(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-10
(45)【発行日】2024-06-18
(54)【発明の名称】液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び新規モノマー
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1337 20060101AFI20240611BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1337 520
G02F1/1337 525
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2020562390
(86)(22)【出願日】2019-12-26
(86)【国際出願番号】 JP2019051063
(87)【国際公開番号】W WO2020138259
(87)【国際公開日】2020-07-02
【審査請求日】2022-12-01
(31)【優先権主張番号】P 2018246263
(32)【優先日】2018-12-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100097102
【弁理士】
【氏名又は名称】吉澤 敬夫
(74)【代理人】
【識別番号】100094640
【弁理士】
【氏名又は名称】紺野 昭男
(74)【代理人】
【識別番号】100103447
【弁理士】
【氏名又は名称】井波 実
(74)【代理人】
【識別番号】100111730
【弁理士】
【氏名又は名称】伊藤 武泰
(74)【代理人】
【識別番号】100180873
【弁理士】
【氏名又は名称】田村 慶政
(72)【発明者】
【氏名】森内 正人
(72)【発明者】
【氏名】永井 健太郎
(72)【発明者】
【氏名】飯塚 祐太
(72)【発明者】
【氏名】根木 隆之
(72)【発明者】
【氏名】藤枝 司
【審査官】植田 裕美子
(56)【参考文献】
【文献】特開２００９－２８２３７７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１８／１５５６７５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／１７３７２７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１０／１５０７４８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／０７４５４８（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｆ １／１３３７
Ｃ０８Ｆ ２０／１８
Ｃ０８Ｌ ７９／０８
Ｃ０８Ｌ １０１／０２
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
（Ａ）成分として下記式（ｐａ－１）（式中、Ａは場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１～５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（これは、場合により１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されている、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、２，５－チオフェニレン、２，５－フラニレン、１，４－若しくは２，６－ナフチレン又はフェニレンを表し、
Ｘ及びＹは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１～３のアルキル基であり、
Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、
Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、
Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、
Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基であり、
Ｄは、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲｄ－（ここで、Ｒｄは、水素原子又は炭素数１～３のアルキルを表す）を表し、
ａは１～３の整数であり、＊は結合位置を表す。）
で表される光配向性基を有する重合体；及び
溶媒
を含有することを特徴とする液晶配向剤であって、
（Ｃ）成分としてポリイミド及びその前駆体から選ばれる重合体であってターシャリーブトキシカルボニル基を有する重合体をさらに含有する、上記液晶配向剤。
【化1】
【請求項2】
（Ａ）成分が、さらに熱架橋性基Ａを有する重合体であって、下記要件Ｚ１及びＺ２の少なくとも一方を満たす請求項１記載の液晶配向剤：Ｚ１：（Ａ）成分である重合体が、熱架橋性基Ｂをさらに有する。
Ｚ２：（Ｂ）成分として、分子内に２個以上の熱架橋性基Ｂを有する化合物をさらに含有する。
熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、それぞれ独立に、カルボキシル基、アミノ基、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、水酸基、エポキシ部位含有基、オキセタニル基、チイラニル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる有機基であって、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとが熱により架橋反応するように選択されてなり、ただし、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは互いに同じでもよい。
【請求項3】
前記式（ｐａ－１）で表される光配向性基を有する重合体が、下記式（ＭＡ）（式中、Ｓbは、炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ６は水素原子、炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はハロゲンで置換された炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ７は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ８は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ９は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ１０は、アルキル基の水素原子がフッ素で置換されていてもよい炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ｂは１～３の整数を表す。）で表される光配向性基を有する重合性モノマー由来である請求項１又は２に記載の液晶配向剤。【化2】
【請求項4】
前記重合性モノマーが、式（ＭＡ－１）～（ＭＡ－７）からなる群から選ばれるいずれか１種で表される重合性モノマーである請求項３に記載の液晶配向剤。【化3】
【請求項5】
請求項１～請求項４のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
【請求項6】
請求項１～請求項４のいずれか一項に記載の液晶配向剤を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜が液晶層と接触していない状態で又は液晶層と接触した状態で前記塗膜に光照射する工程と、を含む液晶配向膜の製造方法。
【請求項7】
請求項５に記載の液晶配向膜又は請求項６に記載の製造方法により得られた液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液晶配向剤、これにより得られる液晶配向膜、及び得られた液晶配向膜を具備する液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、液晶配向性が良好であり、プレチルト角発現能にも優れ、且つ高い信頼性が得られる液晶配向膜を与えることのできる液晶配向剤および表示品位に優れる液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示素子において、液晶配向膜は液晶を一定の方向に配向させるという役割を担っている。現在、工業的に使用されている主な液晶配向膜は、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸（ポリアミック酸ともいわれる）、ポリアミック酸エステルや、ポリイミドの溶液からなるポリイミド系の液晶配向剤を、基板に塗布し成膜することで作製される。
また、基板面に対して液晶を平行配向又は傾斜配向させる場合は、成膜した後、更にラビングによる表面延伸処理が行われている。
また、基板面に対して液晶を平行配向又は傾斜配向させる場合は、成膜した後、更にラビングによる表面延伸処理が行われている。
【0003】
一方、基板に対して垂直に液晶を配向させる場合（垂直配向（ＶＡ）方式と呼ばれる）は、長鎖アルキルや環状基又は環状基とアルキル基の組み合わせ（例えば特許文献１参照）、ステロイド骨格（例えば特許文献２参照）などの疎水性基をポリイミドの側鎖に導入した液晶配向膜が用いられている。この場合、基板間に電圧を印加して液晶分子が基板に平行な方向に向かって傾く際に、液晶分子が基板法線方向から基板面内の一方向に向かって傾くようにする必要がある。このための手段として、例えば、基板上に突起を設ける方法、表示用電極にスリットを設ける方法、ラビングにより液晶分子を基板法線方向から基板面内の一方向に向けてわずかに傾けておく（プレチルトさせる）方法、さらには、あらかじめ液晶組成物中に光重合性化合物を添加し、ポリイミド等の垂直配向膜と共に用いて、液晶セルに電圧を印加しながら紫外線を照射することで、液晶をプレチルトさせる方法（例えば、特許文献３参照）などが提案されている。
【0004】
近年、ＶＡ方式の液晶配向制御における突起やスリットの形成、及びＰＳＡ技術に代わるものとして偏光紫外線照射等による異方的光化学反応を利用する方法（光配向法）も提案されている。すなわち、光反応性を有する垂直配向性のポリイミド膜に、偏光紫外線照射し、配向規制能およびプレチルト角発現性を付与することにより、電圧印加時の液晶分子の傾き方向を均一に制御できることが知られている（特許文献４参照）。
【0005】
ＶＡ方式の液晶表示素子はコントラストが高い、視野角が広いといった特徴から、ＴＶや車載ディスプレイに使用されている。ＴＶ用の液晶表示素子は高輝度を得るために発熱量が大きいバックライトを使用していたり、車載用途で用いられる液晶表示素子、例えば、カーナビゲーションシステムやメーターパネルでは、長時間高温環境下で使用あるいは放置される場合がある。そのような過酷条件において、プレチルト角が徐々に変化した場合、初期の表示特性が得られなくなったり、表示にムラが発生したりなどの問題が起こる。さらに、液晶を駆動させた際の、電圧保持特性や電荷蓄積特性も液晶配向膜の影響をうけ、電圧保持率が低い場合は表示画面のコントラストが低下する、直流電圧に対する電荷の蓄積が大きい場合は表示画面が焼き付くという現象が生じる。特に、透過率を高めるために、垂直から２°以上の傾きといった比較的大きなチルト角を付与することが求められるが、光配向処理によってそのような大きなチルト角を付与しうるとともに、付与されたチルト角を安定に維持しうるような材料がこれまで存在しなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【文献】特開平３－１７９３２３号公報
【文献】特開平４－２８１４２７号公報
【文献】特許第４５０４６２６号公報
【文献】特許第４９９５２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、上記の事情に鑑みなされたものであって、その課題は、長時間駆動後でもプレチルト角の変化が少なく表示の信頼性に優れるとともに、電圧保持特性が高く、なおかつ電荷蓄積を低減しうる液晶配向膜、それを有する液晶表示素子と、それを与える液晶配向剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、以下の＜Ｘ＞を要旨とする発明を見出した。
＜Ｘ＞ （Ａ）成分として下記式（ｐａ－１）（式中、Ａは場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１～５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（これは、場合により１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されている、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、２，５－チオフェニレン、２，５－フラニレン、１，４－若しくは２，６－ナフチレン又はフェニレンを表し、Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基であり、Ｄは、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲｄ－（ここで、Ｒｄは、水素原子又は炭素数１～３のアルキルを表す）を表し、ａは０～３の整数であり、＊は結合位置を表す。）で表される光配向性基を有する重合体及び溶媒を含有することを特徴とする液晶配向剤。
＜Ｘ＞ （Ａ）成分として下記式（ｐａ－１）（式中、Ａは場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１～５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（これは、場合により１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されている、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、２，５－チオフェニレン、２，５－フラニレン、１，４－若しくは２，６－ナフチレン又はフェニレンを表し、Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基であり、Ｄは、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲｄ－（ここで、Ｒｄは、水素原子又は炭素数１～３のアルキルを表す）を表し、ａは０～３の整数であり、＊は結合位置を表す。）で表される光配向性基を有する重合体及び溶媒を含有することを特徴とする液晶配向剤。
【0009】
【化1】
【発明の効果】
【0010】
本発明により、液晶配向性が良好であり、プレチルト角発現能にも優れ、且つ長時間駆動後でもプレチルト角の変化が少なく表示の信頼性に優れる液晶配向膜ならびに液晶配向剤を提供できる。また、本発明の方法によって製造された液晶表示素子は優れた表示特性を有する。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本発明の液晶配向剤は、（Ａ）成分として下記式（ｐａ－１）で表される光配向性基を有する重合体及び溶媒を含有することを特徴とする液晶配向剤である。
【0012】
【化2】
【0013】
式中、Ａは場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１～５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（これは、場合により１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されている、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、２，５－チオフェニレン、２，５－フラニレン、１，４－若しくは２，６－ナフチレン又はフェニレンを表し、Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基であり、Ｄは、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲｄ－（ここで、Ｒｄは、水素原子又は炭素数１～３のアルキルを表す）を表し、ａは０～３の整数であり、＊は結合位置を表す。
【0014】
液晶配向剤は、（Ａ）成分が、さらに熱架橋性基Ａを有する重合体であって、下記要件Ｚ１及びＺ２の少なくとも一方を満たすものであってもよい。
Ｚ１：（Ａ）成分である重合体が、熱架橋性基Ｂをさらに有する。
Ｚ２：（Ｂ）成分として、分子内に２個以上の熱架橋性基Ｂを有する化合物をさらに含有する。
熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、それぞれ独立に、カルボキシル基、アミノ基、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、水酸基、エポキシ部位含有基、オキセタニル基、チイラニル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる有機基であって、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとが熱により架橋反応するように選択されてなり、ただし、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは互いに同じでもよい。
Ｚ１：（Ａ）成分である重合体が、熱架橋性基Ｂをさらに有する。
Ｚ２：（Ｂ）成分として、分子内に２個以上の熱架橋性基Ｂを有する化合物をさらに含有する。
熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、それぞれ独立に、カルボキシル基、アミノ基、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、水酸基、エポキシ部位含有基、オキセタニル基、チイラニル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる有機基であって、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとが熱により架橋反応するように選択されてなり、ただし、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは互いに同じでもよい。
【0015】
ここで、「分子内に２個以上」とは、例えばエポキシ基を２個以上など、同種の基を２個以上、分子内に含有する場合の他、例えばエポキシ基とチイラン基という組合せのように、異種の基を２個以上、分子内に含有する場合をも含む意である。「分子内に２個以上」は、好ましくは、同種の基を２個以上、分子内に含有するのがよい。
【0016】
本発明の液晶配向剤中に含有される（Ａ）成分である重合体は、光に対して感度が高いため、低露光量の偏光紫外線照射においても、配向制御能を発現できる。
また、（Ａ）成分である重合体が熱架橋性基Ａを含有するとともに、さらに熱架橋性基Ｂを成分中に含有する場合、液晶配向剤の焼成時間が短い場合でも（Ａ）成分である重合体を含む架橋反応が可能となる。これにより、光配向性部位が光反応により異方性を発現した際に、液晶配向膜に異方性が残存（メモリー）しやすくなるため、液晶配向性を高め、且つ液晶のプレチルト角を発現することが可能となる。
また、（Ａ）成分である重合体が熱架橋性基Ａを含有するとともに、さらに熱架橋性基Ｂを成分中に含有する場合、液晶配向剤の焼成時間が短い場合でも（Ａ）成分である重合体を含む架橋反応が可能となる。これにより、光配向性部位が光反応により異方性を発現した際に、液晶配向膜に異方性が残存（メモリー）しやすくなるため、液晶配向性を高め、且つ液晶のプレチルト角を発現することが可能となる。
【0017】
なお、上記式（ｐａ－１）で表される光配向性基、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、いずれも重合体における側鎖になりうるものであることから、必要に応じて、「側鎖」と言い換えることもできる。
以下、本発明の各構成要件、につき詳述する。
以下、本発明の各構成要件、につき詳述する。
【0018】
＜（Ａ）成分：特定重合体＞
［式（ｐａ－１）で表される光配向性基］
本発明において、分子内に上記式（ｐａ－１）で表される光配向性を有する部位は、例えば下記式（ａ－１）で表すことができる。また、該部位は、下記式（ａ－１－ｍ）で表されるモノマー由来の構造を挙げることができるがこれに限定されない。式中、Ｉａは、下記式（ｐａ－１）で表される１価の有機基である。
［式（ｐａ－１）で表される光配向性基］
本発明において、分子内に上記式（ｐａ－１）で表される光配向性を有する部位は、例えば下記式（ａ－１）で表すことができる。また、該部位は、下記式（ａ－１－ｍ）で表されるモノマー由来の構造を挙げることができるがこれに限定されない。式中、Ｉａは、下記式（ｐａ－１）で表される１価の有機基である。
【0019】
【化3】
【0020】
式（ｐａ－１）中、Ａは場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１～５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（これは、場合により１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されている、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、２，５－チオフェニレン、２，５－フラニレン、１，４－若しくは２，６－ナフチレン又はフェニレンを表し、Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基であり、Ｄは、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲｄ－（ここで、Ｒｄは、水素原子又は炭素数１～３のアルキルを表す）を表し、ａは０～３の整数であり、＊は結合位置を表す。
【0021】
上記式（ａ－１）又は（ａ－１－ｍ）中、Ｓａは、スペーサー単位を表し、Ｓａの左の結合基は、特定重合体の主鎖に、任意にスペーサーを介して結合することを示す。
Ｓａは、例えば下記式（Ｓｐ）の構造で表すことができる。
Ｓａは、例えば下記式（Ｓｐ）の構造で表すことができる。
【0022】
【化4】
【0023】
式（Ｓｐ）中、
Ｗ１の左の結合はＭｂへの結合を表し、
Ｗ３の右の結合はＩａへの結合を表し、
Ｗ１、Ｗ２及びＷ３は、それぞれ独立して、単結合、二価の複素環、－（ＣＨ２）ｎ－（式中、ｎは１～２０を表す）、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、―ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－又は－Ｃ≡Ｃ－を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２―、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－Ｏ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す）で置換することができ、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、単結合、２価のアルキル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
Ｗ１の左の結合はＭｂへの結合を表し、
Ｗ３の右の結合はＩａへの結合を表し、
Ｗ１、Ｗ２及びＷ３は、それぞれ独立して、単結合、二価の複素環、－（ＣＨ２）ｎ－（式中、ｎは１～２０を表す）、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、―ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－又は－Ｃ≡Ｃ－を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２―、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－Ｏ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す）で置換することができ、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、単結合、２価のアルキル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
【0024】
式（ａ－１－ｍ）中、Ｍａは重合性基を表す。該重合性基として、（メタ）アクリレート、フマレート、マレエート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン、（メタ）アクリルアミド及びその誘導体のラジカル重合性基、及びシロキサンを挙げることができる。好ましくは（メタ）アクリレート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、アクリルアミドであるのがよい。
ｒは、１≦ｒ≦３を満たす整数である。
Ｍｂは、単結合、（ｒ＋１）価の複素環、炭素数１～１０の直鎖状又は分岐状アルキル基、（ｒ＋１）価の芳香族基、（ｒ＋１）価の脂環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
ｒは、１≦ｒ≦３を満たす整数である。
Ｍｂは、単結合、（ｒ＋１）価の複素環、炭素数１～１０の直鎖状又は分岐状アルキル基、（ｒ＋１）価の芳香族基、（ｒ＋１）価の脂環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
【0025】
Ａ１、Ａ２、及びＭｂにおける芳香族基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレンのような炭素数６～１８の芳香族炭化水素を挙げることができる。Ａ１、Ａ２、及びＭｂにおける脂環式基としては、例えばシクロヘキサン、ビシクロヘキサンのような炭素数６～１２の脂環式炭化水素を挙げることができる。Ａ１、Ａ２、及びＭｂにおける複素環としては、例えばピリジン、ピペリジン、ピペラジン等の窒素含有複素環を挙げることができる。Ａ１、Ａ２におけるアルキル基としては、炭素数１～１０の直鎖状又は分岐状アルキル基等を挙げることができる。
【0026】
良好な垂直配向制御能と安定なプレチルト角を発現し得る観点から、上記（ｐａ－１）で表される基は、下記（ｐａ－１－ａ）で表される基であることが好ましい。また、該部位は、下記式（ｐａ－１－ｍａ）で表されるモノマー由来の構造を挙げることができるがこれに限定されない。
【0027】
【化5】
【0028】
式（ｐａ－１－ａ）又は（ｐａ－１－ｍａ）中、Ｍａ、Ｍｂ、及びＳａは、上述と同じ定義である。
また、Ｚは酸素原子、または硫黄原子である。
Ｘａ及びＸｂは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１～３のアルキル基である。
Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基である。
Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基である。
Ｒ５は炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、フッ素原子またはシアノ基、好ましくはメチル基、メトキシ基又はフッ素原子である。
ａは０～３の整数であり、ｂは０～４の整数である。
また、Ｚは酸素原子、または硫黄原子である。
Ｘａ及びＸｂは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１～３のアルキル基である。
Ｒ１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基である。
Ｒ３は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
Ｒ４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基である。
Ｒ５は炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、フッ素原子またはシアノ基、好ましくはメチル基、メトキシ基又はフッ素原子である。
ａは０～３の整数であり、ｂは０～４の整数である。
【0029】
式（ｐａ－１－ａ）又は（ｐａ－１－ｍａ）中、Ｓａの炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基として、炭素数１～８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であることが好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基が好ましい。
Ｓａの２価の芳香族基として、例えば１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，３，５，６－テトラフルオロ－１，４－フェニレン基等を挙げることができる。
Ｓａの２価の芳香族基として、例えば１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，３，５，６－テトラフルオロ－１，４－フェニレン基等を挙げることができる。
【0030】
式（ｐａ－１－ａ）又は（ｐａ－１－ｍａ）中、Ｓａの２価の脂環式基として、例えばトランス－１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
Ｓａの２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｓａは、炭素数１～８のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは炭素数１～６のアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１～４のアルキレン基であるのがよい。
Ｓａの２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｓａは、炭素数１～８のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは炭素数１～６のアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１～４のアルキレン基であるのがよい。
【0031】
Ｒ２の２価の芳香族基として、例えば１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，３，５，６－テトラフルオロ－１，４－フェニレン基、ナフチレン基等を挙げることができる。
Ｒ２の２価の脂環式基として、例えばトランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
Ｒ２の２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｒ２は、１，４－フェニレン基、トランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレンであるのがよい。
Ｒ２の２価の脂環式基として、例えばトランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
Ｒ２の２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｒ２は、１，４－フェニレン基、トランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレンであるのがよい。
【0032】
Ｒ４の炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基としては、例えば炭素数１～２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を挙げることができ、このアルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子により置換されていてもよい。かかるアルキル基の例としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ラウリル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－エイコシル基、４，４，４－トリフロロブチル基、４，４，５，５，５－ペンタフルオロペンチル、４，４，５，５，６，６，６－ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２－（パーフルオロブチル）エチル基、２－（パーフルオロオクチル）エチル基、２－（パーフルオロデシル）エチル基等を挙げることができる。
【0033】
Ｒ４の脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基としては、例えばコレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基、下記式（Ａｌｃ－１）または（Ａｌｃ－２）（式中、Ｒ７は、それぞれ、水素原子、フッ素原子または炭素数１～２０のアルキル基であり、炭素数１～２０のアルキル基はフッ素原子で置換されていてもよく、＊は結合位置を示す）で表される基等を挙げることができる。
【0034】
【化6】
【0035】
上記式（ｐａ－１－ｍａ）で表されるモノマーとしては、例えば、下記式（ＭＡ）（式中、Ｓbは、炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ６は水素原子、炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はハロゲンで置換された炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ７は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ８は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ９は－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であり、Ｒ１０は、アルキル基の水素原子がフッ素で置換されていてもよい炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ｂは０～３の整数を表す。）で表される光配向性基を有する重合性モノマーが好ましい。
【0036】
【化7】
【0037】
上記式（ｐａ－１－ｍａ）で表されるモノマーとして、式（ｐａａ－１－ｍａ１）～（ｐａａ－１－ｍａ３８）で表される構造を挙げることができるがこれらに限定されない。なお、式中、「Ｅ」は、Ｅ体であることを表し、「ｔ」は、シクロヘキシル基がトランス型であることを表す。また、式（ｐａａ－１－ｍａ１）～（ｐａａ－１－ｍａ３８）のｎおよびｍは１～１０を表す。
【0038】
【化8】
【0039】
【化9】
【0040】
これらのモノマーは、公知の反応を組み合わせることで製造することができ、具体的には、後述の「モノマー合成例」に記載の方法にて製造することができる。
【0041】
［熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂ］
熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、それぞれ独立に、カルボキシル基、アミノ基、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、水酸基、エポキシ部位含有基、オキセタニル基、チイラニル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる有機基であって、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとが熱により架橋反応するように選択されてなり、ただし、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは互いに同じでもよい。
熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは、それぞれ独立に、カルボキシル基、アミノ基、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、水酸基、エポキシ部位含有基、オキセタニル基、チイラニル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる有機基であって、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとが熱により架橋反応するように選択されてなり、ただし、熱架橋性基Ａ及び熱架橋性基Ｂは互いに同じでもよい。
【0042】
このような熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとの組み合わせとしては、一方がカルボキシル基であり、もう一方がエポキシ基、オキセタニル基またはチイラニル基である組み合わせ、一方がヒドロキシ基であり、他方がブロックイソシアネート基である組み合わせ、一方がフェノール性ヒドロキシ基であり、他方がエポキシ基、オキセタニル基またはチイラニル基である組み合わせ、一方がカルボキシル基であり、他方がブロックイソシアネート基である組み合わせ、一方がアミノ基であり、他方がブロックイソシアネート基である組み合わせ、両者がともにＮ－アルコキシメチルアミドである組み合わせなどである。より好ましい組み合わせは、カルボキシル基とエポキシ基、ヒドロキシ基とブロックイソシアネート基などである。
【0043】
かかる熱架橋性基Ａを（Ａ）成分である重合体に導入するには、熱架橋性基Ａを有するモノマーを共重合させればよい。また、本発明の液晶配向剤が要件Ｚ１を満足する場合、（Ａ）成分である重合体を製造する際に、熱架橋性基Ａを有するモノマーおよび熱架橋性基Ｂを有するモノマーの双方を共重合すればよい。
【0044】
熱架橋性基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ－（２－（アクリロイルオキシ）エチル）フタレート、モノ－（２－（メタクリロイルオキシ）エチル）フタレート、Ｎ－（カルボキシフェニル）マレイミド、Ｎ－（カルボキシフェニル）メタクリルアミド、及びＮ－（カルボキシフェニル）アクリルアミド等のカルボキシル基を有するモノマー；
【0045】
２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン２－（アクリロイルオキシ）エチルエステル、カプロラクトン２－（メタクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート、５－アクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン、及び５－メタクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン等のヒドロキシ基を有するモノマー；
【0046】
ヒドロキシスチレン、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ－（ヒドロキシフェニル）マレイミド等のフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマー；
【0047】
アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレート、及びアミノプロピルメタクリレート等のアミノ基を有するモノマー；
【0048】
Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換された（メタ）アクリルアミド化合物；
【0049】
アリルグリシジルエーテル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２－メチルグリシジル、α－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４－エポキシブチル、メタクリル酸３，４－エポキシブチル、アクリル酸６，７－エポキシヘプチル、メタクリル酸６，７－エポキシヘプチル、α－エチルアクリル酸－６，７－エポキシヘプチル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸３，４－エポキシシクロへキシルメチル、３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン、１，２－エポキシ－５－ヘキセン、１，７－オクタジエンモノエポキサイド等のエポキシ部位含有基を有するモノマー；
【0050】
３－（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２－トリフルオロメチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２－ペンタフルオロエチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２－フェニルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２，２－ジフルオロオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２，２，４－トリフルオロオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）－２，２，４，４－テトラフルオロオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２－エチルオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２－トリフルオロメチルオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２－ペンタフルオロエチルオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２－フェニルオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２，２－ジフルオロオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２，２，４－トリフルオロオキセタン、３－（２－アクリロイルオキシエチル）－２，２，４，４－テトラフルオロオキセタン等のアクリル酸エステル；３－（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２－トリフルオロメチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２－ペンタフルオロエチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２－フェニルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２，２－ジフルオロオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２，２，４－トリフルオロオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）－２，２，４，４－テトラフルオロオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２－エチルオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２－トリフルオロメチルオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２－ペンタフルオロエチルオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２－フェニルオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２，２－ジフルオロオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２，２，４－トリフルオロオキセタン、３－（２－メタクリロイルオキシエチル）－２，２，４，４－テトラフルオロオキセタン等のオキセタニル基を有するモノマー；
【0051】
２，３－エピチオプロピルアクリレートまたはメタクリレート、及び２－または３―または４－（β－エピチオプロピルチオメチル）スチレン、２－または３―または４－（β－エピチオプロピルオキシメチル）スチレン、２－または３―または４－（β－エピチオプロピルチオ）スチレン、２－または３―または４－（β－エピチオプロピルオキシ）スチレン等のチイラニル基を有するモノマー；
【0052】
アクリル酸２－（０－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ）エチル、アクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ）エチル、メタクリル酸２－（０－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ）エチル、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ）エチル等のブロックイソシアネート基を有するモノマー；等が挙げられる。なお、（メタ）アクリルアミドとは、アクリルアミドとメタクリルアミドの双方を意味する。
【0053】
また、本発明においては、特定共重合体を得る際に、上記式（ａ－１－ｍ）で表される光配向性基を有するモノマー及び熱架橋性基Ａ及び必要に応じて熱架橋性基Ｂを有するモノマーの他に、これらのモノマーと共重合可能なその他もモノマーを併用することができる。
【0054】
そのようなその他モノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、アクリルアミド等のアクリルアミド化合物、窒素含有芳香族複素環基と重合性基とを有するモノマーが挙げられる。
【0055】
アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
【0056】
メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ヘキサデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
【0057】
前記（メタ）アクリル酸アミド化合物としては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド等が挙げられる。
【0058】
前記ビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、及び３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン等が挙げられる。
【0059】
前記スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及びブロモスチレン等が挙げられる。
【0060】
前記マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
【0061】
窒素含有芳香族複素環は、下記式［Ｎ－ａ］～［Ｎ－ｂ］（式中、Ｚ２は炭素数１～５の直鎖または分岐アルキル基である）からなる群から選ばれる構造を少なくとも１個、好ましくは１個～４個含有する芳香族環式炭化水素であるのがよい。
【0062】
【化10】
【0063】
具体的には、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、１－ピラゾリン環、イソキノリン環、チアジアゾール環、ピリダジン環、トリアジン環、ピラジン環、フェナントロリン環、キノキサリン環、ベンゾチアゾール環、オキサジアゾール環、アクリジン環などを挙げることができる。さらに、これら窒素含有芳香族複素環の炭素原子には、ヘテロ原子を含む置換基を有していてもよい。これらのうち、例えば、ピリジン環が挙げられる。
【0064】
窒素含有芳香族複素環基と重合性基とを有するモノマーとして、例えば、２－（２－ピリジルカルボニルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２－（３－ピリジルカルボニルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２－（４－ピリジルカルボニルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【0065】
本発明に用いるその他のモノマーは１種類単独で用いてもよく、また２種以上のモノマーを組合せて用いてもよい。
【0066】
本発明の液晶配向剤の（Ａ）成分である重合体に含有させる上記式（ｐａ－１）で表される光反応性の部位は１種類単独で用いてもよく、また２種以上の部位を組合せて用いてもよい。
【0067】
上記式（ｐａ－１）で表される光反応性の部位は、（Ａ）成分である重合体の全繰り返し単位の５～１００ｍｏｌ％、１０～６０ｍｏｌ％、又は１５～５０ｍｏｌ％の割合で含有されることが好ましい。
【0068】
本発明の重合体に熱架橋性基を含有させる場合、熱架橋性基を有する部位は熱架橋性基Ａを単独で用いてもよく、また熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂを含む２種以上の部位を組合せて用いてもよい。
【0069】
熱架橋性基を有する部位を導入する場合の導入量は、（Ａ）成分である重合体の全繰り返し単位の５～９５ｍｏｌ％、１０～７０ｍｏｌ％、又は１５～５０ｍｏｌ％であることが好ましい。
【0070】
上記その他のモノマー由来の構造の含有量は、（Ａ）成分である重合体の全繰り返し単位の０～６０ｍｏｌ％、０～４０ｍｏｌ％、又は０～２０ｍｏｌ％含まれることが好ましい。
【0071】
＜特定重合体の製造方法＞
本発明の液晶配向剤に含有される（Ａ）成分の特定重合体は、上記の式（ｐａ－１）で表される光配向性基を有するモノマー、所望により上記の熱架橋性基Ａを有するモノマー、及び、所望により上記の熱架橋性基Ｂを有するモノマーを共重合することによって得られる。また、上記その他のモノマーと共重合することができる。
本発明の液晶配向剤に含有される（Ａ）成分の特定重合体は、上記の式（ｐａ－１）で表される光配向性基を有するモノマー、所望により上記の熱架橋性基Ａを有するモノマー、及び、所望により上記の熱架橋性基Ｂを有するモノマーを共重合することによって得られる。また、上記その他のモノマーと共重合することができる。
【0072】
本発明における（Ａ）成分の特定重合体の製造方法については、特に限定されるものではなく、工業的に扱われている汎用な方法が利用できる。具体的には、モノマーのビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、アニオン重合により製造することができる。これらの中では反応制御のしやすさなどの観点からラジカル重合が特に好ましい。
ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤や、可逆的付加－開裂型連鎖移動（ＲＡＦＴ）重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤や、可逆的付加－開裂型連鎖移動（ＲＡＦＴ）重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
【0073】
ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ケトンパーオキサイド類（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ジアシルパーオキサイド類（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド類（過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド類（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシケタール類（ジブチルパーオキシシクロヘキサン等）、アルキルパーエステル類（パーオキシネオデカン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシピバリン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシ ２－エチルシクロヘキサン酸－ｔｅｒｔ－アミルエステル等）、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、および２，２’－ジ（２－ヒドロキシエチル）アゾビスイソブチロニトリル等）が挙げられる。
【0074】
このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【0075】
ラジカル光重合開始剤は、ラジカル重合を光照射によって開始する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン等、公知の化合物を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、２つ以上を混合して使用することもできる。
ラジカル重合法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。
ラジカル重合法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。
【0076】
（Ａ）成分の特定重合体の重合反応に用いる溶媒としては、生成した高分子が溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述の＜溶媒＞の項に記載の溶媒、例えば、Ｎ－アルキル－２－ピロリドン類、ジアルキルイミダゾリジノン類、ラクトン類、カーボネート類、ケトン類、式（Ｓｖ－１）で表される化合物及び式（Ｓｖ－２）で表される化合物、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
これら溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、生成する高分子を溶解させない溶媒であっても、生成した高分子が析出しない範囲で、上述の溶媒に混合して使用してもよい。
また、ラジカル重合において溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
これら溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、生成する高分子を溶解させない溶媒であっても、生成した高分子が析出しない範囲で、上述の溶媒に混合して使用してもよい。
また、ラジカル重合において溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
【0077】
ラジカル重合の際の重合温度は３０～１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは５０～１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、モノマー濃度は、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは５～３０質量％であるのがよい。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。
上述のラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して０．１～１０ｍｏｌ％であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤などを追加することもできる。
上述のラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して０．１～１０ｍｏｌ％であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤などを追加することもできる。
【0078】
［重合体の回収］
上述の反応により得られた反応溶液から、生成した高分子を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、それら重合体を沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等を挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２回～１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
上述の反応により得られた反応溶液から、生成した高分子を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、それら重合体を沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等を挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２回～１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
【0079】
（Ａ）成分の特定重合体の分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、および塗膜の均一性を考慮した場合、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）法で測定した重量平均分子量が、２０００～１００００００が好ましく、より好ましくは、５０００～１０００００である。
【0080】
＜（Ｂ）成分＞
本発明に用いられる液晶配向剤が要件Ｚ２を満たす場合には、（Ｂ）成分として架橋剤を含有する。（Ｂ）成分としては、熱架橋性基Ｂを２個以上有する架橋剤が挙げられる。
本発明に用いられる液晶配向剤が要件Ｚ２を満たす場合には、（Ｂ）成分として架橋剤を含有する。（Ｂ）成分としては、熱架橋性基Ｂを２個以上有する架橋剤が挙げられる。
【0081】
（Ｂ）成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、アミノ基を２個以上有する化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、フェノプラスト化合物、ブロックイソシアネート化合物等の低分子化合物、Ｎ－アルコキシメチルアクリルアミドの重合体、エポキシ基を有する化合物の重合体、イソシアネート基を有する化合物の重合体等の重合体が挙げられる。
【0082】
上述したエポキシ化合物の具体例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２－ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６－テトラグリシジル－２，４－ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４、４’－ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
【0083】
アミノ基を２個以上有する化合物の例としては、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、芳香族－脂肪族ジアミン、脂肪族ジアミン等のジアミンが挙げられる。
【0084】
脂環式ジアミン類の例としては、１，４－ジアミノシクロヘキサン、１，３－ジアミノシクロヘキサン、４，４’－ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジシクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン等が挙げられる。
【0085】
芳香族ジアミン類の例としては、ｏ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン、２，４－ジアミノトルエン、２，５－ジアミノトルエン、３，５－ジアミノトルエン、１，４－ジアミノ－２－メトキシベンゼン、２，５－ジアミノ－ｐ－キシレンおよび１，３－ジアミノ－４－クロロベンゼンなどが挙げられる。
【0086】
芳香族－脂肪族ジアミンの例としては、３－アミノベンジルアミン、４－アミノベンジルアミン、３－アミノ－Ｎ－メチルベンジルアミン、４－アミノ－Ｎ－メチルベンジルアミン、３－アミノフェネチルアミン、４－アミノフェネチルアミン、３－アミノ－Ｎ－メチルフェネチルアミン、４－アミノ－Ｎ－メチルフェネチルアミン、３－（３－アミノプロピル）アニリン、４－（３－アミノプロピル）アニリン、３－（３－メチルアミノプロピル）アニリン、４－（３－メチルアミノプロピル）アニリン、３－（４－アミノブチル）アニリン、４－（４－アミノブチル）アニリン、３－（４－メチルアミノブチル）アニリン、４－（４－メチルアミノブチル）アニリン、３－（５－アミノペンチル）アニリン、４－（５－アミノペンチル）アニリン、３－（５－メチルアミノペンチル）アニリン、４－（５－メチルアミノペンチル）アニリン、２－（６－アミノナフチル）メチルアミン、３－（６－アミノナフチル）メチルアミン、２－（６－アミノナフチル）エチルアミン、３－（６－アミノナフチル）エチルアミンなどが挙げられる。
【0087】
脂肪族ジアミン類の例としては、１，２－ジアミノエタン、１，３－ジアミノプロパン、１，４－ジアミノブタン、１，５－ジアミノペンタン、１，６－ジアミノヘキサン、１，７－ジアミノヘプタン、１，８－ジアミノオクタン、１，９－ジアミノノナン、１，１０－ジアミノデカン、１，３－ジアミノ－２，２－ジメチルプロパン、１，６－ジアミノ－２，５－ジメチルヘキサン、１，７－ジアミノ－２，５－ジメチルヘプタン、１，７－ジアミノ－４，４－ジメチルヘプタン、１，７－ジアミノ－３－メチルヘプタン、１，９－ジアミノ－５－メチルヘプタンなどが挙げられる。
【0088】
メチロール化合物の具体例としては、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、及びアルコキシメチル化メラミン等の化合物が挙げられる。
【0089】
アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、１，３，４，６－テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ブトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ヒドロキシメチル）グリコールウリル、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（ブトキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（メトキシメチル）尿素、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）－４，５－ジヒドロキシ－２－イミダゾリノン、および１，３－ビス（メトキシメチル）－４，５－ジメトキシ－２－イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製グリコールウリル化合物（商品名：サイメル（登録商標）１１７０、パウダーリンク（登録商標）１１７４）等の化合物、メチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）６５）、ブチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）３００、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｓ６０、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｒ、Ｕ－ＶＡＮ１１ＨＶ）、ＤＩＣ（株）製尿素／ホルムアルデヒド系樹脂（高縮合型、商品名：ベッカミン（登録商標）Ｊ－３００Ｓ、同Ｐ－９５５、同Ｎ）等が挙げられる。
【0090】
アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製（商品名：サイメル（登録商標）１１２３）、（株）三和ケミカル製（商品名：ニカラック（登録商標）ＢＸ－４０００、同ＢＸ－３７、同ＢＬ－６０、同ＢＸ－５５Ｈ）等が挙げられる。
【0091】
アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：サイメル（登録商標）３００、同３０１、同３０３、同３５０）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：マイコート（登録商標）５０６、同５０８）、三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＷ－３０、同ＭＷ－２２、同ＭＷ－１１、同ＭＳ－００１、同ＭＸ－００２、同ＭＸ－７３０、同ＭＸ－７５０、同ＭＸ－０３５）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＸ－４５、同ＭＸ－４１０、同ＭＸ－３０２）等が挙げられる。
【0092】
また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第６３２３３１０号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）３０３（三井サイテック（株）製）等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）１１２３（三井サイテック（株）製）等が挙げられる。
【0093】
イソシアネート化合物の具体例としては、例えば、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｂ１３５８／１００、ＶＥＳＴＡＧＯＮ ＢＦ １５４０（以上、イソシアヌレート型変性ポリイソシアネート、デグサジャパン（株）製）、タケネート（登録商標）Ｂ－８８２Ｎ、同Ｂ－７０７５（以上、イソシアヌレート型変性ポリイソシアネート、三井化学（株）製）等が挙げられる。
【0094】
フェノプラスト化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、フェノプラスト化合物は以下の化合物例に限定されるものではない。
【0095】
【化11】
【0096】
前記分子末端にヒドロキシアルキルアミド基を２個以上有する化合物の具体的な例としては、例えば下記の化合物やPrimid XL-552、Primid SF-4510が挙げられる。
【0097】
【化12】
【0098】
ブロックイソシアネート化合物としては、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ－５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８２０ＮＳＵ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８４６Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）等を挙げることができる。
【0099】
さらに、上述したＮ－アルコキシメチルアクリルアミドの重合体としては、例えば、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物又はメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
【0100】
そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド）、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、Ｎ－ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、Ｎ－エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びＮ－ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと２－ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
【0101】
エポキシ基を有する化合物の重合体としては、例えば、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等のエポキシ基を有する化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
【0102】
そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）、ポリ（グリシジルメタクリレート）、グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
【0103】
上述したイソシアネート基を有する化合物の重合体としては、例えば、２－イソシアナトエチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ［登録商標］、昭和電工（株）製）、２－イソシアナトエチルアクリレート（カレンズＡＯＩ［登録商標］、昭和電工（株）製）等のイソシアネート基を有する化合物、または２－（０－［１’－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ－ＢＭ［登録商標］、昭和電工（株）製）、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ－ＢＰ［登録商標］、昭和電工（株）製）等のブロックイソシアネート基を有する化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
【0104】
そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（２－イソシアナトエチルアクリレート）、ポリ（２－（０－［１’－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート）、２－イソシアナトエチルメタクリレートとスチレンとの共重合体、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
【0105】
これらの架橋剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【0106】
本発明に用いる液晶配向剤に（Ｂ）成分の架橋剤を含有させる場合の含有量は、（Ａ）成分である樹脂の１００質量部に基づいて１質量部乃至１００質量部であることが好ましく、より好ましくは１質量部乃至８０質量部である。
【0107】
［液晶配向剤の調製］
本発明に用いられる液晶配向剤は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明の液晶配向剤は、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、その樹脂成分とは、既に説明した（Ａ）成分である特定重合体および（Ｂ）成分である重合体である。その際、（Ａ）成分の特定重合体の含有量と（Ｂ）成分である重合体の含有量との合計は、液晶配向剤全体に対して０．５～２０質量％が好ましく、より好ましくは１～２０質量％、さらに好ましくは１～１５質量％、特に好ましくは１～１０質量％であるのがよい。
本発明に用いられる液晶配向剤は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明の液晶配向剤は、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、その樹脂成分とは、既に説明した（Ａ）成分である特定重合体および（Ｂ）成分である重合体である。その際、（Ａ）成分の特定重合体の含有量と（Ｂ）成分である重合体の含有量との合計は、液晶配向剤全体に対して０．５～２０質量％が好ましく、より好ましくは１～２０質量％、さらに好ましくは１～１５質量％、特に好ましくは１～１０質量％であるのがよい。
【0108】
＜（Ｃ）成分＞
本発明の液晶配向剤は、（Ｃ）成分として、ポリイミド及びその前駆体から選ばれる重合体であって、垂直配向性基及びターシャリーブトキシカルボニル基から選ばれる少なくとも１つの基を有するか、化学的イミド化されているかの少なくとも一方である重合体を含有させることができる。
本発明の液晶配向剤は、（Ｃ）成分として、ポリイミド及びその前駆体から選ばれる重合体であって、垂直配向性基及びターシャリーブトキシカルボニル基から選ばれる少なくとも１つの基を有するか、化学的イミド化されているかの少なくとも一方である重合体を含有させることができる。
【0109】
本発明の液晶配向剤は、（Ｃ）成分である重合体を含有することにより、電圧保持率向上や残留電荷蓄積抑制等の電気特性の更なる向上を図ることができる。
【0110】
かかる（Ｃ）成分の重合体は、ポリイミド及びその前駆体（以下、ポリイミド成分ともいう）であって、（Ａ）成分である重合体と表面エネルギーが近い成分である。（Ａ）成分のようなアクリル成分は基本的に極性が低く、表面エネルギーが低い。一方、ポリイミド成分は極性が高く、表面エネルギーが高い。しかし、この二成分の表面エネルギーの差異が大きすぎると、うまく相溶せず凝集が発生することにより、凹凸のある膜ができたり、ハジキやムラが発生することによりプロセスマージンが狭くなってしまうといった問題を生じる恐れがある。そこで、ポリイミド成分の極性を低くすることにより、表面エネルギーをアクリル成分よりは高いものの、差異が小さい値に制御することができる。ポリイミド成分の極性を下げる方法として、化学的イミド化をしたのちに（Ａ）成分と混ぜる方法や、側鎖を導入する方法がある。
【0111】
そのような重合体としては、公知のテトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸誘導体と公知のジアミンとを重合したのち、化学的イミド化して得られる重合体、側鎖を有するジアミンを用いて得られるポリイミド前駆体、それをイミド化して得られるポリイミド、ターシャリーブトキシカルボニルオキシ基を有するジアミンを用いて得られるポリイミド前駆体、それをイミド化して得られるポリイミドなどが挙げられる。このような側鎖や化学的イミド化により、表面エネルギーを（Ａ）成分であるアクリルポリマーに近づけることができるため、液晶配向剤を塗布、焼成して硬化膜を形成した際に、凝集等が起こらず、平坦な硬化膜を与えることができる。側鎖を有するジアミンとしては、国際特許出願公開ＷＯ２０１６／１２５８７０の段落［００２３］～［００３９］に記載の、式（２）、（３）、（４）、（５）で表されるジアミン及びその具体例としての式［Ａ－１］～［Ａ－３２］で表されるジアミンが挙げられる。ターシャリーブトキシカルボニルオキシ基を有するジアミンとしては、国際特許出願公開ＷＯ２０１７／１１９４６１の段落［００１１］～［００３４］に記載の式［Ａ－１］、［Ａ－２］、［Ａ－３］の構造を有するジアミンおよびその具体例として例示されているジアミンが挙げられる。
【0112】
本発明の液晶配向剤に（Ｃ）成分である重合体を含有させる場合の含有比率は、（Ａ）成分：（Ｃ）成分の質量比が５：９５～９５：５であることが好ましく、１０：９０～９０：１０であることがさらに好ましく、２０：８０～６０：４０であることがさらに好ましい。
【0113】
＜溶媒＞
本発明に用いられる液晶配向剤に含有する溶媒は、（Ａ）成分、必要に応じて（Ｂ）成分及び必要に応じて（Ｃ）成分を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。液晶配向剤に含有する溶媒は１種でも良く、２種類以上混合して使用しても良い。また、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒でなくとも、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒と併用することができる。この場合、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させない溶媒の表面エネルギーが（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒よりも低いと、液晶配向剤の基板への塗布性を良くすることができるため好ましい。
本発明に用いられる液晶配向剤に含有する溶媒は、（Ａ）成分、必要に応じて（Ｂ）成分及び必要に応じて（Ｃ）成分を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。液晶配向剤に含有する溶媒は１種でも良く、２種類以上混合して使用しても良い。また、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒でなくとも、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒と併用することができる。この場合、（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させない溶媒の表面エネルギーが（Ａ）成分や（Ｂ）成分を溶解させる溶媒よりも低いと、液晶配向剤の基板への塗布性を良くすることができるため好ましい。
【0114】
具体例として、水、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドンなどのＮ － アルキル－２－ピロリドン類、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルカプロラクタム、テトラメチル尿素、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなどのジアルキルイミダゾリジノン類、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトンなどのラクトン類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、イソアミルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンなどのケトン類、下記式（Ｓｖ－１）で表される化合物及び下記式（Ｓｖ－２）で表される化合物、酢酸４－メチル－２－ペンチル、酢酸２－エチルブチル、酢酸２－エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸２－メチルシクロヘキシル、酪酸ブチル、酪酸イソアミル、ジイソブチルカルビノール、ジイソペンチルエーテル等をあげることができる。
【0115】
【化13】
【0116】
式（Ｓｖ－１）～（Ｓｖ－２）中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～６の１価の炭化水素基であり、Ｘ１は酸素原子又は－ＣＯＯ－であり、Ｘ２は単結合又はカルボニル基であり、Ｒ１は炭素数２～４のアルカンジイル基である。ｎ１は１～３の整数である。ｎ１が２又は３の場合、複数のＲ１は同じでも異なっていてもよい。Ｚ１は炭素数１～６の２価の炭化水素基であり、Ｙ３及びＹ４はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～６の１価の炭化水素基である）等が挙げられる。
【0117】
式（Ｓｖ－１）中、Ｙ１及びＹ２の炭素数１～６の１価の炭化水素基として、例えば炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基、炭素数１～６の１価の脂環式炭化水素基及び炭素数１～６の１価の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基としては、炭素数１～６のアルキル基等を挙げることができる。Ｒ１のアルカンジイル基は直鎖状でも分岐状でもよい。
【0118】
式（Ｓｖ－２）中、Ｚ１の炭素数１～６の２価の炭化水素基として、例えば炭素数１～６のアルカンジイル基等を挙げることができる。
Ｙ３及びＹ４の炭素数１～６の１価の炭化水素基としては、炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基、炭素数１～６の１価の脂環式炭化水素基及び炭素数１～６の１価の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基としては炭素数１～６のアルキル基などが挙げられる。
Ｙ３及びＹ４の炭素数１～６の１価の炭化水素基としては、炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基、炭素数１～６の１価の脂環式炭化水素基及び炭素数１～６の１価の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭素数１～６の１価の鎖状炭化水素基としては炭素数１～６のアルキル基などが挙げられる。
【0119】
式（Ｓｖ－１）で表される溶媒の具体例としては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｉ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングルコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、エチレングリコール、１，４－ブタンジオール、３－メトキシブチルアセテート、３－エトキシブチルアセタート等を；
（Ｓｖ－２）で表される溶媒の具体例としては、例えばグリコール酸メチル、グリコール酸エチル、グリコール酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸イソアミル、エチル－３－エトキシプロピオネート、メチル－３－メトキシプロピオネート、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチルなどをそれぞれ挙げることができる。
（Ｓｖ－２）で表される溶媒の具体例としては、例えばグリコール酸メチル、グリコール酸エチル、グリコール酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸イソアミル、エチル－３－エトキシプロピオネート、メチル－３－メトキシプロピオネート、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチルなどをそれぞれ挙げることができる。
【0120】
前記溶媒としては沸点が８０～２００℃にあることが好ましい。より好ましくは、８０℃～１８０℃であり、好ましい溶媒として、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、テトラメチル尿素、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロパノール、イソプロパノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、エチルアミルケトン、メチルエチルケトン、イソアミルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、酢酸４－メチル－２－ペンチル、酢酸２－エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸２－メチルシクロヘキシル、酪酸ブチル、酪酸イソアミル、ジイソブチルカルビノール、ジイソペンチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｉ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングルコールモノアセタート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、 プロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシブチルアセテート、グリコール酸メチル、グリコール酸エチル、グリコール酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸イソアミル、エチル－３－エトキシプロピオネート、メチル－３－メトキシプロピオネート、３－メトキシプロピオン酸エチル、等を挙げることができる。
沸点がこの範囲であることは、特に、前記溶媒を含む液晶配向剤が後述するプラスチック基板上に塗布される場合に好ましい。
沸点がこの範囲であることは、特に、前記溶媒を含む液晶配向剤が後述するプラスチック基板上に塗布される場合に好ましい。
【0121】
＜他の成分＞
本発明に用いられる液晶配向剤は、上記（Ａ）成分、必要に応じて（Ｂ）成分及び必要に応じて上記（Ｃ）成分以外の他の成分を含有してもよい。このような他の成分としては、架橋触媒や、液晶配向剤を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物、等を挙げることができるが、これに限定されない。
本発明に用いられる液晶配向剤は、上記（Ａ）成分、必要に応じて（Ｂ）成分及び必要に応じて上記（Ｃ）成分以外の他の成分を含有してもよい。このような他の成分としては、架橋触媒や、液晶配向剤を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物、等を挙げることができるが、これに限定されない。
【0122】
＜架橋触媒＞
本発明に用いられる液晶配向剤に、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとの反応を促進させる目的で、架橋触媒を添加してもよい。このような架橋触媒としては、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸またはその水和物や塩等が挙げられる。熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トルエンスルホネート、Ｎ－エチル－ｐ－トルエンスルホンアミド等が挙げられる。
本発明に用いられる液晶配向剤に、熱架橋性基Ａと熱架橋性基Ｂとの反応を促進させる目的で、架橋触媒を添加してもよい。このような架橋触媒としては、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸またはその水和物や塩等が挙げられる。熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トルエンスルホネート、Ｎ－エチル－ｐ－トルエンスルホンアミド等が挙げられる。
【0123】
［膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物］
膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
具体的には、例えば、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－３０（ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。
これらの界面活性剤の使用割合は、重合体組成物に含有される樹脂成分の１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部～２質量部、より好ましくは０．０１質量部～１質量部である。
膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
具体的には、例えば、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－３０（ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。
これらの界面活性剤の使用割合は、重合体組成物に含有される樹脂成分の１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部～２質量部、より好ましくは０．０１質量部～１質量部である。
【0124】
［液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物］
液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、次に示す官能性シラン含有化合物などが挙げられる。
例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ－トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０－トリメトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、１０－トリエトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、９－トリメトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、９－トリエトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ系シラン含有化合物が挙げられる。
液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、次に示す官能性シラン含有化合物などが挙げられる。
例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ－トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０－トリメトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、１０－トリエトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、９－トリメトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、９－トリエトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ系シラン含有化合物が挙げられる。
【0125】
基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、重合体組成物に含有される樹脂成分１００質量部に対して０．１質量部～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１質量部～２０質量部である。
【0126】
ある実施形態において、光配向性基の光反応性を向上させるために添加剤として、光増感剤を用いることもできる。具体例として、芳香族２－ヒドロキシケトン（ベンゾフェノン）、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、およびアセトフェノンケタール等を挙げることができる。
【0127】
＜液晶配向膜及び液晶表示素子＞
本発明の液晶配向剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、又は一部の垂直配向用途などでは配向処理無しで液晶配向膜とすることができる。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂フィルム、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル及びトリアセチルセルロースなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。
基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム－酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３－ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができる。
本発明の液晶配向剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、又は一部の垂直配向用途などでは配向処理無しで液晶配向膜とすることができる。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂フィルム、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル及びトリアセチルセルロースなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。
基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム－酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３－ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができる。
【0128】
＜塗膜形成工程＞
本発明の液晶配向剤の塗布方法は特に限定されないが、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット、ディップコーティング、ロールコーティング、スリットコーティング、スピンコーティングなどがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。これらの方法により基板上に塗布した後、ホットプレートなどの加熱手段により溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させることができる。
本発明の液晶配向剤の塗布方法は特に限定されないが、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット、ディップコーティング、ロールコーティング、スリットコーティング、スピンコーティングなどがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。これらの方法により基板上に塗布した後、ホットプレートなどの加熱手段により溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させることができる。
【0129】
液晶配向剤を塗布した後の焼成は、４０～３００℃の任意の温度で行うことができるが、好ましくは４０℃～２５０℃であり、より好ましくは４０℃～２３０℃である。
基板上に形成される塗膜の膜厚は、好ましくは５～１，０００ｎｍであり、より好ましくは１０～５００ｎｍ又は１０～３００ｎｍである。この焼成はホットプレート、熱風循環炉、赤外線炉などで行うことができる。
ラビング処理には、レーヨン布、ナイロン布、コットン布などを使用することができる。
基板上に形成される塗膜の膜厚は、好ましくは５～１，０００ｎｍであり、より好ましくは１０～５００ｎｍ又は１０～３００ｎｍである。この焼成はホットプレート、熱風循環炉、赤外線炉などで行うことができる。
ラビング処理には、レーヨン布、ナイロン布、コットン布などを使用することができる。
【0130】
＜光照射工程＞
ある実施形態において光照射による配向処理を行ってもよく、例えば上記の液晶配向剤を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜が液晶層と接触していない状態で又は液晶層と接触した状態で前記塗膜に光照射する工程とを含んでもよい。
ある実施形態において光照射による配向処理を行ってもよく、例えば上記の液晶配向剤を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜が液晶層と接触していない状態で又は液晶層と接触した状態で前記塗膜に光照射する工程とを含んでもよい。
【0131】
光照射による配向処理で照射する光としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線、可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光は偏光であっても非偏光であってもよい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。
【0132】
光の照射は、用いる光が偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光を照射する場合には、基板面に対して斜めの方向から行うことが好ましい。
光の照射量は、０．１ｍＪ／ｃｍ２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ２未満とすることが好ましく、１～５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましく、２～２００ｍＪ／ｃｍ２とすることがさらに好ましい。
光の照射量は、０．１ｍＪ／ｃｍ２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ２未満とすることが好ましく、１～５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましく、２～２００ｍＪ／ｃｍ２とすることがさらに好ましい。
【0133】
本発明の液晶表示素子は通常の方法により作製することができ、その作製方法は特に限定されるものではない。 上記一対の基板が、適正なギャップを介して対向し、基板間に挟持される液晶の厚さを均一とする目的で、基板間にスペーサーを配置することが好ましい。このスペーサーとしては、旧来からの散布型スペーサー、感光性のスペーサー形成用組成物から形成されたスペーサーなどの公知のスペーサー材料を使用することができるほか、液晶硬化物からなる層に形成した凹凸をスペーサーとして使用することも可能である。
【0134】
＜液晶挟持工程＞
基板間に液晶を挟持して液晶セルを構成するには、例えば以下の２つの方法を挙げることができる。第１の方法として、各液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して一対の基板を対向配置し、該一対の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面および適当なシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造する方法を挙げることができる。
基板間に液晶を挟持して液晶セルを構成するには、例えば以下の２つの方法を挙げることができる。第１の方法として、各液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して一対の基板を対向配置し、該一対の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面および適当なシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造する方法を挙げることができる。
【0135】
第２の方法として、液晶配向膜を形成した２枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数カ所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造する方法（ＯＤＦ（One Drop Fill）法）を挙げることができる。
【0136】
液晶としては、用途に応じて正や負の誘電率異方性を有するフッ素系液晶やシアノ系液晶、また加熱および光照射のうちの少なくとも１種の処理によって重合する液晶化合物または液晶組成物（以下、重合性液晶又は硬化性液晶組成物ともいう）を用いても良い。
ある実施形態において、前記液晶配向剤の塗膜を形成する工程が、ロール・ツー・ロール方式によって行われてもよい。ロール・ツー・ロール方式によって行われると、液晶表示素子の製造工程を簡略化し、製造コストを削減することが可能となる。
そして、前記液晶セルの外側両面に偏光板を貼付することにより、液晶表示素子を得ることができる。
ある実施形態において、前記液晶配向剤の塗膜を形成する工程が、ロール・ツー・ロール方式によって行われてもよい。ロール・ツー・ロール方式によって行われると、液晶表示素子の製造工程を簡略化し、製造コストを削減することが可能となる。
そして、前記液晶セルの外側両面に偏光板を貼付することにより、液晶表示素子を得ることができる。
【0137】
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
上記のようにして本発明の液晶配向剤から得られる液晶配向膜は、液晶配向性が良好であり、プレチルト角発現能にも優れ、且つ高い信頼性が得られる。また、本発明の方法によって製造された液晶表示素子は優れた表示特性を有する。
上記のようにして本発明の液晶配向剤から得られる液晶配向膜は、液晶配向性が良好であり、プレチルト角発現能にも優れ、且つ高い信頼性が得られる。また、本発明の方法によって製造された液晶表示素子は優れた表示特性を有する。
【実施例】
【0138】
実施例で使用した略号は以下の通りである。
＜メタクリルモノマー＞
（光配向性モノマー）
＜メタクリルモノマー＞
（光配向性モノマー）
【0139】
【化14】
【0140】
ＭＡ－１～ＭＡ－７は、文献等未公開の新規化合物であり、以下のモノマー合成例１～７でその合成法を詳述する。
ＭＡ－８は特許文献（ＷＯ－２０１７１１５７９０ ）に記載の合成法にて合成した。
ＭＡ－９は特許文献（ＷＯ－２０１７１１５７９０ ）に記載の合成法にて合成した。
ＭＡ－８は特許文献（ＷＯ－２０１７１１５７９０ ）に記載の合成法にて合成した。
ＭＡ－９は特許文献（ＷＯ－２０１７１１５７９０ ）に記載の合成法にて合成した。
【0141】
実施例等で使用した有機溶媒の略号は以下の通りである。
ＮＭＰ： Ｎ－メチル－２－ピロリドン。
ＢＣＳ： ブチルセロソルブ。
ＴＨＦ： テトラヒドロフラン。
ＤＭＡｃ： Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド。
ＰｈＭｅ：トルエン。
ＣＨＣｌ２：塩化メチレン。
ＭｅＣＮ：アセトニトリル。
ＮＭＰ： Ｎ－メチル－２－ピロリドン。
ＢＣＳ： ブチルセロソルブ。
ＴＨＦ： テトラヒドロフラン。
ＤＭＡｃ： Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド。
ＰｈＭｅ：トルエン。
ＣＨＣｌ２：塩化メチレン。
ＭｅＣＮ：アセトニトリル。
【0142】
＜１ＨＮＭＲの測定＞
装置：フーリエ変換型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ－ＮＭＲ）「ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ」（ＢＲＵＫＥＲ製）５００ＭＨｚ。
溶媒：重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）又は重水素化Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホキシド（［Ｄ６］－ＤＭＳＯ）。
標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）。
装置：フーリエ変換型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ－ＮＭＲ）「ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ」（ＢＲＵＫＥＲ製）５００ＭＨｚ。
溶媒：重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）又は重水素化Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホキシド（［Ｄ６］－ＤＭＳＯ）。
標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）。
【0143】
（極性モノマー）
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＭＡＡ：メタクリル酸
【0144】
【化15】
【0145】
（架橋性モノマー）
ＧＭＡ：メタクリル酸グリシジル
ＧＭＡ：メタクリル酸グリシジル
【0146】
【化16】
【0147】
（イソシアネートモノマー）
ＭＯＩ－ＢＰ：２－［（３，５－ジメチル－１－ピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート
ＭＯＩ－ＢＰ：２－［（３，５－ジメチル－１－ピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート
【0148】
【化17】
【0149】
＜テトラカルボン酸二無水物モノマー＞
Ａ１：下記の式［Ａ１］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ２：下記の式［Ａ２］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ３：下記の式［Ａ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ４：下記の式［Ａ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ５：下記の式［Ａ５］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ６：下記の式［Ａ６］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ７：下記の式［Ａ７］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ８：下記の式［Ａ８］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ１：下記の式［Ａ１］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ２：下記の式［Ａ２］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ３：下記の式［Ａ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ４：下記の式［Ａ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ５：下記の式［Ａ５］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ６：下記の式［Ａ６］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ７：下記の式［Ａ７］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ａ８：下記の式［Ａ８］で示されるテトラカルボン酸二無水物
【0150】
【化18】
【0151】
＜側鎖ジアミンモノマー＞
Ｂ１：下記の式［Ｂ１］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ２：下記の式［Ｂ２］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ３：下記の式［Ｂ３］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ４：下記の式［Ｂ４］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ５：下記の式［Ｂ５］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ６：下記の式［Ｂ６］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ７：下記の式［Ｂ７］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ８：下記の式［Ｂ８］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ９：下記の式［Ｂ９］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１０：下記の式［Ｂ１０］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１１：下記の式［Ｂ１１］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１２：下記の式［Ｂ１２］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１３：下記の式［Ｂ１３］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１４：下記の式［Ｂ１４］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１：下記の式［Ｂ１］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ２：下記の式［Ｂ２］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ３：下記の式［Ｂ３］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ４：下記の式［Ｂ４］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ５：下記の式［Ｂ５］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ６：下記の式［Ｂ６］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ７：下記の式［Ｂ７］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ８：下記の式［Ｂ８］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ９：下記の式［Ｂ９］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１０：下記の式［Ｂ１０］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１１：下記の式［Ｂ１１］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１２：下記の式［Ｂ１２］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１３：下記の式［Ｂ１３］で示される側鎖ジアミンモノマー
Ｂ１４：下記の式［Ｂ１４］で示される側鎖ジアミンモノマー
【0152】
【化19】
【0153】
【化20】
【0154】
＜その他ジアミンモノマー＞
Ｃ１：下記の式［Ｃ１］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ２：下記の式［Ｃ２］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ３：下記の式［Ｃ３］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ４：下記の式［Ｃ４］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ５：下記の式［Ｃ５］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ６：下記の式［Ｃ６］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ７：下記の式［Ｃ７］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ８：下記の式［Ｃ８］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ９：下記の式［Ｃ９］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１０：下記の式［Ｃ１０］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１１：下記の式［Ｃ１１］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１２：下記の式［Ｃ１２］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１３：下記の式［Ｃ１３］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１４：下記の式［Ｃ１４］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１５：下記の式［Ｃ１５］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１６：下記の式［Ｃ１６］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１７：下記の式［Ｃ１７］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１８：下記の式［Ｃ１８］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１９：下記の式［Ｃ１９］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ２０：下記の式［Ｃ２０］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１：下記の式［Ｃ１］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ２：下記の式［Ｃ２］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ３：下記の式［Ｃ３］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ４：下記の式［Ｃ４］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ５：下記の式［Ｃ５］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ６：下記の式［Ｃ６］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ７：下記の式［Ｃ７］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ８：下記の式［Ｃ８］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ９：下記の式［Ｃ９］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１０：下記の式［Ｃ１０］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１１：下記の式［Ｃ１１］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１２：下記の式［Ｃ１２］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１３：下記の式［Ｃ１３］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１４：下記の式［Ｃ１４］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１５：下記の式［Ｃ１５］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１６：下記の式［Ｃ１６］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１７：下記の式［Ｃ１７］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１８：下記の式［Ｃ１８］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ１９：下記の式［Ｃ１９］で示されるその他ジアミンモノマー
Ｃ２０：下記の式［Ｃ２０］で示されるその他ジアミンモノマー
【0155】
【化21】
【0156】
【化22】
【0157】
（架橋剤成分）
Ｄ１：下記の式［Ｄ１］で示される架橋剤成分
Ｄ２：下記の式［Ｄ２］で示される架橋剤成分
Ｄ３：下記の式［Ｄ３］で示される架橋剤成分
Ｄ１：下記の式［Ｄ１］で示される架橋剤成分
Ｄ２：下記の式［Ｄ２］で示される架橋剤成分
Ｄ３：下記の式［Ｄ３］で示される架橋剤成分
【0158】
【化23】
【0159】
その他、本実施例で用いる試薬の略号を以下に示す。
（重合開始剤）
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
（溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
（重合開始剤）
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
（溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
【0160】
（分子量測定）
合成例におけるポリマーの分子量はセンシュー科学社製 常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＳＳＣ－７２００、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ－８０３、ＫＤ－８０５）を用い以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃、溶離液：ＤＭＦ（添加剤として、臭化リチウム－水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、リン酸・無水結晶（ｏ－リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＴＨＦが１０ｍｌ／Ｌ）、流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：東ソー社製 ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量約９０００，０００、１５０，０００、１００，０００、３０，０００）、及び、ポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール（分子量 約１２，０００、４，０００、１，０００）。
合成例におけるポリマーの分子量はセンシュー科学社製 常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＳＳＣ－７２００、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ－８０３、ＫＤ－８０５）を用い以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃、溶離液：ＤＭＦ（添加剤として、臭化リチウム－水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、リン酸・無水結晶（ｏ－リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＴＨＦが１０ｍｌ／Ｌ）、流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：東ソー社製 ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量約９０００，０００、１５０，０００、１００，０００、３０，０００）、及び、ポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール（分子量 約１２，０００、４，０００、１，０００）。
【0161】
（イミド化率測定）
合成例におけるイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲサンプル管（草野科学社製 ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード φ５）に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６、０．０５％ＴＭＳ混合品）１．０ｍｌを添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液を日本電子データム社製ＮＭＲ測定器（ＪＮＷ－ＥＣＡ５００）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９．５～１０．０ｐｐｍ付近に現れるアミック酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。なお下記式において、ｘはアミック酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミック酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミック酸のＮＨ基のプロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。
イミド化率（％）＝（１－α・ｘ／ｙ）×１００
合成例におけるイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲサンプル管（草野科学社製 ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード φ５）に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６、０．０５％ＴＭＳ混合品）１．０ｍｌを添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液を日本電子データム社製ＮＭＲ測定器（ＪＮＷ－ＥＣＡ５００）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９．５～１０．０ｐｐｍ付近に現れるアミック酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。なお下記式において、ｘはアミック酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミック酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミック酸のＮＨ基のプロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。
イミド化率（％）＝（１－α・ｘ／ｙ）×１００
【0162】
（モノマー合成例１）
［ＭＡ－１］の合成：
［ＭＡ－１］の合成：
【0163】
【化24】
【0164】
２Ｌ四つ口フラスコにｔｒａｎｓ－４－（４－ブロモフェニル）シクロヘキサノール（１９０．０ｇ、７４０ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート（１１４．２ｇ、８９０ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（２６４．９ｇ、１８５０ｍｍｏｌ）、ＰｈＭｅ（９５０ｇ）を仕込み、窒素置換後、酢酸パラジウム（ＩＩ）（３．３ｇ、１５ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（９．０ｇ、３０ｍｍｏｌ）を仕込み、１００℃で撹拌した。反応終了後、反応液を０．５Ｎ－塩酸水溶液（５００ｇ）に注ぎ、抽出後、純水（１０００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（１０００ｇ）を加え、０℃でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－１－１］を１６９．８ｇ得た。
【0165】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－１］（５０．０ｇ、１３７ｍｍｏｌ）、４，４，４－トリフルオロ酪酸（２６．４ｇ、１８６ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（４８．９ｇ、２５４ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（２．１ｇ、１７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（５００ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２５００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（１５００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（３００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで［ＭＡ－１－２］を５８．５ｇ得た。
【0166】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－２］（５８．５ｇ、１３７ｍｍｏｌ）、ギ酸（５９０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（３０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物にアセトニトリル（５００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－１－３］を４６．９ｇ得た。
【0167】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－３］（４６．９ｇ、１２７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（１８．１ｇ、１３９ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（３６．４ｇ、１９０ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．５ｇ、１３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（４７０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を濃縮し、得られた残渣に酢酸エチル（５００ｇ）を注ぎ、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：３）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（４００ｇ）を加え、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－１］（白色固体）を５５．２ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－１］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.30-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.73-4.78 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.37 (m,2H), 2.52-2.60 (m,5H), 1.99-2.02 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.81-1.84 (d,2H), 1.56-1.62 (m,2H), 1.47-1.53 (m,2H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.30-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.73-4.78 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.37 (m,2H), 2.52-2.60 (m,5H), 1.99-2.02 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.81-1.84 (d,2H), 1.56-1.62 (m,2H), 1.47-1.53 (m,2H)
【0168】
（モノマー合成例２）
［ＭＡ－２］の合成：
［ＭＡ－２］の合成：
【0169】
【化25】
【0170】
２Ｌ四つ口フラスコに４－ブロモ－４’－ヒドロキシビフェニル（９９．６ｇ、４００ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート（１０２．５ｇ、８００ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（１４３．３ｇ、１０００ｍｍｏｌ）、ＤＭＡｃ（５００ｇ）を仕込み、窒素置換後、酢酸パラジウム（ＩＩ）（３．６ｇ、１６ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（９．７ｇ、３２ｍｍｏｌ）を仕込み、１００℃で撹拌した。反応終了後、反応液を０．５Ｎ－塩酸水溶液（１０００ｇ）に注ぎ、酢酸エチル（２５００ｇ）を用いて抽出後、純水（２０００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：３）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（５００ｇ）を加え、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－２－１］を１１２．９ｇ得た。
【0171】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－２－１］（３２．８ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、４，４，４－トリフルオロ酪酸（１７．３ｇ、１２２ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（３１．９ｇ、１６６ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．４ｇ、１１ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３３０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（６００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（２００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで［ＭＡ－２－２］を４３．８ｇ得た。
【0172】
２Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－２－２］（４３．８ｇ、１０４ｍｍｏｌ）、ギ酸（４４０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２５００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物にアセトニトリル（４００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－２－３］を３５．９ｇ得た。
【0173】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－２－３］（３５．９ｇ、９９ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（１４．１ｇ、１０９ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（２８．４ｇ、１４８ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．２ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３６０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（１５００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（３０００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：２）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（２００ｇ）を加え、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－２］（白色固体）を４０．９ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－２］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.83-7.84 (d,2H), 7.78-7.80 (d,2H), 7.71-7.75 (m,3H), 7.24-7.26 (d,2H), 6.71-6.74 (d,1H), 6.06 (s,1H), 5.71 (s,1H), 4.43-4.45 (m,2H), 4.38-4.39 (m,2H), 2.90-2.93 (t,2H), 2.67-2.73 (m,2H), 1.89 (s,3H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.83-7.84 (d,2H), 7.78-7.80 (d,2H), 7.71-7.75 (m,3H), 7.24-7.26 (d,2H), 6.71-6.74 (d,1H), 6.06 (s,1H), 5.71 (s,1H), 4.43-4.45 (m,2H), 4.38-4.39 (m,2H), 2.90-2.93 (t,2H), 2.67-2.73 (m,2H), 1.89 (s,3H)
【0174】
（モノマー合成例３）
［ＭＡ－３］の合成：
［ＭＡ－３］の合成：
【0175】
【化26】
【0176】
１Ｌ四つ口フラスコに４－ヒドロキシ安息香酸ｔｅｒｔ－ブチル（２４．３ｇ、１２５ｍｍｏｌ）、４，４，４－トリフルオロ酪酸（１９．５ｇ、１３８ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（３６．０ｇ、１８８ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．５ｇ、１３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２４０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応系を酢酸エチル（３００ｇ）に注ぎ、有機層を純水（９００ｇ）で洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（４００ｇ）を加えて、０℃でリパルプ洗浄することで［ＭＡ－３－１］を３５．９ｇ得た。
【0177】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－３－１］（３５．９ｇ、１１３ｍｍｏｌ）、ギ酸（３６０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別後、乾燥させることで［ＭＡ－３－２］を２７．８ｇ得た。
【0178】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－３－２］（２７．８ｇ、１０６ｍｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ－ｐ－クマル酸ｔｅｒｔ－ブチル（３２．６ｇ、１４８ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（３０．４ｇ、１５９ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．３ｇ、１１ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２８０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２５００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（２５００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、有機層を純水（３０００ｇ）で洗浄し、濃縮した。得られた粗物にイソプロピルアルコール（８０ｇ）を加えて、再結晶することで、［ＭＡ－３－３］を１６．９ｇ得た。
【0179】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－３－３］（１６．９ｇ、３６ｍｍｏｌ）、ギ酸（１７０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（２０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物にアセトニトリル（４００ｇ）を加えて、６０℃に加熱して溶解させたのち、不溶物を除去後、濃縮した。さらに、粗物に酢酸エチル（４０ｇ）、ヘキサン（４００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－３－４］を８．１ｇ得た。
【0180】
２００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－３－４］（７．８ｇ、１９ｍｍｏｌ）、オキサリルクロリド（２．７ｇ、２１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（数滴）、ＴＨＦ（６０ｇ）を仕込み、０℃で２ｈ反応させた。続いて、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（２．７ｇ、２１ｍｍｏｌ）、ピリジン（２．１ｇ、２７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２３ｇ）を仕込んだ反応液に得られた酸クロを氷浴中で滴下し、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応系を酢酸エチル（５００ｇ）に注ぎ、有機層を純水（１５００ｇ）で洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：５）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（５０ｇ）を加え、５０℃に加熱して溶解させたのち、不溶物を除去後し、濃縮した。続いて、粗物にメタノール（６０ｇ）を加え、－２０℃で再結晶することで、［ＭＡ－３］（白色固体）を１．３ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－３］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ8.21-8.22 (d,2H), 7.85-7.87 (d,2H), 7.70-7.74 (d,1H), 7.36-7.41 (m,4H), 6.68-6.71 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.71 (s,1H), 4.43-4.44 (m,2H), 4.37-4.39 (m,2H), 2.93-2.96 (t,2H), 2.67-2.74 (m,2H), 1.89 (s,3H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ8.21-8.22 (d,2H), 7.85-7.87 (d,2H), 7.70-7.74 (d,1H), 7.36-7.41 (m,4H), 6.68-6.71 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.71 (s,1H), 4.43-4.44 (m,2H), 4.37-4.39 (m,2H), 2.93-2.96 (t,2H), 2.67-2.74 (m,2H), 1.89 (s,3H)
【0181】
（モノマー合成例４）
［ＭＡ－４］の合成：
［ＭＡ－４］の合成：
【0182】
【化27】
【0183】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－１］（２０．０ｇ、６６ｍｍｏｌ）、３，３，３－トリフルオロプロピオン酸（９．５ｇ、７４ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１９．４ｇ、１０１ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．８ｇ、７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２００ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（１０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（３００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物に酢酸エチル（１００ｇ）、ヘキサン（５００ｇ）を加えて、０℃でリパルプ洗浄することで［ＭＡ－４－１］を２３．９ｇ得た。
【0184】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－４－１］（２３．９ｇ、５８ｍｍｏｌ）、ギ酸（２４０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（１０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（１０００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（４０ｇ）を加えて、０℃でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－４－２］を１９．６ｇ得た。
【0185】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－４－２］（１９．６ｇ、５５ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（７．９ｇ、６１ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１５．８ｇ、８３ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．７ｇ、６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２００ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（６００ｇ）に注ぎ、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：３）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（２００ｇ）を加え、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－４］（白色固体）を２３．６ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－４］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.30-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.80-4.84 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 3.64-3.70 (m,2H) 2.56-2.61 (m,1H), 2.01-2.04 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.82-1.85 (d,2H), 1.58-1.66 (m,2H), 1.50-1.55 (m,2H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.30-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.80-4.84 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 3.64-3.70 (m,2H) 2.56-2.61 (m,1H), 2.01-2.04 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.82-1.85 (d,2H), 1.58-1.66 (m,2H), 1.50-1.55 (m,2H)
【0186】
（モノマー合成例５）
［ＭＡ－５］の合成：
［ＭＡ－５］の合成：
【0187】
【化28】
【0188】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－１］（２０．０ｇ、６６ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（８．４ｇ、７４ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１９．４ｇ、１０１ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．８ｇ、７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２００ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（１０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（３００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（９００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：４）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行うことで［ＭＡ－５－１］を２０．７ｇ得た。
【0189】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－５－１］（２０．７ｇ、５２ｍｍｏｌ）、ギ酸（２１０ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（１０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物にメタノール（６００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、濃縮した。得られた粗物に酢酸エチル（５００ｇ）を加えて、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５－２］を１６．５ｇ得た。
【0190】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－５－２］（１６．５ｇ、４８ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（６．９ｇ、５３ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１５．７ｇ、８２ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．８８ｇ、７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１７０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（６００ｇ）に注ぎ、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：３）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（１５０ｇ）を加え、室温でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５］（白色固体）を１３．３ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－５］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.63-7.66 (m,3H), 7.30-7.32 (d,2H), 6.60-6.63 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 5.04-5.05 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 2.62-2.63 (m,1H), 2.12-2.14 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.86-1.87 (d,2H), 1.61-1.68 (m,4H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.63-7.66 (m,3H), 7.30-7.32 (d,2H), 6.60-6.63 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 5.04-5.05 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 2.62-2.63 (m,1H), 2.12-2.14 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.86-1.87 (d,2H), 1.61-1.68 (m,4H)
【0191】
（モノマー合成例６）
［ＭＡ－６］の合成：
［ＭＡ－６］の合成：
【0192】
【化29】
【0193】
１Ｌ四つ口フラスコにｔｒａｎｓ－４－ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸（４８．９ｇ、３３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３４．６ｇ、３４２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３９１ｇ）、を仕込み、窒素雰囲気氷冷条件下でクロロメチルメチルエーテル（２８．７ｇ、３５６ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下後、室温条件下で３時間反応させて原料を消失させた。反応終了後、ろ過により析出物を除去し、減圧濃縮により溶媒を除去した。得られたオイル状化合物を酢酸エチル（４９０ｇ）で希釈し、純水（２５０ｇ）で酢酸エチル溶液を３回洗浄後した。続いて、酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウム脱水処理し、減圧濃縮することで［ＭＡ－６－１］を４９．６ｇ得た。
【0194】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－６－１］（２５．３ｇ、１３４ｍｍｏｌ）、４，４，４－トリフルオロ酪酸（２０．０ｇ、１４１ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．６４ｇ、１３．４ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（３１．０ｇ、１６２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１２６ｇ）を仕込み、室温条件下で１５時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル（５００ｇ）で反応液を希釈後、酢酸エチル溶液を純水（２５０ｇ）で４回洗浄した。有機相を減圧濃縮することで［ＭＡ－６－２］を４１．８ｇ得た。
【0195】
１Ｌ四つ口フラスコに［ＭＡ－６－２］（４１．８ｇ、１３４ｍｍｏｌ）、４ｍｏｌ／Ｌ－塩酸水溶液（８２．０ｍＬ）、アセトニトリル（２０４ｇ）を仕込み、４５℃加熱条件下で４時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮によりアセトニトリルを除去し、純水（４８０ｇ）を加えて結晶を析出させた。析出した結晶をろ過により回収し、結晶をトルエン（８０．０ｇ）／ヘキサン（１２０ｇ）混合溶液でスラリー洗浄した。スラリー溶液をろ過し、得られた結晶を乾燥することで［ＭＡ－６－３］を１５．８ｇ得た。
【0196】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－６－３］（１５．８ｇ、５８ｍｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ－ｐ－クマル酸ｔｅｒｔ－ブチル（１５．７ｇ、７１ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．７ｇ，５ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１３．４ｇ、７０ｍｍｏｌ）、ＣＨＣｌ２（１６０ｇ）、を仕込み、室温条件下で５時間反応させた。反応終了後、塩化メチレン（３２０ｇ）で反応液を希釈後、塩化メチレン溶液を純水（３００ｇ）で３回有機相を洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム脱水処理し、減圧濃縮することで粗物を得た。粗物をヘキサン（３００ｇ）でスラリー洗浄し、ろ過、乾燥することで［ＭＡ－６－４］を２３．８ｇ得た。
【0197】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－６－４］（２３．８ｇ、５１ｍｍｏｌ)、ギ酸（２４０ｇ）を仕込み、６０℃加熱条件下で５時間反応させた。反応終了後、純水（７２０ｇ）中に反応液を注ぎ込み結晶を析出させ、ろ過、純水洗浄することで粗物を得た。粗物をテトラヒドロフラン（４８ｇ）／アセトニトリル（１９２ｇ）混合溶媒で再結晶を行い、ろ過、乾燥することで［ＭＡ－６－５］を１４．２ｇ得た。
【0198】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－６－５］（１４．２ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（５．４ｇ、４１８ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．４ｇ，３ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（９．３ｇ，４９ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１２７ｇ）、を仕込み、室温条件下で約１日間反応させた。反応終了後、デカンテーションによりテトラヒドロフラン溶液を回収し、減圧濃縮によりテトラヒドロフランを除去した。濃縮物を酢酸エチル（５００ｇ）で希釈し、純水（２００ｇ）で酢酸エチル溶液を３回洗浄後、硫酸マグネシウム脱水処理した。酢酸エチル溶液を減圧濃縮し、濃縮物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：６→１：５）溶液を用いて、シリカゲルカラムで精製することで［ＭＡ－６－５］（白色結晶）を１２．８ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－６］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.80 (d,2H), 7.69 (d,1H), 7.18 (d,2H), 6.66 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.68-4.74 (m,1H), 4.42-4.43 (m,2H), 4.29-4.38 (m,2H), 2.64-2.69 (m,1H), 2.52-2.63 (m,4H), 2.09-2.12 (m,2H), 1.96-1.99 (m,2H), 1.88 (s,3H), 1.58-1.66 (m,2H), 1.44-1.52 (m,2H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.80 (d,2H), 7.69 (d,1H), 7.18 (d,2H), 6.66 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.68-4.74 (m,1H), 4.42-4.43 (m,2H), 4.29-4.38 (m,2H), 2.64-2.69 (m,1H), 2.52-2.63 (m,4H), 2.09-2.12 (m,2H), 1.96-1.99 (m,2H), 1.88 (s,3H), 1.58-1.66 (m,2H), 1.44-1.52 (m,2H)
【0199】
（モノマー合成例７）
［ＭＡ－７］の合成：
［ＭＡ－７］の合成：
【0200】
【化30】
【0201】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－１－１］（２０．０ｇ、６６ｍｍｏｌ）、酪酸（６．４ｇ、７３ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１９．０ｇ、９９ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．８ｇ、７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２００ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１０００ｇ）に注ぎ、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物にヘキサン（１００ｇ）を加えて、０℃でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－７－１］を２０．１ｇ得た。
【0202】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－７－１］（２０．１ｇ、５４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２００ｇ）を仕込み、５０℃で撹拌した。反応終了後、反応液を純水（１０００ｇ）に注ぎ、析出物を濾別した。得られた粗物に酢酸エチル（８００ｇ）を加えて完全溶解させたのち、純水（１０００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物に酢酸エチル（５０ｇ）を加えて、０℃でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－７－２］を１６．２ｇ得た。
【0203】
５００ｍＬ四つ口フラスコに［ＭＡ－７－２］（１６．２ｇ、５１ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（７．３ｇ、５６ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド（１４．７ｇ、７７ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．６２ｇ、５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１６０ｇ）を仕込み、室温で撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１０００ｇ）に注ぎ、純水（１５００ｇ）を用いて有機層を洗浄し、濃縮した。得られた粗物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比１：５）溶液を用いて、シリカゲルによる原点カットを行い、さらに、得られた粗物にヘキサン（３００ｇ）を加え、０℃でリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－７］（白色固体）を１８．４ｇ得た。目的物の１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－７］であることを確認した。
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.29-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.70-4.73 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 2.55-2.58 (m,1H), 2.24-2.27 (t,2H), 1.98-2.00 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.81-1.83 (d,2H), 1.56-1.61 (m,4H), 1.46-1.54 (m,2H), 0.87-0.90 (t,3H)
1H NMR (500 MHz, [D6]-DMSO):δ7.62-7.65 (m,3H), 7.29-7.31 (d,2H), 6.59-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.70-4.73 (m,1H), 4.40-4.42 (m,2H), 4.36-4.38 (m,2H), 2.55-2.58 (m,1H), 2.24-2.27 (t,2H), 1.98-2.00 (d,2H), 1.88 (s,3H), 1.81-1.83 (d,2H), 1.56-1.61 (m,4H), 1.46-1.54 (m,2H), 0.87-0.90 (t,3H)
【0204】
＜メタクリレートポリマー合成例１＞
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）、ＧＭＡ（０．５６ｇ、４．００ｍｍｏｌ）及びＭＡＡ（０．６９ｇ、８．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２９．９ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）を得た。
このポリマーの数平均分子量は３４０００、重量平均分子量は１２００００であった。
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）、ＧＭＡ（０．５６ｇ、４．００ｍｍｏｌ）及びＭＡＡ（０．６９ｇ、８．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２９．９ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）を得た。
このポリマーの数平均分子量は３４０００、重量平均分子量は１２００００であった。
【0205】
＜メタクリレートポリマー合成例２＞
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）とＭＡＡ（１．０３ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２８．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ２）を得た。
このポリマーの数平均分子量は４４０００、重量平均分子量は１４００００であった。
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）とＭＡＡ（１．０３ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２８．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ２）を得た。
このポリマーの数平均分子量は４４０００、重量平均分子量は１４００００であった。
【0206】
＜メタクリレートポリマー合成例３＞
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）、ＭＯＩ－ＢＰ（３．０２ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３６．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ３）を得た。
このポリマーの数平均分子量は４５０００、重量平均分子量は１４５０００であった。
ＭＡ－１（３．８６ｇ、８．００ｍｍｏｌ）、ＭＯＩ－ＢＰ（３．０２ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３６．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させポリマー溶液を得た。
次いで、このポリマー溶液（４．０ｇ）に、ＮＭＰ（５．０ｇ）、ＢＣＳ（６．０ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ３）を得た。
このポリマーの数平均分子量は４５０００、重量平均分子量は１４５０００であった。
【0207】
＜メタクリレートポリマー合成例４～１３＞
表１に示す組成にて、メタクリレートポリマー合成例１～３と同様の方法を用いて、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ４）～（ＭＰ１３）を合成した。
表１に示す組成にて、メタクリレートポリマー合成例１～３と同様の方法を用いて、メタクリレートポリマー溶液（ＭＰ４）～（ＭＰ１３）を合成した。
【0208】
【表1】
【0209】
＜ポリアミック酸ポリマー合成例１＞
Ｂ１（１．１４ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、Ｃ２（０．６１ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、Ｃ７（０．７３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）及びＡ１（１．１２ｇ、６．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１３．６ｇ）中に溶解し、６０℃で５時間反応させたのち、Ａ２（０．５０ｇ、２．００ｍｍｏｌ）及びＡ４（０．４４ｇ、２．００ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（４．６ｇ）を加え、４０℃で１０時間反応させポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）を得た。
Ｂ１（１．１４ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、Ｃ２（０．６１ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、Ｃ７（０．７３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）及びＡ１（１．１２ｇ、６．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１３．６ｇ）中に溶解し、６０℃で５時間反応させたのち、Ａ２（０．５０ｇ、２．００ｍｍｏｌ）及びＡ４（０．４４ｇ、２．００ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（４．６ｇ）を加え、４０℃で１０時間反応させポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）を得た。
【0210】
＜ポリアミック酸ポリマー合成例２～１７＞
表２に示す組成にて、ポリアミック酸ポリマー合成例１と同様の方法を用いて、ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１５）～（ＭＰ３０）を合成した。
表２に示す組成にて、ポリアミック酸ポリマー合成例１と同様の方法を用いて、ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１５）～（ＭＰ３０）を合成した。
【0211】
【表2】
【0212】
＜ポリイミドポリマー合成例１＞
ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）（５０ｇ）にＮＭＰを加え６．５質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（８．８ｇ）及びピリジン（２．７ｇ）を加え、７５℃で２．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（７００ｍｌ）に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミドポリマー粉末（Ｅ）を得た。このポリイミドポリマーのイミド化率は７１％であり、数平均分子量は１３０００、重量平均分子量は４２０００であった。
ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）（５０ｇ）にＮＭＰを加え６．５質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（８．８ｇ）及びピリジン（２．７ｇ）を加え、７５℃で２．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（７００ｍｌ）に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミドポリマー粉末（Ｅ）を得た。このポリイミドポリマーのイミド化率は７１％であり、数平均分子量は１３０００、重量平均分子量は４２０００であった。
【0213】
得られたポリイミド粉末（Ｅ）（６．０ｇ）にＮＭＰ（４４．０ｇ）を加え、７０℃にて２０時間攪拌して溶解させた。この溶液にＮＭＰ（１０．０ｇ）、ＢＣＳ（４０．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌することによりポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）を得た。
【0214】
＜ポリイミドポリマー合成例２～１７＞
ポリアミック酸ポリマー合成例２～１７で得られたポリアミック酸ポリマー溶液にて、ポリイミドポリマー合成例１と同様の方法を用いて、ポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３２）～（ＭＰ４７）を合成した。
ポリアミック酸ポリマー合成例２～１７で得られたポリアミック酸ポリマー溶液にて、ポリイミドポリマー合成例１と同様の方法を用いて、ポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３２）～（ＭＰ４７）を合成した。
【0215】
（実施例１）
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（４．０ｇ）に、架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ１）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（４．０ｇ）に、架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ１）を得た。
【0216】
（実施例２、実施例３）
メタクリレートポリマー合成例２、３で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ２）～（ＭＰ３）にて、実施例１と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＰＭ２）、（ＰＭ３）を得た。
メタクリレートポリマー合成例２、３で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ２）～（ＭＰ３）にて、実施例１と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＰＭ２）、（ＰＭ３）を得た。
【0217】
（実施例４）
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（３．０ｇ）に、ポリアミック酸ポリマー合成例１で得られたポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）にＮＭＰとＢＣＳを加えてポリアミック酸ポリマー：ＮＭＰ：ＢＣＳ＝４：５６：４０（質量比）とした溶液（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ４）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（３．０ｇ）に、ポリアミック酸ポリマー合成例１で得られたポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）にＮＭＰとＢＣＳを加えてポリアミック酸ポリマー：ＮＭＰ：ＢＣＳ＝４：５６：４０（質量比）とした溶液（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ４）を得た。
【0218】
（実施例５～２０）
実施例４と同様の操作をメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）、ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１５）～（ＭＰ３０）、架橋剤（Ｄ３）を用いて行うことで液晶配向処理剤（ＰＭ５）～（ＰＭ２０）を得た。なお、液晶配向処理剤（ＰＭ５）～（ＰＭ２０）の組成は表３に示す。
実施例４と同様の操作をメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）、ポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１５）～（ＭＰ３０）、架橋剤（Ｄ３）を用いて行うことで液晶配向処理剤（ＰＭ５）～（ＰＭ２０）を得た。なお、液晶配向処理剤（ＰＭ５）～（ＰＭ２０）の組成は表３に示す。
【0219】
（実施例２１）
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（３．０ｇ）に、ポリイミドポリマー合成例１で得られたポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ２１）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）（３．０ｇ）に、ポリイミドポリマー合成例１で得られたポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＰＭ２１）を得た。
【0220】
（実施例２２～４８）
実施例２１と同様の操作をメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）～（ＭＰ１０）、ポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）～（ＭＰ４７）、架橋剤（Ｄ１）～（Ｄ３）を用いて行うことで液晶配向処理剤（ＰＭ２２）～（ＰＭ４８）を得た。なお、液晶配向処理剤（ＰＭ２２）～（ＰＭ４８）の組成は表３に示す。
実施例２１と同様の操作をメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１）～（ＭＰ１０）、ポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）～（ＭＰ４７）、架橋剤（Ｄ１）～（Ｄ３）を用いて行うことで液晶配向処理剤（ＰＭ２２）～（ＰＭ４８）を得た。なお、液晶配向処理剤（ＰＭ２２）～（ＰＭ４８）の組成は表３に示す。
【0221】
【表3】
【0222】
（比較例１）
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたポリマー溶液（ＭＰ１１）（４．０ｇ）に、架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ１）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたポリマー溶液（ＭＰ１１）（４．０ｇ）に、架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ１）を得た。
【0223】
（比較例２、比較例３）
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたポリマー溶液にて、比較例１と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ２）、（ＲＰＭ３）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたポリマー溶液にて、比較例１と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ２）、（ＲＰＭ３）を得た。
【0224】
（比較例４）
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１１）（３．０ｇ）に、ポリアミック酸ポリマー合成例１で得られたポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）にＮＭＰとＢＣＳを加えてポリアミック酸ポリマー：ＮＭＰ：ＢＣＳ＝４：５６：４０（質量比）とした溶液（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ４）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１１）（３．０ｇ）に、ポリアミック酸ポリマー合成例１で得られたポリアミック酸ポリマー溶液（ＭＰ１４）にＮＭＰとＢＣＳを加えてポリアミック酸ポリマー：ＮＭＰ：ＢＣＳ＝４：５６：４０（質量比）とした溶液（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ４）を得た。
【0225】
（比較例５、比較例６）
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたメタクリレートポリマー溶液にて、比較例４と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ５）、（ＲＰＭ６）を得た。
（比較例７）
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１１）（３．０ｇ）に、ポリイミドポリマー合成例１で得られたポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ７）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたメタクリレートポリマー溶液にて、比較例４と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ５）、（ＲＰＭ６）を得た。
（比較例７）
メタクリレートポリマー合成例１１で得られたメタクリレートポリマー溶液（ＭＰ１１）（３．０ｇ）に、ポリイミドポリマー合成例１で得られたポリイミドポリマー溶液（ＭＰ３１）（７．０ｇ）を加え、更に架橋剤（Ｄ３）（０．０６ｇ）を加え、室温にて攪拌することにより、液晶配向処理剤（ＲＰＭ７）を得た。
【0226】
（比較例８、比較例９）
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたメタクリレートポリマー溶液にて、比較例７と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ８）、（ＲＰＭ９）を得た。
メタクリレートポリマー合成例１２、１３で得られたメタクリレートポリマー溶液にて、比較例７と同様の方法を用いて、液晶配向処理剤（ＲＰＭ８）、（ＲＰＭ９）を得た。
【0227】
＜液晶表示素子の作製＞
実施例で得られた液晶配向処理剤（ＰＭ１）～（ＰＭ４８）及び比較例で得られた液晶配向処理剤（ＲＰＭ１）～（ＲＰＭ９）を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。
得られた溶液をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、７０℃のホットプレートで９０秒間乾燥した後、２００℃のホットプレートで３０分間焼成を行い、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。
次いで、塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向から４０°傾斜した角度から５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、液晶配向膜付き基板を得た。直線偏光紫外線は高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。
上記の基板を２枚用意し、一方の基板の液晶配向膜上に４μｍのビーズスペーサーを散布した後、シール剤（三井化学製、ＸＮ－１５００Ｔ）を塗布した。次いで、もう一方の基板を、液晶配向膜面が向き合い配向方向が１８０°になるようにして張り合わせた後、１２０℃で９０分シール剤を熱硬化させることで空セルを作製した。この空セルに液晶（メルク社製、ＭＬＣ－３０２２）を減圧注入法によって注入し、液晶表示素子を得た。
実施例で得られた液晶配向処理剤（ＰＭ１）～（ＰＭ４８）及び比較例で得られた液晶配向処理剤（ＲＰＭ１）～（ＲＰＭ９）を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。
得られた溶液をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、７０℃のホットプレートで９０秒間乾燥した後、２００℃のホットプレートで３０分間焼成を行い、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。
次いで、塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向から４０°傾斜した角度から５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、液晶配向膜付き基板を得た。直線偏光紫外線は高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。
上記の基板を２枚用意し、一方の基板の液晶配向膜上に４μｍのビーズスペーサーを散布した後、シール剤（三井化学製、ＸＮ－１５００Ｔ）を塗布した。次いで、もう一方の基板を、液晶配向膜面が向き合い配向方向が１８０°になるようにして張り合わせた後、１２０℃で９０分シール剤を熱硬化させることで空セルを作製した。この空セルに液晶（メルク社製、ＭＬＣ－３０２２）を減圧注入法によって注入し、液晶表示素子を得た。
【0228】
＜評価＞
（液晶配向性）
上記で得られた液晶表示素子を１２０℃で１時間の等方相処理を行った後、偏光顕微鏡にてセル観察を行った。光抜けやドメイン発生などの配向不良が無い場合や液晶セルに電圧印加を行った際に均一な液晶の駆動が得られる場合を良好とした。評価結果を表４に示す。
（液晶配向性）
上記で得られた液晶表示素子を１２０℃で１時間の等方相処理を行った後、偏光顕微鏡にてセル観察を行った。光抜けやドメイン発生などの配向不良が無い場合や液晶セルに電圧印加を行った際に均一な液晶の駆動が得られる場合を良好とした。評価結果を表４に示す。
【0229】
（プレチルト角）
上記で作製した液晶表示素子に、液晶セルのプレチルト角の測定は、Ａｘｏ Ｍｅｔｒｉｘ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて、ミューラーマトリックス法により測定した。評価結果を表４に示す。
上記で作製した液晶表示素子に、液晶セルのプレチルト角の測定は、Ａｘｏ Ｍｅｔｒｉｘ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて、ミューラーマトリックス法により測定した。評価結果を表４に示す。
【0230】
（チルト角変化の評価）
プレチルト角を測定した後、液晶セルにＡＣ１５Ｖｐ－ｐ印加し、３６時間後に再びチルト角を測定することで、チルト角がどれくらい変化しているかを計算した。評価結果を表４に示す。
プレチルト角を測定した後、液晶セルにＡＣ１５Ｖｐ－ｐ印加し、３６時間後に再びチルト角を測定することで、チルト角がどれくらい変化しているかを計算した。評価結果を表４に示す。
【0231】
【表4】
【0232】
表４の結果からわかるように、実施例１～４６と比較例１～９との対比から、式（ｐａ－１）中のＲ３に－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を有しない光配向性モノマーを含有するポリメタクリレート溶液もしくは、そのポリメタクリレート溶液とポリアミック酸、ポリイミド溶液とのブレンドではチルト角の安定性が低い（チルト角の変化が大きい）のに対し、式（ｐａ－１）中のＲ３に－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を有する光配向性モノマーを含有するポリメタクリレート溶液もしくは、そのポリメタクリレート溶液とポリアミック酸、ポリイミド溶液とのブレンドではチルト角の安定性が高い（チルト角の変化が小さい）液晶配向膜が得られた。
【産業上の利用可能性】
【0233】
本発明の液晶配向剤、それから得られる液晶配向膜を用いた液晶表示素子は、車載用等の耐久性が要求される液晶表示素子に、好適に用いることができる。