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特許7503094リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する、波長依存測定光反射率の効果、および測定光の偏光の効果を測定する方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-11
(45)【発行日】2024-06-19
(54)【発明の名称】リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する、波長依存測定光反射率の効果、および測定光の偏光の効果を測定する方法
(51)【国際特許分類】
G01N 21/21 20060101AFI20240612BHJP
G01N 21/55 20140101ALI20240612BHJP
G03F 1/24 20120101ALI20240612BHJP
G03F 1/84 20120101ALI20240612BHJP
【ＦＩ】
G01N21/21 Z
G01N21/55
G03F1/24
G03F1/84
【請求項の数】
15
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2022073194
(22)【出願日】2022-04-27
(65)【公開番号】P2022169487
(43)【公開日】2022-11-09
【審査請求日】2022-08-05
(31)【優先権主張番号】10 2021 204 170.1
(32)【優先日】2021-04-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(73)【特許権者】
【識別番号】503263355
【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100094569
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 伸一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100109070
【弁理士】
【氏名又は名称】須田 洋之
(74)【代理人】
【識別番号】100067013
【弁理士】
【氏名又は名称】大塚 文昭
(74)【代理人】
【識別番号】100086771
【弁理士】
【氏名又は名称】西島 孝喜
(74)【代理人】
【識別番号】100120525
【弁理士】
【氏名又は名称】近藤 直樹
(74)【代理人】
【識別番号】100139712
【弁理士】
【氏名又は名称】那須 威夫
(74)【代理人】
【識別番号】100158469
【弁理士】
【氏名又は名称】大浦 博司
(72)【発明者】
【氏名】ヴァルター パウルス
(72)【発明者】
【氏名】レンツォ カペッリ
【審査官】伊藤 裕美
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－２０９０７５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－１３３２１２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００３／００８１２１０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００４－０４５２６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－２３４８８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００７－５３７４５５（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１９／０２５００９４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許第０６８６４４９０（ＵＳ，Ｂ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０１Ｎ ２１／００－Ｇ０１Ｎ ２１／６１
Ｇ０３Ｆ １／２４
Ｇ０３Ｆ １／８４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
リソグラフィマスク（１３）への測定光衝突に対する測定光（１）の偏光の効果を測定する方法であって、－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、
－ 偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 生の偏光状態を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）の下流の測定光ビーム経路内の、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する、前記偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記生の偏光状態とは異なるフィルタ偏光状態を有する測定光を生成するために、前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビームの前記ビーム経路内に、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップであって、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）は、入射測定光（１）の別の偏光成分に関して、前記入射測定光（１）の一定の偏光成分を前記偏光フィルタが減衰する、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する、前記偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップと、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、前記リソグラフィマスク（１３）への前記測定光衝突に対する、前記測定光（１）の前記偏光の前記効果を決定するステップと
を含む方法。
【請求項2】
前記フィルタを導入する前記ステップ、および前記偏光フィルタが導入された後に前記測定光を捕捉する前記ステップは、前記測定光（１）に対する偏光効果に関して異なる複数の偏光フィルタ（４１；４４）に対して反復されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記偏光測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、前記偏光フィルタ（４１；４４）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項4】
－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、－ 反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 波長下限とそれとは異なる波長上限との間の波長帯域幅を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射された、測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する前記反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビーム（１）のビーム経路内に、前記波長帯域幅内の波長依存透過率（２４～２７）を有する、フィルタ（３３；３９；３９ａ）を導入するステップと、
－ 前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、波長依存反射率ＲRet、または波長依存反射率ＲRetの効果を決定するステップと
をさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項5】
フィルタを導入する前記ステップ、および前記フィルタが導入された後に前記反射された測定光を捕捉する前記ステップは、波長依存透過率（２４～２７）に関して異なる、複数のフィルタ（３３；３９；３９ａ）に対して反復されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項6】
前記反射率測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、フィルタ（３３；３９；３９ａ）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項7】
前記波長依存反射率ＲRetは、波長帯域幅内の目標波長（λ0）の周りの波長範囲内の捕捉結果に基づいて決定されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項8】
前記リソグラフィマスク（１３）上の構造の前記波長依存反射率ＲRetに対する影響は、波長依存反射率ＲRetを決定するときに決定されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項9】
前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）は、フィルタ配置平面（２８）内で非回転対称フィルタ効果を有し、前記フィルタ配置平面（２８）に垂直な回転軸（３４）に対して定義された方位を有する前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に導入されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項10】
請求項１または２に記載の方法を用いて、測定光（１）に対する、リソグラフィマスク（１３）の効果を測定するための測定装置（２；２９；３２）であって、－ 測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）の区間が、前記測定光（１）が衝突することができる視野（１１）内に配置されるように、前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射される、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、測定光ビーム（１）のビーム経路内に配置された、少なくとも１つのフィルタ（３３；３９；３９ａ；４１；４４）を有する、少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）であって、
－ 交換可能なフィルタホルダとして設計される、
少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）と、
－ 前記検出器（１８）に信号接続された、信号取得および評価デバイス（２３）と
を有する測定装置（２；２９；３２）。
【請求項11】
前記フィルタホルダ（２１、２２）は、前記測定装置（２；２９；３２）の瞳面（８、１５）内に配置されることを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置。
【請求項12】
前記フィルタホルダ（１９～２２）は、前記測定光源（３）と、前記マスクホルダ（１４）との間の、前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内、および／または前記マスクホルダ（１４）と、前記検出器（１８）との間の前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に配置されることを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置。
【請求項13】
前記視野（１１）内に配置された物体視野（１１）を、像平面（１７）内に結像するための投影光学ユニット（９）であって、前記検出器（１８）は、前記像平面（１７）内に配置される、投影光学ユニット（９）を特徴とする請求項１０に記載の測定装置。
【請求項14】
前記フィルタホルダ（２０）は、フィルタ配置平面（２８）が法線平面（７）に関して、測定光ビーム経路に傾斜されるように方位付けられることを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置。
【請求項15】
前記フィルタ（４４）は、法線平面（ｘｙ）に関して、前記測定光（１）のビーム方向（ｚ）に傾斜された、複数のフィルタ区間（４５、４６、４７、４８）を有することを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
ドイツ特許出願公開第１０２０２１２０４１７０．１号の内容が参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
本発明は、リソグラフィマスクの波長依存測定光反射率の効果を測定する方法に関する。さらに、本発明は、リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する、測定光の偏光の効果を測定する方法に関する。さらに、本発明は、測定光に対する、リソグラフィマスクの効果を測定するための測定装置に関する。
【背景技術】
【0003】
対象物の反射率を測定するために、その反射率に関して決定されることになる、対象物の拡大された区間を照射する反射率計が知られている。反射率計は、様々な用途のための多様な設計で知られている。ＥＵＶリソグラフィのための反射率計は、PTB News edition 1, 2003, published by the Physikalisch-Technische Bundesanstalt (National Metrology Institute of Germany)から知られている。
【0004】
ドイツ特許出願公告第１０２００９０１５３９３（Ｂ３）号は、複屈折を測定するための測定方法および測定システムを開示している。ドイツ特許出願公開第１０２０１００４５１３５号は、マスク上の構造を特性化する方法、および方法を実行するための装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】ドイツ特許出願公告第１０２００９０１５３９３（Ｂ３）号
【文献】ドイツ特許出願公開第１０２０１００４５１３５号
【非特許文献】
【0006】
【文献】PTB News edition 1, 2003, published by the Physikalisch-Technische Bundesanstalt (National Metrology Institute of Germany)
【発明の概要】
【0007】
本発明の目的は、測定の光学パラメータについて、測定光に対するリソグラフィマスクの効果をアクセス可能にすることである。
【0008】
この目的は、当初請求項１に記載される特徴を有する測定方法による本発明により達成される。
【0009】
このような測定方法は、特に、測定されるリソグラフィマスクへの測定光衝突の偏光成分の決定を可能にする。また、測定装置の構成要素に対する、特に測定装置のミラーに対する、測定光衝突の偏光成分を決定することが可能である。
【0010】
リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する偏光の効果の測定は、リソグラフィマスクに関して反射においておよび／または透過において実施され得る。偏光フィルタは、測定装置の測定光源の下流に直接、例えばデブリフィルタの位置において、導入されることができ、または、代替としてまたは追加として、リソグラフィマスクの上流の測定光の中間焦点の領域に導入され得る。
【0011】
当初請求項２による方法の場合、それらの偏光効果に関して異なる偏光フィルタを用いた捕捉は、効果を決定するときに用いられ得る追加の情報をもたらす。複数の異なる偏光フィルタの使用に対する代替として、また原理として、それぞれの場合に異なる方位を有して、測定光ビーム経路内に、同一の偏光フィルタを導入することが可能である。具体的には、偏光フィルタに対する測定光の入射角を変化させることが可能であり、あるいは偏光フィルタに対する測定光ビームの入射面の方位を変化させることが可能である。
【0012】
当初請求項３による方法において、構造解像度は、導入されるフィルタを用いずに、および用いて比較される。測定光の偏光に対するリソグラフィマスクの効果は、像表示の構造解像度に対するそれの効果として測定される。構造解像度の尺度として、限界寸法（ＣＤ）が決定され得る。構造解像度は、空間分解のやり方で測定する検出器、例えばＣＣＤ検出器またはＣＭＯＳ検出器を用いて測定され得る。
【0013】
本発明の他の目的は、リソグラフィマスクの測定光反射率の効果を測定する方法を改善することである。
【0014】
本発明によれば、この目的は、当初請求項４に記載される特徴を有する方法によって達成される。
【0015】
本発明によれば、測定光の波長帯域幅内での波長依存透過率を有するフィルタの導入を用いて、リソグラフィマスクの波長依存測定光反射率の効果を測定することが可能であることが認識された。この目的を達するために、具体的には、ＥＵＶ光が測定光として用いられ、前記ＥＵＶ光はまた、微細構造またはナノ構造半導体構成要素を生成するためのＥＵＶ投影露光の間に用いられる。使用可能な測定光源の波長スペクトルの例は、専門家の論文"Application of a high-brightness electrodeless Z-pinch EUV source for metrology, inspection, and resist development", S. F. Horne et al., SPIE Proceedings of the 31st International Symposium on Microlithography, 2006で述べられている。測定光の波長帯域幅は、１ｎｍとすることができ、例えば１３．０ｎｍの波長下限と、例えば１４．０ｎｍの波長上限との間の、１３．５ｎｍの中心波長λ0の周りに配置され得る。用いられる測定光源に応じて、０．２ｎｍ～１００ｎｍの範囲の他の波長帯域幅、および５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の他の中心波長、およびＥＵＶ波長範囲の外側の、より長い波長、例えばＶＵＶ波長範囲内、およびさらに大きな波長帯域幅も可能である。
【0016】
原理上は、方法はまた、リソグラフィマスクの波長依存測定光透過率の効果を測定するため、すなわち例えば位相マスクを測定するために用いられ得る。
【0017】
導入されたフィルタあり、および導入されたフィルタなしで現れる、検出－捕捉結果の差から、波長依存反射率、または波長依存反射率の効果のいずれかを決定することが可能である。
【0018】
それぞれのフィルタは、測定装置の瞳面内に導入され得る。検出器は、視野内に配置された物体視野がそれに結像される、視野平面内に配置され得る。フィルタは、測定光源とマスクホルダとの間の測定光ビームのビーム経路内に、および／またはマスクホルダと検出器との間の測定光ビームのビーム経路内に導入され得る。このようにして、測定装置のいくつかの光学構成要素の波長の影響を、リソグラフィマスク自体の波長の影響から分離することが可能である。例として、またリソグラフィマスクを保護するために用いられ得るペリクル（ｐｅｌｌｉｃｌｅ：薄膜）の波長依存の影響を測定することが可能である。
【0019】
構造化されたリソグラフィマスクの波長依存測定光反射率の効果の測定に対する代替として、また静止の非構造化マスクブランクの波長依存測定光反射率の効果を測定することが可能である。代替としてまたは追加として、ひいては測定方法はまた、測定装置の他の構成要素、例えば測定装置の１つまたは複数のミラーの、波長依存測定光反射率の効果を測定するために用いられ得る。
【0020】
測定方法によって得られる情報は、ＥＵＶ投影リソグラフィを用いた、微細構造またはナノ構造構成要素を生成する方法を改善するために用いられ得る。
【0021】
捕捉結果の情報の内容は、それらの波長依存透過率に関して異なる複数のフィルタの使用のために、当初請求項５による測定方法において、増加される。少なくとも１つのハイパスフィルタ、少なくとも１つのローパスフィルタ、少なくとも１つのバンドパスフィルタ、あるいは少なくとも１つのノッチフィルタが使用され得る。目標波長を通過させ、および隣接した波長を阻止する、逆ノッチフィルタも用いられ得る。応用例に応じて、これらの様々なフィルタ変形体はまた、組み合わせにおいて用いられ得る。複数の異なるフィルタの順次的な導入の代わりに、また、同一のフィルタが複数回、例えば異なる方位を有して、それぞれの導入された位置においてその波長依存透過率が変化するように導入され得る。
【0022】
当初請求項６による方法の利点は、当初請求項３に関連して上記ですでに説明されたものに対応する。
【0023】
当初請求項７による波長依存反射率の直接決定は、比較可能な、および特に絶対的に較正可能な結果をもたらし、それらの比較可能性を向上させる。波長依存反射率の決定の範囲内で、反射率は目標波長において決定されることができ、さらに、反射率の波長依存勾配は、前記目標波長において決定され得る。次いで、目標波長のすぐ近くでの反射率が、決定された勾配を介して推定され得る。追加としてまた、目標波長での反射率の波長依存曲率を決定することが可能であり、目標波長の近傍における反射率の決定の正確さをさらに改善するのに役立ち得る。原理上はまた、反射率と波長との間の関数的関係のより高次の導関数を決定することが可能である。これは、波長帯域幅内の透過率の異なる波長依存性を有する、異なるフィルタ導入状況に対して、反射された測定光を適切な回数、捕捉することによって実施され得る。捕捉の数に応じて、対応する数の相互に独立な波長依存効果の量を決定することが可能である。
【0024】
リソグラフィマスクは、通常は等方性構造をもたず、しばしば例えば好ましい構造方向、例えば水平もしくは垂直構造を有する構造断面を有し、または一定の構造対称性を有する構造断面を有する。これは当初請求項８による測定方法において考慮される。
【0025】
反射率または偏光効果を決定するとき、当初請求項８の関連において説明されたものと同様に、リソグラフィマスク上の構造に基づいて、効果を決定することが可能である。
【0026】
当初請求項９による測定方法では、フィルタの非回転対称フィルタ効果のために他の測定情報が生じ、前記情報は効果測定のために用いられ得る。回転対称性からのフィルタ効果の偏差は、測定されることになるリソグラフィマスク上の構造の対称性に一致するように適合され得る。非回転対称フィルタ効果を有するこのようなフィルタは、例えば、これが結果として、異なる照射方向からの異なる測定光波長分布を有する、リソグラフィマスクの照射を生じるように、特に測定装置の瞳面内に導入され得る。
【0027】
非回転対称フィルタ効果を有するフィルタは、測定方法のいくつかの応用例において、異なる方位を有して複数回、測定光ビーム内に導入されることができ、測定光は、それぞれの場合において、それぞれの方位でのフィルタの導入に続いて、捕捉される。これはまた、リソグラフィマスクの波長依存測定光反射率の効果についての、および任意にまた、測定装置の構成要素の、特に測定装置のミラーの、波長依存測定光反射率の効果についての、結論が引き出されることを可能にする追加の測定情報をもたらす。
【0028】
第１にリソグラフィマスクの波長依存測定光反射率の効果を測定するため、および第２にリソグラフィマスクへの測定光衝突に対する測定光の偏光の効果を測定するための、２つの測定方法はまた、互いの組み合わせにおいて用いられ得る。このようにして得られる、第１に、波長依存反射率情報、および第２に、偏光情報は、リソグラフィマスクに対する情報に関して、互いに補い合うことができる。
【0029】
２つの測定方法は、波長依存の形で、または偏光依存の形で、測定光の減衰をもたらす交換フィルタを用いて実行され得る。
【0030】
当初請求項１０による測定装置の利点は、測定方法に関連して上記ですでに説明されたものに対応する。具体的には、測定装置は上述の測定方法を実行するために用いられ得る。
【0031】
測定装置の測定光は、波長下限とそれとは異なる波長上限との間の波長帯域幅を有することができる。測定装置と共に用いられ得る少なくとも１つのフィルタは、波長帯域幅内の波長依存透過率を有することができる。
【0032】
少なくとも１つのフィルタホルダは、複数のフィルタがフィルタホルダに挿入され得るように設計され得る。
【0033】
フィルタホルダは、交換フィルタホルダとして、例えばフィルタキャラセル（ｆｉｌｔｅｒ ｃａｒｏｕｓｅｌ）またはフィルタホイールとして構成され得る。フィルタは、ハイパスフィルタとして、ローパスフィルタとして、バンドパスフィルタとして、ノッチフィルタとして、逆ノッチフィルタとして、および／または偏光フィルタとして構成され得る。交換フィルタホルダは、測定光源と検出器との間の測定光ビームのビーム経路内に現在配置されているそれぞれのフィルタを、少なくとも１つの交換フィルタと交換するように構成され得る。
【0034】
交換フィルタホルダは、フィルタを交換するための駆動機構を備え得る。交換フィルタホルダは、測定光ビームのビーム経路内にそれぞれ挿入されることになるフィルタがそれから選択される、フィルタカートリッジに動作可能に接続され得る。この選択は、測定装置の信号取得および評価デバイスを用いて実施され得る。この目的を達するために、信号取得および評価デバイスは、交換フィルタホルダに信号接続され得る。
【0035】
測定装置は、測定光ビーム経路内の異なる場所に配置された、複数のフィルタホルダを備え得る。波長依存反射率の測定と同様なやり方で、測定装置はまた、リソグラフィマスクの波長依存透過率を測定するために用いられ得る。測定装置の少なくとも１つのフィルタは、フィルタ平面内の非回転対称フィルタ効果を有し得る。測定装置の少なくとも１つのフィルタは、フィルタ平面内の異なるフィルタ効果を有する、異なるフィルタ区間を有し得る。具体的には、これらのフィルタ効果は、それらの波長依存性に関して、および／またはそれらの偏光依存性に関して異なり得る。
【0036】
当初請求項１１によるフィルタホルダは、フィルタをフィルタホルダに挿入することによって、照射角度に敏感な測定光の影響の発生を容易にする。これは、照射角度に依存したリソグラフィマスク効果を測定するために用いられ得る。
【0037】
当初請求項１２によるフィルタホルダの変形体は、実際面でそれらの価値が実証される。フィルタホルダは、測定光源の下流に配置された測定装置の照射光学ユニットの第１のミラーの上流に配置され得る。代替としてまたは追加として、フィルタホルダは、測定光源と視野との間の中間焦点の近傍、すなわちリソグラフィマスク上の衝突領域に配置され得る。フィルタが中間焦点の近傍に配置される場合、開口のそれぞれにフィルタが装備され、好ましくは各フィルタが異なるフィルタ効果を有する、複数の開口を有する焦点絞り（ｆｏｃａｌ ｓｔｏｐ）が用いられ得る。
【0038】
当初請求項１３による検出器の配置は、空間分解検出器が用いられる場合、測定光に対するリソグラフィマスクの視野固有の効果が決定されることを可能にする。代替としてまたは追加として、検出器は、後者が瞳測定、特に視野依存瞳測定を容易にするように設計され得る。これは、具体的には、第１に、波長依存反射率について、および／または第２に、偏光光学効果について、照射角度分布に対するリソグラフィマスクの効果を決定することを可能にする。
【0039】
当初請求項１４によるフィルタホルダは、傾斜に依存したフィルタ効果の使用、特に偏光光学フィルタ傾斜効果、特にブルースター効果の使用を可能にする。フィルタホルダは、傾斜角が調整可能に規定され得るように設計され得る。
【0040】
フィルタホルダは、測定光がフィルタに衝突するとき、測定光ビーム経路に関してフィルタ方位が規定されるように、設計され得る。
【0041】
フィルタが測定光ビーム経路に対して傾斜を有して配置される場合、当初請求項１５によるフィルタの実施形態は、フィルタの簡潔な配置に繋がり得る。フィルタのフィルタ区間は、互いに平行におよび、間隔が開けられた平面に配置され得る。
［当初請求項１］
リソグラフィマスク（１３）への測定光衝突に対する測定光（１）の偏光の効果を測定する方法であって、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、
－ 偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 生の偏光状態を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）の下流の測定光ビーム経路内の、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する、前記偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記生の偏光状態とは異なるフィルタ偏光状態を有する測定光を生成するために、前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビームの前記ビーム経路内に、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップであって、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）は、入射測定光（１）の別の偏光成分に関して、前記入射測定光（１）の一定の偏光成分を前記偏光フィルタが減衰する、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する、前記偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップと、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、前記リソグラフィマスク（１３）への前記測定光衝突に対する、前記測定光（１）の前記偏光の前記効果を決定するステップと
を含む方法。
［当初請求項２］
前記フィルタを導入する前記ステップ、および前記偏光フィルタが導入された後に前記測定光を捕捉する前記ステップは、前記測定光（１）に対する偏光効果に関して異なる複数の偏光フィルタ（４１；４４）に対して反復されることを特徴とする、当初請求項１に記載の方法。
［当初請求項３］
前記偏光測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、前記偏光フィルタ（４１；４４）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、当初請求項１または２に記載の方法。
［当初請求項４］
リソグラフィマスク（１３）上の波長依存測定光反射率ＲRetの効果を測定する方法であって、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、
－ 反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 波長下限とそれとは異なる波長上限との間の波長帯域幅を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射された、測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する前記反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビーム（１）のビーム経路内に、前記波長帯域幅内の波長依存透過率（２４～２７）を有する、フィルタ（３３；３９；３９ａ）を導入するステップと、
－ 前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、波長依存反射率ＲRet、または波長依存反射率ＲRetの効果を決定するステップと
を含む方法。
［当初請求項５］
フィルタを導入する前記ステップ、および前記フィルタが導入された後に前記反射された測定光を捕捉する前記ステップは、波長依存透過率（２４～２７）に関して異なる、複数のフィルタ（３３；３９；３９ａ）に対して反復されることを特徴とする、当初請求項４に記載の方法。
［当初請求項６］
前記反射率測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、フィルタ（３３；３９；３９ａ）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、当初請求項４または５に記載の方法。
［当初請求項７］
前記波長依存反射率ＲRetは、波長帯域幅内の目標波長（λ0）の周りの波長範囲内の捕捉結果に基づいて決定されることを特徴とする、当初請求項４～６のいずれか１項に記載の方法。
［当初請求項８］
前記リソグラフィマスク（１３）上の構造の前記波長依存反射率ＲRetに対する影響は、波長依存反射率ＲRetを決定するときに決定されることを特徴とする、当初請求項７に記載の方法。
［当初請求項９］
前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）は、フィルタ配置平面（２８）内で非回転対称フィルタ効果を有し、前記フィルタ配置平面（２８）に垂直な回転軸（３４）に対して定義された方位を有する前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に導入されることを特徴とする、当初請求項４～８のいずれか１項に記載の方法。
［当初請求項１０］
測定光（１）に対する、リソグラフィマスク（１３）の効果を測定するための測定装置（２；２９；３２）であって、
－ 測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）の区間が、前記測定光（１）が衝突することができる視野（１１）内に配置されるように、前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射される、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、測定光ビーム（１）のビーム経路内に配置された、少なくとも１つのフィルタ（３３；３９；３９ａ；４１；４４）を有する、少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）であって、
－ 交換可能なフィルタホルダとして設計される、
少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）と、
－ 前記検出器（１８）に信号接続された、信号取得および評価デバイス（２３）と
を有する測定装置（２；２９；３２）。
［当初請求項１１］
前記フィルタホルダ（２１、２２）は、前記測定装置（２；２９；３２）の瞳面（８、１５）内に配置されることを特徴とする、当初請求項１０に記載の測定装置。
［当初請求項１２］
前記フィルタホルダ（１９～２２）は、前記測定光源（３）と、前記マスクホルダ（１４）との間の、前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内、および／または前記マスクホルダ（１４）と、前記検出器（１８）との間の前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に配置されることを特徴とする、当初請求項１０または１１に記載の測定装置。
［当初請求項１３］
前記視野（１１）内に配置された物体視野（１１）を、像平面（１７）内に結像するための投影光学ユニット（９）であって、前記検出器（１８）は、前記像平面（１７）内に配置される、投影光学ユニット（９）を特徴とする当初請求項１０～１２のいずれか１項に記載の測定装置。
［当初請求項１４］
前記フィルタホルダ（２０）は、フィルタ配置平面（２８）が法線平面（７）に関して、測定光ビーム経路に傾斜されるように方位付けられることを特徴とする、当初請求項１０～１３のいずれか１項に記載の測定装置。
［当初請求項１５］
前記フィルタ（４４）は、法線平面（ｘｙ）に関して、前記測定光（１）のビーム方向（ｚ）に傾斜された、複数のフィルタ区間（４５、４６、４７、４８）を有することを特徴とする、当初請求項１０～１４のいずれか１項に記載の測定装置。
［当初請求項１］
リソグラフィマスク（１３）への測定光衝突に対する測定光（１）の偏光の効果を測定する方法であって、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、
－ 偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 生の偏光状態を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）の下流の測定光ビーム経路内の、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する、前記偏光測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記生の偏光状態とは異なるフィルタ偏光状態を有する測定光を生成するために、前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビームの前記ビーム経路内に、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップであって、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）は、入射測定光（１）の別の偏光成分に関して、前記入射測定光（１）の一定の偏光成分を前記偏光フィルタが減衰する、前記測定光（１）に対する偏光依存効果を有する、前記偏光フィルタ（４１；４４）を導入するステップと、
－ 前記偏光フィルタ（４１；４４）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、前記リソグラフィマスク（１３）への前記測定光衝突に対する、前記測定光（１）の前記偏光の前記効果を決定するステップと
を含む方法。
［当初請求項２］
前記フィルタを導入する前記ステップ、および前記偏光フィルタが導入された後に前記測定光を捕捉する前記ステップは、前記測定光（１）に対する偏光効果に関して異なる複数の偏光フィルタ（４１；４４）に対して反復されることを特徴とする、当初請求項１に記載の方法。
［当初請求項３］
前記偏光測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、前記偏光フィルタ（４１；４４）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、当初請求項１または２に記載の方法。
［当初請求項４］
リソグラフィマスク（１３）上の波長依存測定光反射率ＲRetの効果を測定する方法であって、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）を用意するステップと、
－ 反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップであって、
－－ 波長下限とそれとは異なる波長上限との間の波長帯域幅を有する測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－－ 前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射された、測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と
を有する前記反射率測定装置（２；２９；３２）を用意するステップと、
－ 測定光ビーム（１）を、前記測定装置（２；２９；３２）の視野（１１）内の前記リソグラフィマスク（１３）に衝突させるステップと、
－ 前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、前記測定光ビーム（１）のビーム経路内に、前記波長帯域幅内の波長依存透過率（２４～２７）を有する、フィルタ（３３；３９；３９ａ）を導入するステップと、
－ 前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）が導入された後に、再び前記検出器（１８）を用いて、前記リソグラフィマスク（１３）の衝突された区間から発出する前記反射された測定光（１）を捕捉するステップと、
－ 捕捉結果に基づいて、波長依存反射率ＲRet、または波長依存反射率ＲRetの効果を決定するステップと
を含む方法。
［当初請求項５］
フィルタを導入する前記ステップ、および前記フィルタが導入された後に前記反射された測定光を捕捉する前記ステップは、波長依存透過率（２４～２７）に関して異なる、複数のフィルタ（３３；３９；３９ａ）に対して反復されることを特徴とする、当初請求項４に記載の方法。
［当初請求項６］
前記反射率測定装置（２；２９；３２）は、前記視野（１１）内に配置された物体視野を、像視野（１６）内に結像するための投影光学ユニット（９）を備え、フィルタ（３３；３９；３９ａ）の導入の結果としての、像表示の構造解像度における変化が、効果として決定されることを特徴とする、当初請求項４または５に記載の方法。
［当初請求項７］
前記波長依存反射率ＲRetは、波長帯域幅内の目標波長（λ0）の周りの波長範囲内の捕捉結果に基づいて決定されることを特徴とする、当初請求項４～６のいずれか１項に記載の方法。
［当初請求項８］
前記リソグラフィマスク（１３）上の構造の前記波長依存反射率ＲRetに対する影響は、波長依存反射率ＲRetを決定するときに決定されることを特徴とする、当初請求項７に記載の方法。
［当初請求項９］
前記フィルタ（３３；３９；３９ａ）は、フィルタ配置平面（２８）内で非回転対称フィルタ効果を有し、前記フィルタ配置平面（２８）に垂直な回転軸（３４）に対して定義された方位を有する前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に導入されることを特徴とする、当初請求項４～８のいずれか１項に記載の方法。
［当初請求項１０］
測定光（１）に対する、リソグラフィマスク（１３）の効果を測定するための測定装置（２；２９；３２）であって、
－ 測定光（１）を生成するための測定光源（３）と、
－ 前記リソグラフィマスク（１３）の区間が、前記測定光（１）が衝突することができる視野（１１）内に配置されるように、前記リソグラフィマスク（１３）を保持するためのマスクホルダ（１４）と、
－ 前記マスクホルダ（１４）内の前記リソグラフィマスク（１３）によって反射される、前記測定光（１）を捕捉するための検出器（１８）と、
－ 前記測定光源（３）と前記検出器（１８）との間の、測定光ビーム（１）のビーム経路内に配置された、少なくとも１つのフィルタ（３３；３９；３９ａ；４１；４４）を有する、少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）であって、
－ 交換可能なフィルタホルダとして設計される、
少なくとも１つのフィルタホルダ（１９、２０、２１、２２）と、
－ 前記検出器（１８）に信号接続された、信号取得および評価デバイス（２３）と
を有する測定装置（２；２９；３２）。
［当初請求項１１］
前記フィルタホルダ（２１、２２）は、前記測定装置（２；２９；３２）の瞳面（８、１５）内に配置されることを特徴とする、当初請求項１０に記載の測定装置。
［当初請求項１２］
前記フィルタホルダ（１９～２２）は、前記測定光源（３）と、前記マスクホルダ（１４）との間の、前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内、および／または前記マスクホルダ（１４）と、前記検出器（１８）との間の前記測定光ビーム（１）の前記ビーム経路内に配置されることを特徴とする、当初請求項１０または１１に記載の測定装置。
［当初請求項１３］
前記視野（１１）内に配置された物体視野（１１）を、像平面（１７）内に結像するための投影光学ユニット（９）であって、前記検出器（１８）は、前記像平面（１７）内に配置される、投影光学ユニット（９）を特徴とする当初請求項１０～１２のいずれか１項に記載の測定装置。
［当初請求項１４］
前記フィルタホルダ（２０）は、フィルタ配置平面（２８）が法線平面（７）に関して、測定光ビーム経路に傾斜されるように方位付けられることを特徴とする、当初請求項１０～１３のいずれか１項に記載の測定装置。
［当初請求項１５］
前記フィルタ（４４）は、法線平面（ｘｙ）に関して、前記測定光（１）のビーム方向（ｚ）に傾斜された、複数のフィルタ区間（４５、４６、４７、４８）を有することを特徴とする、当初請求項１０～１４のいずれか１項に記載の測定装置。
【0042】
本発明の例示的実施形態は、図面に関連して以下でより詳しく説明される。
【図面の簡単な説明】
【0043】
【図1】照射システム、結像光学ユニット、および空間分解検出デバイスを備えた、測定光に対する、リソグラフィマスクの効果を測定するための測定装置を概略的に示す図である。
【図3】照射側瞳面と、検出デバイスとの間の測定光ビーム経路を示す表示において、測定装置の他の実施形態を示す図である。
【図4】測定装置の構成部分として、リソグラフィマスクの波長依存測定光反射率を測定するためのフィルタの平面図である。
【図10】斜視図による解説図において、入射測定光に対する測定装置の実施形態の構成部分として、偏光フィルタの効果を示す図である。
【図11】法線平面（垂直平面）に関して、測定光ビーム経路に傾斜された、複数のフィルタ区間を有する偏光フィルタの他の実施形態の子午線断面を次に示す図である。
【図12】測定装置によって測定されることになるリソグラフィマスクの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0044】
図１は、反射率および偏光測定装置の形で具現化される、計測システム２における、ＥＵＶ照射光またはＥＵＶ結像光１のビーム経路を、子午線断面に対応する断面図で示す。照射光１は、ＥＵＶ光源３によって生成される。照射光１はまた、測定光と呼ばれる。
【0045】
位置関係の表示を容易にするために、本明細書の以下ではデカルトｘｙｚ座標系が用いられる。図１のｘ軸は、図面の平面に垂直に、図面から外に延びる。図１のｙ軸は、右に向かって延びる。図１のｚ軸は、上向きに延びる。また以下の図において、ローカルデカルトｘｙまたはｘｙｚ座標系が用いられる。このローカル座標系では、それぞれの場合のｘ軸は、図１によるグローバル座標系のｘ軸に平行に延びる。ローカル座標系のｘ軸を有して、ｙ軸は、それぞれ示される光学構成要素の光学面に広がる。したがって、ローカル座標系のｙおよびｚ軸は、任意に図１のグローバル座標系のｙおよびｚ軸に関して傾斜される。
【0046】
光源３は、レーザプラズマ源（ＬＰＰ：レーザ生成型プラズマ）または放電源（ＤＰＰ：放電生成型プラズマ）とすることができる。原理上は、シンクロトロンベースの光源、例えば自由電子レーザ（ＦＥＬ）も用いられ得る。照射光１の用いられる波長は、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲内とすることができる。原理上は、計測システム２の変形体の場合において、他の用いられる光波長、例えば１９３ｎｍの用いられる波長のための光源を用いることが可能である。光源３の測定光１は、集光器によって収集され得る。この場合、集光器は、例えば楕円形集光器または入れ子状集光器とすることができる。
【0047】
図１は、中央視野点の、実線として描かれた、主光線ＣＲとして、および破線で示された、２つの周辺光線として、測定光１のビーム経路を示す。それぞれの場合での前記周辺光線は、計測システム２の瞳面における瞳の範囲を定める。
【0048】
照射光１は、照射の特定の照射設定、すなわち特定の照射角度分布がもたらされるように、光源３もその一部である、計測システム２の照射システム５の概略的に示される照射光学ユニット４において状態調整される。計測システム２の瞳内の照射光１の特定の強度分布は、前記照射設定に対応する。この場合において、例えば複数極照射設定、具体的には４極照射設定を規定することが可能である。他の照射設定も計測システム２内で規定されることができ、例えば具体的には、照射されることになる対象物への垂直または平均入射に近い照射角度を例外として、対象物照射のために実用的にすべての照射角度が用いられる、従来の照射設定と、全体として小さな照射角度、すなわちひいてはそれ自体は省かれ得る、垂直または平均入射に近い照射角度を有する環状照射設定と、または個々の極がそれぞれ、瞳面内に「小葉」輪郭、すなわち両凸面レンズ要素を通る区間におおよそ対応する端部輪郭を有し得る、２極照射設定とがある。
【0049】
照射光学ユニット４は、合計３つのＥＵＶミラーを有し、図１ではそれらの衝突の順序でＩＬ１、ＩＬ２、およびＩＬ３によって示される。フィルタ平面６は、照射光学ユニット４の光源３と第１のミラーＩＬ３との間に位置し、そのフィルタ平面内に、例えばデブリフィルタが配置されることができ、デブリフィルタは、光源３から到来し、不必要に誘導される放射成分および／または粒子成分に対して、測定光１のビーム経路内の下流の光学構成要素を保護する。
【0050】
照射システム５の中間焦点面７は、ミラーＩＬ１とＩＬ２との間に位置する。測定光１の中間焦点ＩＦは、ここに配置される。デブリフィルタの機能に対応する機能を有し得るピンホール絞りは、中間焦点面７内に配置され得る。
【0051】
照射光学ユニット４の瞳面８は、照射光学ユニット４の中間焦点面７と、ミラーＩＬ２との間に位置する。照射設定を規定するための設定絞りは、前記瞳面８内に配置され得る。
【0052】
結像光学ユニットまたは投影光学ユニット９と一緒に、照射システム５は、計測システム２の光学測定システム１０を構成する。投影光学ユニット９は、合計３つのＥＵＶミラーを有し、図１ではそれらの衝突の順序でＭ１、Ｍ２、およびＭ３によって示される。
【0053】
それぞれ設定された照射設定によって、照射光１は、計測システム２の対物面１２の物体視野または視野１１を照射する。リソグラフィマスク１３は、対物面１２内に配置される。このような構造化対象物に対する代替として、非構造化対象物、例えばマスクブランクも測定され得る。
【0054】
対物面１２は、ｘｙ平面に平行に延びる。物体視野１１は同時に、投影光学ユニット９または計測システム２の視野を構成する。
【0055】
リソグラフィマスクまたは対象物１３は、図１に概略的に示されマスクホルダとも呼ばれる対象物ホルダ１４によって支持される。対象物１３は、対象物ホルダ１４と協働する対象物変位駆動機構１４ａを用いて、少なくとも２つの並進自由度において、対物面１２内で移動され得る。対象物変位駆動機構１４ａによってもたらされるさらなる変位の自由度は、対物面１２に垂直、すなわちｚ方向に沿って存在する。
【0056】
照射光１は、図１に概略的に示されるように、リソグラフィマスク１３によって反射され、瞳面１５内の結像光学ユニット９の入射瞳に入る。瞳面１５は、図１の投影光学ユニット８内に概略的に示される。結像光学ユニット９で用いられる瞳は、円形または楕円形の境界を有し得る。
【0057】
結像光学ユニット９は、計測システム２の動作状況において、物体視野１１を、計測システム２の像視野、または像平面もしくは測定面１７内の測定視野１６に結像する。投影光学ユニット９による結像の間の拡大結像スケールは、５００より大きい。投影光学ユニット９の実施形態に応じて、拡大結像スケールは、１００より大きくすることができ、２００より大きくすることができ、２５０より大きくすることができ、３００より大きくすることができ、４００より大きくすることができ、また５００より大幅に大きくすることができる。投影光学ユニット９の結像スケールは、通常２０００未満である。
【0058】
投影光学ユニット９は、物体視野１１内に配置された区間である、対象物１３の区間を、像平面１７内に結像するように働く。
【0059】
計測システム２の空間分解検出デバイスまたは検出器１８は、像平面または測定面１７内に配置される。この検出デバイスは、ＣＣＤカメラとすることができる。したがって、本明細書の以下では、像視野１６はまた測定視野と呼ばれるようになる。検出器とも呼ばれる検出デバイス１８は、対象物１３によって反射される測定光１を捕捉するように働く。
【0060】
視野１１は、５０μｍ×５０μｍより小さな、例えば１０μｍ×１０μｍのｘｙ平面内に広がりを有する。
【0061】
検出器１８は、例えば測定視野１６内に、１０００×１０００画素の分解能を有することができる。
【0062】
視野１１内の検出器１８の空間分解能は、１００ｎｍより良好とすることができ、例えば１ｎｍ～１０ｎｍとすることができる。
【0063】
実施形態に応じて、検出器１８は、第１に測定視野１６にわたって測定光１の空間分解捕捉を実施するため、および第２にまた、視野点における測定光１の照射角度分布も、検出器１８を用いて各視野点に対して決定され得るように、照射角度分解捕捉を行うために用いられ得る。
【0064】
測定装置または計測システム２は、リソグラフィマスク１３上の波長依存測定光反射率の効果を測定するように働く。代替としてまたは追加として、測定装置２は、リソグラフィマスク１３の測定光衝突に対する、測定光１の偏光の効果を測定するように働く。測定装置２の構成要素の波長依存反射率または偏光効果も、それを用いて測定され得る。
【0065】
測定装置２は、これらの測定タスクを遂行するための様々なフィルタホルダ、具体的には、デブリフィルタによっても用いられるフィルタ平面６の位置におけるフィルタホルダ１９、中間焦点面７の位置におけるフィルタホルダ２０、照射光学ユニット瞳面８の位置におけるフィルタホルダ２１、および投影光学ユニット瞳面１５の位置におけるフィルタホルダ２２を用意する。
【0066】
これらのフィルタホルダ１９～２２は、すべて測定光源３と検出器１８との間の、測定光ビーム１のビーム経路内に配置される。
【0067】
計測システム２の信号取得および評価デバイス２３は、検出器１８に信号接続される（ここでは図示せず）。信号取得および評価デバイス２３は、さらに測定装置２の他の構成要素に、例えば特に駆動されるフィルタ変位および／またはフィルタ変更に対して、フィルタホルダ１９、２０、２１、２２の駆動機構（ここではより詳細に示されない）に、信号接続され得る。加えて、信号取得および評価デバイス２３は、対象物変位駆動機構１４ａにそれを制御する目的で信号接続され得る。
【0068】
測定光１は、波長下限とそれとは異なる波長上限との間の波長帯域幅を有する。このような波長帯域幅の例は、専門家の論文"Application of a high-brightness electrodeless Z-pinch EUV source for metrology, inspection, and resist development", S. F. Horne et al., SPIE Proceedings of the 31st International Symposium on Microlithography, 2006.に記載されている。例として、波長下限λUGは、１３．０ｎｍとすることができ、波長上限λOGは、１４．０ｎｍとすることができる。測定光１の中心波長λ0は、１３．５ｎｍとすることができる。
【0069】
計測システム２のフィルタホルダ１９～２２の１つに挿入され得るフィルタの１つは、この波長帯域幅内の波長依存透過率を有するフィルタとすることができる。
【0070】
フィルタの１つは、実線として図１の挿入図に示される透過関数２４を有するローパスフィルタとして具現化され得る。λ0より短い比較的短い波長に対して、透過関数２４は、そこに高い透過率Ｔが存在する。ローパスフィルタ２４の透過率Ｔは、中心波長λ0より長い波長に対しては低い。ハイパスフィルタ２５の対応する透過関数は、破線を用いて図１の挿入図にプロットされ、バンドパスフィルタ２６の透過関数は、一点鎖線を用いてプロットされている。ハイパスフィルタ２５の場合、λ0より長い波長は、ハイパスフィルタ２５の対応して高い透過率のために透過され、λ0より短い波長は、より大きく吸収される。バンドパスフィルタ２６の場合、それぞれに場合に、中心波長λ0の周りの波長は透過され、λ0の周りのそれぞれの波長帯域未満の波長、および波長帯域を超える波長は阻止される。
【0071】
ノッチフィルタの透過関数２７も、破線を用いて図１の挿入図に示され、前記ノッチフィルタは、非常に小さな帯域幅を有する逆バンドパスフィルタのように働き、すなわち中心波長λ0の周りの非常に狭い波長範囲を阻止する。計測システムまたは測定装置２において使用可能なフィルタの他の変形体は、逆ノッチフィルタであり、これは中心波長λ0の周りの狭い波長範囲内では測定光１を透過し、そうでなければ前記測定光を阻止する。
【0072】
破線として中間焦点面７内のフィルタホルダ２０の場合に示されるように、フィルタホルダ２０は、フィルタ配置平面２８（図１を参照）が、中間焦点面７と一致する、測定光ビーム経路１に対する法線平面に関して、傾斜されるように方位付けられ得る。
【0073】
説明をさらに進める中で、フィルタホルダ１９～２２内に配置され得るフィルタに関して他の詳細がある。
【0074】
図２は、図１に対応するものの代わりに用いられ得る、測定装置２９の他の実施形態を示す。図１に関連してすでに上記で説明されたものに対応する構成要素および機能は、同じ参照記号が付けられ、再び詳しく論じられない。
【0075】
測定装置２９の場合、複数のエネルギーセンサ３０、例えば３つのエネルギーセンサ３０が、照射光学ユニット瞳面８の領域内にあり、前記エネルギーセンサは、例えば照射光学ユニット瞳面８の領域内において測定光ビーム１の周辺の個々の光線を捕捉する。このようにして、測定光源３と照射光学ユニット瞳面８との間の測定光量の変動が、測定光ビーム経路内の後続の構成要素の測定光１に対する効果から、それによって分離され得る正規化データを得ることが可能である。さらにまた照射設定の設定品質が、エネルギーセンサ３０を通じて監視され得る。
【0076】
さらに、ペリクル３１、すなわちリソグラフィマスク１３のための保護フィルムが、図２に、リソグラフィマスク１３から離れて、および負のｚ方向に対物面１２から間隔を開けられて示される。その他の点では、測定装置２９の構造は、測定装置２のものに対応する。
【0077】
測定装置３２の他の実施形態における、測定光ビーム経路の他の実施形態は、図３に基づいて以下で述べられる。図１および２に関連してすでに上記で説明されたものに対応する機能および構成要素は、同じ参照記号が付けられ、再び詳しく論じられない。
【0078】
図３に、照射光学ユニット瞳面８と、検出器１８との間の測定光ビーム経路のための、測定装置３２が示される。測定装置３２の照射システム５は、照射光学ユニット瞳面８と、物体視野１１との間の測定光ビーム１に影響する光学構成要素をもたない。したがって、測定装置２および２９と比べて、測定装置３２には、照射光学ユニットミラーＩＬ２およびＩＬ３がない。その他の点では、測定装置３２は、測定装置２および２９に対応する。
【0079】
波長依存透過率関数を有するフィルタの例は、図４および５に基づいて以下で述べられる。図４および５は、それぞれの場合に平面図で、２つの異なる方位でのフィルタ３３を示し、図５による方位は、図４および５の図面の平面に垂直な、中心フィルタ軸３４の周りに、図４のものに対して時計方向に９０°回転される。
【0080】
波長フィルタ３３は、円形の端部３５を有し、その透過関数に関して２つの半分に分割され、前記２つの半分は、図４において垂直な分離線３６に関して互いに分離される。図４の左側の、波長フィルタ３３の一方の半分は、透過関数２５を有するハイパスフィルタ区間３７として具現化される。ハイパスフィルタ区間３７を通して放射する測定光１は、中心波長λ0より短い、短波長において抑圧される。
【0081】
図４の右側の、波長フィルタ３３の半分は、図１の挿入図内の透過関数２４に対応する透過関数を有する、ローパスフィルタ区間３８として具現化される。ローパスフィルタ区間３８において、中心波長λ0より短い測定光１の波長は透過され、中心波長λ0より長い波長は抑圧される。
【0082】
例として、リソグラフィマスク１３の波長依存測定光反射率の効果を測定する方法を実行するとき、波長フィルタ３３は、以下のように用いられる。
【0083】
第１に、リソグラフィマスク１３と、測定装置２、２９、または３２とが用意され、後者は反射率測定装置として動作する。次いで、測定光ビーム１は、視野１１内のリソグラフィマスク１３に衝突させられる。この場合、フィルタ平面６内のデブリフィルタを除いて、測定装置２、２９、または３２のフィルタホルダ１９～２２内に、さらなるフィルタは配置されない。次いで、測定光ビーム１によって衝突された、リソグラフィマスク１３の区間から発出する反射された測定光１は、検出器１８によって捕捉される。
【0084】
その後に、波長フィルタ３３が、照射光学ユニット瞳面８内のフィルタホルダ２１内に、または代替として、例えば図４に示される方位を有して、投影光学ユニット瞳面１５内のフィルタホルダ２２内に導入される。フィルタ軸３４の周りの、フィルタホルダ２１または２２内の波長フィルタ３３の回転方位は、リソグラフィマスク１３上の構造の方位に適合される。
【0085】
波長フィルタ３３の導入の後、リソグラフィマスク１３の衝突された区間から発出する反射された測定光は、検出器１８によって捕捉される。次いで、中心波長λ0の周りのリソグラフィマスクの波長依存反射率が直接決定され、または中心波長λ0の周りの波長依存反射率の効果が、「フィルタなし／導入されたフィルタあり」の２つの捕捉結果に基づいて決定される。
【0086】
波長依存反射率の効果は、フィルタ３３の導入の結果として、リソグラフィマスク１３の構造の像表示の構造解像度における変化とすることができる。例として、限界寸法（ＣＤ）は、第１に、導入されるフィルタ３３なしで捕捉された測定光１に基づいて、および第２に、導入された波長フィルタ３３ありで捕捉された測定光１に基づいて、決定され得る。
【0087】
また、細分された波長フィルタ３３の代わりに、それの表面全体にわたって、例えば上記で説明された透過関数２４～２７の形での、透過関数を有する波長フィルタを導入することが可能である。
【0088】
具体的には、波長フィルタの導入のための最小の達成可能なＣＤ変化が、この形で決定され得る。このようにして、中心波長λ0の周りのリソグラフィマスク１３の波長依存反射率を推定することが可能である。
【0089】
「フィルタなし／フィルタなし」の捕捉結果に基づいて、目標波長λ0の周りの波長依存反射率を直接決定するために、以下の形式が用いられ得る。
【0090】
それぞれの瞳面内の瞳座標（ｋx、ｋy）を用いて、測定装置２、２９、３２の瞳面を通過する測定光１の強度Ｓσ（λ）は、以下のように書かれ得る。
【数1】
【0091】
Ｐσは、それぞれの瞳面８または５の利用される瞳内の、どこに測定光１が存在するかを再現する瞳関数である。従来の照射設定の場合、Ｐσは例えば、測定装置２、２９、または３２の瞳内のすべての瞳座標ｋx、ｋyに対して１であり、他のすべて場所でゼロである。原理上は、瞳関数Ｐσの値はまた、ゼロと１との間の「グレースケール」を採用することができる。
【0092】
Ｉ（ｋx，ｋy，λ）は、波長λに対する、１つの瞳座標からの、すなわち厳密に１つの照射方向からの測定光１の光度である。
【0093】
エネルギーセンサ３０によって検出された光度ＳESは、次のように書かれ得る。
【数2】
【0094】
エネルギーセンサ３０は、すべての波長にわたって積分する。
【0095】
測定視野１６のｘおよびｙ座標内の空間分解能を有する検出デバイス１８のＣＣＤ検出器によって検出された、光度ＳCCD（ｘ，ｙ）は、Ｓσ（λ）の関数として次のように書かれ得る。
【数3】
【0096】
この場合、以下のようになる。
【0097】
ＴIL2（λ）、ＴIL3（λ）は、照射光学ユニット４のミラーＩＬ２およびＩＬ３の波長依存反射率である。それに従ってミラーＩＬ１の波長依存反射率も考察され得る。
【0098】
ＲRet（ｘ，ｙ，θ，λ）は、視野１１のそれぞれの位置の対物面１２における、測定光１の照射角度θに依存した、視野位置ｘ、ｙの関数としてのリソグラフィマスク１３の反射率である。
【0099】
ＴNAは、フィルタの、具体的にはフィルタ３３の、瞳面８または１５における波長依存透過率であり、すなわち例えば図１の挿入図の透過関数２４～２７の１つであり、ＴNAはまた、例えば図４による波長フィルタ３３の形で、細分された波長フィルタ３３が用いられる場合、瞳座標に依存する。
【0100】
ＴM1（λ）、ＴM2（λ）、ＴM3（λ）は、投影光学ユニット９の３つのミラーＭ１、Ｍ２、およびＭ３の波長依存反射率である。
【0101】
ＡCCD（λ）は、検出器１８のＣＣＤセンサの波長依存吸収係数、または波長依存感度である。
【0102】
以下では、第１に、中心波長λ0の周りのリソグラフィマスク１３の反射率と、第２に中心波長λ0の周りのフィルタ３３の透過関数とは、突然変化しないという仮定がなされる。次いで、摂動論において慣例的であるように、ＲRet（ｘ，ｙ，θ，λ）およびＴNA（λ）は共に、中心波長λ0からの波長λの偏差の冪乗による展開として書かれ得る。
【0103】
次に、積ＴNA（λ）ＲRet（ｘ，ｙ，θ，λ）が上記の数式（１）に代入されることができ、追加として正規化強度ι（ｘ，ｙ）＝ＳCCD（ｘ，ｙ）／ＳESも考慮に入れられる。これは以下を生じる。
【数4】
【0104】
ここで、項Σ(0)、Σ(1)、およびΣ(2)は以下を表す。
（０次）
（１次）
（２次）
【数5】
【数6】
【数7】
【0105】
一次近似に対して、量Σ(0)、Σ(1)、およびΣ(2)は、光源３の強度変動に依存しない。
【0106】
以下の関心のある量、
－ ＲRet（ｘ，ｙ，λ0）、すなわち中心波長λ0でのリソグラフィマスク１３の反射率、
－
、すなわち目標波長λ0でのリソグラフィマスク１３の反射率の一次導関数、および
－
、すなわち中心波長λ0での波長依存反射率の曲率
を決定するために、最初に２つの透過関数Ｔ(1) NA（λ0）、Ｔ(2) NA（λ0）が必要であり、前記透過関数は、第１に中心波長λ0の周りの透過関数の形において、およびまたそれらの一次および二次導関数
および
に関して異なる。第３の透過関数Ｔ(3)
NAは自明に、波長フィールド（ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｆｉｅｌｄ：波長視野）なしでの測定によって生じ、したがって以下は、Ｔ(3)
NA（λ0）＝１が当てはまり、それぞれの場合において、０の一次導関数および曲率に対する値を有する。
－ ＲRet（ｘ，ｙ，λ0）、すなわち中心波長λ0でのリソグラフィマスク１３の反射率、
－
【数8】
－
【数9】
を決定するために、最初に２つの透過関数Ｔ(1) NA（λ0）、Ｔ(2) NA（λ0）が必要であり、前記透過関数は、第１に中心波長λ0の周りの透過関数の形において、およびまたそれらの一次および二次導関数
【数10】
【数11】
【0107】
第１の波長フィルタ、例えば図１による透過関数２４を有するフィルタを用いた、第１のフィルタ関数Ｔ(1)
NAによるものと、フィルタ関数Ｔ(2)
NA、例えば図１による透過関数２５を有する第２のフィルタを用いたものと、透過関数Ｔ(3)
NAを有するフィルタなしでのものとの、３つの測定に対する連立方程式が生じる。
【0108】
【数12】
【数13】
【数14】
【0109】
次いで、
および
に対する所望の値が、この連立一次方程式から決定され得る。フィルタ面にわたって変化する透過関数を有する、図４による波長フィルタ３３の形での波長フィルタの使用がなされる範囲で、反射率、それらの勾配、および中心波長λ0でのそれらの曲率に対するこれらの値は、依然として照射角度の関数として決定され得る。このようにして、特に、構造の影響も取得され得る。
【数15】
【数16】
【0110】
測定方法を実行する範囲内で、図４による波長フィルタ３３が、それぞれのフィルタホルダ内に、例えば複数の方位において、フィルタホルダ２１および２２内に導入され得る。
【0111】
図５は、このような他の方位を示し、この場合、波長フィルタ３３は、図４による方位と比べて、図面軸３４の周りに９０°まで時計方向に回転されて方位付けられる。それに従って、分離線３６は、図５による波長フィルタ３３の方位の場合は水平であり、ハイパスフィルタ区間３７は上部に位置し、ローパスフィルタ区間３８は下部に位置する。
【0112】
図６および７は、測定方法を実行するときに波長フィルタ３３に対する代替または追加として用いられ得る、他の波長フィルタ３９を示す。ローパスフィルタ区間３８の代わりに、波長フィルタ３９は、Ｔ＝１の式が当てはまる、完全に透過性のフィルタ区間４０を有する。波長フィルタ３９はまた、波長フィルタ３３のようなハイパスフィルタ区間３７を有する。
【0113】
【0114】
【0115】
図８および９は、図１による透過関数を有する、波長フィルタ３３および３９に対する、または上記ですでに説明された他のフィルタに対する、代替または追加として用いられ得る波長フィルタ３９ａの他の実施形態を示す。波長フィルタ３９ａの構造は、図６および７による波長フィルタ３９のものに対応する。ハイパスフィルタ区間３７の代わりに、波長フィルタ３９ａは、波長フィルタ３３に関して上記ですでに説明されたものに対応する、ローパスフィルタ区間３８を有する。
【0116】
【0117】
図１０は、偏光フィルタ４１と、偏光フィルタ４１を通過する測定光ビーム１の偏光状態に対するそれの効果とを示す。
【0118】
偏光フィルタ４１は、リソグラフィマスク１３に対する波長依存測定光反射率の効果を測定するための上述の方法に対する代替または追加として、測定装置２、２９、または３２を用いて、リソグラフィマスク１３への測定光衝突に対する、測定光１の偏光の効果を測定する方法において用いられ得る。
【0119】
偏光フィルタ４１は、偏光座標ｘP、ｙPによって広げられる、図１０の図面の平面に関してｙP軸に平行な軸の周りに傾斜されて配置される。偏光フィルタ４１のフィルタ配置平面２８に広がる座標ｘF、ｙFは、図１０に同様にプロットされる。ｙF座標は、ｙP座標に平行に延びる。ｘF座標は、ｘP座標に対してある角度で延びる。この角度は、測定光ビーム経路１に対する、法線平面ｘｙに関してのフィルタ配置平面ｘFｙFの傾斜角に対応し、これはひいては偏光面ｘPｙPに平行して延びる。
【0120】
偏光面ｘPｙPに関して、フィルタ配置平面ｘFｙFの傾斜角は、測定光１のｘ偏光成分４２に対してブルースター条件が満足されるようなものである。その結果として、ｘ偏光成分４２は、偏光フィルタ４１の通過の間は減衰されない。ｘ偏光成分４２は、フィルタ配置平面ｘFｙFへの測定光１の入射面に関する、ｐ偏光成分である。この入射面は、測定光ビーム１の偏光座標のｘｚ平面に平行である。
【0121】
測定光１のｙ偏光成分４３は、偏光フィルタ４１の通過の間に減衰され、なぜならこのｙ偏光成分４３は、入射面ｘｚに関してｓ偏光成分を表すからである。
【0122】
したがって、偏光フィルタ４１は、測定光１の偏光状態を変化させる。偏光フィルタ４１の通過の後、測定光１は、偏光フィルタ４１への衝突の前の、測定光１の生の偏光状態とは異なるフィルタ偏光状態で存在する。
【0123】
ｘ／ｙ偏光成分４２、４３が、偏光フィルタ４１への入射の前に、例えば１／１の強度比率を有していた場合、この比率は、偏光フィルタ４１の通過の後、１／２または０．５／１の比率に変化している。
【0124】
リソグラフィマスク１３への測定光衝突に対する、測定光１の偏光の効果を測定するために、リソグラフィマスク１３、および測定装置２、２９、または３２の実施形態の１つの測定装置が、再び最初に用意される。測定光源３は、生の偏光状態で測定光１を生成する。１回目の、測定光ビーム１を測定装置２の視野１１内のリソグラフィマスク１３に衝突させることと、検出器１３および未使用の偏光フィルタを用いて、リソグラフィマスク１３の衝突された区間から発出する測定光１を捕捉することとの後、偏光フィルタ４１が、続いて測定装置２、２９、または３２のフィルタホルダの１つに、例えばフィルタホルダ１９におよび／またはフィルタホルダ２０に挿入される。
【0125】
その後に、リソグラフィマスク１３の衝突された区間から発出する測定光１は、偏光フィルタ４１が導入された後、再び検出器１８を用いて捕捉される。
【0126】
次いで、リソグラフィマスク１３の測定光衝突に対する、測定光１の偏光の効果が、「偏光フィルタなし／あり」の２つの捕捉ステップの結果に基づいて決定される。
【0127】
この偏光効果は、波長λ0での反射率の決定と併せて上記で説明された形式を用いて、２つの偏光方向ｘP、ｙPに対して決定され得る。この目的を達するために、「偏光フィルタを導入する」および「偏光フィルタが導入された後に測定光を捕捉する」ステップが、測定光１に対するそれらの偏光効果に関して異なる複数の偏光フィルタに対して反復される。代替としてまたは追加として、また、同一の偏光フィルタ４１が、異なる方位を有して、測定光１のビーム経路内に導入されることが可能である。図１０による方位とは異なる、このような方位は、ｙ軸の周りの傾斜角に関して、および／または測定光ビーム１の座標ｘｙｚに対するフィルタ配置平面ｘFｙFの方位に関して異なり得る。したがって、例えば、偏光フィルタ４１はまた、ブルースター条件がｙ偏光成分４３に対して満たされるように方位付けられ得る。
【0128】
反射率測定方法の関連において上述されたような、リソグラフィマスク１３の反射率に基づいて、構造解像度における変化を決定することと類似のやり方で、偏光測定方法は、それぞれの偏光フィルタ４１の導入によって、リソグラフィマスク１３上の、構造の像表示の構造解像度の変化を、効果として決定するために用いられ得る。この目的を達するために、ひいてはＣＤが決定され得る。構造解像度におけるこの変化は、具体的には、リソグラフィマスク１３の構造の方位に応じて決定され得る。
【0129】
図１１は、偏光フィルタ４１の代わりに用いられ得る、偏光フィルタ４４の他の実施形態を示す。偏光フィルタ４４は、例えばフィルタホルダ１９および２０の１つとすることができる、フィルタホルダ内に保持されて示される。図１１は、例示的な形で、中間焦点面７内のフィルタホルダ２０を示す。図１１の図面の平面は、この中間焦点面７に垂直である。
【0130】
偏光フィルタ４４は、示される実施形態において、複数のフィルタ区間、合計４つのフィルタ区間４５、４６、４７、４８を有し、前記フィルタ区間のフィルタ配置平面２８1、２８2、２８3、および２８4は互いに平行に位置し、それぞれは法線平面ｘｙに関して、図１１の上部から、すなわち負のｚ方向に偏光フィルタ４４に当たる、測定光１のビーム経路に傾斜される。中間焦点面７に平行に位置する、法線平面ｘｙに関してのフィルタ配置平面２８ｉ（＝ｘFｙF）の傾斜に関わらず、偏光フィルタ４４のフィルタ区間４５～４８への細分化のために、測定光ビーム方向に、すなわち図１１のｚ方向に生じる、投影フィルタ４４の設置スペースは小さいので有利である。
【0131】
図１２は、例として、測定されることになるリソグラフィマスク１３の実施形態を示す。リソグラフィマスク１３は、中央ゾーン１３1に分割され、そこには、投影露光の間のリソグラフィマスク１３の使用の間に、構造化されることになるウェハ上に結像される構造が用意される。この中央ゾーン１３1は、おおよそ正方形である。
【0132】
中央ゾーン１３1は、中央ゾーン１３1と比べて低減される照射光１に対する最大反射率を有する、遷移ゾーン１３2によって取り囲まれる。反射区間５０は、対象物１３に衝突する測定光１の信号強度を決定するために、遷移ゾーン１３2の場所に配置され得る。視野１１に衝突する測定光ビーム１に加えて、照射システム５は、対象物１３上の、反射区間５０の少なくとも１つが、少なくとも１つの他の測定光ビームを用いて衝突されるように設計され得る。次いで、それぞれの他の測定光ビームは、反射区間５０によって、測定光信号強度を決定するための上述のエネルギーセンサ３０に対応する、少なくとも１つのエネルギーセンサ５１に向けられる。
【0133】
図１２に概略的に示される、このようなエネルギーセンサ５１は、対象物１３が移動されたときに移動されない、測定装置２の空間的に固定された構成要素上に配置され得る。
【0134】
遷移ゾーン１３2は、中央ゾーン１３1の外周の周りに延びるように設計される。遷移ゾーン１３2は、ひいては対象物１３の周辺ゾーン１３3によって取り囲まれる。後者は、対象物ホルダ１４と協働するように働き、一般に無反射であるように設計されるが、図１２に示されるように、同様に反射区間５０を支持することができる。
【0135】
中央ゾーン１３1の最大反射は、入射測定光１の６０％～７０％の範囲内とすることができる。遷移ゾーン１３2の最大反射は、入射測定光１の５５％～６５％の範囲内とすることができる。
【0136】
上述のフィルタは、薄膜として実現され得る。具体的には、これらのフィルタは、多層系として構築され得る。波長依存透過率に対する、および／または伝送される測定光の偏光に対する、このような多層系の影響は、技術文献で述べられているアルゴリズムを用いて計算され得る。このような多層系の構成において用いられる適切な材料の屈折率は表にされており、例えば、インターネットサイトhttp://henke.lbl.gov/optical_constants/から利用可能である。
【0137】
偏光フィルタ４１は、入射測定光のある特定の偏光成分を、別の偏光成分に対して、例えばｓ偏光された測定光を、ｐ偏光された測定光に対して減衰させることができる。このような偏光フィルタは、多層系を規定し、最適化することによって設計され得る。偏光フィルタ４１に対する測定光の入射角は、多層設計と一緒に規定されおよび／または最適化され得る。
【0138】
フィルタの多層系は、周期的または非周期的となるように選ばれ得る。
【0139】
偏光フィルタ４１の２つの偏光成分（ｓ偏光成分、ｐ偏光成分、または接線偏光成分、およびサジタル偏光成分）に対する反射率および透過率は、技術文献から知られているように伝送行列形式を用いて計算され得る。
【符号の説明】
【0140】
１ 照射光
２ 計測システム
３ 光源
４ 照射光学ユニット
５ 照射システム
６ フィルタ平面
７ 中間焦点面
８ 瞳面
９ 投影光学ユニット
ＣＲ 主光線
ＩＦ 中間焦点
ＩＬ１ ミラー
ＩＬ２ ミラー
ＩＬ３ ミラー
Ｍ１ ミラー
Ｍ２ ミラー
Ｍ３ ミラー
１０ 光学測定システム
１１ 視野、物体視野
１２ 対物面
１３ リソグラフィマスク
１４ 対象物ホルダ
１４ａ 対象物変位駆動機構
１５ 瞳面
１６ 測定視野
１７ 測定面
１８ 検出器
１９ フィルタホルダ
２０ フィルタホルダ
２１ フィルタホルダ
２２ フィルタホルダ
２３ 信号取得および評価デバイス
２４ ローパスフィルタ
２５ ハイパスフィルタ
２６ バンドパスフィルタ
２７ ノッチフィルタ
２８ フィルタ配置平面
２９ 測定装置
３０ エネルギーセンサ
３１ ペリクル
３２ 測定装置
３３ 波長フィルタ
３４ フィルタ軸
３５ 端部
３６ 分離線
３７ ハイパスフィルタ区間
３８ ローパスフィルタ区間
３９ 波長フィルタ
３９ａ 波長フィルタ
４０ 透過性フィルタ区間
４１ 偏光フィルタ
４２ ｘ偏光成分
４３ ｙ偏光成分
４４ 偏光フィルタ
４５ フィルタ区間
４６ フィルタ区間
４７ フィルタ区間
４８ フィルタ区間
２８1 フィルタ配置平面
２８2 フィルタ配置平面
２８3 フィルタ配置平面
２８4 フィルタ配置平面
５０ 反射区間
５１ エネルギーセンサ
１３1 中央ゾーン
１３2 遷移ゾーン
１３3 周辺ゾーン
２ 計測システム
３ 光源
４ 照射光学ユニット
５ 照射システム
６ フィルタ平面
７ 中間焦点面
８ 瞳面
９ 投影光学ユニット
ＣＲ 主光線
ＩＦ 中間焦点
ＩＬ１ ミラー
ＩＬ２ ミラー
ＩＬ３ ミラー
Ｍ１ ミラー
Ｍ２ ミラー
Ｍ３ ミラー
１０ 光学測定システム
１１ 視野、物体視野
１２ 対物面
１３ リソグラフィマスク
１４ 対象物ホルダ
１４ａ 対象物変位駆動機構
１５ 瞳面
１６ 測定視野
１７ 測定面
１８ 検出器
１９ フィルタホルダ
２０ フィルタホルダ
２１ フィルタホルダ
２２ フィルタホルダ
２３ 信号取得および評価デバイス
２４ ローパスフィルタ
２５ ハイパスフィルタ
２６ バンドパスフィルタ
２７ ノッチフィルタ
２８ フィルタ配置平面
２９ 測定装置
３０ エネルギーセンサ
３１ ペリクル
３２ 測定装置
３３ 波長フィルタ
３４ フィルタ軸
３５ 端部
３６ 分離線
３７ ハイパスフィルタ区間
３８ ローパスフィルタ区間
３９ 波長フィルタ
３９ａ 波長フィルタ
４０ 透過性フィルタ区間
４１ 偏光フィルタ
４２ ｘ偏光成分
４３ ｙ偏光成分
４４ 偏光フィルタ
４５ フィルタ区間
４６ フィルタ区間
４７ フィルタ区間
４８ フィルタ区間
２８1 フィルタ配置平面
２８2 フィルタ配置平面
２８3 フィルタ配置平面
２８4 フィルタ配置平面
５０ 反射区間
５１ エネルギーセンサ
１３1 中央ゾーン
１３2 遷移ゾーン
１３3 周辺ゾーン
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】