(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-30
(45)【発行日】2024-05-10
(54)【発明の名称】電子部品部材洗浄水の製造装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240501BHJP
C02F 1/78 20230101ALI20240501BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648K
C02F1/78
H01L21/304 622Q
H01L21/304 647Z
H01L21/304 648G
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2020097521
(22)【出願日】2020-06-04
(65)【公開番号】P2021190652
(43)【公開日】2021-12-13
【審査請求日】2023-03-31
(73)【特許権者】
【識別番号】000001063
【氏名又は名称】栗田工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100108833
【弁理士】
【氏名又は名称】早川 裕司
(74)【代理人】
【識別番号】100162156
【弁理士】
【氏名又は名称】村雨 圭介
(72)【発明者】
【氏名】小川 祐一
【審査官】小池 英敏
(56)【参考文献】
【文献】特開２０２０－０３１１５９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１４３８７２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１９－１４７１１２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－２０７２７１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
Ｃ０２Ｆ １／７８
Ｂ０８Ｂ ３／００
Ｂ０８Ｂ ５／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤とを添加して所望とする導電性及び酸化還元電位の電子部品部材洗浄水を製造して、この電子部品部材洗浄水をユースポイントに供給する電子部品部材洗浄水の製造装置であって、超純水供給ラインに導電性付与剤注入装置及び酸化還元電位調整剤注入装置を備え、
前記導電性及び酸化還元電位調整手段とユースポイントとの間に冷却機構を設け、
前記導電性付与剤がアンモニアである、電子部品部材洗浄水の製造装置。
【請求項2】
前記酸化還元電位調整剤が、過酸化水素水、Ｏ３又はＨ２である、請求項１に記載の電子部品部材洗浄水の製造装置。
【請求項3】
前記冷却機構が電子部品部材洗浄水を２０℃以下でユースポイントに供給可能である、請求項１又は２に記載の電子部品部材洗浄水の製造装置。
【請求項4】
前記超純水供給ラインに導電性付与剤注入装置の下流側に導電率計又は比抵抗計を備えるとともに、前記酸化還元電位調整剤注入装置の下流側に酸化還元剤濃度計測装置又はＯＲＰ計を備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の電子部品部材洗浄水の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は電子産業分野等で使用される電子部品・電子部材の洗浄水の製造装置に関し、特にアンモニアや過酸化水を添加することで、導電性と酸化還元電位を調製した電子部品や電子部材の洗浄水の洗浄性を制御可能な電子部品や電子部材の洗浄水の製造装置に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体ウエハや半導体デバイスなどの電子部品や電子部材の処理に使用される洗浄水として、超純水に導電率付与物質や酸化還元電位をコントロール物質、ガスを添加した溶液が使用されている。また、これらによる洗浄後のリンス工程には超純水が用いられるが、超純水はその純度が高いほど比抵抗値が高くなるため、洗浄時に静電気が発生しやすくなり、絶縁膜の静電破壊や微粒子の再付着を招くといった問題があることが知られている。そのため、超純水に炭酸ガスやアンモニアなどを溶解した希薄な薬液をリンス水とすることでｐＨ調整を行い、静電気を低減して上述したような問題に取り組んでいる。
【0003】
ところで、近年では、ウエハを洗浄する際に、ウエハ表面の所定の物質を溶解せずに洗浄するニーズが増えている。このためには、ウエハ材料に応じて、特定の洗浄薬液を調製し、この洗浄薬液により洗浄を行っていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、ウエハ材料に応じて洗浄薬液を調製していたのでは高価であり、この洗浄薬液を含む排水を回収して洗浄薬液を再利用するのは困難で、薬品コストもかかるという問題点がある。
【0005】
そこで、従来から半導体基板のウェット洗浄方法であるＲＣＡ洗浄で使用されているアンモニア水と過酸化水素水と水との混合液を洗浄液として用いることが考えられる。例えば、図２に示すように、洗浄液の製造装置１１は、超純水Ｗの供給ライン１２に開閉弁１３Ｂを備えた配管１３Ａを介して接続された導電性付与剤としてのアンモニア水供給装置１３と、開閉弁１４Ｂを備えた配管１４Ａを介して接続された酸化還元電位調整剤としての過酸化水素水供給装置１４とを備え、超純水供給ライン１２の末端はユースポイントＵＰとなっている。そして、超純水供給ライン１２のアンモニア水供給装置１３の後段には導電率計１５が設けられているとともに、過酸化水素水供給装置１４の後段にはＯＲＰ計６が設けられていて、これらの測定値に基づいて、アンモニア水供給装置１３からのアンモニア水の供給量及び過酸化水素水供給装置１４からの過酸化水素水の供給量を制御可能となっている。
【0006】
このような洗浄液製造装置１１では、超純水Ｗにアンモニア水を添加してｐＨをアルカリ側として導電性を高めるとともに、過酸化水素水を添加して酸化還元電位を正の方向に高めて、このアルカリ性の洗浄液によりウエハを洗浄することで、化学反応でウエハ表面をエッチングして除去することを基本メカニズムとしていることから、ウエハ表面の所定の材料のみを溶解させるという、溶解性のコントロールが困難である、という問題点がある。この対策として希薄な薬液を調整することが考えられるが、希薄な薬液を調整するには限界があり、そのままではやはりウエハ表面の所定の材料のみを溶解させるという、溶解性のコントロールが困難である。
【0007】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、導電性と酸化還元電位を調製し、電子部品・電子部材の洗浄性を制御可能な電子部品や電子部材の洗浄水の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的に鑑み、本発明は、超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤とを添加して所望とする導電性及び酸化還元電位の電子部品部材洗浄水を製造して、この電子部品部材洗浄水をユースポイントに供給する電子部品部材洗浄水の製造装置であって、超純水供給ラインに導電性付与剤注入装置及び酸化還元電位調整剤注入装置を備え、前記導電性及び酸化還元電位調整手段とユースポイントとの間に冷却機構を設けた、電子部品部材洗浄水の製造装置を提供する（発明１）。
【0009】
かかる発明（発明１）によれば、超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加して電子部品部材洗浄水を調製し、この電子部品部材洗浄水を冷却機構で所定の温度に冷却してユースポイントに供給することにより、電子部品部材洗浄水の活性を低下させ、ウエハなどの電子部品部材の溶解を抑制することができる。しかも、導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加した希薄溶液とすることで、ウエハなどの電子部品部材の表面の所定の材料のみを溶解させるという溶解性のコントロールが可能となる。
【0010】
上記発明（発明１）においては、前記導電性付与剤がアンモニアもしくは炭酸であることが好ましい（発明２）。
【0011】
かかる発明（発明２）によれば、電子部品部材洗浄水に導電性を付与しつつ、液性をアルカリ性又は酸性に調整することができ、さらにその濃度を調整することにより電子部品部材洗浄水のｐＨを調整することができる。
【0012】
上記発明（発明１，２）においては、前記酸化還元電位調整剤が、過酸化水素水、Ｏ３又はＨ２であることが好ましい（発明３）。
【0013】
かかる発明（発明２，３）によれば、電子部品部材洗浄水の酸化還元電位を正又は不に調整することができ、さらにその濃度を調整することにより電子部品部材洗浄水の酸化還元電位を調整することができる。
【0014】
上記発明（発明１～３）においては、前記冷却機構が電子部品部材洗浄水を２０℃以下でユースポイントに供給可能であることが好ましい（発明４）。
【0015】
かかる発明（発明４）によれば、超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加して２０℃以下に冷却した電子部品部材洗浄水をユースポイント供給することで、ウエハなどの電子部品部材の溶解を効果的に抑制することができる。
【0016】
上記発明（発明１～４）においては、前記超純水供給ラインに導電性付与剤注入装置の下流側に導電率計又は比抵抗計を備えるとともに、前記酸化還元電位調整剤注入装置の下流側に酸化還元剤濃度計測装置又はＯＲＰ計を備えることが好ましい（発明５）。
【0017】
かかる発明（発明５）によれば、超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加した電子部品部材洗浄水の導電率やＯＲＰを測定し、この測定値に応じて導電性付与剤注入装置及び酸化還元電位調整剤注入装置からの添加量を制御することで、電子部品部材洗浄水の導電性及び酸化還元電位を調整し、ウエハなどの電子部品部材の溶解をさらに効果的に抑制することができる。
【発明の効果】
【0018】
本発明の電子部品部材洗浄水の製造装置によれば、超純水に導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加した電子部品部材洗浄水を冷却機構で所定の温度に冷却してユースポイントに供給することにより、ウエハなどの電子部品部材の溶解を抑制した洗浄が可能となる。しかも、導電性付与剤と酸化還元電位調整剤を微量添加した希薄溶液とすることで、ウエハなどの電子部品部材の表面の所定の材料のみを溶解させるという溶解性のコントロールが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、本発明の電子部品部材洗浄水の製造装置の第一の実施形態について添付図面を参照にして詳細に説明する。
【0021】
〔電子部品部材洗浄水の製造装置〕
図１は、一実施形態による電子部品部材洗浄水（以下、単に洗浄水という場合がある）の製造装置を示しており、図１において電子部品部材洗浄水製造装置１は、超純水Ｗの供給ライン２に開閉弁３Ｂを備えた配管３Ａを介して接続された導電性付与剤供給装置３と、開閉弁４Ｂを備えた配管４Ａを介して接続された酸化還元電位調整剤供給装置４とを備える。そして、超純水供給ライン２の末端はユースポイントＵＰとなっていて、このユースポイントＵＰの前段には、冷却機構７が設けられている。なお、本実施形態においては、超純水供給ライン２の導電性付与剤供給装置３の後段には導電率計５が設けられているとともに、酸化還元電位調整剤供給装置４の後段にはＯＲＰ計６が設けられていて、これらの測定値に基づいて、導電性付与剤供給装置３からの導電性付与剤の供給量及び酸化還元電位調整剤供給装置４からの酸化還元電位調整剤の供給量を図示しない制御機構により制御可能となっている。
図１は、一実施形態による電子部品部材洗浄水（以下、単に洗浄水という場合がある）の製造装置を示しており、図１において電子部品部材洗浄水製造装置１は、超純水Ｗの供給ライン２に開閉弁３Ｂを備えた配管３Ａを介して接続された導電性付与剤供給装置３と、開閉弁４Ｂを備えた配管４Ａを介して接続された酸化還元電位調整剤供給装置４とを備える。そして、超純水供給ライン２の末端はユースポイントＵＰとなっていて、このユースポイントＵＰの前段には、冷却機構７が設けられている。なお、本実施形態においては、超純水供給ライン２の導電性付与剤供給装置３の後段には導電率計５が設けられているとともに、酸化還元電位調整剤供給装置４の後段にはＯＲＰ計６が設けられていて、これらの測定値に基づいて、導電性付与剤供給装置３からの導電性付与剤の供給量及び酸化還元電位調整剤供給装置４からの酸化還元電位調整剤の供給量を図示しない制御機構により制御可能となっている。
【0022】
ここで、冷却機構７はチラーと呼ばれるものであり、本実施形態においてはユースポイントＵＰに、常温の超純水Ｗの流量に対して電子部品部材の洗浄水Ｗ１を２０℃以下、例えば１０～２０℃で供給可能な能力を有するものであることが好ましい。
【0023】
＜超純水＞
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとは、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（Ｔｏｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃａｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとは、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（Ｔｏｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃａｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
【0024】
＜導電性付与剤＞
本実施形態において導電性付与剤とは、原料水である超純水Ｗに溶解することでイオン（アニオンまたはカチオン）を生成し、そのイオンによって超純水Ｗに導電性を付与する物質を意味する。このような導電性付与物質としては、酸性の付与物質としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸などの液体及びＣＯ２ガスなどのガス体を用いることができる。また、アルカリ性の付与剤としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はＴＭＡＨ等を用いることができるが、半導体ウエハの洗浄に使用される場合には、アンモニア、ＣＯ２（溶解水であってもよい）が好適であり、特にアンモニアが好適である。このアンモニアは所定の濃度のアンモニア水として用いることが好ましい。これらの導電性付与剤は、洗浄液のｐＨなど所望とする液性に応じて適宜選択すればよい。
本実施形態において導電性付与剤とは、原料水である超純水Ｗに溶解することでイオン（アニオンまたはカチオン）を生成し、そのイオンによって超純水Ｗに導電性を付与する物質を意味する。このような導電性付与物質としては、酸性の付与物質としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸などの液体及びＣＯ２ガスなどのガス体を用いることができる。また、アルカリ性の付与剤としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はＴＭＡＨ等を用いることができるが、半導体ウエハの洗浄に使用される場合には、アンモニア、ＣＯ２（溶解水であってもよい）が好適であり、特にアンモニアが好適である。このアンモニアは所定の濃度のアンモニア水として用いることが好ましい。これらの導電性付与剤は、洗浄液のｐＨなど所望とする液性に応じて適宜選択すればよい。
【0025】
＜酸化還元電位調整剤＞
本実施形態において、酸化還元電位調整剤とは、原料水である超純水Ｗに溶解することで、酸化性あるいは還元性を付与して酸化還元電位を変動させる物質を意味する。このような酸化還元電位調整剤としては、特に制限はないが、フェリシアン化カリウムやフェロシアン化カリウムなどは、金属成分を含有するため好ましくない。したがって、酸化還元電位を高く調整する場合には、過酸化水素水などの液体やオゾンガス、酸素ガスなどのガス体を用いることができる。また、酸化還元電位を低く調整する場合にはシュウ酸、硫化水素、ヨウ化カリウムなどの液体や水素などのガス体を用いることが好ましい。半導体ウエハの洗浄に使用される場合には、過酸化水素水等の液体やオゾンガスや水素ガス等のガス体（溶解水であってもよい）が好ましく、特に酸化還元電位の制御が比較的容易であることから過酸化水素水を用いることが好ましい。これらの酸化還元電位調整剤は、洗浄液の酸化還元電位の正負など所望とする液性に応じて選択すればよい。
本実施形態において、酸化還元電位調整剤とは、原料水である超純水Ｗに溶解することで、酸化性あるいは還元性を付与して酸化還元電位を変動させる物質を意味する。このような酸化還元電位調整剤としては、特に制限はないが、フェリシアン化カリウムやフェロシアン化カリウムなどは、金属成分を含有するため好ましくない。したがって、酸化還元電位を高く調整する場合には、過酸化水素水などの液体やオゾンガス、酸素ガスなどのガス体を用いることができる。また、酸化還元電位を低く調整する場合にはシュウ酸、硫化水素、ヨウ化カリウムなどの液体や水素などのガス体を用いることが好ましい。半導体ウエハの洗浄に使用される場合には、過酸化水素水等の液体やオゾンガスや水素ガス等のガス体（溶解水であってもよい）が好ましく、特に酸化還元電位の制御が比較的容易であることから過酸化水素水を用いることが好ましい。これらの酸化還元電位調整剤は、洗浄液の酸化還元電位の正負など所望とする液性に応じて選択すればよい。
【0026】
〔電子部品部材洗浄水の製造方法〕
次に前述したような構成を有する本実施形態の電子部品部材洗浄水の製造装置を用いた電子部品部材洗浄水の製造方法について説明する。
次に前述したような構成を有する本実施形態の電子部品部材洗浄水の製造装置を用いた電子部品部材洗浄水の製造方法について説明する。
【0027】
＜導電性付与工程＞
まず、供給ライン２から超純水Ｗが供給されると、この超純水Ｗの流量から設定された導電率となる導電性付与剤の濃度に基づき、必要な導電性付与剤を導電性付与剤供給装置３から添加する。このとき、供給ライン２に設けられた導電率計５により導電性付与剤添加後の超純水Ｗの導電率を測定し、設定された導電率となるように導電性付与剤の添加量を調整することが好ましい。
まず、供給ライン２から超純水Ｗが供給されると、この超純水Ｗの流量から設定された導電率となる導電性付与剤の濃度に基づき、必要な導電性付与剤を導電性付与剤供給装置３から添加する。このとき、供給ライン２に設けられた導電率計５により導電性付与剤添加後の超純水Ｗの導電率を測定し、設定された導電率となるように導電性付与剤の添加量を調整することが好ましい。
【0028】
上述したような導電性付与工程により、超純水Ｗの導電率を５μＳ／ｃｍ以下とすることが好ましい。超純水Ｗの導電率を５μＳ／ｃｍを超えると、ウエハ表面の洗浄抑制効果が十分でない。したがって、導電性付与剤は極微量添加すればよい。
【0029】
＜酸化還元電位調整工程＞
次に、超純水Ｗの流量から設定された酸化還元電位となる酸化還元電位調整剤の濃度に基づき、必要な酸化還元電位調整剤を酸化還元電位調整剤供給装置４から添加する。このとき、供給ライン２に設けられたＯＲＰ計６により酸化還元電位調整剤添加後の超純水Ｗの酸化還元電位を測定し、設定された酸化還元電位となるように酸化還元電位調整剤の添加量を調整することが好ましい。
次に、超純水Ｗの流量から設定された酸化還元電位となる酸化還元電位調整剤の濃度に基づき、必要な酸化還元電位調整剤を酸化還元電位調整剤供給装置４から添加する。このとき、供給ライン２に設けられたＯＲＰ計６により酸化還元電位調整剤添加後の超純水Ｗの酸化還元電位を測定し、設定された酸化還元電位となるように酸化還元電位調整剤の添加量を調整することが好ましい。
【0030】
上述したような酸化還元電位調整工程において、超純水Ｗの酸化還元電位を大きくしすぎるとウエハ表面の洗浄抑制効果が十分でないことから、酸化還元電位は±１０Ｖ未満程度となるように酸化還元電位調整剤を極希薄に溶解することが好ましい。超純水Ｗを原水とした本実施形態においては、具体的には、酸化還元電位調整剤が過酸化水素の場合には、濃度５０ｐｐｍ以下、特に１０ｐｐｍ以下とすることが好ましく、酸化還元電位調整剤がオゾン（Ｏ３）の場合には、濃度１０ｐｐｍ以下、特に５ｐｐｍ以下とすることが好ましく、酸化還元電位調整剤が水素（Ｈ３）の場合には、濃度１ｐｐｍ以下、特に０．５ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
【0031】
＜冷却工程＞
このようにして超純水Ｗを所望とする導電性及び酸化還元電位に調整した洗浄水Ｗ１は活性が高く、ウエハ表面の所定の材料のみを選択的に溶解させるなど溶解性のコントロールが困難である。そこで、ユースポイントＵＰには２０℃以下で洗浄水Ｗ１が供給されることが好ましい。したがって、洗浄水Ｗ１を冷却機構７で０℃以上２０℃未満に冷却することが好ましい。このため冷却機構７の出口での洗浄水Ｗ１の温度を測定して、冷却機構７の冷却能を制御することで所望とする温度に調整することが好ましい。
このようにして超純水Ｗを所望とする導電性及び酸化還元電位に調整した洗浄水Ｗ１は活性が高く、ウエハ表面の所定の材料のみを選択的に溶解させるなど溶解性のコントロールが困難である。そこで、ユースポイントＵＰには２０℃以下で洗浄水Ｗ１が供給されることが好ましい。したがって、洗浄水Ｗ１を冷却機構７で０℃以上２０℃未満に冷却することが好ましい。このため冷却機構７の出口での洗浄水Ｗ１の温度を測定して、冷却機構７の冷却能を制御することで所望とする温度に調整することが好ましい。
【0032】
なお、上記冷却工程は、並列に連結される複数のチラーを有するチラーユニットを冷却機構７として用いて、各チラーの冷却機能の低下の程度に応じて、複数のチラーの運転状態を切り替えることにより行ってもよい。複数のチラーの運転状態を切り替えることにより、使用するチラーを選択することができるので、例えば微生物等が発生して冷却機能が低下したチラーがある場合でも、チラーユニット全体の運転は停止させずに継続することができ、冷却した洗浄水Ｗ１の製造効率が向上する。
【0033】
以上のように、本実施形態の電子部品部材洗浄水の製造装置によれば、ウエハの洗浄水Ｗ１を所定の温度、特に０℃以上２０℃未満の温度に冷却した低温の洗浄水Ｗ１を用いることにより、洗浄水Ｗ１の活性が低下するので、ウエハ表面の所定の材料のみを溶解させるなど洗浄水１の溶解性をコントロールすることができる。特に本実施形態によれば、低濃度の導電性付与剤及び酸化還元電位調整剤を用いることで、ウエハ表面の所定の材料のみを溶解させるなど洗浄水１の溶解性をコントロールしているので、薬液使用量を低減することができる。これにより、使用した溶液の回収再利用が容易になる、という効果も奏する。
【0034】
以上、本発明について添付図面を参照にして前記実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限定されず、種々の変更実施が可能である。例えば、導電性付与剤としてはアンモニアを用い、酸化還元電位調整剤としては過酸化水素を用いるのが一般的であるが、種々の導電性付与剤と酸化還元電位調整剤の組み合わせが可能である。また、導電性付与剤供給装置３及び酸化還元電位調整剤供給装置４から導電性付与剤及び酸化還元電位調整剤を添加せずに超純水Ｗを冷却して洗浄液として用いてもよい。
【実施例】
【0035】
以下の具体的実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
【0036】
［比較例１］
冷却機構７を有しない図１に示す洗浄液製造装置を用い、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア水（導電性付与剤）を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素水（酸化還元電位調整剤）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、アンモニア及び過酸化水素水の濃度が高く、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。
冷却機構７を有しない図１に示す洗浄液製造装置を用い、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア水（導電性付与剤）を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素水（酸化還元電位調整剤）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、アンモニア及び過酸化水素水の濃度が高く、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。
【0037】
［比較例２］
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加した以外は同様にして洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％（抑制効果が高いほど大きいこととする）とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加した以外は同様にして洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％（抑制効果が高いほど大きいこととする）とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0038】
［比較例３］
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４からオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整剤）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４からオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整剤）を３０ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0039】
［比較例４］
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から水素（Ｈ２）（酸化還元電位調整剤）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１００μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から水素（Ｈ２）（酸化還元電位調整剤）を１．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0040】
［比較例５］
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からＣＯ２（導電性付与剤）を導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素水（酸化還元電位調整剤）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からＣＯ２（導電性付与剤）を導電率が１０μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素水（酸化還元電位調整剤）を１００ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１をユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）を多量に必要とし、洗浄液１の回収再利用は困難であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0041】
［実施例１］
図１に示す洗浄液製造装置を用いて、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア水（導電性付与剤）を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素（酸化還元電位調整剤）を５ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、アンモニア水及び過酸化水素水の濃度が低く、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
図１に示す洗浄液製造装置を用いて、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア水（導電性付与剤）を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素（酸化還元電位調整剤）を５ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、アンモニア水及び過酸化水素水の濃度が低く、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0042】
［実施例２］
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４からオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整剤）を２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４からオゾン（Ｏ３）（酸化還元電位調整剤）を２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0043】
［実施例３］
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から水素（Ｈ２）（酸化還元電位調整剤）を０．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からアンモニア（導電性付与剤）水を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から水素（Ｈ２）（酸化還元電位調整剤）を０．２ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0044】
［実施例４］
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からＣＯ２（導電性付与剤）を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素（酸化還元電位調整剤）を５ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤供給装置３からＣＯ２（導電性付与剤）を導電率が１μＳ／ｃｍとなるように添加し、次に酸化還元電位調整剤供給装置４から過酸化水素（酸化還元電位調整剤）を５ｐｐｍとなるよう添加して洗浄水Ｗ１を製造した。そして、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この際、薬液（導電性付与剤＋酸化還元電位調整剤）の使用量は比較例１と比べて少量であり、洗浄液１の回収再利用は比較的容易であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0045】
［参考例１］
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤及び酸化還元電位調整剤を添加せず、そのまま洗浄水Ｗ１としてユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解の抑制効果、ウエハ溶解抑制効果を比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
比較例１において、常温の超純水Ｗに導電性付与剤及び酸化還元電位調整剤を添加せず、そのまま洗浄水Ｗ１としてユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２５℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解の抑制効果、ウエハ溶解抑制効果を比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0046】
［参考例２］
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２０℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は２０℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0047】
［参考例３］
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％（抑制効果が高いほど大きくなる）とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１５℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％（抑制効果が高いほど大きくなる）とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0048】
［参考例４］
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１０℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
実施例１において、常温の超純水Ｗをそのまま洗浄水Ｗ１として、この洗浄水Ｗ１を冷却機構７で冷却してユースポイントに送液してウエハを洗浄した。ユースポイントでの洗浄水Ｗ１の液温は１０℃であった。この洗浄水Ｗ１の調整条件及びユースポイントＵＰにおける液温を表１に示す。また、比較例１の洗浄液Ｗ１のウエハ溶解抑制効果を１００％とした場合のウエハ溶解抑制効果、比較例１と対比した洗浄液Ｗ１の使用量及び洗浄液１の回収再利用の困難又は容易の判断の区別とともに表２にあわせて示す。
【0049】
【表1】
【0050】
【表2】
【0051】
表１及び表２から明らかな通り、１５℃に冷却した実施例１～４の洗浄水Ｗ１は、２５℃の洗浄水Ｗ１ウエハを洗浄した場合と比較して、ウエハの溶解抑制効果が高く、薬液使用量も少量で希薄溶液であるので回収も比較的容易であった。また、参考例１～４から明らかなように、原料水となる超純水Ｗを洗浄水として用いた場合であっても、２５℃である参考例１はウエハ溶解抑制効果が低いのに対し、温度を低下させるほどウエハの溶解抑制効果が高くなることから、洗浄水Ｗ１の温度を調整することで、ウエハの溶解抑制効果を調節することができることがわかる。
【符号の説明】
【0052】
１ 電子部品部材洗浄水製造装置
２ 供給ライン
３ 導電性付与剤供給装置
３Ａ 配管
３Ｂ 開閉弁
４ 酸化還元電位調整剤供給装置
４Ａ 配管
４Ｂ 開閉弁
５ 導電率計
６ ＯＲＰ計
７ 冷却機構
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水
ＵＰ ユースポイント
２ 供給ライン
３ 導電性付与剤供給装置
３Ａ 配管
３Ｂ 開閉弁
４ 酸化還元電位調整剤供給装置
４Ａ 配管
４Ｂ 開閉弁
５ 導電率計
６ ＯＲＰ計
７ 冷却機構
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水
ＵＰ ユースポイント
【図1】
【図2】