（６－ターシャリーブチル－ｐ－クレゾール）、２，２－メチレンビス（６－ターシャリーブチル－４－エチルフェノール）、４，４－ブチリデンビス（６－ターシャリーブチル－ｍ－クレゾール）、４，４－チオビス（６－ターシャリーブチル－ｍ－クレゾール）、２，２－チオジエチルビス［３－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、１，６－ヘキサンジオールビス［３－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、ビス［３－（３－ターシャリーブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオンサン］［エチレンビス（オキシエチレン）］、ビス［３－［３－（ターシャリーブチル）－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル］プロパン酸］２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン－３，９－ジイルビス（２－メチルプロパン－２，１－ジイル）、Ｎ，Ｎ－ビス［２－［２－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）エチルカルボニルオキシ］エチル］オキサミド、Ｎ，Ｎ－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス［３－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパンアミド］、２，４，６－トリス（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシベンジル）メシチレン、１，３，５－トリス（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ターシャリーブチルフェニル）ブタン、ペンタエリトリトールテトラキス［３－（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、ジエチル（３，５－ジターシャリーブチル－４－ヒドロキシベンジル）ホスホネート等が挙げられる。

【0085】

前記フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０ＦＦ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５ＦＦ（Ｗ＆Ｃ）」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６ＦＤ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２４５ＦＦ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ３１１４」、川口化学工業株式会社製「ＡＮＴＡＧＥ ＢＨＴ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＤＡＨ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＤＢＨ」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ－３００」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ－４００」、「ＡＮＴＡＧＥ Ｗ－５００」、「ＡＮＴＡＧＥ クリスタル」、「ＡＮＴＡＧＥ ＳＰ」、「ＡＮＴＡＧＥ ＨＰ－２００」、「ＡＮＴＡＧＥ ＨＰ－３００」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＡＯ－２０」、「アデカスタブ ＡＯ－３０」、「アデカスタブ ＡＯ－４０」、「アデカスタブ ＡＯ－５０」、「アデカスタブ ＡＯ－５０Ｆ」、「アデカスタブ ＡＯ－５０Ｔ」、「アデカスタブ ＡＯ－６０」、「アデカスタブ ＡＯ－６０Ｇ」、「アデカスタブ ＡＯ－８０」、「アデカスタブ ＡＯ－３３０」、住友化学株式会社製「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＡ－８０」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＰ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＭＤＰ－Ｓ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＷＸ－Ｒ」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＷＸ－ＲＣ」、三菱ケミカル株式会社製「ヨシノックス ＢＢ」、城北化学工業株式会社製「ＪＣ－３５６」等が挙げられる。

【0086】

前記ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２－エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイトトリイソデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、トリ（ステアリル）ホスファイト、ジフェニルモノ（２－エチルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（２，４－ジターシャリーブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、４，４－ブチリデンビス（３－メチル－６－ターシャリーブチルフェニルジトリデシルホスファイト）、テトラ（Ｃ１２～Ｃ１５アルキル）－４，４－イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、３，９－ビス（オクタデシルオキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９－ビス（２，６－ジターシャリーブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）－６－［（２－エチルヘキシル）オキシ］－１２Ｈ－ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（デシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールＡ・ペンタエリスリトールホスファイトポリマー等が挙げられる。

【0087】

前記ホスファイト系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８」、「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８ＦＦ」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＰＥＰ－８」、「アデカスタブ ＰＥＰ－３６」、「アデカスタブ ＨＰ－１０」、「アデカスタブ ２１１２」、「アデカスタブ ２１１２ＲＧ」、「アデカスタブ １１７８」、「アデカスタブ １５００」、「アデカスタブ Ｃ」、「アデカスタブ １３５Ａ」、「アデカスタブ ３０１０」、「アデカスタブ ＴＰＰ」、城北化学工業株式会社製「ＪＰ－３６０」、「ＪＰ－３５１」、「ＪＰ－３ＣＰ」、「ＪＰ－３０８Ｅ」、「ＪＰＥ－３０８Ｅ」、「ＪＰ－３１０」、「ＪＰ－３１２Ｌ」、「ＪＰ－３３３Ｅ」、「ＪＰＭ－３０８」、「ＪＰＭ－３１１」、「ＪＰＭ－３１３」、「ＪＰＰ－１００」、「ＪＡ－８０５」、「ＪＰＨ－１２００」、「ＪＰＰ－８８」、「ＪＰＥ－１０」、「ＪＰＥ－１３Ｒ」、「ＪＰ－３１８Ｅ」、「ＪＰＰ－２０００ＰＴ」、「ＪＰ－６５０」、「ＪＰＨ－３８００」等が挙げられる。

【0088】

前記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、３，３－チオジプロピオン酸ジドデシル、３，３－チオビスプロピオン酸ジトリデシル、３，３－チオジプロピオン酸ジオクタデシル、テトラキス［３－（ドデシルチオ）プロピオン酸］ペンタエリトリトール等が挙げられる。

【0089】

前記硫黄系酸化防止剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ ＰＳ８００ＦＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ ＰＳ８０２ＦＬ」、株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ ＡＯ－４１２Ｓ」、「アデカスタブ ＡＯ－５０３」、ケミプロ化成株式会社製「ＫＥＭＩＮＯＸ ＰＬＳ」、住友化学株式会社製「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＴＰ－Ｄ」等が挙げられる。

【0090】

前記酸化防止剤剤の使用量としては、十分な耐熱性を得られる観点から、活性エネルギー線硬化性組成物中に、０．０１～１０質量部の範囲が好ましく、０．１～５質量部の範囲がより好ましく、０．５～３質量部の範囲が特に好ましい。

【0091】

前記その他添加剤として、屈折率や熱膨張係数を調整するために無機充填剤が好適に用いられる。前記無機充填剤としては、シリカ微粒子、ジルコニア微粒子、その他の微粒子、等が挙げられ、おのおの独立に１種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。前記無機充填剤の粒子径としては１０００ｎｍ以下が好ましく、５００ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。

【0092】

前記シリカ微粒子の市販品としては、例えば、日産化学株式会社製「メタノールシリカゾル」、「ＭＡ－ＳＴ－Ｍ」、「ＭＡ－ＳＴ－Ｌ」、「ＩＰＡ－ＳＴ」、「ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ」、「ＩＰＡ－ＳＴ－ＺＬ」、「ＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰ」、「ＥＧ－ＳＴ」、「ＮＰＣ－ＳＴ－３０」、「ＰＧＭ－ＳＴ」、「ＤＭＡＣ－ＳＴ」、「ＭＥＫ－ＳＴ－４０、「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」、「ＭＥＫ－ＳＴ－ＺＬ」、「ＭＥＫ－ＳＴ－ＵＰ」、「ＭＩＢＫ－ＳＴ」、「ＭＩＢＫ－ＳＴ－Ｌ」、「ＣＨＯ－ＳＴ－Ｍ」、「ＥＡＴ－ＳＴ」、「ＰＭＡ－ＳＴ」、「ＴＯＬ－ＳＴ」、「ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ」、「ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０Ｙ」、「ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ」、「ＭＩＢＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ」、「ＭＩＢＫ－ＳＤ－Ｌ」、「ＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙ」、「ＰＧＭ－ＡＣ－４１４０Ｙ」、「ＭＥＫ－ＥＣ－２１３０Ｙ」、日本触媒株式会社製「シーホスター ＫＥ－Ｅ１０」、「シーホスター ＫＥ－Ｅ３０」、「シーホスター ＫＥ－Ｅ１５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｗ１０」、「シーホスター ＫＥ－Ｗ３０」、「シーホスター ＫＥ－Ｗ５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ１０」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ３０」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ１００」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ１５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｐ２５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ１０」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ３０」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ１００」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ１５０」、「シーホスター ＫＥ－Ｓ２５０」、信越化学株式会社製「ＱＳＧ－１０」、「ＱＳＧ－３０」、「ＱＳＧ－１００」、「ＱＳＧ－１７０」、株式会社アドマテックス社製「アドマナノ ＹＡ０１０Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ」、「ＹＡ１００Ｃ」、大研化学工業株式会社製「ＤＬＳＢ－００１」、「ＤＬＳＢ－００２」等が挙げられる。

【0093】

前記ジルコニア微粒子の市販品としては、例えば、第一工業製薬株式会社製「ＺＨＲ－１０１」、「ＺＨＲ－１０３」、「ＺＨＲ－２００」、日本触媒株式会社製「ジルコスターＺＰ－１５３」、「ジルコスターＨＲ－１０１」、堺化学工業株式会社製「ＳＺＲ－Ｗ」、「ＳＺＲ－Ｍ」、「ＳＺＲ－ＣＷ」、「ＳＺＲ－ＣＭ」、「ＳＺＲ－ＫＭ」、「ＳＺＲ－Ｋ」、大研化学工業株式会社製「ＤＬＺ－００１」、「ＤＬＺ－００７」、「ＤＬＺ－００３Ｕ」、「ＤＬＭ－００１」、「ＤＬＭ－００２」、第一稀元素化学工業株式会社製「ＺＳＬ－１０Ａ」、「ＺＳＬ－１０Ｔ」、「ＺＳＬ－２０Ｎ」、「ＺＳＬ－０００１４」、アイテック社製「ジルコネオ－Ｃｗ」、「ジルコネオ－Ｃｋ」、大成化工株式会社製「ＴＺＰ－１０３」等が挙げられる。

【0094】

前記その他の微粒子の市販品としては、例えば、チタニア微粒子として、大成化工株式会社製「ＴＴＰ－１１３」、「ＴＴＰ－１１３２」、チタン酸バリウム微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＢ－００１」、「ＤＬＢ－００２」、「ＤＬＢ－００３」、アンチモン酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＡＴ－００１」、インジウム酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「ＤＬＩＴ－００１」等が挙げられる。

【0095】

前記活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物を得る方法としては、例えば、基材上に前記活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、その後活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。

【0096】

前記基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂；セルロースアセテート（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等）、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等のセルロース系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂；ポリビニルアルコール；エチレン－酢酸ビニル共重合体；ポリスチレン；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂；ノルボルネン系樹脂（例えば、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」）、変性ノルボルネン系樹脂（例えば、ＪＳＲ株式会社製「アートン」）、環状オレフィン共重合体（例えば、三井化学株式会社製「アペル」）などの樹脂フィルム；シリコン、シリコンカーバイド、シリコンナイトライド、サファイア、アルミニウムナイトライド、窒化ガリウム、リン化ガリウム、ヒ化ガリウム、リン化インジウム等の半導体ウエハー；石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ケイ酸塩ガラス、光学ガラス（クラウンガラス、フリントガラス）等のガラスなどを用いることができる。

【0097】

前記基材に本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する方法としては、例えば、ダイコート、マイクログラビアコート、グラビアコート、ロールコート、コンマコート、エアナイフコート、キスコート、スプレーコート、ディップコート、スピンナーコート、刷毛塗り、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート、ディスペンサー、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷等が挙げられる。

【0098】

前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる活性エネルギー線としては、上記の通り、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線である。ここで、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合、その紫外線を照射する装置としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ（フュージョンランプ）、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀－キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、ＬＥＤランプ等が挙げられる。

【0099】

前記活性エネルギー線の照射量（積算光量）としては、１００～１０，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、３００～８，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。なお、前記活性エネルギー線の照射量は、所望の励起波長に適した光量計により測定した値を基準とし、例えば、岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 ＵＶＰＦ－Ａ２シリーズ、浜松ホトニクス製紫外線光量計Ｃ９５３６／Ｈ９５３５シリーズ、同Ｃ９５３６／Ｈ９９５８シリーズ、同Ｃ１０４２７／Ｈ１０４２８シリーズ、ウシオ電機製紫外線積算光量計ＵＩＴ－２０１、同ＵＩＴ－２５０、同ＵＩＴ－θシリーズ、等を用いることができる。取り分け本発明においては岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 ＵＶＰＦ－Ａ２（ＰＤ－３６５）を用いて測定した積算光量を基準とする。

【0100】

なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。

【0101】

前記本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物の膜厚としては、硬化物の硬さを十分なものとすることができる点から、１～１０００μｍの範囲が好ましく、５０～５００μｍの範囲がより好ましい。

【0102】

前記硬化物の屈折率（ｎ_ｄ）としては、１．４０～１．６０の範囲であることが好ましく、１．４５～１．５５の範囲がより好ましい。なお、前記硬化物の屈折率は、ＪＩＳ試験方法Ｋ７１４２：２０１４のＡ法に準拠して測定した値を示す。

【0103】

前記硬化物のアッベ数（ν_ｄ）としては、５３以上であることが好ましく、５３～６０の範囲であることがより好ましく、５５～５９の範囲が更に好ましく、５６～５８の範囲が特に好ましい。なお、前記硬化物のアッベ数はＪＩＳ試験方法Ｋ７１４２：２０１４のＡ法に準拠して測定した屈折率をもとに算出した値を示す。

【0104】

前記硬化物の光線透過率としては、光学用レンズに好適に使用できる観点から波長４１０ｎｍにおける光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。

【0105】

前記硬化物の耐熱試験後の光線透過率としては、半田リフロー耐性を有する光学用レンズに好適に使用できる観点から波長４１０ｎｍにおける光線透過率が初期の光線透過率から±５％以内であることが好ましく、±３％以内であることがより好ましく、±１％以内であることが特に好ましい。耐熱試験後の光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。

【0106】

前記硬化物の吸水率としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、０．１％～４．０％の範囲であることが好ましく、０．３～３．５％の範囲であることがより好ましく、０．５～３．０％の範囲であることが特に好ましい。なお、前記硬化物の吸水率は、ＪＩＳ試験方法Ｋ７２０９：２０００のＣ法に準拠した測定値を用いて、水中への溶出分を加味した算出値を示す。

【0107】

前記硬化物の耐湿熱性としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、温度８５℃－湿度８５％ＲＨ－時間１０００時間の条件で行った湿熱試験の結果、基材からのハガレがないことが好ましく、硬化物と基材界面に欠陥がないことがより好ましく、硬化物内部に欠陥がないことが特に好ましい。なお、前記硬化物の耐湿熱性の評価方法については、実施例にて詳述する。

【0108】

本発明のレンズは、前記硬化物を有するものである。また、前記レンズは、必要に応じて、前記硬化物の少なくとも片面に無機化合物からなる無機層を有していてもよく、さらに、基材を有していてもよい。

【0109】

なお、本発明のレンズは、インプリント成形により、ウェハレベルレンズとして用いることもできる。

【0110】

本発明のレンズを製造する方法としては、特に制限されず、どのような方法にて製造してもよいが、例えば、前記活性エネルギー線硬化性組成物を、ウエハーやガラス等の基材上に塗布し、金型により所望の形状に賦形した後、活性エネルギー線を照射して前記組成物を仮硬化させる。金型を離型後、未硬化の活性エネルギー線硬化性組成物を溶剤により洗浄する現像工程を経て、再度活性エネルギー線を照射し本硬化を行う。さらに必要に応じて、物理蒸着等により無機化合物からなる無機層を硬化物表面に成膜する。加えて無機層を成膜する場合、必要に応じて、硬化物表面のアッシング等による前処理を行う。最後に前記基材を個片化する方法等が挙げられる。

【0111】

前記溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、イソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶剤；カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤；アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いることも２種以上を併用することもできる。

【0112】

前記無機層としては、無機化合物からなる層を意味し、一般に、反射防止、耐擦り傷性等の機能を有するものである。

【0113】

前記無機化合物としては、例えば、金属酸化物、複酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、複フッ化物、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物及びそれらの混合物等が挙げられる。

【0114】

前記金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、インジウム、スズ、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、タンタル、等が挙げられる。

【0115】

前記無機層を反射防止膜層として用いる場合、前記反射防止膜層は単層であってもよいが、低屈折率層と、高屈折率層とを有していてもよい。また、低屈折率層と高屈折率層は、それぞれ１層でも複数層であってもよい。なお、低屈折率層と高屈折率層の積層順序も特に限定されない。

【0116】

前記高屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、チタン酸ランタン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム及びそれらの混合物等が挙げられる。

【0117】

前記低屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム及びそれらの混合物等が挙げられる。

【0118】

前記無機層は、前記樹脂層の表面に成膜することで得られるものである。前記無機層の成膜方法は、特に制限されず、適宜公知の成膜方法を用いることができるが、物理蒸着（ＰＶＤ）又は化学蒸着（ＣＶＤ）により成膜することが好ましい。

【0119】

前記成膜方法は、成膜工程の一貫性及び簡素化の観点から、前記物理蒸着（ＰＶＤ）を用いることがより好ましく、例えば、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法が挙げられる。

【0120】

前記真空蒸着としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、電子ビーム加熱方式等を用いることができる。

【0121】

前記スパッタリングは、ＤＣスパッタでもＲＦスパッタでもよく、マグネトロンスパッタでもイオンビームスパッタでもよい。また、平行平板ターゲット方式でも対向ターゲット方式でもよい。また、真空チャンバー内に導入する気体としては、例えば、アルゴン、クリプトン、酸素、窒素等が挙げられ、各々単独でも２種以上を混合して用いてもよい。

【0122】

前記無機層の膜厚は、目的とする機能により適宜調整し得るが、反射防止機能を目的とする場合、１０ｎｍ～５，０００ｎｍの範囲が好ましく、無機層の膜強度と生産性の観点から、１００ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲がより好ましく、２５０ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲が特に好ましい。

【0123】

前記硬化物表面のアッシング等による前処理は、無機層との層間密着性の観点から、光励起アッシングやプラズマアッシング等の方法を用いることができ、これらの併用でも構わない。

【0124】

前記無機層と硬化物の密着性としては、無機層の剥離を抑制する観点から、幅１ｍｍの１００マス碁盤目のセロハンテープ剥離による無機層の碁盤目残面積率において、５０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。なお、前記無機層の残存率の評価方法については、実施例にて詳述する。

【0125】

前記無機層の耐クラック性としては、無機層へのクラック発生を抑制する観点から、成膜後の無機層表面にクラックを確認できないことが好ましく、半田リフロー後に無機層表面にクラックを確認できないことがより好ましい。なお、前記無機層の耐クラック性の評価方法については、実施例にて詳述する。

【0126】

以上、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成される硬化物は、高いアッベ数と高光線透過率を有し、耐熱性と耐湿熱性に優れ、硬化物表面に成膜された無機層の耐クラックに優れ、無機層との密着性に優れ、かつ活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであることから、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。

【実施例】

【0127】

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。

【0128】

なお、本実施例において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用い、下記の条件により測定した値である。

【0129】

測定装置 ； 東ソー株式会社製 ＨＬＣ－８２２０
カラム ； 東ソー株式会社製ガードカラムＨ_ＸＬ－Ｈ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ５０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ３０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ
検出器 ； ＲＩ（示差屈折計）
データ処理：東ソー株式会社製 ＳＣ－８０１０
測定条件： カラム温度 ４０℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 １．０ｍｌ／分
標準 ；ポリスチレン
試料 ；樹脂固形分換算で０．４質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（１００μｌ）

【0130】

［合成例１：アクリロイル基及び多分岐構造を有する化合物（Ｄ－１）の製造］
温度計、攪拌棒、ディーンスターク装置、空気導入管を具備した反応釜にペンタエリスリトールエチレンオキサイド（４ｍｏｌ）付加物１３４質量部（１ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１７質量部（０．１ｍｏｌ）、トルエン２００質量部を仕込み、反応釜を攪拌しながら内温１１０℃へ昇温させた。次に、内温１１０℃を保持したままジメチロールプロピオン酸１，０７３質量部（８ｍｏｌ）を反応系内に２時間ごと４回に分けて投入、同時に生成する水を系外に除去しながら１０時間反応させた。次に反応混合物を冷却し、アクリル酸１０８１質量部（１５ｍｏｌ）、メトキノン１．２４質量部（１０ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸３４質量部（０．２ｍｏｌ）、トルエン５００質量部を反応釜に投入した。次に、反応溶液中に空気を吹き込み、反応釜を攪拌しながら内温１１０℃へ昇温、内温を保持しながら生成する水を系外に除去しつつ、８時間反応させた。次に、２０質量％の水酸化ナトリウム水溶液で中和し、食塩水で３回抽出洗浄し、減圧下で未反応アクリル酸及びトルエンを留去し、アクリロイル基及び多分岐構造を有する化合物（Ｄ－１）を得た。この化合物（Ｄ－１）の重量平均分子量は２２００ｇ／ｍｏｌであり、エステル価は２００ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0131】

［実施例１］
（Ａ）成分としてシロキサン化合物（信越化学工業株式会社製「ＫＲ－５１３」）；１０質量部、Ｂ成分としてポリカーボネートジオールジアクリレート（宇部興産株式会社製「ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ」：一般式（１）におけるＲ^２が水素原子であり、Ｒ^３がそれぞれ独立して、炭素原子数６の直鎖状炭化水素基とシクロヘキサン構造をランダムに有するものであり、ｎが４～５のものである。）；５０質量部、（Ｃ）成分としてポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製「Ａ－４００」）；２０質量部、（Ｄ）成分としてアクリロイル基及び多分岐構造を有する化合物（Ｄ－１）；３０質量部、（Ｆ）成分として１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ社製「Ｉ－１８４」）；１質量部を混合し、５０℃に加温後、ホモディスパ―を使用して回転数１，０００ｒｐｍで１０分間撹拌混合して活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。

【0132】

［実施例２～１４、比較例１～８］
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び（Ｅ）の種類及び／又は量を表１～３に示す通りに変更した以外は、実施例１と同様にして活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。なお、表３記載の比較例６～８に配合したＫＢＭ－１３（信越化学工業株式会社製「メチルトリメトキシシラン。（メタ）アクリロイル基を含まない）、ＫＢＭ－５１０３（信越化学工業株式会社製。３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン。（メタ）アクリロイル基１個）、ＫＢＭ－５８０３（信越化学工業株式会社製。メタクリロイルオクチルトリメトキシシラン。（メタ）アクリロイル基１個。）は本願（Ａ）成分に該当せず比較成分として用いた。なお、実施例１、２、３、４及び８は参考例である。

【0133】

［屈折率の測定方法］
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を三角プリズム型（厚さ５ｍｍ、１辺の長さ１０ｍｍ）に流し込み、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置（１２０Ｗメタルハライドランプ）を使用して、３，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して三角プリズムを作製した。得られた三角プリズムを株式会社島津製作所製カルニュー精密屈折計「ＫＰＲ－３０００」を使用して２５℃におけるｄ線、Ｆ線、Ｃ線、各々の屈折率を測定した。なお、硬化物の屈折率（ｎ_ｄ）に最も近い屈折率（ｎ_ｄ）を有するマッチング液を適宜選択して用いた。

【0134】

［アッベ数の算出方法］
前記［屈折率の測定方法］にて測定したｄ線、Ｆ線、Ｃ線、各々の屈折率を用いて下記式によりアッベ数（ν_ｄ）を算出した。

【0135】

【数1】

【0136】

［透過率の測定方法］
オクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板上に、実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を滴下し、厚み１ｍｍのシムプレートをスペーサーとして油滴の左右に配置後、同様にオクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板により油滴を挟み込んだ。２枚のガラス板で挟みこまれた活性エネルギー線硬化性組成物の油滴を、岩崎電気株子会社製ＵＶ－ＬＥＤ照射装置「ＬＨＰＵＶ３６５／２５０１」にて照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量８０００ｍＪ／ｃｍ^２を照射し、約１ｍｍ厚のコイン状硬化物を得た。得られたコイン状硬化物を送風式オーブンにより１００℃で２０分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「Ｖ－７７０」を用いて波長４１０ｎｍにおける初期透過率を測定した。

【0137】

［耐熱試験後透過率の測定方法］
前記透過率の測定方法において測定したコイン状硬化物を、送風式オーブンにより（１）１７５℃で１０分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「Ｖ－７７０」を用いて波長４１０ｎｍにおける透過率を、各々耐熱試験後透過率１及び耐熱試験後透過率２として測定した。なお、加熱温度は低温溶融半田と通常溶融半田のリフロー工程に準じた温度設定として１７５℃を用いた。

【0138】

［吸水率の測定方法］
厚み０．５ｍｍのシムプレートとガラス棒を用いて、アクリル板上に実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を塗工後、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置（１２０Ｗメタルハライドランプ）にて積算光量３，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射により膜厚０．２ｍｍのシート状硬化物を得た。得られたシート状硬化物をダンベルカッターを用いて長さ５ｃｍ×幅５ｃｍに裁断することで吸水率測定用試験片を作製した。作製した前記試験片を送風式オーブンにより５０℃で２４時間乾燥後、試験片の重量測定を行い初期重量ｍ_１とした。初期重量測定後、２３℃の純水３００ｍｌに２４時間浸漬させた。純水から引き上げた試験片に残った水分を旭化成株式会社製不織布「ベンコット」にて拭き取った後、試験片の重量測定を行い浸漬後重量ｍ２とした。浸漬後重量測定後、送風式オーブンにより５０℃で２４時間乾燥させ、試験片の重量測定を行い乾燥重量ｍ３とした。上記ｍ１～ｍ３を用いて、下記式により吸水率を算出した。

【0139】

【数2】

【0140】

［耐湿熱性の評価方法］
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を、信越化学工業株式会社製シランカップリング剤「ＫＢＭ－５１０３」により密着処理を施したカバーガラス上に滴下し、レンズレプリカにより賦形した後、岩崎電気株式会社製ＵＶ－ＬＥＤ照射装置「ＬＨＰＵＶ３６５／２５０１」にて照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の照射により仮硬化させた。レンズレプリカを離型後、プロピレングリコールモノメチルエーテルにより現像処理を行い、未硬化の樹脂組成物を除去した。さらに、積算光量７，５５０ｍＪ／ｃｍ^２による本硬化を行った後、送風式オーブンを用いて１００℃で９０分間のポストベークを行うことで、ウェハレベルレンズを得た。得られたウェハレベルレンズをエスペック株式会社製小型環境試験機「ＳＨ－２２２」を用いて温度８５℃、相対湿度８５％、で１０００時間の耐湿熱試験を行った。試験後レンズを株式会社キーエンス製マイクロスコープ「ＶＨＸ９００」及びオリンパス株式会社製レーザー顕微鏡「ＯＬＳ５０００」を用いて観察し、下記の基準に従い評価した。

【0141】

◎：ハガレ、界面欠陥、内部欠陥が見られない。
〇：ハガレ、界面欠陥は見られないが内部欠陥が１～１０個程度。
△：ハガレ、界面異常、内部欠陥の程度が中程度。
×：ハガレ、界面異常、内部欠陥が重度。

【0142】

[耐クラック性の評価方法]
前記耐湿熱性の評価方法に記載のレンズ作製手順と同様にウェハレベルレンズを作製し、株式会社島津製作所製３元マグネトロンスパッタ装置「ＨＳＲ－５２２」を用いて、ターゲットＳｉＯ_２、導入ガスはアルゴン、ガス流量１５ｓｃｃｍ、室温２５℃、スパッタ時間：４０ｍｉｎの条件でスパッタリングを行い、前記硬化物の表面上に、膜厚０．５μｍのシリコン酸化物薄膜を積層させた積層体を得た。前記積層体の表面を株式会社キーエンス製マイクロスコープ「ＶＨＸ９００」で観察し、積層体の初期外観として下記の基準に従い評価した。次に、送風式オーブンを用いて１７５℃で５分間熱処理を行った後、積層体の表面を株式会社キーエンス製マイクロスコープ「ＶＨＸ９００」で観察し、積層体の耐熱後外観として下記の基準に従い評価した。
◎：スパッタ膜にクラック、シワが見られない。
○：スパッタ膜にごく軽微なクラック、シワが発生。
△：スパッタ膜に軽微なクラック、シワが発生。
×：スパッタ膜にクラック、シワが発生。

【0143】

［密着性の評価方法］
信越化学工業株式会社製シランカップリング剤「ＫＢＭ－５１０３」により密着処理を施したガラス上に、実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を滴下し、厚み０．５ｍｍのシムプレートをスペーサーとして油滴の左右に配置後、オクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板により油滴を挟み込んだ。２枚のガラス板で挟みこまれた活性エネルギー線硬化性組成物の油滴を、岩崎電気株子会社製ＵＶ－ＬＥＤ照射装置「ＬＨＰＵＶ３６５／２５０１」にて照射強度５０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量８０００ｍＪ／ｃｍ^２を照射し、離型処理を施したガラス板を剥離、送風式オーブンにより１００℃で９０分間加熱することで、約０．５ｍｍ厚の平膜状硬化物を得た。得られた平膜状硬化物を芝浦メカトロニクス株式会社製スパッタリング装置「ＣＦＳ－１２Ｐ－１００型」を用いて、ターゲットＳｉＯ_２、導入ガスとしてアルゴン（ガス流量２７ｓｃｃｍ）及び酸素（ガス流量３ｓｃｃｍ）、室温２５℃、スパッタ時間：２６ｍｉｎの条件でスパッタリングを行い、前記平膜状硬化物の表面上に、膜厚０．１μｍのシリコン酸化物薄膜を積層させた積層体を得た。上記で得られた積層体表面上にカッターナイフ及びカッターガイドを用いて１ｍｍ間隔で縦、横１１本の切れ目を入れ、１００マスの碁盤目を作製した。次いで、長さ８ｃｍに裁断した３Ｍ社製セロハンテープ「Ｓｃｏｔｃｈ ６１０」の一端を前記碁盤目表面に密着させた後、もう一端を垂直方向へ瞬間的に引き上げることで、無機膜を剥離させた。剥離後の積層体表面をオリンパス株式会社製レーザー顕微鏡「ＯＬＳ５０００」を用いて観察し、碁盤目上に剥離せずに残った無機膜の残面積比率から、下記の基準に従い評価した。

【0144】

５：残面積比率９０％以上。
４：残面積比率７０～８９％の範囲。
３：残面積比率５０～６９％の範囲。
２：残面積比率２０～４９％の範囲。
１：残面積比率１～１９％の範囲。
０：残面積比率０％。

【0145】

【表1】

【0146】

【表2】

【0147】

【表3】

【0148】

表１～３中の略語は以下のものを示す。
「Ｘ－１２－１０４８」；
アクリロイル基変性ポリシロキサン（信越化学工業株式会社製）
「Ｘ－４０－２７６１」；
アクリロイル基変性ポリシロキサン（信越化学工業株式会社製）
「４－ＨＢＡ」；
４－ヒドロキシブチルアクリレート（三菱ケミカル株式会社製）

【0149】

表１～３の評価結果より、実施例１～１４の本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成された硬化物は、高アッベ数、高耐熱性を有し、吸水率が４％以下に制御され、かつ高い耐湿熱性を有することが明らかになった。また、実施例１～１４のレンズサンプルは硬化後の反りもなく、割れやヒビもなく外観も良好であった。さらに、積層体は、初期と耐熱試験後を問わず、クラックとシワの発生が抑制されていることが明らかとなった。加えて実施例１～１４は無機層と高い層間密着性を有していることが明らかになった。

【0150】

一方、比較例１～２は、本発明にて規定する（Ａ）成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、無機層との層間密着性が不十分であることが確認された。

【0151】

また、比較例３～４は、本発明にて規定する（Ａ）成分の配合量を５０質量部まで増量した活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐湿熱試験において界面異常と内部欠陥が発生し、耐湿熱性が不十分であること、耐熱試験後外観にシワとクラックが発生しており、耐クラック性が著しく不十分であることが確認された。

【0152】

比較例５は、本発明にて規定する（Ｂ）成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐熱試験において透過率が低下しており、耐熱性が不十分であること、積層体において耐熱試験後にクラックが発生しており、耐クラック性が不十分であることが確認された。

【0153】

比較例６～８は、本発明にて規定する（Ａ）成分に該当しないシラン化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、積層体において耐熱試験後外観にシワとクラックが発生しており、耐クラック性が著しく不十分であること、無機層との層間密着性が不十分であることが確認された。