特許 7504114 ＥＵＶ光源におけるターゲット材料制御

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-06-13

(45)【発行日】2024-06-21

(54)【発明の名称】ＥＵＶ光源におけるターゲット材料制御

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240614BHJP

   H05G 2/00 20060101ALI20240614BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 503

H05G2/00 K

【請求項の数】 23

(21)【出願番号】P 2021551591

(86)(22)【出願日】2020-03-09

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-04-20

(86)【国際出願番号】 EP2020056144

(87)【国際公開番号】W WO2020187617

(87)【国際公開日】2020-09-24

【審査請求日】2023-03-02

(31)【優先権主張番号】62/819,366

(32)【優先日】2019-03-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】62/842,453

(32)【優先日】2019-05-02

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】62/951,577

(32)【優先日】2019-12-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】504151804

【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】ゴヴィンダラジュ，アビラム，ラクシュミー ガネーシュ

(72)【発明者】

【氏名】ベッセムズ，デイビッド

(72)【発明者】

【氏名】ライ，サンディップ

(72)【発明者】

【氏名】ウィレムス，ペトルス，アドリアヌス

(72)【発明者】

【氏名】キンカル，セルカン

(72)【発明者】

【氏名】ルーケンズ，ジョシュア，マーク

(72)【発明者】

【氏名】テドロウ，ジョン，デイビッド

【審査官】藤本 加代子

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１６－５１２３８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２６３２１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０２６１７６１（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２０１０／０２８２９８７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特表２００８－５３２２２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００６／０９３７８２（ＷＯ，Ａ２）

【文献】米国特許出願公開第２０１３／０１５３６０３（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０－７／２４

Ｇ０３Ｆ ９／００－９／０２

Ｈ０５Ｇ １／００－２／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ターゲット材料を供給するための装置であって、
ノズル供給システムの動作中に前記ノズル供給システムと流体連通するように構成された第１の流体リザーバを備える第１のリザーバシステムであって、前記第１の流体リザーバは第１の圧力に維持される、第１のリザーバシステムと、
前記ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、前記第１のリザーバシステムと流体連通するように構成された第２の流体リザーバを備える、第２のリザーバシステムと、
ターゲット材料を含む固体を収容するように、及び前記固体から流体ターゲット材料を生成するように構成されたプライミングシステムであって、前記第１の圧力よりも小さいプライミング圧力に維持される、プライミングシステムと、
前記プライミングシステムと、前記第１のリザーバシステムと、前記第２のリザーバシステムと、前記ノズル供給システムと、に流体的に接続された流体制御システムであって、前記ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバと前記ノズル供給システムとを前記プライミングシステムから隔離するように、及び、前記ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように、構成された、流体制御システムと、
前記第１の流体リザーバの前記第１の圧力と前記第２の流体リザーバの第２の圧力とを独立且つ別個に制御するように、及び、前記第１の流体リザーバの温度と前記第２の流体リザーバの温度とを独立且つ別個に制御するように、構成された環境制御装置と、
を備える、装置。

【請求項2】

前記第１の圧力は、少なくとも６０００ｋＰａ、少なくとも１０，０００ｋＰＡ、少なくとも２５，０００ｋＰＡ、又は、約６０００～６０，０００ｋＰａの範囲内である、請求項１の装置。

【請求項3】

前記第２の流体リザーバが前記プライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、前記プライミングシステム及び前記第２の流体リザーバは、前記プライミング圧力に維持され、前記プライミングシステム及び前記第２の流体リザーバは、前記第２の流体リザーバが前記流体ターゲット材料で過充填されるのを防止するように互いに対して位置決めされている、請求項１の装置。

【請求項4】

前記流体制御システムは、前記第２の流体リザーバが前記プライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、前記ノズル供給システムの動作中に前記第１の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の前記流体流路を維持するように構成されている、請求項１の装置。

【請求項5】

前記流体制御システムは、前記第１の流体リザーバと、前記第２の流体リザーバと、前記プライミングシステムと、前記ノズル供給システムと、の間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くように構成されている、請求項１の装置。

【請求項6】

前記流体制御システムは、前記ノズル供給システムの動作中に前記第１の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間及び前記第２の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の前記流体流路を維持すること、及び、その一方で前記ノズル供給システム及び前記第２の流体リザーバを前記第１の圧力に維持すること、によって、前記ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の前記流体流路を維持するように構成されている、請求項１の装置。

【請求項7】

前記流体制御システムは更に、前記ノズル供給システムの動作中に前記少なくとも１つの流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の前記流体流路を維持するように構成されており、前記第１の流体リザーバと前記第２の流体リザーバとの間の前記流体流路を可能にする、請求項６の装置。

【請求項8】

前記流体制御システムは、前記第１の流体リザーバと前記第２の流体リザーバとの間のリザーバ流体制御バルブと、前記第２の流体リザーバと前記プライミングシステムとの間の再充填流体制御バルブと、を含み、
前記流体制御システムは、前記リザーバ流体制御バルブと前記再充填流体制御バルブとを独立に制御するように構成されている、請求項１の装置。

【請求項9】

前記流体制御システムは更に、前記ノズル供給システムの動作中に前記第１の流体リザーバと前記第２の流体リザーバとの間の前記流体流路を維持するように構成されている、請求項１の装置。

【請求項10】

前記第２の流体リザーバは更に、前記ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、前記ノズル供給システムと流体連通するように構成されている、請求項１の装置。

【請求項11】

前記プライミングシステムは、
第１のチャンバであって、前記第１のチャンバによって定義される第１の容積内に固体が収容され得るように、開くように構成されたドアを含む、第１のチャンバと、
第２の容積を定義すると共に前記流体制御システムと流体連通する第２のチャンバと、
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとの間の、通常であれば妨げるもののない流体経路に形成された流れ遮断デバイスと、
を備える、請求項１の装置。

【請求項12】

前記第１の流体リザーバと、前記第２の流体リザーバと、前記プライミングシステムと、のうち１つ以上における前記流体ターゲット材料の容積及び／又は前記プライミングシステム内の固体の存在を推定するように構成されたセンシングシステムを更に備える、請求項１の装置。

【請求項13】

ターゲット材料を途切れなく連続的に供給するための方法であって、
ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容して前記固体から流体ターゲット材料を生成することと、
第１の流体リザーバを前記プライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に前記第１の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の流体連通を維持することと、
前記ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、前記流体ターゲット材料が前記プライミング圧力の前記プライミングシステムにおいて生成されている間に、前記第１の圧力の前記第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間で前記流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、
前記流体ターゲット材料が前記プライミングシステムと前記第２の流体リザーバとの間で移送可能とされている間、前記第１の流体リザーバの前記第１の圧力を維持することと、
を備える、方法。

【請求項14】

流体ターゲット材料を、前記第１の流体リザーバから前記ノズル供給システムへ、前記第２の流体リザーバから前記ノズル供給システムへ、又は、前記第１の流体リザーバ及び前記第２の流体リザーバから同時に前記ノズル供給システムへ、流すことによって、前記ノズル供給システムの動作全体にわたる流体ターゲット材料の前記ノズル供給システムへの移送を可能にすることを更に備える、請求項１３の方法。

【請求項15】

前記ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が前記第２の流体リザーバ及び／又は前記第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを更に備える、請求項１３の方法。

【請求項16】

前記プライミングシステムが前記プライミング圧力であるときにのみ、前記ターゲット材料を含む固体を前記プライミングシステムに再投入することを更に備え、
前記ターゲット材料を含む固体を前記プライミングシステムに再投入することは、前記ノズル供給システムが前記第１の圧力である間に起こる、請求項１３の方法。

【請求項17】

前記第１の流体リザーバの前記第１の圧力を維持している間に前記第２の流体リザーバを前記プライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填すること、及び、
前記プライミングシステムから前記第２の流体リザーバ内に十分な流体ターゲット材料が移送された後で前記プライミングシステムから前記第２の流体リザーバを流体的に分離すること、
を更に備える、請求項１３の方法。

【請求項18】

前記ノズル供給システムの動作を停止すること及び前記第１の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の流体連通を停止することの前に、前記第１の流体リザーバと、前記第２の流体リザーバと、前記プライミングシステムと、前記ノズル供給システムと、の間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くことを更に備える、請求項１３の方法。

【請求項19】

前記ノズル供給システムの動作は前記流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含み、
前記液滴は、そこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている、請求項１３の方法。

【請求項20】

前記プライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で前記流体ターゲット材料の移送を可能にすることは、前記第１の流体リザーバ及び前記ノズル供給システムを前記プライミングシステムから流体的に隔離している間、前記プライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で前記流体ターゲット材料の移送を可能にすることを含む、請求項１３の方法。

【請求項21】

ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容して前記固体から流体ターゲット材料を生成することと、
第１の流体リザーバを前記プライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に前記第１の流体リザーバと前記ノズル供給システムとの間の流体連通を維持することと、
前記第１の流体リザーバ及び前記ノズル供給システムを前記プライミングシステムから流体的に隔離している間、前記プライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で前記流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、
前記第１の流体リザーバと、前記第２の流体リザーバと、前記ノズル供給システムと、を前記プライミングシステムから流体的に隔離している間、前記第２の流体リザーバと前記第１の流体リザーバとの間で前記流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、
を備える、方法。

【請求項22】

前記ノズル供給システムの動作は、前記流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含み、
前記液滴は、そこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている、請求項２１の方法。

【請求項23】

前記ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が前記第２の流体リザーバ及び／又は前記第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを更に備える、請求項２１の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

（関連出願の相互参照）
[0001] 本願は、２０１９年３月１５日に提出され「CONTINUOUS DROPLETS WHILE MAKING EUV WITH INLINE TARGET MATERIAL REFILL」と題された米国出願第６２／８１９，３６６号の優先権を主張する。本願は、２０１９年５月２日に提出され「METHOD AND SYSTEM FOR EUV PRODUCTION WITH CONTINUOUS DROPLET STREAM AND INLINE TARGET MATERIAL REFILL」と題された米国出願第６２／８４２，４５３号の優先権も主張する。本願は、２０１９年１２月２０日に提出され「TARGET MATERIAL CONTROL IN AN EUV LIGHT SOURCE」と題された米国出願第６２／９５１，５７７号の優先権も主張する。これらの出願の全ては、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

【0002】

[0002] 開示される主題は、極端紫外線（ＥＵＶ）光源におけるターゲット材料の供給を制御するための装置及び方法に関する。

【背景技術】

【0003】

[0003] フォトリソグラフィプロセスにおいては、極端紫外線（ＥＵＶ）光、例えば、およそ５０ナノメートル（ｎｍ）以下の波長を有し（軟Ｘ線と称されることもある）、約１３ｎｍの波長の光を含む電磁放射が、集積回路及び様々な他のマイクロ電子デバイスを作製するために用いられる基板、例えばシリコンウェーハの中及び上に極めて小さなフィーチャを作製するために用いられる。

【0004】

[0004] ＥＵＶ光を発生させる方法は、ソース材料の物理状態をプラズマ状態に変化させることを含むが、これに限定されない。ソース材料は、ＥＵＶ領域に輝線を有する化合物又は元素、例えばキセノン、リチウム、若しくはスズ含む。レーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれることの多い１つのそのような方法においては、必要とされるプラズマは、例えばソース材料の液滴、流れ、又はクラスタの形をとるソース材料を、ドライブレーザと称され得る増幅された光ビームで照射することによって生成される。このプロセスのため、プラズマは一般的に密閉容器、例えば真空チャンバ内で生成され、様々なタイプのメトロロジ（計測）設備を用いて監視される。プラズマ状態のときにＥＵＶ領域で放出するキセノン、リチウム、又はスズなどのソース材料は、ドライブレーザによって標的とされ照射されることから、通例、ターゲット材料と称される。

【発明の概要】

【0005】

[0005] いくつかの一般的な態様においては、装置はターゲット材料を供給するように構成される。装置は、第１のリザーバシステムと、第２のリザーバシステムと、プライミングシステムと、流体制御システムとを含む。第１のリザーバシステムは、ノズル供給システムの動作中にノズル供給システムと流体連通するように構成された第１の流体リザーバを含み、第１の流体リザーバは第１の圧力に維持される。第２のリザーバシステムは、ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、第１のリザーバシステムと流体連通するように構成された第２の流体リザーバを含む。プライミングシステムは、ターゲット材料を含む固体を収容するように、及びその固体から流体ターゲット材料を生成するように構成され、プライミングシステムは第１の圧力よりも小さいプライミング圧力に維持される。流体制御システムは、プライミングシステムと、第１のリザーバシステムと、第２のリザーバシステムと、ノズル供給システムとに流体的に接続されている。流体制御システムは、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとをプライミングシステムから隔離するように、及びノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されている。

【0006】

[0006] 実施形態は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、プライミング圧力は、約６００キロパスカル（ｋＰａ）未満であってもよい。第１の圧力は、少なくとも６０００ｋＰａ、少なくとも１０，０００ｋＰＡ、少なくとも２５，０００ｋＰＡ、又は約６０００～６０，０００ｋＰａの範囲内であってもよい。

【0007】

[0007] 第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバはプライミング圧力に維持されてもよく、プライミングシステムと第２の流体リザーバとは第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止するように互いに対して位置決めされ得る。

【0008】

[0008] 流体制御システムは、第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されていてもよい。流体制御システムは、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムと、ノズル供給システムとの間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くように構成されていてもよい。

【0009】

[0009] 流体制御システムは、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間及び第２の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持すること、及びその一方でノズル供給システム及び第２の流体リザーバを第１の圧力に維持することによって、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されていてもよい。流体制御システムは更に、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されていてもよく、第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間の流体流路を可能にする。

【0010】

[0010] また、装置は、第１の流体リザーバの第１の圧力と第２の流体リザーバの第２の圧力とを独立且つ別個に制御するように、及び第１の流体リザーバの温度と第２の流体リザーバの温度とを独立且つ別個に制御するように構成された環境制御装置も含み得る。環境制御装置は更に、第２の流体リザーバ内の流体ターゲット材料の測定された量に基づいて第２の流体リザーバの第２の圧力を調節又はリセットするように構成されていてもよい。環境制御装置は、不活性ガスを含有するように及び不活性ガスを加圧リザーバからオリフィスを通じて第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとのうち１つ以上に移送するように構成された加圧リザーバを含んでいてもよい。

【0011】

[0011] 流体制御システムは、第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間のリザーバ流体制御バルブと、第２の流体リザーバとプライミングシステムとの間の再充填流体制御バルブとを含んでいてもよい。流体制御システムは、リザーバ流体制御バルブと再充填流体制御バルブとを独立に制御するように構成されていてもよい。リザーバ流体制御バルブはフリーズバルブを含んでいてもよく、再充填流体制御バルブはフリーズバルブを含んでいてもよい。

【0012】

[0012] 流体制御システムは更に、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間の流体流路を維持するように構成されていてもよい。

【0013】

[0013] 第２の流体リザーバは、ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、ノズル供給システムと流体連通するように構成されていてもよい。

【0014】

[0014] プライミングシステムは、第１のチャンバによって定義される第１の容積内に固体が収容され得るように、開くように構成されたドアを含む第１のチャンバと、第２の容積を定義すると共に流体制御システムと流体連通する第２のチャンバと、第１のチャンバと第２のチャンバとの間の、通常であれば妨げるもののない流体経路に形成された、流れ遮断デバイスと、を含んでいてもよい。流れ遮断デバイスは、固体の融点を下回る温度に維持されるときに流体流路が固体によって遮断されるフリーズバルブであってもよい。

【0015】

[0015] 装置は、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムとのうち１つ以上における流体ターゲット材料の容積及び／又はプライミングシステム内の固体の存在を推定するように構成されたセンシングシステムも含んでいてもよい。装置はセンシングシステムと通信する制御システムを含んでいてもよく、制御システムは、高圧力トランスデューサからの出力に基づいて、第２の流体リザーバにおける流体ターゲット材料の消費率を判定するように構成されており、消費率はある期間毎に用いられる流体ターゲット材料の量である。センシングシステムは、第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとのうち１つ以上に関連付けられた高圧力トランスデューサを含んでいてもよい。

【0016】

[0016] 流体制御システムは、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持すること及びその一方でノズル供給システムを第１の圧力に維持することによって、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されてもよい。

【0017】

[0017] 他の一般的な態様においては、ターゲット材料を途切れなく連続的に供給する方法が実施される。方法は、ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容すること及びその固体から流体ターゲット材料を生成することを含む。方法は、第１の流体リザーバをプライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を維持することを含む。方法は、ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、流体ターゲット材料がプライミング圧力のプライミングシステムにおいて生成されている間に、第１の圧力の第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることを含む。

【0018】

[0018] 実施形態は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、方法は、流体ターゲット材料がプライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で移送可能とされている間、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持することを含んでいてもよい。方法は、流体ターゲット材料を、第１の流体リザーバからノズル供給システムへ、第２の流体リザーバからノズル供給システムへ、又は第１の流体リザーバ及び第２の流体リザーバから同時にノズル供給システムへ流すことによって、ノズル供給システムの動作全体にわたる流体ターゲット材料のノズル供給システムへの移送を可能にすることを含んでいてもよい。方法は、ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が第２の流体リザーバ及び／又は第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを含んでいてもよい。方法は、プライミングシステムがプライミング圧力であるときにのみ、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することを含んでいてもよい。ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することは、ノズル供給システムが第１の圧力である間に起こり得る。

【0019】

[0019] 方法は、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持している間に第２の流体リザーバをプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填すること、及びプライミングシステムから第２の流体リザーバ内に十分な流体ターゲット材料が移送された後でプライミングシステムから第２の流体リザーバを流体的に分離することも含んでいてもよい。方法は、第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバをプライミング圧力に維持すること、及び第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止することを含んでいてもよい。

【0020】

[0020] 方法は、ノズル供給システムの動作を停止すること及び第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を停止することの前に、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムと、ノズル供給システムとの間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くことを含んでいてもよい。方法は、プライミングシステム内のターゲット材料の固体を溶解してターゲット流体材料にすることを含んでいてもよい。

【0021】

[0021] ノズル供給システムの動作は流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含んでいてもよく、液滴はそこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている。

【0022】

[0022] 方法は、第１の流体リザーバ、第２の流体リザーバ、及びプライミングシステムの各々における流体ターゲット材料の温度及び圧力を独立且つ別個に制御することを含んでいてもよい。

【0023】

[0023] 他の一般的な態様においては、方法は、ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容してその固体から流体ターゲット材料を生成することと、第１の流体リザーバをプライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を維持することと、第１の流体リザーバ及びノズル供給システムをプライミングシステムから流体的に隔離している間、プライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、を含む。

【0024】

[0024] 実施形態は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。例えば、ノズル供給システムの動作は流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含んでいてもよく、液滴はそこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている。

【0025】

[0025] 方法は、流体ターゲット材料がプライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で移送可能とされている間、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持することを含んでいてもよい。方法は、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、ノズル供給システムとをプライミングシステムから流体的に隔離している間、第２の流体リザーバと第１の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることを含んでいてもよい。

【0026】

[0026] 方法は、流体ターゲット材料を、第１の流体リザーバからノズル供給システムへ、第２の流体リザーバからノズル供給システムへ、又は第１の流体リザーバ及び第２の流体リザーバから同時にノズル供給システムへ流すことによって、ノズル供給システムの動作全体にわたる流体ターゲット材料のノズル供給システムへの移送を可能にすることを含んでいてもよい。

【0027】

[0027] 方法は、ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が第２の流体リザーバ及び／又は第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを含んでいてもよい。方法は、プライミングシステムがプライミング圧力であるときにのみ、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することを含んでいてもよい。ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することは、ノズル供給システムが第１の圧力である間に起こり得る。

【0028】

[0028] 方法は、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持している間、第２の流体リザーバをプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填することを含んでいてもよい。方法は、第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバをプライミング圧力に維持すること、及び第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止することを含んでいてもよい。方法は、プライミングシステムから第２の流体リザーバ内に十分な流体ターゲット材料が移送された後でプライミングシステムから第２の流体リザーバを流体的に分離することを含んでいてもよい。

【0029】

[0029] 方法は更に、プライミングシステム内のターゲット材料の固体を溶解してターゲット流体材料にすることを含んでいてもよい。方法は、第１の流体リザーバ、第２の流体リザーバ、及びプライミングシステムの各々における流体ターゲット材料の温度及び圧力を独立且つ別個に制御することも含んでいてもよい。

【0030】

[0030] 方法は、ノズル供給システムの動作を停止すること及び第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を停止することの前に、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムと、ノズル供給システムとの間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くことも含んでいてもよい。

【図面の簡単な説明】

【0031】

【図1】[0031] 第１のリザーバシステムと、第２のリザーバシステムと、プライミングシステムと、流体制御システムとを含み、ノズル供給システムの連続動作中にノズル供給システムに流体ターゲット材料を供給するように構成された装置のブロック図である。

【図2】[0032] 環境制御装置を含み、流体制御システムの一実施形態を示す、図１の装置の一実施形態のブロック図である。

【図3】[0033] ノズル供給システムがＥＵＶ光源によって用いられる流体ターゲット材料のターゲットの流れを放出する、図１の装置のブロック図である。

【図4】[0034] 図１の装置において用いられ得るプライミングシステムの一実施形態のブロック図である。

【図5】[0035] 図１の装置において用いられ得るノズル供給システムの一実施形態のブロック図である。

【図6】[0036] 図１の装置によって実施される手順のフローチャートである。

【図7】[0037] 図１の装置によって実施される別の手順のフローチャートである。

【図8A】[0038] 図１の装置の動作の通常モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図8B】[0039] 図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9A】[0040] プライミングシステムにおいて流体ターゲット材料が既に補充されている、図１の装置の動作の通常モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9B】[0041] 第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が遮断されており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が遮断されている、図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9C】[0042] 第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が遮断されており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が開かれている、図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9D】[0043] 第２のリザーバシステムがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再補充された後で、第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が遮断されており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が遮断されている、図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9E】[0044] 第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が開かれており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が遮断されている、図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9F】[0045] 第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が開かれており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が遮断されており、第１のリザーバシステムが第２のリザーバシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている、図１の装置の動作の補充モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図9G】[0046] 第１のリザーバシステムと第２のリザーバシステムとの間の流体流路が開かれており、第２のリザーバシステムとプライミングシステムとの間の流体流路が遮断されている、図１の装置の動作の通常モードの最中のある瞬間を示すブロック図である。

【図10】[0047] 第２のリザーバシステムの流体ターゲット材料の容積を推定するように構成されたレベルセンシング装置を含む、図１の装置の別の一実施形態のブロック図である。

【図11】[0048] 環境制御装置が流体連通接続によって第１のリザーバシステム及び第２のリザーバシステムに流体的に接続されている、図１の装置の別の一実施形態のブロック図である。

【図12】[0049] 図１のプライミングシステムの別の一実施形態のブロック図である。

【図13A-D】[0050] 固体の流体ターゲット材料へのプライミング時の様々な段階における図１２のプライミングシステムのブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0032】

[0051] 図１を参照すると、装置１００が、ノズル供給システム１４０の連続動作中にノズル供給システム１４０に流体ターゲット材料１２０を供給するように構成されている。ノズル供給システム１４０は、流体ターゲット材料１２０をシステム１２４によって用いられるターゲットの流れ１２１の形で供給するように構成され得る。流体ターゲット材料１２０は流体状態（液体状態など）のターゲット材料である。

【0033】

[0052] 装置１００は、第１のリザーバシステム１０２と、第２のリザーバシステム１０３と、プライミングシステム１０４と、流体制御システム１９０とを含む。流体制御システム１９０は、プライミングシステム１０４と、第１のリザーバシステム１０２と、第２のリザーバシステム１０３と、ノズル供給システム１４０とに流体的に接続されている。いくつかの実施形態においては、流体制御システム１９０は、流体連通装置１１６と、流体連通装置１１６の１つ以上の態様を調節するように動作可能な流体コントローラ１０６とを含む。

【0034】

[0053] プライミングシステム１０４は、ターゲット材料を含む固体１２２を収容するように構成されている。流体連通装置１１６は、第１のリザーバシステム１０２、第２のリザーバシステム１０３、プライミングシステム１０４、及びノズル供給システム１４０と流体連通することのできる調節可能な流体流路である。例えば、流体連通装置１１６は、流体伝達ライン１１５と、例えば流体伝達ライン内の様々な通路を開くこと、閉じること、又は部分的に塞ぐことによって流体伝達ラインを通る流体の流量を規制する、方向付ける、又は制御するように構成された１つ以上の規制デバイス１１８及び１１９とを含む。流体連通装置１１６は、ノズル供給システム１４０への流体流を制御するために、ノズル供給システム１４０に向かう流体流路に沿った規制デバイス１１７も含んでいてもよい。

【0035】

[0054] 装置１００は（装置１００全体へのターゲット材料の再充填を可能にする）プライミングシステム１０４に加えて２つのリザーバシステム１０２，１０３を含んでいるので、流体ターゲット材料１２０は、ターゲット材料１２０の固体１２２がプライミングシステム１０４に追加されている間に、第１及び第２のリザーバシステム１０２，１０３の間で移送され得る。特に、ターゲットの流れ１２１を供給するためのノズル供給システム１４０の動作中には、流体制御システム１９０は、システム１２４に供給されるターゲットの流れ１２１が途絶えないように、ノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の連続供給を維持するべく、第１のリザーバシステム１０２と、第２のリザーバシステム１０３と、プライミングシステム１０４との間での流体連通を制御する。

【0036】

[0055] また、装置１００内で起こる作用は、ノズル供給システム１４０の性能に、通常であれば流体圧の擾乱に起因して生じ得る悪影響を及ぼさない。さらに、いくつかの実施形態においては、流体がノズル供給システム１４０に供給されている間、第１のリザーバシステム１０２はノズル供給システム１４０と流体連通すると共に高い圧力に維持され、第１のリザーバシステム１０２は流体ターゲット材料１２０の１次ソースをノズル供給システム１４０に提供することができる。

【0037】

[0056] 第１のリザーバシステム１０２と、第２のリザーバシステム１０３と、プライミングシステム１０４と、ノズル供給システム１４０との各々の間の流体制御は、流体制御システム１９０によって独立に制御可能であり、このようにすれば、ノズル供給システム１４０と流体連通しているリザーバシステム１０２又は１０３の少なくとも一方が、流体ターゲット材料１２０のソースを、ノズル供給システム１４０の動作中ずっとノズル供給システム１４０に提供することができる。

【0038】

[0057] 上記で述べたように、流体連通装置１１６は、流体伝達ライン１１５と、例えば流体伝達ライン１１５内の様々な通路を開くこと、閉じること、又は部分的に塞ぐことによって流体伝達ライン１１５を通る流体の流量を規制する、方向付ける、又は制御するように構成された１つ以上の規制デバイス１１７，１１８，１１９とを含む。流体伝達ライン１１５は、例えば、タンタルタングステン（ＴａＷ）又は流体ターゲット材料１２０を様々な高い圧力で含有することのできる他の適切な材料で形成された１つ以上の相互接続された管材を含んでいてもよい。管材は可撓性であってもよい。流体連通装置１１６は、装置１００の様々な部分の間に制御可能な流体流路を提供するように構成された、図示しない他の様々な流体制御デバイスを含んでいてもよい。流体連通装置１１６は、（言及された流体伝達ライン１１５及び１つ以上の規制デバイス１１７，１１８，１１９に加えて）１つ以上のバルブ、チューブ、流体流規制装置、及びタンクを含んでいてもよい。

【0039】

[0058] 規制デバイス１１７，１１８，１１９の各々はバルブ制御装置を含んでいてもよい。このようにすれば、特定の規制デバイス１１７，１１８，１１９を通る流体流が、そのバルブ制御装置内のバルブを開くこと又は閉じることによって調節され得る。各バルブ制御装置は流体バルブを含んでいてもよく、これは例えば、熱制御バルブ、手動バルブ、及び／又はモータであってもよい。熱制御バルブ（フリーズバルブとも称される）においては、経路は流路内の流体を液体状態に維持するために加熱され、また経路は、冷却する又は積極的に冷却されることができ、それによって流体を固体状態に変換する。したがって、本明細書に述べられているいくつかの実施形態においては、規制デバイス１１８，１１９内のバルブ制御装置はフリーズバルブを含む。規制デバイス１１７，１１８，１１９の各バルブ制御装置は、例えば９０°屈曲した管材、制限通路管材、円筒管材など、任意の適当な形状を有し得る。

【0040】

[0059] また、図２に示されるように、装置１００は、第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３の各々の環境（温度及び圧力など）を独立に制御するように構成された環境制御装置２３６を含んでいてもよい。第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３の環境制御は、プライミングシステム１０４の環境制御とは独立して実施され得る。特に、プライミングシステム１０４内への固体１２２の再投入は、流体ターゲット材料１２０の融点を下回る温度で及び大気圧で実施され得る。同時に、リザーバシステム１０２又は１０３のうち１つ以上は、ノズル供給システム１４０に流体ターゲット材料を供給している。これは、部分的には、プライミングシステム１０４がリザーバシステム１０２，１０３の各々から環境的に分離され得るという事実によって可能になる。装置１００の他の利点及び特徴については、装置１００のコンポーネントの詳細な説明の後で述べる。

【0041】

[0060] ノズル供給システム１４０の動作中、第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３のうち１つ以上は流体ターゲット材料１２０を含有する。第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３のうち少なくとも一方は、それによって、ノズル供給システム１４０の動作中にノズル供給システム１４０に流体ターゲット材料１２０を送出する。同時に、プライミングシステム１０４は、ターゲット材料を含む固体１２２から流体ターゲット材料１２０を生成するように構成されている（そして流体ターゲット材料１２０をプライミングタンク１１４内に貯蔵する）。プライミングシステム１０４は、ノズル供給システム１４０の動作中の様々な時刻及び段階で、具体的には第２のリザーバシステム１０３がノズル供給システム１４０から流体的に隔離されており、第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３が低い圧力にあってプライミングシステム１０４のプライミングタンク１１４と流体連通し得るときに、第２のリザーバシステム１０３に流体ターゲット材料１２０を供給する。プライミングタンク１１４が第１の流体リザーバ１１２と同じ圧力で動作しているいくつかの実施形態においては、プライミングシステム１０４は、追加的又は代替的に、第１のリザーバシステム１０２に流体ターゲット材料１２０を供給し得る。

【0042】

[0061] ノズル供給システム１４０は、装置１００から流体ターゲット材料１２０を受け取るように及びその流体ターゲット材料１２０をターゲットの流れ１２１の形でシステム１２４に供給するように構成されている。例えば、図３に示されるように、システム１２４がＥＵＶ光源３２４である場合には、ノズル供給システム１４０は、ターゲット３２１ｐが真空チャンバ３２８内のプラズマ形成箇所３２６に送出されるように流体ターゲット材料１２０から作製されたターゲットの流れ１２１を放出し得る。プラズマ形成箇所３２６は、光学源３４４によって発生され光路３４６を介して真空チャンバに送出された少なくとも１つの光ビーム３４２を受け得る。光ビーム３４２とターゲット３２１ｐのターゲット材料との相互作用はＥＵＶ光３４８を放出するプラズマを生成し、このＥＵＶ光は収集３５０されてリソグラフィ露光装置３５２に供給される。この例においては、流体ターゲット材料１２０は、プラズマ状態のときにＥＵＶ光３４８を放出するどんな材料であってもよい。例えば、流体ターゲット材料１２０は、水、スズ、リチウム、及び／又はキセノンを含み得る。

【0043】

[0062] 第１のリザーバシステム１０２は、流体ターゲット材料１２０を含有するように及びノズル供給システム１４０の動作中にノズル供給システム１４０と連続流体連通するように構成された容器である第１の流体リザーバ１１２を含む。第１の流体リザーバ１１２は、モリブデン（Ｍｏ）、鍛造Ｍｏ、又は流体ターゲット材料１２０の融点を超えても安定的且つ固体のままであり且つ流体ターゲット材料１２０と化学的に反応性でない任意の材料で形成、裏打ち、又は補強され得る構造によって定義される容積である。第１の流体リザーバ１１２は、流体コントローラ１０６によって流体結合及び制御される流体連通装置１１６を介してノズル供給システム１４０と流体連通されている。

【0044】

[0063] 第１の流体リザーバ１１２は第１の圧力Ｐ_１１２に維持され、この圧力は、いくつかの実施形態においては、ノズル供給システム１４０の動作中に環境制御装置２３６によって調節可能である。動作中のいくつかの時刻において、第１の圧力Ｐ_１１２は、例えば、少なくとも６０００キロパスカル、少なくとも１０，０００キロパスカル、少なくとも２５，０００キロパスカル、又は他の実施形態については６，０００キロパスカルから６０，０００キロパスカルの範囲内であり得る。ノズル供給システム１４０の動作中で、第１の流体リザーバ１１２が流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給しているときには、第１の圧力Ｐ_１１２は、例えば、ノズル供給システム１４０内の圧力よりも大きい任意の適当な圧力であり得る。

【0045】

[0064] 第２のリザーバシステム１０３は、流体ターゲット材料１２０を含有するように及びノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって第１のリザーバシステム１０２と流体連通するように構成された容器である第２の流体リザーバ１１３を含む。第２の流体リザーバ１１３は、モリブデン（Ｍｏ）、鍛造Ｍｏ、又は流体ターゲット材料１２０の融点を超えても安定的且つ固体のままであり且つ流体ターゲット材料１２０と化学的に反応性でない任意の材料で形成、裏打ち、又は補強され得る構造によって定義される容積である。第２の流体リザーバ１１３は、流体連通装置１１６を介して及び流体コントローラ１０６の制御下で第１のリザーバシステム１０２と流体連通する。

【0046】

[0065] いくつかの実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３の構造内の容積は第１の流体リザーバ１１２の構造内の容積と同じサイズである。したがって、第１及び第２の流体リザーバ１１２，１１３は、同じ量の流体ターゲット材料１２０を保持／保有することができる。他の実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３の構造内の容積は、第１の流体リザーバ１１２の構造内の容積よりも大きくてもよい。これらの実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３は、第１の流体リザーバ１１２よりも多量の流体ターゲット材料１２０を保持／保有することができるであろう。

【0047】

[0066] 第２の流体リザーバ１１３は第２の圧力Ｐ_１１３に維持され、この圧力は、ノズル供給システム１４０の動作中に環境制御装置２３６によって調節可能である。第２の圧力Ｐ_１１３の値は、どの瞬間においても、装置１００の現在の動作に依存し得る。例えば、いくつかの時刻においては、第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３は、プライミングシステム１０４が維持されるプライミング圧力Ｐ_１１４と同じであり得る。別の一例として、他の時刻においては、第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３は、第１の流体リザーバ１１２が維持される第１の圧力Ｐ_１１２と同じであり得る。そして、更に他の時刻においては、第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３は、第２の流体リザーバ１１３がプライミングシステム１０４と流体連通しているときの大気圧であってもよく、プライミングシステムも大気圧に維持される。

【0048】

[0067] プライミングシステム１０４は、（固体１２２から生成された）流体ターゲット材料１２０を含有するように構成された容器であるプライミングタンク１１４を含む。プライミングタンク１１４は、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって、第１のリザーバシステム１０２と第２のリザーバシステム１０３とのうち１つ以上と流体連通する。プライミングシステム１０４は、固体１２２から流体ターゲット材料１２０を生成するように構成されており、第２のリザーバシステム１０３を流体ターゲット材料１２０で再充填するために第２のリザーバシステム１０３と流体連通可能である、及び第１のリザーバシステム１０２を流体ターゲット材料１２０で再充填するために第１リザーバシステム１０２と流体連通可能である、のうち１つ以上である。プライミングシステム１０４は、ターゲット材料を含有する固体１２２を収容するように構成されたプライミングチャンバ１３０も含み得る。プライミングチャンバ１３０は、例えば、固体１２２がプライミングチャンバ１３０内で交換可能であるように、取り外し可能なカバーを含んでいてもよい。

【0049】

[0068] プライミングシステム１０４と第２の流体リザーバ１０３とは、プライミングシステム１０４が第２のリザーバシステム１０３を再充填しているときに第２の流体リザーバ１０３が流体ターゲット材料１２０で過充填されることを防止するように互いに対して位置決めされ得る。

【0050】

[0069] ノズル供給システム１４０の動作中の様々な時刻において、プライミングタンク１１４は流体連通装置１１６を介して第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３のうち１つ以上と流体連通し、そのような流体連通は、流体制御システム１９０の流体コントローラ１０６の制御下にある。プライミングチャンバ１３０は、プライミングタンク１１４と流体連通して、プライミングチャンバ１３０の内部で固体１２２から生成された流体ターゲット材料１２０が環境的に制御された手法でプライミングタンク１１４に供給されることを可能にする。

【0051】

[0070] プライミング圧力Ｐ_１１４は、プライミングタンク１１４が維持される圧力である。プライミング圧力Ｐ_１１４は、流体ターゲット材料１２０が第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３のうち１つ以上に供給されているかどうかに応じて、調節可能である。例えば、プライミング圧力Ｐ_１１４は、プライミングタンク１１４がプライミングチャンバ１３０からの固体１２２で再充填されているときには、（約１０１キロパスカルの）低い圧力（例えば大気圧）に維持され得る。

【0052】

[0071] 上述したように、流体制御システム１９０は、ノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の連続供給を維持するべく、第１のリザーバシステム１０２と、第２のリザーバシステム１０３と、プライミングシステム１０４との間の流体連通を制御するように構成されている。具体的には、流体コントローラ１０６は、１つ以上の規制デバイス１１７，１１８，１１９の現在の流体状態を判定するように、装置１００における所望の流体連通に関する入力を受信するように、及び装置１００における所望の流体連通に基づいて規制デバイス１１７，１１８，１１９のうち１つ以上の流体状態を調節するように構成されている。

【0053】

[0072] 流体コントローラ１０６は、１つ以上のプログラム可能プロセッサを含むか又は１つ以上のプログラム可能プロセッサへのアクセスを有していてもよく、入力データ上で動作すること及び１つ以上の規制デバイス１１７，１１８，１１９への適切な出力を生成することによって所望の機能を実施するために、各々が命令のプログラムを実行し得る。流体コントローラ１０６は、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、又はソフトウェアのいずれでも実装され得る。更なる実施形態においては、流体コントローラ１０６はメモリにアクセスしてもよく、そのメモリは読み出し専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリであってもよく、コンピュータプログラム命令及びデータを有形に具現化するのに適した記憶デバイスを提供し得る。流体コントローラ１０６は、１つ以上の入力デバイス（キーボード、タッチ対応デバイス、音声入力デバイスなど）及び音声出力又はビデオ出力など１つ以上の出力デバイスも含んでいてもよい。流体コントローラ１０６は、規制デバイス１１７，１１８，１１９の各々内の１つ以上の作動要素と通信し得る。

【0054】

[0073] ノズル供給システム１４０の動作中、流体コントローラ１０６は、（第２の流体リザーバ１１３における流体ターゲット材料１２０の補充の間）第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０を第２の流体リザーバ１１３及びプライミングタンク１１４から隔離するように命令され得る。そのような隔離は、少なくとも部分的には、規制デバイス１１８に閉じるように命令し、それによって規制デバイス１１８は閉じさせて流体ターゲット材料１２０の通過を遮断させる流体コントローラ１０６によって実現可能である。他の時刻においては（例えば、第１のリザーバシステム１０２と第２のリザーバシステム１０３との両方が十分な流体ターゲット材料１２０を有するとき）、流体コントローラ１０６は、ノズル供給システム１４０の動作中、第１の流体リザーバ１１２と、第２の流体リザーバ１１３と、ノズル供給システム１４０とをプライミングタンク１１４から隔離するように命令される。そのような隔離は、少なくとも部分的には、規制デバイス１１９に閉じるように命令し、それにより規制デバイス１１９を閉じさせて流体ターゲット材料１２０の通過を遮断させる流体コントローラ１０６によって実現可能である。

【0055】

[0074] また、流体コントローラ１０６は、ノズル供給システム１４０の動作中、第１の流体リザーバ１１２とノズル供給システム１４０との間に連続的な流体流路を維持するように命令され得る。この連続的な流体流路は、少なくとも部分的には、流体連通装置１１６の規制デバイス１１７に開くように又は開いたままであるように命令を送信する流体コントローラ１０６によって実現可能である。流体コントローラ１０６は、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間、第１の流体リザーバ１１２と、第２の流体リザーバ１１３と、ノズル供給システム１４０との間の流体流路を維持するように命令され得る。この連続的な流体流路は、少なくとも部分的には、流体連通装置１１６の規制デバイス１１７及び１１８に開くように又は開いたままであるように命令を送信する流体コントローラ１０６によって実現可能である。

【0056】

[0075] 図２を参照すると、流体連通装置１１６の一実施形態２１６及び装置１００の一実施形態２００が示されている。流体連通装置２１６において、（図１の）規制デバイス１１８はリザーババルブシステム２１８に対応し、（図１の）規制デバイス１１９は再充填バルブシステム２１９に対応する。リザーババルブシステム２１８及び再充填バルブシステム２１９は流体コントローラ１０６によって制御される。リザーババルブシステム２１８は、第１の流体リザーバ１１２と第２の流体リザーバ１１３との間に位置しており、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０を第２の流体リザーバ１１３及びプライミングタンク１１４から流体的に隔離するように構成されている。再充填バルブシステム２１９は、第２の流体リザーバ１１３とプライミングタンク１１４との間に位置しており、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって第１の流体リザーバ１１２と、ノズル供給システム１４０と、第２の流体リザーバ１１３とをプライミングタンク１１４から流体的に隔離するように構成されている。

【0057】

[0076] いくつかの実施形態においては、リザーババルブシステム２１８及び再充填バルブシステム２１９は、それぞれリザーバフリーズバルブ２１８Ｆ及び再充填フリーズバルブ２１９Ｆを含む。リザーバフリーズバルブ２１８Ｆ及び再充填フリーズバルブ２１９Ｆは流体コントローラ１０６によって制御される。フリーズバルブは、（流体ターゲット材料１２０を含有しフリーズバルブの両側に通過させる）管部と、管部と熱的に連通した規制温度調節デバイスとを含む。規制温度調節デバイスは、流体ターゲット材料１２０の融点を中心とする温度の範囲にわたって管部の温度を変化させるように構成されている。例えば、規制温度調節デバイスは管部と熱的に連通したカートリッジヒータであってもよい。管部の温度が流体ターゲット材料１２０の融点を実質的に下回って保たれる場合には、管部の内部にある任意の液体は固体化（凍結状態に状態を変化）するであろう。そして、この固体は、その管部を通る流動経路に栓をし、それによって更なる流体ターゲット材料１２０がフリーズバルブを通過するのを防止する。固体は、固体の融点を上回る温度まで規制温度調節デバイスが管部を加熱すると溶解され得、温度が十分に高い、つまり固体の融点を好適に超える場合には、栓の固体は溶解して流体ターゲット材料１２０を形成し、自由に管部の流動経路を通って流れ得る。

【0058】

[0077] 例えば、リザーバフリーズバルブ２１８Ｆは、リザーバフリーズバルブ２１８Ｆの温度調節デバイスがリザーバフリーズバルブ２１８Ｆの管部を流体ターゲット材料１２０の融点を好適に下回る温度まで冷却するとき、第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０を第２の流体リザーバ１１３及びプライミングシステム１０４から流体的に隔離する。また、再充填フリーズバルブ２１９Ｆは、再充填フリーズバルブ２１９Ｆ内の温度調節デバイスが再充填フリーズバルブ２１９Ｆの管部を流体ターゲット材料１２０の融点を好適に下回る温度まで冷却するとき、プライミングシステム１０４をノズル供給システム１４０、第１の流体リザーバ１１２、及び第２の流体リザーバ１１３から流体的に隔離する。

【0059】

[0078] いくつかの実施形態においては、図２に示されるように、ノズル供給システム２４０は、概して（Ｘ方向と平行な）長手方向に沿って延伸すると共に開口２４３を定義する毛細管２４１を含む。開口２４３は毛細管２４１の端部にあり、開口２４３は一端においてシステム１２４に開口している。毛細管２４１は、例えば、溶融シリカ、ホウケイ酸塩、アルミノケイ酸塩、又は石英の形をとるガラスから作製され得る。流体ターゲット材料１２０は毛細管２４１を通って流れ、開口２４３を通って吐出される。ラプラス圧は、ガス領域と液体領域との間の境界を形成する曲面の内側と外側との圧力の差である。その圧力差は、液体とガスとの間の界面の表面張力によって引き起こされる。第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２がラプラス圧よりも大きいと、流体ターゲット材料１２０はターゲットの流れ１２１として開口２４３を出ていく。

【0060】

[0079] ノズル供給システム１４０は、流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給するように構成されている。ノズル供給システム１４０の外部のシステム１２４の圧力Ｐ_１２４は第１のリザーバシステム１０２に印加される圧力Ｐ_１１２以下であってもよく、すると流体ターゲット材料１２０は、（ノズル供給システム１４０に印加される）圧力Ｐ_１１２とシステム１２４の圧力Ｐ_１２４との間の圧力差に起因して、ノズル供給システム１４０から追い出される。いくつかの実施形態においては、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２は大気圧よりも大きく、システム１２４の圧力Ｐ_１２４は大気圧未満である。

【0061】

[0080] 上記で言及したように、環境制御装置２３６は、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の各々の温度及び圧力を独立に制御するように構成されている。環境制御装置２３６は、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２及び第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３を独立且つ別個に制御するように構成されている。環境制御装置２３６は、第１の流体リザーバ１１２の第１の温度Ｔ_１１２及び第２の流体リザーバ１１３の第２の温度Ｔ_１１３を独立且つ別個に制御するようにも構成されている。図２に示されるように、環境制御装置２３６は、ノズル供給システム２４０の１つ以上の態様の温度及び圧力を独立に制御するように構成されていてもよい。そして、流体コントローラ１０６は、ノズル供給システム２４０内の流体流の１つ以上の態様を制御することができる。これらの制御については、図５のノズル供給システム５４０を参照してより詳細に述べる。

【0062】

[0081] 環境制御装置２３６は、各々が第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３のいずれかの温度又は圧力のいずれかを独立且つ別個に制御するように構成された複数のコンポーネントを含んでいてもよい。例えば、環境制御装置２３６は、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２を制御するためのコンポーネント、第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３を制御するためのコンポーネント、第１の流体リザーバ１１２の第１の温度Ｔ_１１２を制御するためのコンポーネント、及び第２の流体リザーバ１１３の第２の温度Ｔ_１１３を制御するためのコンポーネントを含み得る。第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２と第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３とを独立且つ別個に制御するコンポーネントの各々は、第１の流体リザーバ１１２又は第２の流体リザーバ１１３とそれぞれ流体連通する圧力制御コンポーネントであってもよい。いくつかの実施形態においては、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の空洞の各々に加圧ガスが印加されてもよく、各加圧ガスの圧力を調節することによって、第１の圧力Ｐ_１１２及び第２の圧力Ｐ_１１３がそれぞれ調節され得る。不活性の又は流体ターゲット材料１２０と反応しない加圧ガスが用いられるべきである。例えば、加圧ガスは、アルゴンに２％水素を混合したものなど、水素とアルゴンとの混合物であってもよい。また、環境制御装置２３６は、装置２００内の様々なセンサ／測定デバイスからのデータを分析すると共にそのような分析に基づいて装置２００内のコンポーネントをどのように調節するかを判定するコントローラを含んでいてもよい。

【0063】

[0082] 別の一例においては、第１の流体リザーバ１１２の第１の温度Ｔ_１１２と第２の流体リザーバ１１３の第２の温度Ｔ_１１３とを独立且つ別個に制御するコンポーネントの各々は、炉、熱電対デバイス、又は第１の温度Ｔ_１１２及び第２の温度Ｔ_１１３を測定及び維持するように構成された別のデバイスを含んでいてもよい。例えば、環境制御装置２３６は、第１の流体リザーバ１１２，第２の流体リザーバ１１３，及びプライミングタンク１１４の各々に圧力トランスデューサを含み得る。環境制御装置２３６は、装置２００内の、温度が監視されることを必要とする各区画又は領域について、１つ以上の熱電対デバイスを含んでいてもよい。

【0064】

[0083] 再び図１を参照すると、いくつかの実施形態においては、固体１２２は、主にスズで作製されたインゴット（ブロック又はディスクなど）である。インゴットは重量で少なくとも９９％（又は少なくとも９９．９％）の純度であり得る。これは、固体１２２中に存在し得る微量の他の非スズ材料（鉛及びアンチモンなど）があり得ることを意味する。固体１２２がスズインゴットである本例においては、プライミングシステム１０４は、固体１２２を（スズの融点である）４５０°Ｆを超える温度まで加熱する１つ又は複数のデバイスを含む。溶解すると、固体スズは、液体スズと他の非スズ材料（鉛及びアンチモン、又は分子若しくは他の成分）とに変化する。非スズ材料は１つ以上の分子、原子、化合物、又は他の成分を含み得るものであり、その各々は、その成分の融点に応じて、固体又は液体状態である。したがって、液体スズ（この場合、流体ターゲット材料１２０になる）がプライミングタンク１１４に供給される。例えば、ノズル供給システム１４０の動作中には、４００時間毎に５キログラムのスズインゴットがプライミングシステム１０４のプライミングチャンバ１３０内に設置され得る。他の例においては、他のインゴットサイズが他の交換頻度でプライミングチャンバ１３０内に設置されるかもしれない。

【0065】

[0084] 図４を参照すると、（図１に示される）プライミングシステム１０４の一実施形態がプライミングシステム４０４として示されている。プライミングシステム４０４は、（流体ターゲット材料１２０を貯蔵するように及び流体ターゲット材料１２０を第１のリザーバシステム１０２及び／又は第２のリザーバシステム１３０に供給するように作用する）プライミングタンク４１４と、（固体１２２を再投入するために用いられる）プライミングチャンバ４３０と、流体輸送システム４６１とを含む。プライミングチャンバ４３０は、取り外し可能なキャリア４２８を収容するのに十分な大きさの主空洞４２５を含む。固体１２２は取り外し可能なキャリア４２８の副空洞４２９内に収容される。プライミングチャンバ４３０は、主空洞４２５を気密封止するため及び固体１２２が交換される必要のあるときに取り外し可能なキャリア４２８の取り外しも可能にするための機構として役立つ、取り外し可能な蓋４３０Ｌを含む。プライミングチャンバ４３０は、例えば、プライミングチャンバ４３０と流体輸送システム４６１との間の流体流路の一部である中央流体流チャネルを有する管部を含み得る。管部はプライミングチャンバ４３０及び取り外し可能なキャリア４２８から延伸していてもよく、管部の内部は、副空洞４２９によって定義される輸送開口と流体連通し得ると共に、流チャネルを介して流体輸送システム４６１と流体連通し得る。

【0066】

[0085] 例えば、流体輸送システム４６１は、プライミングチャンバからの流体の流量を制御する規制装置を含んでいてもよい。このようにすれば、規制装置がプライミングチャンバ４３０とプライミングタンク４１４との間の流体流路を制御することができる。規制装置は、例えば、管部の流体流チャネルと相互作用する１つ以上のバルブを含むバルブ配列を含んでいてもよく、すると中央流体流チャネル内の流体ターゲット材料１２０の流量はバルブ配列の１つ以上のバルブの動作によって制御される。

【0067】

[0086] いくつかの実施形態においては、流体輸送システム４６１のバルブ配列はフリーズバルブを含み得る。フリーズバルブは、管部と、管部と熱的に連通した規制温度調節デバイスとを含み得る。規制温度調節デバイスは、固体１２２の融点を中心とする温度の範囲にわたって管部の温度を変化させるように構成されている。規制温度調節デバイスは管部と熱的に連通したカートリッジヒータであってもよい。例えば、管部の温度が固体１２２の融点を実質的に下回って保たれる場合には、（重力によって）キャリア４２８を流れ出た任意の液体は、中央流体流チャネルに到達するにつれ固体化するであろう。そして、この固体が中央流体流チャネルに栓をして、更なる流体が中央流体流チャネルを通って流れるのを防止する。したがって、固体１２２は、固体１２２の融点を上回る温度まで規制温度調節デバイスが管部を加熱すると溶解され得、温度が十分に高い（つまりこの融点を超える）場合には、栓の固体１２２は溶解し、自由に中央流体流チャネルを通って流れる。

【0068】

[0087] ある特定の実施形態においては、流体輸送システム４６１のバルブ配列はフリーズバルブに加えてゲートバルブを含んでいてもよく、ゲートバルブはフリーズバルブとプライミングタンク４１４との間に設置されてもよい。ゲートバルブは、溶解した流体がゲートバルブの実ゲートと接触しないように、フリーズバルブの管部を加熱する前に開かれ得る。

【0069】

[0088] 流体流路又は流体空洞と接触する装置１００の任意のコンポーネント（第１のリザーバシステム１０２、第２のリザーバシステム１０３、プライミングシステム１０４、及び流体連通装置１１６を含む）は、固体１２２、流体ターゲット材料１２０、及び固体１２２内に存在し得る（固体又は流体又は液体形態のいずれにせよ）任意の非ターゲット材料と相性が良く且つ（関連する温度で）反応しない材料で作製されるべきである。例えば、第１の流体リザーバ１１２の構造と、第２の流体リザーバ１１３の構造と、プライミングチャンバ４３０、取り外し可能なキャリア４２８、規制装置、又は流体輸送システム４６１内の他のコンポーネントと、規制デバイス１１７，１１８，１１９と、流体連通装置１１６の流体伝達ラインとは、様々な剛性金属又は金属合金で作製され得る。

【0070】

[0089] また、図５を参照すると、いくつかの実施形態においては、ノズル供給システム５４０が、環境制御装置２３６及び流体コントローラ１０６の制御下でノズル供給システム５４０内及び装置１００内のインターフェイスから流体ターゲットを取り除くべく動作するように構成された専用コンポーネント５３１を含む。

【0071】

[0090] この実施形態においては、ノズル供給システム５４０は、概してその長手方向に沿って延伸すると共に流体ターゲット材料１２０がターゲットの流れ１２１として出ていく開口５４３を定義する毛細管５４１を有するノズルアセンブリ５４２を含む。専用コンポーネント５３１は、一端が装置２００の規制デバイス１１７とノズルアセンブリ５４２との間の流体連通装置１１６に流体結合されたガスライン５３２を含む。ガスライン５３２は、他端がガス源に流体結合されている。専用コンポーネント５３１はガスライン５３２の流体流路を開閉するためのサービスフリーズバルブのような流体バルブ５３３も含み、流体流路は、一端のガス源と他端のノズルアセンブリ５４２及び装置２００との間に定義される。

【0072】

[0091] 環境制御装置２３６は、規制デバイス１１７とノズルアセンブリ５４２との間の経路に沿った流体連通装置１１６及びガスライン５３２と熱的に連通する温度調節デバイスと、ガスライン５３２を加圧することのできる圧力調節デバイスとを含む。ノズルアセンブリ５４２が交換される必要のあるとき及びノズルアセンブリ５４２を交換する前などの特定の瞬間に、流体コントローラ１０６は流体バルブ５３３に開くように命令し、例えば流体バルブ５３３がフリーズバルブである場合には、同バルブは流体ターゲット材料１２０の融点を上回る温度まで温められ又は加熱され得る。環境制御装置２３６は、ガスライン５３２に印加される圧力Ｐ_５３１を、第１の流体リザーバ１１２に印加される第１の圧力Ｐ_１１２よりも大きい圧力まで増大させ、それによってノズルアセンブリ５４２内及び／又はノズルアセンブリ５４２と第１の流体リザーバ１１２との間の流路に残っている流体ターゲット材料１２０を第１の流体リザーバ１１２の方に押し戻してもよい。

【0073】

[0092] ノズル供給システム５４０は更に、毛細管５４１とガスライン５３２との間に位置するノズルバルブシステム５４５を含んでいてもよい。ノズルバルブシステム５４５は、流体ターゲット材料１２０が流体連通装置１１６から取り除かれた後、ノズルアセンブリ５４２を装置２００から流体的に隔離するように構成され得る。

【0074】

[0093] 図６を参照すると、ノズル供給システム１４０がシステム１２４への流体ターゲット材料１２０を生成するように動作している間（図１に示される）ノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の移送を制御するための手順６７０が装置１００によって実行される。手順６７０のステップについて述べるときには、追加的に図８Ａも参照する。図８Ａは、手順６７０の様々なステップを通じて関連のある、装置１００の一実施形態のコンポーネントを図示する。

【0075】

[0094] まず、図８Ａに示されるように、プライミングシステム１０４がターゲット材料を含む固体１２２を収容する［６７１］。プライミングシステム１０４はプライミング圧力Ｐ_１１４に維持される。例えば、図４を参照すると、プライミングチャンバ４３０の蓋４３０Ｌは、固体１２２がプライミングチャンバ４３０（又は取り外し可能なキャリア４２８）内に収容されることを可能にするために、開かれ又はプライミングチャンバ４３０の本体から取り外されてもよい。したがって、この間、プライミングチャンバ１３０は大気圧に曝される。固体１２２は、プライミングチャンバ４３０のサイズに基づいたサイズ及び重量を有し得る。また、蓋４３０Ｌを開けて固体１２２をプライミングチャンバ４３０内に挿入するというこのプロセスは、人の介入を必要とすることなく自動化されてもよい。

【0076】

[0095] 更に、プライミングチャンバ４３０（又は取り外し可能なキャリア４２８）は、蓋４３０Ｌが閉じられているとき又は固体１２２がプライミングチャンバ４３０内に存在するときを検出することのできるセンサシステムを装備していてもよい。

【0077】

[0096] この（プライミングシステム１０４が固体１２２を収容する［６７１］）間、プライミング圧力Ｐ_１１４は大気圧であるため、プライミングシステム１０４は装置１００の残りの部分から流体的に隔離され得る。例えば、固体１２２を収容するためにプライミングシステム１０４を開く前に、流体コントローラ１０６が規制デバイス１１９に閉じるように命令し、それによってプライミングシステム１０４を第２の流体リザーバ１１３と、第１の流体リザーバ１１２と、ノズル供給システム１４０とから隔離してもよい。このようにすれば、この間、流体ターゲット材料１２０は、流体連通接続１１６を介してプライマリタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３、第１の流体リザーバ１１２、及びノズル供給システム１４０のうちいずれかに移動することを防止される。

【0078】

[0097] プライミングシステム１０４は固体１２２から流体ターゲット材料１２０を生成する［６７３］。プライミングシステム１０４がどのようにして固体１２２から流体ターゲット材料１２０を生成するのかの一例を、図４を参照して次に述べる。まず、プライミングチャンバ４３０の主空洞４２５が、例えば蓋４３０Ｌをプライミングチャンバ４３０の他の部分に固定することによって、封止され得る。プライミングタンク４１４の空洞と主空洞４２５とは、圧力を均等にすることを可能にするため、並びに最終的なターゲット材料流体１２０がプライミングチャンバ４３０からプライミングタンク４１４に自由に流れることができるようにするために、互いに流体連通していてもよい。この時、主空洞４２５と、輸送システム４６１の少なくとも一部と、プライミングタンク４１４の空洞とは、大気圧を下回るプライミング圧力Ｐ_１１４に維持され得る。次に、挿入された固体１２２が、固体１２２が流体ターゲット材料１２０に変化するまで、固体１２２の融点を上回る温度に加熱される。

【0079】

[0098] この、プライミングシステム１０４内で流体ターゲット材料１２０が固体１２２から生成されている間［６７３］、規制デバイス１１９はプライミングシステム１０４を第２の流体リザーバ１１３と、第１の流体リザーバ１１２と、ノズル供給システム１４０とから隔離し続ける。このようにすれば、流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給するためのノズル供給システム１４０の動作が維持され得る。

【0080】

[0099] また、この、ノズル供給システム１４０が流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給している間、流体制御システム１９０は、第１の流体リザーバ１１２とノズル供給システム１４０との間の流体連通を維持する［６７５］。例えば、第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０への流体連通接続１１６を介した流体ターゲット材料１２０の移送を可能にするために、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１７に、この間、開いたままであるように命令し得る。更に、環境制御装置２３６（図２）は第１の流体リザーバ１１２を第１の圧力Ｐ_１１２に維持し、第１の圧力Ｐ_１１２はプライミング圧力Ｐ_１１４よりも大きい。環境制御装置２３６（図２）は、ノズル供給システム１４０の動作中、第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の効率的な連続移送を可能にするために、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２が圧力Ｐ_１２４よりも大きいことを保証することもできる。

【0081】

[0100] 流体ターゲット材料１２０がプライミング圧力Ｐ_１１４のプライミングシステム１０４において生成されている間、図８Ａを参照すると、流体制御システム１９０は、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって、流体ターゲット材料１２０が第１の流体リザーバ１１２と第２の流体リザーバ１１３との間で移動することを可能にする［６７７］。例えば、流体コントローラ１０６は、第１の流体リザーバ１１２と第２の流体リザーバ１１３との間での流体連通接続１１６による流体ターゲット材料１２０の移送を可能にするために、規制デバイス１１８に開くように命令し得る。

【0082】

[0101] 図７を参照すると、ノズル供給システム１４０がシステム１２４への流体ターゲット材料１２０を生成するように動作している間（図１に示される）ノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の移送を制御するための手順７８０が装置１００によって実行される。手順７８０のステップについて述べるときには、追加的に図８Ｂも参照する。図８Ｂは、手順７８０の様々なステップを通じて関連のある、装置１００の一実施形態のコンポーネントを図示する。

【0083】

[0102] まず、図８Ｂに示されるように、そして上述したように、プライミングシステム１０４がターゲット材料を含む固体１２２を収容する［７８１］。プライミングシステム１０４はプライミング圧力Ｐ_１１４に維持される。例えば、図４を参照すると、上述したように、固体１２２はプライミングチャンバ４３０内に収容され得る。したがって、この間、プライミングチャンバ１３０は大気圧に曝され、プライミングシステム１０４は装置１００の残りの部分から流体的に隔離され得る。例えば、固体１２２を収容するためにプライミングシステム１０４を開く前に、流体コントローラ１０６が規制デバイス１１９に閉じるように命令し、それによってプライミングシステム１０４を第２の流体リザーバ１１３と、第１の流体リザーバ１１２と、ノズル供給システム１４０とから隔離してもよい。このようにすれば、この間、流体ターゲット材料１２０は、流体連通接続１１６を介してプライマリタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３、第１の流体リザーバ１１２、及びノズル供給システム１４０のうちいずれかに移動することを防止される。

【0084】

[0103] プライミングシステム１０４は固体１２２から流体ターゲット材料１２０を生成する［７８３］。例えば、上述したように、挿入された固体１２２が、固体１２２が流体ターゲット材料１２０に変化するまで、固体１２２の融点を上回る温度に加熱される。この間、規制デバイス１１９は、プライミングシステム１０４を第２の流体リザーバ１１３と、第１の流体リザーバ１１２と、ノズル供給システム１４０とから隔離し続ける。

【0085】

[0104] このようにして、流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給するためのノズル供給システム１４０の動作が維持され得る。

【0086】

[0105] また、この、ノズル供給システム１４０が流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給している間、流体制御システム１９０は、第１の流体リザーバ１１２とノズル供給システム１４０との間の流体連通を維持する［７８５］。例えば、上述したように、第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０への流体連通接続１１６を介した流体ターゲット材料１２０の移送を可能にするために、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１７に、この間、開いたままであるように命令し得る。更に、環境制御装置２３６（図２）は第１の流体リザーバ１１２を第１の圧力Ｐ_１１２に維持し、第１の圧力Ｐ_１１２はプライミング圧力Ｐ_１１４よりも大きい。環境制御装置２３６（図２）は、ノズル供給システム１４０の動作中、第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の効率的な連続移送を可能にするために、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２が圧力Ｐ_１２４よりも大きいことを保証することもできる。

【0087】

[0106] 第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０がプライミングシステムから流体的に隔離されているとき、図８Ｂを参照すると、流体制御システム１９０は、ノズル供給システム１４０の動作中の少なくとも一部の時間にわたって、流体ターゲット材料１２０がプライミングシステム１０４と第２の流体リザーバ１１３との間で移動することを可能にする［７８７］。例えば、流体コントローラ１０６は、プライミングシステム１０４と第２の流体リザーバ１１３との間での流体連通接続１１６を介した流体ターゲット材料１２０の移送を可能にするために、規制デバイス１１９に開くように又は（既に開いている場合には）開いたままであるように命令し得る。また、この間、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１８に閉じるように又は（既に閉じている場合には）閉じたままであるように命令し、それによって第２の流体リザーバ１１３及びプライミングシステム１０４を第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０から隔離し得る。このようにして、流体ターゲット材料１２０をシステム１２４に供給するためのノズル供給システム１４０の動作が維持され得る。

【0088】

[0107] 手順６７０及び７８０の一方又は両方は、図８Ｂにおけるように、流体ターゲット材料１２０がプライミングシステム１０４と第２の流体リザーバ１１３との間で移動可能にされる間、第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２が第２の圧力Ｐ_１１３及びプライミング圧力Ｐ_１１４よりも大きいレベルに維持されることも保証する。

【0089】

[0108] いくつかの実施形態においては、ノズル供給システム１４０の動作全体にわたる流体ターゲット材料１２０のノズル供給システム１４０への移送は、流体ターゲット材料１２０を、第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０へ、第２の流体リザーバ１１３からノズル供給システム１４０へ、又は第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の両方からノズル供給システム１４０へ流すことによって可能にされ得る。

【0090】

[0109] 更に、環境制御装置２３６は、手順６７０，７８０の一方又は両方の最中に、第１の流体リザーバ１１２，第２の流体リザーバ１１３、及びプライミングシステム１０４の各々における流体ターゲット材料１２０の温度及び圧力を独立且つ別個に制御し得る。

【0091】

[0110] 装置１００の動作の通常モードの間、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の各々は、ターゲットの流れ１２１をシステム１２４に提供するためにノズル供給システム１４０の動作を中断させることなく流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給するのに十分な流体ターゲット材料１２０を有している。通常モードにおいては、図８Ａに示されるように、（第１の流体リザーバ１１２に印加される）第１の圧力Ｐ_１１２及び（第２の流体リザーバ１１３に印加される）第２の圧力Ｐ_１１３は高い値に維持される。例えば、第１の圧力Ｐ_１１２及び第２の圧力Ｐ_１１３はそれぞれ、６０００キロパスカル（ｋＰａ）以上、少なくとも１０，０００ｋＰＡ、少なくとも２５，０００ｋＰＡ、又は６０００～６０，０００ｋＰａの範囲内であってもよい。第１の圧力Ｐ_１１２及び第２の圧力Ｐ_１１３は、流体ターゲット材料１２０がノズル供給システム１４０を通ってシステム１２４まで押されることを可能にするために、システムの圧力Ｐ_１２４よりも大きい値に維持され得る。この場合、第１及び第２の流体リザーバ１１２，１１３の両方が流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給し得る。また、動作の通常モードの間、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３に適用される温度Ｔ_１１２及びＴ_１１３はそれぞれ、流体ターゲット材料１２０が流体状態に維持されることを保証するために、流体ターゲット材料１２０の融点を上回るレベルに維持され得る。

【0092】

[0111] 動作の通常モードの間、図８Ａに示されるように、規制デバイス１１９は、第１の流体リザーバ１１２と、第２の流体リザーバ１１３と、ノズル供給システム１１４とをプライミングシステム１０４から隔離するために閉じられる。プライミングシステム１０４は装置１００の他の部分から完全に隔離されるので、動作の通常モードの間、動作の通常モードに影響することなく、プライミングシステム１０４において流体ターゲット材料１２０をプライミングする（つまり準備する）ことが可能である。特に、プライミングシステム１０４における流体ターゲット材料１２０のプライミングには、プライミングシステム１０４が装置１００の他のコンポーネント（第１のリザーバシステム１０２及び第２のリザーバシステム１０３など）とは異なる圧力及び温度で動作することが必要である。プライミングシステム１０４は、動作の通常モードの間、装置１００の残りの部分から流体的に隔離されると共に環境的に隔離されるので、プライミングシステム１０４において流体ターゲット材料１２０をプライミングするこのプロセスは、動作の通常モードと並行して動作し得る。

【0093】

[0112] 流体ターゲット材料１２０は、プライミングシステム１０４において、次に図４を参照して述べられるように準備され得る。具体的には、固体１２２がプライミングチャンバ４３０内に挿入される。固体１２２がプライミングチャンバ４３０内に挿入されている間、プライミングシステム１０４の温度は室温に維持されてもよい。また、取り外し可能なキャリア４２８が用いられる場合には、固体１２２は最初に取り外し可能なキャリア４２８内に挿入されてもよく、その後で取り外し可能なキャリア４２８がプライミングチャンバ４３０内に挿入されてもよく、その後で蓋４３０Ｌがプライミングチャンバ４３０を封止してもよい。固体１２２がプライミングチャンバ４３０内に入ると、プライミングチャンバ４３０の温度は、固体１２２が溶解して流体ターゲット材料１２０になるまで高められ、その時、流体輸送システム４６１はプライミングタンク４１４内への流体ターゲット材料１２０の流量を制御し、プライミングタンク４１４は流体ターゲット材料１２０の融点を上回る温度に維持される。こうして、流体ターゲット材料１２０は、後で装置１００によって用いられるためにプライミングタンク４１４内に貯蔵され得る。

【0094】

[0113] 動作の通常モードの間、流体ターゲット材料１２０の量は、図８Ａに示されるように、流体ターゲット材料１２０がターゲットの流れ１２１を生成するためにノズル供給システム１４０によって用いられるにつれて、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の一方又は両方から徐々に減少する。動作の通常モードのある時点で、図９Ａに示されるように、流体ターゲット材料１２０の量は、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３において、装置１００の動作の通常モードから装置１００の動作の補充モードに切り替えることが必要になるほど少なくなる。

【0095】

[0114] 補充モードの開始時には、図９Ｂに示されるように、規制デバイス１１８は閉じられ、したがって一方側の第１の流体リザーバ１１２及びノズル供給システム１４０を他方側の第２の流体リザーバ１１３から流体的に隔離するように作用する。規制デバイス１１８が閉じられると、環境制御装置２３６は第２の流体リザーバ１１３を減圧する。つまり、第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３は、大気圧に近いか又は大気圧であってもよい適当な低い圧力にされる。例えば、圧力Ｐ_１１３は６００ｋＰａ以下に減圧され得る。この時、第１の流体リザーバ１１２に印加される圧力Ｐ_１１２は、流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給し続けることを可能にするために、高いまま（６０００ｋＰａ以上又は６０００～６０，０００ｋＰａの値など）である。次に、図９Ｃに示されるように、第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３が適当な低い圧力に達すると、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１９に開くように命令し、それによってプライミングシステム１０４（具体的にはプライミングタンク１１４）と第２の流体リザーバ１１３との間に流体を流れさせる。規制デバイス１１９が開くと、流体ターゲット材料１２０は、図示するように、プライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３へ自由に流れる。流体ターゲット材料１２０は、プライミングタンク１１４内の流体ターゲット材料１２０が閾値を下回るまで（又は流体ターゲット材料１２０がプライミングタンク１１４から枯渇するまで）第２の流体リザーバ１１３に流入し続ける。いくつかの実施形態においては、プライミングタンク１１４は、第２の流体リザーバ１１３内の容積を超える容積の流体ターゲット材料１２０を貯蔵することができる。こうした実施形態においては、プライミングタンク１１４内の流体ターゲット材料１２０の最低レベルが常に第２の流体リザーバ１１３の最上部を下回るように第２の流体リザーバ１１３及びプライミングタンク１１４を各々に対してＺ方向に沿って適切に位置決めすることによって、第２の流体リザーバ１１３が流体ターゲット材料１２０で過充填されるのを防止することが可能である。

【0096】

[0115] 上述したように、いくつかの実施形態においては、規制デバイス１１９はフリーズバルブである。これらの実施形態においては、規制デバイス１１９を開くために、（規制デバイス１１９が閉じていたときに）規制デバイス１１９の管部内に先に栓として形成された任意の固体１２２を溶解するように、規制温度調節デバイスが規制デバイス１１９の管部を流体ターゲット材料１２０の融点を超える値まで加熱する。それによって固体１２２は溶解され、流体ターゲット材料１２０は管部を通って流れることができる。

【0097】

[0116] 次に、図９Ｄに示されるように、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１９に閉じるように命令する。規制デバイス１１９がフリーズバルブである実施形態においては、規制デバイス１１９内の規制温度調節デバイスは、規制デバイス１１９の管領域を、管部が流体ターゲット材料１２０の融点を下回る温度に達するまで冷却する。やがて、流体ターゲット材料１２０は管部内で固体化し、規制デバイス１１９を通る流体ターゲット材料１２０の流量を妨げる栓を形成する。規制デバイス１１９が完全に閉じると、環境制御装置２３６は第２の流体リザーバ１１３を再加圧する。つまり、第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３は、６０００ｋＰａ以上又は６０００～６０，０００ｋＰａの範囲内であり得る適当な高い圧力にされる。この時点で、いくつかの実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３は第１の流体リザーバ１１２に印加される圧力Ｐ_１１２と同じであり得る。次に、圧力Ｐ_１１３が適当な高い圧力に達すると、図９Ｅに示されるように、流体コントローラ１０６は規制デバイス１１８に開くように命令する。流体ターゲット材料１２０は、図９Ｆに示されるように、第２の流体リザーバ１１３から第１の流体リザーバ１１２へ流れることができるようになる。

【0098】

[0117] 補充モードは終了し、装置１００の動作の通常モードが再開する。いくつかの実施形態においては、図９Ｇに示されるように、動作の通常モードのこの時点では、流体ターゲット材料１２０は、第２の流体リザーバ１１３からノズル供給システム１４０に、並びに第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０に送出され得る。

【0099】

[0118] 動作の通常モードの間、プライミングシステム１０４は、固体１２２から流体ターゲット材料１２０をプライミングする（準備する）ことに従事し得る。プライミングシステム１０４は、定期的な頻度で、すなわち数時間毎、数十時間毎、又は数百時間毎に、固体１２２から流体ターゲット材料１２０をプライミングすることが可能である。いくつかの実施形態においては、プライミングシステム１０４は、命令に応じて固体１２２から流体ターゲット材料１２０をプライミングしてもよい。

【0100】

[0119] 動作の通常モード及び動作の補充モードの間は常時（図９Ａから図９Ｇに示される全ステップにわたって）、流体ターゲット材料１２０が第１の流体リザーバ１１２からノズル供給システム１４０に供給されており、ノズル供給システム１４０がシステム１２４によって用いられるターゲットの流れ１２１を連続的に生成することを可能にする。

【0101】

[0120] 図９Ａから図９Ｇを参照して上述したサイクルは、ノズル供給システム１４０の動作中、ノズル供給システム１４０への流体ターゲット材料１２０の連続供給のために繰り返され得る。

【0102】

[0121] 装置１００の動作中のある時点で、ノズル供給システム５４０のノズルアセンブリ５４２を交換することが必要になるかもしれない。これをするためには、流体連通装置１１６内の余分な流体ターゲット材料１２０が、ノズルアセンブリ５４２へと延伸する流路から第１の流体リザーバ１１２内（又は第２の流体リザーバ１１３内）に戻るように退避されるべきである。具体的には、図５を参照すると、（ノズルバルブシステム５４５が開いている間に）流体バルブ５３３が開かれ、環境制御装置２３６の制御下で、圧力Ｐ_５３１が、ガスライン５３２内のガスと、ノズルアセンブリ５４２から延伸して第１の流体リザーバ１１２（又は第２の流体リザーバ１１３）に戻る流路とに印加される。流体バルブ５３３がフリーズバルブである場合には、バルブ内の温度は流体ターゲット材料１２０の融点を上回るレベルまで高められ、それによって流体バルブ５３３が開く。ガスライン５３２内のガスに印加される圧力Ｐ_５３１は、第１の流体リザーバ１１２に印加される圧力Ｐ_１１２よりも大きい（又は第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３よりも大きい）。より高い圧力Ｐ_５３１は、流体ターゲット材料１２０をノズルアセンブリ５４２から押し離させて（規制デバイス１１７が開いているときには）第１の流体リザーバ１１２又は第２の流体リザーバ１１３の方に戻させる。この時点で、ノズルバルブシステム５４５は閉じることができ、流体バルブ５３３は（例えば冷却することによって）閉じることができ、ノズルアセンブリ５４２は取り外されて新たなノズルアセンブリと交換され得る。

【0103】

[0122] このようにすれば、ノズルアセンブリ５４２は、第１の流体リザーバ１１２、第２の流体リザーバ１１３、又はプライミングタンク１１４のうちいずれの交換も必要とすることなく交換することができる。

【0104】

[0123] 規制デバイス１１７，１１８，１１９の全てが開いていて、流体連通装置１１６が流体ターゲット材料１２０の融点を上回る温度に維持される限り、圧力Ｐ_５３１を高い温度Ｔ_５３４と併せてガスライン５３２に印加することは、第１の流体リザーバ１１２の向こうであっても流体連通装置１１６の流路から流体ターゲット材料１２０を取り除くのに十分であり得る。

【0105】

[0124] 要約すると、上述した装置１００，２００，３００、手順、及び動作モードは、ノズル供給システム１４０がシステム１２４にターゲットの流れ１２１を供給するべく連続的に稼働することを可能にし、固体１２２を再投入するため及び固体１２２から流体ターゲット材料１２０をプライミング／準備するための中断を必要とすることなしに、システム１２４によって所望される性能仕様を達成する。

【0106】

[0125] 第１及び第２のリザーバ１１２，１１３とプライミングシステム１０４とはノズル供給システム１４０から流体的及び環境的に分離され得るので、装置１００内の任意のコンポーネントを交換するのにかかる時間が実質的に短縮され得ると共に、第１又は第２のリザーバ１１２，１１３のうち一方が流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給している限りは、たとえノズル供給システム１４０がターゲットの流れ１２１を生成している間であっても交換が行われ得る。

【0107】

[0126] 新しく追加される固体１２２は、この間低い圧力に保持され得るプライミングチャンバ１３０を含むプライミングシステム１０４に追加される。そして、固体１２２は、流体ターゲット材料１２０における酸化を防止又は低減するために、プライミングチャンバ１３０内の初期の高真空環境にある間に溶解している。

【0108】

[0127] 流体連通装置１１６内の流体伝達ライン１１５又は規制デバイス１１７，１１８，１１９のいずれかが保守又は修理のために切り離される必要がある場合には、そのような切り離しは、まずノズル供給システム１４０に向かう経路に沿った様々な箇所の圧力を制御することによって流体ターゲット材料１２０が流体連通装置１１６から取り除かれた後で、実施することが可能である。上述したように、例えば、ノズル供給システム１４０から第１の流体リザーバ１１２への流体流路を空にするためには、規制デバイス１１７が開いている間にガスライン５３２が（圧力Ｐ_１１２よりも大きい圧力まで）加圧され得る。

【0109】

[0128] 別の一例として、第１の流体リザーバ１１２から第２の流体リザーバ１１３への流体流路を空にするために、圧力Ｐ_１１２は、規制デバイス１１８が開いている（及び規制デバイス１１７が閉じている）間に圧力Ｐ_１１３よりも大きい値まで高められ得る。最後に、第２の流体リザーバ１１３からプライミングシステム１０４への流体流路を空にするために、圧力Ｐ_１１３は、規制デバイス１１９が開いている（及び規制デバイス１１８が閉じている）間に圧力Ｐ_１１４よりも大きい値まで高められ得る。ノズル供給システム５４０の流体バルブ５３３によって提供されるガスインターフェイスと同様、別のガスインターフェイスがプライミングタンク１１４と第２の流体リザーバ１１３との間に提供されて、（規制デバイス１１９を開いた状態に及び規制デバイス１１８を閉じた状態に維持しながら）流体ターゲット材料１２０をプライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３内に押しやる。プライミングタンク１１４から流体ターゲット材料１２０が取り除かれると、規制デバイス１１９は閉じられてもよく、その後プライミングタンク１１４が交換され得る。

【0110】

[0129] 流体伝達ライン１１５内及び規制デバイス１１７，１１８，１１９内からの流体ターゲット材料１２０の除去は、装置１００内のモジュール構成を可能にする。このようにすれば、装置１００内の１つのコンポーネントのみが不良であるときに、装置１００内のコンポーネント及びノズル供給システム１４０のすべてが交換される必要はない。例えば、（装置１００内のコンポーネントを交換することを必要とせずに）不良なノズル供給システム１４０のみが交換されればよい。別の一例として、不良なリザーバのみ（第１の流体リザーバ１１２又は第２の流体リザーバ１１３のいずれか）が、他方の流体リザーバ又はプライミングシステム１０４又はノズル供給システム１４０を交換することを（あるいはノズル供給システム１４０の動作を中断することすら）必要とせずに、交換されればよい。

【0111】

[0130] 低い圧力（例えば大気圧の周辺又は付近）で動作している任意のコンポーネントを比較的寒冷な環境（室温の周辺など）に維持することも可能である。また、たとえ第１の流体リザーバ１１２が流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給するために高い圧力で動作している間でも、固体１２２の再投入はこの低い圧力／寒冷な環境で起こり得る。

【0112】

[0131] 装置１００，２００，３００、手順、及び動作モードは、ノズル供給システム１４０が時間の少なくとも８０％、時間の少なくとも９０％、又は時間の少なくとも９９％（例えば時間の９９．２％）動作してターゲットの流れ１２１を供給することを可能にする。ノズルアセンブリ５４２を交換するのにかかる平均時間は、以前達成可能であったものと比較すると、６時間未満、５時間未満、又は約４．５時間まで短縮される。これは、経時的な所有の費用の削減並びに装置又はノズル供給システム１４０を修理するためのサービス労働時間の削減につながる。

【0113】

[0132] いくつかの実施形態においては、図１０を参照すると、装置１００は、動作の通常モード又は動作の補充モードの最中の様々な時点で第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積を推定するように構成されたレベルセンシング装置１０３５も含む装置１０００である。レベルセンシング装置１０３５は、流体ターゲット材料１２０の容積又はレベルの推定を達成するために、電気コンポーネント、磁気コンポーネント、及び超音波コンポーネントのうち１つ以上を利用してもよい。レベルセンシング装置１０３５は、第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３に耐えることのできる任意のデバイスであり得る。また、いくつかの実施形態においては、装置１０００は、第１の流体リザーバ１１２の流体ターゲット材料１２０の容積を推定するように構成された別のレベルセンシング装置１０３５も含み得る。

【0114】

[0133] レベルセンシング装置１０３５は、いくつかの実施形態においては、１つ以上の高圧力トランスデューサを含み得る。以下の議論では１つの高圧力トランスデューサにしか言及しないが、レベルセンシング装置１０３５は１つのみの高圧力トランスデューサを有することに限定されない。レベルセンシング装置１０３５は、高い圧力（第２の流体リザーバ１１３が動作することのできる圧力など）で動作することができるトランスデューサを含んでいてもよく、第２の流体リザーバ１１３に含まれる。

【0115】

[0134] 高圧力トランスデューサは第２の流体リザーバ１１３内のガスの圧力を測定する圧力センサである。高圧力トランスデューサ１０３５は加えられる圧力の関数として信号を生成する。高圧力トランスデューサ１０３５は、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積が変化するときに第２の流体リザーバ１１３の内部（及び流体ターゲット材料１２０の上方）のガスの圧力も変化するように、第２の流体リザーバ１１３の内部にあるガスの圧力を測定し得る。例えば、第２の流体リザーバ１１３が流体ターゲット材料１２０で充填中であり、したがって（図９Ｃ及び９Ｄに示される補充モードの際など）流体ターゲット材料１２０の容積が増加しているときには、第２の流体リザーバ１１３（及び流体ターゲット材料１２０の上方）のガスは、第２の流体リザーバ１１３の内部でゆっくりと圧縮される。

【0116】

[0135] 高圧力トランスデューサ１０３５は、以下のように有用であり得る。具体的には、環境制御装置２３６は、プライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３への流体ターゲット材料１２０のより迅速な移送を促進するために、第２の流体リザーバ１１３とプライミングタンク１１４との間に圧力差を設定し得る。具体的には、環境制御装置２３６は、プライミングタンク１１４に印加される圧力Ｐ_１１４が、図９Ｃに示されるステップを実施する前に第２の流体リザーバ１１３に印加される圧力Ｐ_１１３よりも高いことを保証し得る。例えば、プライミングタンク１１４の圧力Ｐ_１１４は、第２の流体リザーバ１１３の圧力Ｐ_１１３よりも１００～２００ｋＰａ大きくてもよい。環境制御装置２３６がこの圧力差を印加しているので、第２の流体リザーバ１１３はより急速に充填され、第２の流体リザーバ１１３が流体ターゲット材料１２０で過充填されないことを保証するのが重要となり得る。

【0117】

[0136] このようにして、高圧力トランスデューサ１０３５は、装置１０００内の制御システム１０９２（そのような制御システム１０９２は環境制御装置２３６及び／又は流体コントローラ１０６の態様又はコンポーネントを含み得る）が第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積の変化を追跡又は監視することを可能にする。高圧力トランスデューサ１０３５の出力は、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の物質量を表す電気信号であってもよい。そして、この出力は、規制デバイス１１９をいつ閉じるか又は流体ターゲット材料１２０の次の再充填又は補充がいつ必要とされるかを判定するために、制御システム１０９２によって分析され得る。例えば、制御システム１０９２は、流体コントローラ１０６に、第２の流体リザーバ１１３内の流体ターゲット材料１２０のレベルが特定のレベル未満に落ちる度にプライミングタンク１１４に再投入するように命令してもよい。

【0118】

[0137] 制御システム１０９２は以下の方程式を用いて第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積を推定し得る。
(P₁₁₃)i×[V₁₁₃-(V₁₂₀)i]=(P₁₁₃)f×[V₁₁₃-(V₁₂₀)i-Vt]
ここで、（Ｐ_１１３）ｉは、（図９Ｃでの再充填の開始の前に既知である）第２の流体リザーバの初期圧力（Ｐ_１１３）ｉであり、Ｖ_１１３は、（既知の）第２の流体リザーバの全容積であり、（Ｖ_１２０）ｉは、（図９Ｃでの再充填の開始の前に）第２の流体リザーバに残っていた流体ターゲット材料１２０の初期容積であり、（Ｐ_１１３）ｆは、高圧力トランスデューサ１０３５からの出力である、第２の流体リザーバ１１３の現在の圧力であり、Ｖｔは、プライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３に移送された流体ターゲット材料１２０の容量である。Ｖｔはプライミングタンク１１４のレベルセンサから判定され得る。他の実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積を推定するために、他の関係及びパラメータが用いられ得る。

【0119】

[0138] 流体ターゲット材料１２０が（図９Ｃに示されるように）プライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３へ流れるにつれて、高圧力トランスデューサ１０３５の出力（Ｐ_１１３）ｆは連続的に変化し、値が新しくなる度に、制御システム１０９２は圧力Ｐ_１１３の一連の測定を得て、この情報が、例えば、第２の流体リザーバ１１３に移送された流体ターゲット材料１２０の容積Ｖｔ及び／又は第２の流体リザーバ１１３に残っている流体ターゲット材料１２０の初期容積（Ｖ_１２０）ｉを理解するために用いられ得る。どれほどの流体ターゲット材料１２０が第２の流体リザーバ１１３に残っているのか、及びどれほどの流体ターゲット材料１２０が再充填の前（図９Ｃに示されるステップの前）に第１の流体リザーバ１１２に残っていたのかを理解することによって、制御システム１０９２は、期間毎に用いられる流体ターゲット材料１２０の量（流体ターゲット材料１２０の消費率）を判定することができる。制御システム１０９２は、判定された消費率を用いて、いつ流体コントローラ１０６に第２の流体リザーバ１１３の再充填をトリガするように命令するかを判定し得る。このようにすれば、第１の流体リザーバ１１２は、ノズル供給システム１４０の動作中、常時、ノズル供給システム１４０に流体ターゲット材料１２０のソースを連続的に提供することができる。圧力トランスデューサ１０３５からの情報は、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３に残っている流体ターゲット材料１２０の総量を推定するためにも用いられ得る。

【0120】

[0139] 更に、記載される実施形態において、高圧力トランスデューサ１０３５が第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の容積を監視するときには、プライミングタンク１１４からの流体ターゲット材料１２０による第２の流体リザーバ１１３の過充填が防止され得る。例えば、高圧力トランスデューサ１０３５が安定状態に達するとき、第２の流体リザーバ１１３内のガスの圧縮は上限に達している。よって、第２の流体リザーバ１１３は流体ターゲット材料１２０で完全に充填されている。すると、流体制御システム１０９２は、流体ターゲット材料１２０がプライミングシステム１０４と第２の流体リザーバ１１３との間で流れ続けることを防止し得る。このようにすれば、第２の流体リザーバ１１３は流体ターゲット材料１２０による過充填を防止され得る。

【0121】

[0140] これらの実施形態においては、流体ターゲット材料１２０がプライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３に移送された後（つまり、図９Ｃに示されるステップが完了した後）、規制デバイス１１８を開くことによって第１の流体リザーバ１１２と第２の流体リザーバ１１３とが接続される前（つまり、図９Ｅに示されるステップが始まる前）に、制御システム１０９２によって計算が実施され得る。その計算は、上述の方程式を用いて、プライミングタンク１１４から第２の流体リザーバ１１３に移送された流体ターゲット材料１２０の容量Ｖｔを推定することを含む（図１０）。また、制御システム１０９２は、以下の方程式に従って、第２の流体リザーバ１１３内に含有される流体ターゲット材料１２０の全容積（Ｖ_１２０）ｔを計算することもできる。
(V₁₂₀)t=(V₁₂₀)i+Vt
第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の全容積（Ｖ_１２０）ｔは、第２の流体リザーバ１１３に残っている流体ターゲット材料１２０の初期容積（Ｖ_１２０）ｉとプライミングタンク１１４から第２の流体リザーバに移送された流体ターゲット材料１２０の容積Ｖｔとの和として計算される。制御システム１０９２は、第２の流体リザーバの流体ターゲット材料１２０の全容積（Ｖ_１２０）ｔと、第２の流体リザーバ１１３の内部の既知の寸法とに基づいて、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の高さを推定することもできる。

【0122】

[0141] 記載される実施形態においては、制御システム１０９２は、これらの同じ計算を第１の流体リザーバ１１２についても実施し得る。

【0123】

[0142] 第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の両方において流体ターゲット材料１２０の高さがわかる又は推定されると、制御システム１０９２は、高さの差Δｈを推定又は計算し得る。高さの差Δｈは、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の高さ引く第１の流体リザーバ１１２の流体ターゲット材料１２０の高さである。制御システム１０９２は、推定される高さの差Δｈに基づき、以下の方程式を用いて、ヘッド圧力ΔＰｈを計算することができる。
ΔPh=ρ120×g×Δh
ここで、ρ１２０は流体ターゲット材料１２０の密度に等しく、ｇは重力定数である。

【0124】

[0143] 制御システム１０９２は環境制御装置２３６に、計算されたヘッド圧力ΔＰｈに基づいて第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３を制御するように命令し得る。例えば、環境制御装置２３６は第２の流体リザーバ１１３を、その圧力Ｐ_１１３が第１の流体リザーバ１１２の第１の圧力Ｐ_１１２とヘッド圧力ΔＰｈとの差に等しくなるように加圧し得る。この全てはノズル供給システム１４０の動作中に行われ得るものであり、制御システム１０９２は、この計算を繰り返し実施して、環境制御装置２３６に第２の流体リザーバ１１３の第２の圧力Ｐ_１１３を調節又はリセットするように命令し得る。このようにすれば、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０のレベル（すなわち高さ）は、流体ターゲット材料１２０がノズル供給システム１４０に連続的に供給される間、維持され得る。

【0125】

[0144] また、制御システム１０９２は、補充が必要となるまでの間利用可能な装置１１００内の流体ターゲット材料１２０の総量を、第１の流体リザーバ１１２内及び第２の流体リザーバ１１３内の各々の流体ターゲット材料１２０の量と、第１の流体リザーバ１１２が流体ターゲット材料１２０をノズル供給システム１４０に供給していた時間の量と、プライミングタンク１１４から移送される流体ターゲット材料１２０の量とを分析することによって、計算することができる。

【0126】

[0145] 装置の別の一実施形態１１００においては、図１１に示されるように、環境制御装置２３６は加圧リザーバ１１９３を含む環境制御装置１１３６である。環境制御装置１１３６は流体連通接続１１９４によって第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３に流体的に接続されている。加圧リザーバ１１９３は、オリフィス１１９５を開くことで流体連通接続１１９４によって加圧リザーバ１１９３から第１の流体リザーバ１１２及び／又は第２の流体リザーバへ移送され得る不活性ガスを含有する。オリフィス１１９５は、オリフィス１１９５が開かれたときに、オリフィス１１９５が、加圧リザーバ１１９３内のガスが加圧リザーバ１１９３から第１の流体リザーバ１１２及び／又は第２の流体リザーバ１１３へ低速で移動することを可能にするように、決められたサイズを有し得る。

【0127】

[0146] この実施形態において、図１１を参照すると、流体ターゲット材料１２０のレベル（すなわち高さ）は、ある容積のガスを加圧リザーバ１１９３から開いたオリフィス１１９５を通じて第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３内に解放することによって、間接的に測定され得る。加圧リザーバ１１９３の圧力の降下が測定され得、加圧リザーバ１１９３から第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３へ移送されたガスの容積が推定され得る。加圧リザーバ１１９３から移送されたガスの容積は、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３に残っている流体ターゲット材料１２０の容積を推定するために用いられ得る。例えば、加圧リザーバ１１９３から移送されたガスの容積は、第１の流体リザーバ１１２及び／又は第２の流体リザーバ１１３における圧力降下の合計から、並びに（第１の流体リザーバ１１２及び／又は第２の流体リザーバ１１３における）測定された最終的な圧力から推定され得る。すると、第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３に残っている流体ターゲット材料１２０の容積は、加圧リザーバ１１９３から移送されたガスの容積と第１の流体リザーバ１１２及び第２の流体リザーバ１１３を組み合わせた全容積との差として計算され得る。

【0128】

[0147] 記載される実施形態においては、第２の流体リザーバ１１３に印加されるガス圧力Ｐ_１１３は第１の流体リザーバ１１２に印加されるガス圧力Ｐ_１１２よりも低くてもよく、したがって第２の圧力Ｐ_１１３は第１の圧力Ｐ_１１２よりも小さい。

【0129】

[0148] また、第１の流体リザーバ１１２内の流体ターゲット材料１２０のヘッド圧力ＰＨ１１２は 流体ターゲット材料１２０の柱から第１の流体リザーバ１１２の底部に加えられる圧力であり、第２の流体リザーバ１１３内の流体ターゲット材料１２０のヘッド圧力ＰＨ１１３は流体ターゲット材料１２０の柱から第２の流体リザーバ１１３の底部に加えられる圧力である。オリフィス１１９５を開く前、（Ｐ_１１２＋ＰＨ１１２によって与えられる）第１の流体リザーバ１１２の全圧は、（Ｐ_１１３＋ＰＨ１１３によって与えられる）第２の流体リザーバ１１３の全圧に等しい。しかし、第１の流体リザーバ１１２のガス圧力Ｐ_１１２は第２の流体リザーバ１１３のガス圧力Ｐ_１１３よりも高いので、環境制御装置１１３６がオリフィス１１９５を開くと、第２の流体リザーバ１１３の流体ターゲット材料１２０の柱が第１の流体リザーバ１１２に流入する一方で、不活性ガスは第２の流体リザーバ１１３内に漏れ出す。

【0130】

[0149] 第１の流体リザーバ１１２と第２の流体リザーバ１１３とのガス圧力の差（つまり、Ｐ_１１２－Ｐ_１１３）が、流体ターゲット材料１２０が第２の流体リザーバ１１３から第１の流体リザーバ１１２へ特定の速さで流れることを可能にする。第２の流体リザーバ１１３から第１の流体リザーバ１１２への流体ターゲット材料１２０の流量は、加圧リザーバ１１９３から第１の流体リザーバ１１２に移送される不活性ガスの流量によって制御される（なぜならこれが第１の流体リザーバ１１２の内部のガスの圧力を制御するからである）。不活性ガスは、第２の流体リザーバ１１３内に移動するが、第２の流体リザーバ１１３内のガス圧力よりも依然として高い圧力にあり、この圧力の差は第２の流体リザーバ１１３に接続されたガス制御システムによって発散され、したがって第２の流体リザーバのガス圧力は維持され、流体ターゲット材料１２０はノズル供給システム１４０に送出され続けることができ、その一方で同時に、流体ターゲット材料１２０は第１の流体リザーバ１１２に供給され得る。このようにすれば、第２の流体リザーバ１１３から第１の流体リザーバ１１２への流体ターゲット材料１２０の流量が制御され得、ノズル供給システム１４０からのターゲットの流れ１２１の形成が流体ターゲット材料１２０の流れの上流の不安定性による悪影響を受けないことが保証される。

【0131】

[0150] 図１２を参照すると、プライミングシステム１０４はプライミングシステム１２０４として設計されている。プライミングシステム１２０４は、（固体１２２を収容する）プライミングチャンバ１２３０によって定義される１つの容積及びプライミングタンク１２１４によって定義される１つの容積というたった２つの容積と、いくつかの実施形態においてはフリーズバルブであり得る単一の流れ遮断デバイス１２６１とを含む相変化真空パススルー（phase change vacuum pass through）として効果的に作用する。流れ遮断デバイス１２６１はプライミングチャンバ１２３０とプライミングタンク１２１４との間の流体輸送システム４６１として作用する。

【0132】

[0151] プライミングシステム１２０４は更に、環境制御装置１２０５を含み得る。いくつかの実施形態においては、環境制御装置１２０５は、流体ターゲット材料１２０がプライミングチャンバ１２３０からプライミングタンク１２１４へと押されるように、２つの容積間の相対圧力又は差圧を調節するように構成された圧力システム１２０５ｐを含む。他の実施形態においては、プライミングチャンバ１２３０はプライミングタンク１２１４の上方に配置され、重力が流体ターゲット材料１２０をプライミングチャンバ１２３０からプライミングタンク１２１４に落下させる。環境制御装置１２０５は、フリーズバルブ１２６１並びにプライミングチャンバ１２３０及びプライミングタンク１２１４の温度を調節するように構成された温度システム１２０５ｔも含む。

【0133】

[0152] プライミングシステム１２０４には、プライミングチャンバ１２３０とプライミングタンク１２１４との間に他の内部バルブがない。けれども、プライミングシステム１２０４は、（液体と固体との間での）相変化を用いて材料を真空環境内に移送する。この場合、流体ターゲット材料１２０はプライミングタンク１２１４の真空環境内に移送される。設計の単純さにもかかわらず、プライミングシステム１２０４は、流体ターゲット材料１２０を周囲空気に曝露することを回避するように構成されている。そのような曝露は望ましくない汚染物を流体ターゲット材料１２０内に潜在的に生成する。

【0134】

[0153] 図１３Ａから図１３Ｄを参照して、手順が実施される。最初に、図１３Ａに示されるように、プライミングチャンバ１２３０の扉又は蓋１２３０Ｌが開かれ、固体１２２がプライミングチャンバ１２３０の容積内に挿入される。この時、環境制御装置１２０５の圧力システム１２０５ｐはプライミングタンク１２１４の圧力を（大気圧を下回る）真空レベルＰ_Ｖに維持し、その一方でプライミングチャンバ１２３０の圧力は空気／大気Ｐ_Ａに開かれる。また、温度システム１２０５ｔ、プライミングチャンバ１２３０、及びフリーズバルブ１２６１は、固体１２２の融点を下回る温度である。

【0135】

[0154] 図１３Ｂに示されるように、固体１２２がプライミングチャンバ１２３０の容積内に入ると、蓋１２３０Ｌは閉じられる。その後、圧力システム１２０５ｐは、ポンプ作用でプライミングチャンバ１２３０の容積を大気圧を下回るレベルＰ_Ｖ’にする。プライミングチャンバ１２３０の圧力Ｐ_Ｖ’はプライミングタンク１２１４の圧力Ｐ_Ｖよりも大きいレベルであってもよく、又は、プライミングチャンバ１２３０の圧力Ｐ_Ｖ’は（重力を用いて流量に影響を及ぼす場合には）プライミングタンク１２１４の圧力Ｐ_Ｖと同一であってもよい。

【0136】

[0155] 図１３Ｃに示されるように、温度システム１２０５ｔはプライミングチャンバ１２３０内の固体１２２を、固体１２２を溶解させて流体ターゲット材料１２０を形成するのに十分な温度に加熱する。

【0137】

[0156] その後、図１３Ｄに示されるように、温度システム１２０５ｔはフリーズバルブ１２６１を、フリーズバルブ１２６１内の固体が溶解して流体ターゲット材料１２０になるのに十分な温度に加熱する。必要であれば、温度システム１２０５ｔは更にプライミングタンク１２１４を加熱して、プライミングタンクが流体ターゲット材料１２０の流体状態を維持するのに十分な温度であることを保証してもよい。プライミングチャンバ１２３０内の圧力Ｐ_Ｖ’はプライミングタンク１２１４内の圧力Ｐ_Ｖよりも（重力及び表面張力などの競合する力に打ち勝つのに十分な量だけ）大きいので、流体ターゲット材料１２０はプライミングチャンバ１２３０から流出してプライミングタンク１２１４に流入する。代替的には、この流れは、プライミングチャンバ１２３０がプライミングタンク１２１４の上方に配置され、プライミングチャンバ１２３０の圧力がプライミングタンク１２１４の圧力に等しい場合には、重力によって起こり得る。

【0138】

[0157] 流体ターゲット材料１２０の全てがプライミングタンク１２１４に流入すると、温度システム１２０５ｔは流体ターゲット材料１２０の融点を下回る温度までフリーズバルブ１２６１を冷却し、フリーズバルブ１２６１内に残っている流体ターゲット材料１２０は固体化して流体（及び圧力）バリアを形成し、したがってプロセスは、図１３Ａに示されるように、もう一度始めから繰り返され得る。

【0139】

[0158] 他の実施形態は以下の特許請求の範囲内にある。例えば、図１を再び参照すると、いくつかの実施形態においては、プライミングシステム１０４のプライミングタンク１１４を、様々な状態の高い圧力で動作するように構成することが可能である。例えば、プライミングシステム１０４が十分な流体ターゲット材料１２０を生成した後、プライミングタンク１１４は、第２の流体リザーバ１１３に印加される高い圧力に対応する高い圧力で動作を開始してもよく、この高い圧力で動作している間、第２の流体リザーバ１１３とプライミングタンク１１４との間に流体流路が確立され得る。

【0140】

[0159] 本発明の他の態様は、以下の番号を付した条項に記載する。
１．ターゲット材料を供給するための装置であって、
ノズル供給システムの動作中にノズル供給システムと流体連通するように構成された第１の流体リザーバを備える第１のリザーバシステムであって、第１の流体リザーバは第１の圧力に維持される、第１のリザーバシステムと、
ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、第１のリザーバシステムと流体連通するように構成された第２の流体リザーバを備える、第２のリザーバシステムと、
ターゲット材料を含む固体を収容するように、及び固体から流体ターゲット材料を生成するように構成されたプライミングシステムであって、第１の圧力よりも小さいプライミング圧力に維持される、プライミングシステムと、
プライミングシステムと、第１のリザーバシステムと、第２のリザーバシステムと、ノズル供給システムとに流体的に接続された流体制御システムであって、
ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとをプライミングシステムから隔離するように、及び
ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成された流体制御システムと、
を備える、装置。
２．プライミング圧力は約６００キロパスカル（ｋＰａ）未満である、条項１の装置。
３．第１の圧力は、少なくとも６０００ｋＰａ、少なくとも１０，０００ｋＰＡ、少なくとも２５，０００ｋＰＡ、又は約６０００～６０，０００ｋＰａの範囲内である、条項１の装置。
４．第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバはプライミング圧力に維持され、プライミングシステムと第２の流体リザーバとは第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止するように互いに対して位置決めされている、条項１の装置。
５．流体制御システムは、第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されている、条項１の装置。
６．流体制御システムは、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムと、ノズル供給システムとの間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くように構成されている、条項１の装置。
７．流体制御システムは、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間及び第２の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持すること、及びその一方でノズル供給システム及び第２の流体リザーバを第１の圧力に維持することによって、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されている、条項１の装置。
８．流体制御システムは更に、ノズル供給システムの動作中に少なくとも１つの流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体流路を維持するように構成されており、第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間の流体流路を可能にする、条項７の装置。
９．第１の流体リザーバの第１の圧力と第２の流体リザーバの第２の圧力とを独立且つ別個に制御するように、及び
第１の流体リザーバの温度と第２の流体リザーバの温度とを独立且つ別個に制御するように
構成された環境制御装置を更に備える、条項１の装置。
１０．環境制御装置は更に、第２の流体リザーバ内の流体ターゲット材料の測定された量に基づいて第２の流体リザーバの第２の圧力を調節又はリセットするように構成されている、条項９の装置。
１１．環境制御装置は、不活性ガスを含有するように及び不活性ガスを加圧リザーバからオリフィスを通じて第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとのうち１つ以上に移送するように構成された加圧リザーバを含む、条項９の装置。
１２．流体制御システムは、第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間のリザーバ流体制御バルブと、第２の流体リザーバとプライミングシステムとの間の再充填流体制御バルブとを含み、流体制御システムはリザーバ流体制御バルブと再充填流体制御バルブとを独立に制御するように構成されている、条項１の装置。
１３．リザーバ流体制御バルブはフリーズバルブを含み、再充填流体制御バルブはフリーズバルブを含む、条項１２の装置。
１４．流体制御システムは更に、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間の流体流路を維持するように構成されている、条項１の装置。
１５．第２の流体リザーバは更に、ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、ノズル供給システムと流体連通するように構成されている、条項１の装置。
１６．プライミングシステムは、
第１のチャンバであって、第１のチャンバによって定義される第１の容積内に固体が収容され得るように、開くように構成されたドアを含む第１のチャンバと、
第２の容積を定義すると共に流体制御システムと流体連通する第２のチャンバと、
第１のチャンバと第２のチャンバとの間の、通常であれば妨げるもののない流体経路に形成された、流れ遮断デバイスと、
を備える、条項１の装置。
１７．流れ遮断デバイスは、固体の融点を下回る温度に維持されるときに流体流路が固体によって遮断されるフリーズバルブである、条項１６の装置。
１８．第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムとのうち１つ以上における流体ターゲット材料の容積及び／又はプライミングシステム内の固体の存在を推定するように構成されたセンシングシステムを更に備える、条項１の装置。
１９．センシングシステムと通信する制御システムを更に備え、制御システムは、高圧力トランスデューサからの出力に基づいて、第２の流体リザーバにおける流体ターゲット材料の消費率を判定するように構成されており、消費率はある期間毎に用いられる流体ターゲット材料の量である、条項１８の装置。
２０．ターゲット材料を途切れなく連続的に供給するための方法であって、
ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容して固体から流体ターゲット材料を生成することと、
第１の流体リザーバをプライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を維持することと、
ノズル供給システムの動作中の少なくとも一部の時間、流体ターゲット材料がプライミング圧力のプライミングシステムにおいて生成されている間に、第１の圧力の第１の流体リザーバと第２の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、
を備える、方法。
２１．流体ターゲット材料がプライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で移送可能とされている間、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持することを更に備える、条項２０の方法。
２２．流体ターゲット材料を、
第１の流体リザーバからノズル供給システムへ、
第２の流体リザーバからノズル供給システムへ、又は
第１の流体リザーバ及び第２の流体リザーバから同時にノズル供給システムへ
流すことによって、ノズル供給システムの動作全体にわたる流体ターゲット材料のノズル供給システムへの移送を可能にすることを更に備える、条項２０の方法。
２３．ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が第２の流体リザーバ及び／又は第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを更に備える、条項２０の方法。
２４．プライミングシステムがプライミング圧力であるときにのみ、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することを更に備え、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することは、ノズル供給システムが第１の圧力である間に起こる、条項２０の方法。
２５．第１の流体リザーバの第１の圧力を維持している間に第２の流体リザーバをプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填すること、及びプライミングシステムから第２の流体リザーバ内に十分な流体ターゲット材料が移送された後でプライミングシステムから第２の流体リザーバを流体的に分離することを更に備える、条項２０の方法。
２６．第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバをプライミング圧力に維持すること、及び第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止することを更に備える、条項２５の方法。
２７．ノズル供給システムの動作を停止すること及び第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を停止することの前に、第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、プライミングシステムと、ノズル供給システムとの間に定義される各インターフェイスからターゲット流体材料を取り除くことを更に備える、条項２０の方法。
２８．プライミングシステム内のターゲット材料の固体を溶解してターゲット流体材料にすることを更に備える、条項２０の方法。
２９．ノズル供給システムの動作は流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含み、液滴はそこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている、条項２０の方法。
３０．ターゲット材料を含む固体をプライミング圧力に維持されたプライミングシステムに収容して固体から流体ターゲット材料を生成することと、
第１の流体リザーバをプライミング圧力よりも大きい第１の圧力に維持している間、ノズル供給システムの動作中に第１の流体リザーバとノズル供給システムとの間の流体連通を維持することと、
第１の流体リザーバ及びノズル供給システムをプライミングシステムから流体的に隔離している間、プライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることと、
を備える、方法。
３１．ノズル供給システムの動作は流体ターゲット材料の液滴を極端紫外線（ＥＵＶ）光源に送出することを含み、液滴はそこでＥＵＶ光を放出するプラズマを創出するために放射で照射されるように構成されている、条項３０の方法。
３２．流体ターゲット材料がプライミングシステムと第２の流体リザーバとの間で移送可能とされている間、第１の流体リザーバの第１の圧力を維持することを更に備える、条項３０の方法。
３３．第１の流体リザーバと、第２の流体リザーバと、ノズル供給システムとをプライミングシステムから流体的に隔離している間、第２の流体リザーバと第１の流体リザーバとの間で流体ターゲット材料の移送を可能にすることを更に備える、条項３０の方法。
３４．流体ターゲット材料を、
第１の流体リザーバからノズル供給システムへ、
第２の流体リザーバからノズル供給システムへ、又は
第１の流体リザーバ及び第２の流体リザーバから同時にノズル供給システムへ
流すことによって、ノズル供給システムの動作全体にわたる流体ターゲット材料のノズル供給システムへの移送を可能にすることを更に備える、条項３０の方法。
３５．ノズル供給システムの動作中の少なくともいくらかの時間、流体ターゲット材料が第２の流体リザーバ及び／又は第１の流体リザーバに移送されるのを防止することを更に備える、条項３０の方法。
３６．プライミングシステムがプライミング圧力であるときにのみ、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することを更に備え、ターゲット材料を含む固体をプライミングシステムに再投入することは、ノズル供給システムが第１の圧力である間に起こる、条項３０の方法。
３７．第１の流体リザーバの第１の圧力を維持している間、第２の流体リザーバをプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填することを更に備える、条項３０の方法。
３８．第２の流体リザーバがプライミングシステムからの流体ターゲット材料で再充填されている間、プライミングシステム及び第２の流体リザーバをプライミング圧力に維持すること、及び第２の流体リザーバが流体ターゲット材料で過充填されるのを防止することを更に備える、条項３７の方法。
３９．プライミングシステムから第２の流体リザーバ内に十分な流体ターゲット材料が移送された後でプライミングシステムから第２の流体リザーバを流体的に分離することを更に備える、条項３０の方法。
４０．プライミングシステム内のターゲット材料の固体を溶解してターゲット流体材料にすることを更に備える、条項３０の方法。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8A】

【図8B】

【図9A】

【図9B】

【図9C】

【図9D】

【図9E】

【図9F】

【図9G】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13A】

【図13B】

【図13C】

【図13D】