特許 7526490 脱泡・脱気装置、脱泡・脱気方法、及び塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-24

(45)【発行日】2024-08-01

(54)【発明の名称】脱泡・脱気装置、脱泡・脱気方法、及び塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 19/00 20060101AFI20240725BHJP

【ＦＩ】

B01D19/00 101

【請求項の数】 17

(21)【出願番号】P 2021092993

(22)【出願日】2021-06-02

(65)【公開番号】P2022185361

(43)【公開日】2022-12-14

【審査請求日】2023-09-11

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】316011226

【氏名又は名称】ＡＩメカテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107836

【弁理士】

【氏名又は名称】西 和哉

(72)【発明者】

【氏名】近藤 士朗

【審査官】塩谷 領大

(56)【参考文献】

【文献】実開昭５７－０３９７３５（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２００６－３４６６３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－０２４７１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－３２８３１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５２－１００６６７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０１Ｄ １９／００－１９／０４

Ｂ０５Ｃ １１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理対象の液体が供給され、内部を減圧雰囲気に設定される処理容器と、
前記処理容器の内壁に設けられ、前記液体が前記内壁を伝って流れ落ちるように前記液体を供給する液体投入部と、を備え、
前記液体投入部によって供給された液体は、前記減圧雰囲気に晒らされながら前記内壁を伝って流れ落ちることで脱泡及び脱気処理される、脱泡・脱気装置。

【請求項2】

前記液体投入部は、前記内壁との間で前記液体を下方に吐出させるスリットを形成させるスリット形成部材を備える、請求項１に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項3】

処理対象の液体が供給され、内部を減圧雰囲気に設定される処理容器と、
前記処理容器の内壁に設けられ、前記液体が前記内壁に沿って流れるように前記液体を供給する液体投入部と、を備え、
前記液体投入部は、
前記内壁との間で前記液体を吐出させるスリットを形成させるスリット形成部材と、
前記内壁に沿って設けられ、前記処理容器内に供給された前記液体を一時的に滞留させる滞留空間と、を備え、
前記スリットは、前記滞留空間内の液体を吐出させ、
前記スリットの幅は、前記滞留空間の幅よりも狭い、脱泡・脱気装置。

【請求項4】

前記スリット形成部材は、前記処理容器の内壁全周にわたって前記スリットを形成させる、請求項２に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項5】

前記液体投入部は、
前記内壁に沿って設けられ、前記処理容器内に供給された前記液体を一時的に滞留させる滞留空間を備え、
前記スリットは、前記滞留空間内の液体を吐出させ、
前記スリットの幅は、前記滞留空間の幅よりも狭い、
請求項２又は請求項４に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項6】

前記スリット形成部材は、前記スリットに続く部分を下方に向けて傾斜させた傾斜部を備える、請求項２から請求項５のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項7】

前記処理容器は、前記内壁と前記スリット形成部材との間に前記液体を供給する複数の供給口を備える、請求項２から請求項６のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項8】

前記処理容器は、前記スリットより下方の前記内壁が下方に向けて波状に形成される、請求項２から請求項７のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項9】

前記処理容器は、前記スリットより下方の前記内壁が内側に向けて傾斜するように設けられる、請求項２から請求項８のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項10】

複数の前記処理容器が直列又は並列に接続される、請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項11】

前記処理容器から排出された前記液体を通過させるフィルタを備える、請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項12】

前記処理容器から排出された前記液体を前記液体投入部に送る循環部を備える、請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項13】

前記循環部は、前記処理容器から排出された前記液体を前記液体投入部に送る管路と、前記液体を取り出す管路とを切り替える切り替え部を備える、請求項１２に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項14】

前記液体は、粘度が１，０００ｃｐから１０，０００ｃｐである、請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置。

【請求項15】

処理容器の内部を減圧雰囲気に設定する工程と、
前記処理容器の内壁から、前記内壁を伝って流れ落ちるように処理対象の液体を供給する工程と、を含み、
前記内壁を伝って流れ落ちるように処理対象の液体を供給する工程は、前記減圧雰囲気に晒らされながら前記内壁を伝って流れ落ちることで脱泡及び脱気処理されることを含む、脱泡・脱気方法。

【請求項16】

処理容器内に供給された処理対象の液体の脱泡・脱気方法であって、
前記処理容器は、前記処理対象の液体を一時的に滞留させる滞留空間と、前記処理容器の内壁との間で前記液体を吐出させるスリットと、を備え、
前記スリットの幅は、前記滞留空間の幅よりも狭く設定されており、
前記処理容器の内部を減圧雰囲気に設定する工程と、
前記滞留空間内に一時的に滞留させた前記液体を前記スリットから前記内壁を伝って流れるように前記液体を供給する工程と、を含む、脱泡・脱気方法。

【請求項17】

基板に塗布液を塗布するノズルと、
前記ノズルに供給する前記塗布液に対して脱泡・脱気処理を行う、請求項１から請求項１４のいずれか一項に記載の脱泡・脱気装置と、を備える、塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、脱泡・脱気装置、脱泡・脱気方法、及び塗布装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体又はガラスなどの基板に薄膜を形成するため、基板上に塗布液をノズルから吐出して、基板上に塗布する塗布装置が用いられる。薄膜を形成する際に使用される塗布液（液体）には、高粘度の液体が使用される場合がある。高粘度の液体は気体が溶存しやすく、また液体中に気泡が含まれている場合が多い。このように液体中に気体又は気泡が多く残っていると塗布の際に場所によって塗布ムラが生じて、均一な薄膜を形成することができなくなる。従って、塗布する液体中から溶存する気体の脱気、及び液体中の気泡を除去（脱泡）することが必要となる。このような液体中から脱泡・脱気させる構成として、脱泡・脱気装置が知られている（例えば、特許文献１）。特許文献１の脱泡・脱気装置は、真空雰囲気とした処理容器内に回転体が設けられ、この回転体に液体を供給して回転体の回転による遠心力により液体を処理容器の内壁に飛ばして液体中から脱泡・脱気を行っている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００５－２０５３２２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、特許文献１の脱泡・脱気装置は、液体が供給される回転体を回転させる構成のため、処理容器内に回転体を回転可能に支持する軸受け等が存在し、回転体の回転に伴って生じた異物が液体中に混入するおそれがあることから好ましくない。さらに、処理容器の内壁に液体をぶつけるので、液体中に新たに気体が溶け込み、又は液中に気泡が新たに生じてしまうといった問題がある。また、この脱泡・脱気装置をメンテナンスのために洗浄等を行う場合、回転体の取り外し作業、軸受け部分の洗浄作業等が面倒であり、メンテナンスに手間がかかるといった問題がある。

【0005】

本発明は、効率よく液体中から脱泡・脱気することが可能であり、さらにメンテナンス等を容易に行うことが可能な脱泡・脱気装置、脱泡・脱気方法、及び塗布装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の態様に係る脱泡・脱気装置は、処理対象の液体が供給され、内部を減圧雰囲気に設定される処理容器と、処理容器の内壁に設けられ、液体が前記内壁を伝って流れ落ちるように液体を供給する液体投入部と、を備え、液体投入部によって供給された液体は、減圧雰囲気に晒らされながら内壁を伝って流れ落ちることで脱泡及び脱気処理される。また、本発明の態様に係る脱泡・脱気装置は、処理対象の液体が供給され、内部を減圧雰囲気に設定される処理容器と、処理容器の内壁に設けられ、液体が前記内壁に沿って流れるように液体を供給する液体投入部と、を備え、液体投入部は、内壁との間で前記液体を吐出させるスリットを形成させるスリット形成部材と、内壁に沿って設けられ、処理容器内に供給された前記液体を一時的に滞留させる滞留空間と、を備え、スリットは、滞留空間内の液体を吐出させ、スリットの幅は、滞留空間の幅よりも狭い。

【0007】

本発明の態様に係る脱泡・脱気方法は、処理容器の内部を減圧雰囲気に設定する工程と、処理容器の内壁から、内壁を伝って流れ落ちるように処理対象の液体を供給する工程と、を含み、内壁を伝って流れ落ちるように処理対象の液体を供給する工程は、減圧雰囲気に晒らされながら内壁を伝って流れ落ちることで脱泡及び脱気処理されることを含む。また、本発明の態様に係る脱泡・脱気方法は、処理容器内に供給された処理対象の液体の脱泡・脱気方法であって、処理容器は、処理対象の液体を一時的に滞留させる滞留空間と、処理容器の内壁との間で液体を吐出させるスリットと、を備え、スリットの幅は、滞留空間の幅よりも狭く設定されており、処理容器の内部を減圧雰囲気に設定する工程と、滞留空間内に一時的に滞留させた液体を前記スリットから内壁を伝って流れるように液体を供給する工程と、を含む。

【0008】

本発明の態様に係る塗布装置は、基板に塗布液を塗布するノズルと、ノズルに供給する塗布液に対して脱泡・脱気処理を行う、上記した態様の脱泡・脱気装置と、を備える。

【発明の効果】

【0009】

上記した態様の脱泡・脱気装置、及び脱泡・脱気方法によれば、液体を処理容器の内壁に沿って流すので、液体中に新たに気体が溶け込むこと、及び、新たに気泡が生じることを抑制しつつ、液体中から効率よく脱泡・脱気することができる。また、回転体などの可動部分を有しないので、メンテナンス等における洗浄等が容易となり、作業者の負担を軽減できる。

【0010】

また、上記した態様の塗布装置によれば、上記した態様の脱泡・脱気装置を備えるので、ノズルから吐出される塗布液中から効率よく脱泡・脱気を行うことができ、その結果、基板に形成される薄膜の塗布ムラが軽減され、膜厚が均一化された薄膜を容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】第１実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す断面図である。

【図2】図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。

【図3】（Ａ）は、スリット形成部材の一例を示す平面図、（Ｂ）は、スリット形成部材の一例を示す断面図である。

【図4】液体投入部の他の例を示す平面図である。

【図5】第２実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す断面図である。

【図6】第３実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す断面図である。

【図7】第４実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す模式図である。

【図8】第５実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す模式図である。

【図9】第６実施形態に係る脱泡・脱気装置の一例を示す模式図である。

【図10】実施形態に係る脱泡・脱気方法の一例を示すフローチャートである。

【図11】実施形態に係る塗布装置の一例を模式的に示す側面図である。

【図12】本発明の実施例における脱泡・脱気処理時間と酸素溶存率の関係を表したグラフである。

【図13】比較例における脱泡・脱気処理時間と酸素溶存率の関係を表したグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、図面を参照して、実施形態を説明するが、本発明は以下に説明する内容に限定されない。図面においては、各構成をわかりやすくするために、一部を強調して、あるいは一部を簡略化して表しており、実際の構造又は形状、縮尺等が異なっている場合がある。図１１においては、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。水平面はＸＹ面である。水平面における一方向をＸ方向と表記する。Ｘ方向は、後述するステージ２０とノズル３０との相対移動方向である。水平面においてＸ方向に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向及びＹ方向に垂直な方向をＺ方向と表記する。なお、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図１１中の矢印の指す方向が＋方向であり、矢印の指す方向と反対の方向が－方向である。

【0013】

［第１実施形態］
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る脱泡・脱気装置１０の一例を示す断面図である。図２は、図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。本実施形態の脱泡・脱気装置１０は、処理対象である液体Ｌに対して脱泡・脱気処理を行う。脱泡・脱気装置１０は、図１及び図２に示すように、処理容器１１と真空ポンプＰ１とを備える。処理容器１１は、脱泡・脱気処理する液体Ｌが投入される。なお、液体Ｌは、例えば、脱泡・脱気処理前では液体Ｌ中に多くの気体が溶存し又は多くの気泡を含んでおり、脱泡・脱気処理後では液体Ｌ中に溶存する気体の量が減少し又は気泡の量が減少している。本明細中において、液体Ｌは、脱泡・脱気処理の前後で状態が異なっているが、統一して液体Ｌと表記している。

【0014】

真空ポンプＰ１は、処理容器１１の内部を減圧する。真空ポンプＰ１は、例えばターボポンプ、ダイアフラムポンプなど、公知のポンプが使用できる。処理容器１１の一部には、真空ポンプＰ１と接続される不図示の接続管が設けられている。

【0015】

処理容器１１は、図１に示すように、胴部１２と蓋部１３とを備える。処理容器１１は、内部が減圧されるので、耐圧性を有する材質、寸法等に形成される。処理容器１１は、例えば、金属製、樹脂製などで形成される。また、処理容器１１は、処理対象の液体Ｌが有機溶剤等を含む場合、例えば耐腐食性等を考慮すると例えば金属製であることが好ましい。また、処理容器１１の内面には、液体Ｌに対する耐腐食性を向上させる目的で被膜等が形成されてもよい。

【0016】

胴部１２は、上部が開放された有底の筒形状に形成されている。胴部１２は、図２に示すように断面が円形状であるが、この形態に限定されず、例えば、断面が楕円形状、長円形状、四角形状等の多角形状であってもよい。処理容器１１の内径及び高さ等の寸法については、投入する液体Ｌの量（単位時間あたりの投入量）などにより適宜設定される。蓋部１３は、胴部１２の上端部に取り付けられ、胴部１２の上端を封止することにより処理容器１１内を密閉状態とする。蓋部１３は、胴部１２に対して取り外し可能であってもよい。蓋部１３の材質は、特に限定されないが、胴部１２と同様の材質が好ましく、例えば、金属、樹脂等が使用される。

【0017】

胴部１２には、排出口１４と、液体投入部１５と、が設けられている。胴部１２の下部は、脱泡・脱気処理された液体Ｌが流れやすいように、下方に向かってやや丸みを帯びた底部１１２を形成している。排出口１４は、底部１１２のほぼ中央に設けられている。なお、胴部１２の下部は、やや丸みを帯びた底部１１２とする形状に限定されず、例えば、水平面に平行な平面であってもよいし、排出口１４に向けて傾斜するような底部とする形状であってもよい。

【0018】

排出口１４には、処理容器１１から液体Ｌを排出するための排出管１４ａが接続されている。排出管１４ａの一部には、管路を開閉する不図示の開閉バルブが設けられている。この開閉バルブを開閉することにより、脱泡・脱気処理された液体Ｌの処理容器１１からの排出量又は排出タイミング、さらには処理容器１１における液体Ｌの貯留量が調整される。なお、排出口１４は、１カ所であることに限定されず、２カ所以上設けられてもよい。

【0019】

液体投入部１５は、供給口１５１と、スリット形成部材１７と、を備える。供給口１５１は、処理対象の液体Ｌを処理容器１１内に供給するために、胴部１２の内壁１６に開口するように設けられる。供給口１５１は、胴部１２の上部において１か所に設けられている。供給口１５１は、スリット形成部材１７に向けて開口する位置に設けられる。なお、供給口１５１が複数か所に設けられる形態については後述する。供給口１５１には、処理容器１１に液体Ｌを供給するための供給管１５１ａが接続されている。供給管１５１ａの一部には、管路を開閉する不図示の開閉バルブが設けられている。この開閉バルブを開閉することにより、液体Ｌの処理容器１１への供給量又は供給タイミングが調整される。液体Ｌの供給量は、例えば、供給管１５１ａに設けられた不図示の流量計の検出結果に基づいて、単位時間あたりの液体Ｌの供給量が設定されてもよい。

【0020】

スリット形成部材１７は、供給口１５１の上方及び側方を覆うような形状を有する。スリット形成部材１７は、胴部１２の内壁１６との間で内壁１６の全周にわたって下向きのスリットＳを形成させる。スリットＳは、液体Ｌを下向きに吐出させる。すなわち、液体投入部１５は、供給口１５１から液体Ｌが内壁１６とスリット形成部材１７との間に供給されることにより、スリットＳを介して内壁１６に沿って液体Ｌを吐出する。液体Ｌは、内壁１６を伝わりながら流れ落ちることになる。

【0021】

図３は、スリット形成部材１７の一例を示す図である。図３に示すように、スリット形成部材１７は、環状に形成され、内壁１６と当接する上側の当接部１７１と、内壁１６に当接しない下側の先端部１７２とを有している。上記したスリットＳは、内壁１６と先端部１７２との間で形成される。また、スリット形成部材１７は、当接部１７１と先端部１７２との外周側に切り欠き部１７３が設けられる。切り欠き部１７３は、断面が略半円形状に切り欠かれて設けられる。内壁１６と切り欠き部１７３とで形成される空間は、供給口１５１から供給された液体Ｌを一時的に滞留させる滞留空間Ｋとなる。滞留空間Ｋは、内壁１６に沿って環状に形成されている。

【0022】

また、切り欠き部１７３により、先端部１７２の上面側は、水平面に対して下方に向けて角度θで傾斜した傾斜部１７３ａが形成される。傾斜部１７３ａは、スリットＳに続く先端部１７２を下方に向けて傾斜させた曲面として形成されている。この傾斜部１７３ａにより、滞留空間Ｋの液体Ｌは、スリットＳから流れ落ち、滞留空間Ｋに液体Ｌが残存するのを防止することができる。なお、本実施形態では、切り欠き部１７３を半円形状に切り欠くことで曲面状の傾斜部１７３ａとしているが、この形態に限定されない。例えば、傾斜部１７３ａは、傾斜した平面状に形成されてもよい。

【0023】

スリット形成部材１７の材質は、特に限定されないが処理容器１１と同様に金属が好ましい。使用される液体Ｌに対する耐腐食性を有していれば、スリット形成部材１７の材質は、樹脂であってもよい。スリット形成部材１７は、当接部１７１を供給口１５１上方の内壁１６に当接させた状態でボルト等の締結部材により胴部１２に固定される。供給口１５１から投入された液体Ｌは、滞留空間Ｋに一時的に溜められ、スリットＳから内壁１６を伝って流れ落ちる。

【0024】

スリットＳの幅は、例えば、０．１ｍｍから５．０ｍｍの範囲に設定されることが好ましい。スリットＳの幅がこの範囲であれば、液体Ｌが内壁１６を伝って流れ落ちる際、液体Ｌを薄膜化することができる。液体Ｌの粘度は、例えば、１,０００ｃｐから１０,０００ｃｐである。本実施形態において脱泡・脱気処理する液体Ｌとしては、例えば、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂等の樹脂溶液が挙げられる。

【0025】

続いて、脱泡・脱気装置１０の使用状態について説明する。供給口１５１から供給された液体Ｌは、スリット形成部材１７の滞留空間Ｋに溜められつつ環状に拡がり、同時にスリットＳから吐出される。液体Ｌは、内壁１６を伝って流れ落ちる際に膜状となる。また、液体Ｌは内壁１６を伝って流れるので落下速度は空中を落下するより遅くなる。その結果、液体Ｌを広くかつ長い時間減圧雰囲気下に晒すことができ、液体Ｌに対して効率よく脱泡・脱気することが可能となる。なお、液体Ｌに対する脱泡・脱気処理は、内壁１６を流れ落ちた後、底部１１２に溜まっている間にも継続して行われる。

【0026】

処理容器１１への液体Ｌの供給は、連続して行ってもよいし、所定量ずつ定期的に（バッチ式で）行ってもよい。液体Ｌの供給を連続して行う場合、排出口１４から液体Ｌを連続して排出させる。また、液体Ｌの供給を所定量ずつ定期的に行う場合、例えば、液体ＬがスリットＳから流れ落ちて所定時間が経過したタイミングで排出口１４から液体Ｌを排出させる。

【0027】

このように、本実施形態の脱泡・脱気装置１０によれば、液体Ｌを処理容器１１の内壁１６に沿って流すので、液体Ｌ中から効率よく脱泡・脱気することができる。また、内壁１６に伝って流れる液体Ｌの流速が遅いので、液体Ｌ中に新たに気体が溶け込むこと、及び、新たに気泡が生じることを抑制できる。また、回転体などの可動部分を有しないので、メンテナンス等における洗浄等が容易となり、作業者の負担を軽減できる。

【0028】

なお、上記した実施形態では、スリット形成部材１７が内壁１６の一周にわたって設けられる形態を例に挙げて説明しているが、この形態に限定されない。例えば、スリット形成部材１７が内壁１６の一周のうち部分的に設けられる形態であってもよい。この場合、供給口１５１の近傍に、部分的なスリット形成部材１７が設けられる形態であってもよい。すなわち、滞留空間Ｋが内壁１６の一周のうち部分的に設けられてもよい。また、液体投入部１５は、スリット形成部材１７を備えなくてもよい。例えば、液体Ｌが供給口１５１から処理容器１１に投入される際、液体Ｌが内壁１６を伝わるようにすれば、スリット形成部材１７は設けられなくてもよい。

【0029】

また、上記した実施形態では、供給口１５１が１カ所に設けられているが、この形態に限定されず、供給口１５１が複数カ所に設けられてもよい。供給口１５１が複数カ所に設けられる場合、複数の供給口１５１は、等間隔で配置されてもよいし、等間隔で配置されなくてもよい。図４は、液体投入部１５の他の例を示す平面図である。図４に示すように、液体投入部１５は、４カ所に供給口１５１を備える構成であってもよい。４カ所の供給口１５１は、内壁１６の一周にわたって約９０度の間隔をもって設けられている。また、排出口１４に接続される排出管１４ａは、平面視で２つの供給口１５１の間の中央部分（約４５度の位置）を通るように配置されている。

【0030】

このように供給口１５１が４カ所に等間隔で設けられることにより、内壁の一周にわたる滞留空間Ｋに対してバランスよく液体Ｌを供給することができる。その結果、スリットＳからバランスよく液体Ｌが吐出され、内壁１６に沿って均一な液体Ｌの膜を形成させることができる。

【0031】

［第２実施形態］
第２実施形態について説明する。図５は、第２実施形態に係る脱泡・脱気装置１０Ａの一例を示す断面図である。なお、第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。また、図５では、図１に記載されている真空ポンプＰ１の記載を省略している。脱泡・脱気装置１０Ａは、図５に示すように、胴部１２Ａの一部が波状に形成されている。脱泡・脱気装置１０Ａにおいて、第１実施形態の脱泡・脱気装置１０と異なる点は、胴部１２Ａの形態であり、その他の構成は、上記した脱泡・脱気装置１０と同様である。

【0032】

胴部１２Ａは、スリットＳより下方かつ底部１１２Ａより上方の部分が波状に形成されている。胴部１２Ａが波状に形成されることにより、内壁１６Ａも波状に形成されている。このように、内壁１６Ａを波状とすることにより、スリットＳから吐出された液体Ｌは、膜状となって波状の内壁１６Ａを伝って流れ落ちることになる。従って、図１に示す胴部１２と、図５に示す胴部１２Ａとが同じ高さである場合、液体Ｌが胴部１２の内壁１６を流れ落ちる距離よりも、内壁１６Ａを流れ落ちる距離が長くなる。さらに液体Ｌが波状の内壁１６Ａを流れることから流速が遅くなる。その結果、液体Ｌが減圧雰囲気下に晒される時間が長くなるため、液体Ｌに対する脱泡・脱気処理の効率を向上させることができる。

【0033】

なお、胴部１２Ａ（内壁１６Ａ）の波形の形状、個数は、任意である。また、胴部１２Ａ（内壁１６Ａ）の波形の形状は、液体Ｌが内壁１６Ａから剥がれ落ちないような形状であってもよいし、内壁１６Ａの一部から液体Ｌが剥がれ落ちるような形状であってもよい。また、胴部１２Ａ（内壁１６Ａ）の波形の形状は、同一の波形が連続する形態でもよいし、異なる波形が接続された形態であってもよい。また、胴部１２Ａ（内壁１６Ａ）の波形の形状は、下方に向けて波形が大きく又は小さくなる形態であってもよい。

【0034】

［第３実施形態］
第３実施形態について説明する。図６は、第３実施形態に係る脱泡・脱気装置１０Ｂの一例を示す断面図である。なお、第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。また、図６では、図１に記載されている真空ポンプＰ１の記載を省略している。脱泡・脱気装置１０Ｂは、図６に示すように、胴部１２Ｂの一部が内側に向けて傾斜するように設けられている。脱泡・脱気装置１０Ｂにおいて、第１実施形態の脱泡・脱気装置１０と異なる点は、胴部１２Ｂの形態であり、その他の構成は、上記した脱泡・脱気装置１０と同様である。

【0035】

胴部１２Ｂは、スリットＳより下方かつ底部１１２Ｂより上方の部分が内側に向けて傾斜している。胴部１２Ａが内側に傾斜していることにより、内壁１６Ｂも内側に傾斜している。このように、内壁１６が内側に傾斜していることにより、スリットＳから吐出された液体Ｌは、膜状となって傾斜する内壁１６Ｂを伝って流れ落ちることになる。従って、図１に示す胴部１２と、図６に示す胴部１２Ｂとが同じ高さである場合、液体Ｌが胴部１２の内壁１６を流れ落ちる距離よりも、内壁１６Ｂを流れ落ちる距離が長くなる。さらに液体Ｌが傾斜する内壁１６Ｂを流れることから流速が遅くなる。その結果、液体Ｌが減圧雰囲気下に晒される時間が長くなるため、液体Ｌに対する脱泡・脱気処理の効率を向上させることができる。

【0036】

なお、胴部１２Ｂ（内壁１６Ｂ）の傾斜角度（水平方向に対する角度、又は鉛直方向対する角度）は、任意である。また、胴部１２Ｂ（内壁１６Ｂ）の傾斜する部分は、断面を見たときに直線状に傾斜する形態であってもよいし、曲線状に傾斜する形態であってもよい。また、胴部１２Ｂ（内壁１６Ｂ）の傾斜する部分は、途中から傾斜角度を変化させる形態であってもよい。

【0037】

［第４実施形態］
第４実施形態について説明する。図７は、第４実施形態に係る脱泡・脱気装置１０Ｃの一例を示す模式図である。なお、第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。なお、図７では処理容器１１を模式化して示している。図７に示すように、脱泡・脱気装置１０Ｃは、処理容器１１と、真空ポンプＰ１と、液体タンクＴ１と、排出ポンプＰ２と、フィルタＦと、管路Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６と、開閉バルブＢ１、Ｂ２、Ｂ３と、を備える。液体タンクＴ１は、処理対象の液体Ｌを貯留する。液体タンクＴ１の材質、寸法は任意であり、処理対象の液体Ｌを貯留するのに適した材質、寸法が適用される。

【0038】

排出ポンプＰ２は、処理容器１１内で処理された液体Ｌを処理容器１１内から排出する。排出ポンプＰ２は、例えば、ダイアフラムポンプなどが用いられる。なお、排出ポンプＰ２（ダイアフラムポンプ）は、真空ポンプＰ１と接続させて駆動させてもよいし、真空ポンプＰ１とは異なるポンプと接続させて駆動させてもよい。フィルタＦは、排出ポンプＰ２によって処理容器１１から排出された液体Ｌを通過させて、液体Ｌ中の異物を除去する。フィルタＦは、例えば、商品名がプロセスガード、フロロガード、マイクロガード（以上、日本インテグリス社製）、ウルチクリーン、フォトクリーン（以上、日本ポール社製）等が用いられる。

【0039】

管路Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６は、所定の内径を有するパイプである。管路Ｌ１～Ｌ６の内径は、通過させる液体Ｌの流量により適宜設定される。管路Ｌ１～Ｌ６のの材質は、特に限定されないが金属、樹脂などが用いられる。管路Ｌ１は、液体タンクＴ１と処理容器１１とを接続している。管路Ｌ１の一端は液体タンクＴ１内の液体Ｌ中に挿管されており、他端は液体投入部１５の供給口１５１に接続されている。液体タンクＴ１内の液体Ｌは、処理容器１１を減圧雰囲気とすることで吸い上げられ、管路Ｌ１を介して液体投入部１５の供給口１５１から処理容器１１内に投入される。なお、管路Ｌ１には、管路Ｌ１を開閉する不図示の開閉バルブを備えている。また、管路Ｌ１には、液体Ｌを液体タンクＴ１から処理容器１１に送るための送液ポンプを備えてもよい。

【0040】

管路Ｌ２は、処理容器１１内と真空ポンプＰ１とを接続している。管路Ｌ２の一端は処理容器１１内に挿管されており、他端は真空ポンプＰ１に接続されている。管路Ｌ３は、処理容器１１と排出ポンプＰ２とを接続している。管路Ｌ３の一端は処理容器１１の排出口１４に接続され、他端は排出ポンプＰ２に接続されている。管路Ｌ４は、排出ポンプＰ２並びに管路Ｌ５及び管路Ｌ６と、を連結している。管路Ｌ４の一端は排出ポンプＰ２に接続されている。管路Ｌ４の他端側は、分岐して管路Ｌ５と管路Ｌ６とを形成している。なお、管路Ｌ４の途中には上記したフィルタＦが設けられている。

【0041】

管路Ｌ５は、管路Ｌ４と処理容器１１とを接続連結している。管路Ｌ５の一端は管路Ｌ４の分岐部に接続され、他端は液体投入部１５の供給口１５１に接続されている。管路Ｌ６は、管路Ｌ４と後述する塗布液供給装置４０とを接続している。管路Ｌ６の一端は管路Ｌ４の分岐部に接続され、他端は塗布液供給装置４０に接続されている。

【0042】

開閉バルブＢ１は、管路Ｌ３の途中に設けられており、処理容器１１より排出される液体Ｌの流れを制御する。開閉バルブＢ２は、管路Ｌ５の途中に設けられており、フィルタＦを通過して処理容器１１に向かう液体Ｌの流れを制御する。開閉バルブＢ３は、管路Ｌ６の途中に設けられており、フィルタＦを通過して塗布液供給装置４０に向かう液体Ｌの流れを制御する。開閉バルブＢ１、Ｂ２、Ｂ３の開閉は、不図示の制御部を用いて自動で行ってもよいし、作業者による手動で行ってもよい。

【0043】

処理容器１１から排出された液体Ｌの流れは、２つのルートが形成されている。１つのルートは、開閉バルブＢ２を開き、開閉バルブＢ３を閉じた場合、フィルタＦを通過した液体Ｌは、処理容器１１に投入される。すなわち、液体Ｌに対する循環部Ｃが形成される。この循環部Ｃにより液体Ｌは再度処理容器１１に投入され、再度脱泡・脱気処理されるので、液体Ｌ中から確実に脱泡・脱気することができる。もう１つのルートは、開閉バルブＢ２を閉じ、開閉バルブＢ３を開いた場合、フィルタＦを通過した液体Ｌは、塗布液供給装置４０に供給される。すなわち、脱泡・脱気された液体Ｌは、塗布液供給装置４０に送られる。

【0044】

続いて、脱泡・脱気装置１０Ｃの使用状態について説明する。先ず、真空ポンプＰ１を駆動して処理容器１１を減圧雰囲気とする。次いで、管路Ｌ１における不図示の開閉バルブを開いて、液体タンクＴ１の液体Ｌを処理容器１１に投入する。このとき、管路Ｌ３の開閉バルブＢ１は閉じている。所定量が処理容器１１に投入されると開閉バルブにより管路Ｌ１を閉じて、液体Ｌの投入を停止させる。液体Ｌを処理容器１１に投入してる段階で、開閉バルブＢ１を開いて排出ポンプＰ２を駆動させる。このとき、管路Ｌ５の開閉バルブＢ２を開き、管路Ｌ６の開閉バルブＢ３を閉じて、循環部Ｃを形成させておく。排出ポンプＰ２により処理容器１１から排出された液体Ｌは、管路Ｌ３から管路Ｌ４のフィルタＦを介して管路Ｌ５に流れ込み、再度処理容器１１に投入される。

【0045】

液体Ｌは、循環部Ｃにより再度処理容器１１に投入されることで脱泡・脱気処理される。この状態で所定時間が経過したタイミングで、開閉バルブＢ２を閉じ、開閉バルブＢ３を開くことで、フィルタＦを通過した液体Ｌは、塗布液供給装置４０に送られる。なお、液体Ｌを循環させる所定時間は、予め実験等により設定されていてもよいし、フィルタＦを通過した液体Ｌをサンプリングして、液体Ｌの酸素溶存率、脱気度等を計測し、所望の値が得られたタイミングであってもよい。

【0046】

このように、処理容器１１から排出された液体Ｌは、再度処理容器１１に投入されるといった循環部Ｃにより、液体Ｌから脱泡・脱気処理が繰り返して行われる。その結果、液体Ｌに対して確実に脱泡・脱気処理を行うことができる。なお、上記した形態では、処理容器１１に所定量の液体Ｌを投入し、この液体Ｌを循環部Ｃで循環させた後に塗布液供給装置４０に送るといったバッチ式で処理を行っているが、この形態に限定されない。例えば、液体タンクＴ１から液体Ｌを連続して処理容器１１に投入しつつ、一部を循環部Ｃで処理容器１１に戻し、他の一部を塗布液供給装置４０に送る形態であってもよい。また、管路Ｌ６により液体Ｌを塗布液供給装置４０に送ることに代えて、保管用のタンクに液体Ｌを送ってもよい。

【0047】

［第５実施形態］
第５実施形態について説明する。図８は、第５実施形態に係る脱泡・脱気装置１０Ｄの一例を示す模式図である。なお、上記した第４実施形態の脱泡・脱気装置１０Ｃと同様の構成については同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。図８に示すように、脱泡・脱気装置１０Ｄは、２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂを直列に接続している。２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂは、それぞれ管路Ｌ２で１台の真空ポンプＰ１に接続されている。すなわち、真空ポンプＰ１は、２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂで兼用される。なお、処理容器１１Ｃ、１１Ｄで異なる真空ポンプＰ１が用いられてもよい。処理容器１１Ａは、管路Ｌ１を介して液体タンクＴ１の液体Ｌが投入される。

【0048】

処理容器１１Ａから排出された液体Ｌは、管路Ｌ５を介して処理容器１１Ａに戻す循環部Ｃのルートと、管路Ｌ６Ａを介して処理容器１１Ｂに送るルートと、の２ルートで送られる。管路Ｌ６Ａは、管路Ｌ４の分岐部と処理容器１１Ｂとを接続している。管路Ｌ６Ａの途中には、開閉バルブＢ３Ａが設けられている。開閉バルブＢ２を閉じ、開閉バルブＢ３Ａを開くことで、処理容器１１Ａから排出された液体Ｌは、管路Ｌ６Ａを介して処理容器１１Ｂに送られる。なお、循環部Ｃのルートについては、上記した脱泡・脱気装置１０Ｃと同様であるため説明を省略する。

【0049】

また、処理容器１１Ｂは、処理容器１１Ａから排出された液体Ｌに対して脱泡・脱気処理を行う。処理容器１１Ｂから排出された液体Ｌは、管路Ｌ５を介して処理容器１１Ｂに戻す循環部Ｃのルートと、管路Ｌ６を介して塗布液供給装置４０に送るルートと、の２ルートで送られる。なお、液体Ｌが送られる２ルートについては、上記した脱泡・脱気装置１０Ｃと同様であるため説明を省略する。

【0050】

この脱泡・脱気装置１０Ｄによれば、前段の処理容器１１Ａで液体Ｌの脱泡・脱気処理を行い、その液体Ｌをさらに後段の処理容器１１Ｂで液体Ｌの脱泡・脱気処理を行っている。従って、２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂを用いるので、それぞれの脱泡・脱気処理時間を短くすることができ、単位時間あたりにおける液体Ｌの脱泡・脱気処理の効率を向上させることができる。なお、図８では２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂを用いているが、３台以上の処理容器１１が直列に接続された形態であってもよい。

【0051】

［第６実施形態］
第６実施形態について説明する。図９は、第６実施形態に係る脱泡・脱気装置１０Ｅの一例を示す模式図である。なお、上記した第４実施形態の脱泡・脱気装置１０Ｃと同様の構成については同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。図９に示すように、脱泡・脱気装置１０Ｅは、２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄを塗布液供給装置４０に対して並列に接続している。２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄは、それぞれ管路Ｌ２で１台の真空ポンプＰ１に接続されている。すなわち、真空ポンプＰ１は、２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄで兼用される。なお、処理容器１１Ｃ、１１Ｄで異なる真空ポンプＰ１が用いられてもよい。

【0052】

２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄは、それぞれ液体タンクＴ１の液体Ｌが投入される。なお、図９では２台の液体タンクＴ１からそれぞれ処理容器１１Ｃ、１１Ｄに液体Ｌが供給される形態を示しているが、この形態に限定されない。例えば１台の液体タンクＴ１から２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄに液体Ｌが供給される形態であってもよい。処理容器１１Ｃ、１１Ｄは、それぞれ循環部Ｃにより管路Ｌ５を介して液体Ｌを処理容器１１Ｃ、１１Ｄに戻すルートと、管路Ｌ６を介して液体Ｌを塗布液供給装置４０に送るルートとを備えている。この２つのルートについては、上記した脱泡・脱気装置１０Ｃと同様であるため説明を省略する。

【0053】

この脱泡・脱気装置１０Ｅによれば、２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄが並列に配置されているので、単位時間あたりにおける液体Ｌの脱泡・脱気処理の効率を向上させることができる。また、２台の処理容器１１Ｃ、１１Ｄのいずれか一方がメンテナンス等のため稼働を停止させる場合であっても、処理容器１１Ｃ、１１Ｄのいずれか他方の稼働を停止させる必要がないため、液体Ｌの脱泡・脱気処理を継続して行うことができる。なお、図９では２台の処理容器１１Ａ、１１Ｂを用いているが、３台以上の処理容器１１が並列に接続された形態であってもよい。

【0054】

［脱泡・脱気方法］
次に、実施形態に係る脱泡・脱気方法の一例について説明する。図１０は、実施形態に係る脱泡・脱気方法の一例を示すフローチャートである。このフローチャートを説明するに際して、上記した第４実施形態の脱泡・脱気装置１０Ｃを参照するが、他の実施形態でも同様である。図１０のフローチャートに示す各処理は、不図示の制御部の指示により行ってもよいし、又は作業者の手動により行ってもよい。図１０に示すように、先ず、処理容器１１の内部を減圧する（ステップＳ０１）。制御部等は、真空ポンプＰ１を駆動させ、処理容器１１の内部の気体を管路Ｌ２を介して真空ポンプＰ１に吸引し、処理容器１１を減圧させる。なお、処理容器１１内の圧力をどの程度にするかは、液体Ｌの種類により異なるが、通常は－３０ｋｐａ～－１００ｋｐａの範囲に調整する。

【0055】

続いて、処理容器１１に液体Ｌを供給する（ステップＳ０２）。処理容器１１内が減圧雰囲気となることで、液体タンクＴ１から吸い出され、管路Ｌ１を介して処理対象の液体Ｌが供給される。液体Ｌは、液体投入部１５の供給口１５１から処理容器１１の胴部１２内に投入される。このとき、液体Ｌは、スリット形成部材１７によって形成されている滞留空間Ｋ（図１参照）に流れ込み、スリットＳから内壁１６に沿って流れ落ちる。液体Ｌが内壁１６を流れ落ちる間、及び底部１１２（図１参照）に溜まっている間、減圧雰囲気下に晒されることにより液体Ｌ中に溶存している気体、及び液体Ｌ中に含まれる気泡が除去される（脱泡・脱気される）。液体Ｌは、膜状となって内壁１６の全体に広がった状態で流れ落ちるので、減圧雰囲気に晒らされる液体Ｌの面積が広くなり、液体Ｌ中から効率よく脱泡・脱気処理される。なお、処理容器１１に所定量の液体Ｌを溜めるため、開閉バルブＢ１は閉じた状態としている。

【0056】

続いて、処理容器１１から液体Ｌを排出する（ステップＳ０３）。開閉バルブＢ１を開いて、排出ポンプＰ２を駆動することで、液体Ｌが、排出口１４（図１参照）から管路Ｌ３を介して排出される。排出ポンプＰ２を通過した液体Ｌは、管路Ｌ４を流れてフィルタＦにより異物等が除去される。続いて、フィルタＦを通過した液体Ｌについて、再度脱泡・脱気処理を行うか否かを判断する（ステップ０４）。例えば、制御部は、処理開始から所定時間が経過するまで、液体Ｌに対して再度脱泡・脱気処理を行うと判断する。また、制御部は、フィルタＦを通過した液体Ｌの酸素溶存率、脱気度等をセンサ等により取得して、所定値に達するまで再度脱泡・脱気処理を行うと判断する。

【0057】

再度脱泡・脱気処理を行うと判断した場合（ステップＳ０４のＹＥＳ）は、ステップＳ０２に戻り、液体Ｌは、再度処理容器１１に投入され、上記したように脱泡・脱気処理が行われる。すなわち、液体Ｌは、循環部Ｃ（図１参照）により処理容器１１の内外を循環する。このとき、管路Ｌ６の開閉バルブＢ３が閉じられ、管路Ｌ５の開閉バルブＢ２が開いた状態となっている。液体Ｌは、管路Ｌ４から管路Ｌ５を介して、再度処理容器１１に投入される。

【0058】

一方、再度脱泡・脱気処理を行わないと判断した場合（ステップＳ０４のＮＯ）は、液体Ｌを塗布液供給装置４０へ移送する（ステップ０５）。このとき、管路Ｌ５の開閉バルブＢ２が閉じられ、管路Ｌ６の開閉バルブＢ３が開いた状態となっている。液体Ｌは、管路Ｌ４から管路Ｌ６を介して、塗布液供給装置４０へ移送される。液体Ｌが塗布液供給装置４０へ移送されることで、一連の処理が終了する。なお、上記したステップＳ０４は、実行されなくてもよい。すなわち、ステップＳ０３で処理容器１１から液体Ｌを輩出した後、ステップＳ０５で液体Ｌを塗布液供給装置４０へ移送させてもよい。

【0059】

［塗布装置］
塗布装置について説明する。図１１は、実施形態に係る塗布装置１００の一例を模式的に示す側面図である。図１１に示すように、塗布装置１００は、脱泡・脱気装置１０と、ステージ２０と、ノズル３０と、塗布液供給装置４０と、を備える。ステージ２０は、例えば平面視で矩形状であり、上面（＋Ｚ側の面）に基板Ａを載置する載置面２０ａを有する。なお、ステージ２０は、載置された基板Ａを吸着して保持させる吸着機構を備えていてもよい。ステージ２０の載置面２０ａには、例えば、基板搬送装置等により搬送された基板Ａが載置される。

【0060】

ノズル３０は、ステージ２０の上方に設けられている。ノズル３０は、例えばスリットノズルである。ノズル３０は、先端（下端）のスリット（開口部）から、基板Ａの表面に所定の薄膜を形成するための塗布液Ｑ１を基板Ａに向けて（－Ｚ方向に向けて）吐出する。ノズル３０とステージ２０とは、不図示の駆動装置により相対的にＸ方向に移動可能である。例えば、ステージ２０が固定され、ノズル３０がＸ方向に移動可能な構成であってもよいし、ノズル３０が固定され、ステージ２０がＸ方向に移動可能な構成であってもよい。また、ノズル３０とステージ２０との双方がＸ方向に移動可能な構成であってもよい。

【0061】

塗布液供給装置４０は、塗布液Ｑ１をノズル３０へ供給する。塗布液供給装置４０は、ノズル３０の内部に設けられている不図示の塗布液保持部に塗布液Ｑ１を供給する。塗布液供給装置４０は、塗布液Ｑ１をノズル３０に送るための不図示のディスペンスポンプ等を備える。塗布液供給装置４０は、脱泡・脱気装置１０により脱泡・脱気処理された液体Ｌが供給され、塗布液Ｑ１としてディスペンスポンプ等によりノズル３０へ供給する。このように、塗布液Ｑ１として、脱泡・脱気処理された液体Ｌが用いられるので、ノズル３０から吐出される塗布液Ｑ１は、溶存する気体がなく（又は少なく）、気泡が除去されている。

【0062】

塗布装置１００の動作について説明する。ノズル３０の先端を基板Ａの上面に対して所定の間隔となるように、ノズル３０の高さ（Ｚ方向の位置）を調整する。続いて、ノズル３０とステージ２０とを相対的にＸ方向に移動させつつ、ノズル３０から塗布液Ｑ１を吐出させる。この動作により、基板Ａの上面には、塗布液Ｑ１による薄膜が形成される。ノズル３０の高さ調整、ノズル３０とステージ２０とを相対的な移動、及びノズル３０からの塗布液Ｑ１の吐出は、不図示の制御装置等により制御される。

【0063】

このように、塗布装置１００によれば、塗布液Ｑ１から溶存する気体、気泡が除去されているので、基板Ａの上面に塗布ムラがない均一な薄膜を形成することができる。なお、脱泡・脱気装置１０は、塗布液供給装置４０と別の装置として塗布装置１００に設けられてもよいし、塗布液供給装置４０の一部として設けられてもよい。また、１台の脱泡・脱気装置１０から複数台の塗布装置１００（塗布液供給装置４０）に液体Ｌを供給するような塗布システムが形成されてもよい。

【実施例】

【0064】

実施例について説明する。本実施例では、上記した第４実施形態の脱泡・脱気装置１０Ｃを用いて試験を行った。本実施例において、上記した実施形態に係る脱泡・脱気方法を、壁面脱泡・脱気方法と称する。初期状態で酸素溶存率の異なる液体Ｌを各４ｋｇずつ３種類用意し、試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３とした。液体Ｌとしては、商品名Ｕ－ワニスＳ（宇部興産社製ポリイミド系樹脂溶液）を使用した。処理容器１１は、内壁１６に設けられたスリット形成部材１７により、スリットＳの幅を２．０ｍｍとした。処理容器１１内の圧力は、－７０ｋｐａに設定した。

【0065】

試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３に対して脱泡・脱気処理するため、各試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３を液体タンクＴ１からスリットＳを介して処理容器１１内の内壁１６に沿って流れるように投入した。そして、投入直後、３０分後、２時間後、２４時間後の試料中に溶存している酸素の割合（以下、酸素溶存率という）を測定した。なお、試料Ｎ２については、２４時間後は測定していない。本実施例では、上記した循環部Ｃを使用する方法を採用しており、循環速度（液体Ｌが流れる速度）を８００ｇ／ｍｉｎとして、実験を行った。各試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３の脱泡・脱気処理後の酸素溶存率についての結果を表１及び図１２に示す。図１２において、縦軸は酸素溶存率、横軸は脱泡・脱気処理時間である。

【0066】

【表1】

【0067】

［比較例１］
比較例１として、処理容器内に回転体を備えた脱泡タンクで液体の脱泡・脱気処理を行った。液体Ｌを４ｋｇ用意し、試料Ｎ４とした。液体Ｌとしては、試料Ｎ１等と同一の液体を使用した。脱泡タンクは、商品名ＴＺＢ－２１－Ｆ００３６（ユニコントロールズ社製）を用いた。この脱泡タンク内は、液体を撹拌するための回転体が備えられている。脱泡タンク内の圧力は、－７５ｋｐａに設定した。また、試料Ｎ４においては、回転体の回転数を約１００ｒｐｍとして実験を行った。

【0068】

各試料Ｎ４を、脱泡タンクに投入し、回転体を回転させて脱泡・脱気処理を行い、１時間後、２時間後、３時間後、４時間後、１７時間後の試料中の酸素溶存率を測定した。試料Ｎ４の脱泡・脱気処理後の酸素溶存率についての結果を表２及び図１３に示す。また、表２中の溶存低下率については、初期状態と１７時間後の値から算出した。図１３において縦軸は酸素溶存率、横軸は脱泡・脱気処理時間である。なお、比較例１に係る脱泡・脱気方法を、回転脱泡・脱気方法と称する。また、以下の説明では、溶存低下率（％）を、所定時間経過後の酸素溶存率（％）／初期状態の酸素溶存率（％）で算出している。

【0069】

［比較例２］
比較例２として、初期状態の酸素溶存率を測定した液体Ｌを用意し、試料Ｎ５とした。この試料Ｎ５を、減圧雰囲気（－９０ｋｐａ）としたクォート瓶（Ｑｔ瓶）に、滴下速度１．０ｇ／２．０ｓｅｃで滴下して、脱泡・脱気処理を行った。液体Ｌとしては、試料Ｎ１等と同一の液体を使用した。そして、１７時間後の試料Ｎ５中の酸素溶存率を測定した。酸素溶存率についての結果を表２及び図１３に併せて示している。また、表２中の溶存低下率については、初期状態と１７時間後の値から算出した。なお、比較例２に係る脱泡・脱気方法を、滴下脱泡・脱気方法と称する。

【0070】

【表2】

【0071】

壁面脱泡・脱気方法を用いた場合、表１より、投入直後（内壁を１回通過）の溶存低下率は、試料Ｎ１では５４．０７％、試料Ｎ２では５２．８０％、試料Ｎ３では５０．００％となっている。すなわち、試料Ｎ１では４５．９３％、試料Ｎ２では４７．２０％、試料Ｎ３では５０．００％の酸素が、脱泡・脱気されている。この結果から、試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は、投入直後という短時間で、４５％から５０％の酸素が脱泡・脱気されることが確認された。

【0072】

表１より、投入から３０分経過後の溶存低下率は、試料Ｎ１では３４．０７％、試料Ｎ２では２６．０９％、試料Ｎ３では３５．０６％となっている。すなわち、循環部Ｃを使用して３０分間試料を壁面脱泡・脱気処理すると、初期状態に対して試料Ｎ１では６５．９３％、試料Ｎ２では７３．９１％、試料Ｎ３では６４．９４％の酸素が、脱泡・脱気されことが確認できた。すなわち、各試料Ｎ１等は、投入から３０分後には約６５％から７４％の酸素が脱泡・脱気されている。

【0073】

表１より、酸素溶存率の値は、投入から２時間経過後、２４時間経過後で３０分経過後と比べると大幅に変化していない。ちなみに、投入から２時間経過後の溶存低下率は、試料Ｎ１が３１．８５％、試料Ｎ２が２６．０９％、試料Ｎ３が２９．２２％である。図１２からもわかるように、各試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３とも、溶存酸素量は、投入直後から３０分経過後までは急激に減少し、その後は、ほぼ平衡状態となっている。つまり、投入から３０分経過で試料からほぼ脱泡・脱気されているといえる。

【0074】

比較例１の回転脱泡・脱気方法を用いた場合、表２より、試料Ｎ４の溶存低下率は、１時間後では４６．６１％、２時間後では３３．０５％、３時間後では３３．０５％、４時間後では２９．８７％、１７時間後では２９．８７％である。すなわち、試料Ｎ４は、初期状態から、１時間後には５３．３９％、２時間後には６６．９５％、３時間後には６６．９５％、4時間後には７０．１３％、１７時間後は、７０．１３％の酸素が脱泡・脱気されることが確認された。また、投入から４時間経過後では、数値に変化がなく、４時間経過して試料中からほぼ脱泡・脱気されているといえる。図１３からもわかるように、試料Ｎ４は、投入から２時間経過後までは溶存率が低下していき、その後は、ほぼ平衡状態になっている。

【0075】

比較例２の滴下脱泡・脱気方法を用いた試料Ｎ５の場合は、滴下開始から１７時間経過後であっても、溶存低下率は５７．６９％である。つまり、滴下開始から１７時間経過しても４２．３１％しか脱泡・脱気が進んでいないことが確認された。

【0076】

このように、本実施例を適用した試料Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は、投入から３０分程度で約６５％から約７４％の気泡が脱泡・脱気されており、比較例１及び比較例２と比較して脱泡・脱気処理の時間が短縮され、脱泡・脱気処理の効率が向上していることが確認された。

【0077】

以上、実施形態及び実施例について説明したが、本発明の技術的範囲は上記した実施形態及び実施例で説明した範囲には限定されない。上記した実施形態で説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上記した実施形態で説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、上記した実施形態に多様な変更又は改良を加えることが可能であることは当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。また、特許請求の範囲、明細書及び図面において示した処理の実行順序は、前の処理の結果を後の処理で用いるのでない限り、各処理は、任意の順序で実現することができる。特許請求の範囲、明細書及び図面中の動作フローに関して、便宜上「まず」、「続いて」等を用いて説明しても、この順で実施することが必須であることを意味しない。

【0078】

また、上記した実施形態において、処理容器１１の胴部１２を加熱してもよい。例えば、処理容器１１の胴部１２にヒータが設けられ、内壁１６を流れ落ちる液体Ｌを加熱するようにしてもよい。また、処理容器１１に電磁波（マイクロ波）発生器が設けられ、この電磁波発生器からの電磁波により液体Ｌを加熱するようにしてもよい。

【符号の説明】

【0079】

１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ・・・脱泡・脱気装置
１１、１１Ａ、１１Ｂ・・・処理容器
１２、１２Ａ、１２Ｂ・・・胴部
１３・・・蓋部
１４・・・排出口
１５・・・液体投入部
１６、１６Ａ、１６Ｂ・・・内壁
１７・・・スリット形成部材
２０・・・ステージ
３０・・・ノズル
４０・・・塗布液供給装置
１００・・・塗布装置
１５１・・・供給口
１７１・・・当接部
１７２・・・先端部
１７３・・・切り欠き部
Ａ・・・基板
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ３Ａ・・・開閉バルブ
Ｃ・・・循環路
Ｋ・・・滞留空間
Ｌ・・・液体
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ６Ａ・・・管路
Ｐ１・・・真空ポンプ
Ｐ２・・・排出ポンプ
Ｑ１・・・塗布液
Ｓ・・・スリット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】