(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-10
(45)【発行日】2024-06-18
(54)【発明の名称】洗浄部材取付機構及び基板洗浄装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240611BHJP
H01L 21/683 20060101ALI20240611BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 644C
H01L21/304 644G
H01L21/68 N
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2020097110
(22)【出願日】2020-06-03
(65)【公開番号】P2021190643
(43)【公開日】2021-12-13
【審査請求日】2023-06-01
(73)【特許権者】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】230104019
【弁護士】
【氏名又は名称】大野 聖二
(74)【代理人】
【識別番号】230112025
【弁護士】
【氏名又は名称】小林 英了
(74)【代理人】
【識別番号】230117802
【弁護士】
【氏名又は名称】大野 浩之
(74)【代理人】
【識別番号】100106840
【弁理士】
【氏名又は名称】森田 耕司
(74)【代理人】
【識別番号】100131451
【弁理士】
【氏名又は名称】津田 理
(74)【代理人】
【識別番号】100167933
【弁理士】
【氏名又は名称】松野 知紘
(74)【代理人】
【識別番号】100174137
【弁理士】
【氏名又は名称】酒谷 誠一
(74)【代理人】
【識別番号】100184181
【弁理士】
【氏名又は名称】野本 裕史
(72)【発明者】
【氏名】宮▲崎▼ 充
(72)【発明者】
【氏名】藤本 友章
(72)【発明者】
【氏名】井上 拓也
【審査官】小池 英敏
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１７－１３９２８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０００－３０１０７９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－３１８１４９（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
Ｈ０１Ｌ ２１／６８３
Ｂ０８Ｂ １／０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備え、
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制され、
前記周縁突出部は１つ以上の溝部を有する洗浄部材取付機構。
【請求項2】
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備え、
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制され、
前記周縁突出部は、縦断面において、洗浄部材側の厚みが洗浄部材とは反対側の厚みよりも厚くなる洗浄部材取付機構。
【請求項3】
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備え、
前記洗浄部材保持部が周縁外方に突出した第一突出部を有し、前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に前記第一突出部を収容する第一凹部を有する、又は前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に第二突出部を有し、前記洗浄部材保持部が前記第二突出部を収容する第二凹部を有する洗浄部材取付機構。
【請求項4】
前記第一突出部が設けられる場合において前記第一凹部が複数設けられ、又は前記第二突出部が設けられる場合において前記第二凹部が複数設けられる請求項３に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項5】
前記移動部は弾性部材である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項6】
前記洗浄部材保持部は、前記部材回転部によって回転される駆動部側の洗浄部材保持部と、従動的に回転される従動部側の洗浄部材保持部とを有し、前記移動部は従動部側の洗浄部材保持部に設けられる請求項１乃至５のいずれか１項に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項7】
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制される請求項３又は４に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項8】
前記周縁突出部は１つ以上の溝部を有する請求項７に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項9】
前記周縁突出部は、縦断面において、洗浄部材側の厚みが洗浄部材とは反対側の厚みよりも厚くなる請求項１、７及び８のいずれか１項に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項10】
前記洗浄部材保持部が周縁外方に突出した第一突出部を有し、前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に前記第一突出部を収容する第一凹部を有する、又は前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に第二突出部を有し、前記洗浄部材保持部が前記第二突出部を収容する第二凹部を有する請求項１又は２に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項11】
前記第一突出部が設けられる場合において前記第一凹部が複数設けられ、又は前記第二突出部が設けられる場合において前記第二凹部が複数設けられる請求項１０に記載の洗浄部材取付機構。
【請求項12】
基板を支持するための基板支持部と、前記基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を有し、
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制され、
前記周縁突出部は１つ以上の溝部を有する基板洗浄装置。
【請求項13】
基板を支持するための基板支持部と、前記基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を有し、
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制され、
前記周縁突出部は、縦断面において、洗浄部材側の厚みが洗浄部材とは反対側の厚みよりも厚くなる基板洗浄装置。
【請求項14】
基板を支持するための基板支持部と、前記基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を有し、
前記洗浄部材保持部が周縁外方に突出した第一突出部を有し、前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に前記第一突出部を収容する第一凹部を有する、又は前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に第二突出部を有し、前記洗浄部材保持部が前記第二突出部を収容する第二凹部を有する基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、洗浄部材アセンブリを取り付け可能となり、洗浄部材アセンブリを取り付けた状態で回転可能な洗浄部材保持部を有する洗浄部材取付機構及び基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、ポリッシングを終了したウエハ等の基板を高い洗浄度で洗浄する方法として、基板の洗浄面にブラシやスポンジからなる洗浄部材を擦り付けて行うスクラブ洗浄（１次洗浄）を行った後に、基板に向けて高圧水（高速ジェット流）を噴射し、キャビテーションによる気泡を発生させて仕上げ洗浄（２次洗浄）を行うことが知られている。
【0003】
洗浄部材としては例えばロール洗浄部材やペンシル洗浄部材が知られている。一例として、特許文献１では、基板をほぼ水平面内で回転させつつ保持する基板保持部と、基板の被洗浄面をスクラブ洗浄する洗浄具と、洗浄具をその軸線まわりに回転可能に保持する洗浄具保持部と、を有する基板洗浄装置が開示されている。ロール洗浄部材やペンシル洗浄部材等の洗浄部材は適宜洗浄されて利用されるが、一定の周期で取り換えも行われている。洗浄部材を取り換える際には、洗浄部材を含む洗浄部材アセンブリを洗浄部材保持部に取り付けることになるが、洗浄部材保持部が回転自在となっていることから、取り付け作業に手間がかかることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０００－３０１０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、このような点を鑑みてなされたものであり、洗浄部材アセンブリを洗浄部材保持部に容易に取り付けることができる洗浄部材取付機構及び基板洗浄装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明による洗浄部材取付機構は、
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備えてもよい。
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備えてもよい。
【0007】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記移動部は弾性部材であってもよい。
前記移動部は弾性部材であってもよい。
【0008】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記洗浄部材保持部は、前記部材回転部によって回転される駆動部側の洗浄部材保持部と、従動的に回転される従動部側の洗浄部材保持部とを有し、
前記移動部は従動部側の洗浄部材保持部に設けられてもよい。
前記洗浄部材保持部は、前記部材回転部によって回転される駆動部側の洗浄部材保持部と、従動的に回転される従動部側の洗浄部材保持部とを有し、
前記移動部は従動部側の洗浄部材保持部に設けられてもよい。
【0009】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制されてもよい。
前記洗浄部材保持部は周縁外方で突出した周縁突出部を有し、
前記周縁突出部が前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部の内面と面接触し、前記周縁突出部が前記収容部の内面に押し付けられることで、前記洗浄部材保持部の回転が規制されてもよい。
【0010】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記周縁突出部は１つ以上の溝部を有してもよい。
前記周縁突出部は１つ以上の溝部を有してもよい。
【0011】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記周縁突出部は、縦断面において、洗浄部材側の厚みが洗浄部材とは反対側の厚みよりも厚くなってもよい。
前記周縁突出部は、縦断面において、洗浄部材側の厚みが洗浄部材とは反対側の厚みよりも厚くなってもよい。
【0012】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記洗浄部材保持部が周縁外方に突出した第一突出部を有し、前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に前記第一突出部を収容する第一凹部を有する、又は前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に第二突出部を有し、前記洗浄部材保持部が前記第二突出部を収容してもよい。
前記洗浄部材保持部が周縁外方に突出した第一突出部を有し、前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に前記第一突出部を収容する第一凹部を有する、又は前記洗浄部材保持部の少なくとも一部を収容する収容部は内面に第二突出部を有し、前記洗浄部材保持部が前記第二突出部を収容してもよい。
【0013】
本発明による洗浄部材取付機構において、
前記第一突出部が設けられる場合において前記第一凹部が複数設けられ、又は前記第二突出部が設けられる場合において前記第二凹部が複数設けられてもよい。
前記第一突出部が設けられる場合において前記第一凹部が複数設けられ、又は前記第二突出部が設けられる場合において前記第二凹部が複数設けられてもよい。
【0014】
本発明による基板洗浄装置は、
基板を支持するための基板支持部と、
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備えてもよい。
基板を支持するための基板支持部と、
基板を洗浄するための洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリを取り付け可能となる洗浄部材保持部と、
前記洗浄部材保持部で保持された前記洗浄部材アセンブリを回転させる部材回転部と、
前記洗浄部材アセンブリを取り外した状態で前記洗浄部材保持部を軸方向に沿って移動させ、前記洗浄部材保持部の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部と、
を備えてもよい。
【本発明の効果】
【0015】
本発明によれば、洗浄部材アセンブリを洗浄部材保持部に容易に取り付けることができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図13】図１３は、本発明の実施の形態で用いられ得る、第一突出部を有する洗浄部材保持部と、第一突出部を収容する第一凹部を有する収容部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様の第一例を示す図である。
【図14】図１４は、本発明の実施の形態で用いられ得る、第一突出部を有する洗浄部材保持部と、第一突出部を収容する第一凹部を有する収容部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様の第二例を示す図である。
【図15】図１５は、本発明の実施の形態で用いられ得る、第二突出部を有する収容部と、第二突出部を収容する第二凹部を有する洗浄部材保持部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様の第一例を示す図である。
【図16】図１６は、本発明の実施の形態で用いられ得る、第二突出部を有する収容部と、第二突出部を収容する第二凹部を有する洗浄部材保持部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様の第二例を示す図である。
【図17】図１７は、本発明の実施の形態で用いられ得る、周縁突出部及び第一突出部を有する洗浄部材保持部と、第一突出部を収容する第一凹部を有する収容部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様を示す図である。
【図18】図１８は、本発明の実施の形態で用いられ得る、第二突出部を有する収容部と、周縁突出部及び第二突出部を収容する第二凹部を有する洗浄部材保持部とを洗浄部材アセンブリの回転軸に沿って見た際の態様を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
実施の形態
《構成》
基板洗浄装置等を含む基板処理装置の実施の形態について説明する。
《構成》
基板洗浄装置等を含む基板処理装置の実施の形態について説明する。
【0018】
図１に示すように、本実施の形態の基板処理装置は、略矩形状のハウジング３１０と、多数の基板Ｗをストックする基板カセットが載置されるロードポート３１２と、を有している。ロードポート３１２は、ハウジング３１０に隣接して配置されている。ロードポート３１２には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard Mechanical Interface）ポッド、又はＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を搭載することができる。ＳＭＩＦポッド、ＦＯＵＰは、内部に基板カセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。基板Ｗとしては、例えば半導体ウエハ等を挙げることができる。
【0019】
ハウジング３１０の内部には、複数（図１に示す態様では４つ）の研磨ユニット３１４ａ～３１４ｄと、研磨後の基板Ｗを洗浄する第１洗浄ユニット３１６及び第２洗浄ユニット３１８と、洗浄後の基板Ｗを乾燥させる乾燥ユニット３２０とが収容されている。研磨ユニット３１４ａ～３１４ｄは、基板処理装置の長手方向に沿って配列され、洗浄ユニット３１６、３１８及び乾燥ユニット３２０も基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。本実施の形態の基板処理装置によれば、直径３００ｍｍ又は４５０ｍｍの半導体ウエハ、フラットパネル、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）やＣＣＤ（Charge Coupled Device）等のイメージセンサ、ＭＲＡＭ（Magnetoresistive Random Access Memory）における磁性膜の製造工程において、種々の基板Ｗを、研磨処理することができる。なお、別の実施の形態の基板処理装置としては、ハウジング３１０内に基板Ｗを研磨する研磨ユニットを設けず、基板Ｗの洗浄処理及び乾燥処理を行う装置としてもよい。
【0020】
ロードポート３１２、ロードポート３１２側に位置する研磨ユニット３１４ａ及び乾燥ユニット３２０に囲まれた領域には、第１搬送ロボット３２２が配置されている。また、研磨ユニット３１４ａ～３１４ｄ並びに洗浄ユニット３１６、３１８及び乾燥ユニット３２０と平行に、搬送ユニット３２４が配置されている。第１搬送ロボット３２２は、研磨前の基板Ｗをロードポート３１２から受け取って搬送ユニット３２４に受け渡したり、乾燥後の基板Ｗを乾燥ユニット３２０から取り出してロードポート３１２に戻したりする。
【0021】
第１洗浄ユニット３１６と第２洗浄ユニット３１８との間に、これら第１洗浄ユニット３１６と第２洗浄ユニット３１８の間で基板Ｗの受け渡しを行う第２搬送ロボット３２６が配置され、第２洗浄ユニット３１８と乾燥ユニット３２０との間に、これら第２洗浄ユニット３１８と乾燥ユニット３２０の間で基板Ｗの受け渡しを行う第３搬送ロボット３２８が配置されている。さらに、ハウジング３１０の内部には、基板処理装置の各機器の動きを制御する制御部３５０が配置されている。本実施の形態では、ハウジング３１０の内部に制御部３５０が配置されている態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、ハウジング３１０の外部に制御部３５０が配置されてもよいし、制御部３５０は遠隔地に設けられてもよい。
【0022】
第１洗浄ユニット３１６として、洗浄液の存在下で、基板Ｗの直径のほぼ全長にわたって直線状に延びるロール洗浄部材１１０を接触させ、基板Ｗに平行な中心軸周りに自転させながら基板Ｗの表面をスクラブ洗浄するロール洗浄装置が使用されてもよい。また、第２洗浄ユニット３１８として、洗浄液の存在下で、鉛直方向に延びる円柱状のペンシル洗浄部材の接触面を接触させ、ペンシル洗浄部材を自転させながら一方向に向けて移動させて、基板Ｗの表面をスクラブ洗浄するペンシル洗浄装置が使用されてもよい。また、乾燥ユニット３２０として、水平に保持しつつ回転する基板Ｗに向けて、移動する噴射ノズルからＩＰＡ蒸気を噴出して基板Ｗを乾燥させ、さらに基板Ｗを高速で回転させて遠心力によって基板Ｗを乾燥させるスピン乾燥ユニットが使用されてもよい。
【0023】
なお、第１洗浄ユニット３１６としてロール洗浄装置ではなく、第２洗浄ユニット３１８と同様のペンシル洗浄装置を使用したり、二流体ジェットにより基板Ｗの表面を洗浄する二流体ジェット洗浄装置を使用したりしてもよい。また、第２洗浄ユニット３１８としてペンシル洗浄装置ではなく、第１洗浄ユニット３１６と同様のロール洗浄装置を使用したり、二流体ジェットにより基板Ｗの表面を洗浄する二流体ジェット洗浄装置を使用したりしてもよい。
【0024】
本実施の形態の洗浄液には、純水（ＤＩＷ）等のリンス液と、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）、塩酸過酸化水素水（ＳＣ２）、硫酸過酸化水素水（ＳＰＭ）、フッ酸等の薬液が含まれている。本実施の形態で特に断りのない限り、洗浄液は、リンス液、薬液、又は、リンス液及び薬液の両方を意味している。
【0025】
図２に示すように、基板洗浄装置は、半導体ウエハ等の基板Ｗの周縁部を支持しながら基板Ｗを水平回転させる複数本（図２では４本）のスピンドル（基板支持部）４０を有してもよい。これらスピンドル４０は、図２の矢印で示すように、水平方向に移動可能となっている。また、基板洗浄装置は、基板Ｗの上方に昇降自在に配置される上側ロールアーム４２と、基板Ｗの下方に昇降自在に配置される下側ロールアーム４４とを有してもよい。
【0026】
スピンドル４０は、上部で基板支持部であるローラー８０を有してもよい。ローラー８０の外周側面には、嵌合溝８０ａが形成されている。そして、この嵌合溝８０ａ内に基板Ｗの周縁部を位置させ、ローラー８０を基板Ｗに押付けて回転させる。これにより、基板Ｗが図２に矢印Ｅで示すように水平に回転させられる。ここに図示した実施形態では、４個全てのローラー８０を図示しない駆動機構に連結して、基板Ｗに回転力を付与するようにしている。なお、４個のうち２個のローラー８０が基板Ｗに回転力を与え（駆動機構は図示せず）、他の２個のローラー８０は、基板Ｗの回転を受けるベアリングとして機能させてもよい。
【0027】
図２に示す上側ロールアーム４２には、円柱状で水平に延びるロール洗浄部材１１０（ロールスポンジ）１１０が回転自在に支持されている。このロール洗浄部材１１０は、例えば図２の矢印Ｆ1に示すように回転する。図２に示す下側ロールアーム４４には、円柱状で水平に延びるロール洗浄部材１１０（ロールスポンジ）１１０が回転自在に支持されている。このロール洗浄部材１１０は、図２の矢印Ｆ2に示すように回転する。上側ロールアーム４２は水平方向に延びるサポートアーム５８にロードセル５４を介して設けられてもよい。ロードセル５４とサポートアーム５８の自由端との間に、上側ロールアーム４２を傾動可能に支持するチルト機構７０が設置されてもよい。このようなチルト機構は下側ロールアーム４４にも設けられてもよい。
【0028】
図２に示す態様では、スピンドル４０で支持されながら回転させられる基板Ｗの上方に位置して、基板Ｗのおもて面（上面）に薬液及び純水（リンス液）を供給する２本の上側供給ノズル５０が配置されている。２本の上側供給ノズル５０のうちの一方が薬液を、他方が純水を供給するようにしてもよい。また、スピンドル４０で支持されながら回転させられる基板Ｗの下方に位置して、基板Ｗの裏面（下面）に薬液及び純水（リンス液）を供給する２本の下側供給ノズル５２が配置されてもよい。２本の下側供給ノズル５２のうちの一方が薬液を、他方が純水を供給するようにしてもよい。
【0029】
スピンドル４０は基板Ｗを支持する基板支持部の一例であるが、基板支持部は基板Ｗを水平方向に延在するようにして保持してもよいし、鉛直方向に延在するようにして保持してもよいし、水平方向から傾斜して保持してもよい。基板支持部としては前述したようなスピンドル４０とは異なり、基板Ｗをチャック又は吸着して保持しながら回転する態様を採用してもよい。
【0030】
図３及び図４に示すように、基板洗浄装置は、基板Ｗを洗浄するためのロール洗浄部材１１０等の洗浄部材を有する洗浄部材アセンブリ１００を取り付け可能となり、洗浄部材アセンブリ１００を取り付けた状態で回転可能な洗浄部材保持部２００と、洗浄部材保持部２００で保持された洗浄部材アセンブリ１００を回転させる部材回転部１８０と、を有している。
【0031】
洗浄部材アセンブリ１００は、洗浄部材取付部１０５と、洗浄部材取付部１０５の表面に取り付けられる洗浄部材とを有してもよい。以下では、一例として、洗浄部材としてロール洗浄部材１１０を用いて説明する。図７に示すように、ロール洗浄部材１１０は複数のノジュール（突起部材）１１５を有するスポンジからなってもよい。ノジュール１１５の頂部の面積を５ｃｍ2以下としてもよい。洗浄部材取付部１０５の材料として、ＰＶＤＦやＰＴＦＥを使用してもよい。また、図８に示すように、ロール洗浄部材１１０はノジュール（突起部材）１１５を有さない態様であってもよい。
【0032】
図８に示す洗浄部材取付部１０５は取付部である端部に一対の突出部１０５ａを有し、一対の突出部１０５ａの間にキー凹部１０５ｂが形成されている。図８及び図９に示す態様では、キー凹部１０５ｂに洗浄部材保持部２００のキー凸部２０５ｂが嵌め込まれることで、洗浄部材保持部２００に洗浄部材アセンブリ１００が取り付けられることになる。この際、一対になった突出部１０５ａの間にキー凸部２０５ｂの設けられた突出部２０５ａが位置付けられることになる。このように図８及び図９に示す態様では、洗浄部材取付部１０５及び洗浄部材保持部２００は方向特性を有しており、定まった方向でないと両者を取り付けることができない構成となっている。
【0033】
洗浄部材アセンブリ１００は、洗浄部材取付部１０５とロール洗浄部材１１０とが一体に構成されてもよく、洗浄部材取付部１０５上にロール洗浄部材１１０が成形されてもよい。また、洗浄部材取付部１０５とロール洗浄部材１１０は別部材として構成され、取り外し自在となってもよい。ロール洗浄部材１１０はＰＶＡ（polyvinyl alcohol）スポンジ材料やＰＶＡを反応させたＰＶＦＭ(polyvinyl formal)からなってもよい。このＰＶＡスポンジ材料は、ポリビニルアセテートのホモポリマー等から調整できる。ロール洗浄部材１１０の材料としては、ナイロン、ポリウレタン、又は、ポリウレタン及びＰＶＡの組合せ、あるいは基板Ｗ表面にかき傷をつけず、プロセスのための適した材料除去を提供する他のコポリマー等の他の成形可能材料を使用することができる。
【0034】
図３及び図４に示すように、基板洗浄装置は、ロール洗浄部材１１０内に洗浄液を供給するインナー洗浄液供給部４１０と、ロール洗浄部材１１０の外方から洗浄液を供給するアウター洗浄液供給部４２０と、を有してもよい。ロール洗浄部材１１０の回転速度は例えば５０ｒｐｍ（回転／分）～４００ｒｐｍである。
【0035】
インナー洗浄液供給部４１０とアウター洗浄液供給部４２０とで同じ洗浄液を供給してもよいが、このような態様に限られることはなく、インナー洗浄液供給部４１０とアウター洗浄液供給部４２０とで異なる洗浄液を供給してもよい。
【0036】
インナー洗浄液及びアウター洗浄液の洗浄液を供給する際には網目が１０ｎｍ程度からなるフィルター４１２，４２２を用いてもよい（図３及び図４参照）。このようなフィルター４１２，４２２を用いることで、洗浄液に含まれるゴミを除去することができる。アウター洗浄液供給部４２０は、前述したノズル５０，５２等からなるアウター洗浄液供給部材と、アウター洗浄液供給部材に連結され、アウター洗浄液供給部材に洗浄液を供給するアウター洗浄液貯留部４２４とを有してもよい。この場合、アウター洗浄液貯留部４２４とアウター洗浄液供給部材との間にフィルター４２２が設けられてもよい。また、インナー洗浄液供給部４１０と洗浄部材保持部２００との間にフィルター４１２が設けられてもよい。
【0037】
図３及び図４に示すように、洗浄部材取付部１０５は、本体１３０と、本体１３０の内部で延在する洗浄液導入部（空隙）１３５と、洗浄液導入部１３５に連通された複数の洗浄液供給孔１４０と、を有してもよい。洗浄部材取付部１０５は中空領域を有する円筒形状から構成されてもよい。この中空領域が洗浄液導入部１３５となり、洗浄液導入部１３５に洗浄液供給孔１４０が連通され、洗浄液導入部１３５に供給された洗浄液がロール洗浄部材１１０に浸み込み、基板Ｗを洗浄する際に利用されてもよい。図３及び図４はノジュール１１５が設けられていない箇所でロール洗浄部材１１０等を切断した断面である。
【0038】
洗浄液導入部１３５への洗浄液は、洗浄部材保持部２００の内部に設けられた供給管２１５を介して導入されてもよい。
【0039】
図５及び図６に示すように、基板洗浄装置は、洗浄部材アセンブリ１００を取り外した状態で洗浄部材保持部２００を軸方向に沿って移動させ、洗浄部材保持部２００の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部１５０を有している。移動部１５０はバネ等の弾性部材１５０ａであってもよい。弾性部材１５０ａは収容部１２０内に収容されており、ロール洗浄部材１１０が保持される側とは反対側（図５及び図６では左側）の端部に設けられてもよい。このような弾性部材１５０ａが設けられる場合には、洗浄部材アセンブリ１００が洗浄部材保持部２００から取り外されると、弾性部材１５０ａからの弾性力を受けて洗浄部材保持部２００が軸方向に沿って移動され、図６で示す回転固定位置に位置づけられることになる。但し、このような態様に限られることはなく、移動部１５０はモータ等の駆動部（図示せず）を有し、駆動部が洗浄部材保持部２００を軸方向に沿って移動させるようにしてもよい。
【0040】
洗浄部材保持部２００は、保持本体部２１０と、保持本体部２１０から周縁外方に突出した周縁突出部２２０を有してもよい。保持本体部２１０と周縁突出部２２０は一体に構成されてもよい。周縁突出部２２０は保持本体部２１０から２ｍｍ～５ｍｍ程度で周縁外方に突出してもよい。
【0041】
図５は洗浄部材アセンブリ１００が洗浄部材保持部２００に取り付けられている状態であるが、この状態では、洗浄部材アセンブリ１００によって弾性部材１５０ａが洗浄部材アセンブリ１００と反対側に押されて、周縁突出部２２０が収容部１２０から離間した状態となっている。図６は洗浄部材アセンブリ１００が洗浄部材保持部２００から取り外されている状態であるが、この状態では、弾性部材１５０ａによって洗浄部材保持部２００が押されて、周縁突出部２２０が収容部１２０に当接した状態となっている。
【0042】
図６に示すように、周縁突出部２２０が洗浄部材保持部２００の少なくとも一部を収容する収容部１２０の内面と面接触し、周縁突出部２２０が収容部１２０の内面に押し付けられることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制（固定）されるようになってもよい。移動部１５０がバネ等の弾性部材１５０ａからなる場合には、弾性部材１５０ａからの弾性力を受けて周縁突出部２２０が収容部１２０の内面と面接触することで、洗浄部材保持部２００の回転が規制されることになる。周縁突出部２２０はロール洗浄部材１１０の回転軸に対して周縁方向全体で突出してもよいが（図１０参照）、複数の周縁突出部２２０が間隔を設けて配置されるようにしてもよい（図１１参照）。但し、収容部１２０の内面との接触面積が大きい方が洗浄部材保持部２００の回転を規制しやすくなることから、この観点からすると、周縁突出部２２０はロール洗浄部材１１０の回転軸に対して周縁方向全体で突出する態様が有益である。
【0043】
周縁突出部２２０の収容部１２０の内面と面接触する面は凹凸形状を有してもよく、荒らし面となってもよい。また、周縁突出部２２０の収容部１２０の内面と面接触する面にはゴム等の弾性部材２２０ａが設けられ、周縁突出部２２０が収容部１２０の内面に押し付けられる際にはゴム等の弾性部材２２０ａが変形するようにしてもよい（図２５Ａ及び図２５Ｂ参照）。このような態様を採用することで、収容部１２０の内面との間の抵抗値を高めることができる。また、移動部１５０がバネ等の弾性部材１５０ａからなる場合には、弾性部材１５０ａとしてバネ定数の極端に高いものを採用する必要もなくなる。バネ定数としては例えば０．０３ｋｇ／ｍｍ～０．１０ｋｇ／ｍｍのものを用いることが考えられる。
【0044】
周縁突出部２２０の収容部１２０の内面と面接触する面は平坦面からなってもよい。この場合には、移動部１５０からの力を均一に収容部１２０の内面に伝えることができ、収容部１２０の内面の全体で周縁突出部２２０との間で摩擦力を作り出すことができる。また、このような平坦面を採用することで、周縁突出部２２０が収容部１２０の内面と当接する際に予期せぬ粉塵等が発生してしまうことを防止できる。
【0045】
洗浄部材アセンブリ１００の一端部は洗浄部材保持部２００によって従動的に保持され、他端部はモータ等の駆動部を有する部材回転部１８０によって駆動されてもよい（図３参照）。この場合、洗浄部材保持部２００は、部材回転部１８０によって駆動される第二洗浄部材保持部２０５ｂと、従動的に駆動される第一洗浄部材保持部２００ａとを有することになる。このような態様では、弾性部材１５０ａ等からなる移動部１５０は従動部に設けられてもよい。
【0046】
ロール洗浄部材１１０は両持ち構造である必要はなく、図４に示すように片持ち構造であってもよい。この場合には、ロール洗浄部材１１０が保持されている側に部材回転部１８０が設けられることになる。
【0047】
周縁突出部２２０は、縦断面において、洗浄部材アセンブリ１００側の厚み（図５及び図６では右側）がロール洗浄部材１１０とは反対側（図５及び図６では左側）の厚みよりも厚くなってもよい。図５及び図６に示す態様では、縦断面において、洗浄部材アセンブリ１００側に向かうにつれて周縁突出部２２０の厚みが厚くなる態様となっている。但し、このような態様に限られることはなく、断続的に（例えば階段状で）洗浄部材アセンブリ１００側に向かうにつれて周縁突出部２２０の厚みが厚くなる態様を採用してもよい。また、図２３Ａ及び図２３Ｂに示すように、周縁突出部２２０は横断面で四角形状となり、その厚みが均一なものとなってもよい。
【0048】
図１３に示すように、洗浄部材保持部２００が周縁外方に突出した第一突出部２３０を有し、洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０は内面に第一突出部２３０を収容する第一凹部１９０を有してもよい。この場合には、第一突出部２３０が第一凹部１９０内に収容されることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制されることになる。また、一つ又は複数の第一突出部２３０が設けられる場合において、第一凹部１９０が複数設けられてもよい（図１４参照）。第一突出部２３０の数と第一凹部１９０の数が合致する必要はなく、第一凹部１９０の数が第一突出部２３０の数よりも多くなっていればよい。この場合には、第一突出部２３０がいずれかの第一凹部１９０内に収容されることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制されることになる。第一突出部２３０はピン形状であってもよく、その長さは２～５ｍｍ程度であってもよい。
【0049】
また、上記態様とは異なり、図１５に示すように、洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０が内面に第二突出部１９５を有し、洗浄部材保持部２００が第二突出部１９５を収容する第二凹部２４０を有してもよい。この場合には、第二突出部１９５が第二凹部２４０内に収容されることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制されることになる。また、一つ又は複数の第二突出部１９５が設けられる場合において、第二凹部２４０が複数設けられてもよい（図１６参照）。第二突出部１９５の数と第二凹部２４０の数が合致する必要はなく、第二凹部２４０の数が第二突出部１９５の数よりも多くなっていればよい。第二突出部１９５もピン形状であってもよく、その長さは２ｍｍ～５ｍｍ程度であってもよい。
【0050】
また、上記態様が組み合わされてもよい。例えば、周縁突出部２２０と第一突出部２３０及び第一凹部１９０の組み合わせとが採用されてもよいし、周縁突出部２２０と第二突出部１９５及び第二凹部２４０の組み合わせの両方が採用されてもよい。
【0051】
図１７に示す態様では、周縁突出部２２０と第一突出部２３０及び第一凹部１９０の組み合わせとを採用した態様が示されている。図１８に示す態様では、周縁突出部２２０と第二突出部１９５及び第二凹部２４０の組み合わせとを採用した態様が示されている。
【0052】
また、周縁突出部２２０と第一突出部２３０及び第一凹部１９０の組み合わせとが採用される場合には、図１９Ａ及び図１９Ｂに示す態様であってもよい。また、図２１Ａ及び図２１Ｂに示すように、複数の第一突出部２３０及び第一凹部１９０が採用されてもよい。
【0053】
また、周縁突出部２２０と第二突出部１９５及び第二凹部２４０の組み合わせとが採用される場合には、図２０Ａ及び図２０Ｂに示す態様であってもよい。また、図２２Ａ及び図２２Ｂに示すように、複数の第二突出部１９５及び第二凹部２４０が採用されてもよい。
【0054】
図５及び図６に示すように、ベアリング２６０は、２つ以上の軸受部材２６１を有してもよい。軸受部材２６１の軸方向の間にベアリング２６０を濡らすための潤滑流体が供給されてもよい。この潤滑流体は洗浄液からなってもよく、特にリンス液であってもよい。また、内側部材２８０の周縁外方には密閉部２９０が設けられてもよい。この密閉部は、第一密閉部２９１と、第一密閉部２９１に隣接して設けられた第二密閉部２９２とを有してもよい。第一密閉部２９１及び第二密閉部２９２の各々はＯリングであってもよい。
【0055】
図１２に示すように、周縁突出部２２０は１つ以上の溝部２２０ａを有してもよい。この溝部２２０ａを介してベアリング２６０を濡らすための潤滑流体が収容部１２０の洗浄部材アセンブリ１００側に流れるようにすることができる。
【0056】
【0057】
洗浄部材アセンブリ１００を洗浄部材保持部２００に取り付ける際には、洗浄部材アセンブリ１００を従動部側の洗浄部材保持部２００に押し込むことで弾性部材１５０ａが縮むことになる。図８及び図９に示す態様では、一対の突出部１０５ａの間に突出部２０５ａを位置づけた後で、キー凹部１０５ｂにキー凸部２０５ｂを嵌め込んで、洗浄部材アセンブリ１００を洗浄部材保持部２００側に押し込む。この状態では、洗浄部材保持部２００の取付部２０１は自在に回転するので、洗浄部材アセンブリ１００を適切な位置まで回転させて、駆動部側（部材回転部１８０側）の洗浄部材保持部２００に洗浄部材アセンブリ１００の他端を取り付ける。なお、駆動部側の洗浄部材保持部２００でも、一対の突出部１０５ａの間に突出部２０５ａを位置づけた後で、キー凹部１０５ｂにキー凸部２０５ｂを嵌め込むようにする。
【0058】
洗浄部材アセンブリ１００を洗浄部材保持部２００から取り外す際には、洗浄部材アセンブリ１００を従動部側の洗浄部材保持部２００に押し込むことで弾性部材１５０ａを縮ませた後、駆動部側（部材回転部１８０側）の洗浄部材保持部２００から洗浄部材アセンブリ１００の他端を取り外す。その後で、洗浄部材アセンブリ１００の一端を従動部側の洗浄部材保持部２００から取り外す。このように洗浄部材保持部２００から洗浄部材アセンブリ１００を取り外すことで、弾性部材１５０ａによって、周縁突出部２２０が洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０の内面と面接触する。このように周縁突出部２２０が収容部１２０の内面に押し付けられることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制（固定）されることになる。
【0059】
なお、洗浄部材取付部１０５とロール洗浄部材１１０とが別体になっている洗浄部材アセンブリ１００である場合には、洗浄部材取付部１０５にロール洗浄部材１１０を固定するためのナット等の取付部材を取り外し、新しい又は洗浄後のロール洗浄部材１１０を洗浄部材取付部１０５に取り付けることで、ロール洗浄部材１１０を交換することができる。
【0060】
図２６に示すように、制御部３５０には、インナー洗浄液供給部４１０、アウター洗浄液供給部４２０、部材回転部１８０、基板支持部であるスピンドル４０、操作者が情報を入力する入力部４００等が有線又は無線で接続されており、これらから情報を受け取ったり、これらに指令を与えたりするように構成されている。なお、図２６では、第１搬送ロボット３２２、搬送ユニット３２４、第２搬送ロボット３２６、第３搬送ロボット３２８等の搬送機構を総称して搬送部３００として示している。
【0061】
《効果》
次に、上述した構成からなる本実施の形態による効果であって、未だ説明していないものを中心に説明する。「構成」で記載されていない場合であっても、「効果」で説明するあらゆる構成を本件発明において採用することができる。
次に、上述した構成からなる本実施の形態による効果であって、未だ説明していないものを中心に説明する。「構成」で記載されていない場合であっても、「効果」で説明するあらゆる構成を本件発明において採用することができる。
【0062】
一般的に洗浄部材保持部２００はベアリング２６０を有していることから、自在に回転する構成となっている。このため、本実施の形態の態様を採用しない場合には、洗浄部材保持部２００の洗浄部材アセンブリ１００側の部分（図５の右側部分）が自在に回転してしまう。取り付け現場では、洗浄部材保持部２００の回転位置を目視することができないことから、洗浄部材保持部２００にロール洗浄部材１１０に取り付けることに手間がかかってしまう。一例として、図８及び図９に示す構成では、キー凹部１０５ｂ内にキー凸部２０５ｂが嵌め込まれることで、洗浄部材保持部２００に洗浄部材アセンブリ１００が取り付けられることになるが、目視することができない状態で洗浄部材保持部２００の取付部２０１が自在に回転してしまうので、突出部２０５ａを一対の突出部１０５ａの間に位置づけるのに手間がかかってしまう。なお、図８及び図９に示すように突出部２０５ａ及び一対の突出部１０５ａが設けられている態様とは異なり、これらが設けられておらず、洗浄部材保持部２００のいずれの方向においても洗浄部材アセンブリ１００を取り付けることができる態様（方向特性を全く有していない態様）を採用した場合には、取り付けの手間に関する問題は解消されるが、洗浄部材保持部２００から洗浄部材アセンブリ１００へと回転動力を適切に伝えることができないという別の問題が生じ得る。
【0063】
本実施の形態において、洗浄部材アセンブリ１００を取り外した状態で洗浄部材保持部２００を軸方向に沿って移動させ、洗浄部材保持部２００の回転を規制する回転固定位置に位置づける移動部１５０を採用した場合には、洗浄部材アセンブリ１００を取り外した状態で洗浄部材保持部２００の回転を規制（固定）することができる。このため、洗浄部材保持部２００への洗浄部材アセンブリ１００の取り付けを容易に行うことができる。従来の態様では、前述したとおり洗浄部材保持部２００が自在に回転してしまっていたことから、洗浄部材保持部２００に洗浄部材アセンブリ１００を取り付けようとしても、手間と時間がかかっていた。本態様によれば、このような問題を解決することができる。なお、洗浄部材アセンブリ１００の洗浄部材保持部２００への取り付けに時間がかかってしまうと、ロール洗浄部材１５０が汚れてしまい、洗浄度が低下してしまうという問題が生じ得る。
【0064】
移動部１５０がバネ等の弾性部材１５０ａからなる場合には、モータ等の駆動部を導入することなく、洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる。このため、簡易かつ安価に洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる。
【0065】
洗浄部材保持部２００の従動部側ではモータ等の部材回転部１８０によるロック機構が存在しないため、洗浄部材保持部２００が自在に回転してしまう問題が生じやすい。この点、洗浄部材保持部２００の回転を規制する移動部１５０を従動部に設けられることで、当該問題を解決することができる。他方、部材回転部１８０ではサーボロックといったロック機構によって回転が規制されているので、自在に回転することにはならない。但し、サーボロックといったロック機構を解除した場合には、駆動部側（部材回転部１８０側）の洗浄部材保持部２００も自在に回転することになるので、洗浄部材保持部２００を回転固定位置に位置づける移動部１５０が駆動部側（部材回転部１８０側）に設けられてもよい。
【0066】
図１０及び図１１に示すように、洗浄部材保持部２００が周縁外方で突出した周縁突出部２２０を有し、周縁突出部２２０が洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０の内面と面接触し、周縁突出部２２０が収容部１２０の内面に押し付けられることで、洗浄部材保持部２００の回転が規制される態様を採用した場合には、周縁突出部２２０の面での抵抗（摺動抵抗）によって洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる。移動部１５０として弾性部材１５０ａを用いる場合には、洗浄部材保持部２００の回転を規制するためにバネ定数の大きな弾性部材１５０ａを用いることが考えられるが、周縁突出部２２０を収容部１２０の内面と面接触させることで、バネ定数の極端に大きな弾性部材１５０ａを用いることなく、洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる点で有益である。
【0067】
図１２に示すように周縁突出部２２０が１つ以上の溝部２２０ａを有する態様を採用した場合には、溝部２２０ａを介してベアリング２６０に供給される潤滑流体を洗浄部材アセンブリ１００側に導くことができる。このため、仮に周縁突出部２２０の洗浄部材アセンブリ１００側の面にゴミ等が付着していても、潤滑流体で洗い流すことができる。洗浄部材アセンブリ１００が取り付けられ、基板Ｗを洗浄する際には、周縁突出部２２０は収容部１２０から離間し、自在に回転しているので、潤滑流体によって周縁突出部２２０の洗浄部材アセンブリ１００側の面を容易に洗浄することができる。
【0068】
図５及び図６に示すように、周縁突出部２２０が、縦断面において、洗浄部材アセンブリ１００側の厚みがロール洗浄部材１１０とは反対側の厚みよりも厚くなる態様を採用する場合には、潤滑流体供給管１２１から供給される潤滑流体が周縁突出部２２０を乗り越えて洗浄部材アセンブリ１００側に導きやすくなる。このため、前述したとおり、仮に周縁突出部２２０の洗浄部材アセンブリ１００側の面にゴミ等が付着していても、潤滑流体で洗い流すことができる。また、この態様を採用した場合には、周縁突出部２２０の回転軸側（根本）での厚みを厚くすることができ、強度を高めることができる。
【0069】
図１３及び図１４に示すように、洗浄部材保持部２００が周縁外方に突出した第一突出部２３０を有し、洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０は内面に第一突出部２３０を収容する第一凹部１９０を有する態様を採用した場合には、第一突出部２３０を第一凹部１９０に収容することで洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる。この場合には、洗浄部材保持部２００の洗浄部材アセンブリ１００側の端部（取付部）が回転することをより確実に防止できる。但しこの態様では、第一突出部２３０を第一凹部１９０に収容する必要があるので、周縁突出部２２０が保持本体部２１０の周縁で突出する態様と比較して便益性は劣る。なお、第一突出部２３０を第一凹部１９０に収容させるには、洗浄部材保持部２００の洗浄部材アセンブリ１００側の端部（取付部２０１）を回転させることで、第一突出部２３０が第一凹部１９０内に自動的に収まることになる。
【0070】
第一凹部１９０が複数設けられる場合には、第一突出部２３０を収容できる第一凹部１９０の数を増やすことができるので、洗浄部材アセンブリ１００を取り外す際に第一突出部２３０を第一凹部１９０に収容する手間を簡易なものにすることができる。第一突出部２３０及び第一凹部１９０が一つずつ設けられる場合には、洗浄部材アセンブリ１００を取り外した際に、常に同じ位置に洗浄部材保持部２００を位置付けることができる。このため、図８及び図９に示すような構成を採用する場合には、洗浄部材アセンブリ１００を取り外したときに突出部２０５ａを概ね同じ位置に位置づけることができ、突出部２０５ａを一対の突出部１０５ａの間に位置付けることが容易になる。
【0071】
図１５及び図１６に示すように、洗浄部材保持部２００を収容する収容部１２０が内面に第二突出部１９５を有し、洗浄部材保持部２００が第二突出部１９５を収容する第二凹部２４０を有する態様を採用した場合には、第二突出部１９５を第二凹部２４０に収容することで洗浄部材保持部２００の回転を規制することができる。但しこの態様でも、第二突出部１９５を第二凹部２４０に収容する必要があるので、洗浄部材アセンブリ１００を取り外す際には、第二突出部１９５と第二凹部２４０の位置を確認する必要がある点では、周縁突出部２２０が保持本体部２１０の周縁で突出する態様と比較して便益性は劣る。第二凹部２４０及び第二突出部１９５が一つずつ設けられる場合には、前述した態様と同様、洗浄部材アセンブリ１００を取り外した際に、常に同じ位置に洗浄部材保持部２００を位置付けることができる。このため、図８及び図９に示すような構成を採用する場合には、洗浄部材アセンブリ１００を取り外したときに突出部２０５ａを概ね同じ位置に位置づけることができ、突出部２０５ａを一対の突出部１０５ａの間に位置付けることが容易になる。
【0072】
周縁突出部２２０が採用される態様では、図２４に示すように、洗浄部材保持部２００の取付部２０１に切欠き等の印２７０が設けられてもよい。この印２７０は１箇所にだけ設けられてもよいし、１８０度の位置関係で１対設けられてもよい。このような印２７０を設けることで、回転方向においていずれの位置にも定まり得る洗浄部材保持部２００の取付部２０１を所定の位置に位置付けることができ、駆動部側（部材回転部１８０側）の洗浄部材保持部２００との関係から取り付け易い位置に取付部２０１を位置付けることできる。
【0073】
第二凹部２４０が複数設けられる場合には、第二突出部１９５を収容できる第二凹部２４０の数を増やすことができるので、洗浄部材アセンブリ１００を取り外す際に第二突出部１９５を第二凹部２４０に収容する手間を簡易なものにすることができる。
【0074】
製造のしやすさからすると、第一突出部２３０及び第一凹部１９０の組み合わせの方が、第二突出部１９５及び第二凹部２４０の組み合わせよりも優れている。
【0075】
なお、一実施態様における、洗浄部材が洗浄する処理対象物は、半導体ウエハに限られず、シリコンウエハ、ガラス基板、プリント配線基板、液晶パネル、太陽光パネルであってもよい。また、処理対象物の平面の形状は円形であっても矩形であってもよく、平面の厚みが面内のたわみを許容する厚みであってもよい。処理する基板は、角形基板、円形基板を含む。また、角形基板は、矩形等の多角形のガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の多角形のめっき対象物を含む。円形基板は、半導体ウエハ、ガラス基板、その他の円形のめっき対象物を含む。
【0076】
洗浄液としては、高温の純水、ＡＰＭ（Ammonium Hydrogen-peroxide Mixture、アンモニアと過酸化水素水との混合液）、ＳＰＭ（Sulfuric- Acid Hydrogen Peroxide Mixture、硫酸と過酸化水素水との混合液）、炭酸水、超音波水、オゾン水等を適用できる。
【0077】
上述した各実施の形態の記載及び図面の開示は、特許請求の範囲に記載された発明を説明するための一例に過ぎず、上述した各実施の形態の記載又は図面の開示によって特許請求の範囲に記載された発明が限定されることはない。また、出願当初の請求項の記載はあくまでも一例であり、明細書、図面等の記載に基づき、請求項の記載を適宜変更することもできる。
【符号の説明】
【0078】
４０ スピンドル（基板支持部）
１００ 洗浄部材アセンブリ
１２０ 収容部
１５０ 移動部
１８０ 部材回転部
１９０ 第一凹部
１９５ 第二突出部
２００ 洗浄部材保持部
２２０ 周縁突出部
２２０ａ 溝部
２３０ 第一突出部
２４０ 第二凹部
Ｗ 基板
１００ 洗浄部材アセンブリ
１２０ 収容部
１５０ 移動部
１８０ 部材回転部
１９０ 第一凹部
１９５ 第二突出部
２００ 洗浄部材保持部
２２０ 周縁突出部
２２０ａ 溝部
２３０ 第一突出部
２４０ 第二凹部
Ｗ 基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19A】
【図19B】
【図20A】
【図20B】
【図21A】
【図21B】
【図22A】
【図22B】
【図23A】
【図23B】
【図24】
【図25A】
【図25B】
【図26】
