特許 7503233 集光レンズユニット及びレーザ加工装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-06-12

(45)【発行日】2024-06-20

(54)【発明の名称】集光レンズユニット及びレーザ加工装置

(51)【国際特許分類】

   B23K 26/142 20140101AFI20240613BHJP

   B23K 26/70 20140101ALI20240613BHJP

【ＦＩ】

B23K26/142

B23K26/70

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2020000707

(22)【出願日】2020-01-07

(65)【公開番号】P2021109183

(43)【公開日】2021-08-02

【審査請求日】2022-12-26

(73)【特許権者】

【識別番号】000151494

【氏名又は名称】株式会社東京精密

(74)【代理人】

【識別番号】100083116

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲三

(74)【代理人】

【識別番号】100170069

【弁理士】

【氏名又は名称】大原 一樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128635

【弁理士】

【氏名又は名称】松村 潔

(74)【代理人】

【識別番号】100140992

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲政

(72)【発明者】

【氏名】松田 浩

【審査官】黒石 孝志

(56)【参考文献】

【文献】実開昭４８－０８４０９５（ＪＰ，Ｕ）

【文献】実開昭６０－１５１６８６（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２００３－３９１８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平５－１２３８８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１２１０９９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２３Ｋ ２６／００ － ２６／７０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

レーザ光を集光させる集光レンズと、
前記集光されたレーザ光が通過するレーザ通過口が底に配置された有底形状のノズルであって、前記ノズルの内部の空間と外部とを連通する吸引口が前記底以外に配置されたノズルと、
内部の空間に前記集光レンズを収納する集光レンズホルダであって、前記集光レンズホルダの内部の空間が前記ノズルの内部の空間と連通する集光レンズホルダと、を備え、
前記集光レンズホルダは、エアが前記集光レンズホルダの内周面を沿うように供給される供給口を有する、集光レンズユニット。

【請求項2】

前記集光レンズと前記レーザ通過口との間に配置され、前記集光されたレーザ光が透過する集光レンズ保護板を備え、
前記集光レンズ保護板は、前記エアに冷却される、請求項１に記載の集光レンズユニット。

【請求項3】

前記集光レンズホルダと前記ノズルとの間に配置され、前記集光レンズ保護板を支持する集光レンズ保護板支持部材を備え、
前記集光レンズ保護板と前記集光レンズ保護板支持部材との間には、前記供給口から前記吸引口に向かうエアが通る隙間が設けられている、請求項２に記載の集光レンズユニット。

【請求項4】

レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光を集光させる集光レンズと、
前記集光されたレーザ光が通過するレーザ通過口が底に配置された有底形状のノズルであって、前記ノズルの内部の空間と外部とを連通する吸引口が前記底以外に配置されたノズルと、
前記ノズルの外部において前記吸引口に接続されるエア吸引装置と、
内部の空間に前記集光レンズを収納する集光レンズホルダであって、前記集光レンズホルダの内部の空間が前記ノズルの内部の空間と連通し、前記内部の空間にエアを供給する供給口が配置された集光レンズホルダと、
前記集光レンズホルダの外部において前記供給口に接続されるエア供給装置と、を備え、
前記エア供給装置は、前記供給口を介して前記集光レンズホルダの内周面を沿うように前記エアを供給する、レーザ加工装置。

【請求項5】

前記エア吸引装置によるエアの吸引量を、前記エア供給装置によるエアの供給量よりも大きい値に制御する制御装置を備える請求項４に記載のレーザ加工装置。

【請求項6】

前記集光レンズと前記レーザ通過口との間に配置され、前記集光されたレーザ光が透過する集光レンズ保護板を備え、
前記集光レンズ保護板は、前記エアに冷却される、請求項４又は５に記載のレーザ加工装置。

【請求項7】

前記集光レンズホルダと前記ノズルとの間に配置され、前記集光レンズ保護板を支持する集光レンズ保護板支持部材を備え、
前記集光レンズ保護板と前記集光レンズ保護板支持部材との間には、前記供給口から前記吸引口に向かうエアが通る隙間が設けられている、請求項６に記載のレーザ加工装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は集光レンズユニット及びレーザ加工装置に係り、特にレーザ加工により発生するデブリを除去する技術に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスや電子部品などが形成されたウェーハを個々のチップに分割するブレードダイシング加工に先立ち、レーザ光を被加工物へ照射して予め各種膜および金属パターンを除去するレーザ加工が行われている。

【0003】

このレーザ加工では、デブリと呼ばれる加工屑が発生する。飛散したデブリが集光レンズに付着すると、集光レンズの透過率が下がり加工不良や、集光レンズのコーティングへのダメージとなることがある。また、飛散したデブリがウェーハ表面に付着し、洗浄後に残留し、歩留りを低下させる恐れがある。

【0004】

集光レンズへのデブリの付着を防止するために、集光レンズに対して１０ｍｍ程度離れた位置からエアを吹きかけることが行われている。しかしながら、十分にデブリを除去することは困難であるという問題点があった。

【0005】

これに対し、特許文献１、特許文献２には、デブリを吸引してデブリの飛散を抑制する技術が開示されいてる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２０１４－１３６２３９号公報

【文献】国際公開第２００３／０９５１４０号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、特許文献１、特許文献２に記載の技術であっても、デブリの飛散の抑制が十分でなく、集光レンズにデブリが付着する場合があるという問題点があった。

【0008】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、集光レンズにデブリが付着することを防止する集光レンズユニット及びレーザ加工装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記目的を達成するための集光レンズユニットの一の態様は、レーザ光を集光させる集光レンズと、集光されたレーザ光が通過するレーザ通過口が底に配置された有底形状のノズルであって、ノズルの内部の空間と外部とを連通する吸引口が底以外に配置されたノズルと、を備える集光レンズユニットである。

【0010】

本態様によれば、有底形状のノズルの底にレーザ通過口を設けたので、レーザ光が照射された被加工物から発生するデブリが集光レンズに飛散する確率を減らすことができる。また、吸引口からノズルの内部のエアを吸引することができるので、被加工物とノズルの底との間のエアの流速を速くし、レーザ通過口を介して吸引口からデブリを適切に吸引することができる。したがって、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【0011】

内部の空間に集光レンズを収納する集光レンズホルダであって、集光レンズホルダの内部の空間がノズルの内部の空間と連通する集光レンズホルダを備え、集光レンズホルダは、集光レンズを冷却するためのエアを供給する供給口が配置されることが好ましい。これにより、供給口からのエアによって集光レンズを冷却することができる。また、集光レンズへ飛散するデブリを抑制し、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【0012】

集光レンズとレーザ通過口との間に配置され、集光されたレーザ光が透過する集光レンズ保護板を備えることが好ましい。デブリが集光レンズ側に飛散した場合であっても、集光レンズ保護板によりデブリを遮断することで、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【0013】

上記目的を達成するためのレーザ加工装置の一の態様は、レーザ光を出射するレーザ光源と、レーザ光を集光させる集光レンズと、集光されたレーザ光が通過するレーザ通過口が底に配置された有底形状のノズルであって、ノズルの内部の空間と外部とを連通する吸引口が底以外に配置されたノズルと、ノズルの外部において吸引口に接続されるエア吸引装置と、を備えるレーザ加工装置である。

【0014】

本態様によれば、有底形状のノズルの底にレーザ通過口を設けたので、デブリが集光レンズに飛散する確率を減らすことができる。また、エア吸引装置により吸引口から内部のエアを吸引することで、被加工物とノズルの底との間のエアの流速を速くすることができるので、レーザ通過口を介して吸引口からデブリを適切に吸引することができる。したがって、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【0015】

内部の空間に集光レンズを収納する集光レンズホルダであって、集光レンズホルダの内部の空間がノズルの内部の空間と連通する集光レンズホルダを備え、集光レンズホルダは、集光レンズを冷却するためのエアを供給する供給口が配置され、さらに、集光レンズホルダの外部において供給口に接続されるエア供給装置と、を備えることが好ましい。エア供給装置により供給口から内部の集光レンズに向けてエアを供給することで集光レンズを冷却することができる。また、集光レンズへ飛散するデブリを抑制することができ、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【0016】

エア吸引装置によるエアの吸引量を、エア供給装置によるエアの供給量よりも大きい値に制御する制御装置を備えることが好ましい。エアの吸引量を供給量よりも相対的に大きくすることで、レーザ通過口を介して吸引口からデブリを適切に吸引することができる。

【0017】

集光レンズとレーザ通過口との間に配置され、集光されたレーザ光が透過する集光レンズ保護板を備えることが好ましい。デブリが集光レンズ側に飛散した場合であっても集光レンズ保護板によりデブリを遮断することで、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、集光レンズにデブリが付着することを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】図１は、レーザ加工装置の構成を示すブロック図である。

【図2】図２は、集光レンズユニットを上面側から見た斜視図である。

【図3】図３は、集光レンズユニットを下面側から見た斜視図である。

【図4】図４は、集光レンズユニットを上面側から見た分解斜視図である。

【図5】図５は、集光レンズユニットを下面側から見た分解斜視図である。

【図6】図６は、レーザ加工装置の作用を説明するための図である。

【図7】図７は、変形例に係る集光レンズユニットの下面図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施形態について詳説する。

【0021】

＜レーザ加工装置＞
図１は、レーザ加工装置１０の構成を示すブロック図である。レーザ加工装置１０は、表面に金属膜を含む積層膜が形成された被加工物であるウェーハＷの分割予定ラインに沿ってレーザ加工を施すウェーハ加工装置である。レーザ加工装置１０は、レーザ源１２と、安全シャッタ１４と、集光レンズ１６と、集塵部１８と、エア供給装置５０と、エア吸引装置５２と、制御装置５４と、を備える。

【0022】

レーザ源１２は、制御装置５４の制御によりレーザ光を発振する不図示のレーザ発振器を含むレーザ光源である。レーザ源１２は、レーザ発振器によって発振されたレーザ光Ｌを出射する。

【0023】

安全シャッタ１４は、レーザ光を遮光可能な遮光部材を含む。安全シャッタ１４は、レーザ源１２から出射するレーザ光Ｌの光路に遮光部材が挿入されてレーザ光を遮断する遮断状態と、レーザ光Ｌの光路から遮光部材が退避されてレーザ光Ｌを通過させる通過状態と、を有する。安全シャッタ１４は、制御装置５４により遮断状態と通過状態とのいずれかの状態に制御される。

【0024】

集光レンズ１６は、レーザ光を集光する不図示の集光光学系を含む。集光レンズ１６は、レーザ源１２から出射され、安全シャッタ１４を通過したレーザ光Ｌを被加工物であるウェーハＷに集光する。

【0025】

集塵部１８は、集光レンズ１６で集光されたレーザ光ＬがウェーハＷに照射されることで発生するデブリを集塵する。集光レンズ１６と集塵部１８とにより、集光レンズユニット２０が構成される。集塵部１８には、エア供給装置５０とエア吸引装置５２とが接続される。

【0026】

エア供給装置５０は、所定の供給量でエアを供給するファン又はブロア等の送風機である。エア吸引装置５２は、所定の吸引量でエアを吸引する真空ポンプである。

【0027】

制御装置５４は、例えばパーソナルコンピュータやマイクロコンピュータ等の汎用のコンピュータによって実現されるものである。制御装置５４は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、及び入出力インターフェース等を備えている。制御装置５４では、ＲＯＭに記憶されている制御プログラム等の各種プログラムがＲＡＭに展開され、ＲＡＭに展開されたプログラムがＣＰＵによって実行されることにより、レーザ加工装置１０内の各部の機能が実現され、入出力インターフェースを介して各種の演算処理や制御処理が実行される。制御装置５４は、ウェーハＷの分割予定ラインに沿ってレーザ光Ｌを照射させる制御を行う。また、制御装置５４は、エア供給装置５０によるエアの供給と、エア吸引装置５２によるエアの吸引とを制御する。

【0028】

＜集光レンズユニットの構成＞
図２は、集光レンズユニット２０を上面側から見た斜視図であり、図３は、集光レンズユニット２０を下面側から見た斜視図である。また、図４は、集光レンズユニット２０を上面側から見た分解斜視図であり、図５は、集光レンズユニット２０を下面側から見た分解斜視図である。

【0029】

集光レンズユニット２０は、主として集光レンズ１６と、アダプタ２２と、上板２４と、集光レンズホルダ２８と、集光レンズ保護板支持部材３２と、集光レンズ保護板３４と、ノズル３６と、を備えて構成される。

【0030】

アダプタ２２は、レーザ源１２及び安全シャッタ１４（図１参照）を含む不図示のレーザ発生装置と集光レンズユニット２０とを光学的に接続するための部材である。アダプタ２２は、中央部に円形状の貫通孔２２Ａを有する。

【0031】

上板２４は、中央部に円形状の貫通孔２４Ａを有する板状部材である。貫通孔２２Ａと貫通孔２４Ａとは、レーザ発生装置が発生したレーザ光を集光レンズ１６へ入射させるためのレーザ光の光路となる。

【0032】

集光レンズ１６は、所定の直径の円筒形状の筐体を有する。集光レンズ１６は、上面に上方（Ｚ方向）に向けて延びる円筒形状の接続部１６Ａを備える。集光レンズ１６の接続部１６Ａは、上板２４の貫通孔２４Ａを介してアダプタ２２の貫通孔２２Ａと嵌合する。

【0033】

集光レンズホルダ２８は、内部をＺ方向に貫通する円柱形状の貫通孔２８Ａを有する。集光レンズ１６は、集光レンズホルダ２８の貫通孔２８Ａに収納される。集光レンズ１６とアダプタ２２との間に挟み込まれた上板２４は、４本のねじ２６により集光レンズホルダ２８に固定される。

【0034】

集光レンズホルダ２８の側面には、２つの冷却エア供給口２８ＢがＺ方向に沿って配置される。２つの冷却エア供給口２８Ｂは、上面視（ＸＹ平面視）において、それぞれ集光レンズ１６の筐体の接線と集光レンズホルダ２８の側面とが交差する位置に、集光レンズ１６の筐体の接線に向けて配置される。２つの冷却エア供給口２８Ｂは、それぞれ集光レンズホルダ２８の内部の空間に相当する貫通孔２８Ａと集光レンズホルダ２８の外部とを連通し、集光レンズ１６に向けてエアが供給される。２つの冷却エア供給口２８Ｂには、それぞれ貫通孔を有する供給コネクタ３０が接続される。冷却エア供給口２８Ｂの数は２つに限定されず、適宜決めることができる。

【0035】

集光レンズ保護板支持部材３２は、集光レンズ保護板３４を支持する。集光レンズ保護板支持部材３２は、載置部３２Ａと、凹部３２Ｂと、貫通孔３２Ｃと、導光部３２Ｄと、を有する。

【0036】

載置部３２Ａは、集光レンズ保護板支持部材３２の上面に配置される。載置部３２Ａは、集光レンズ保護板３４の形状に対応した矩形状の凹部である。載置部３２Ａは、横方向の３方向が外周縁で囲まれており、１方向には外周縁を有さない。載置部３２Ａは、底面に円柱形状の凹部３２Ｂを有する。また、凹部３２Ｂの中央には、内部をＺ方向に貫通する貫通孔３２Ｃを有する。

【0037】

導光部３２Ｄは、集光レンズ保護板支持部材３２の下面に配置される。導光部３２Ｄは、円柱形状を有し、内部に貫通孔３２Ｃを有する。貫通孔３２Ｃは、下方に向かって（凹部３２Ｂから離れるにしたがって）狭くなるテーパ形状を有する。

【0038】

集光レンズ保護板３４は、ガラス製の薄板状部材である。集光レンズ保護板３４は、集光レンズ保護板支持部材３２の載置部３２Ａの上面に載置される。

【0039】

ノズル３６は、有底の直方体形状（有底形状の一例）を有する。ノズル３６は、上面中央部に集光レンズ保護板支持部材３２の導光部３２Ｄの大きさに対応した円形状の凹部３６Ａを有する。ノズル３６は、下面に平面のノズル底３６Ｂを有する。ノズル底３６Ｂは、一辺が５０ｍｍ～６０ｍｍの矩形状である。ノズル底３６Ｂの中央には、凹部３６Ａとノズル底３６Ｂとを連通するレーザ通過口３６Ｃが配置される。

【0040】

ノズル３６の凹部３６Ａには、集光レンズ保護板支持部材３２の導光部３２Ｄが収納される。集光レンズホルダ２８と、集光レンズ保護板支持部材３２と、ノズル３６とは、ノズル３６のノズル底３６Ｂから挿入される４本のねじ４０によりそれぞれ固定される。

【0041】

集光レンズ保護板３４は、集光レンズホルダ２８と、集光レンズ保護板支持部材３２と、ノズル３６とがねじ４０により固定された状態で、載置部３２Ａの外周縁で囲まれてない方向から一部が突出する。ユーザは、集光レンズ保護板３４の突出した部分を把持することで、集光レンズ保護板３４を集光レンズユニット２０から抜去、及び集光レンズユニット２０に挿入することができる。したがって、集光レンズ保護板３４の清掃及び交換が容易となる。

【0042】

また、集光レンズホルダ２８と、集光レンズ保護板支持部材３２と、ノズル３６とがねじ４０により固定された状態で、集光レンズホルダ２８の貫通孔２８Ａと集光レンズ保護板支持部材３２の載置部３２Ａとの間には隙間が存在する。これにより、集光レンズホルダ２８の内部の空間とノズル３６の内部の空間とが連通する。

【0043】

ノズル３６の側面（底以外の一例）には、２つのデブリ吸引口３６ＤがＺ方向に沿って配置される。２つのデブリ吸引口３６Ｄは、それぞれノズル３６の内部の空間に相当する凹部３６Ａとノズル３６の外部とを連通する。２つのデブリ吸引口３６Ｄには、それぞれ貫通孔を有する吸引コネクタ３８が接続される。デブリ吸引口３６Ｄの数は２つに限定されず、適宜決めることができる。

【0044】

＜レーザ加工装置の作用＞
図６は、レーザ加工装置１０の作用を説明するための図である。図６では、集光レンズユニット２０を断面で示している。図６に示すように、集光レンズユニット２０の供給コネクタ３０には、エア供給装置５０が接続される。また、集光レンズユニット２０の吸引コネクタ３８には、エア吸引装置５２が接続される。

【0045】

制御装置５４（図６では不図示）は、ノズル３６のノズル底３６ＢをウェーハＷと距離ｄだけ離して対向させる。また、制御装置５４は、レーザ源１２（図６では不図示）にレーザ光Ｌを出射させ、安全シャッタ１４を通過状態にする。

【0046】

レーザ源１２から集光レンズ１６に入射したレーザ光Ｌは、集光レンズ１６によって集光される。集光レンズ１６によって集光されたレーザ光Ｌは、集光レンズ保護板３４を透過する。集光レンズ保護板３４を透過したレーザ光Ｌは、集光レンズ保護板支持部材３２の貫通孔３２Ｃと、ノズル３６のレーザ通過口３６Ｃとを通過し、ウェーハＷに入射する。

【0047】

制御装置５４は、集光レンズユニット２０とウェーハＷとを相対移動させ、レーザ光ＬをウェーハＷの分割予定ラインに沿って照射させる。レーザ光ＬがウェーハＷの加工点に照射されることで、デブリＤが発生する。ここで、レーザ通過口３６Ｃの直径を限りなく小径にすることで、飛散するデブリが集光レンズ１６側に飛散する確率を減らすことができる。

【0048】

また、制御装置５４は、エア供給装置５０によってエアを供給させ、エア吸引装置５２によってエアを吸引させる。

【0049】

エア供給装置５０によってエアを供給すると、供給されたエアは、２つの冷却エア供給口２８Ｂを介して集光レンズホルダ２８の貫通孔２８Ａに供給される。貫通孔２８Ａに供給されたエアは、集光レンズ１６に向けて供給され、集光レンズ１６の周囲を螺旋状に循環し、集光レンズ１６を冷却する。集光レンズ１６を冷却したエアは、さらに集光レンズ保護板３４に到達して集光レンズ保護板３４を冷却する。集光レンズ保護板３４を冷却したエアは、集光レンズホルダ２８の貫通孔２８Ａと集光レンズ保護板支持部材３２の載置部３２Ａとの間の隙間を通過した後、集光レンズ保護板支持部材３２の貫通孔３２Ｃと、ノズル３６のレーザ通過口３６Ｃとを通過し、加工点に導かれる。図６に示した線Ａは、エア供給装置５０によって供給されたエアの流れを示している。このように、エア供給装置５０によって供給されたエアは、集光レンズ１６を満遍なく冷却し、レーザ光Ｌと同軸でレーザ通過口３６Ｃから供給される。

【0050】

エア吸引装置５２によってエアを吸引すると、２つのデブリ吸引口３６Ｄを介してレーザ通過口３６Ｃからエアが吸引される。エア供給装置５０によって供給され、加工点に導かれたエアもレーザ通過口３６Ｃから吸引されたエアと合流し、２つのデブリ吸引口３６Ｄを経由してエア吸引装置５２に吸引される。

【0051】

また、レーザ光ＬがウェーハＷに照射されることで発生したデブリＤも、レーザ通過口３６Ｃから吸引され、ノズル３６の凹部３６Ａに侵入する。凹部３６Ａに侵入したデブリＤは、２つのデブリ吸引口３６Ｄを経由してエア吸引装置５２に吸引され、集塵される。図６に示した線Ｂは、エア吸引装置５２によって吸引されたエアの流れを示している。

【0052】

ここで、制御装置５４は、エア吸引装置５２によるエアの吸引量を、エア供給装置５０によるエアの供給量よりも大きい値に制御する。これにより、レーザ通過口３６Ｃからエアを吸引することができるので、デブリＤのウェーハＷ側への移動を抑制することができる。

【0053】

また、ノズル３６のノズル底３６ＢとウェーハＷとの距離ｄをできるだけ狭くすることで、ノズル底３６ＢとウェーハＷとの間のエアの流速を速くすることができる。距離ｄは、例えば１ｍｍ～２ｍｍとすることができる。

【0054】

以上のように、レーザ加工装置１０によれば、集光レンズ１６にデブリが付着することを防止することができる。

【0055】

また、ウェーハＷを加工する際に集光レンズ１６や集光レンズ保護板３４が熱膨張すると、レーザ光が集光している高さやレーザ光のスポット形状が変化することで、集光状態が変化し加工品質が異常となることがある。レーザ加工装置１０の集光レンズユニット２０によれば、エア供給装置５０によって供給されたエアが集光レンズ１６の周囲を螺旋状に循環して集光レンズ保護板３４に到達することで、集光レンズ１６や集光レンズ保護板３４を適切に冷却することができる。

【0056】

＜変形例＞
上記の例では、ノズル３６のノズル底３６Ｂに配置されたレーザ通過口３６Ｃからデブリを吸引したが、レーザ通過口３６Ｃ以外からデブリを吸引してもよい。

【0057】

図７は、変形例に係る集光レンズユニット２０の下面図である。図７に示すように、変形例に係る集光レンズユニット２０のノズル３６のノズル底３６Ｂには、レーザ通過口３６Ｃの周囲に円形の吸引溝３６Ｅが配置される。

【0058】

吸引溝３６Ｅは、ノズル３６の凹部３６Ａと連通している。エア吸引装置５２によってエアを吸引すると、デブリがエアとともにレーザ通過口３６Ｃと吸引溝３６Ｅとから吸引され、ノズル３６の凹部３６Ａと、２つのデブリ吸引口３６Ｄとを経由してエア吸引装置５２に吸引され、集塵される。

【0059】

＜その他＞
本発明の技術的範囲は、上記の実施形態に記載の範囲には限定されない。各実施形態における構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各実施形態間で適宜組み合わせることができる。

【符号の説明】

【0060】

１０…レーザ加工装置
１２…レーザ源
１４…安全シャッタ
１６…集光レンズ
１６Ａ…接続部
１８…集塵部
２０…集光レンズユニット
２２…アダプタ
２２Ａ…貫通孔
２４…上板
２４Ａ…貫通孔
２８…集光レンズホルダ
２８Ａ…貫通孔
２８Ｂ…冷却エア供給口
３０…供給コネクタ
３２…集光レンズ保護板支持部材
３２Ａ…載置部
３２Ｂ…凹部
３２Ｃ…貫通孔
３２Ｄ…導光部
３４…集光レンズ保護板
３６…ノズル
３６Ａ…凹部
３６Ｂ…ノズル底
３６Ｃ…レーザ通過口
３６Ｄ…デブリ吸引口
３６Ｅ…吸引溝
３８…吸引コネクタ
５０…エア供給装置
５２…エア吸引装置
５４…制御装置
Ａ…線
Ｂ…線
Ｄ…デブリ
Ｌ…レーザ光

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】