(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-17
(45)【発行日】2024-04-25
(54)【発明の名称】めっき装置
(51)【国際特許分類】
C25D 21/10 20060101AFI20240418BHJP
C25D 17/06 20060101ALI20240418BHJP
C25D 17/00 20060101ALI20240418BHJP
【ＦＩ】
C25D21/10 301
C25D17/06 C
C25D17/00 H
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2024505103
(86)(22)【出願日】2023-05-10
(86)【国際出願番号】 JP2023017515
【審査請求日】2024-01-26
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100146710
【弁理士】
【氏名又は名称】鐘ヶ江 幸男
(74)【代理人】
【識別番号】100186613
【弁理士】
【氏名又は名称】渡邊 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100163061
【弁理士】
【氏名又は名称】山田 祐樹
(72)【発明者】
【氏名】増田 泰之
【審査官】北澤 健一
(56)【参考文献】
【文献】特許第７０６９４４２（ＪＰ，Ｂ１）
【文献】特開２０１４－１８５３７５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２５Ｄ ２１／１０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、
前記パドルは、前記パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材を有し、
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが第１往復態様で往復移動することを含み、
前記第１往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークとは予め設定された一定値だけ異なるストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせる、めっき装置。
【請求項2】
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも前記一定値だけ短く、
前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも前記一定値だけ長いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせる、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項3】
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、
前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも前記一定値だけ長く、
前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも前記一定値だけ短いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせる、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項4】
前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置されている、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項5】
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１方向に、異なる速度で、複数回移動すること、又は、前記パドルが前記第２方向に、異なる速度で、複数回移動することを含む、請求項４に記載のめっき装置。
【請求項6】
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度とは異なる第２速度で移動することを含む、請求項４に記載のめっき装置。
【請求項7】
めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、
前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、
前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置され、
前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度よりも速い第２速度で移動することを含み、
前記パドルが前記第１速度で移動することで、前記イオン抵抗体の前記孔に付着した所定のサイズの気泡を吸い上げて前記孔から除去し、前記パドルが前記第２速度で移動することで、前記イオン抵抗体の前記孔に付着した、前記所定のサイズよりも小さいサイズの気泡を吸い上げて前記孔から除去する、めっき装置。
【請求項8】
前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１往復態様における前記パドルの往復移動の回数と同じ回数だけ往復移動を行って、前記第２往復態様による前記パドルの往復移動を終了させる、請求項２に記載のめっき装置。
【請求項9】
前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１往復態様における前記パドルの往復移動の回数と同じ回数だけ往復移動を行って、前記第２往復態様による前記パドルの往復移動を終了させる、請求項３に記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、めっき装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、基板にめっき処理を施すことが可能なめっき装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このようなめっき装置は、めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置された、めっき槽と、アノードと基板との間に配置されて、基板に平行な方向で第１方向及び第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備えている。
【0003】
また、従来、パドルとして、パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材を有するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０２１－１３０８４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述したような従来のめっき槽において、パドルの往復移動時におけるパドルのストロークは一定である。この場合、パドルが第２方向から第１方向に移動方向を変えるときや、第１方向から第２方向に移動方向を変えるときに、パドルの梁部材が同じ箇所で停止する。この場合、めっき処理中におけるのパドルの梁部材の平均滞在時間が均一化しなくなってしまい、アノードと基板との間の電場の遮蔽度合いが、パドルの位置によって異なるおそれがある。この結果、基板のめっき品質が悪化するおそれがある。
【0006】
あるいは、従来のめっき装置の場合、めっき槽のめっき液に含まれる気泡が、アノードと基板との間に配置されたイオン抵抗体の孔に多量に付着するおそれがある。この状態で基板にめっき処理を施した場合、この気泡に起因して基板のめっき品質が悪化するおそれがある。
【0007】
本発明は、上記のことを鑑みてなされたものであり、パドルの梁部材による電場遮蔽の影響を小さくすることができる技術、又は、イオン抵抗体の孔に付着した気泡を除去することができる技術を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
（態様１）
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るめっき装置は、めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、前記パドルは、前記パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材を有し、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが第１往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークとは異なるストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせる。
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るめっき装置は、めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、前記パドルは、前記パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材を有し、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが第１往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークとは異なるストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせる。
【0009】
この態様によれば、パドルが第２方向から第１方向に移動方向を変えるときや、第１方向から第２方向に移動方向を変えるときに、パドルの梁部材が同じ箇所に位置しないようにすることができる。これにより、パドルの梁部材による電場遮蔽の影響を小さくすることができる。この結果、基板のめっき品質を向上させることができる。
【0010】
（態様２）
上記の態様１において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも短く、前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも長いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせてもよい。
上記の態様１において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも短く、前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも長いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせてもよい。
【0011】
（態様３）
上記の態様１において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも長く、前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも短いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせてもよい。
上記の態様１において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動することを含み、前記第１往復態様において、前記第２方向に移動するときの前記パドルのストロークは、前記第１方向に移動するときの前記パドルのストロークよりも長く、前記第２往復態様において、前記パドルは、前記第１方向に移動するときのストロークよりも短いストロークで前記第２方向に移動することにより、前記パドルが前記第２方向から前記第１方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置及び前記第１方向から前記第２方向に移動方向を変えるときの前記複数の梁部材の位置を異ならせてもよい。
【0012】
（態様４）
上記の態様１～３のいずれか１態様において、前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置されていてもよい。
上記の態様１～３のいずれか１態様において、前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置されていてもよい。
【0013】
（態様５）
上記の態様４において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１方向に、異なる速度で、複数回移動すること、又は、前記パドルが前記第２方向に、異なる速度で、複数回移動することを含んでいてもよい。
上記の態様４において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが前記第１方向に、異なる速度で、複数回移動すること、又は、前記パドルが前記第２方向に、異なる速度で、複数回移動することを含んでいてもよい。
【0014】
この態様によれば、イオン抵抗体の孔に付着した気泡を効果的に除去することができる。これにより、基板のめっき品質を向上させることができる。
【0015】
（態様６）
上記の態様４において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度とは異なる第２速度で移動することを含んでいてもよい。
上記の態様４において、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度とは異なる第２速度で移動することを含んでいてもよい。
【0016】
この態様によれば、イオン抵抗体の孔に付着した気泡を効果的に除去することができる。これにより、基板のめっき品質を向上させることができる。
【0017】
（態様７）
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るめっき装置は、めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置され、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度とは異なる第２速度で移動することを含む。
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るめっき装置は、めっき液を貯留するとともに、前記めっき液の内部にアノードが配置され、前記めっき液の内部において前記アノードに対向するように基板が配置されためっき槽と、前記アノードと前記基板との間に配置されて、前記基板に平行な方向で第１方向及び前記第１方向とは反対の第２方向に往復移動することで、前記めっき液を撹拌するように構成されたパドルと、を備え、前記基板は前記アノードよりも上方に配置され、前記めっき液の内部において、前記アノードよりも上方、且つ、前記パドルよりも下方には、複数の孔を有するイオン抵抗体が配置され、前記パドルが前記第１方向及び前記第２方向に往復移動することは、前記パドルが、前記第１方向に第１速度で移動した後に、前記第２方向に前記第１速度とは異なる第２速度で移動することを含む。
【0018】
この態様によれば、イオン抵抗体の孔に付着した気泡を効果的に除去することができる。これにより、基板のめっき品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】実施形態に係るめっき装置の全体構成を示す斜視図である。
【図2】実施形態に係るめっき装置の全体構成を示す平面図である。
【図3】実施形態に係るめっき装置におけるめっきモジュールの構成を示す模式図である。
【図4】実施形態に係る基板がめっき液に浸漬された状態を示す模式図である。
【図5】実施形態に係るパドルの模式的な平面図である。
【図6】実施形態に係るめっき液の供給からめっき処理の開始までの一連の動作を説明するためのフロー図である。
【図7】実施形態に係るパドルの動作の詳細を説明するためのフロー図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面は、構成要素の特徴の理解を容易にするために模式的に図示されており、各構成要素の寸法比率等は実際のものと同じであるとは限らない。また、いくつかの図面には、参考用として、Ｘ－Ｙ－Ｚの直交座標が図示されている。この直交座標のうち、Ｚ方向は上方に相当し、－Ｚ方向は下方（重力が作用する方向）に相当する。
【0021】
図１は、本実施形態のめっき装置１０００の全体構成を示す斜視図である。図２は、本実施形態のめっき装置１０００の全体構成を示す平面図（上面図）である。図１及び図２に示すように、めっき装置１０００は、ロードポート１００、搬送ロボット１１０、アライナ１２０、プリウェットモジュール２００、プリソークモジュール３００、めっきモジュール４００、洗浄モジュール５００、スピンリンスドライヤ６００、搬送装置７００、及び、制御モジュール８００を備える。
【0022】
ロードポート１００は、めっき装置１０００に図示していないＦＯＵＰなどのカセットに収容された基板を搬入したり、めっき装置１０００からカセットに基板を搬出するためのモジュールである。本実施形態では４台のロードポート１００が水平方向に並べて配置されているが、ロードポート１００の数及び配置は任意である。搬送ロボット１１０は、基板を搬送するためのロボットであり、ロードポート１００、アライナ１２０、プリウェットモジュール２００及びスピンリンスドライヤ６００の間で基板を受け渡すように構成される。搬送ロボット１１０及び搬送装置７００は、搬送ロボット１１０と搬送装置７００との間で基板を受け渡す際には、仮置き台（図示せず）を介して基板の受け渡しを行うことができる。
【0023】
アライナ１２０は、基板のオリエンテーションフラットやノッチなどの位置を所定の方向に合わせるためのモジュールである。本実施形態では２台のアライナ１２０が水平方向に並べて配置されているが、アライナ１２０の数及び配置は任意である。プリウェットモジュール２００は、めっき処理前の基板の被めっき面を純水または脱気水などの処理液で濡らすことで、基板表面に形成されたパターン内部の空気を処理液に置換する。プリウェットモジュール２００は、めっき時にパターン内部の処理液をめっき液に置換することでパターン内部にめっき液を供給しやすくするプリウェット処理を施すように構成される。本実施形態では２台のプリウェットモジュール２００が上下方向に並べて配置されているが、プリウェットモジュール２００の数及び配置は任意である。
【0024】
プリソークモジュール３００は、例えばめっき処理前の基板の被めっき面に形成したシード層表面等に存在する電気抵抗の大きい酸化膜を硫酸や塩酸等の処理液でエッチング除去してめっき下地表面を洗浄または活性化するプリソーク処理を施すように構成される。本実施形態では２台のプリソークモジュール３００が上下方向に並べて配置されているが、プリソークモジュール３００の数及び配置は任意である。めっきモジュール４００は、基板にめっき処理を施す。本実施形態では、上下方向に３台かつ水平方向に４台並べて配置された１２台のめっきモジュール４００のセットが２つあり、合計２４台のめっきモジュール４００が設けられているが、めっきモジュール４００の数及び配置は任意である。
【0025】
洗浄モジュール５００は、めっき処理後の基板に残るめっき液等を除去するために基板に洗浄処理を施すように構成される。本実施形態では２台の洗浄モジュール５００が上下方向に並べて配置されているが、洗浄モジュール５００の数及び配置は任意である。スピンリンスドライヤ６００は、洗浄処理後の基板を高速回転させて乾燥させるためのモジュールである。本実施形態では２台のスピンリンスドライヤ６００が上下方向に並べて配置されているが、スピンリンスドライヤ６００の数及び配置は任意である。搬送装置７００は、めっき装置１０００内の複数のモジュール間で基板を搬送するための装置である。制御モジュール８００は、めっき装置１０００の複数のモジュールを制御するように構成され、例えばオペレータとの間の入出力インターフェースを備える一般的なコンピュータまたは専用コンピュータから構成することができる。
【0026】
めっき装置１０００による一連のめっき処理の一例を説明する。まず、ロードポート１００にカセットに収容された基板が搬入される。続いて、搬送ロボット１１０は、ロードポート１００のカセットから基板を取り出し、アライナ１２０に基板を搬送する。アライナ１２０は、基板のオリエンテーションフラットやノッチなどの位置を所定の方向に合わせる。搬送ロボット１１０は、アライナ１２０で方向を合わせた基板をプリウェットモジュール２００へ受け渡す。
【0027】
プリウェットモジュール２００は、基板にプリウェット処理を施す。搬送装置７００は、プリウェット処理が施された基板をプリソークモジュール３００へ搬送する。プリソークモジュール３００は、基板にプリソーク処理を施す。搬送装置７００は、プリソーク処理が施された基板をめっきモジュール４００へ搬送する。めっきモジュール４００は、基板にめっき処理を施す。
【0028】
搬送装置７００は、めっき処理が施された基板を洗浄モジュール５００へ搬送する。洗浄モジュール５００は、基板に洗浄処理を施す。搬送装置７００は、洗浄処理が施された基板をスピンリンスドライヤ６００へ搬送する。スピンリンスドライヤ６００は、基板に乾燥処理を施す。搬送ロボット１１０は、スピンリンスドライヤ６００から基板を受け取り、乾燥処理を施した基板をロードポート１００のカセットへ搬送する。最後に、ロードポート１００から基板を収容したカセットが搬出される。
【0029】
【0030】
続いて、めっきモジュール４００について説明する。なお、本実施形態に係るめっき装置１０００が有する複数のめっきモジュール４００は同様の構成を有しているので、１つのめっきモジュール４００について説明する。
【0031】
図３は、本実施形態に係るめっき装置１０００におけるめっきモジュール４００の構成を示す模式図である。具体的には、図３は、基板Ｗｆがめっき液Ｐｓに浸漬される前の状態におけるめっきモジュール４００を模式的に図示している。図４は、基板Ｗｆがめっき液Ｐｓに浸漬された状態を示す模式図である。
【0032】
図３及び図４に例示するめっき装置１０００は、一例として、カップ式のめっき装置である。但し、この構成に限定されるものではなく、例えば、本実施形態に係るめっき装置１０００は、基板Ｗｆの面方向を上下方向にした状態でめっき液Ｐｓに浸漬させるタイプのめっき装置（すなわち、縦型のめっき装置）であってもよい。
【0033】
図３及び図４に例示するめっき装置１０００のめっきモジュール４００は、めっき槽１０と、オーバーフロー槽２０と、基板ホルダ３０と、パドル７０と、を備えている。また、めっきモジュール４００は、図３に例示するように、回転機構４０と、傾斜機構４５と、昇降機構５０と、を備えていてもよい。
【0034】
本実施形態に係るめっき槽１０は、上方に開口を有する有底の容器によって構成されている。具体的には、めっき槽１０は、底壁１０ａと、この底壁１０ａの外周縁から上方に延在する外周壁１０ｂとを有しており、この外周壁１０ｂの上部が開口している。なお、めっき槽１０の外周壁１０ｂの形状は特に限定されるものではないが、本実施形態に係る外周壁１０ｂは、一例として円筒形状を有している。めっき槽１０の内部には、めっき液Ｐｓが貯留されている。
【0035】
めっき液Ｐｓとしては、めっき皮膜を構成する金属元素のイオンを含む溶液であればよく、その具体例は特に限定されるものではない。本実施形態においては、めっき処理の一例として、銅めっき処理を用いており、めっき液Ｐｓの一例として、硫酸銅溶液を用いている。また、めっき液Ｐｓには所定の添加剤が含まれていてもよい。
【0036】
めっき槽１０のめっき液Ｐｓの内部には、アノード１１が配置されている。また、少なくとも基板Ｗｆのめっき処理時において、めっき槽１０のめっき液Ｐｓの内部には、基板Ｗｆもアノード１１に対向するように配置される。アノード１１の具体的な種類は特に限定されるものではなく、不溶解アノードであってもよく、溶解アノードであってもよい。本実施形態では、アノード１１の一例として、不溶解アノードを用いている。この不溶解アノードの具体的な種類は特に限定されるものではなく、白金や酸化イリジウム等を用いることができる。
【0037】
めっき槽１０のめっき液Ｐｓの内部において、アノード１１よりも上方、且つ、基板Ｗｆよりも下方（具体的には、本実施形態では、さらにパドル７０よりも下方）には、イオン抵抗体１２が配置されていてもよい。具体的には、図４（Ｂ１部分の拡大図）に例示するように、イオン抵抗体１２は、複数の孔１２ａ（細孔）を有する多孔質の板部材によって構成されている。孔１２ａは、イオン抵抗体１２の下面と上面とを連通するように設けられている。
【0038】
図３に例示するように、イオン抵抗体１２における複数の孔１２ａが形成された領域を「孔形成エリアＰＡ」と称する。本実施形態に係る孔形成エリアＰＡは、平面視で円形状を有している。また、本実施形態に係る孔形成エリアＰＡの面積は、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａの面積と同じか、又は、この被めっき面Ｗｆａの面積よりも大きい。但し、この構成に限定されるものではなく、孔形成エリアＰＡの面積は、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａの面積よりも小さくてもよい。
【0039】
このイオン抵抗体１２は、アノード１１と基板Ｗｆとの間に形成される電場の均一化を図るために設けられている。本実施形態のように、めっき槽１０にイオン抵抗体１２が配置されることで、基板Ｗｆに形成されるめっき皮膜（めっき層）の膜厚の均一化を容易に図ることができる。
【0040】
図３や図４に例示するように、めっき槽１０の内部において、アノード１１よりも上方且つイオン抵抗体１２よりも下方の箇所には、膜１６が配置されていてもよい。この場合、めっき槽１０の内部は、膜１６によって、膜１６よりも下方のアノード室１７ａと、膜１６よりも上方のカソード室１７ｂとに区画される。アノード１１はアノード室１７ａに配置され、イオン抵抗体１２や基板Ｗｆはカソード室１７ｂに配置される。膜１６は、めっき液Ｐｓに含まれる金属イオンを含むイオン種が膜１６を通過することを許容しつつ、めっき液Ｐｓに含まれる非イオン系のめっき添加剤が膜１６を通過することを抑制するように構成されている。このような膜１６として、例えばイオン交換膜を用いることができる。
【0041】
めっき槽１０には、めっき槽１０にめっき液Ｐｓを供給するための供給口が設けられている。具体的には、本実施形態に係るめっき槽１０の外周壁１０ｂには、アノード室１７ａにめっき液Ｐｓを供給するための第１供給口１３ａと、カソード室１７ｂにめっき液Ｐｓを供給するための第２供給口１３ｂと、が設けられている。
【0042】
また、めっき槽１０には、アノード室１７ａのめっき液Ｐｓをめっき槽１０の外部に排出するための第１排出口１４ａが設けられている。第１排出口１４ａから排出されためっき液Ｐｓは、ポンプ（図示せず）によって圧送されて、再び、第１供給口１３ａからアノード室１７ａに供給される。
【0043】
オーバーフロー槽２０は、めっき槽１０の外側に配置された、有底の容器によって構成されている。オーバーフロー槽２０は、めっき槽１０の外周壁１０ｂの上端を超えためっき液Ｐｓ（すなわち、めっき槽１０からオーバーフローしためっき液Ｐｓ）を一時的に貯留するために設けられている。オーバーフロー槽２０に貯留されためっき液Ｐｓは、第２排出口１４ｂから排出された後に、ポンプ（図示せず）によって圧送されて、再び、第２供給口１３ｂからカソード室１７ｂに供給される。
【0044】
基板ホルダ３０は、カソードとしての基板Ｗｆを、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａがアノード１１に対向するように保持している。本実施形態において、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａは、具体的には、基板Ｗｆの下方側を向いた面（下面）に設けられている。
【0045】
図３に例示するように、基板ホルダ３０は基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａの外周縁よりも下方に突出するように設けられたリング３１を有していてもよい。具体的には、本実施形態に係るリング３１は、下面視で、リング形状を有している。
【0046】
基板ホルダ３０は、回転機構４０に接続されていている。回転機構４０は、基板ホルダ３０を回転させるための機構である。図３に例示されている「Ｒ１」は、基板ホルダ３０の回転方向の一例である。回転機構４０としては、公知の回転モータ等を用いることができる。傾斜機構４５は、回転機構４０及び基板ホルダ３０を傾斜させるための機構である。昇降機構５０は、上下方向に延在する支軸５１によって支持されている。昇降機構５０は、基板ホルダ３０、回転機構４０及び傾斜機構４５を上下方向に昇降させるための機構である。昇降機構５０としては、直動式のアクチュエータ等の公知の昇降機構を用いることができる。
【0047】
制御モジュール８００は、マイクロコンピュータを備えており、このマイクロコンピュータは、プロセッサ８０１や、非一時的な記憶媒体としての記憶装置８０２等を備えている。制御モジュール８００は、記憶装置８０２に記憶されたプログラムの指令に基づいて、プロセッサ８０１が作動することで、めっきモジュール４００の動作を制御する。
【0048】
図５は、パドル７０の模式的な平面図である。図３、図４及び図５を参照して、パドル７０は、めっき槽１０の内部におけるアノード１１と基板Ｗｆとの間の箇所に配置されている。具体的には、本実施形態に係るパドル７０は、アノード１１よりも上方に配置されたイオン抵抗体１２と基板Ｗｆとの間に配置されている。
【0049】
図５を参照して、パドル７０は、駆動装置７７によって駆動される。駆動装置７７の動作は制御モジュール８００が制御する。パドル７０が駆動されることで、めっき槽１０のめっき液Ｐｓは撹拌される。
【0050】
本実施形態に係る駆動装置７７は、制御モジュール８００の指示を受けて、パドル７０を、基板Ｗｆ（又は、アノード１１）に平行な方向で「第１方向（本実施形態では、一例として、Ｘ方向）」、及び、第１方向とは反対の「第２方向（本実施形態では、一例として、－Ｘ方向）」に交互に移動させる。すなわち、本実施形態に係るパドル７０は、第１方向及び第２方向に往復移動する。
【0051】
また、本実施形態に係る駆動装置７７は、パドル７０を第１方向に移動させるときのストロークと第２方向に移動させるときのストロークとを変更できるように構成されている。このような駆動装置７７のメカニカルな構造自体は特に限定されるものではなく、公知の駆動装置（例えば、特開２０１９－１５１８７４号公報等）を用いることができる。具体例を挙げると、本実施形態に係る駆動装置７７は、パドル７０に接続されたリニアモータ７７ａを備え、このリニアモータ７７ａによってパドル７０を往復移動させるように構成されている（すなわち、本実施形態に係る駆動装置７７は、一例として、リニアモータ式の駆動装置である）。
【0052】
本実施形態に係るパドル７０は、一例として、第１方向及び第２方向に、一定の速度（ｍｍ／ｓｅｃ、又は、ｒｐｍ）で移動する。また、一例として、本実施形態に係るパドル７０が第１方向に移動する際の速度と第２方向に移動する際の速度とは同じ値である。なお、パドル７０の往復移動時の速度の単位をｒｐｍで表す場合、例えばパドル７０の速度がＮ（ｒｐｍ）とは、パドル７０が１往復することを１分間にＮ回行うということを意味する。
【0053】
図５に例示するように、本実施形態に係るパドル７０は、第１方向（及び第２方向）に対して垂直な方向（Ｙ軸の方向）に延在する梁部材７１を、複数有している。隣接する梁部材７１の間には、隙間が設けられている。複数の梁部材７１の一端は第１連結部材７２ａに連結され、他端は第２連結部材７２ｂに連結されている。パドル７０が駆動した場合、パドル７０の具体的には梁部材７１がめっき液Ｐｓを撹拌する。すなわち、梁部材７１は「撹拌部位」としての機能を有している。
【0054】
なお、本実施形態に係るパドル７０の往復移動方向の長さであるパドル幅（図５で、パドル７０のＸ方向の長さ）は、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａの第１方向にある外縁と第２方向にある外縁との距離の最大値である「基板幅Ｄ１（符号は図３に例示されている）」よりも小さいが、この構成に限定されるものではない。パドル７０のパドル幅は、基板幅Ｄ１と同じか、基板幅Ｄ１よりも大きくてもよい。
【0055】
また、本実施形態に係るパドル７０のパドル幅は、パドル７０が後述する第１往復態様や第２往復態様で往復移動した際に、パドル７０がめっき槽１０の外周壁１０ｂの内面に衝突しない大きさに設定されている。
【0056】
パドル７０は、平面視で、めっき液Ｐｓの撹拌時におけるパドル７０の移動領域ＭＡ（すなわち、パドル７０が往復移動する範囲）がイオン抵抗体１２の孔形成エリアＰＡの全面を覆うように構成されていることが好ましい。この構成によれば、イオン抵抗体１２の孔形成エリアＰＡよりも上方のめっき液Ｐｓを、パドル７０によって効果的に撹拌することができる。
【0057】
なお、パドル７０は、少なくともめっき液Ｐｓを撹拌するときに、めっき槽１０の内部に配置されていればよく、めっき槽１０の内部に常に配置されている必要はない。例えば、パドル７０の駆動が停止されてパドル７０によるめっき液Ｐｓの撹拌が行われない場合には、パドル７０はめっき槽１０の外部に配置された構成とすることもできる。
【0058】
図６は、本実施形態に係るめっき液の供給からめっき処理の開始までの一連の動作を説明するためのフロー図である。まず、めっき槽１０にめっき液Ｐｓを供給する（ステップＳ１０）。具体的には、アノード１１及びイオン抵抗体１２がめっき液Ｐｓに浸漬するように、めっき槽１０にめっき液Ｐｓを供給する。より具体的には、本実施形態では、第１供給口１３ａ及び第２供給口１３ｂからめっき液Ｐｓをめっき槽１０に供給する。
【0059】
次いで、基板Ｗｆをめっき液Ｐｓに浸漬させる（ステップＳ２０）。具体的には、本実施形態では、昇降機構５０が基板ホルダ３０を下降させることで、基板Ｗｆの少なくとも被めっき面Ｗｆａをめっき液Ｐｓに浸漬させる。
【0060】
次いで、駆動装置７７がパドル７０の駆動を開始させることで、パドル７０によるめっき液Ｐｓの撹拌を開始させる（ステップＳ３０）。
【0061】
パドル７０がめっき液Ｐｓを撹拌することで、めっき液Ｐｓの均質性を高めることができる。また、パドル７０がめっき液Ｐｓを撹拌することで、以下に説明するような効果を奏することもできる。
【0062】
具体的には、めっき槽１０のめっき液Ｐｓに気泡Ｂｕが生じることがある。例えば、めっき槽１０にめっき液Ｐｓを供給する際に、空気がめっき液Ｐｓとともにめっき槽１０に流入した場合に、この空気が気泡Ｂｕになるおそれがある。
【0063】
上述したように、めっき槽１０のめっき液Ｐｓに気泡Ｂｕが生じた場合に、この気泡Ｂｕがイオン抵抗体１２の孔１２ａに付着する場合がある（図４参照）。仮にパドル７０によるめっき液Ｐｓの撹拌が行われない場合、この気泡Ｂｕが孔１２ａに多量に付着するおそれがある。このような状態で、基板Ｗｆにめっき処理を施した場合、この気泡Ｂｕに起因して基板Ｗｆのめっき品質が悪化するおそれがある。
【0064】
これに対して、本実施形態によれば、パドル７０がめっき液Ｐｓを撹拌することで、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕの上方への移動を促進させることができる。これにより、孔１２ａに付着した気泡Ｂｕを上方に吸い上げて、孔１２ａから除去することができる。この結果、孔１２ａに付着した気泡Ｂｕに起因して基板Ｗｆのめっき品質が悪化することを抑制することができる。
【0065】
図６を参照して、ステップＳ３０の後に、通電装置（図示せず）によってアノード１１と基板Ｗｆとの間に電気を流すことで、基板Ｗｆへのめっき処理を開始させる（ステップＳ４０）。これにより、基板Ｗｆの被めっき面Ｗｆａへのめっき皮膜の形成が開始される。具体的には、本実施形態では、このステップＳ４０に係る基板Ｗｆへのめっき処理の実行中においても、ステップＳ３０に係るパドル７０によるめっき液Ｐｓの撹拌は行われている（すなわち、めっき液Ｐｓを撹拌しつつ、被めっき面Ｗｆａへのめっき皮膜の形成が行われている）。
【0066】
なお、パドル７０がめっき液Ｐｓを撹拌する時期は、上述した時期に限定されるものではない。例えば、ステップＳ１０とステップＳ２０との間の時期（すなわち、めっき槽１０にめっき液Ｐｓが供給された後であって、基板Ｗｆがめっき液Ｐｓに浸漬される前の時期）においても、パドル７０によってめっき液Ｐｓを撹拌してもよい。
【0067】
図７は、パドル７０の動作の詳細を説明するためのフロー図の一例である。具体的には、この図７は、図６のステップＳ３０におけるパドル７０の動作の詳細を示している。図５及び図７を主に参照しつつ、パドル７０の動作の詳細を説明すると次のようになる。
【0068】
まず、図５を参照して、各々の梁部材７１の第１方向における配列ピッチを「ｄ（ｍｍ）」とし、各々の梁部材７１の第１方向の幅を「Ｗ（ｍｍ）」とし、パドル７０の往復移動回数を「ｎ（回）」とする。なお、往復移動回数は、例えば、パドル７０が第１方向に移動した後に第２方向に移動した場合に「１回」とカウントする。
【0069】
図７を参照して、まず、パドル７０は、制御モジュール８００の指示を受けた駆動装置７７によって駆動されることで、以下に説明する「第１往復態様」で往復移動する（ステップＳ３１）。
【0070】
この第１往復態様において、パドル７０は、第１方向に移動するときのストロークとは異なるストロークで第２方向に移動することにより、パドル７０が第２方向から第１方向に移動方向を変えるときの梁部材７１の位置（すなわち、パドル７０が往復移動を１回するときの移動開始位置（すなわち、「始点」））、及び、パドル７０が第１方向から第２方向に移動方向を変えるときの梁部材７１の位置（すなわち、パドル７０が往復移動を１回するときの折り返し位置（すなわち、「終点」））を異ならせる。これにより、めっき処理中における梁部材７１の平均滞在時間を均一化させている。
【0071】
一例として、本実施形態では、この第１往復態様において、第２方向に移動するときのパドル７０のストロークは第１方向に移動するときのパドル７０のストロークよりも短い。具体的には、この第１往復態様の一例として、本実施形態に係るパドル７０は、第１方向にストロークが「Ａ（ｍｍ）」で移動し、次いで、第２方向にストロークが「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」で移動することを１回以上行う。
【0072】
すなわち、第１往復態様においてパドル７０は第１方向に「Ａ（ｍｍ）」移動した後に、第２方向に「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」移動する。このように、第１往復態様において、パドル７０が第２方向に移動する距離は、パドル７０が第１方向へ移動する距離よりも、「Ｗ（ｍｍ）」だけ短くなっている。この結果、第１往復態様において、パドル７０が往復移動を開始する位置は、１往復する毎に「Ｗ（ｍｍ）」だけ第１方向にずれていく。
【0073】
但し、ステップＳ３１は上記の構成に限定されるものではなく、例えば、ステップＳ３１において、第２方向のストロークは、「Ａ（ｍｍ）」よりも短く且つ「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」よりも大きい値であってもよい。
【0074】
次いで、制御モジュール８００は、パドル７０が複数回往復移動したか否かを判定する（ステップＳ３２）。この一例として、本実施形態に係る制御モジュール８００は、「Ｗ×ｎ＞ｄ」の関係が満たされたか否かを判定する。すなわち、ステップＳ３２において、制御モジュール８００は、梁部材７１の幅（Ｗ）に、パドル７０の往復移動回数（ｎ）を掛けた値が、梁部材７１の配列ピッチ（ｄ）よりも大きくなったか否かを判定する。
【0075】
通常、ステップＳ３１に係る第１往復態様でのパドル７０の往復移動は、ステップＳ３２でＹｅｓと判定されるまで実行される。
【0076】
ステップＳ３２でＹｅｓと判定された場合（すなわち、「Ｗ×ｎ＞ｄ」の関係が満たされた場合）、制御モジュール８００の指示を受けた駆動装置７７によって駆動されることで、パドル７０は以下に説明する「第２往復態様」で往復移動する（ステップＳ３３）。すなわち、本実施形態に係るパドル７０は、第１往復態様で複数回往復移動した後に、第２往復態様で往復移動する。
【0077】
この第２往復態様において、パドル７０は、第１方向に移動するときのストロークよりも長いストロークで第２方向に移動することにより、パドル７０が第２方向から第１方向に移動方向を変えるときの梁部材７１の位置（始点）、及び、パドル７０が第１方向から第２方向に移動方向を変えるときの梁部材７１の位置（終点）を異ならせる。これにより、めっき処理中における梁部材７１の平均滞在時間を均一化させている。
【0078】
具体的には、この第２往復態様の一例として、本実施形態に係るパドル７０は、第１方向にストロークが「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」で移動し、次いで、第２方向にストロークが「Ａ（ｍｍ）」で移動することを１回以上行う。
【0079】
すなわち、第２往復態様においてパドル７０は第１方向に「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」移動した後に、第２方向に「Ａ（ｍｍ）」移動する。すなわち、第２往復態様において、パドル７０が第１方向に移動する距離は、パドル７０が第２方向へ移動する距離よりも、「Ｗ（ｍｍ）」だけ短くなっている。この結果、第２往復態様において、パドル７０が往復移動を開始する位置は、１往復する毎に「Ｗ（ｍｍ）」だけ第２方向にずれていく。
【0080】
但し、ステップＳ３３は上記の構成に限定されるものではなく、例えば、ステップＳ３３において、第１方向のストロークは、「Ａ（ｍｍ）」よりも短く且つ「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」よりも大きい値であってもよい。
【0081】
第２往復態様によるパドル７０の往復移動を終了させる時期は、特に限定されるものではないが、本実施形態に係る制御モジュール８００は、一例として、第２往復態様によるパドル７０の往復移動が開始されてからのパドル７０の往復移動回数が「ｎ（回）（これは、ステップＳ３２のｎと同じ値である）」になった場合に、第２往復態様によるパドル７０の往復移動を終了させる。
【0082】
第２往復態様によるパドル７０の往復移動が終了した場合、制御モジュール８００は、図７のフローチャートをステップＳ３１から再び実行してもよい（すなわち、図７のフローチャートを繰り返し実行してもよい）。また、制御モジュール８００は、図７のフローチャートの任意の時期に、パドル７０の駆動を強制的に停止させる旨の駆動停止要求を受けた場合には、図７のフローチャートの実行を強制的に終了させて、パドル７０の駆動を停止させてもよい。
【0083】
以上説明したような本実施形態によれば、パドル７０の往復移動の態様が第１往復態様を含んでいるので、パドル７０が第１方向から第２方向に移動方向を変えるときや第２方向から第１方向に移動方向を変えるときに（すなわち、パドル７０の往復移動時の速度がゼロになるときに）、パドル７０の梁部材７１が同じ箇所に位置しないようにすることができる。これにより、パドル７０の梁部材７１による電場遮蔽の影響を小さくすることができる。この結果、基板Ｗｆのめっき品質を向上させることができる。具体的には、例えば、基板Ｗｆに形成されるめっき皮膜の膜厚の均一性を向上させることができる。
【0084】
さらに、本実施形態によれば、パドル７０の往復移動の態様が第２往復態様をさらに含んでいるので、パドル７０の梁部材７１による電場遮蔽の影響をより小さくすることができる。この結果、基板Ｗｆのめっき品質をより向上させることができる。
【0085】
なお、本実施形態の構成は上記の構成に限定されるものではなく、例えば、第２往復態様において、パドル７０の往復移動時のストロークは一定であってもよい。具体的には、この場合、第２往復態様において、パドル７０は第１方向及び第２方向にストロークがＡ（ｍｍ）で移動してもよい。この場合においても、パドル７０の往復移動が上述した第１往復態様を含んでいれば、パドル７０の梁部材７１による電場遮蔽の影響を小さくすることは可能である。
【0086】
また、第１往復態様において、パドル７０が第２方向に移動するときのストロークは第１方向に移動するときのストロークよりも長くてもよい。例えば、この場合、第１往復態様において、パドル７０は、第１方向にストロークが「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」で移動し、次いで、第２方向にストロークが「Ａ（ｍｍ）」で移動してもよい。そして、この場合、第２往復態様において、パドル７０が第２方向に移動するときのストロークは第１方向に移動するときのストロークよりも短いことが好ましい。例えば、この場合、第２往復態様において、パドル７０は、第１方向にストロークが「Ａ（ｍｍ）」で移動し、次いで、第２方向にストロークが「Ａ－Ｗ（ｍｍ）」で移動すればよい。
【0087】
（変形例１）
図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、実施形態の変形例１に係るめっき装置１０００を説明するための模式図である。具体的には、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、本変形例に係るめっき装置１０００のイオン抵抗体１２の周辺構成を模式的に拡大して断面図示している。なお、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）において、パドル７０は、その１つの梁部材７１が例示されている。
図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、実施形態の変形例１に係るめっき装置１０００を説明するための模式図である。具体的には、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、本変形例に係るめっき装置１０００のイオン抵抗体１２の周辺構成を模式的に拡大して断面図示している。なお、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）において、パドル７０は、その１つの梁部材７１が例示されている。
【0088】
本変形例は、第１往復態様及び第２往復態様のうち少なくとも１つにおいて、第１方向にパドル７０が複数回移動する際に、又は、第２方向にパドル７０が複数回移動する際に、パドル７０が異なる速度で移動する点において、前述した実施形態と異なっている。
【0089】
この具体例として、本変形例では、第１往復態様及び第２往復態様の「両方」において、第１方向にパドル７０が複数回移動する際、又は、第２方向にパドル７０が複数回移動する際に、パドル７０が異なる速度で移動している。
【0090】
この一例として、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、「第１方向」にパドル７０が複数回移動する際にパドル７０が異なる速度で移動する様子を例示している。具体的には、図８（Ａ）に例示するように、本変形例に係る第１往復態様及び第２往復態様は、第１方向にパドル７０が「第１速度Ｖ１（ｍｍ／ｓｅｃ、又は、ｒｐｍ）」で移動することと、図８（Ｂ）に例示するように、第１方向にパドル７０が第１速度Ｖ１よりも速い「第２速度Ｖ２（ｍｍ／ｓｅｃ、又は、ｒｐｍ）」で移動することと、を含んでいる。
【0091】
具体的には、本変形例に係る制御モジュール８００の指示を受けた駆動装置７７は、第１往復態様及び第２往復態様において、パドル７０を複数回、第１方向に移動させる際に、この第１方向への複数回の移動のうち、一部の回では、パドル７０を第１速度Ｖ１で移動させ、残りの回ではパドル７０を第２速度Ｖ２で移動させる。
【0092】
なお、上記の場合において、駆動装置７７は、第２方向にパドル７０を移動させる際には、パドル７０を例えば第１速度Ｖ１及び第２速度Ｖ２の中から選択された１つの速度（すなわち、一定速度）で移動させればよい。
【0093】
あるいは、本変形例は、「第２方向」にパドル７０が異なる速度で複数回移動する構成とすることもできる。具体的には、この場合、第１往復態様及び第２往復態様のうち少なくと１つは、第２方向にパドル７０が第１速度Ｖ１で移動することと、第２方向にパドル７０が第２速度Ｖ２で移動することと、を含んでいる。
【0094】
本変形例によれば、パドル７０が第１方向に異なる速度で複数回移動する、又は、第２方向に異なる速度で複数回移動することで、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕを効果的に除去することができる。これにより、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕに起因して、基板Ｗｆのめっき品質が悪化することを抑制することができる（すなわち、基板Ｗｆのめっき品質を向上させることができる）。
【0095】
具体的には、本変形例によれば、図８（Ａ）に例示するように、パドル７０が相対的に低速で移動する場合には、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した相対的に大きいサイズの気泡Ｂｕを上方に吸い上げて、孔１２ａから効果的に除去することができる。
【0096】
一方、図８（Ｂ）に例示するように、パドル７０が相対的に高速で移動する場合には、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した相対的に小さいサイズの気泡Ｂｕ（すなわち、パドル７０が低速で移動する場合には吸い上げられなかったサイズの気泡Ｂｕ）を吸い上げて、孔１２ａから効果的に除去することができる。
【0097】
具体的には、この場合、パドル７０が第２速度Ｖ２で移動することで、パドル７０の梁部材７１とイオン抵抗体１２の上面との間に、めっき液Ｐｓの渦流Ｓｗを効果的に形成させることができる。この渦流Ｓｗによって、孔１２ａに付着した気泡Ｂｕのサイズが小さい場合であっても、この気泡Ｂｕを効果的に吸い上げて、孔１２ａから除去することができる。このように、本変形例によれば、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した異なるサイズの気泡Ｂｕを効果的に除去することができる。
【0098】
なお、第１速度Ｖ１の具体的な値は、特に限定されるものではないが、例えば、サイズ（最大外形寸法）が基準値以上の気泡Ｂｕをイオン抵抗体１２の孔１２ａから除去できるような速度を用いることができる。この第１速度Ｖ１は、例えば実験等によって好適な値を求めればよい。また、第２速度Ｖ２の具体的な値は、第１速度Ｖ１よりも速い速度であれば、特に限定されるものではないが、例えばサイズが基準値未満の気泡Ｂｕを孔１２ａから除去できるような速度を用いることができる。この第２速度Ｖ２も、例えば実験等によって好適な値を求めればよい。
【0099】
なお、第１速度Ｖ１と第２速度Ｖ２の好適な比率の一例を挙げると、第２速度Ｖ２として、第１速度Ｖ１の約１．５倍以上の速度を用いることができる。
【0100】
（変形例２）
図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、実施形態の変形例２に係るめっき装置１０００を説明するための模式図である。具体的には、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、本変形例に係るめっき装置１０００のイオン抵抗体１２の周辺構成を模式的に拡大して断面図示している。なお、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）において、パドル７０は、その１つの梁部材７１が例示されている。
図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、実施形態の変形例２に係るめっき装置１０００を説明するための模式図である。具体的には、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、本変形例に係るめっき装置１０００のイオン抵抗体１２の周辺構成を模式的に拡大して断面図示している。なお、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）において、パドル７０は、その１つの梁部材７１が例示されている。
【0101】
本変形例は、第１往復態様及び第２往復態様のうち少なくとも１つにおいて、パドル７０が第１方向に「第１速度Ｖ１」で移動した後に（図９（Ａ）参照）、第２方向に第１速度とは異なる「第２速度Ｖ２」で移動する（図９（Ｂ）参照）点において、前述した実施形態や変形例１と異なっている。
【0102】
すなわち、本変形例に係る制御モジュール８００の指示を受けた駆動装置７７は、第１往復態様及び第２往復態様のうち少なくとも１つにおいて、パドル７０を第１方向に第１速度Ｖ１で移動させた後に第２方向に第２速度Ｖ２で移動させることを複数回繰り返す。
【0103】
なお、本変形例において、第２速度Ｖ２は、一例として、第１速度Ｖ１よりも速い速度である。但し、この構成に限定されるものではなく、第２速度Ｖ２は第１速度Ｖ１よりも遅い速度であってもよい。
【0104】
本変形例によれば、パドル７０が１往復する際に、第１速度Ｖ１及び第２速度Ｖ２でパドル７０が移動することができる。これにより、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕを効果的に除去することができる。この結果、基板Ｗｆのめっき品質を向上させることができる。
【0105】
具体的には、パドル７０が１往復する際に、パドル７０が相対的に低速で移動する場合（図９（Ａ））には、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した相対的に大きいサイズの気泡Ｂｕを上方に吸い上げて、孔１２ａから効果的に除去することができる。一方、パドル７０が相対的に高速で移動する場合（図９（Ｂ））には、イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した相対的に小さいサイズの気泡Ｂｕを上方に吸い上げて、孔１２ａから効果的に除去することができる。
【0106】
（他の変形例）
なお、上述した変形例１や変形例２において、パドル７０が往復移動する際のストロークは一定であってもよい。すなわち、この場合、パドル７０は、往復移動時に、第１方向及び第２方向にそれぞれＡ（ｍｍ）ずつ移動してもよい。この構成によれば、前述した実施形態に特有の作用効果を奏することは困難であるが、変形例１や変形例２に特有の作用効果（イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕを除去して、基板Ｗｆのめっき品質を向上させるという作用効果）を奏することは可能である。
なお、上述した変形例１や変形例２において、パドル７０が往復移動する際のストロークは一定であってもよい。すなわち、この場合、パドル７０は、往復移動時に、第１方向及び第２方向にそれぞれＡ（ｍｍ）ずつ移動してもよい。この構成によれば、前述した実施形態に特有の作用効果を奏することは困難であるが、変形例１や変形例２に特有の作用効果（イオン抵抗体１２の孔１２ａに付着した気泡Ｂｕを除去して、基板Ｗｆのめっき品質を向上させるという作用効果）を奏することは可能である。
【0107】
以上、本発明の実施形態や変形例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施形態や変形例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において、さらなる種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【0108】
１０ めっき槽
１１ アノード
１２ イオン抵抗体
１２ａ 孔
３０ 基板ホルダ
７０ パドル
７１ 梁部材
７７ 駆動装置
１０００ めっき装置
Ｗｆ 基板
Ｐｓ めっき液
Ｂｕ 気泡
Ｖ１ 第１速度
Ｖ２ 第２速度
１１ アノード
１２ イオン抵抗体
１２ａ 孔
３０ 基板ホルダ
７０ パドル
７１ 梁部材
７７ 駆動装置
１０００ めっき装置
Ｗｆ 基板
Ｐｓ めっき液
Ｂｕ 気泡
Ｖ１ 第１速度
Ｖ２ 第２速度
【要約】
パドルの梁部材による電場遮蔽の影響を小さくすることができる技術、又は、イオン抵抗体の孔に付着した気泡を除去することができる技術を提供する。
めっき装置１０００は、アノード１１と基板Ｗｆとの間に配置されて、基板に平行な方向で第１方向及び第２方向に往復移動することで、めっき液Ｐｓを撹拌するように構成されたパドル７０を備え、パドルは、パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材７１を有し、パドルが第１方向及び第２方向に往復移動することは、パドルが第１往復態様で往復移動することを含み、第１往復態様において、パドルは、第１方向に移動するときのストロークとは異なるストロークで第２方向に移動することにより、パドルが第２方向から第１方向に移動方向を変えるときの複数の梁部材の位置及び第１方向から第２方向に移動方向を変えるときの複数の梁部材の位置を異ならせる。
めっき装置１０００は、アノード１１と基板Ｗｆとの間に配置されて、基板に平行な方向で第１方向及び第２方向に往復移動することで、めっき液Ｐｓを撹拌するように構成されたパドル７０を備え、パドルは、パドルの往復移動方向とは垂直な方向に延在する複数の梁部材７１を有し、パドルが第１方向及び第２方向に往復移動することは、パドルが第１往復態様で往復移動することを含み、第１往復態様において、パドルは、第１方向に移動するときのストロークとは異なるストロークで第２方向に移動することにより、パドルが第２方向から第１方向に移動方向を変えるときの複数の梁部材の位置及び第１方向から第２方向に移動方向を変えるときの複数の梁部材の位置を異ならせる。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
