(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-14
(45)【発行日】2024-06-24
(54)【発明の名称】積層体
(51)【国際特許分類】
B32B 27/30 20060101AFI20240617BHJP
B32B 7/022 20190101ALI20240617BHJP
B32B 27/28 20060101ALI20240617BHJP
B32B 27/34 20060101ALI20240617BHJP
【ＦＩ】
B32B27/30 B
B32B7/022
B32B27/28 102
B32B27/34
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2020138208
(22)【出願日】2020-08-18
(65)【公開番号】P2022034426
(43)【公開日】2022-03-03
【審査請求日】2023-03-17
(73)【特許権者】
【識別番号】000001085
【氏名又は名称】株式会社クラレ
(74)【代理人】
【識別番号】100159499
【弁理士】
【氏名又は名称】池田 義典
(74)【代理人】
【識別番号】100120329
【弁理士】
【氏名又は名称】天野 一規
(72)【発明者】
【氏名】野中 康弘
【審査官】松岡 美和
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１７／２０９１９８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１９－１１６０６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１２／１６５４４１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開平１０－２７９７７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－１５３３６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０８－１３２５５３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１９９７４４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開昭６１－１１６５４４（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ３２Ｂ １／００－４３／００
Ｂ６０Ｃ １／００
Ｂ６０Ｃ ５／１４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガスバリア性樹脂（ａ）を含む複数のガスバリア層（Ａ）、及びガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む複数のエラストマー層（Ｂ）を備え、複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）の層数の合計が９層以上であり、
複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とが、一層ずつ交互に隣接して積層されており、
前記極性基が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
複数のエラストマー層（Ｂ）が、それぞれの両面にガスバリア層（Ａ）が隣接している複数のエラストマー層（Ｂ１）を含み、
複数のエラストマー層（Ｂ１）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、
複数のエラストマー層（Ｂ１）のヨウ素価ＩＢ１が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下であり、
複数のエラストマー層（Ｂ）が、片面にのみガスバリア層（Ａ）が隣接しているエラストマー層（Ｂ２）を含み、エラストマー層（Ｂ２）の１層の平均厚さが、複数のガスバリア層（Ａ）の１層の平均厚さ及び複数のエラストマー層（Ｂ１）の１層の平均厚さより大きい、積層体。
【請求項2】
ガスバリア性樹脂（ａ）が、エチレン－ビニルアルコール共重合体及びポリアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
複数のエラストマー層（Ｂ）が、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有さないスチレン系エラストマー（ｂ’）を含む、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項4】
スチレン系エラストマー（ｂ’）のヨウ素価が、スチレン系エラストマー（ｂ）のヨウ素価よりも大きい、請求項３に記載の積層体。
【請求項5】
スチレン系エラストマー（ｂ’）が、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体を含む、請求項３又は４に記載の積層体。
【請求項6】
スチレン系エラストマー（ｂ）が、カルボキシ基又はその誘導体を有するスチレン－エチレン／ブテン－スチレンブロック共重合体を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項7】
複数のエラストマー層（Ｂ）の－３０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂが、１０６Ｐａ以上１０８Ｐａ以下である、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項8】
エラストマー層（Ｂ２）の層数が２層である、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項9】
エラストマー層（Ｂ２）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、エラストマー層（Ｂ２）のヨウ素価ＩＢ２が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項10】
エラストマー層（Ｂ２）に隣接する被覆層（Ｃ）をさらに備える、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項11】
被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが２００ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、請求項１０に記載の積層体。
【請求項12】
被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが、複数のエラストマー層（Ｂ）のヨウ素価ＩＢよりも大きい、請求項１０又は１１に記載の積層体。
【請求項13】
被覆層（Ｃ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃが、複数のエラストマー層（Ｂ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂよりも大きい、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項14】
被覆層（Ｃ）が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分を実質的に含まない、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガスバリア層及びエラストマー層を備える積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
エチレン－ビニルアルコール共重合体等のガスバリア性を有する樹脂を用いたフィルムは、食品用、医療用包装材料等の各種用途に広く使用されている。最近では、ガスバリア性等の各種性能を向上させる目的で、１層の厚さがミクロンオーダー又はサブミクロンオーダーの樹脂層が複数積層された種々の積層体が提案されている。
【0003】
特許文献１には、エチレン－ビニルアルコール共重合体等の流体バリア材料及び熱可塑性ポリウレタン等のエラストマー材料により形成されるミクロレイヤー高分子複合物が交互に１０層以上積層されるエラストマー性バリア膜が記載されている。特許文献２には、エチレン－ビニルアルコール共重合体等の硬質ポリマー材料と可撓性ポリマー材料との交互の層を有する多層フィルムが記載されている。
【0004】
ガスバリア層とエラストマー層とを有する積層体は、優れたガスバリア性や延伸性等を生かして、例えば空気用タイヤのインナーライナー、アキュムレーターの内袋、空気入りボール、空気ばね等、膜状のゴム材料（ゴム層）を積層させて使用されるものがある。引用文献３には、このような使用形態に対応して、外面がゴム材料との高い接着性を有し、十分なガスバリア性、層間接着性及び耐屈曲性を有する積層体として、ヨウ素価が２００以上３００以下であるポリマーが少なくとも一方の最外層として積層された、ガスバリア層とエラストマー層との積層体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特表２００２－５２４３１７号公報
【文献】特表２００３－５１２２０１号公報
【文献】国際公開第２０１７／２０９１９８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
図４に示すように、前記のようなゴム層１０２が外面に積層された積層体１０１においては、これを環状にし、端部１０３を重ね合わせて接着させて使用する場合がある。しかし、従来の積層体１０１をこのような形態で使用する場合、重なり合った端部１０３の間での剥離が生じることがある。
【0007】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有し、ゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性にも優れる積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明によれば前記の目的は、
［１］ガスバリア性樹脂（ａ）を含む複数のガスバリア層（Ａ）、及びガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む複数のエラストマー層（Ｂ）を備え、複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）の層数の合計が９層以上であり、複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とが、一層ずつ交互に隣接して積層されており、前記極性基が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、複数のエラストマー層（Ｂ）が、それぞれの両面にガスバリア層（Ａ）が隣接している複数のエラストマー層（Ｂ１）を含み、複数のエラストマー層（Ｂ１）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、複数のエラストマー層（Ｂ１）のヨウ素価ＩＢ１が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、積層体；
［２］ガスバリア性樹脂（ａ）が、エチレン－ビニルアルコール共重合体及びポリアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［１］の積層体；
［３］複数のエラストマー層（Ｂ）が、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有さないスチレン系エラストマー（ｂ’）を含む、［１］又は［２］の積層体；
［４］スチレン系エラストマー（ｂ’）のヨウ素価が、スチレン系エラストマー（ｂ）のヨウ素価よりも大きい、［３］の積層体；
［５］スチレン系エラストマー（ｂ’）が、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体を含む、［３］又は［４］の積層体；
［６］スチレン系エラストマー（ｂ）が、カルボキシ基又はその誘導体を有するスチレン－エチレン／ブテン－スチレンブロック共重合体を含む、［１］～［５］のいずれかの積層体；
［７］複数のエラストマー層（Ｂ）の－３０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂが、１０６Ｐａ以上１０８Ｐａ以下である、［１］～［６］のいずれかの積層体；
［８］複数のエラストマー層（Ｂ）が、片面にのみガスバリア層（Ａ）が隣接しているエラストマー層（Ｂ２）を含む、［１］～［７］のいずれかの積層体；
［９］エラストマー層（Ｂ２）の層数が２層である、［８］の積層体；
［１０］エラストマー層（Ｂ２）の１層の平均厚さが、複数のガスバリア層（Ａ）の１層の平均厚さ及び複数のエラストマー層（Ｂ１）の１層の平均厚さより大きい、［８］又は［９］の積層体；
［１１］エラストマー層（Ｂ２）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、エラストマー層（Ｂ２）のヨウ素価ＩＢ２が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、［８］～［１０］のいずれかの積層体；
［１２］エラストマー層（Ｂ２）に隣接する被覆層（Ｃ）をさらに備える、［８］～［１１］のいずれかの積層体；
［１３］被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが２００ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、［１２］の積層体；
［１４］被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが、複数のエラストマー層（Ｂ）のヨウ素価ＩＢよりも大きい、［１２］又は［１３］の積層体；
［１５］被覆層（Ｃ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃが、複数のエラストマー層（Ｂ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂよりも大きい、［１２］～［１４］のいずれかの積層体；
［１６］被覆層（Ｃ）が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分を実質的に含まない、［１２］～［１５］のいずれかの積層体；
のいずれかを提供することで達成される。
［１］ガスバリア性樹脂（ａ）を含む複数のガスバリア層（Ａ）、及びガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む複数のエラストマー層（Ｂ）を備え、複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）の層数の合計が９層以上であり、複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とが、一層ずつ交互に隣接して積層されており、前記極性基が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、複数のエラストマー層（Ｂ）が、それぞれの両面にガスバリア層（Ａ）が隣接している複数のエラストマー層（Ｂ１）を含み、複数のエラストマー層（Ｂ１）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、複数のエラストマー層（Ｂ１）のヨウ素価ＩＢ１が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、積層体；
［２］ガスバリア性樹脂（ａ）が、エチレン－ビニルアルコール共重合体及びポリアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［１］の積層体；
［３］複数のエラストマー層（Ｂ）が、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有さないスチレン系エラストマー（ｂ’）を含む、［１］又は［２］の積層体；
［４］スチレン系エラストマー（ｂ’）のヨウ素価が、スチレン系エラストマー（ｂ）のヨウ素価よりも大きい、［３］の積層体；
［５］スチレン系エラストマー（ｂ’）が、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体を含む、［３］又は［４］の積層体；
［６］スチレン系エラストマー（ｂ）が、カルボキシ基又はその誘導体を有するスチレン－エチレン／ブテン－スチレンブロック共重合体を含む、［１］～［５］のいずれかの積層体；
［７］複数のエラストマー層（Ｂ）の－３０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂが、１０６Ｐａ以上１０８Ｐａ以下である、［１］～［６］のいずれかの積層体；
［８］複数のエラストマー層（Ｂ）が、片面にのみガスバリア層（Ａ）が隣接しているエラストマー層（Ｂ２）を含む、［１］～［７］のいずれかの積層体；
［９］エラストマー層（Ｂ２）の層数が２層である、［８］の積層体；
［１０］エラストマー層（Ｂ２）の１層の平均厚さが、複数のガスバリア層（Ａ）の１層の平均厚さ及び複数のエラストマー層（Ｂ１）の１層の平均厚さより大きい、［８］又は［９］の積層体；
［１１］エラストマー層（Ｂ２）における前記極性基の含有量が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、エラストマー層（Ｂ２）のヨウ素価ＩＢ２が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、［８］～［１０］のいずれかの積層体；
［１２］エラストマー層（Ｂ２）に隣接する被覆層（Ｃ）をさらに備える、［８］～［１１］のいずれかの積層体；
［１３］被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが２００ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である、［１２］の積層体；
［１４］被覆層（Ｃ）のヨウ素価ＩＣが、複数のエラストマー層（Ｂ）のヨウ素価ＩＢよりも大きい、［１２］又は［１３］の積層体；
［１５］被覆層（Ｃ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃが、複数のエラストマー層（Ｂ）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂよりも大きい、［１２］～［１４］のいずれかの積層体；
［１６］被覆層（Ｃ）が、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分を実質的に含まない、［１２］～［１５］のいずれかの積層体；
のいずれかを提供することで達成される。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有し、ゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性にも優れる積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
＜積層体＞
本発明の積層体は、複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）を備える。各ガスバリア層（Ａ）は、ガスバリア性樹脂（ａ）を含む。各エラストマー層（Ｂ）は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む。複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）の層数の合計は９層以上である。複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とは、一層ずつ交互に隣接して積層されている。前記極性基は、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種である。複数のエラストマー層（Ｂ）は、それぞれの両面にガスバリア層（Ａ）が隣接している複数のエラストマー層（Ｂ１）を含む。複数のエラストマー層（Ｂ１）における前記極性基の含有量は０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下である。複数のエラストマー層（Ｂ１）のヨウ素価ＩＢ１が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である。
本発明の積層体は、複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）を備える。各ガスバリア層（Ａ）は、ガスバリア性樹脂（ａ）を含む。各エラストマー層（Ｂ）は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む。複数のガスバリア層（Ａ）及び複数のエラストマー層（Ｂ）の層数の合計は９層以上である。複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とは、一層ずつ交互に隣接して積層されている。前記極性基は、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種である。複数のエラストマー層（Ｂ）は、それぞれの両面にガスバリア層（Ａ）が隣接している複数のエラストマー層（Ｂ１）を含む。複数のエラストマー層（Ｂ１）における前記極性基の含有量は０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下である。複数のエラストマー層（Ｂ１）のヨウ素価ＩＢ１が５０ｇ／１００ｇ以上３００ｇ／１００ｇ以下である。
【0012】
本発明の積層体は、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有し、ゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性にも優れる。なお、本明細書において、積層体にゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性を「端部接着性」と称する場合がある。本発明の積層体が前記効果を奏する理由は定かではないが、以下の理由が推測される。本発明の積層体は、複数のガスバリア層（Ａ）と複数のエラストマー層（Ｂ）とが一層ずつ交互に隣接して合計９層以上積層されており、且つ両面にガスバリア層（Ａ）が隣接しているエラストマー層（Ｂ１）には、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基が十分な量存在する。このため、当該積層体においては、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有する。また、端部接着性に関し、従来のガスバリア層とエラストマー層とを備える積層体においては、端面におけるゴムとの接着性については考慮されていない。従って、図４、５に示すように、従来の積層体１０１においては、ゴム層１０２を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部１０３における、積層体１０１の端面１０４とゴム層１０２との間の接着性が無い。このため、従来の積層体１０１を用いた場合、架橋反応（加硫）のための加熱の際に発生するガスが積層体１０１の端面１０４とゴム層１０２との間に残留することなどにより隙間１０５が生じる。また、ガスバリア層とエラストマー層との層間接着性が低い場合も、端面１０４から層間が剥離し、隙間１０５が生じ易くなる。このような隙間１０５が起点となり、端部１０３間の剥離が生じる。このようなことから、従来の積層体１０１の場合は端部接着性が低いと考えられる。これに対し、本発明の積層体においては、両面にガスバリア層（Ａ）が隣接しているエラストマー層（Ｂ１）は、ヨウ素価が比較的高く、ゴムと結合可能な不飽和二重結合が十分に存在する。このため、本発明の積層体においては、端面においてゴムと十分に接着することができる。さらに本発明の積層体においては、エラストマー層（Ｂ１）中のスチレン系エラストマー（ｂ）がガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な特定の極性基を有しているために層間の接着性も高い。このようなことから、本発明の積層体によれば、端部において隙間が生じ難く、端部接着性が優れていると推測される（後述する図３等参照）。
【0013】
本発明の一実施形態における好ましい層構造を有する積層体としては、図１に示す積層体１０を挙げることができる。図１の積層体１０は、複数のガスバリア層（以下「Ａ層」ともいう。）１、複数のエラストマー層（以下「Ｂ層」ともいう。）２、及び２つの被覆層（以下「Ｃ層」ともいう。）３を備える。図１におけるＡ層１の層数は９層、Ｂ層２の層数は１０層、Ｃ層３の層数は２層であるが、本発明の積層体の各層の層数は、これらの層数に限定されるものではない。また、Ｃ層３は、必須の層では無い。複数のＡ層１と複数のＢ層２とは、一層ずつ交互に隣接して積層されている。Ａ層１とＢ層２とは、他の層を介さず直接積層されていてよい。複数のＢ層２は、それぞれの両面にＡ層１が隣接している複数のＢ１層４と、片面にのみＡ層１が隣接している２つのＢ２層５とを有する。積層体１０は、Ｂ２層５を両最外層とするＡ層１とＢ層２との交互積層体の両最外面にそれぞれＣ層３が積層された構造を有する。具体的に図１の積層体１０は、Ｃ／Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃの層構造を有する。
【0014】
積層体１０のように、ガスバリア層（Ａ層１）とエラストマー層（Ｂ層２）とが交互に積層されていることにより、ガスバリア性、柔軟性、耐屈曲性、層間接着性等を効果的に高めることができる。
【0015】
積層体１０には、両最外層にＣ層３が配置されている。Ｃ層３は、通常、ゴム層（ゴム材料）との良好な接着性を確保しつつ、他の部材との粘着性又は接着性が比較的低い材料から形成される。積層体の最外層の粘着性等が高い場合、製膜時にキャストロールへの貼り付きが生じ易くなり、膜面が荒れ、得られる積層体の外観が低下することがある。そこで、積層体１０の最外層としてこのようなＣ層３が設けられていることで、外観を良好なものとすることなどができる。
【0016】
また、積層体１０は、対称な層構造となっている。対称構造とすることで、共押出によって各層を効率的に成形することなどができる。
【0017】
本発明の積層体は、Ａ層及びＢ層のみから構成されるものであってもよく、Ａ層、Ｂ層及びＣ層のみから構成されるものであってもよく、Ａ層、Ｂ層及びＣ層以外の層をさらに有するものであってもよい。但し、本発明の積層体としては、Ａ層、Ｂ層及びＣ層以外の層を有さないものが好ましく、Ａ層、Ｂ層及びＣ層から構成されるものがより好ましい。
【0018】
本発明の積層体において、複数のＡ層及び複数のＢ層の層数の合計の下限は、９層であり、１３層が好ましく、１５層がより好ましく、１７層がさらに好ましい。一方、複数のＡ層及び複数のＢ層の層数の合計の上限は、例えば３００層が好ましく、２００層がより好ましく、１００層がさらに好ましく、５０層が特に好ましい。当該積層体をこのように多層構造とすることで、屈曲等に対して、１つのＡ層においてピンホールや割れなどの欠陥が発生しても、他のＡ層でガスバリア性を維持できる結果、積層体全体としてガスバリア性、耐屈曲性等の特性を高めることができる。また、屈曲時のピンホールの発生自体を低減させることができる。なお、Ａ層の層数としては、５層以上が好ましく、７層以上がより好ましい。Ｂ層の層数としては、６層以上が好ましく、８層以上がより好ましい。
【0019】
Ａ層の１層の平均厚さの下限としては、０．１μｍが好ましく、０．２μｍがより好ましく、０．３μｍがさらに好ましい。一方、この上限としては、１５μｍが好ましく、５μｍがより好ましく、３μｍがさらに好ましく、２μｍが特に好ましい。Ａ層１層の平均厚さを前記下限以上とすることで、均一な厚さで成形することが比較的容易になり、ガスバリア性、耐屈曲性等を高めることができる。逆に、Ａ層１層の平均厚さを前記上限以下とすることで、柔軟性等が高まり、その結果、耐屈曲性等も向上する。
【0020】
なお、各層の平均厚さは、任意に選ばれた１０点での断面の厚さの平均値とする。
【0021】
Ｂ１層の１層の平均厚さの下限としては、０．１μｍが好ましく、０．５μｍがより好ましく、１μｍがさらに好ましく、３μｍが特に好ましい。一方、この上限としては、３０μｍが好ましく、１５μｍがより好ましく、１０μｍがさらに好ましく、８μｍが特に好ましい。Ｂ１層１層の平均厚さを前記下限以上とすることで、均一な厚さで成形することが比較的容易になり、耐屈曲性、ガスバリア性、端部接着性、柔軟性等を高めることができる。逆に、Ｂ１層１層の平均厚さを前記上限以下とすることで、層間接着性等が向上する。
【0022】
Ｂ２層の１層の平均厚さの下限としては、１μｍが好ましく、３μｍがより好ましく、５μｍがさらに好ましく、８μｍが特に好ましい。一方、この上限としては、３０μｍが好ましく２０μｍがより好ましく、１５μｍが特に好ましい。Ｂ２層１層の平均厚さを前記下限以上とすることで、耐屈曲性、ガスバリア性、端部接着性、柔軟性等を高めることができる。逆に、Ｂ２層１層の平均厚さを前記上限以下とすることで、本発明の積層体の薄膜化を図ることなどができる。
【0023】
Ｂ２層の１層の平均厚さは、Ａ層の１層の平均厚さ及びＢ１層の１層の平均厚さより大きいことが好ましい。Ａ層とＢ層との交互積層体の最外層として、このように厚いＢ２層を設けることで耐屈曲性等を高めることができる。Ｂ２層の１層の平均厚さは、Ａ層の１層の平均厚さの２倍以上が好ましく、１０倍以上がより好ましい。Ｂ２層の１層の平均厚さは、Ａ層の１層の平均厚さの１，０００倍以下又は１００倍以下であってよい。Ｂ２層の１層の平均厚さは、Ｂ１層の１層の平均厚さの１．２倍以上が好ましく、１．５倍以上がより好ましい。Ｂ２層の１層の平均厚さは、Ｂ１層の１層の平均厚さの１０倍以下又は５倍以下であってよい。
【0024】
Ｃ層の１層の平均厚さの下限としては、０．５μｍが好ましく、１μｍがより好ましく、３μｍが特に好ましい。一方、この上限としては、３０μｍが好ましく、２０μｍがより好ましく、１５μｍがさらに好ましく、１０μｍが特に好ましい。Ｃ層の平均厚さが前記下限以上であることにより、耐屈曲性、端部接着性、柔軟性、生産性、外観等を高めることができる。逆に、Ｃ層１層の平均厚さを前記上限以下とすることで、本発明の積層体の薄膜化を図ることなどができる。
【0025】
Ａ層の全層及びＢ層の全層の合計厚さ（Ａ層とＢ層との交互積層体の厚さ）の下限としては、１０μｍが好ましく、１５μｍがより好ましく、３０μｍがさらに好ましい。一方、この上限としては、５００μｍが好ましく、３００μｍがより好ましく、１００μｍがさらに好ましい。Ａ層の全層及びＢ層の全層の合計厚さを前記下限以上とすることで、耐屈曲性、耐久性、ガスバリア性等が向上する。逆に、この合計厚さを前記上限以下とすることで、柔軟性、成形性等を高め、耐屈曲性や生産性等を高めることができる。ここで、全層の合計厚さとは、各層１層の平均厚さの合計をいう。
【0026】
Ａ層の全層、Ｂ層の全層及びＣ層の全層の合計厚さの下限としては、２０μｍが好ましく、２５μｍがより好ましく、４０μｍがさらに好ましい。一方、この上限としては、５００μｍが好ましく、３００μｍがより好ましく、１５０μｍがさらに好ましい。Ａ層の全層、Ｂ層の全層及びＣ層の全層の合計厚さを前記下限以上とすることで、耐屈曲性、耐久性、ガスバリア性等が向上する。逆に、この合計厚さを前記上限以下とすることで、柔軟性、成形性等を高め、耐屈曲性や生産性等を高めることができる。
【0027】
本発明の積層体の平均厚さの下限としては、２０μｍが好ましく、２５μｍがより好ましく、４０μｍがさらに好ましい。一方、この上限としては、５００μｍが好ましく、３００μｍがより好ましく、１５０μｍがさらに好ましい。本発明の積層体の平均厚さを前記下限以上とすることで、耐屈曲性、耐久性、ガスバリア性等が向上する。逆に、この平均厚さを前記上限以下とすることで、柔軟性、成形性等を高め、耐屈曲性や生産性等を高めることができる。なお、積層体の平均厚さは、任意に選ばれた１０点での断面の厚さの平均値とする。
【0028】
以下、本発明の積層体の実施形態における各層の組成、物性等について詳説する。
【0029】
〈Ａ層〉
Ａ層（ガスバリア層）は、ガスバリア樹脂（ａ）を含む層である。Ａ層は、ガスバリア樹脂（ａ）を含むＡ層形成材料から形成される。本発明の積層体は、ガスバリア樹脂（ａ）を含む複数のＡ層を備えることで、ガスバリア性に優れる。
Ａ層（ガスバリア層）は、ガスバリア樹脂（ａ）を含む層である。Ａ層は、ガスバリア樹脂（ａ）を含むＡ層形成材料から形成される。本発明の積層体は、ガスバリア樹脂（ａ）を含む複数のＡ層を備えることで、ガスバリア性に優れる。
【0030】
ガスバリア樹脂とは、気体の透過を防止する機能を有する樹脂であり、具体的には２０℃－６５％ＲＨ条件下で、ＪＩＳ Ｋ ７１２６－２（等圧法；２００６）に記載の方法に準じて測定した酸素透過速度が、１００ｍＬ・２０μｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の樹脂をいう。ガスバリア樹脂（ａ）の酸素透過速度は、５０ｍＬ・２０μｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましく、１０ｍＬ・２０μｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がさらに好ましい。
【0031】
このようなガスバリア樹脂（ａ）としては、エチレン－ビニルアルコール共重合体（以下、「ＥＶＯＨ」ともいう。）、ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、アクリロニトリル共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。
【0032】
これらのガスバリア性樹脂（ａ）の中でも、ガスバリア性の点から、ポリアミド、ポリエステル及びＥＶＯＨが好ましく、ガスバリア性に加え、溶融成形性、Ｂ層との接着性などの点から、ＥＶＯＨ及びポリアミドがより好ましく、ＥＶＯＨが特に好ましい。
【0033】
（ポリアミド）
ポリアミドは、アミド結合を有するポリマーである。ポリアミドは、ラクタムの開環重合、又はアミノカルボン酸若しくはジアミンとジカルボン酸との重縮合などによって得ることができる。具体的なポリアミドとしては、例えばポリカプロラクタム（ナイロン６）、ポリラウロラクタム（ナイロン１２）、ポリヘキサメチレンジアジパミド（ナイロン６６）、ポリヘキサメチレンアゼラミド（ナイロン６９）、ポリヘキサメチレンセバカミド（ナイロン６１０）、ナイロン４６、ナイロン６／６６、ナイロン６／１２、１１－アミノウンデカン酸の縮合生成物（ナイロン１１）等の脂肪族系ポリアミド、ポリヘキサメチレンイソフタラミド（ナイロン６Ｉ）、メタキシレンジアミン／アジピン酸共重合体（ナイロンＭＸＤ６）、メタキシリレンジアミン／アジピン酸／イソフタル酸共重合体等の芳香族系ポリアミド等を挙げることができる。これらは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらのポリアミドの中でも、優れたガスバリア性を有するため、芳香族系ポリアミドが好ましく、ナイロンＭＸＤ６がより好ましい。
ポリアミドは、アミド結合を有するポリマーである。ポリアミドは、ラクタムの開環重合、又はアミノカルボン酸若しくはジアミンとジカルボン酸との重縮合などによって得ることができる。具体的なポリアミドとしては、例えばポリカプロラクタム（ナイロン６）、ポリラウロラクタム（ナイロン１２）、ポリヘキサメチレンジアジパミド（ナイロン６６）、ポリヘキサメチレンアゼラミド（ナイロン６９）、ポリヘキサメチレンセバカミド（ナイロン６１０）、ナイロン４６、ナイロン６／６６、ナイロン６／１２、１１－アミノウンデカン酸の縮合生成物（ナイロン１１）等の脂肪族系ポリアミド、ポリヘキサメチレンイソフタラミド（ナイロン６Ｉ）、メタキシレンジアミン／アジピン酸共重合体（ナイロンＭＸＤ６）、メタキシリレンジアミン／アジピン酸／イソフタル酸共重合体等の芳香族系ポリアミド等を挙げることができる。これらは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらのポリアミドの中でも、優れたガスバリア性を有するため、芳香族系ポリアミドが好ましく、ナイロンＭＸＤ６がより好ましい。
【0034】
（ポリエステル）
ポリエステルは、エステル結合を有するポリマーである。ポリエステルは、多価カルボン酸とポリオールとの重縮合等によって得ることができる。具体的なポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、全芳香族系液晶ポリエステル等を挙げることができる。これらは１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらのポリエステルの中でも、ガスバリア性の高さの点から、ＰＧＡ及び全芳香族系液晶ポリエステルが好ましく、ＰＧＡがより好ましい。
ポリエステルは、エステル結合を有するポリマーである。ポリエステルは、多価カルボン酸とポリオールとの重縮合等によって得ることができる。具体的なポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、全芳香族系液晶ポリエステル等を挙げることができる。これらは１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらのポリエステルの中でも、ガスバリア性の高さの点から、ＰＧＡ及び全芳香族系液晶ポリエステルが好ましく、ＰＧＡがより好ましい。
【0035】
（ＥＶＯＨ）
ＥＶＯＨは、主構造単位として、エチレン単位及びビニルアルコール単位を有する重合体である。なお、このＥＶＯＨとしては、エチレン単位及びビニルアルコール単位以外に、他の構造単位を１種類又は複数種含んでいてもよい。
ＥＶＯＨは、主構造単位として、エチレン単位及びビニルアルコール単位を有する重合体である。なお、このＥＶＯＨとしては、エチレン単位及びビニルアルコール単位以外に、他の構造単位を１種類又は複数種含んでいてもよい。
【0036】
ＥＶＯＨは、通常、エチレンとビニルエステルとを重合し、得られるエチレン－ビニルエステル共重合体をケン化して得られる。
【0037】
ＥＶＯＨのエチレン単位含有量（すなわち、ＥＶＯＨ中の単量体単位の総数に対するエチレン単位の数の割合）の下限としては、３モル％が好ましく、１０モル％がより好ましく、２０モル％がさらに好ましく、２５モル％が特に好ましい。一方、ＥＶＯＨのエチレン単位含有量の上限としては、７０モル％が好ましく、６０モル％がより好ましく、５５モル％がさらに好ましく、５０モル％が特に好ましい。ＥＶＯＨのエチレン単位含有量を前記下限以上とすることで、本発明の積層体の高湿度下でのガスバリア性、溶融成形性等を高めることができる。逆に、ＥＶＯＨのエチレン単位含有量を前記上限以下とすることで、当該積層体のガスバリア性を高めることができる。
【0038】
ＥＶＯＨのケン化度（すなわち、ＥＶＯＨ中のビニルアルコール単位及びビニルエステル単位の総数に対するビニルアルコール単位の数の割合）の下限としては、８０モル％が好ましく、９５モル％がより好ましく、９９モル％が特に好ましい。一方、ＥＶＯＨのケン化度の上限としては９９．９９モル％が好ましい。ＥＶＯＨのケン化度を前記下限以上とすることで、溶融成形性、ガスバリア性、耐着色性、耐湿性等を高めることができる。逆に、ＥＶＯＨのケン化度を前記上限以下とすることで、製造コストを抑えることなどができる。ＥＶＯＨは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0039】
ＥＶＯＨは、下記式（Ｉ）で表される構造単位（Ｉ）、下記式（ＩＩ）で表される構造単位（ＩＩ）、及び下記式（ＩＩＩ）で表される構造単位（ＩＩＩ）の少なくともいずれか１種を有することが好ましい。ＥＶＯＨがこのような構造単位を有することで、本発明の積層体の耐屈曲性等をより高めることができる。
【0040】
【化1】
【0041】
前記式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又は水酸基を表す。また、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のうちの一対は、結合していてもよい。また、前記炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１０の芳香族炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、水酸基、カルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
【0042】
前記式（ＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又は水酸基を表す。また、Ｒ４とＲ５とは、又はＲ６とＲ７とは、結合していてもよい。また、前記炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１０の芳香族炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
【0043】
前記式（ＩＩＩ）中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又は水酸基を表す。また、前記炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１０の芳香族炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、ホルミル基又は炭素数２～１０のアルカノイル基を表す。
【0044】
前記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の全構造単位に対する含有量の下限としては、０．５モル％が好ましく、１モル％がより好ましく、１．５モル％がさらに好ましい。一方前記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の含有量の上限としては、３０モル％が好ましく、１５モル％がより好ましく、１０モル％がさらに好ましい。ＥＶＯＨが前記（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）に示す構造単位を前記範囲の割合で有することによって、Ａ層形成材料の柔軟性及び加工特性が向上する結果、本発明の積層体の延伸性及び熱成形性等を向上することができる。
【0045】
前記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）において、前記炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基としてはアルキル基、アルケニル基等が挙げられ、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基としてはシクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられ、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としてはフェニル基等が挙げられる。
【0046】
前記構造単位（Ｉ）において、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、水酸基、ヒドロキシメチル基及びヒドロキシエチル基であることが好ましく、これらの中でも、それぞれ独立に水素原子、メチル基、水酸基及びヒドロキシメチル基であることがさらに好ましい。そのようなＲ１、Ｒ２及びＲ３であることによって、本発明の積層体の延伸性及び熱成形性をさらに向上させることができる。
【0047】
ＥＶＯＨ中に前記構造単位（Ｉ）を含有させる方法については、特に限定されないが、例えば、前記エチレンとビニルエステルとの重合において、構造単位（Ｉ）に誘導されるモノマーを共重合させる方法などが挙げられる。この構造単位（Ｉ）に誘導されるモノマーとしては、プロピレン、ブチレン、ペンテン、ヘキセンなどのアルケン；３－ヒドロキシ－１－プロペン、３－アシロキシ－１－プロペン、３－アシロキシ－１－ブテン、４－アシロキシ－１－ブテン、３，４－ジアシロキシ－１－ブテン、３－アシロキシ－４－ヒドロキシ－１－ブテン、４－アシロキシ－３－ヒドロキシ－１－ブテン、３－アシロキシ－４－メチル－１－ブテン、４－アシロキシ－２－メチル－１－ブテン、４－アシロキシ－３－メチル－１－ブテン、３，４－ジアシロキシ－２－メチル－１－ブテン、４－ヒドロキシ－１－ペンテン、５－ヒドロキシ－１－ペンテン、４，５－ジヒドロキシ－１－ペンテン、４－アシロキシ－１－ペンテン、５－アシロキシ－１－ペンテン、４，５－ジアシロキシ－１－ペンテン、４－ヒドロキシ－３－メチル－１－ペンテン、５－ヒドロキシ－３－メチル－１－ペンテン、４，５－ジヒドロキシ－３－メチル－１－ペンテン、５，６－ジヒドロキシ－１－ヘキセン、４－ヒドロキシ－１－ヘキセン、５－ヒドロキシ－１－ヘキセン、６－ヒドロキシ－１－ヘキセン、４－アシロキシ－１－ヘキセン、５－アシロキシ－１－ヘキセン、６－アシロキシ－１－ヘキセン、５，６－ジアシロキシ－１－ヘキセンなどの水酸基やエステル基を有するアルケンが挙げられる。その中で、共重合反応性、及び積層体のガスバリア性の観点からは、プロピレン、３－アセトキシ－１－プロペン、３－アセトキシ－１－ブテン、４－アセトキシ－１－ブテン及び３，４－ジアセトキシ－１－ブテンが好ましい。エステルを有するアルケンの場合は、ケン化反応の際に、前記構造単位（Ｉ）に誘導される。
【0048】
前記構造単位（ＩＩ）において、Ｒ４及びＲ５は共に水素原子であることが好ましい。特に、Ｒ４及びＲ５が共に水素原子であり、前記Ｒ６及びＲ７のうちの一方が炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基、他方が水素原子であることがより好ましい。この脂肪族炭化水素基は、アルキル基及びアルケニル基が好ましい。本発明の積層体のガスバリア性を特に重視する観点からは、Ｒ６及びＲ７のうちの一方がメチル基又はエチル基、他方が水素原子であることが特に好ましい。また前記Ｒ６及びＲ７のうちの一方が（ＣＨ２）ｈＯＨで表される置換基（但し、ｈは１～８の整数）、他方が水素原子であることも特に好ましい。この（ＣＨ２）ｈＯＨで表される置換基において、ｈは、１～４の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
【0049】
ＥＶＯＨ中に前記構造単位（ＩＩ）を含有させる方法については、特に限定されないが、ケン化反応によって得られたＥＶＯＨに一価エポキシ化合物を反応させることにより含有させる方法などが用いられる。一価エポキシ化合物としては、下記式（ＩＶ）～（Ｘ）で示される化合物が好適に用いられる。
【0050】
【化2】
【0051】
前記式（ＩＶ）～（Ｘ）中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０の脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基など）、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基（シクロアルキル基、シクロアルケニル基など）又は炭素数６～１０の脂肪族炭化水素基（フェニル基など）を表す。また、ｉ、ｊ、ｋ、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、１～８の整数を表す。
【0052】
前記式（ＩＶ）で表される一価エポキシ化合物としては、例えばエポキシエタン（エチレンオキサイド）、エポキシプロパン、１，２－エポキシブタン、２，３－エポキシブタン、３－メチル－１，２－エポキシブタン、１，２－エポキシペンタン、３－メチル－１，２－エポキシペンタン、１，２－エポキシヘキサン、２，３－エポキシヘキサン、３，４－エポキシヘキサン、３－メチル－１，２－エポキシヘキサン、３－メチル－１，２－エポキシヘプタン、４－メチル－１，２－エポキシヘプタン、１，２－エポキシオクタン、２，３－エポキシオクタン、１，２－エポキシノナン、２，３－エポキシノナン、１，２－エポキシデカン、１，２－エポキシドデカン、エポキシエチルベンゼン、１－フェニル－１，２－プロパン、３－フェニル－１，２－エポキシプロパン等が挙げられる。
【0053】
前記式（Ｖ）で表される一価エポキシ化合物としては、各種アルキルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0054】
前記式（ＶＩ）で表される一価エポキシ化合物としては、各種アルキレングリコールモノグリシジルエーテルが挙げられる。
【0055】
前記式（ＶＩＩ）で表される一価エポキシ化合物としては、各種アルケニルグリシジルエーテルが挙げられる。
【0056】
前記式（ＶＩＩＩ）で表される一価エポキシ化合物としては、グリシドール等の各種エポキシアルカノールが挙げられる。
【0057】
前記式（ＩＸ）で表される一価エポキシ化合物としては、各種エポキシシクロアルカンが挙げられる。
【0058】
前記式（Ｘ）で表される一価エポキシ化合物としては、各種エポキシシクロアルケンが挙げられる。
【0059】
前記一価エポキシ化合物の中では炭素数が２～８のエポキシ化合物が好ましい。特に、化合物の取り扱いの容易さ、及び反応性の観点から、一価エポキシ化合物の炭素数としては、２～６がより好ましく、２～４がさらに好ましい。また一価エポキシ化合物は前記式のうち式（ＩＶ）で表される化合物及び（Ｖ）で表される化合物であることが特に好ましい。具体的には、ＥＶＯＨとの反応性及び得られる積層体のガスバリア性等の観点から、１，２－エポキシブタン、２，３－エポキシブタン、エポキシプロパン、エポキシエタン及びグリシドールが好ましく、中でもエポキシプロパン及びグリシドールが特に好ましい。
【0060】
前記構造単位（ＩＩＩ）において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は水素原子又は炭素数１～５の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。特に、当該脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基及びペンチル基が好ましい。
【0061】
ＥＶＯＨ中に前記構造単位（ＩＩＩ）を含有させる方法については、特に限定されないが、例えば、特開２０１４－０３４６４７に記載の方法で製造できる。
【0062】
Ａ層（Ａ層形成材料）におけるガスバリア樹脂（ａ）の含有量の下限としては、８０質量％が好ましく、９０質量％がより好ましく、９５質量％がさらに好ましく、９９質量％又は９９．９質量％がよりさらに好ましい場合もあり、実質的にガスバリア性樹脂（ａ）のみからなっていてもよい。一方、この含有量の上限としては、１００質量％であってよく、９９．９質量％又は９９質量％であってもよい。
【0063】
Ａ層（Ａ層形成材料）には、実施態様に応じて、リン酸化合物、カルボン酸、ホウ素化合物、金属塩等の１種又は複数種の化合物が含有されていてもよい。これらの化合物をＡ層中に含有させることによって、本発明の積層体の各種性能を向上させることができる。また、Ａ層（Ａ層形成材料）は、本発明の目的を損なわない範囲で、ガスバリア樹脂以外の他の樹脂、熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、フィラーなど種々の成分を含んでいてもよい。
【0064】
〈Ｂ層〉
Ｂ層（エラストマー層）は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む層である。Ｂ層は、スチレン系エラストマー（ｂ）を含むＢ層形成材料から形成される。本発明の積層体は、スチレン系エラストマー（ｂ）を含む複数のＢ層を備えることで、良好な延伸性、層間接着性、耐屈曲性、熱成形性等を発揮することができる。
Ｂ層（エラストマー層）は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有するスチレン系エラストマー（ｂ）を含む層である。Ｂ層は、スチレン系エラストマー（ｂ）を含むＢ層形成材料から形成される。本発明の積層体は、スチレン系エラストマー（ｂ）を含む複数のＢ層を備えることで、良好な延伸性、層間接着性、耐屈曲性、熱成形性等を発揮することができる。
【0065】
エラストマーとは、常温付近で弾性を有する樹脂をいい、本明細書においては、具体的には、室温（２０℃）の条件下で、２倍に伸ばし、その状態で１分間保持した後、１分以内に元の長さの１．５倍未満に収縮する性質を有する樹脂をいう。エラストマーは、構造的には、通常、重合体鎖中にハードセグメントとソフトセグメントとを有する重合体であってよい。また、エラストマーは、通常、熱可塑性である。
【0066】
（スチレン系エラストマー（ｂ））
スチレン系エラストマー（ｂ）が有する、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基は、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種である。カルボキシ基の誘導体としては、カルボキシ基同士が結合してなるカルボン酸無水物基、カルボキシ基がエステル化された基等が挙げられ、カルボン酸無水物基が好ましい。カルボキシ基は、塩の状態（－ＣＯＯＮａ等）で存在していてもよい。前記極性基としては、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。このような極性基は、例えばガスバリア樹脂（ａ）であるＥＶＯＨが有する水酸基、ポリアミドが有する第二級アミノ基（－ＮＨ－）等と良好な結合反応を示す。従って、本発明の一実施形態に係る積層体は層間接着性、耐屈曲性、端部接着性等が良好である。なお、例えば、エポキシ基等を有するスチレン系エラストマーを用いた場合は、ガスバリア性樹脂（ａ）との反応性（架橋反応性）が不十分であり、耐屈曲性、端部接着性、層間接着性等が不十分なものとなる。
スチレン系エラストマー（ｂ）が有する、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基は、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種である。カルボキシ基の誘導体としては、カルボキシ基同士が結合してなるカルボン酸無水物基、カルボキシ基がエステル化された基等が挙げられ、カルボン酸無水物基が好ましい。カルボキシ基は、塩の状態（－ＣＯＯＮａ等）で存在していてもよい。前記極性基としては、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。このような極性基は、例えばガスバリア樹脂（ａ）であるＥＶＯＨが有する水酸基、ポリアミドが有する第二級アミノ基（－ＮＨ－）等と良好な結合反応を示す。従って、本発明の一実施形態に係る積層体は層間接着性、耐屈曲性、端部接着性等が良好である。なお、例えば、エポキシ基等を有するスチレン系エラストマーを用いた場合は、ガスバリア性樹脂（ａ）との反応性（架橋反応性）が不十分であり、耐屈曲性、端部接着性、層間接着性等が不十分なものとなる。
【0067】
スチレン系エラストマーは、通常、芳香族ビニル系重合体ブロック（ハードセグメント）と、ゴムブロック（ソフトセグメント）とを有する。芳香族ビニル系重合体ブロックが物理架橋を形成して橋かけ点となり、一方、ゴムブロックがゴム弾性を付与する。
【0068】
スチレン系エラストマー（ｂ）としては、例えば前記極性基を有するスチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、前記極性基を有するスチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、前記極性基を有するスチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、前記極性基を有するスチレン－エチレン／ブチレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、前記極性基を有するスチレン－エチレン／プロピレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等を挙げることができる。
【0069】
これらのスチレン系エラストマー（ｂ）の中でも、前記極性基を有するＳＢＳ及び前記極性基を有するＳＥＢＳが好ましく、前記極性基を有するＳＥＢＳがより好ましい。ＳＥＢＳは、比較的多くの量の前記極性基を導入することができる。従って、前記極性基を有するＳＥＢＳを用いることで、Ｂ層のＡ層に対する接着性を十分に高めることなどができる。
【0070】
スチレン系エラストマー（ｂ）におけるスチレン単位の含有割合の下限としては、５質量％が好ましく、１０質量％が好ましい。一方、この上限としては、５０質量％が好ましく、４０質量％がより好ましい。スチレン単位の含有割合が前記範囲のスチレン系エラストマー（ｂ）を用いることで、溶融成形性等が高まり、本発明の積層体の外観等が向上する。
【0071】
スチレン系エラストマー（ｂ）（カルボン酸変性スチレン系エラストマー）は、（１）スチレン系エラストマーに不飽和カルボン酸又はその無水物を、付加反応やグラフト反応により化学的に結合させる方法、（２）ビニル芳香族化合物と、共役ジエン化合物／又はその水素添加物と、不飽和カルボン酸又はその無水物等とを共重合させる方法などによって得ることができる。前記不飽和カルボン酸及びその無水物としては、マレイン酸及び無水マレイン酸等を挙げることができ、無水マレイン酸が好ましい。
【0072】
スチレン系エラストマー（ｂ）における前記極性基の含有量の下限としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。一方、この上限としては、０．５ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．４ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。スチレン系エラストマー（ｂ）における前記極性基の含有量を前記範囲とすることで、本発明の積層体の層間接着性をより高めることなどができる。なお、前記極性基（カルボキシ基及びその誘導体）の含有量とは、カルボキシ基換算の含有量である。例えば、主鎖に結合する２つのカルボキシ基が結合してなる１つのカルボン酸無水物基は、２つのカルボキシ基を含有するとする。また、Ｂ層中の前記極性基の含有量が、層間接着性、端部接着性等に大きく影響する。Ｂ層中の前記極性基の含有量は、スチレン系エラストマー（ｂ）以外の他の成分（例えば後述するスチレン系エラストマー（ｂ’））との混合比率等によって調整できる。
【0073】
前記極性基の含有量は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準拠して測定することができる。具体的には、キシレン溶媒に試料を溶解し、０．１Ｎ水酸化カリウムのアルコール（水酸化カリウム７ｇにイオン交換水５ｇを添加し、１級エチルアルコールを加えて１Ｌとし、０．１Ｎ塩酸及び１％フェノールフタレイン溶液にて力価（Ｆ）を標定したもの）で滴定し、その中和量から次式に従って酸価を求め、酸価を水酸化カリウムの分子量で除することで算出できる。
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（ＫＯＨ滴定量（ｍｌ）×Ｆ×５６．１）／試料（ｍｇ）
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（ＫＯＨ滴定量（ｍｌ）×Ｆ×５６．１）／試料（ｍｇ）
【0074】
スチレン系エラストマー（ｂ）におけるヨウ素価の下限は、例えば１ｇ／１００ｇであってもよく、３ｇ／１００ｇであってよい。一方、この上限は、例えば３００ｇ／１００ｇであってもよく、１００ｇ／１００ｇであってよく、３０ｇ／１００ｇであってもよい。Ｂ層中のヨウ素価は、端部接着性に大きく影響する。しかし、Ｂ層中のヨウ素価は、スチレン系エラストマー（ｂ）以外の他の成分（例えば後述するスチレン系エラストマー（ｂ’）との混合比率等によって調整できるため、スチレン系エラストマー（ｂ）のヨウ素価は低いものであってよい。
【0075】
ヨウ素価とは、対象となるエラストマー等１００ｇに付加するヨウ素の質量（ｇ）を示すものであり、エラストマー等中の二重結合の量を示す指標である。ヨウ素価は、以下のヨウ素還元滴定により測定した値を意味する。まず、フラスコ中に対象となる試料の適量（約０．１ｇ～１ｇ）を正確に秤量して、クロロホルム１００ｍＬを加えて完全に溶解させ、次いでウィス液（０．１Ｎの一塩化ヨウ素－酢酸溶液）２０ｍＬを加え静かに振り混ぜ、光を遮り室温で３０分静置させる。この溶液に０．１ｇ／ｍＬのヨウ化カリウム水溶液を２０ｍＬ及び水１００ｍＬを加えた後、遊離したヨウ素の量を０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液で逆滴定し、下記式によってヨウ素価（Ｉ：ｇ／１００ｇ）を求める。この際、１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液による逆滴定の終点は、水相及びクロロホルム相を目視観察し、共に無色であると判断する点とする。なお、試料を加えずに同様の操作を行い、そのときの０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）をブランク値とする。
Ｉ＝（Ｂ－Ｃ）×ｆ×１．２６９／Ｓ
Ｉ：ヨウ素価（ｇ／１００ｇ）
Ｓ：秤量した試料の質量（ｇ）
Ｂ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のブランク滴定量（ｍＬ）
Ｃ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）
ｆ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のファクター
Ｉ＝（Ｂ－Ｃ）×ｆ×１．２６９／Ｓ
Ｉ：ヨウ素価（ｇ／１００ｇ）
Ｓ：秤量した試料の質量（ｇ）
Ｂ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のブランク滴定量（ｍＬ）
Ｃ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）
ｆ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のファクター
【0076】
前記ヨウ素価を所望する範囲に制御する方法としては、当業者が通常行う方法を採用することができる。例えば、スチレン系エラストマーを重合する際の反応温度、反応時間などの反応条件を適宜調節すること、スチレン系エラストマーへの水素添加反応をすることなどにより行うことができる。
【0077】
Ｂ層におけるスチレン系エラストマー（ｂ）の含有量の下限としては、例えば１質量％であってもよく、１０質量％が好ましく、１５質量％がより好ましい。一方、この上限としては、例えば１００質量％であってもよく、９０質量％が好ましく、７０質量％がより好ましく、５０質量％がさらに好ましく、４０質量％が特に好ましい。
【0078】
（スチレン系エラストマー（ｂ’））
Ｂ層は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有さないスチレン系エラストマー（ｂ’）をさらに含むことが好ましい。これにより、Ｂ層における前記極性基の含有量及びヨウ素価を好適な状態に比較的容易に調整することができる。また、Ｂ層がスチレン系エラストマー（ｂ’）をさらに含むことで、Ｂ層の柔軟性が高まり、本発明の積層体の耐屈曲性等が高まる傾向にある。
Ｂ層は、ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基を有さないスチレン系エラストマー（ｂ’）をさらに含むことが好ましい。これにより、Ｂ層における前記極性基の含有量及びヨウ素価を好適な状態に比較的容易に調整することができる。また、Ｂ層がスチレン系エラストマー（ｂ’）をさらに含むことで、Ｂ層の柔軟性が高まり、本発明の積層体の耐屈曲性等が高まる傾向にある。
【0079】
スチレン系エラストマー（ｂ’）としては、例えばスチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、スチレン－エチレン／ブチレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン－エチレン／プロピレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等を挙げることができる。
【0080】
これらのスチレン系エラストマー（ｂ’）の中でも、ＳＢＳ及びＳＩＳが好ましく、ＳＢＳがより好ましい。例えば前記のように、スチレン系エラストマー（ｂ）として前記極性基を有するＳＥＢＳを用いた場合、ＳＥＢＳはヨウ素価が低いものが一般的である。これに対し、ＳＢＳは比較的ヨウ素価が高い。従って、スチレン系エラストマー（ｂ）としての前記極性基を有するＳＥＢＳと、スチレン系エラストマー（ｂ’）としてのＳＢＳとを組み合わせることで、Ｂ層における前記極性基の含有量とヨウ素価とをバランスよく高めることが容易となる。
【0081】
スチレン系エラストマー（ｂ’）におけるスチレン単位の含有割合の下限としては、５質量％が好ましく、１０質量％がより好ましい。一方、この上限としては、５０質量％が好ましく、３０質量％がより好ましい。スチレン単位の含有割合が前記範囲のスチレン系エラストマー（ｂ’）を用いることで、溶融成形性等が高まり、本発明の積層体の外観等が向上する。
【0082】
スチレン系エラストマー（ｂ’）のヨウ素価は、スチレン系エラストマー（ｂ）のヨウ素価よりも大きいことが好ましい。これにより、Ｂ層のヨウ素価を大きくし、本発明の積層体の端部接着性等をより高めることができる。スチレン系エラストマー（ｂ’）におけるヨウ素価の下限は、例えば１００ｇ／１００ｇが好ましく、２００ｇ／１００ｇがより好ましく、２４０ｇ／１００ｇがさらに好ましい。一方、この上限は、５００ｇ／１００ｇであってもよく、４００ｇ／１００ｇであってもよい。
【0083】
Ｂ層におけるスチレン系エラストマー（ｂ’）の含有量の下限としては、例えば０質量％であってもよく、１０質量％が好ましく、２０質量％がより好ましく、４０質量％がさらに好ましく、６０質量％が特に好ましい。一方、この上限としては、９９質量％であってもよく、９０質量％が好ましく、８５質量％がより好ましい。
【0084】
Ｂ層（Ｂ層形成材料）におけるスチレン系エラストマー（ｂ）及びスチレン系エラストマー（ｂ’）の合計含有量の下限としては、８０質量％が好ましく、９０質量％がより好ましく、９５質量％がさらに好ましく、９９質量％又は９９．９質量％がよりさらに好ましい場合もある。一方、この合計含有量の上限としては、１００質量％であってよく、９９．９質量％又は９９質量％であってもよい。
【0085】
Ｂ層（Ｂ層形成材料）におけるスチレン系エラストマー（ｂ）とスチレン系エラストマー（ｂ’）との質量比（ｂ／ｂ’）は１／９９以上が好ましく、１０／９０以上がより好ましく、２０／８０以上がさらに好ましい。一方、質量比（ｂ／ｂ’）は９０／１０以下が好ましく、８０／２０以下がより好ましく、５０／５０以下がさらに好ましく、４０／６０以下が特に好ましい。
【0086】
Ｂ層（Ｂ層形成材料）には、実施形態に応じて、スチレン系エラストマー（ｂ）及びスチレン系エラストマー（ｂ’）以外の他の成分が含有されていてもよい。他の成分としては、他のエラストマー、エラストマー以外のポリマー、熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、フィラー、加硫促進剤、加硫促進助剤等を挙げることができる。
【0087】
Ｂ層（Ｂ層形成材料）の－３０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（－３０℃）の下限は、１０６Ｐａが好ましく、２．０×１０６Ｐａがより好ましく、５．０×１０６Ｐａがさらに好ましく、１．０×１０７Ｐａが特に好ましい。前記引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（－３０℃）の上限は、１０８Ｐａが好ましく、５．０×１０７Ｐａがより好ましく、２．５×１０７Ｐａがさらに好ましい。引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（－３０℃）を前記範囲内とすることで、特に前記上限以下とすることで低温下での耐屈曲性が高まり、屈曲に伴うピンホールの発生を抑制することなどができる。
【0088】
Ｂ層（Ｂ層形成材料）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（４０℃）の下限は、１０６Ｐａが好ましく、２．０×１０６Ｐａがより好ましく、３．０×１０６Ｐａがさらに好ましい。前記引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（４０℃）の上限は、１０８Ｐａが好ましく、２．０×１０７Ｐａがより好ましく、７．０×１０６Ｐａがさらに好ましい。引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂ（４０℃）を前記範囲内とすることで、溶融成形性が高まり、外観等が向上する。
【0089】
なお、引張貯蔵弾性率Ｅ’は、ＪＩＳ Ｋ ７２４４－４（１９９９）（プラスチック－動的機械特性の試験方法 第４部：引張振動－共振法）に準拠して測定された値とする。
【0090】
〈Ｂ１層〉
複数のＢ層（エラストマー層）は、それぞれの両面にＡ層（ガスバリア層）が隣接又は直接積層している複数のＢ１層を含む。
複数のＢ層（エラストマー層）は、それぞれの両面にＡ層（ガスバリア層）が隣接又は直接積層している複数のＢ１層を含む。
【0091】
複数のＢ１層における前記極性基の含有量の下限は、０．０１ｍｍｏｌ／ｇであり、０．０１０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．０２ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．０３ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．０４ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。一方、この上限は、０．１ｍｍｏｌ／ｇであり、０．１０ｍｍｏｌが好ましく、０．０９ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．０８ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．０７ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。Ｂ１層における前記極性基の含有量を前記下限以上とすることで、Ａ層との接着性を高め、十分なガスバリア性、耐屈曲性、端部接着性等を発揮することができ、外観も向上する。一方、前記含有量を前記上限以下とすることで、Ａ層中のガスバリア性樹脂（ａ）との反応が強すぎることにより生じる外観不良を抑制することなどができる。
【0092】
複数のＢ１層におけるヨウ素価ＩＢ１の下限は、５０ｇ／１００ｇであり、１００ｇ／１００ｇが好ましく、１４０ｇ／１００ｇがより好ましく、１８０ｇ／１００ｇがさらに好ましい。一方、このヨウ素価ＩＢ１の上限は、３００ｇ／１００ｇであり、２７０ｇ／１００ｇが好ましく、２４０ｇ／１００ｇがより好ましい。ヨウ素価ＩＢ１を前記下限以上とすることで、端面に接触するゴム層との接着性が高まり、優れた端部接着性を発揮することができる。一方、ヨウ素価ＩＢ１を前記上限以下とすることで、十分な量の前記極性基をＢ１層に含有させることができ、層間接着性、耐屈曲性等を高めることができる。
【0093】
複数のＢ１層における前記極性基の含有量及びヨウ素価ＩＢ１は、用いるスチレン系エラストマー（ｂ）及びスチレン系エラストマー（ｂ’）の種類や量等によって調整することができる。
【0094】
〈Ｂ２層〉
複数のＢ層（エラストマー層）は、片面にのみＡ層（ガスバリア層）が隣接又は直接積層している１層又は２層のＢ２層を含むことが好ましい。このようなＢ２層が存在することで、Ａ層を十分に保護することができ、ガスバリア性や耐屈曲性等が高まる。このようなことから、Ｂ２層の層数は２層であることが好ましい。
複数のＢ層（エラストマー層）は、片面にのみＡ層（ガスバリア層）が隣接又は直接積層している１層又は２層のＢ２層を含むことが好ましい。このようなＢ２層が存在することで、Ａ層を十分に保護することができ、ガスバリア性や耐屈曲性等が高まる。このようなことから、Ｂ２層の層数は２層であることが好ましい。
【0095】
Ｂ２層における前記極性基の含有量の下限は、０．０１ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．０１０ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．０２ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．０３ｍｍｏｌ／ｇがよりさらに好ましく、０．０４ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。一方、この上限は、０．１ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１０ｍｍｏｌがより好ましく、０．０９ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．０８ｍｍｏｌ／ｇがよりさらに好ましく、０．０７ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。Ｂ２層における前記極性基の含有量を前記下限以上とすることで、Ａ層との接着性を高め、十分なガスバリア性、耐屈曲性、端部接着性等を発揮することができ、外観も向上する。一方、前記含有量を前記上限以下とすることで、Ａ層中のガスバリア性樹脂（ａ）との反応が強すぎることにより生じる外観不良を抑制することができる。
【0096】
Ｂ２層におけるヨウ素価ＩＢ２の下限は、５０ｇ／１００ｇが好ましく、１００ｇ／１００ｇがより好ましく、１４０ｇ／１００ｇがさらに好ましく、１８０ｇ／１００ｇがよりさらに好ましい。一方、このヨウ素価ＩＢ１の上限は、３００ｇ／１００ｇが好ましく、２７０ｇ／１００ｇがより好ましく、２４０ｇ／１００ｇがさらに好ましい。ヨウ素価ＩＢ２を前記下限以上とすることで、端面に接触するゴム層との接着性が高まり、優れた端部接着性を発揮することができる。特に、Ｂ２層を比較的厚く設けた場合、Ｂ２層が端部接着性に与える影響が大きくなり、ヨウ素価ＩＢ２を前記下限以上とすることで端部接着性が十分に高まる。一方、ヨウ素価ＩＢ２を前記上限以下とすることで、十分な量の前記極性基をＢ２層に含有させることができ、層間接着性、耐屈曲性等を高めることができる。
【0097】
Ｂ２層における前記極性基の含有量及びヨウ素価ＩＢ２は、用いるスチレン系エラストマー（ｂ）及びスチレン系エラストマー（ｂ’）の種類や量等によって調整することができる。
【0098】
なお、Ｂ１層及びＢ２層の組成は同一であってもよく、異なっていてもよい。生産性の観点からは、Ｂ１層及びＢ２層の組成が同じであることが好ましい。
【0099】
〈Ｃ層〉
Ｃ層（被覆層）は、Ｂ２層に隣接する層である。Ｂ２層とＣ層とは、他の層を介さず直接積層されていてよい。Ｃ層は、通常、本発明の積層体の最外層である。Ｃ層は、通常、架橋反応によりゴム層との接着が可能な接着性樹脂（ｃ）を含む。すなわち、Ｃ層は、通常、接着性樹脂（ｃ）を含むＣ層形成材料から形成される接着性樹脂層である。架橋反応によりゴム層との接着が可能な接着性樹脂（ｃ）としては、二重結合を主鎖中に有する樹脂が好ましい。また、接着性樹脂（ｃ）としては、当該積層体の耐屈曲性等の観点から、エラストマーであることが好ましい。このようなことから、接着性樹脂（ｃ）としては、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー及びジエン系エラストマーからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、スチレン系エラストマーがより好ましい。
Ｃ層（被覆層）は、Ｂ２層に隣接する層である。Ｂ２層とＣ層とは、他の層を介さず直接積層されていてよい。Ｃ層は、通常、本発明の積層体の最外層である。Ｃ層は、通常、架橋反応によりゴム層との接着が可能な接着性樹脂（ｃ）を含む。すなわち、Ｃ層は、通常、接着性樹脂（ｃ）を含むＣ層形成材料から形成される接着性樹脂層である。架橋反応によりゴム層との接着が可能な接着性樹脂（ｃ）としては、二重結合を主鎖中に有する樹脂が好ましい。また、接着性樹脂（ｃ）としては、当該積層体の耐屈曲性等の観点から、エラストマーであることが好ましい。このようなことから、接着性樹脂（ｃ）としては、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー及びジエン系エラストマーからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、スチレン系エラストマーがより好ましい。
【0100】
接着性樹脂（ｃ）であるスチレン系エラストマーとしては、上述したＢ層に含まれていてよいスチレン系エラストマー（ｂ’）と同様のものを挙げることができる。接着性樹脂（ｃ）としては、これらの中でも、ＳＢＳ及びＳＩＳが好ましく、ＳＢＳがより好ましい。接着性樹脂（ｃ）としては、無変性のスチレン系エラストマーであることも好ましい。
【0101】
接着性樹脂（ｃ）であるスチレン系エラストマーにおけるスチレン単位の含有割合の下限としては、５質量％が好ましく、１０質量％がより好ましく、２０質量％、３０質量％又は３７質量％がさらに好ましい。一方、このスチレン単位の含有割合の上限としては、６０質量％が好ましく、５０質量％がより好ましい。接着性樹脂（ｃ）として、スチレン単位の含有割合が前記範囲のスチレン系エラストマーを用いることで、特に比較的スチレン単位の含有割合が高いスチレン系エラストマーを用いることで、溶融成形性等が高まり、本発明の積層体の外観等が向上する。
【0102】
接着性樹脂（ｃ）のヨウ素価の下限としては、例えば１００ｇ／１００ｇが好ましく、２００ｇ／１００ｇがより好ましく、２４０ｇ／１００ｇがさらに好ましい。一方、この上限としては、例えば４００ｇ／１００ｇが好ましく、３００ｇ／１００ｇがより好ましい。
【0103】
Ｃ層（Ｃ層形成材料）における接着性樹脂（ｃ）の含有量の下限としては、８０質量％が好ましく、９０質量％がより好ましく、９５質量％がさらに好ましく、９９質量％又は９９．９質量％がよりさらに好ましい場合もある。一方、この含有量の上限としては、１００質量％であってよく、９９．９質量％又は９９質量％であってもよい。
【0104】
Ｃ層（Ｃ層形成材料）には、実施形態に応じて、接着性樹脂（ｃ）以外の他の成分が含有されていてもよい。他の成分としては、他のポリマー、熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、フィラー、加硫促進剤、加硫促進助剤等を挙げることができる。
【0105】
Ｃ層におけるヨウ素価ＩＣは、複数のＢ層のヨウ素価ＩＢより大きいことが好ましい。また、Ｃ層におけるヨウ素価ＩＣは、Ｂ２層のヨウ素価ＩＢ２より大きいことが好ましい。このようなＣ層を設けることにより、ゴム層との接着性が向上する。Ｃ層のヨウ素価ＩＣの下限としては、例えば１００ｇ／１００ｇであってもよいが、２００ｇ／１００ｇが好ましく、２４０ｇ／１００ｇがより好ましい。一方、このヨウ素価ＩＣの上限は、例えば４００ｇ／１００ｇであってもよいが、３００ｇ／１００ｇが好ましい。ヨウ素価ＩＣを前記下限以上とすることで、ゴム層との接着性がより高まる。一方、ヨウ素価ＩＣを前記上限以下とすることで、外観が良好なものとなる。
【0106】
Ｃ層（Ｃ層形成材料）は、カルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分を実質的に含まないことが好ましい。Ｃ層（被覆層）においてカルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分の含有量が多いと、粘着性が高まり、製膜時にキャストロールへの貼り付きが生じ易くなり、膜面が荒れ、積層体の外観が低下することがある。そこで、Ｃ層をカルボキシ基及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する成分を実質的に含まない組成とすることで、外観を良好なものとすることができる。具体的にＣ層における前記極性基の含有量の上限としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．００５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．００１ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．０００５ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。
【0107】
Ｃ層（Ｃ層形成材料）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃは、Ｂ層（Ｂ層形成材料）の４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｂより大きいことが好ましい。このように、Ｃ層を４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃが比較的大きい材料から形成することで、溶融成形性が高まることなどにより、得られる積層体の外観等がより向上する。具体的に４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃの下限は、１０６Ｐａであってよいが、１．０×１０７Ｐａが好ましく、１．０×１０８Ｐａがより好ましく、５．０×１０８Ｐａがさらに好ましい。前記４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’Ｃの上限は、１０１０Ｐａが好ましく、５．０×１０９Ｐａがより好ましく、１．５×１０９Ｐａがさらに好ましい。
【0108】
〈用途等〉
本発明の積層体は、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有し、ゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性にも優れる。従って、当該積層体は、ゴム層を積層させた上で環状（周状）にし、端部を重ね合わせて接着させて使用する用途に好適に用いることができる。このような用途としては、アキュムレーターの内袋、空気入りボール、空気ばね、空気用タイヤのインナーライナー等、膜状のゴム製品に積層されるガスバリアフィルムなどとして好適に用いられる。
本発明の積層体は、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有し、ゴム層を積層させた上で環状にした際に重なり合う端部の接着性にも優れる。従って、当該積層体は、ゴム層を積層させた上で環状（周状）にし、端部を重ね合わせて接着させて使用する用途に好適に用いることができる。このような用途としては、アキュムレーターの内袋、空気入りボール、空気ばね、空気用タイヤのインナーライナー等、膜状のゴム製品に積層されるガスバリアフィルムなどとして好適に用いられる。
【0109】
＜積層体の製造方法＞
本発明の積層体の製造方法は、Ａ層とＢと層が、さらにはＢ層とＣ層とが良好に積層及び接着される方法であれば特に限定されるものではなく、例えば共押出し、はり合わせ、コーティング、ボンディング、付着などの公知の方法を採用することができる。
本発明の積層体の製造方法は、Ａ層とＢと層が、さらにはＢ層とＣ層とが良好に積層及び接着される方法であれば特に限定されるものではなく、例えば共押出し、はり合わせ、コーティング、ボンディング、付着などの公知の方法を採用することができる。
【0110】
本発明の積層体は、好ましくはＡ層形成材料とＢ層形成材料とを共押出する工程を備える製造方法により製造することができる。当該積層体がさらにＣ層を有する場合、Ａ層形成材料とＢ層形成材料とＣ層形成材料とを共押出する工程を備える製造方法により製造することができる。このような製造方法によれば、各層を同時に成形することができ、生産性等に優れる。
【0111】
多層共押出法においては、各層を形成する材料は、加熱溶融され、異なる押出機やポンプからそれぞれの流路を通って押出ダイに供給される。次いで、各層を形成する材料が、押出ダイから多層に押し出された後に積層接着されることで、積層体が形成される。この押出ダイとしては、例えばマルチマニホールドダイ、フィールドブロック、スタティックミキサー等を用いることができる。
【0112】
なお、Ａ層形成材料及びＢ層形成材料の粘度の関係に関し、以下の溶融粘度比であることが好ましい。すなわち、温度２１０℃、剪断速度１，０００／秒でのＡ層形成材料の溶融粘度（ηＡ）とＢ層形成材料の溶融粘度（ηＢ）との比（ηＢ／ηＡ）の下限としては、０．３が好ましく、０．５がより好ましい。一方、この溶融粘度比（ηＢ／ηＡ）の上限としては、２が好ましく、１．５がより好ましい。溶融粘度比（ηＢ／ηＡ）を前記範囲とすることによって、本発明の積層体の多層共押出法による成形において、外観が良好となり、また、Ａ層及びＢ層との接着が良好となって当該積層体の耐屈曲性等を向上させることなどができる。
【0113】
本発明の積層体の製造方法は、共押出により得られた構造体（積層体）に電子線を照射する工程を備えることが好ましい。電子線照射により、層間の架橋反応が生じ、得られる積層体の層間接着力を高めることができる。電子線源としては、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を使用できる。
【0114】
＜多層構造体＞
本発明の一実施形態に係る多層構造体は、上述した本発明の積層体、及び前記積層体の最外層として積層されている層（好適にはＣ層）の外面に積層されているジエン系ゴム層（Ｄ）（以下、「Ｄ層」ともいう。）を備える。
本発明の一実施形態に係る多層構造体は、上述した本発明の積層体、及び前記積層体の最外層として積層されている層（好適にはＣ層）の外面に積層されているジエン系ゴム層（Ｄ）（以下、「Ｄ層」ともいう。）を備える。
【0115】
【0116】
なお、当該多層構造体においては、ジエン系ゴム層（Ｄ）は、積層体の両外面に積層されていてもよい。当該多層構造体は、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層及びＤ層以外の他の樹脂層等を有していてもよい。
【0117】
当該多層構造体における積層体及びこの積層体を構成する各層、すなわち、Ａ層、Ｂ層（Ｂ１層及びＢ２層）及びＣ層は、上述したものと同様である。
【0118】
当該多層構造体の平均厚さの下限としては、５０μｍが好ましく、１００μｍがより好しく、３００μｍがさらに好ましい。一方、この上限としては、３ｍｍが好ましく、１０００μｍがより好ましく、７５０μｍがさらに好ましく、６００μｍが特に好ましい。当該多層構造体の平均厚さを前記下限以上とすることで、強度、耐屈曲性、耐久性、ガスバリア性等を高めることができる。前記平均厚さを前記上限以下とすることで、柔軟性、成形性、軽量性、耐屈曲性等を高めることができ、製造コストを抑制することもできる。
【0119】
Ｄ層は、ジエン系ゴムを含むゴム材料から形成されている。ジエン系ゴムとは、主鎖中に炭素二重結合を有するゴムをいう。ジエン系ゴムとしては、例えば天然ゴム（ＮＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、シス－１，４－ポリブタジエン（ＢＲ）、シンジオタクチック－１，２－ポリブタジエン（１，２ＢＲ）、スチレン－ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、アクリロニトリル－ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）等が挙げられる。これらのジエン系ゴムは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【0120】
なお、Ｄ層は、ジエン系ゴムのみから形成されていてもよいが、本発明の効果を阻害しない範囲で、ジエン系ゴム以外の成分が含有されていてもよい。他の成分としては、例えば軟化剤、老化防止剤、加硫剤、加硫促進剤、加硫促進助剤、スコーチ防止剤、亜鉛華、ステアリン酸、充填剤等を挙げることができる。
【0121】
Ｄ層の１層の平均厚さとしては、特に限定されないが、下限としては１０μｍが好ましく、１００μｍがより好ましい。一方、この上限としては、３ｍｍが好ましく、１ｍｍがより好ましく、０．５ｍｍがさらに好ましい。
【0122】
Ｄ層とＤ層に隣接する層（Ｃ層等）とは、架橋反応（加硫反応）により、界面で強く結合している。特に、Ｃ層が十分な二重結合を主鎖中に有するスチレン系エラストマー等を含有するポリマーから形成されている場合、ジエン系ゴムとの十分な架橋反応を可能とする。
【0123】
図３に示されるように、多層構造体２０は、環状にして端部２１同士を重ね合わせて接着させて使用される場合がある。当該多層構造体２０は、端面１１として露出するＢ１層のヨウ素価が高く、好適な形態においてはＢ２層のヨウ素価も高いため、Ｄ層６（ジエン系ゴム層）との接着性に優れる。また、好適な形態においては、当該多層構造体２０の外面１２（図３における内周面）を構成するＣ層もヨウ素価が高い。従って、このような環状にした多層構造体２０の端部２１において、積層体１０の端面１１及び外面１２は、Ｄ層６と密着性高く接着でき、隙間が形成され難い。従って、当該多層構造体２０は、十分なガスバリア性及び耐屈曲性を有する上に、環状にした際に重なり合う端部２１の接着性にも優れる。このため、当該多層構造体は、例えば空気入りタイヤのインナーライナー、アキュムレーターの内袋、空気入りボール、空気ばね等の構成材料に好適に用いることができる。
【0124】
＜多層構造体の製造方法＞
当該多層構造体は、本発明の積層体にＤ層を加熱接着する工程を備える製造方法により好適に得ることができる。
当該多層構造体は、本発明の積層体にＤ層を加熱接着する工程を備える製造方法により好適に得ることができる。
【0125】
前記加熱接着は、本発明の積層体の最外層（例えばＣ層）とＤ層（ジエン系ゴムの膜）とを積層し、加熱することによって行うことができる。この加熱により、積層体の最外層とＤ層との間で架橋が生じ、強固な接着が生じる。この際の加熱温度の下限としては、１２０℃が好ましく、１２５℃がより好ましく、１３０℃がさらに好ましい。一方、この加熱温度の上限としては、２００℃が好ましく、１９０℃がより好ましく、１８０℃がさらに好ましい。
【0126】
＜その他の実施形態＞
本発明の積層体は、前記実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の積層体は、Ａ層、Ｂ層及びＣ層以外に他の層を含んでいてもよい。他の層としては、上述したＤ層も挙げられる。すなわち、上述したＤ層（ジエン系ゴム層）を備える多層構造体も、本発明の積層体の一実施形態である。また、本発明の積層体は、Ｂ２層が０層又は１層の層構造であってもよく、Ｃ層が０層又は１層の層構造であってもよい。
本発明の積層体は、前記実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の積層体は、Ａ層、Ｂ層及びＣ層以外に他の層を含んでいてもよい。他の層としては、上述したＤ層も挙げられる。すなわち、上述したＤ層（ジエン系ゴム層）を備える多層構造体も、本発明の積層体の一実施形態である。また、本発明の積層体は、Ｂ２層が０層又は１層の層構造であってもよく、Ｃ層が０層又は１層の層構造であってもよい。
【0127】
すなわち、本発明の積層体の層構造としては、
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ、
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２、
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃ、
Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２、
Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃ等であってよい。
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ、
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２、
Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃ、
Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２、
Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃ等であってよい。
【0128】
また、本発明の積層体の一方の外面等にさらに支持膜等が積層されてもよい。この支持膜としては特に限定されず、樹脂層でなくてもよく、例えば一般的な合成樹脂層、合成樹脂フィルム等も用いられる。また、支持層の積層手段としては特に限定されず、接着剤による接着や押出ラミネートなどが採用される。
【実施例】
【0129】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0130】
＜実施例及び比較例で用いた材料＞
・ガスバリア性樹脂（ａ）
ＥＶＯＨ１：「エバール（登録商標）Ｆ１０１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量３２モル％）
ＥＶＯＨ２：「エバール（登録商標）Ｅ１０５Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量４４モル％）
ＥＶＯＨ３：「エバール（登録商標）Ｈ１７１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量３８モル％）
ＥＶＯＨ４：「エバール（登録商標）Ｌ１７１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量２７モル％）
ＰＡ１：「アミラン（登録商標）ＣＭ１０２１ＦＳ」（東レ株式会社製、ナイロン６）
ＰＡ２：「ＭＸナイロンＳ６００７」（三菱ガス株式会社製、ナイロンＭＸＤ６）
・ガスバリア性樹脂（ａ）
ＥＶＯＨ１：「エバール（登録商標）Ｆ１０１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量３２モル％）
ＥＶＯＨ２：「エバール（登録商標）Ｅ１０５Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量４４モル％）
ＥＶＯＨ３：「エバール（登録商標）Ｈ１７１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量３８モル％）
ＥＶＯＨ４：「エバール（登録商標）Ｌ１７１Ｂ」（株式会社クラレ製、ＥＶＯＨ、エチレン単位含有量２７モル％）
ＰＡ１：「アミラン（登録商標）ＣＭ１０２１ＦＳ」（東レ株式会社製、ナイロン６）
ＰＡ２：「ＭＸナイロンＳ６００７」（三菱ガス株式会社製、ナイロンＭＸＤ６）
【0131】
・エラストマー（ｂ）
ＭＡ－ＳＥＢＳ１：「タフテック（登録商標）Ｍ１９４３」（旭化成株式会社製、無水マレイン酸変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量２０質量％、ヨウ素価１０ｇ／１００ｇ、無水マレイン酸変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１９ｍｍｏｌ／ｇ）
ＭＡ－ＳＥＢＳ２：「タフテック（登録商標）Ｍ１９１３」（旭化成株式会社製、無水マレイン酸変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量３０質量％、ヨウ素価１２ｇ／１００ｇ、無水マレイン酸変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１９ｍｍｏｌ／ｇ）
ＭＡ－ＳＥＢＳ１：「タフテック（登録商標）Ｍ１９４３」（旭化成株式会社製、無水マレイン酸変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量２０質量％、ヨウ素価１０ｇ／１００ｇ、無水マレイン酸変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１９ｍｍｏｌ／ｇ）
ＭＡ－ＳＥＢＳ２：「タフテック（登録商標）Ｍ１９１３」（旭化成株式会社製、無水マレイン酸変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量３０質量％、ヨウ素価１２ｇ／１００ｇ、無水マレイン酸変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１９ｍｍｏｌ／ｇ）
【0132】
・比較例で用いたエポキシ変性エラストマー
Ｅ－ＳＢＳ１：「エポフレンド（登録商標）ＣＴ３１０」（株式会社ダイセル製、エポキシ変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２４９ｇ／１００ｇ、エポキシ変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１６ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｅ－ＳＢＳ２：「エポフレンド（登録商標）ＡＴ５０１」（株式会社ダイセル製、エポキシ変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２３９ｇ／１００ｇ、エポキシ変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．３２ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｅ－ＳＢＳ１：「エポフレンド（登録商標）ＣＴ３１０」（株式会社ダイセル製、エポキシ変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２４９ｇ／１００ｇ、エポキシ変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．１６ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｅ－ＳＢＳ２：「エポフレンド（登録商標）ＡＴ５０１」（株式会社ダイセル製、エポキシ変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２３９ｇ／１００ｇ、エポキシ変性量（ガスバリア性樹脂（ａ）と反応可能な極性基量）０．３２ｍｍｏｌ／ｇ）
【0133】
・エラストマー（ｂ’）又は接着性樹脂（ｃ）
ＳＢＳ１：「ＪＳＲ ＴＲ２８２７」（ＪＳＲ株式会社製、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量２４質量％、ヨウ素価２９５ｇ／１００ｇ）
ＳＩＳ１：「ＪＳＲ ＳＩＳ５２２９」（ＪＳＲ株式会社製、無変性ＳＩＳ、スチレン比含有量１５質量％、ヨウ素価３３５ｇ／１００ｇ）
ＳＢＳ２：「タフプレン（登録商標）Ａ」（旭化成株式会社製、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２７０ｇ／１００ｇ）
ＳＢＳ３：「ＪＳＲ ＴＲ２５００」（ＪＳＲ株式会社、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量３５質量％、ヨウ素価２７９ｇ／１００ｇ）
ＳＥＢＳ１：「タフテック（登録商標）Ｈ１０４１」（旭化成株式会社製、無変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量３０質量％、ヨウ素価０ｇ／１００ｇ）
ＳＢＳ１：「ＪＳＲ ＴＲ２８２７」（ＪＳＲ株式会社製、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量２４質量％、ヨウ素価２９５ｇ／１００ｇ）
ＳＩＳ１：「ＪＳＲ ＳＩＳ５２２９」（ＪＳＲ株式会社製、無変性ＳＩＳ、スチレン比含有量１５質量％、ヨウ素価３３５ｇ／１００ｇ）
ＳＢＳ２：「タフプレン（登録商標）Ａ」（旭化成株式会社製、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量４０質量％、ヨウ素価２７０ｇ／１００ｇ）
ＳＢＳ３：「ＪＳＲ ＴＲ２５００」（ＪＳＲ株式会社、無変性ＳＢＳ、スチレン比含有量３５質量％、ヨウ素価２７９ｇ／１００ｇ）
ＳＥＢＳ１：「タフテック（登録商標）Ｈ１０４１」（旭化成株式会社製、無変性ＳＥＢＳ、スチレン比含有量３０質量％、ヨウ素価０ｇ／１００ｇ）
【0134】
・ジエン系ゴム
天然ゴム：「ＴＳＲ－２０」（中部大阪ゴム製、天然ゴム）
天然ゴム：「ＴＳＲ－２０」（中部大阪ゴム製、天然ゴム）
【0135】
＜比較例で用いたＴＰＵ１の製造＞
数平均分子量が１０００であるポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＥＧ）、１，４－ブタンジオール（１，４－ＢＤ）及び４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）を、ＰＴＭＥＧ：１，４－ＢＤ：ＭＤＩ＝１．０：１．２：２．２のモル比で、且つこれらの合計供給量が２００ｇ／分となるようにして同軸方向に回転する二軸スクリュー型押出機（３０ｍｍφ、Ｌ／Ｄ＝３６；加熱ゾーンを前部、中央部、後部の３つの帯域に分けた）の加熱ゾーンの前部に連続的に供給して、２６０℃で連続溶融重合させた。得られた溶融物をストランド状に水中に連続的に押し出し、次いでペレタイザーで切断した後に６０℃で１２時間除湿乾燥させて、ＴＰＵ１のペレットを得た。得られたＴＰＵの溶融粘度は１０８０Ｐａ・ｓ、流出開始温度は１７１℃であった。
数平均分子量が１０００であるポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＥＧ）、１，４－ブタンジオール（１，４－ＢＤ）及び４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）を、ＰＴＭＥＧ：１，４－ＢＤ：ＭＤＩ＝１．０：１．２：２．２のモル比で、且つこれらの合計供給量が２００ｇ／分となるようにして同軸方向に回転する二軸スクリュー型押出機（３０ｍｍφ、Ｌ／Ｄ＝３６；加熱ゾーンを前部、中央部、後部の３つの帯域に分けた）の加熱ゾーンの前部に連続的に供給して、２６０℃で連続溶融重合させた。得られた溶融物をストランド状に水中に連続的に押し出し、次いでペレタイザーで切断した後に６０℃で１２時間除湿乾燥させて、ＴＰＵ１のペレットを得た。得られたＴＰＵの溶融粘度は１０８０Ｐａ・ｓ、流出開始温度は１７１℃であった。
【0136】
前記各エラストマーのヨウ素価及び極性基量については、以下の方法で測定した。
【0137】
＜評価方法＞
（１）ヨウ素価
各エラストマー、Ｂ層形成材料及びＣ層形成材料のヨウ素価は、以下のヨウ素還元滴定により測定した。まず、フラスコ中に対象となる試料の適量（約０．１ｇ～１ｇ）を正確に秤量して、クロロホルム１００ｍＬを加えて完全に溶解させ、次いでウィス液（０．１Ｎの一塩化ヨウ素－酢酸溶液）２０ｍＬを加え静かに振り混ぜ、光を遮り室温で３０分静置させた。この溶液に０．１ｇ／ｍＬのヨウ化カリウム水溶液を２０ｍＬ及び水１００ｍＬを加えた後、遊離したヨウ素の量を０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液で逆滴定し、下記式によってヨウ素価（Ｉ：ｇ／１００ｇ）を求めた。この際、１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液による逆滴定の終点は、水相及びクロロホルム相を目視観察し、共に無色であると判断する点とした。なお、試料を加えずに同様の操作を行い、そのときの０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）をブランク値とした。
Ｉ＝（Ｂ－Ｃ）×ｆ×１．２６９／Ｓ
Ｉ：ヨウ素価（ｇ／１００ｇ）
Ｓ：秤量した試料の質量（ｇ）
Ｂ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のブランク滴定量（ｍＬ）
Ｃ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）
ｆ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のファクター
（１）ヨウ素価
各エラストマー、Ｂ層形成材料及びＣ層形成材料のヨウ素価は、以下のヨウ素還元滴定により測定した。まず、フラスコ中に対象となる試料の適量（約０．１ｇ～１ｇ）を正確に秤量して、クロロホルム１００ｍＬを加えて完全に溶解させ、次いでウィス液（０．１Ｎの一塩化ヨウ素－酢酸溶液）２０ｍＬを加え静かに振り混ぜ、光を遮り室温で３０分静置させた。この溶液に０．１ｇ／ｍＬのヨウ化カリウム水溶液を２０ｍＬ及び水１００ｍＬを加えた後、遊離したヨウ素の量を０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液で逆滴定し、下記式によってヨウ素価（Ｉ：ｇ／１００ｇ）を求めた。この際、１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液による逆滴定の終点は、水相及びクロロホルム相を目視観察し、共に無色であると判断する点とした。なお、試料を加えずに同様の操作を行い、そのときの０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）をブランク値とした。
Ｉ＝（Ｂ－Ｃ）×ｆ×１．２６９／Ｓ
Ｉ：ヨウ素価（ｇ／１００ｇ）
Ｓ：秤量した試料の質量（ｇ）
Ｂ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のブランク滴定量（ｍＬ）
Ｃ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）
ｆ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液のファクター
【0138】
（２）極性基の含有量
（２－１）カルボキシ基の含有量
各エラストマー及びＢ層形成材料のカルボキシ基の含有量は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準拠して測定した。具体的には、キシレン溶媒に試料を溶解し、０．１Ｎ水酸化カリウムのアルコール溶液（水酸化カリウム７ｇにイオン交換水５ｇを添加し、１級エチルアルコールを加えて１Ｌとし、０．１Ｎ塩酸及び１％フェノールフタレイン溶液にて力価（Ｆ）を標定したもの）で滴定し、中和に必要となる水酸化カリウム量からカルボキシ基の含有量を求めた。
（２－１）カルボキシ基の含有量
各エラストマー及びＢ層形成材料のカルボキシ基の含有量は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準拠して測定した。具体的には、キシレン溶媒に試料を溶解し、０．１Ｎ水酸化カリウムのアルコール溶液（水酸化カリウム７ｇにイオン交換水５ｇを添加し、１級エチルアルコールを加えて１Ｌとし、０．１Ｎ塩酸及び１％フェノールフタレイン溶液にて力価（Ｆ）を標定したもの）で滴定し、中和に必要となる水酸化カリウム量からカルボキシ基の含有量を求めた。
【0139】
（２－２）エポキシ基の含有量
各エラストマー及びＢ層形成材料のエポキシ基の含有量はＪＩＳ Ｋ ７２３６に準拠して求められるエポキシ当量の逆数から算出した。具体的には、クロロホルム／トルエン＝５０質量％／５０質量％の混合溶液３０ｍＬに０．１ｇの試料を溶解し、０．１質量％クリスタルバイオレット酢酸溶液を指示薬とし、０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液で滴定し、中和量に必要となる臭化水素酸・酢酸溶液の量からオキシラン酸素を算出し、次式からエポキシ当量を算出した。
オキシラン酸素（％）＝０．１６×Ｂ×Ｆ／試料採取量（ｇ）
Ｂ：０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液の使用量（ｍＬ）
Ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液の力価
エポキシ当量（ｇ／ｅｑ）＝１６００／オキシラン酸素測定値（％）
各エラストマー及びＢ層形成材料のエポキシ基の含有量はＪＩＳ Ｋ ７２３６に準拠して求められるエポキシ当量の逆数から算出した。具体的には、クロロホルム／トルエン＝５０質量％／５０質量％の混合溶液３０ｍＬに０．１ｇの試料を溶解し、０．１質量％クリスタルバイオレット酢酸溶液を指示薬とし、０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液で滴定し、中和量に必要となる臭化水素酸・酢酸溶液の量からオキシラン酸素を算出し、次式からエポキシ当量を算出した。
オキシラン酸素（％）＝０．１６×Ｂ×Ｆ／試料採取量（ｇ）
Ｂ：０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液の使用量（ｍＬ）
Ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ臭化水素酸・酢酸溶液の力価
エポキシ当量（ｇ／ｅｑ）＝１６００／オキシラン酸素測定値（％）
【0140】
（３）酸素透過速度
実施例及び比較例で得られた積層体を２枚用意し、２０℃、６５％ＲＨで５日間調湿し、調湿済みの積層体２枚各々について、ＭＯＣＯＮ社の「ＭＯＣＯＮ ＯＸ－ＴＲＡＮ２／２０型」を用い、２０℃、６５％ＲＨ条件下でＪＩＳ Ｋ ７１２６－２（等圧法；２００６）に記載の方法に準じて、酸素透過速度を測定し、その平均値を求めた（単位：ｍＬ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））。なお、酸素透過速度が、３００ｍＬ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であれば、１気圧の条件下で、１ｍ２当たりに１日に３００ｍＬ以下の酸素透過量となるため、十分なガスバリア性を有すると評価できる。
実施例及び比較例で得られた積層体を２枚用意し、２０℃、６５％ＲＨで５日間調湿し、調湿済みの積層体２枚各々について、ＭＯＣＯＮ社の「ＭＯＣＯＮ ＯＸ－ＴＲＡＮ２／２０型」を用い、２０℃、６５％ＲＨ条件下でＪＩＳ Ｋ ７１２６－２（等圧法；２００６）に記載の方法に準じて、酸素透過速度を測定し、その平均値を求めた（単位：ｍＬ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））。なお、酸素透過速度が、３００ｍＬ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であれば、１気圧の条件下で、１ｍ２当たりに１日に３００ｍＬ以下の酸素透過量となるため、十分なガスバリア性を有すると評価できる。
【0141】
（４）Ａ層とＢ層との層間接着性
層間接着力をＴ型剥離強度試験で評価した。具体的には、実施例及び比較例で得られた積層体を２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で７日間調湿したのち、１０ｍｍ幅の短冊状の切片をＭＤ方向（成形時フィルムの引取方向）に作製して測定試料とした。この測定試料を用い、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－３に準拠して、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所社のオートグラフ「ＡＧＳ－Ｈ型」を用いて、引張速度２５０ｍｍ／分にて、Ａ層とＢ層とのＴ型剥離強度を測定した。測定値を以下の基準で評価した。測定値を以下の基準Ａ～Ｄで評価した。Ａ～Ｃであれば、層間接着性が高いと評価できる。
Ａ：２０Ｎ／１０ｍｍ以上
Ｂ：１５Ｎ／１０ｍｍ以上２０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：１０Ｎ／１０ｍｍ以上１５Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｄ：１０Ｎ／１０ｍｍ未満
層間接着力をＴ型剥離強度試験で評価した。具体的には、実施例及び比較例で得られた積層体を２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で７日間調湿したのち、１０ｍｍ幅の短冊状の切片をＭＤ方向（成形時フィルムの引取方向）に作製して測定試料とした。この測定試料を用い、ＪＩＳ Ｋ ６８５４－３に準拠して、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所社のオートグラフ「ＡＧＳ－Ｈ型」を用いて、引張速度２５０ｍｍ／分にて、Ａ層とＢ層とのＴ型剥離強度を測定した。測定値を以下の基準で評価した。測定値を以下の基準Ａ～Ｄで評価した。Ａ～Ｃであれば、層間接着性が高いと評価できる。
Ａ：２０Ｎ／１０ｍｍ以上
Ｂ：１５Ｎ／１０ｍｍ以上２０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：１０Ｎ／１０ｍｍ以上１５Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｄ：１０Ｎ／１０ｍｍ未満
【0142】
（５）屈曲後ピンホール数（耐屈曲性）
実施例及び比較例で得られた積層体について、ＡＳＴＭ－Ｆ３９２－７４に準じて、テスター産業社製「ＢＥ１００６恒温槽付ゲルボフレックステスター」を使用し、－３０℃の環境下、屈曲を５０００回繰り返した。屈曲後のピンホールの数を測定した。なお、このピンホール数が、Ａ４（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）範囲内で５個以下であれば、十分な耐屈曲性を有すると評価できる。
実施例及び比較例で得られた積層体について、ＡＳＴＭ－Ｆ３９２－７４に準じて、テスター産業社製「ＢＥ１００６恒温槽付ゲルボフレックステスター」を使用し、－３０℃の環境下、屈曲を５０００回繰り返した。屈曲後のピンホールの数を測定した。なお、このピンホール数が、Ａ４（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）範囲内で５個以下であれば、十分な耐屈曲性を有すると評価できる。
【0143】
（６）積層体の外観（ストリーク）
実施例及び比較例で得られた積層体の表面の外観を目視にて検査し、ストリークの有無について以下の基準で評価した。Ａ又はＢであれば、外観特性は高いと評価できる。
Ａ：ストリークが皆無に近かった。
Ｂ：ストリークが存在するが、少なかった。
Ｃ：ストリークが著しかった。
実施例及び比較例で得られた積層体の表面の外観を目視にて検査し、ストリークの有無について以下の基準で評価した。Ａ又はＢであれば、外観特性は高いと評価できる。
Ａ：ストリークが皆無に近かった。
Ｂ：ストリークが存在するが、少なかった。
Ｃ：ストリークが著しかった。
【0144】
（７）積層体の外観（膜面荒れ）
実施例及び比較例で得られた積層体の表面の外観を目視にて検査し、膜面荒れの有無について以下の基準で評価した。Ａ又はＢであれば、外観特性は高いと評価できる。
Ａ：膜面荒れが皆無に近かった。
Ｂ：膜面荒れが存在するが、少なかった。
Ｃ：膜面荒れが著しかった。
実施例及び比較例で得られた積層体の表面の外観を目視にて検査し、膜面荒れの有無について以下の基準で評価した。Ａ又はＢであれば、外観特性は高いと評価できる。
Ａ：膜面荒れが皆無に近かった。
Ｂ：膜面荒れが存在するが、少なかった。
Ｃ：膜面荒れが著しかった。
【0145】
（８）Ｄ層との接着性
実施例及び比較例で得られた積層体の一方の面に、一部に紙を挟んで、平均厚さ４００μｍの天然ゴム「ＴＳＲ－２０」をＤ層として重ね合わせた。この状態で１６０℃、１５分間加熱することで架橋（加硫）反応を行い、多層構造体を得た。得られた多層構造体について、紙を取り除き、積層体とＤ層との界面が一部剥離した多層構造体を得た。かかる、多層構造体について、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で７日間調湿したのち、１０ｍｍ幅の短冊状の切片をＭＤ方向（成形時フィルムの引取方向）に作製して測定試料とした。この測定試料を用い、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所社のオートグラフ「ＡＧＳ－Ｈ型」を用いて、引張速度２５０ｍｍ／分にて、積層体とＤ層との間のＴ型剥離強度を測定した。測定値を以下の基準Ａ～Ｄで評価した。Ａ～Ｃであれば接着性が高いと評価できる。
Ａ：１０Ｎ／１０ｍｍ以上
Ｂ：５Ｎ／１０ｍｍ以上１０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：２．５Ｎ／１０ｍｍ以上５Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｄ：２．５Ｎ／１０ｍｍ未満
実施例及び比較例で得られた積層体の一方の面に、一部に紙を挟んで、平均厚さ４００μｍの天然ゴム「ＴＳＲ－２０」をＤ層として重ね合わせた。この状態で１６０℃、１５分間加熱することで架橋（加硫）反応を行い、多層構造体を得た。得られた多層構造体について、紙を取り除き、積層体とＤ層との界面が一部剥離した多層構造体を得た。かかる、多層構造体について、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で７日間調湿したのち、１０ｍｍ幅の短冊状の切片をＭＤ方向（成形時フィルムの引取方向）に作製して測定試料とした。この測定試料を用い、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、島津製作所社のオートグラフ「ＡＧＳ－Ｈ型」を用いて、引張速度２５０ｍｍ／分にて、積層体とＤ層との間のＴ型剥離強度を測定した。測定値を以下の基準Ａ～Ｄで評価した。Ａ～Ｃであれば接着性が高いと評価できる。
Ａ：１０Ｎ／１０ｍｍ以上
Ｂ：５Ｎ／１０ｍｍ以上１０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：２．５Ｎ／１０ｍｍ以上５Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｄ：２．５Ｎ／１０ｍｍ未満
【0146】
（９）多層構造体の外観（デラミネーション）
前記（８）で得られた多層構造体を目視にて観察し、デラミネーションの有無の評価を行った。なお、発明者らの知見によれば、Ａ層とＢ層との層間接着性、ストリークの有無、Ｄ層との層間接着性等がデラミネーションの発生に影響を与える。
Ａ：デラミネーションが皆無に近かった。
Ｂ：デラミネーションがわずかに存在するが少なかった。
Ｃ：デラミネーションが著しかった。
前記（８）で得られた多層構造体を目視にて観察し、デラミネーションの有無の評価を行った。なお、発明者らの知見によれば、Ａ層とＢ層との層間接着性、ストリークの有無、Ｄ層との層間接着性等がデラミネーションの発生に影響を与える。
Ａ：デラミネーションが皆無に近かった。
Ｂ：デラミネーションがわずかに存在するが少なかった。
Ｃ：デラミネーションが著しかった。
【0147】
（１０）端部での剥離数
実施例及び比較例で得られた積層体について、幅３０ｃｍに切出し、積層体の一方の面にＤ層（平均厚さ４００μｍの天然ゴム「ＴＳＲ－２０」）を重ね合わせた。これを環状にし、端部が重なるようにした状態で１６０℃、１５分間の加熱をすることで架橋（加硫）反応を行い、環状の多層構造体である測定サンプルを作製した。かかる測定サンプルを１０枚作製し、目視にて、端部において１ｍｍ以上の剥離が発生している箇所をカウントし、剥離数とした。なお、この剥離数が５個以下であれば、優れた端部接着性を有すると評価でき、２個以下であれば特に優れた端部接着性を有すると評価できる。
実施例及び比較例で得られた積層体について、幅３０ｃｍに切出し、積層体の一方の面にＤ層（平均厚さ４００μｍの天然ゴム「ＴＳＲ－２０」）を重ね合わせた。これを環状にし、端部が重なるようにした状態で１６０℃、１５分間の加熱をすることで架橋（加硫）反応を行い、環状の多層構造体である測定サンプルを作製した。かかる測定サンプルを１０枚作製し、目視にて、端部において１ｍｍ以上の剥離が発生している箇所をカウントし、剥離数とした。なお、この剥離数が５個以下であれば、優れた端部接着性を有すると評価でき、２個以下であれば特に優れた端部接着性を有すると評価できる。
【0148】
（１１）積層体の膜厚測定（平均厚さ）
実施例及び比較例で得られた積層体について、ミクロトームを用い、ＴＤ方向（幅方向）に切出した。切出された積層体の断面について、株式会社キーエンス製の「ＤＩＧＩＴＡＬ ＭＩＣＲＯＳＣＯＰＥ ＶＫ－Ｘ２００」を用いて、断面観察を行い、任意に選択される１０点の膜厚の平均を平均厚さとした。
実施例及び比較例で得られた積層体について、ミクロトームを用い、ＴＤ方向（幅方向）に切出した。切出された積層体の断面について、株式会社キーエンス製の「ＤＩＧＩＴＡＬ ＭＩＣＲＯＳＣＯＰＥ ＶＫ－Ｘ２００」を用いて、断面観察を行い、任意に選択される１０点の膜厚の平均を平均厚さとした。
【0149】
［実施例１］
Ａ層用の押出機には、ガスバリア性樹脂（ａ）であるＥＶＯＨ１「エバール（登録商標）Ｆ１０１Ｂ」をＡ層形成材料として供給した。Ｂ層用の押出機にはエラストマー（ｂ）であるＭＡ－ＳＥＢＳ１「タフテック（登録商標）Ｍ１９４３」とエラストマー（ｂ’）であるＳＢＳ１「ＪＳＲ ＴＲ２８２７」を質量比３０／７０で事前にドライブレンドしたものをＢ層形成材料として供給した。Ｃ層用の押出機には、接着性樹脂（ｃ）であるＳＢＳ２「タフプレン（登録商標）Ａ」をＣ層形成材料として供給した。これにより、３種２１層の積層体を製造した。製造に使用した共押出機は２１層フィードブロックを有し、かかる共押出機に１９０℃の溶融状態として各層の形成材料を供給し、共押出を行うことによって、３種２１層構造の積層体を得た。なお、９層のＡ層と、１０層のＢ層とが交互に積層され、かつＢ層のうちの最外のＢ２層の外面にＣ層が積層されるように共押出を行った。すなわち、得られた積層体の層構造は、Ｃ／Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃであった。Ｂ層形成材料について、前記評価方法（１）及び（２）に従い、ヨウ素価及び極性基量を測定した。結果を表１に示す。また、Ｂ層形成材料及びＣ層形成材料について、ＪＩＳ Ｋ ７２４４－４：１９９９（プラスチック－動的機械特性の試験方法 第４部：引張振動－共振法）に準拠して、下記条件にて、－３０℃及び４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’を測定した。結果を表１に示す。
＜引張貯蔵弾性率Ｅ’測定条件＞
測定機器 ：株式会社ユービーエム製「Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４０００」
昇温速度 ：３℃／ｍｉｎ
基本周波数 ：１１Ｈｚ
歪み波形 ：正弦波
測定開始温度：－１２０℃
測定治具 ：引張
また、得られた積層体について、前記評価方法（３）～（７）に従い、酸素透過速度、Ａ層とＢ層との層間接着性、屈曲後ピンホール数及び積層体の外観について評価した。結果を表１に示す。
Ａ層用の押出機には、ガスバリア性樹脂（ａ）であるＥＶＯＨ１「エバール（登録商標）Ｆ１０１Ｂ」をＡ層形成材料として供給した。Ｂ層用の押出機にはエラストマー（ｂ）であるＭＡ－ＳＥＢＳ１「タフテック（登録商標）Ｍ１９４３」とエラストマー（ｂ’）であるＳＢＳ１「ＪＳＲ ＴＲ２８２７」を質量比３０／７０で事前にドライブレンドしたものをＢ層形成材料として供給した。Ｃ層用の押出機には、接着性樹脂（ｃ）であるＳＢＳ２「タフプレン（登録商標）Ａ」をＣ層形成材料として供給した。これにより、３種２１層の積層体を製造した。製造に使用した共押出機は２１層フィードブロックを有し、かかる共押出機に１９０℃の溶融状態として各層の形成材料を供給し、共押出を行うことによって、３種２１層構造の積層体を得た。なお、９層のＡ層と、１０層のＢ層とが交互に積層され、かつＢ層のうちの最外のＢ２層の外面にＣ層が積層されるように共押出を行った。すなわち、得られた積層体の層構造は、Ｃ／Ｂ２／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ａ／Ｂ２／Ｃであった。Ｂ層形成材料について、前記評価方法（１）及び（２）に従い、ヨウ素価及び極性基量を測定した。結果を表１に示す。また、Ｂ層形成材料及びＣ層形成材料について、ＪＩＳ Ｋ ７２４４－４：１９９９（プラスチック－動的機械特性の試験方法 第４部：引張振動－共振法）に準拠して、下記条件にて、－３０℃及び４０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’を測定した。結果を表１に示す。
＜引張貯蔵弾性率Ｅ’測定条件＞
測定機器 ：株式会社ユービーエム製「Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４０００」
昇温速度 ：３℃／ｍｉｎ
基本周波数 ：１１Ｈｚ
歪み波形 ：正弦波
測定開始温度：－１２０℃
測定治具 ：引張
また、得られた積層体について、前記評価方法（３）～（７）に従い、酸素透過速度、Ａ層とＢ層との層間接着性、屈曲後ピンホール数及び積層体の外観について評価した。結果を表１に示す。
【0150】
得られた積層体に対し、日新ハイボルテージ社の電子線照射装置「生産用キュアトロンＥＢＣ２００－１００」を使用して、加速電圧２００ｋＶ、照射エネルギー１５０ｋＧｙの条件で電子線照射を行った。得られた電子線照射後の積層体に対し、前記評価方法（８）～（１１）に従って、Ｄ層との接着性、外観、端部での剥離数及び積層体の膜厚測定を行った。評価結果を表１に示す。
【0151】
［実施例２～２２、比較例１～７］
各層を形成する樹脂の種類、樹脂の量、各層の積層数及び各層の１層の平均厚さを表１～４に記載の通り変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２～２２及び比較例１～７の各積層体を製造し評価した。結果を表１～４に示す。
各層を形成する樹脂の種類、樹脂の量、各層の積層数及び各層の１層の平均厚さを表１～４に記載の通り変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２～２２及び比較例１～７の各積層体を製造し評価した。結果を表１～４に示す。
【0152】
【表1】
【0153】
【表2】
【0154】
【表3】
【0155】
【表4】
【0156】
表１～３に示されるように、実施例１～２２の各積層体は、酸素透過速度が３００ｍＬ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり十分なガスバリア性を有し、屈曲後ピンホール数が５個以下であり十分な耐屈曲性を有していた。さらに、実施例１～２２の各積層体から得られた多層構造体は、端部での剥離数が５個以下であり、優れた端部接着性を有していた。これに対し、表４に示されるように、比較例１～７は、少なくとも耐屈曲性（屈曲後ピンホール数）及び端部接着性（端部での剥離数）の一方が不十分であった。
【0157】
実施例間で比較すると、表１の実施例１～７に示されるように、極性基の含有量及びヨウ素価を調整することで、層間接着性、外観及び端部接着性等をより改善できることがわかる。表２の実施例８～１０等から、所定範囲のヨウ素価及び引張貯蔵弾性率を有するＣ層を設けることで外観が良好になることがわかる。表２の実施例１２～１４等から、Ｂ２層の厚さを比較的大きくすることで、耐屈曲性が高まることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【0158】
本発明の積層体は、ガスバリア性、耐屈曲性等が要求されるゴム膜の材料などとして、例えば、空気入りタイヤのインナーライナー、アキュムレーターの内袋、空気入りボール、空気ばね等の材料として好適に用いることができる。
【符号の説明】
【0159】
１ Ａ層（ガスバリア層）
２ Ｂ層（エラストマー層）
３ Ｃ層（被覆層）
４ Ｂ１層
５ Ｂ２層
６ Ｄ層（ジエン系ゴム層）
１０ 積層体
１１ 端面
１２ 外面
２０ 多層構造体
２１ 端部
２ Ｂ層（エラストマー層）
３ Ｃ層（被覆層）
４ Ｂ１層
５ Ｂ２層
６ Ｄ層（ジエン系ゴム層）
１０ 積層体
１１ 端面
１２ 外面
２０ 多層構造体
２１ 端部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】