特許 7505910 ウェットエッチング方法、及び、ウェットエッチング装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-06-17

(45)【発行日】2024-06-25

(54)【発明の名称】ウェットエッチング方法、及び、ウェットエッチング装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/306 20060101AFI20240618BHJP

【ＦＩ】

H01L21/306 R

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2020078903

(22)【出願日】2020-04-28

(65)【公開番号】P2021174914

(43)【公開日】2021-11-01

【審査請求日】2023-02-28

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】100142804

【弁理士】

【氏名又は名称】大上 寛

(72)【発明者】

【氏名】関家 一馬

(72)【発明者】

【氏名】小野 貴司

(72)【発明者】

【氏名】下房 大悟

【審査官】小▲高▼ 孔頌

(56)【参考文献】

【文献】特開２００１－０７０８６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－１５３６５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－３３０３２６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１５／０３４０２５０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２００８／０３１８４９５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開平１１－１６５２５５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ウェットエッチング方法であって、
エッチング液供給ノズルから被加工物の被エッチング面にエッチング液を供給するエッチング液供給ステップと、
該被エッチング面上に留まる該エッチング液で該被エッチング面をエッチングするエッチングステップと、
該エッチングステップを実施した後、該被エッチング面上の該エッチング液を被エッチング面上から除去するエッチング液除去ステップと、
を備え、
該エッチング液供給ステップと、該エッチングステップと、該エッチング液除去ステップと、をこの順で、少なくとも複数回繰り返すこととし、
該エッチング液供給ステップを実施した後、
該被加工物の該被エッチング面の面積以上の面積を有し、耐エッチング性を有する押圧面を備えた押圧部材により、
該被加工物の該被エッチング面に供給された該エッチング液を押圧する押圧ステップを更に備え、
該エッチング液供給ステップでは、該被エッチング面の外周縁からこぼれ落ちない量のエッチング液が供給され、
該エッチングステップでは、該押圧部材の該押圧面と該被加工物の該被エッチング面との間に留まるエッチング液であって、該エッチング液供給ステップにより供給されるエッチング液の量と等しい量のエッチング液により該被エッチング面をエッチングする、ウェットエッチング方法。

【請求項2】

該押圧面には、放射状に伸びる複数本の溝、又は、突起部を設ける、
ことを特徴とする請求項１に記載のウェットエッチング方法。

【請求項3】

請求項１又は請求項２に記載のウェットエッチング方法を実施するウェットエッチング装置であって、
被加工物の被エッチング面を露出させた状態で該被加工物を保持する保持機構と、
該保持機構で保持された該被加工物の該被エッチング面にエッチング液を供給するエッチング液供給機構と、
該被加工物の該被エッチング面上からエッチング液を除去するエッチング液除去機構と、
少なくとも該エッチング液供給機構と該エッチング液除去機構とを制御するコントローラと、を備え、
該コントローラは、
該保持機構で保持された該被加工物に該エッチング液供給機構からエッチング液を供給した後、該被エッチング面上に留まる該エッチング液で該被エッチング面をエッチングし、
次いで該エッチング液除去機構で該被エッチング面上の該エッチング液を該被エッチング面上から除去し、
該エッチング液の供給と該被エッチング面のエッチングと、該エッチング液の該被エッチング面上からの除去と、をこの順で、少なくとも複数回繰り返すように該エッチング液供給機構と該エッチング液除去機構とを制御する、
ことを特徴とするウェットエッチング装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体デバイスの製造工程におけるウェットエッチング方法、ウェットエッチング装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスの製造工程では、回路形成や洗浄のためにウェーハに対してウェットエッチングが施される。例えば、特許文献１では、エッチング液にウェーハを浸漬させるウェットエッチングが開示され、特許文献２では、スピンナテーブルで保持されたウェーハにノズルからエッチング液供給してエッチングを行う所謂スピンエッチングが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１７－１６８６３３号公報

【文献】特開２０１５－１５３９８９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に開示されるような浸漬エッチングでは、エッチング液の交換が行われないため、エッチング槽中で撹拌してもエッチング時間が長くかかる。このため、エッチングの時間短縮が切望されている。

【0005】

一方、特許文献２に開示されるようなスピンエッチングでは、供給したエッチング液の殆どがエッチングには寄与せずに排出されてしまう。このため、エッチング液の使用量の削減が切望されている。

【0006】

本発明は以上の課題に鑑み、エッチングの時間短縮とエッチング液の使用量の削減を可能とする新規なウェットエッチング方法、ウェットエッチング装置を提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。

【0008】

本発明の一態様によれば、
ウェットエッチング方法であって、
エッチング液供給ノズルから被加工物の被エッチング面にエッチング液を供給するエッチング液供給ステップと、
該被エッチング面上に留まる該エッチング液で該被エッチング面をエッチングするエッチングステップと、
該エッチングステップを実施した後、該被エッチング面上の該エッチング液を被エッチング面上から除去するエッチング液除去ステップと、
を備え、
該エッチング液供給ステップと、該エッチングステップと、該エッチング液除去ステップと、をこの順で、少なくとも複数回繰り返す、ウェットエッチング方法とする。

【0009】

また、本発明の一態様によれば、
該エッチング液供給ステップを実施した後、
該被加工物の該被エッチング面の面積以上の面積を有し、耐エッチング性を有する押圧面を備えた押圧部材により、
該被加工物の該被エッチング面に供給された該エッチング液を押圧する押圧ステップを更に備え、
該エッチングステップでは、該押圧部材の該押圧面と該被加工物の該被エッチング面との間に留まるエッチング液で該被エッチング面をエッチングする、こととする。

【0010】

また、本発明の一態様によれば、
被加工物の被エッチング面を露出させた状態で該被加工物を保持する保持機構と、
該保持機構で保持された該被加工物の該被エッチング面にエッチング液を供給するエッチング液供給機構と、
該被加工物の該被エッチング面上からエッチング液を除去するエッチング液除去機構と、
少なくとも該エッチング液供給機構と該エッチング液除去機構とを制御するコントローラと、を備え、
該コントローラは、
該保持機構で保持された該被加工物に該エッチング液供給機構からエッチング液を供給した後、該被エッチング面上に留まる該エッチング液で該被エッチング面をエッチングし、次いで該エッチング液除去機構で該被エッチング面上の該エッチング液を該被エッチング面上から除去し、
該エッチング液の供給と該被エッチング面のエッチングと、該エッチング液の該被エッチング面上からの除去と、をこの順で、少なくとも複数回繰り返すように該エッチング液供給機構と該エッチング液除去機構とを制御する、
ウェットエッチング装置とする。

【発明の効果】

【0011】

本発明の一態様によれば、被エッチング面上に留まるエッチング液でエッチングを行うことができ、従来のウェットエッチングと比較してエッチング液の使用量を削減できる。また、被加工物と反応済みのエッチング液は被エッチング面上から除去された後、未使用の新たなエッチング液によるエッチングが行われるため、高いエッチングレート（エッチング速度（単位時間当たりにエッチングされる体積））を確保することができ、エッチング時間の短縮が可能となる。

【0012】

また、本発明の一態様によれば、例えば、被加工物が大径であって、被エッチング面の面積が大きい場合においても、短時間で全面にエッチング液を供給することができ、エッチング時間を短縮することができる。

【0013】

また、本発明の一態様によれば、コントローラによる自動制御によって複数回のエッチングを繰り返すことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】ウェットエッチング装置の第一の構成例について説明する図である。

【図2】エッチング液供給ステップについて説明する図である。

【図3】エッチングステップについて説明する図である。

【図4】エッチング液除去ステップについて説明する図である。

【図5】実施例１のウェットエッチング方法のフローチャートである。

【図6】局所的にエッチングを行う例について示す図である。

【図7】ウェットエッチング装置の第二の構成例について説明する図である。

【図8】エッチング液供給ステップについて説明する図である。

【図9】押圧部材の一構成例について説明する図である。

【図10】押圧ステップについて説明する図である。

【図11】エッチングステップについて説明する図である。

【図12】エッチング液除去ステップについて説明する図である。

【図13】実施例２のウェットエッチング方法のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【実施例1】

【0015】

図１に示されるウェットエッチング装置の第一の構成例について説明する。各部の構成は、例示であって特に限定されるものではなく、同等の装置構成を採用することは可能である。

【0016】

ウェットエッチング装置１０は、シリコンウェーハなどの被加工物２を保持する保持機構２０と、被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液を供給するエッチング液供給機構３０と、被エッチング面２ａ上からエッチング液を除去するエッチング液除去機構４０と、各種機構を制御するコントローラ５０と、を有して構成される。

【0017】

被加工物２は、例えばシリコンウェーハであり、エッチングによりパターニングされることや、洗浄されることが予定されるものである。被加工物２の被エッチング面２ａでは、例えばアルミニウムの薄膜がレジストでマスクされており、エッチング液によってアルミニウムが化学腐食される。

【0018】

保持機構２０は、被加工物２の下側面となる被保持面２ｂを保持する保持面２２ａを有する保持テーブル２２と、保持テーブル２２を支持する支持台２４と、を有して構成される。

【0019】

保持テーブル２２の上面は保持面２２ａとして構成され、被加工物２を負圧により吸引保持する構成とすることや、図示せぬクランプにより被加工物２を保持する構成とすることができ、特に具体的な構成に限定されるものではない。更に、被加工物２を保持できる構成であれば、テーブルの形態でなくてもよく、例えば、被加工物２の外周縁のみを保持する形態などであってもよい。

【0020】

支持台２４は、その上端部で保持テーブル２２を支持するものであり、図示せぬ回転機構により回転する構成とすることや、回転しない固定の構成とすることができ、特に具体的な構成に限定されるものではない。

【0021】

エッチング液供給機構３０は、被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液を供給するためのエッチング液供給ノズル３２と、エッチング液供給バルブ３４と、エッチング液供給バルブ３４を介してエッチング液供給ノズル３２に接続されるエッチング液供給源３６と、を有して構成される。

【0022】

エッチング液供給ノズル３２は、その位置が移動しない固定式とする他、図示せぬ移動機構によって移動する構成としてもよく、具体的な構成を限定するものではない。

【0023】

エッチング液供給バルブ３４はコントローラ５０と接続される。コントローラ５０はエッチング液供給バルブ３４の開閉制御をすることで、エッチング液供給ノズル３２からのエッチング液の供給の開始／停止を制御する。

【0024】

エッチング液は、例えば、エッチング対象がアルミニウムの場合には、リン酸、硝酸、酢酸、水からなる混合液が使用される。また、被加工物２であるシリコンウェーハの洗浄を目的としてエッチングがされる場合には、例えば硫酸、塩酸、アンモニアと過酸化水素水の混合液等がエッチング液として使用される。

【0025】

エッチング液除去機構４０は、被加工物２の被エッチング面２ａにあるエッチング液を吸引して除去するためのエッチング液吸引ノズル４２と、エッチング液吸引ノズル４２に吸引力を生じさせるためのポンプ４４と、エッチング液吸引ノズル４２から吸引したエッチング液を回収する回収槽４６と、を有して構成される。

【0026】

ポンプ４４はコントローラ５０と接続される。コントローラ５０はポンプ４４の駆動制御をすることで、エッチング液吸引ノズル４２によるエッチング液の供給の開始／停止を制御する。

【0027】

エッチング液吸引ノズル４２は、その位置が移動しない固定式とする他、図示せぬ移動機構によって移動する構成としてもよく、具体的な構成を限定するものではない。

【0028】

以上の装置構成によりエッチングを行う例について説明する。以下の各ステップは図５に示すフローチャートに示す順で実行される。

【0029】

＜エッチング液供給ステップＳ１＞
図２に示すように、エッチング液供給ノズル３２から被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液４を供給する。具体的には、コントローラ５０がエッチング液供給バルブ３４を開いた後、所定時間経過後に閉じることで、エッチング液供給ノズル３２から所定の供給量のエッチング液４が被加工物２の被エッチング面２ａに供給される。

【0030】

エッチング液の供給量は、被エッチング面２ａの外周縁からエッチング液４がこぼれ落ちない量に設定されることが好ましく、これにより、エッチング液４の無駄な使用を避けることができる。

【0031】

＜エッチングステップＳ２＞
図３に示すように、被エッチング面２ａ上に表面張力で留まるエッチング液４で被エッチング面２ａをエッチングする。このエッチングステップは所定時間行われる。具体的には、コントローラ５０が、エッチング液供給バルブ３４を閉じたタイミングをエッチング開始時間とし、そこから時間をカウントし、所定時間経過後にエッチング液除去ステップに移行する。

【0032】

＜エッチング液除去ステップＳ３＞
図４に示すように、被エッチング面２ａ上のエッチング液４を被エッチング面２ａ上から除去する。具体的には、コントローラ５０がポンプ４４を所定時間駆動することで、エッチング液吸引ノズル４２にてエッチング液４を吸引し、回収槽４６へと送り流す。

【0033】

図５に示すように、以上に述べたエッチング液供給ステップＳ１，エッチングステップＳ２、エッチング液除去ステップＳ３が、順に実施される。また、このステップＳ１～Ｓ３を所定の回数繰り返される。なお、エッチング液や被加工物側の被エッチング材の種類によっては、１回のみ行われることとしてもよく、特に限定されるものではない。

【0034】

ステップＳ１～Ｓ３が繰り返される際には、各エッチングステップＳ２にでは未使用のエッチング液によるエッチングが行われるため、高いエッチングレート（エッチング速度（単位時間当たりにエッチングされる体積））を実現することができる。

【0035】

また、エッチング液除去ステップＳ３により被エッチング面２ａに存在する使用済のエッチング液が除去されるため、エッチングステップＳ２においては、未使用のエッチング液のみによるエッチングが行われるため、高いエッチングレートを実現することができる。

【0036】

なお、以上の構成のようにエッチング液吸引ノズル４２にてエッチング液４を吸引するほか、例えば、保持テーブル２２をモーターで高速回転させるスピンナテーブルの構成とすることで、遠心力によりエッチング液４を被エッチング面２ａから飛ばすようにして除去することとしてもよい（スピン除去）。この場合、保持テーブル２２の周囲を覆う壁を設けるとともに、飛ばされたエッチング液４を回収することが好ましい。

【0037】

この場合、保持機構２０にてエッチング液除去機構４０の機能を兼ね備えることができ、エッチング液吸引ノズル４２、ポンプ４４、回収槽４６を省略することができる。保持テーブル２２が高速回転する際にはエッチング液が飛散するため、保持テーブル２２の周囲を取り囲む壁等が設置される。なお、エッチング液吸引ノズル４２による吸引と、保持テーブル２２の回転が両方行われる構成としてもよい。

【0038】

さらに、図３に示すように、エッチングは被加工物２の上側の全面に供給されて全面がエッチングされることとする他、図６に示すように、被加工物２においてエッチングが必要となる特定の箇所にのみエッチング液４が供給されることとし、局所的にエッチングが行われることとしてもよい。

【実施例2】

【0039】

図７及び図８に示されるウェットエッチング装置の第二の構成例について説明する。各部の構成は、例示であって特に限定されるものではなく、同等の装置構成を採用することは可能である。

【0040】

図７及び図８に示すように、ウェットエッチング装置１１０は、シリコンウェーハなどの被加工物２を保持する保持機構１２０と、被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液を供給するエッチング液供給機構１３０と、被エッチング面２ａ上からエッチング液を除去するエッチング液除去機構１４０と、各種機構を制御するコントローラ１５０と、を有して構成される。

【0041】

保持機構１２０は、被加工物２の下側面となる被保持面２ｂを保持する保持面１２２ａを有する保持テーブル１２２と、保持テーブル１２２を支持する支持台１２４と、を有して構成されるものであり、第一の構成例と同様の構成である。

【0042】

エッチング液供給機構１３０は、被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液を供給するためのエッチング液供給ノズル１３２を備える押圧部材１３１と、エッチング液供給バルブ１３４と、エッチング液供給バルブ１３４を介してエッチング液供給ノズル１３２に接続されるエッチング液供給源１３６と、を有して構成される。

【0043】

押圧部材１３１は板状部材にて構成され、保持テーブル１２２の保持面１２２ａに対向する押圧面１３１ａを有し、電動アクチュエーター等からなる昇降機構１３３によって昇降移動する。

【0044】

押圧部材１３１の中央部には、保持テーブル１２２の保持面１２２ａ側に向けてエッチング液供給ノズル１３２が設けられ、被加工物２の被エッチング面２ａに対しエッチング液４が供給される。エッチング液供給ノズル１３２の具体的な形態については特に限定されるものではなく、例えば、押圧部材１３１の押圧面１３１ａに開口する孔にて構成することができる。

【0045】

コントローラ１５０によりエッチング液供給バルブ１３４の開閉が制御され、所定の供給量のエッチング液４が被加工物２の被エッチング面２ａ上に供給される。

【0046】

押圧部材１３１の押圧面１３１ａの面積は、被エッチング面２ａの面積以上に構成され、被エッチング面２ａ上に供給されたエッチング液４を押し伸ばし、被エッチング面２ａの全体にエッチング液４を行き渡らせるように構成される。エッチング液４の供給量は、被エッチング面２ａの全体にエッチング液４が行き渡る量に設定される。このように押圧面１３１ａによって押し伸ばす構成とすることで、大径の被加工物２においても短時間で全面にエッチング液４を供給することができる。

【0047】

ここで、図９に示すように、押圧部材１３１の押圧面１３１ａには、エッチング液供給バルブ１３４の位置から放射状に伸びる複数本の溝１３１ｂが形成されることとしてもよい。これによれば、溝１３１ｂを通じてエッチング液４を流動させ、図１０及び図１１に示すように、被エッチング面２ａの全面により短時間でエッチング液４を行き渡らせることができる。この構成は、特に、大径の被加工物２に好適な態様となる。なお、図９には、エッチング液供給ノズル１３２とエッチング液吸引ノズル１４２が示される。

【0048】

また、図８に示す構成において、押圧部材１３１は回転可能に構成されることとしてもよい。これにより、エッチング液４を周方向に回転させながら拡げることができる。また、図９に示すように、押圧部材１３１の押圧面１３１ａに突起部１３１ｃを設けることで、エッチング液４を撹拌することができ、エッチングレート（エッチング速度（単位時間当たりにエッチングされる体積））を向上させることができる。

【0049】

図７及び図８に示すようにエッチング液除去機構１４０は、被加工物２の被エッチング面２ａにあるエッチング液を吸引して除去するためのエッチング液吸引ノズル１４２と、エッチング液吸引ノズル１４２に吸引力を生じさせるためのポンプ１４４と、エッチング液吸引ノズル１４２から吸引したエッチング液を回収する回収槽１４６と、を有して構成される。

【0050】

エッチング液吸引ノズル１４２は、押圧部材１３１の中央部から離れた位置において、保持テーブル１２２の保持面１２２ａ側に向けて設けられる。エッチング液吸引ノズル１４２は、一箇所に設けられることとする他、複数箇所に設けられることとしてもよい。エッチング液吸引ノズル１４２の具体的な形態については特に限定されるものではなく、本実施形態のように、押圧部材１３１の押圧面１３１ａに開口する孔にて構成するほか、押圧部材１３１と別体で構成することもできる。

【0051】

コントローラ１５０によりポンプ１４４を駆動してエッチング液吸引ノズル１４２に吸引力を生じさせることで、エッチング液４が吸引されて回収槽１４６に回収される。

【0052】

以上の装置構成によりエッチングを行う例について説明する。以下の各ステップは図１３に示すフローチャートに示す順で実行される。

【0053】

＜エッチング液供給ステップＳ１１＞
図８に示すように、エッチング液供給ノズル１３２から被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液４を供給する。具体的には、コントローラ１５０がエッチング液供給バルブ１３４を開いた後、所定時間経過後に閉じることで、エッチング液供給ノズル１３２から所定の供給量のエッチング液４が被加工物２の被エッチング面２ａに供給される。

【0054】

エッチング液の供給量は、被エッチング面２ａの外周縁からエッチング液４がこぼれ落ちない程度の量に設定されることが好ましく、これにより、エッチング液４の無駄な使用を避けることができる。

【0055】

＜押圧ステップＳ１２＞
図１０に示すように押圧部材１３１にて被加工物２の被エッチング面２ａにあるエッチング液４を押し伸ばす。具体的には、コントローラ１５０が昇降機構１３３を駆動して、押圧部材１３１の押圧面１３１ａを保持テーブル１２２側に近づけることで、押圧面１３１ａと被エッチング面２ａの間の隙間をエッチング液４で満たすようにし、被エッチング面２ａの全面にエッチング液４を行き渡らせる。

【0056】

＜エッチングステップＳ１３＞
図１１に示すように、被エッチング面２ａ上に行き渡らせたエッチング液４で被エッチング面２ａをエッチングする。このエッチングステップは所定時間行われる。具体的には、コントローラ１５０が、押圧ステップを終了したタイミングをエッチング開始時間とし、そこから時間をカウントし、所定時間経過後にエッチング液除去ステップに移行する。

【0057】

このエッチングステップにおいて、押圧部材１３１を回転させることとしてもよい。また、このエッチングステップＳ１３は、押圧ステップＳ１２と同時に行われることとしてもよい。

【0058】

＜エッチング液除去ステップＳ１４＞
図１２に示すように、被エッチング面２ａ上のエッチング液４を被エッチング面２ａ上から除去する。具体的には、コントローラ１５０がポンプ１４４を所定時間駆動することで、エッチング液吸引ノズル１４２にてエッチング液４を吸引し、回収槽１４６へと送り流す。

【0059】

エッチング液４の吸引を終了すると、コントローラ１５０は昇降機構１３３を駆動して、押圧部材１３１の押圧面１３１ａを保持テーブル１２２から遠ざける。

【0060】

図１３に示すように、以上に述べたエッチング液供給ステップＳ１１，押圧ステップＳ１２、エッチングステップＳ１３、エッチング液除去ステップＳ１４、が、順に実施される。また、このステップＳ１１～Ｓ１４を所定の回数繰り返される。なお、エッチング液や被加工物側の被エッチング材の種類によっては、１回のみ行われることとしてもよく、特に限定されるものではない。

【0061】

なお、以上の構成のように、エッチング液吸引ノズル１４２にてエッチング液４を吸引するほか、例えば、保持テーブル１２２をモーターで高速回転させるスピンナテーブルの構成とすることで、遠心力によりエッチング液４を被エッチング面２ａから飛ばすようにして除去することとしてもよい（スピン除去）。この場合、保持テーブル１２２の周囲を覆う壁を設けるとともに、飛ばされたエッチング液４を回収することが好ましい。

【0062】

この場合、保持機構１２０にてエッチング液除去機構１４０の機能を兼ね備えることができ、エッチング液吸引ノズル１４２、ポンプ１４４、回収槽１４６を省略することができる。保持テーブル１２２が高速回転する際にはエッチング液が飛散するため、保持テーブル１２２の周囲を取り囲む壁等が設置される。なお、エッチング液吸引ノズル１４２による吸引と、保持テーブル１２２の回転が両方行われる構成としてもよい。

【0063】

以上のようにして本発明を実現することができる。
即ち、図１乃至５に示すように、
ウェットエッチング方法であって、
エッチング液供給ノズル３２から被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液４を供給するエッチング液供給ステップＳ１と、
被エッチング面２ａ上に留まるエッチング液４で被エッチング面２ａをエッチングするエッチングステップＳ２と、
エッチングステップＳ２を実施した後、被エッチング面２ａ上のエッチング液４を被エッチング面２ａ上から除去するエッチング液除去ステップＳ３と、
を備え、
エッチング液供給ステップＳ１と、エッチングステップＳ２と、エッチング液除去ステップＳ３と、をこの順で、少なくとも複数回繰り返す、ウェットエッチング方法とするものである。

【0064】

これにより、被エッチング面上に留まるエッチング液でエッチングを行うことができ、従来のウェットエッチングと比較してエッチング液の使用量を削減できる。また、被加工物と反応済みのエッチング液は被エッチング面上から除去された後、未使用の新たなエッチング液によるエッチングが行われるため、高いエッチングレート（エッチング速度（単位時間当たりにエッチングされる体積））を確保することができ、エッチング時間の短縮が可能となる。

【0065】

また、図８～図１１に示すように、
エッチング液供給ステップＳ１を実施した後、
被加工物２の被エッチング面２ａの面積以上の面積を有し、耐エッチング性を有する押圧面１３１ａを備えた押圧部材１３１により、
被加工物２の被エッチング面２ａに供給されたエッチング液４を押圧する押圧ステップＳ１２を更に備え、
エッチングステップＳ１３では、押圧部材１３１の押圧面１３１ａと被加工物２の被エッチング面２ａとの間に留まるエッチング液４で被エッチング面２ａをエッチングする、
こととするものである。

【0066】

これによれば、例えば、被加工物が大径であって、被エッチング面の面積が大きい場合においても、短時間で全面にエッチング液４を供給することができ、エッチング時間を短縮することができる。

【0067】

また、図１乃至図４に示すように、
ウェットエッチング方法を実施するウェットエッチング装置１０であって、
被加工物２の被エッチング面２ａを露出させた状態で被加工物２を保持する保持機構２０と、
保持機構２０で保持された被加工物２の被エッチング面２ａにエッチング液４を供給するエッチング液供給機構３０と、
被加工物２の被エッチング面２ａ上から被加工物２エッチング液４を除去するエッチング液除去機構４０と、
少なくともエッチング液供給機構３０とエッチング液除去機構４０とを制御するコントローラ５０と、を備え、
コントローラ５０は、
保持機構２０で保持された被加工物２にエッチング液供給機構３０からエッチング液４を供給した後、被エッチング面２ａ上に留まるエッチング液４で被エッチング面２ａをエッチングし、次いでエッチング液除去機構４０で被エッチング面２ａ上のエッチング液４を被エッチング面２ａ上から除去し、
エッチング液４の供給と被エッチング面２ａのエッチングと、エッチング液４の被エッチング面２ａ上からの除去と、をこの順で、少なくとも複数回繰り返すようにエッチング液供給機構３０とエッチング液除去機構４０とを制御する、
ウェットエッチング装置１０とするものである。

【0068】

この構成によれば、コントローラによる自動制御によって複数回のエッチングを繰り返すことが可能となる。

【符号の説明】

【0069】

２ 被加工物
２ａ 被エッチング面
４ エッチング液
１０ ウェットエッチング装置
２０ 保持機構
２２ 保持テーブル
２２ａ 保持面
２４ 支持台
３０ エッチング液供給機構
３２ エッチング液供給ノズル
３４ エッチング液供給バルブ
３６ エッチング液供給源
４０ エッチング液除去機構
４２ エッチング液吸引ノズル
４４ ポンプ
４６ 回収槽
５０ コントローラ
１１０ ウェットエッチング装置
１２０ 保持機構
１２２ 保持テーブル
１２２ａ 保持面
１２４ 支持台
１３０ エッチング液供給機構
１３１ 押圧部材
１３１ａ 押圧面
１３１ｂ 溝
１３１ｃ 突起部
１３２ エッチング液供給ノズル
１３３ 昇降機構
１３４ エッチング液供給バルブ
１３６ エッチング液供給源
１４０ エッチング液除去機構
１４２ エッチング液吸引ノズル
１４４ ポンプ
１４６ 回収槽
１５０ コントローラ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】