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特許7526590基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-07-24
(45)【発行日】2024-08-01
(54)【発明の名称】基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
(51)【国際特許分類】
B05C 11/10 20060101AFI20240725BHJP
B05D 3/00 20060101ALI20240725BHJP
B05D 1/40 20060101ALI20240725BHJP
H01L 21/304 20060101ALI20240725BHJP
H01L 21/027 20060101ALI20240725BHJP
【ＦＩ】
B05C11/10
B05D3/00 B
B05D1/40 A
H01L21/304 643A
H01L21/304 648K
H01L21/304 648G
H01L21/30 564
H01L21/30 569A
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2020089134
(22)【出願日】2020-05-21
(65)【公開番号】P2021016856
(43)【公開日】2021-02-15
【審査請求日】2023-02-16
(31)【優先権主張番号】P 2019133616
(32)【優先日】2019-07-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100088155
【弁理士】
【氏名又は名称】長谷川 芳樹
(74)【代理人】
【識別番号】100113435
【弁理士】
【氏名又は名称】黒木 義樹
(74)【代理人】
【識別番号】100122507
【弁理士】
【氏名又は名称】柏岡 潤二
(74)【代理人】
【識別番号】100171099
【弁理士】
【氏名又は名称】松尾 茂樹
(72)【発明者】
【氏名】梶原 正幸
(72)【発明者】
【氏名】一野 克憲
(72)【発明者】
【氏名】石丸 大輔
(72)【発明者】
【氏名】田尻 卓也
(72)【発明者】
【氏名】山本 篤
(72)【発明者】
【氏名】今村 真人
(72)【発明者】
【氏名】牟田 友彦
(72)【発明者】
【氏名】入山 哲郎
(72)【発明者】
【氏名】坂本 丈明
(72)【発明者】
【氏名】岡口 広樹
(72)【発明者】
【氏名】安達 健二
【審査官】市村 脩平
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１８－０４６２６９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－２２０５４７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－１６５３０５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０５Ｃ５／００－２１／００
Ｂ０５Ｄ１／００－７／２６
Ｈ０１Ｌ２１／３０
２１／３０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、
を備え、
前記フィルタは、前記接続部内に設けられており、
前記切替バルブは、前記フィルタと前記送液部との間を開閉し、
前記接続部は、前記補充部と前記フィルタとの間を開閉する第２切替バルブを更に有し、
前記補充準備部は、
前記切替バルブ及び前記第２切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させることを実行し、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に、前記第２切替バルブが開き、前記切替バルブが閉じた状態で、前記接続部内と前記送液部内との圧力差を縮小させることを実行する、基板処理装置。
【請求項2】
前記補充部における配管容積は、前記送液部における配管容積よりも大きい、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項3】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、
を備え、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充制御部は、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充圧力を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部のいずれか一方を制御し、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充流量を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部の他方を制御する、基板処理装置。
【請求項4】
前記ノズルまで送られる前記処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように前記吐出用圧送部を制御する吐出制御部を更に備え、前記補充制御部は、前記補充圧力を目標値に追従させる制御において、前記処理液の補充が完了するまで前記補充圧力の目標値を徐々に前記吐出圧力の目標値に近づける、請求項３記載の基板処理装置。
【請求項5】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、
を備え、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記切替バルブは、前記接続バルブよりも小さい開度変化率で開閉する、基板処理装置。
【請求項6】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、
を備え、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記補充準備部は、前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更し、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、前記フィルタと前記吐出用圧送部との間の圧力を測定する圧力測定部と、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充準備部は、
前記切替バルブと前記吐出バルブとが閉じ、前記接続バルブが開いた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記送液部内の圧力が設定値に近づくように前記吐出用圧送部を制御することと、
前記切替バルブが開き、前記吐出バルブと前記接続バルブとが閉じた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記補充用圧送部と前記吐出用圧送部との間の圧力が前記設定値に近づくように前記補充用圧送部を制御することと、を順に実行する、基板処理装置。
【請求項7】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開く吐出準備部と、
前記吐出準備部により前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させる吐出制御部と、を備える、基板処理装置。
【請求項8】
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開く吐出準備部と、
前記吐出準備部により前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させる吐出制御部と、を更に備える、請求項１～３，５のいずれか一項記載の基板処理装置。
【請求項9】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、を備える基板処理装置の制御方法であって、前記フィルタは、前記接続部内に設けられており、
前記切替バルブは、前記フィルタと前記送液部との間を開閉し、
前記接続部は、前記補充部と前記フィルタとの間を開閉する第２切替バルブを更に有し、
前記切替バルブ及び前記第２切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させることと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に、前記第２切替バルブが開き、前記切替バルブが閉じた状態で、前記接続部内と前記送液部内との圧力差を縮小させることと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開くことと、
前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させることと、を含む制御方法。
【請求項10】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、を備える基板処理装置の制御方法であって、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開くことと、
前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させることと、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充圧力を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部のいずれか一方を制御することと、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充流量を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部の他方を制御することと、を含む制御方法。
【請求項11】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、を備える基板処理装置の制御方法であって、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記切替バルブは、前記接続バルブよりも小さい開度変化率で開閉し、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開くことと、
前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させることと、を含む制御方法。
【請求項12】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、を備える基板処理装置の制御方法であって、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、前記フィルタと前記吐出用圧送部との間の圧力を測定する圧力測定部と、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更することと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開くことと、
前記切替バルブと前記吐出バルブとが閉じ、前記接続バルブが開いた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記送液部内の圧力が設定値に近づくように前記吐出用圧送部を制御した後に、前記切替バルブが開き、前記吐出バルブと前記接続バルブとが閉じた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記補充用圧送部と前記吐出用圧送部との間の圧力が前記設定値に近づくように前記補充用圧送部を制御することと、
前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させることと、を含む制御方法。
【請求項13】
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、前記補充部から前記送液部に補充される前記処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、を備える基板処理装置の制御方法であって、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開くことと、
前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させることと、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開くことと、
前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させること、を含む制御方法。
【請求項14】
前記基板処理装置は、前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブを更に備え、
前記制御方法は、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開くことと、
前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させることと、を更に含む、請求項９～１１のいずれか一項記載の制御方法。
【請求項15】
請求項９～１４のいずれか一項に記載の制御方法を装置に実行させるためのプログラムを記憶した、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置が開示されている。この処理液供給装置は、処理液供給源の下流側に設けられた第１のポンプと、第１のポンプの二次側に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、フィルタ部の二次側に設けられた第２のポンプとを備える。また、処理液供給装置は、第１のポンプに導入された処理液をフィルタを通過させて第２のポンプに供給するステップを実行する制御部を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１７－２２０５４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、基板に吐出される処理液中のパーティクルの低減に有用な基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一側面に係る基板処理装置は、基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、処理液を吐出部に送る送液部と、吐出部に送るための処理液を送液部に補充する補充部と、補充部と送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、補充部から送液部に補充される処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、補充部から送液部への処理液の補充を開始させる補充制御部と、を備える。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、基板に吐出される処理液中のパーティクルの低減に有用な基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【0009】
【0010】
［基板処理システム］
図１に示される基板処理システム１は、基板に対し、感光性被膜の形成、当該感光性被膜の露光、及び当該感光性被膜の現像を施すシステムである。処理対象の基板は、例えば半導体のウェハＷである。処理対象の基板は半導体ウェハに限られず、例えばガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）などであってもよい。
感光性被膜は、例えばレジスト膜である。基板処理システム１は、塗布・現像装置２と露光装置３とを備える。露光装置３は、ウェハＷ（基板）上に形成されたレジスト膜（感光性被膜）の露光処理を行う。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。塗布・現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ウェハＷ（基板）の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
図１に示される基板処理システム１は、基板に対し、感光性被膜の形成、当該感光性被膜の露光、及び当該感光性被膜の現像を施すシステムである。処理対象の基板は、例えば半導体のウェハＷである。処理対象の基板は半導体ウェハに限られず、例えばガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）などであってもよい。
感光性被膜は、例えばレジスト膜である。基板処理システム１は、塗布・現像装置２と露光装置３とを備える。露光装置３は、ウェハＷ（基板）上に形成されたレジスト膜（感光性被膜）の露光処理を行う。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。塗布・現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ウェハＷ（基板）の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
【0011】
［基板処理装置］
以下、基板処理装置の一例として、塗布・現像装置２の構成を説明する。図１及び図２に示されるように、塗布・現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インタフェースブロック６と、制御装置１００とを備える。
以下、基板処理装置の一例として、塗布・現像装置２の構成を説明する。図１及び図２に示されるように、塗布・現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インタフェースブロック６と、制御装置１００とを備える。
【0012】
キャリアブロック４は、塗布・現像装置２内へのウェハＷの導入及び塗布・現像装置２内からのウェハＷの導出を行う。例えばキャリアブロック４は、ウェハＷ用の複数のキャリアＣを支持可能であり、受け渡しアームを含む搬送装置Ａ１を内蔵している。キャリアＣは、例えば円形の複数枚のウェハＷを収容する。搬送装置Ａ１は、キャリアＣからウェハＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からウェハＷを受け取ってキャリアＣ内に戻す。
【0013】
処理ブロック５は、複数の処理モジュール１１，１２，１３，１４を有する。処理モジュール１１，１２，１３，１４は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにウェハＷを搬送する搬送アームを含む搬送装置Ａ３とを内蔵している。
【0014】
処理モジュール１１は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２によりウェハＷの表面上に下層膜を形成する。処理モジュール１１の液処理ユニットＵ１は、下層膜形成用の処理液をウェハＷ上に塗布する。処理モジュール１１の熱処理ユニットＵ２は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。
【0015】
処理モジュール１２は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２により下層膜上にレジスト膜を形成する。処理モジュール１２の液処理ユニットＵ１は、レジスト膜形成用の処理液を下層膜の上に塗布する。処理モジュール１２の熱処理ユニットＵ２は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。
【0016】
処理モジュール１３は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２によりレジスト膜上に上層膜を形成する。処理モジュール１３の液処理ユニットＵ１は、上層膜形成用の液体をレジスト膜の上に塗布する。処理モジュール１３の熱処理ユニットＵ２は、上層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。
【0017】
処理モジュール１４は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２により、露光後のレジスト膜の現像処理を行う。液処理ユニットＵ１は、露光済みのウェハＷの表面上に現像液を塗布する。また、液処理ユニットＵ１は、塗布された現像液をリンス液により洗い流す。熱処理ユニットＵ２は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：Ｐｏｓｔ Ｂａｋｅ）等が挙げられる。
【0018】
処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には昇降アームを含む搬送装置Ａ７が設けられている。搬送装置Ａ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でウェハＷを昇降させる。
【0019】
処理ブロック５内におけるインタフェースブロック６側には棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。
【0020】
インタフェースブロック６は、露光装置３との間でウェハＷの受け渡しを行う。例えばインタフェースブロック６は、受け渡しアームを含む搬送装置Ａ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送装置Ａ８は、棚ユニットＵ１１に配置されたウェハＷを露光装置３に渡す。搬送装置Ａ８は、露光装置３からウェハＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻す。
【0021】
制御装置１００は、例えば以下の手順で塗布・現像処理を実行するように塗布・現像装置２を制御する。まず制御装置１００は、キャリアＣ内のウェハＷを棚ユニットＵ１０に搬送するように搬送装置Ａ１を制御し、このウェハＷを処理モジュール１１用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。
【0022】
次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のウェハＷを処理モジュール１１内の液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このウェハＷの表面上に下層膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、下層膜が形成されたウェハＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このウェハＷを処理モジュール１２用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。
【0023】
次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のウェハＷを処理モジュール１２内の液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このウェハＷの下層膜上にレジスト膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ウェハＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このウェハＷを処理モジュール１３用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。
【0024】
次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のウェハＷを処理モジュール１３内の各ユニットに搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このウェハＷのレジスト膜上に上層膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ウェハＷを棚ユニットＵ１１に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。
【0025】
次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１１のウェハＷを露光装置３に送り出すように搬送装置Ａ８を制御する。その後制御装置１００は、露光処理が施されたウェハＷを露光装置３から受け入れて、棚ユニットＵ１１における処理モジュール１４用のセルに配置するように搬送装置Ａ８を制御する。
【0026】
次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１１のウェハＷを処理モジュール１４内の各ユニットに搬送するように搬送装置Ａ３を制御し、このウェハＷのレジスト膜に現像処理を施すように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ウェハＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このウェハＷをキャリアＣ内に戻すように搬送装置Ａ７及び搬送装置Ａ１を制御する。以上で塗布・現像処理が完了する。
【0027】
なお、基板処理装置の具体的な構成は、以上に例示した塗布・現像装置２の構成に限られない。基板処理装置は、ウェハＷに処理液を吐出して液処理を行う液処理ユニットと、これを制御可能な制御装置とを備えていればどのようなものであってもよい。
【0028】
【0029】
回転保持部２０は、制御装置１００の動作指示に基づき、ウェハＷを保持して回転させる。回転保持部２０は、保持部２１と、駆動部２２とを備える。保持部２１は、表面Ｗａを上方に向けて水平に配置されたウェハＷの中心部を支持し、当該ウェハＷを吸着（例えば真空吸着）等により保持する。駆動部２２は、例えば電動モータ等を動力源とした回転アクチュエータであり、鉛直な回転軸周りに保持部２１を回転させる。これにより、鉛直な回転軸周りにウェハＷが回転する。
【0030】
処理液供給部２９は、回転保持部２０に回転保持されたウェハＷに処理液を供給する。処理液供給部２９は、図３及び図４に示されるように、吐出部３０と、送液部６０と、補充部５０と、第１接続部８０（接続部）と、第２接続部９０と、を備える。
【0031】
吐出部３０は、ウェハＷの表面Ｗａに向けて処理液を吐出する。吐出部３０は、ノズル３１と、送液管３２とを備える。ノズル３１は、ウェハＷに処理液を吐出する。ノズル３１は、図３に示されるように、例えば、ウェハＷの上方に配置され、処理液を下方に吐出する。送液管３２は、ノズル３１まで処理液を導く。ノズル３１からウェハＷに向けて処理液が吐出されることで、ウェハＷに処理液が塗布（供給）される。
【0032】
図４に示されるように、送液部６０は、処理液を吐出部３０に送る。具体的には、送液部６０は、処理液を所定圧力で吐出部３０（ノズル３１）に向けて送り出す。送液部６０は、送液管６１と、フィルタ６３と、圧送部６４（吐出用圧送部）と、分岐管６２ａ，６２ｂと、第１接続バルブ６７と、第２接続バルブ６８と、圧力測定部６９と、を備える。
【0033】
送液管６１は、処理液を吐出部３０まで導く。具体的には、送液管６１は、吐出部３０の送液管３２の上流側における端部に接続されている。フィルタ６３は、送液管６１に設けられており、処理液に含まれる異物を除去する。フィルタ６３は、送液管６１内を通過する処理液に含まれる異物を捕集する。
【0034】
圧送部６４は、送液管６１を経て処理液を受け入れ、受け入れた処理液を加圧して吐出部３０に向けて送り出す。圧送部６４は、例えば、ポンプ７６と、ポンプ駆動部７７と、流量測定部６５と、圧力測定部６６と、を備える。
【0035】
ポンプ７６は、処理液を収容する収容室と、収容室を収縮させる収縮部とを有する。ポンプ７６は、収縮部により収容室を拡大して処理液を受け入れ、収縮部により収容室を収縮させて処理液を送り出す。ポンプ７６として、例えば、チューブフラムポンプ、ダイヤフラムポンプ、又はベローズポンプが用いられてもよい。
【0036】
ポンプ駆動部７７は、制御装置１００の動作指示に基づき、ポンプ７６を駆動する。具体的には、ポンプ駆動部７７は、ポンプ７６の収容室を収縮させるように収縮部を動作させる（駆動する）。例えば、ポンプ駆動部７７は、気体により収縮部を動作させるエアオペレーション型の駆動部である。ポンプ駆動部７７は、上記気体の圧力（駆動圧）を調節することで、ポンプ７６の収容室を収縮させてもよい。
【0037】
流量測定部６５は、ポンプ７６に対する処理液の入出量に関する情報を取得する。ポンプ７６を駆動するための気体の流量は、ポンプ７６に対する処理液の入出量に相関するので、ポンプ７６に対する処理液の入出量に関する情報である。例えば、流量測定部６５は、ポンプ７６とポンプ駆動部７７との間の接続管内を流れる気体の流量を測定する。流量測定部６５は、測定値を制御装置１００に出力する。圧力測定部６６は、ポンプ７６内の圧力に関する情報を取得する。例えば、圧力測定部６６は、ポンプ７６とポンプ駆動部７７との間の接続管内の圧力を測定する。圧力測定部６６は、測定値を制御装置１００に出力する。
【0038】
分岐管６２ａは、送液管６１のうちのフィルタ６３の上流部分から分岐し、送液管６１とポンプ７６とを接続する。分岐管６２ｂは、送液管６１のうちのフィルタ６３の下流部分から分岐し、送液管６１とポンプ７６とを接続する。
【0039】
第１接続バルブ６７は、分岐管６２ａに設けられており、制御装置１００の動作指示に基づき、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する。第１接続バルブ６７は、例えば、エアオペレーションバルブである。第２接続バルブ６８は、分岐管６２ｂに設けられており、制御装置１００の動作指示に基づき、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する。第２接続バルブ６８は、例えば、エアオペレーションバルブである。
【0040】
圧力測定部６９は、送液部６０内の管路を流れる処理液の圧力を測定する。例えば、圧力測定部６９は、フィルタ６３と圧送部６４との間の圧力を測定する。具体的には、圧力測定部６９は、分岐管６２ｂに設けられており、分岐管６２ｂ内の処理液の圧力（液圧）を測定する。圧力測定部６９は、測定値を制御装置１００に出力する。
【0041】
補充部５０は、吐出部３０に向けて送るための処理液を送液部６０に補充する。補充部５０は、液源５１と、圧送部５３（補充用圧送部）と、送出管５５と、を備える。
【0042】
液源５１は、送液部６０に補充される処理液の供給源である。圧送部５３は、液源５１から送液部６０に処理液を送り出す。圧送部５３は、例えば、液源５１から供給された処理液を一時的に貯留し、当該処理液を加圧した状態で送液部６０に送り出す。あるいは、圧送部５３は、例えば、液源５１内の処理液を吸い込むことで処理液を受け入れ、受け入れた処理液を送液部６０に送り出す。圧送部５３は、例えば、ポンプ５６と、ポンプ駆動部５７と、圧力測定部５４と、を備える。
【0043】
ポンプ５６は、液源５１内の処理液を吸い込み、吸い込んだ処理液を吐出部３０に向けて送り出す。ポンプ５６は、例えば、処理液を収容する収容室と、収容室を収縮させる収縮部とを有する。ポンプ５６は、収縮部により収容室を拡大して処理液を受け入れ、収縮部により収容室を収縮させて処理液を送り出す。ポンプ５６として、例えば、チューブフラムポンプ、ダイヤフラムポンプ、又はベローズポンプが用いられてもよい。
【0044】
ポンプ駆動部５７は、制御装置１００に動作指示に基づき、ポンプ５６を駆動する。具体的には、ポンプ駆動部５７は、ポンプ５６の収容室を収縮させるように収縮部を動作させる（駆動する）。例えば、ポンプ駆動部５７は、気体により収縮部を動作させるエアオペレーション型の駆動部である。ポンプ駆動部５７は、上記気体の圧力（以下、「駆動圧」という。）を調節することで、ポンプ５６の収容室を収縮させてもよい。
【0045】
圧力測定部５４は、ポンプ５６内の圧力に関する情報を取得する。例えば、圧力測定部５４は、ポンプ５６とポンプ駆動部５７との間の接続管に接続されており、当該接続管内の圧力を測定する。圧力測定部５４は、例えば、ポンプ５６を駆動するための気体の圧力を測定する。圧力測定部５４は、測定値を制御装置１００に出力する。
【0046】
送出管５５は、圧送部５３（ポンプ５６）から送液部６０まで処理液を導く。具体的には、送出管５５は、送液部６０の送液管６１の上流側における端部に接続されている。つまり、送液管６１は、フィルタ６３を介して補充部５０と送液部６０との間を接続している。フィルタ６３は、送液管６１内の流路を流れる処理液（補充部５０から送液部６０に補充される処理液）に含まれる異物を除去する。
【0047】
第１接続部８０は、補充部５０と送液部６０とを接続する。第１接続部８０は、例えば、切替バルブ７１を有する。切替バルブ７１は、制御装置１００の動作指示に基づき、補充部５０と送液部６０との間を開閉する。切替バルブ７１は、補充部５０の送出管５５と送液部６０の送液管６１との接続箇所に設けられている。切替バルブ７１は、例えば、エアオペレーションバルブである。
【0048】
切替バルブ７１は、第１接続バルブ６７及び第２接続バルブ６８の少なくとも一方の開度変化率よりも小さい開度変化率で開閉してもよい。開度変化率とは、単位時間あたりのバルブの開度の変化の割合である。バルブが閉状態から開状態に切り替わる場合、開度変化率は、バルブの開度の増加率である。バルブが開状態から閉状態に切り替わる場合、開度変化率は、バルブの開度の減少率である。例えば、切替バルブ７１として、第１接続バルブ６７及び第２接続バルブ６８の少なくとも一方の動作速度よりも遅い動作速度で開閉するバルブが用いられてもよい。あるいは、制御装置１００により、第１接続バルブ６７及び第２接続バルブ６８の少なくとも一方の動作速度よりも遅くなるように、切替バルブ７１の開閉動作が制御されてもよい。制御装置１００により、開度が徐々に変化するように切替バルブ７１の開閉動作が制御されることで、上記開度変化率の関係が満たされてもよい。
【0049】
第２接続部９０は、送液部６０と吐出部３０とを接続する。第２接続部９０は、例えば、吐出バルブ７２を有する。吐出バルブ７２は、制御装置１００の動作指令に基づき、送液部６０と吐出部３０との間を開閉する。吐出バルブ７２は、送液部６０の送液管６１と吐出部３０の送液管３２との接続箇所に設けられている。吐出バルブ７２は、例えば、エアオペレーションバルブである。
【0050】
吐出バルブ７２と第１接続バルブ６７（第２接続バルブ６８）との開度変化率の関係は、切替バルブ７１と第１接続バルブ６７（第２接続バルブ６８）との開度変化率の関係と同様であってもよい。つまり、吐出バルブ７２は、第１接続バルブ６７及び第２接続バルブ６８の少なくとも一方の開度変化率よりも小さい開度変化率で開閉してもよい。
【0051】
（制御装置）
続いて、図５及び図６を参照して、制御装置１００について詳細に説明する。制御装置１００は、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた後に切替バルブ７１を開くことと、切替バルブ７１が開かれた状態で補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させることと、を実行するように構成されている。
続いて、図５及び図６を参照して、制御装置１００について詳細に説明する。制御装置１００は、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた後に切替バルブ７１を開くことと、切替バルブ７１が開かれた状態で補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させることと、を実行するように構成されている。
【0052】
図５に示されるように、制御装置１００は、機能上のモジュール（以下、「機能モジュール」という。）として、動作指令保持部１０２と、第１圧力取得部１０３と、第２圧力取得部１０４と、流量取得部１０５と、液圧取得部１０６と、処理液供給制御部１０１と、を備える。
【0053】
動作指令保持部１０２は、液処理ユニットＵ１において実行される液処理手順を規定する動作指令を保持する。この動作指令には、ノズル３１から処理液を吐出する際の吐出圧力の目標値（設定値）、ノズル３１から処理液を吐出させる実行時間、補充圧力及び補充流量の目標値（設定値）、並びに補充部５０から送液部６０に処理液を補充させる実行時間等が含まれてもよい。
【0054】
第１圧力取得部１０３は、圧力測定部５４から測定値を取得する。具体的には、第１圧力取得部１０３は、補充部５０においてポンプ５６とポンプ駆動部５７との間の接続管内の圧力（ポンプ５６への駆動圧）を示す測定値を取得する。第１圧力取得部１０３は、取得した測定値を処理液供給制御部１０１に出力する。
【0055】
第２圧力取得部１０４は、圧力測定部６６から測定値を取得する。具体的には、第２圧力取得部１０４は、送液部６０においてポンプ７６とポンプ駆動部７７との間の接続管内の圧力（ポンプ７６への駆動圧）を示す測定値を取得する。第２圧力取得部１０４は、取得した測定値を処理液供給制御部１０１に出力する。
【0056】
流量取得部１０５は、流量測定部６５から測定値を取得する。具体的には、流量取得部１０５は、ポンプ７６とポンプ駆動部７７との間の接続管内のポンプ７６を駆動するための気体の流量を示す測定値を取得する。流量取得部１０５は、取得した測定値を処理液供給制御部１０１に出力する。
【0057】
液圧取得部１０６は、圧力測定部６９から測定値を取得する。具体的には、液圧取得部１０６は、フィルタ６３と圧送部６４（ポンプ７６）との間の処理液の圧力を示す測定値を取得する。液圧取得部１０６は、取得した測定値を処理液供給制御部１０１に出力する。
【0058】
処理液供給制御部１０１は、ノズル３１から処理液を吐出させるように処理液供給部２９を制御する。処理液供給制御部１０１は、例えば、機能モジュールとして、吐出準備部１１１と、吐出制御部１１２と、ベント準備部１１３と、ベント制御部１１４と、補充準備部１１５と、補充制御部１１６と、を備える。
【0059】
吐出準備部１１１は、ノズル３１から処理液を吐出するための準備を行うように構成されている。具体的には、吐出準備部１１１は、ノズル３１からの処理液の吐出を開始する前に、送液部６０内の処理液の圧力（以下、「送液部６０内の圧力」という。）を調節する。吐出準備部１１１は、吐出バルブ７２が閉じた状態で、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させるように送液部６０内の圧力を変更する。吐出準備部１１１は、例えば、圧力測定部６９から得られる測定値に基づいて、送液部６０内の圧力が設定値に近づくように、ポンプ駆動部７７を制御する。吐出準備部１１１は、圧力測定部６９の測定値と上記設定値との偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。吐出準備部１１１は、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させた状態で吐出バルブ７２を開く。
【0060】
吐出制御部１１２は、ノズル３１から処理液をウェハＷに向けて吐出させるように構成されている。具体的には、吐出制御部１１２は、吐出準備部１１１により、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差が縮小され、吐出バルブ７２が開かれた状態で、ノズル３１からウェハＷへ処理液を吐出させる。吐出制御部１１２は、ノズル３１まで送られる処理液の圧力（以下、「吐出圧力」という。）を目標値に追従させるように圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御する。吐出制御部１１２は、目標値を一定の設定値Ｐｄに維持することにより、ノズル３１からウェハＷに向けて略一定の流量で処理液を吐出させる。吐出制御部１１２は、圧力測定部６９の測定値と上記設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。
【0061】
ベント準備部１１３は、送液部６０から補充部５０に処理液を戻す処理（以下、「ベント」という。）のための準備を行うように構成されている。具体的には、ベント準備部１１３は、ベント開始前に、補充部５０内の処理液の圧力（以下、「補充部５０内の圧力」という。）と送液部６０内の圧力とを調節することで、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させる。ベント準備部１１３は、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた状態で切替バルブ７１を開く。
【0062】
ベント制御部１１４は、送液部６０から補充部５０に処理液を戻すベントを実行させるように構成されている。ベント制御部１１４は、ベント準備部１１３により補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小された状態で、圧送部６４（ポンプ７６）から圧送部５３（ポンプ５６）に処理液を送るベントを開始させる。ベント制御部１１４は、例えば、圧送部６４から圧送部５３に送られる処理液の圧力（以下、「ベント圧力」という。）が略一定に維持され、当該処理液の単位時間あたりの流量（以下、「ベント流量」という。）が略一定に維持されるように、圧送部６４（ポンプ駆動部７７）及び圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御してもよい。
【0063】
補充準備部１１５は、補充部５０から送液部６０へ処理液を補充するための準備を行うように構成されている。具体的には、補充準備部１１５は、補充部５０から送液部６０への処理液の補充前に、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させ、当該圧力差を縮小させた状態で切替バルブ７１を開く。補充準備部１１５は、例えば、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように補充部５０内の圧力を変更する。補充準備部１１５は、補充準備を開始させる前の補充部５０内と送液部６０内との圧力差に比べて、補充準備後において上記圧力差を少なくとも縮小させていればよい。一例として、補充準備部１１５は、補充部５０内の圧力が送液部６０内の圧力に略一致するように、補充部５０内の圧力を変更する。
【0064】
補充準備の一例として、補充準備部１１５は、まず、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小するように圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御する。補充準備部１１５は、圧力測定部５４の測定値が、設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７を制御してもよい。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部５４の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。次に、補充準備部１１５は、切替バルブ７１が開き、吐出バルブ７２と第２接続バルブ６８とが閉じた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が設定値（例えば、設定値Ｐｄ）に近づくように圧送部５３を制御する。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。
【0065】
次に、補充準備部１１５は、切替バルブ７１と吐出バルブ７２とが閉じ、第２接続バルブ６８が開いた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、送液部６０内の圧力が上記設定値（例えば、設定値Ｐｄ）に近づくように圧送部６４を制御する。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節する。
【0066】
補充制御部１１６は、補充部５０から送液部６０へ処理液を補充させるように構成されている。具体的には、補充制御部１１６は、補充準備部１１５により切替バルブ７１が開かれた状態で（切替バルブ７１が開いた後に）、補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させる。一例として、補充制御部１１６は、補充準備部１１５により切替バルブ７１が開かれ、補充部５０内の圧力の調節、送液部６０内の圧力の調節、及び切替バルブ７１の開状態への再切替えが順に実行された後に、送液部６０への処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、補充準備部１１５が補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた状態で、補充部５０から送液部６０へ処理液を補充させる。
【0067】
補充制御部１１６は、圧送部５３から圧送部６４に送られる処理液の圧力（以下、「補充圧力」という。）を目標値に追従させるように、圧送部５３及び圧送部６４のいずれか一方を制御する。補充圧力の目標値への追従制御を実行しつつ、補充制御部１１６は、処理液の単位時間あたりの流量（以下、「補充流量」という。）を目標値に追従させるように、圧送部５３（ポンプ駆動部５７）及び圧送部６４（ポンプ駆動部７７）の他方を制御する。補充制御部１１６は、補充開始から補充完了まで圧送部５３及び圧送部６４を制御することで、補充圧力の追従制御と補充流量の追従制御とを行う。補充圧力の追従制御の実行期間と補充流量の追従制御の実行期間とは、少なくとも一部が重複していればよい。一例として、補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３を制御しつつ、補充流量を目標値に追従させるように圧送部６４を制御する。
【0068】
補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、補充開始から補充終了まで補充圧力の目標値を吐出圧力の目標値（設定値Ｐｄ）に設定してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。補充制御部１１６は、補充流量を目標値に追従させる制御において、補充開始から補充終了まで補充流量の目標値を一定の値に設定してもよい。例えば、補充制御部１１６は、流量測定部６５の測定値に基づいて、補充流量が目標値に追従するようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。なお、補充制御部１１６は、流量測定部６５に代えて、送液管６１又は分岐管６２ｂに設けられた流量計を用いて、補充流量の追従制御を行ってもよい。
【0069】
制御装置１００は、一つ又は複数の制御用コンピュータにより構成される。例えば、制御装置１００は、図６に示される回路１２０を有する。回路１２０は、一つ又は複数のプロセッサ１２１と、メモリ１２２と、ストレージ１２３と、入出力ポート１２４と、タイマ１２５と、を備える。
【0070】
ストレージ１２３は、例えばハードディスク等、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体を有する。記憶媒体は、後述の液処理手順を塗布・現像装置２に実行させるためのプログラムを記録している。記憶媒体は、不揮発性の半導体メモリ、磁気ディスク及び光ディスク等の取り出し可能な媒体であってもよい。メモリ１２２は、ストレージ１２３の記憶媒体からロードしたプログラム及びプロセッサ１２１による演算結果を一時的に記録する。プロセッサ１２１は、メモリ１２２と協働して上記プログラムを実行することで、上述した各機能モジュールを構成する。入出力ポート１２４は、圧送部５３，６４、切替バルブ７１、第１接続バルブ６７、第２接続バルブ６８、吐出バルブ７２、圧力測定部５４，６６，６９、及び流量測定部６５等との間で電気信号の入出力を行う。タイマ１２５は、例えば一定周期の基準パルスをカウントすることで経過時間を計測する。
【0071】
なお、制御装置１００のハードウェア構成は、必ずしもプログラムにより各機能モジュールを構成するものに限られない。例えば制御装置１００の各機能モジュールは、専用の論理回路又はこれを集積したＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）により構成されていてもよい。
【0072】
【0073】
図７に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ０１，Ｓ０２を順に実行する。ステップＳ０１では、例えば、吐出準備部１１１が、ノズル３１からの処理液の吐出の準備として、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させるように処理液供給部２９を制御する。ステップＳ０２では、例えば、吐出制御部１１２が、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差が縮小した状態で、ノズル３１から処理液をウェハＷに向けて吐出させるように処理液供給部２９を制御する。吐出準備処理及び吐出処理の詳細については後述する。
【0074】
次に、制御装置１００は、ステップＳ０３，Ｓ０４を順に実行する。ステップＳ０３では、例えば、ベント準備部１１３が、送液部６０から補充部５０に処理液を戻すベントの準備として、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように処理液供給部２９を制御する。ステップＳ０４では、例えば、ベント制御部１１４が、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小した状態で、送液部６０から補充部５０に処理液を戻すように（ベントを実行させるように）処理液供給部２９を制御する。ベント準備処理及びベント処理の詳細については後述する。
【0075】
次に、制御装置１００は、ステップＳ０５，Ｓ０６を順に実行する。ステップＳ０５では、例えば、補充準備部１１５が、補充部５０から送液部６０に処理液を補充する準備として、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように処理液供給部２９を制御する。ステップＳ０６では、例えば、補充制御部１１６が、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小した状態で、補充部５０から送液部６０に処理液を補充させるように処理液供給部２９を制御する。補充準備処理及び補充処理の詳細については後述する。以上により、一連の液処理手順が終了する。なお、液処理手順では、ステップＳ０３，Ｓ０４のベント準備処理及びベント処理が省略されてもよく、複数回の液処理ごとに１回のベントが行われてもよい。
【0076】
（吐出準備手順）
図８（ａ）は、ステップＳ０１の吐出準備処理の一例を示すフローチャートである。図８（ａ）に示されるように、制御装置１００は、最初にステップＳ１１を実行する。ステップＳ１１では、吐出準備部１１１が、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、第１接続バルブ６７、及び第２接続バルブ６８が閉じた状態において、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。
図８（ａ）は、ステップＳ０１の吐出準備処理の一例を示すフローチャートである。図８（ａ）に示されるように、制御装置１００は、最初にステップＳ１１を実行する。ステップＳ１１では、吐出準備部１１１が、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、第１接続バルブ６７、及び第２接続バルブ６８が閉じた状態において、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。
【0077】
次に、制御装置１００は、ステップＳ１２，Ｓ１３を実行する。ステップＳ１２では、吐出準備部１１１が、送液部６０内の圧力を調節する。吐出準備部１１１は、例えば、図９（ａ）に示されるように、圧力測定部６９による測定値に基づいて、送液部６０内の圧力を調節する。吐出準備部１１１は、圧力測定部６９による測定値が吐出圧力の設定値Ｐｄに追従するように（近づくように）、ポンプ駆動部７７を制御してもよい。例えば、吐出準備部１１１は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。図９（ａ）では、圧力測定部６９に直接及び間接的に接続されている管路が太い線で示されており、開状態のバルブが白抜きで示され、閉状態のバルブが黒塗りで示されている。
【0078】
吐出準備部１１１は、ステップＳ１２の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ１２，Ｓ１３を繰り返す。所定時間は、圧力測定部６９の測定値が設定値Ｐｄに略一致するまで、送液部６０内の圧力の調節が繰り返されるように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。なお、吐出準備部１１１は、所定時間の経過に代えて、送液部６０内の圧力が設定値Ｐｄを含む設定範囲に達するまで、ステップＳ１２の処理を繰り返してもよい。ステップＳ１２，Ｓ１３が行われることで、吐出準備部１１１が、吐出バルブ７２が閉じた状態で、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させる。
【0079】
所定時間が経過したと判断された場合、吐出準備部１１１はステップＳ１４を実行する。ステップＳ１４では、例えば、吐出準備部１１１が、切替バルブ７１及び第１接続バルブ６７を閉じた状態に維持し、第２接続バルブ６８を開いた状態に維持したまま、吐出バルブ７２を閉状態から開状態に切り替える。この際、吐出準備部１１１は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、吐出バルブ７２を閉状態から開状態に切り替えてもよい。以上により、吐出準備部１１１は吐出準備処理を終了する。
【0080】
（吐出手順）
図８（ｂ）は、ステップＳ０２の吐出手順を示すフローチャートである。例えば、吐出準備部１１１により送液部６０内と吐出部３０内との圧力差が縮小され、吐出バルブ７２が開かれた状態で、図８（ｂ）に示されるように、制御装置１００が、ステップＳ２１，Ｓ２２を実行する。ステップＳ２１では、吐出制御部１１２が、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を調節する。ステップＳ２１において、吐出制御部１１２は、吐出圧力の設定値Ｐｄで処理液を吐出部３０に送るように圧送部６４（ポンプ７６の収縮部）の制御を開始する。これにより、吐出制御部１１２は、吐出バルブ７２が開かれた状態でノズル３１からの処理液の吐出を開始させる。吐出制御部１１２は、吐出開始後においても吐出圧力の調節を継続する。
図８（ｂ）は、ステップＳ０２の吐出手順を示すフローチャートである。例えば、吐出準備部１１１により送液部６０内と吐出部３０内との圧力差が縮小され、吐出バルブ７２が開かれた状態で、図８（ｂ）に示されるように、制御装置１００が、ステップＳ２１，Ｓ２２を実行する。ステップＳ２１では、吐出制御部１１２が、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を調節する。ステップＳ２１において、吐出制御部１１２は、吐出圧力の設定値Ｐｄで処理液を吐出部３０に送るように圧送部６４（ポンプ７６の収縮部）の制御を開始する。これにより、吐出制御部１１２は、吐出バルブ７２が開かれた状態でノズル３１からの処理液の吐出を開始させる。吐出制御部１１２は、吐出開始後においても吐出圧力の調節を継続する。
【0081】
吐出制御部１１２は、例えば、図９（ｂ）に示されるように、圧力測定部６９による測定値に基づいてポンプ駆動部７７（ポンプ７６から処理液に加わる圧力）を調節する。吐出制御部１１２は、処理液の吐出圧力を設定値Ｐｄに追従させるようにポンプ駆動部７７を調節してもよい。吐出制御部１１２は、圧力測定部６９による測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からのポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。吐出制御部１１２は、ステップＳ２１の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ２１，Ｓ２２の処理を繰り返す。
【0082】
ステップＳ２２において所定時間が経過したと判断された場合、制御装置１００は、ステップＳ２３を実行する。ステップＳ２３では、吐出制御部１１２が、切替バルブ７１及び第１接続バルブ６７を閉じた状態に維持したまま、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。ステップＳ２３において、吐出制御部１１２は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、吐出バルブ７２を開状態から閉状態に切り替えてもよい。吐出バルブ７２が閉じられた後、送液部６０内の圧力は設定値Ｐｄに近い値に維持されている。上記所定時間は、動作指令保持部１０２が保持する動作指令に定められており、例えば、１回あたりの液処理において使用される処理液の量に応じて予め設定されている。制御装置１００が、ステップＳ０２の実行中に、ウェハＷが回転するように回転保持部２０を制御することで、ウェハＷの表面Ｗａにレジスト塗布膜が形成されてもよい。
【0083】
（ベント準備手順）
図１０は、ステップＳ０３のベント準備手順の一例を示すフローチャートである。図１０に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ３１を実行する。ステップＳ３１では、ベント準備部１１３が、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小するように、補充部５０内の圧力を調節する。ベント準備部１１３は、例えば、補充部５０内の圧力が待機圧Ｐｗ１から吐出圧力の設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７（ポンプ５６内の圧力）を制御する。待機圧Ｐｗ１は、ステップＳ０１，Ｓ０２の実行中において補充部５０内の圧力が維持される設定値であり、吐出圧力の設定値Ｐｄよりも大きくてもよい。
図１０は、ステップＳ０３のベント準備手順の一例を示すフローチャートである。図１０に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ３１を実行する。ステップＳ３１では、ベント準備部１１３が、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小するように、補充部５０内の圧力を調節する。ベント準備部１１３は、例えば、補充部５０内の圧力が待機圧Ｐｗ１から吐出圧力の設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７（ポンプ５６内の圧力）を制御する。待機圧Ｐｗ１は、ステップＳ０１，Ｓ０２の実行中において補充部５０内の圧力が維持される設定値であり、吐出圧力の設定値Ｐｄよりも大きくてもよい。
【0084】
次に、制御装置１００は、ステップＳ３２を実行する。ステップＳ３２では、ベント準備部１１３が、第１接続バルブ６７、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替える。この際、ベント準備部１１３は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率で切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替えてもよい。
【0085】
次に、制御装置１００は、ステップＳ３３，Ｓ３４を実行する。ステップＳ３３では、ベント準備部１１３が、圧力測定部６９による測定値に基づき、補充部５０内の圧力を再調節する。ベント準備部１１３は、例えば、圧力測定部６９による測定値が設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７を制御する。なお、ステップＳ３３では、切替バルブ７１が開かれ、補充部５０と送液部６０とが接続されているが、送液部６０の圧送部６４が圧力測定部６９に繋がる管路から切り離されているので、補充部５０内の圧力が調節される。ベント準備部１１３は、ステップＳ３３の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ３３，Ｓ３４の処理を繰り返す。所定時間は、補充部５０内の圧力が設定値Ｐｄに略一致するまで、補充部５０内の圧力の調節が繰り返されるように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0086】
ステップＳ３４において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ３５を実行する。ステップＳ３５では、ベント準備部１１３が、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替え、第１接続バルブ６７を閉状態から開状態に切り替える。この際、ベント準備部１１３は、第１接続バルブ６７よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替えてもよい。
【0087】
次に、制御装置１００は、ステップＳ３６，Ｓ３７を実行する。ステップＳ３６では、ベント準備部１１３が、圧力測定部６９による測定値に基づき、送液部６０内の圧力を調節する。ベント準備部１１３は、例えば、圧力測定部６９による測定値が設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部７７を制御する。ベント準備部１１３は、ステップＳ３６の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ３６，Ｓ３７の処理を繰り返す。所定時間は、送液部６０内の圧力が設定値Ｐｄに略一致するまで、送液部６０内の圧力の調節が繰り返されるように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0088】
ステップＳ３７において、所定時間が経過したと判断されると、ベント準備部１１３は、ステップＳ３８を実行する。ステップＳ３８では、ベント制御部１１４が、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持し、第１接続バルブ６７を開いた状態に維持したまま、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替える。この際、ベント制御部１１４は、第１接続バルブ６７よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替えてもよい。以上により、ベント準備部１１３は、ベント準備手順を終了する。
【0089】
（ベント制御）
図１１は、ベント制御手順の一例を示すフローチャートである。図１１に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ４１，Ｓ４２を実行する。ステップＳ４１では、ベント制御部１１４が、送液部６０の圧送部６４から補充部５０の圧送部５３に送られる処理液のベント圧力、及び当該処理液のベント流量を調節する。ステップＳ４１において、ベント制御部１１４は、ベント圧力及びベント流量の調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することでベントを開始させ、ベント開始後においてもベント圧力及びベント流量の調節を継続する。ベント制御部１１４は、例えば、ベント圧力（圧力測定部６９による測定値）が目標値に追従するように、ポンプ駆動部５７を制御してポンプ７６内を減圧する。また、ベント制御部１１４は、流量測定部６５による測定値に基づいて、ベント流量が目標値に追従するように、ポンプ駆動部７７を制御する。ベント圧力及びベント流量の上記目標値は、例えば、ベント完了まで一定の値に設定されてもよい。ベント制御部１１４は、ステップＳ４１の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ４１，Ｓ４２の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内にベントが終了するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
図１１は、ベント制御手順の一例を示すフローチャートである。図１１に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ４１，Ｓ４２を実行する。ステップＳ４１では、ベント制御部１１４が、送液部６０の圧送部６４から補充部５０の圧送部５３に送られる処理液のベント圧力、及び当該処理液のベント流量を調節する。ステップＳ４１において、ベント制御部１１４は、ベント圧力及びベント流量の調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することでベントを開始させ、ベント開始後においてもベント圧力及びベント流量の調節を継続する。ベント制御部１１４は、例えば、ベント圧力（圧力測定部６９による測定値）が目標値に追従するように、ポンプ駆動部５７を制御してポンプ７６内を減圧する。また、ベント制御部１１４は、流量測定部６５による測定値に基づいて、ベント流量が目標値に追従するように、ポンプ駆動部７７を制御する。ベント圧力及びベント流量の上記目標値は、例えば、ベント完了まで一定の値に設定されてもよい。ベント制御部１１４は、ステップＳ４１の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ４１，Ｓ４２の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内にベントが終了するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0090】
ステップＳ４２において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ４３を実行する。ステップＳ４３では、ベント制御部１１４が、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１及び第１接続バルブ６７を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。この際、ベント制御部１１４は、第１接続バルブ６７よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替えてもよい。以上により、ベント制御部１１４は、ベント制御手順を終了する。
【0091】
（補充準備）
図１２は、ステップＳ０５の補充準備手順の一例を示すフローチャートである。図１２に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ５１を実行する。ステップＳ５１では、補充準備部１１５が、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように、補充部５０内の圧力を調節する。補充制御部１１６は、例えば、図１４（ａ）に示されるように、圧力測定部５４による測定値に基づいて圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御する。
図１２は、ステップＳ０５の補充準備手順の一例を示すフローチャートである。図１２に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ５１を実行する。ステップＳ５１では、補充準備部１１５が、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように、補充部５０内の圧力を調節する。補充制御部１１６は、例えば、図１４（ａ）に示されるように、圧力測定部５４による測定値に基づいて圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御する。
【0092】
補充制御部１１６は、補充部５０内の圧力が吐出圧力の設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７を制御してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部５４の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節してもよい。ベントが行われない場合（ステップＳ０３，Ｓ０４が省略される場合）、ステップＳ０５の開始前に、補充部５０内は待機圧Ｐｗ１に維持されている。したがって、この場合には、補充制御部１１６は、補充部５０内の圧力が待機圧Ｐｗ１から設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７を制御する。
【0093】
次に、制御装置１００は、ステップＳ５２を実行する。ステップＳ５２では、補充準備部１１５が、図１４（ｂ）に示されるように、第１接続バルブ６７、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替える。この際、補充準備部１１５は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替えてもよい。
【0094】
次に、制御装置１００は、ステップＳ５３，Ｓ５４を実行する。ステップＳ５３では、補充準備部１１５が、圧力測定部６９による測定値に基づき、補充部５０内の圧力を再調節する。具体的には、補充準備部１１５は、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が予め定められた設定値に近づくように、圧送部５３を制御する。補充準備部１１５は、例えば、圧力測定部６９による測定値が設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部５７を制御してもよい。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。補充準備部１１５は、ステップＳ５３の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ５３，Ｓ５４の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に補充部５０内の圧力（圧送部５３と圧送部６４との間の圧力）が設定値Ｐｄに略一致するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0095】
ステップＳ５４において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ５５を実行する。ステップＳ５５では、補充準備部１１５が、図１４（ｃ）に示されるように、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替え、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。この際、補充準備部１１５は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替えてもよい。
【0096】
次に、制御装置１００は、ステップＳ５６，Ｓ５７を実行する。ステップＳ５６では、補充準備部１１５が、圧力測定部６９による測定値に基づき、送液部６０内の圧力を調節する。具体的には、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値に基づいて、送液部６０内の圧力が、ステップＳ５３で用いた設定値に近づくように圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御する。補充準備部１１５は、圧力測定部６９による測定値が設定値Ｐｄに近づくようにポンプ駆動部７７を制御してもよい。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節する。補充準備部１１５は、ステップＳ５６の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ５６，Ｓ５７の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に送液部６０内の圧力が設定値Ｐｄに略一致するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0097】
ステップＳ５７において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ５８を実行する。ステップＳ５８では、補充制御部１１６が、第２接続バルブ６８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持し、第２接続バルブ６８を開いた状態に維持したまま、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替える。この際、補充制御部１１６は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替えてもよい。以上により、補充準備部１１５は補充準備手順を終了する。
【0098】
（補充制御）
図１３は、補充制御手順の一例を示すフローチャートである。図１３に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ６１，Ｓ６２を実行する。ステップＳ６１では、補充制御部１１６が、補充部５０の圧送部５３から送液部６０の圧送部６４に送られる処理液の補充圧力、及び当該処理液の補充流量を調節する。補充制御部１１６は、補充圧力及び補充流量の調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することで処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、補充開始後においても補充圧力及び補充流量の調節を継続する。具体的には、補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４のいずれか一方を制御しつつ、補充流量を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４の他方を制御する。補充制御部１１６は、図１４（ｄ）に示されるように、例えば、圧力測定部６９による測定値に基づいて、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御してもよい。補充制御部１１６は、流量測定部６５による測定値に基づいて、補充流量を目標値に追従させるように圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御してもよい。
図１３は、補充制御手順の一例を示すフローチャートである。図１３に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ６１，Ｓ６２を実行する。ステップＳ６１では、補充制御部１１６が、補充部５０の圧送部５３から送液部６０の圧送部６４に送られる処理液の補充圧力、及び当該処理液の補充流量を調節する。補充制御部１１６は、補充圧力及び補充流量の調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することで処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、補充開始後においても補充圧力及び補充流量の調節を継続する。具体的には、補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４のいずれか一方を制御しつつ、補充流量を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４の他方を制御する。補充制御部１１６は、図１４（ｄ）に示されるように、例えば、圧力測定部６９による測定値に基づいて、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御してもよい。補充制御部１１６は、流量測定部６５による測定値に基づいて、補充流量を目標値に追従させるように圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御してもよい。
【0099】
補充制御部１１６は、ステップＳ６１の実行開始から所定時間が経過するまでステップＳ６１，Ｓ６２の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に送液部６０（ポンプ７６）への処理液の補充が完了するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、所定時間が経過するまで（処理液の補充が完了するまで）補充圧力の目標値を吐出圧力の設定値Ｐｄ（吐出圧力の目標値）に設定してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｄとの偏差がゼロに近づき、当該偏差がゼロに略一致する状態が維持されるように、補充開始から補充完了まで、ポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節してもよい。
【0100】
ステップＳ６２において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ６３を実行する。ステップＳ６３では、補充制御部１１６が、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１及び第２接続バルブ６８を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。この際、補充制御部１１６は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替えてもよい。
【0101】
次に、制御装置１００は、ステップＳ６４を実行する。ステップＳ６４では、制御装置１００が、補充部５０のポンプ５６内の圧力及び送液部６０のポンプ７６内の圧力をそれぞれ調節する。制御装置１００は、例えば、圧力測定部５４による測定値に基づいてポンプ駆動部５７を制御することにより、ポンプ５６内の圧力（補充部５０内の圧力）を待機圧Ｐｗ１に調節する。制御装置１００は、例えば、圧力測定部６６による測定値に基づいてポンプ駆動部７７を制御することにより、ポンプ７６内の圧力を待機圧Ｐｗ２に調節する。待機圧Ｐｗ２は、待機圧Ｐｗ１よりも小さくてもよい。以上により、補充制御部１１６は、補充制御手順を終了する。
【0102】
［実施形態の効果］
以上説明した塗布・現像装置２は、ウェハＷに処理液を吐出するノズル３１を有する吐出部３０と、処理液を吐出部３０に送る送液部６０と、吐出部３０に送るための処理液を送液部６０に補充する補充部５０と、補充部５０と送液部６０との間を開閉する切替バルブ７１を有する第１接続部８０と、補充部５０から送液部６０に補充される処理液に含まれる異物を除去するフィルタ６３と、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた後に切替バルブ７１を開く補充準備部１１５と、補充準備部１１５により切替バルブ７１が開かれた状態で、補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させる補充制御部１１６と、を備える。
以上説明した塗布・現像装置２は、ウェハＷに処理液を吐出するノズル３１を有する吐出部３０と、処理液を吐出部３０に送る送液部６０と、吐出部３０に送るための処理液を送液部６０に補充する補充部５０と、補充部５０と送液部６０との間を開閉する切替バルブ７１を有する第１接続部８０と、補充部５０から送液部６０に補充される処理液に含まれる異物を除去するフィルタ６３と、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた後に切替バルブ７１を開く補充準備部１１５と、補充準備部１１５により切替バルブ７１が開かれた状態で、補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させる補充制御部１１６と、を備える。
【0103】
上述した塗布・現像装置２の制御方法は、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた後に切替バルブ７１を開くことと、切替バルブ７１が開かれた状態で、補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させることと、を含む。
【0104】
仮に補充部５０内と送液部６０内との圧力差が大きい状態で切替バルブ７１が開くと、補充部５０から送液部６０に処理液を補充するための流路内に処理液のハンチングが生じる可能性がある。処理液のハンチングとは、処理液が流路内を往復することを意味する。処理液のハンチングが生じると、処理液がフィルタ６３を往復するように通過するので、フィルタ６３からパーティクルが発生し易くなる。これに対して、上記塗布・現像装置２及び上記制御方法では、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小された後に切替バルブ７１が開かれる。このため、処理液のハンチングに起因するパーティクルの発生が抑制される。従って、塗布・現像装置２及び上記制御方法は、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に有用である。
【0105】
上述の実施形態において、フィルタ６３は、送液部６０内に設けられている。補充部５０内と送液部６０内との圧力差が大きい状態で切替バルブ７１が開くと、送液部６０内において、フィルタ６３からパーティクルが発生する程度の処理液のハンチングが生じるおそれがある。これに対して、上記構成では、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小された後に切替バルブ７１が開かれる。そのため、送液部６０内での処理液のハンチングに起因したパーティクルの発生の抑制に有用である。
【0106】
上述の実施形態において、送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、を有する。補充部５０は、液源５１と、液源５１から送液部６０に処理液を送り出す圧送部５３と、を有する。補充制御部１１６は、圧送部５３から圧送部６４への補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４のいずれか一方を制御する。補充制御部１１６は、圧送部５３から圧送部６４への補充流量を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４の他方を制御する。この場合、補充流量を調節しつつ、補充中の処理液の圧力を調節することができる。その結果、パーティクルの低減に適した液圧で処理液の補充を行うことが可能となる。
【0107】
上述の実施形態において、塗布・現像装置２は、送液部６０と吐出部３０との間を開閉する吐出バルブ７２と、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させるように送液部６０内の圧力を変更した後に吐出バルブ７２を開く吐出準備部１１１と、吐出準備部１１１により吐出バルブ７２が開かれた状態で、ノズル３１からウェハＷへの処理液の吐出を開始させる吐出制御部１１２と、を備える。この場合、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させた状態で、吐出バルブ７２が開かれるので、吐出バルブ７２を開くことに伴う処理液のハンチングを抑制することができる。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクルの低減に更に有用である。
【0108】
上述の実施形態において、送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、を有する。切替バルブ７１は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率で開閉する。切替バルブ７１の開閉動作に伴って、開閉動作中に液圧の変動が生じる。上記構成では、小さい開度変化率で切替バルブ７１の開閉動作が行われることで、フィルタ６３に作用する液圧の急激な変動が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクルの低減に更に有用である。
【0109】
上述の実施形態において、補充準備部１１５は、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように補充部５０内の圧力を変更する。この場合、切替バルブ７１が開かれる前に、補充部５０内の圧力が変更されて補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小されているので、切替バルブ７１が開くことに伴って発生する処理液のハンチングが抑制される。
【0110】
上述の実施形態において、塗布・現像装置２は、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように圧送部６４を制御する吐出制御部１１２を備える。補充準備部１１５は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、処理液の補充が完了するまで補充圧力の目標値を吐出圧力の目標値に設定する。この場合、処理液の補充中において、フィルタ６３に作用する圧力の変動が抑えられるので、フィルタ６３からのパーティクルの発生を更に抑制することができる。
【0111】
上述の実施形態において、塗布・現像装置２は、送液部６０と吐出部３０との間を開閉する吐出バルブ７２と、を備える。送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、フィルタ６３と圧送部６４との間の圧力を測定する圧力測定部６９と、を有する。補充部５０は、液源５１と、液源５１から送液部６０に処理液を送り出す圧送部５３と、を有する。補充準備部１１５は、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小するように、圧送部５３を制御することと、切替バルブ７１が開き、吐出バルブ７２と第２接続バルブ６８とが閉じた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が設定値に近づくように圧送部５３を制御することと、切替バルブ７１と吐出バルブ７２とが閉じ、第２接続バルブ６８が開いた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、送液部６０内の圧力が上記設定値に近づくように圧送部６４を制御することと、を順に実行する。この場合、切替バルブ７１を開いた状態で、同じ圧力測定部６９の測定値に基づいて補充部５０内の圧力と送液部６０内の圧力とが同一の設定値に近づけられるので、補充開始前に補充部５０内と送液部６０内との圧力差が更に縮小される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に更に有用である。
【0112】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、吐出後の処理液中に含まれるパーティクルの個数の測定結果の一例を示すグラフである。図１５（ａ）及び図１５（ｂ）では、縦軸がパーティクルの個数を示している。図１５（ａ）に示す測定結果と図１５（ｂ）に示す測定結果では、測定対象のパーティクルの大きさの最小値が互いに異なっている。図１５（ｂ）に示す測定結果での上記最小値は、図１５（ａ）に示す測定結果での上記最小値よりも大きい。
【0113】
「比較例」の測定では、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させずに切替バルブ７１を開き、切替バルブ７１が開いた状態で補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させた。吐出圧力の目標値は設定値Ｐｄに維持し、補充準備での送液部６０内の圧力を設定値Ｐｒに近づけるように調節し、吐出前の待機及び吐出中での補充部５０内の圧力を設定値Ｐｒに維持した。設定値Ｐｒは、設定値Ｐｄよりも大きい。
【0114】
「条件１」の測定では、補充中に補充圧力の目標値を設定値Ｐｄに維持しなかった点を除き、上述した実施形態と同様に液処理手順を実行した。「条件１」では、処理液の補充処理において、補充圧力の目標値への追従制御を行うことなく、送液部６０に補充される補充流量が略一定となるように補充部５０の圧送部５３（ポンプ駆動部５７）を制御した。「条件２」の測定では、上述した実施形態と同様に液処理手順を実行した。図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示されるように、切替バルブ７１が閉じた状態で上記圧力差を縮小させることで、処理液中に含まれるパーティクルの個数が減少していることが確認された。また、条件１と条件２との測定結果を比較すると、補充圧力を略一定に維持することにより、パーティクルの個数がより減少していることがわかる。
【0115】
図１６（ａ）には、比較例での圧力測定部６９の測定値（液圧）の時間変動が示されている。図１６（ｂ）には、条件２での圧力測定部６９の測定値（液圧）の時間変動が示されている。図１６（ａ）及び図１６（ｂ）に示す時間変動では、ベント準備及びベンド処理が省略された場合の測定値が示されている。比較例では、吐出終了後の補充準備の段階において、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が大きい状態で切替バルブ７１が開かれている。図１６（ａ）に示されるように、補充準備において、液圧が設定値Ｐｒを中心として上下に変動している。この圧力変動は、上述した処理液のハンチングを表している。一方、条件２の測定結果では、吐出終了後の補充準備の段階において、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させた状態で切替バルブ７１が開かれている。図１６（ｂ）に示されるように、補充準備において、上記処理液のハンチング（圧力変動）が、比較例と比べて明らかに小さい。このハンチングの抑制が、パーティクル減少の要因の一つであると考えられる。また、処理液の補充中において、補充圧力が略一定に維持されている。この補充圧力を略一定に維持することも、パーティクル減少の要因の一つであると考えられる。
【0116】
以上、第１実施形態について説明したが、本開示は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
【0117】
（変形例１）
上述した例では、吐出処理において、フィルタ６３を介さずに送液部６０から吐出部３０に処理液が送られるが、吐出処理はこれに限られない。例えば、送液部６０は、吐出部３０に処理液を送る際に、分岐管６２ｂに代えて分岐管６２ａと、送液管６１とを経て吐出部３０に処理液を送ってもよい。吐出準備手順において（ステップＳ１２と同様の処理において）、図１７（ａ）に示されるように、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、第２接続バルブ６８が閉じ、第１接続バルブ６７が開いた状態で、吐出準備部１１１は、圧力測定部６９の測定値に基づいてポンプ駆動部７７を制御することで、送液部６０内の圧力を調節してもよい。
上述した例では、吐出処理において、フィルタ６３を介さずに送液部６０から吐出部３０に処理液が送られるが、吐出処理はこれに限られない。例えば、送液部６０は、吐出部３０に処理液を送る際に、分岐管６２ｂに代えて分岐管６２ａと、送液管６１とを経て吐出部３０に処理液を送ってもよい。吐出準備手順において（ステップＳ１２と同様の処理において）、図１７（ａ）に示されるように、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、第２接続バルブ６８が閉じ、第１接続バルブ６７が開いた状態で、吐出準備部１１１は、圧力測定部６９の測定値に基づいてポンプ駆動部７７を制御することで、送液部６０内の圧力を調節してもよい。
【0118】
そして、吐出準備部１１１は、ステップＳ２１～Ｓ２３と同様の制御を実行することで、吐出バルブ７２が開いた状態で、ノズル３１から処理液を吐出させてもよい。この際、図１７（ｂ）に示されるように、圧送部６４（ポンプ７６）からフィルタ６３を経て吐出部３０に処理液が送られる。処理液の吐出中において、切替バルブ７１及び第２接続バルブ６８が閉じ、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２が開いた状態で、吐出準備部１１１は、例えば、圧力測定部６９の測定値に基づいてポンプ駆動部７７を制御することで、送液部６０内の圧力を調節する。
【0119】
（変形例２）
上述した例では、補充処理において、補充開始から補充完了まで補充圧力が設定値Ｐｄに略一定に維持されるが、補充中の補充圧力の目標値はこれに限られない。例えば、補充準備部１１５は、吐出圧力の設定値Ｐｄが処理液の補充に適さない場合には、補充開始時において補充圧力が設定値Ｐｄとは異なる圧力になるように補充準備を実行してもよい。そして、補充制御部１１６が、処理液の補充中において補充圧力が徐々に設定値Ｐｄに近づくように、補充圧力の目標値への追従制御を実行してもよい。図１８（ａ）は、補充開始時の圧力を吐出圧力の設定値Ｐｄよりも高くした場合の一例を示している。図１８（ｂ）は、補充開始時の圧力を吐出圧力の設定値Ｐｄよりも低くした場合の一例を示している。
上述した例では、補充処理において、補充開始から補充完了まで補充圧力が設定値Ｐｄに略一定に維持されるが、補充中の補充圧力の目標値はこれに限られない。例えば、補充準備部１１５は、吐出圧力の設定値Ｐｄが処理液の補充に適さない場合には、補充開始時において補充圧力が設定値Ｐｄとは異なる圧力になるように補充準備を実行してもよい。そして、補充制御部１１６が、処理液の補充中において補充圧力が徐々に設定値Ｐｄに近づくように、補充圧力の目標値への追従制御を実行してもよい。図１８（ａ）は、補充開始時の圧力を吐出圧力の設定値Ｐｄよりも高くした場合の一例を示している。図１８（ｂ）は、補充開始時の圧力を吐出圧力の設定値Ｐｄよりも低くした場合の一例を示している。
【0120】
図１８（ａ）に示されるように、補充準備部１１５は、ステップＳ０５の補充準備処理において、補充部５０内の圧力及び送液部６０内の圧力が設定値Ｐｄよりも大きい設定値となるように処理液供給部２９を制御してもよい。補充制御部１１６は、補充圧力の目標値を、補充開始から補充完了まで、設定値Ｐｄよりも大きい設定値から徐々に設定値Ｐｄ（吐出圧力の目標値）に近づけてもよい。これにより、ステップＳ０６の補充処理において、補充圧力が設定値Ｐｄよりも大きい値から、吐出時の吐出圧力に略等しい設定値Ｐｄに徐々に減少していく。
【0121】
図１８（ｂ）に示されるように、補充準備部１１５は、ステップＳ０５の補充準備処理において、補充部５０内の圧力及び送液部６０内の圧力が設定値Ｐｄよりも小さい設定値となるように処理液供給部２９を制御してもよい。補充制御部１１６は、補充圧力の目標値を、補充開始から補充完了まで、設定値Ｐｄよりも小さい設定値から徐々に設定値Ｐｄ（吐出圧力の目標値）に近づけてもよい。これにより、ステップＳ０６の補充処理において、補充圧力が設定値Ｐｄよりも小さい値から、吐出時の吐出圧力に略等しい設定値Ｐｄに徐々に増加していく。
【0122】
この変形例２に係る塗布・現像装置２は、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように圧送部６４を制御する吐出制御部１１２を備える。補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、処理液の補充が完了するまで補充圧力の目標値を徐々に吐出圧力の目標値（設定値Ｐｄ）に近づける。この場合、補充圧力が処理液の補充に適した圧力に設定された状態で処理液の補充を開始しつつ、補充中に吐出圧力の目標値に近づけることができる。その結果、より効率的に液処理を行うことが可能となる。
【0123】
なお、上記実施形態に係る液処理手順において、補充準備部１１５は、ステップＳ５３での補充部５０内圧力の調節と、ステップＳ５６での送液部６０内圧力の調節とを省略してもよい。この場合、補充準備部１１５が、待機圧の調節により圧力差を縮小させ（ステップＳ５１の処理を行い）、補充開始の直前に切替バルブ７１を開いた後に、補充制御部１１６が処理液の補充を開始してもよい。
【0124】
［第２実施形態］
続いて、図１９～図２３を参照して、第２実施形態に係る基板処理システムが備える塗布・現像装置２について説明する。第２実施形態に係る塗布・現像装置２において実行される液処理手順は、ステップＳ０５の補充準備手順及びステップＳ０６の補充制御手順が第１実施形態と相違する。この液処理手順では、例えば、吐出圧力の目標値が設定値Ｐｄに設定されており、吐出開始前及び補充開始前の送液部６０内の圧力並びに補充圧力が設定値Ｐｒに設定されている。設定値Ｐｒは、設定値Ｐｄよりも大きい。
続いて、図１９～図２３を参照して、第２実施形態に係る基板処理システムが備える塗布・現像装置２について説明する。第２実施形態に係る塗布・現像装置２において実行される液処理手順は、ステップＳ０５の補充準備手順及びステップＳ０６の補充制御手順が第１実施形態と相違する。この液処理手順では、例えば、吐出圧力の目標値が設定値Ｐｄに設定されており、吐出開始前及び補充開始前の送液部６０内の圧力並びに補充圧力が設定値Ｐｒに設定されている。設定値Ｐｒは、設定値Ｐｄよりも大きい。
【0125】
補充準備部１１５は、例えば、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように送液部６０内の圧力を変更する。補充準備部１１５は、補充準備を開始させる前の補充部５０内と送液部６０内との圧力差に比べて、補充準備後において上記圧力差を少なくとも縮小させていればよい。一例として、補充準備部１１５は、送液部６０内の圧力が補充部５０内の圧力に略一致するように、送液部６０内の圧力を変更する。このように、第１実施形態に係る補充準備では、上記圧力差を縮小させるために補充部５０内の圧力が変更されるのに対して、第２実施形態に係る補充準備では送液部６０内の圧力が変更される。
【0126】
補充準備の一例として、まず、補充準備部１１５は、切替バルブ７１と吐出バルブ７２とが閉じ、第２接続バルブ６８が開いた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、送液部６０内の圧力が設定値（例えば、設定値Ｐｒ）に近づくように圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御する。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への圧力を調節する。次に、補充準備部１１５は、切替バルブ７１を開いた後に、吐出バルブ７２と第２接続バルブ６８とが閉じた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が上記設定値（例えば、設定値Ｐｒ）に近づくように圧送部５３を制御する。例えば、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への圧力を調節する。
【0127】
補充制御部１１６は、補充準備部１１５により例えば、送液部６０内の圧力が調節され、切替バルブ７１が開かれた状態で補充部５０内の圧力が調節された後に、補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、切替バルブ７１が開いた状態で補充部５０から送液部６０へ処理液を補充させる。補充制御部１１６は、第１実施形態と同様に、圧送部５３及び圧送部６４を制御することで補充圧力の追従制御と補充流量の追従制御とを行う。補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、補充開始から補充終了まで補充圧力の目標値を設定値Ｐｒに設定してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。
【0128】
（補充準備）
図１９は、第２実施形態に係る補充準備手順を示すフローチャートである。この補充準備手順では、例えば補充部５０内の圧力が設定値Ｐｒに維持されている状態で、制御装置１００が最初にステップＳ１５１を実行する。ステップＳ１５１では、例えば、補充制御部１１６が、図２１（ａ）に示されるように、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、及び第１接続バルブ６７を閉状態に維持したまま、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。
図１９は、第２実施形態に係る補充準備手順を示すフローチャートである。この補充準備手順では、例えば補充部５０内の圧力が設定値Ｐｒに維持されている状態で、制御装置１００が最初にステップＳ１５１を実行する。ステップＳ１５１では、例えば、補充制御部１１６が、図２１（ａ）に示されるように、切替バルブ７１、吐出バルブ７２、及び第１接続バルブ６７を閉状態に維持したまま、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。
【0129】
次に、制御装置１００は、ステップＳ１５２，Ｓ１５３を実行する。ステップＳ１５２では、補充制御部１１６が、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように、送液部６０内の圧力を調節する。補充制御部１１６は、例えば、図２１（ａ）に示されるように、圧力測定部６９による測定値に基づいて圧送部６４（ポンプ駆動部７７）を制御する。補充制御部１１６は、送液部６０内の圧力が補充圧力の設定値Ｐｒに近づくようにポンプ駆動部７７を制御してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部７７からポンプ７６への駆動圧を調節してもよい。補充制御部１１６は、ステップＳ１５２の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ１５２，Ｓ１５３の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に送液部６０内の圧力が設定値Ｐｒに略一致するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0130】
ステップＳ１５３において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ１５４を実行する。ステップＳ１５４では、補充準備部１１５が、図２１（ｂ）に示されるように、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替え、第２接続バルブ６８を開状態から閉状態に切り替える。この際、補充準備部１１５は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を閉状態から開状態に切り替えてもよい。
【0131】
次に、制御装置１００は、ステップＳ１５５，Ｓ１５６を実行する。ステップＳ１５５では、例えば、補充準備部１１５が、圧力測定部６９による測定値に基づき、補充部５０内（圧送部５３と圧送部６４との間）の圧力を調節する。具体的には、補充準備部１１５は、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力がステップＳ１５２で用いられた設定値に近づくように圧送部５３を制御してもよい。補充準備部１１５は、例えば、圧力測定部６９による測定値が設定値Ｐｒに近づくようにポンプ駆動部５７を制御する。一例として、補充準備部１１５は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。補充準備部１１５は、ステップＳ１５５の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ１５５，Ｓ１５６の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が設定値Ｐｒに略一致するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0132】
ステップＳ１５６において、所定時間が経過したと判断されると、補充準備部１１５は、ステップＳ１５７を実行する。ステップＳ１５７では、補充制御部１１６が、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持し、切替バルブ７１を開いた状態に維持したまま、第２接続バルブ６８を閉状態から開状態に切り替える。以上により、補充準備部１１５は、補充準備手順を終了する。
【0133】
第１実施形態に係る補充準備手順では、切替バルブ７１が閉じた状態での補充部５０内の圧力調節、切替バルブ７１が開いた状態での補充部５０内の圧力の再調節、及び切替バルブ７１が閉じた状態での送液部６０内の圧力調節が、この順で行われる。これに対して、上述の第２実施形態に係る補充準備手順では、切替バルブ７１が閉じた状態での送液部６０内の圧力調節、及び切替バルブ７１が開いた状態での補充部５０内の圧力調節が、この順で行われる。
【0134】
（補充制御）
図２０は、第２実施形態に係る補充制御手順の一例を示すフローチャートである。図２０に示されるように、制御装置１００は、ステップＳ１６１，Ｓ１６２を実行する。ステップＳ１６２では、補充制御部１１６が、補充部５０の圧送部５３から送液部６０の圧送部６４に送られる処理液の補充圧力、及び当該処理液の補充流量を調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することにより、処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、例えば、図２１（ｃ）に示されるように、ステップＳ６１，Ｓ６２と同様に、補充圧力及び補充流量の目標値への追従制御をそれぞれ実行する。
図２０は、第２実施形態に係る補充制御手順の一例を示すフローチャートである。図２０に示されるように、制御装置１００は、ステップＳ１６１，Ｓ１６２を実行する。ステップＳ１６２では、補充制御部１１６が、補充部５０の圧送部５３から送液部６０の圧送部６４に送られる処理液の補充圧力、及び当該処理液の補充流量を調節するために圧送部５３及び圧送部６４の制御を開始することにより、処理液の補充を開始させる。補充制御部１１６は、例えば、図２１（ｃ）に示されるように、ステップＳ６１，Ｓ６２と同様に、補充圧力及び補充流量の目標値への追従制御をそれぞれ実行する。
【0135】
補充制御部１１６は、ステップＳ１６２の実行開始から所定時間が経過するまでステップＳ１６１，Ｓ１６２の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に送液部６０（ポンプ７６）への処理液の補充が完了するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、所定時間が経過するまで（処理液の補充が完了するまで）、補充圧力の目標値を設定値Ｐｒに設定してもよい。例えば、補充制御部１１６は、圧力測定部６９の測定値と設定値Ｐｒとの偏差がゼロに近づき、当該偏差がゼロに略一致する状態が維持されるように、補充開始から補充完了まで、ポンプ駆動部５７からポンプ５６への駆動圧を調節する。
【0136】
ステップＳ１６２において、所定時間が経過したと判断されると、制御装置１００は、ステップＳ１６３を実行する。ステップＳ１６３では、補充制御部１１６が、ステップＳ６４と同様に、第１接続バルブ６７及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、切替バルブ７１及び第２接続バルブ６８を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。この際、補充制御部１１６は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率（遅い動作速度）で、切替バルブ７１を開状態から閉状態に切り替えてもよい。
【0137】
次に、制御装置１００は、ステップＳ１６４を実行する。ステップＳ１６４では、制御装置１００が、補充部５０のポンプ５６内の圧力及び送液部６０のポンプ７６内の圧力をそれぞれ調節する。制御装置１００は、例えば、圧力測定部５４による測定値に基づいてポンプ駆動部５７を制御することにより、ポンプ５６内の圧力（補充部５０内の圧力）を設定値Ｐｒ（待機圧）に調節する。制御装置１００は、例えば、圧力測定部６６による測定値に基づいてポンプ駆動部７７を制御することにより、ポンプ７６内の圧力を設定値Ｐｒよりも小さい待機圧に調節する。以上により、補充制御部１１６は、補充制御手順を終了する。
【0138】
第２実施形態に係る液処理手順において行われる処理液の吐出制御では、図９（ｂ）に示されるように、圧送部６４（ポンプ７６）からフィルタ６３を介さずに処理液が吐出部３０に送られてもよい。あるいは、図１７（ｂ）に示されるように、圧送部６４（ポンプ７６）からフィルタ６３を介して処理液が吐出部３０に送られてもよい。
【0139】
第２実施形態に係る液処理手順において行われるベント準備手順において、上述の補充準備と同様に、切替バルブ７１が閉じた状態での送液部６０内の圧力調節、及び切替バルブ７１が開いた状態での補充部５０内の圧力調節が、この順で行われてもよい。
【0140】
［第２実施形態の効果］
以上説明した第２実施形態に係る塗布・現像装置２及び液処理手順においても、第１実施形態と同様に、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小された後に切替バルブ７１が開かれる。このため、切替バルブ７１を開いた際に、補充部５０から送液部６０に処理液を補充するための流路内での処理液のハンチングの発生が抑制される。上述の第２実施形態では、送液部６０内にフィルタ６３が設けられ、送液部６０内において処理液のハンチングの発生が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に有用である。
以上説明した第２実施形態に係る塗布・現像装置２及び液処理手順においても、第１実施形態と同様に、補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小された後に切替バルブ７１が開かれる。このため、切替バルブ７１を開いた際に、補充部５０から送液部６０に処理液を補充するための流路内での処理液のハンチングの発生が抑制される。上述の第２実施形態では、送液部６０内にフィルタ６３が設けられ、送液部６０内において処理液のハンチングの発生が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に有用である。
【0141】
上述の第２実施形態において、補充準備部１１５は、切替バルブ７１が閉じた状態で、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させるように送液部６０内の圧力を変更する。この場合、切替バルブ７１が開かれる前に、送液部６０内の圧力が変更されて補充部５０内と送液部６０内との圧力差が縮小されているので、切替バルブ７１が開くことに伴って発生する処理液のハンチングが抑制される。なお、送液部６０の圧送部６４（ポンプ７６）内の処理液の容積は、補充部５０の圧送部５３（ポンプ５６）内の処理液の容積よりも小さい場合が多い。また、フィルタ６３及び圧力測定部６９までの配管容積について、補充部５０側に比べて送液部６０側が小さい（圧送部６４と圧力測定部６９との間の距離が、圧送部５３と圧力測定部６９との間の距離よりも短い）場合が多い。従って、上記構成では送液部６０内の圧力を変更するので、第１実施形態と比べて、高い分解能での（より高精度な）圧力制御及び迅速な圧力制御が可能となる。
【0142】
上述の第２実施形態において、送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、を有する。補充部５０は、液源５１と、液源５１から送液部６０に処理液を送り出す圧送部５３と、を有する。補充制御部１１６は、圧送部５３から圧送部６４への補充圧力を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４のいずれか一方を制御する。補充制御部１１６は、圧送部５３から圧送部６４への補充流量を目標値に追従させるように圧送部５３及び圧送部６４の他方を制御する。この場合、補充流量を調節しつつ、補充中の処理液の圧力を調節することができる。その結果、パーティクルの低減に適した液圧で処理液の補充を行うことが可能となる。
【0143】
上述の第２実施形態において、塗布・現像装置２は、送液部６０と吐出部３０との間を開閉する吐出バルブ７２と、送液部６０内と吐出部３０内の圧力差を縮小させるように送液部６０内の圧力を変更した後に吐出バルブ７２を開く吐出準備部１１１と、吐出準備部１１１により吐出バルブ７２が開かれた状態で、ノズル３１からウェハＷへの処理液の吐出を開始させる吐出制御部１１２と、を備える。この場合、送液部６０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させた状態で、吐出バルブ７２が開かれるので、吐出バルブ７２を開くことに伴う処理液のハンチングを抑制することができる。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクルの低減に更に有用である。
【0144】
上述の第２実施形態において、送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、を有する。切替バルブ７１は、第２接続バルブ６８よりも小さい開度変化率で開閉する。切替バルブ７１の開閉動作に伴って、開閉動作中に液圧の変動が生じる。上記構成では、小さい開度変化率で切替バルブ７１の開閉動作が行われることで、フィルタ６３に作用する液圧の急激な変動が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクルの低減により有用である。
【0145】
上述の第２実施形態において、塗布・現像装置２は、補充部５０と送液部６０との間を開閉する切替バルブ７１と、送液部６０と吐出部３０との間を開閉する吐出バルブと、を備える。送液部６０は、フィルタ６３を介して補充部５０と吐出部３０とを接続する送液管６１と、送液管６１を経て補充部５０から処理液を受け入れ、送液管６１を経て吐出部３０に処理液を送り出す圧送部６４と、送液管６１と圧送部６４との間を開閉する第２接続バルブ６８と、フィルタ６３と圧送部６４との間の圧力を測定する圧力測定部６９と、を有する。補充部５０は、液源５１と、液源５１から送液部６０に処理液を送り出す圧送部５３と、を有する。補充準備部１１５は、切替バルブ７１と吐出バルブ７２とが閉じ、第２接続バルブ６８が開いた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、送液管６１内の圧力が設定値に近づくように圧送部６４を制御することと、切替バルブ７１が開き、吐出バルブ７２と第２接続バルブ６８とが閉じた状態で、圧力測定部６９の測定値に基づいて、圧送部５３と圧送部６４との間の圧力が上記設定値に近づくように圧送部５３を制御することと、を順に実行する。この場合、同じ圧力測定部６９の測定値に基づいて補充部５０内の圧力と送液部６０内の圧力とが同一の設定値に近づけられるので、補充開始前に補充部５０内と送液部６０内との圧力差がより確実に縮小される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に更に有用である。なお、第１実施形態と異なり切替バルブ７１が閉じた状態で先に送液部６０内の圧力が調節されるので、補充部５０内の圧力の調節幅が小さい。このため、処理液の補充開始前に送液部６０側の圧力と補充部５０側の圧力とを設定値に合わせる場合であっても、第１実施形態に比べて迅速な圧力制御が可能となる。
【0146】
図２２は、吐出後の処理液中に含まれるパーティクルの個数の測定結果の一例を示すグラフである。図２２では、縦軸がパーティクルの個数を示している。図２２には、「比較例１」での測定結果、「比較例２」での測定結果、「条件１」での測定結果、及び「条件２」での測定結果が示されている。比較例１及び比較例２の測定では、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させずに切替バルブ７１を開き、切替バルブ７１が開いた状態で補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させた。比較例１では、処理液の吐出においてフィルタ６３を介して処理液を吐出させた。比較例２では、処理液の吐出においてフィルタ６３を介さずに処理液を吐出させた。
【0147】
条件１及び条件２では、上記第２実施形態に係る液処理手順と同様に、補充部５０内と送液部６０内との圧力差を縮小させて切替バルブ７１を開き、切替バルブ７１が開いた状態で補充部５０から送液部６０への処理液の補充を開始させた。条件１では、処理液の吐出においてフィルタ６３を介して処理液を吐出させた。条件２では、処理液の吐出においてフィルタ６３を介さずに処理液を吐出させた。比較例１、比較例２、条件１、及び条件２のいずれの場合でも、処理液の補充時の圧力は、吐出圧力の設定値Ｐｄよりも大きい設定値Ｐｒに設定した。
【0148】
比較例１と条件１との測定結果を比べると、上記圧力差を縮小させて切替バルブ７１を開くことで、パーティクルの個数が減少していることがわかる。比較例２と条件２との測定結果を比べると、上記圧力差を縮小させて切替バルブ７１を開くことで、パーティクルの個数が減少していることがわかる。図２３（ａ）には、条件２での圧力測定部６９の測定値（液圧）の時間変動が示されている。圧力差を縮小させずに切替バルブ７１を開く場合での液圧の時間変動（例えば、図１４（ａ）に示す時間変動）と比べて、補充準備での処理液のハンチング（圧力変動）が小さいことがわかる。このハンチングの抑制がパーティクル減少の要因であると考えられる。なお、条件２では、補充中の処理液の補充圧力の目標値は、設定値Ｐｒに維持して測定を行った。
【0149】
（変形例）
補充中の処理液の補充圧力の目標値は、上述のように設定値Ｐｒに維持されてもよいが、処理液の補充が完了するまで補充圧力の目標値を徐々に吐出圧力の目標値に近づけてもよい。図２３（ｂ）は、補充開始時の圧力が設定値Ｐｒに設定され、補充中に補充圧力を設定値Ｐｄに近づける場合の液圧の時間変動を示している。補充制御部１１６は、補充圧力の目標値への追従制御において、補充圧力の目標値を、補充開始から補充完了まで、設定値Ｐｒから徐々に設定値Ｐｄ（吐出圧力の目標値）に近づけてもよい。これにより、ステップＳ０６の補充処理において、補充圧力が設定値Ｐｒから吐出時の吐出圧力に略等しい設定値Ｐｄに徐々に減少していく。
補充中の処理液の補充圧力の目標値は、上述のように設定値Ｐｒに維持されてもよいが、処理液の補充が完了するまで補充圧力の目標値を徐々に吐出圧力の目標値に近づけてもよい。図２３（ｂ）は、補充開始時の圧力が設定値Ｐｒに設定され、補充中に補充圧力を設定値Ｐｄに近づける場合の液圧の時間変動を示している。補充制御部１１６は、補充圧力の目標値への追従制御において、補充圧力の目標値を、補充開始から補充完了まで、設定値Ｐｒから徐々に設定値Ｐｄ（吐出圧力の目標値）に近づけてもよい。これにより、ステップＳ０６の補充処理において、補充圧力が設定値Ｐｒから吐出時の吐出圧力に略等しい設定値Ｐｄに徐々に減少していく。
【0150】
上記変形例に係る塗布・現像装置２は、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように圧送部６４を制御する吐出制御部１１２を備える。補充制御部１１６は、補充圧力を目標値に追従させる制御において、処理液の補充が完了するまで補充圧力の目標値を徐々に吐出圧力の目標値に近づける。この場合、補充圧力が処理液の補充に適した圧力に設定された状態で処理液の補充を開始しつつ、補充中に吐出圧力の目標値に近づけることができる。その結果、より効率的に液処理を行うことが可能となる。
【0151】
なお、第２実施形態に係る液処理手順において、補充圧力の設定値Ｐｒと吐出圧力の設定値Ｐｄとが略等しい値に設定されてもよい。
【0152】
［第３実施形態］
続いて、図２４～図２９を参照して、第３実施形態に係る基板処理システムが備える塗布・現像装置２について説明する。第３実施形態に係る塗布・現像装置２の液処理ユニットＵ１は、処理液供給部２９に代えて、処理液供給部２９Ａを備える。処理液供給部２９Ａは、処理液供給部２９と同様に、回転保持部２０に回転保持されたウェハＷに処理液を供給する。処理液供給部２９Ａは、図２４に示されるように、吐出部３０と、送液部２１０と、第１接続部２３０（接続部）と、補充部２５０と、第２接続部９０と、を備える。
続いて、図２４～図２９を参照して、第３実施形態に係る基板処理システムが備える塗布・現像装置２について説明する。第３実施形態に係る塗布・現像装置２の液処理ユニットＵ１は、処理液供給部２９に代えて、処理液供給部２９Ａを備える。処理液供給部２９Ａは、処理液供給部２９と同様に、回転保持部２０に回転保持されたウェハＷに処理液を供給する。処理液供給部２９Ａは、図２４に示されるように、吐出部３０と、送液部２１０と、第１接続部２３０（接続部）と、補充部２５０と、第２接続部９０と、を備える。
【0153】
送液部２１０は、処理液を吐出部３０に送る。具体的には、送液部２１０は、処理液を所定の圧力で吐出部３０（ノズル３１）に向けて送り出す。送液部２１０は、第２接続部９０（吐出バルブ７２）を介して吐出部３０に接続されている。送液部２１０と吐出部３０との間は、吐出バルブ７２によって開閉される。送液部２１０は、例えば、送液管２１２と、圧送部２１４（吐出用圧送部）と、を備える。
【0154】
送液管２１２は、処理液を吐出部３０に導く。具体的には、送液管２１２は、吐出部３０の送液管３２の上流側における端部に吐出バルブ７２を介して接続されている。圧送部２１４は、補充部２５０から処理液を受け入れ、受け入れた処理液を加圧して吐出部３０に向けて送り出す。圧送部２１４は、例えば、ポンプ２１６と、出力バルブ２１８と、ポンプ駆動部２２２と、圧力測定部２２４と、を備える。
【0155】
ポンプ２１６は、処理液を収容する収容室と、収容室を収縮させる収縮部とを有する。ポンプ２１６は、収縮部により収容室を拡大して処理液を受け入れ、収縮部により収容室を収縮させて処理液を送り出す。ポンプ２１６として、例えば、チューブフラムポンプ、ダイヤフラムポンプ、又はベローズポンプが用いられてもよい。出力バルブ２１８は、送液管２１２に設けられており、制御装置１００の動作指示に基づき、送液管２１２内の流路を開閉する。出力バルブ２１８は、例えば、エアオペレーションバルブである。
【0156】
ポンプ駆動部２２２は、制御装置１００の動作指示に基づき、ポンプ２１６を駆動する。具体的には、ポンプ駆動部２２２は、ポンプ２１６の収容室を収縮させるように収縮部を動作させる（駆動する）。例えば、ポンプ駆動部２２２は、気体により収縮部を動作させるエアオペレーション型の駆動部である。ポンプ駆動部２２２は、上記気体の圧力（駆動圧）を調節することで、ポンプ２１６の収容室を収縮させてもよい。圧力測定部２２４は、ポンプ２１６内の圧力に関する情報を取得する。例えば、圧力測定部２２４は、ポンプ２１６とポンプ駆動部２２２との間の接続管内の圧力を測定する。圧力測定部２２４は、測定値を制御装置１００に出力する。
【0157】
第１接続部２３０は、送液部２１０と補充部２５０との間を接続する。送液部２１０は、第１接続部２３０を介して処理液を受け入れる。第１接続部２３０は、例えば、接続管２３２と、フィルタ２３４と、第１切替バルブ２３６（切替バルブ）と、第２切替バルブ２３８と、を備える。
【0158】
接続管２３２は、送液部２１０（ポンプ２１６）まで処理液を導く。具体的には、接続管２３２の下流側の端部は送液部２１０に接続されており、接続管２３２の上流側の端部は補充部２５０に接続されている。このように、接続管２３２は、送液部２１０（ポンプ２１６）と補充部２５０との間を接続しており、補充部２５０から送液部２１０に処理液を補充するための流路を形成している。フィルタ２３４は、接続管２３２に設けられており、処理液に含まれる異物を除去する。具体的には、フィルタ２３４は、接続管２３２内の流路を流れる処理液（補充部２５０から送液部２１０に補充される処理液）に含まれる異物を除去する。
【0159】
第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８は、送液部２１０と補充部２５０との間を開閉する。第１切替バルブ２３６は、接続管２３２のうちのフィルタ２３４の下流に設けられている。第１切替バルブ２３６は、制御装置１００の動作指示に基づき、接続管２３２内の流路においてフィルタ２３４と送液部２１０との間を開閉する。第２切替バルブ２３８は、接続管２３２のうちのフィルタ２３４の上流に設けられている。第２切替バルブ２３８は、制御装置１００の動作指示に基づき、接続管２３２内の流路においてフィルタ２３４と補充部２５０との間を開閉する。第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８は、例えば、エアオペレーションバルブである。
【0160】
補充部２５０は、吐出部３０に向けて送るための処理液を送液部２１０に補充する。補充部２５０は、例えば、液源２５２と、貯留タンク２５４と、圧送部２５６（補充用圧送部）と、送液管２６２と、を備える。
【0161】
液源２５２は、送液部２１０に補充される処理液の供給源である。液源２５２は、送液管２６２を介して圧送部２５６に処理液を供給する。貯留タンク２５４は、送液管２６２に設けられており、圧送部２５６に供給するための処理液を一時的に貯留する。
【0162】
圧送部２５６は、貯留タンク２５４から第１接続部２３０を通して送液部２１０に向けて処理液を送り出す。圧送部２５６は、貯留タンク２５４から処理液を受け入れて、受け入れた処理液を加圧して第１接続部２３０に送り出す。圧送部２５６は、例えば、ポンプ２６６と、ポンプ駆動部２７２と、圧力測定部２７４と、を備える。
【0163】
ポンプ２６６は、処理液を収容する収容室と、収容室を収縮させる収縮部とを有する。ポンプ２６６は、収縮部により収容室を拡大して処理液を受け入れ、収縮部により収容室を収縮させて処理液を送り出す。ポンプ２６６として、例えば、チューブフラムポンプ、ダイヤフラムポンプ、又はベローズポンプが用いられてもよい。
【0164】
ポンプ駆動部２７２は、制御装置１００の動作指示に基づき、ポンプ２６６を駆動する。具体的には、ポンプ駆動部２７２は、ポンプ２６６の収容室を収縮させるように収縮部を動作させる（駆動する）。例えば、ポンプ駆動部２７２は、気体により収縮部を動作させるエアオペレーション型の駆動部である。ポンプ駆動部２７２は、上記気体の圧力（駆動圧）を調節することで、ポンプ２６６の収容室を収縮させてもよい。圧力測定部２７４は、ポンプ２６６内の圧力に関する情報を取得する。例えば、圧力測定部２７４は、ポンプ２６６とポンプ駆動部２７２との間の接続管内の圧力を測定する。圧力測定部２７４は、測定値を制御装置１００に出力する。
【0165】
以上の処理液供給部２９Ａも、第１実施形態及び第２実施形態に係る処理液供給部２９と同様に、制御装置１００によって制御される。制御装置１００は、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させた後に第１切替バルブ２３６を開くことと、第１切替バルブ２３６が開かれた状態で補充部２５０から送液部２１０への処理液の補充を開始させることと、を実行するように構成されている。
【0166】
制御装置１００の吐出準備部１１１は、ノズル３１からの処理液の吐出を開始する前に、送液部２１０内の処理液の圧力を調節する。吐出準備部１１１は、出力バルブ２１８が開き、吐出バルブ７２が閉じた状態で、送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させるように送液部２１０内の圧力を変更する。吐出準備部１１１は、送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させた状態で吐出バルブ７２を開く。
【0167】
制御装置１００の補充準備部１１５は、補充部２５０から送液部２１０へ処理液を補充するための準備を行う。具体的には、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６と第２切替バルブ２３８とが閉じた状態で、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように補充部２５０内の圧力と送液部２１０内の圧力とを変更してもよい。その後、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６を閉じた状態に維持したまま、第２切替バルブ２３８を開いた後に、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように、補充部２５０（ポンプ２６６）と第２切替バルブ２３８との間の圧力と、送液部２１０内の圧力とを変更する。これらの処理により、補充準備を開始させる前の補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差に比べて、補充準備後において上記圧力差が縮小する。補充準備部１１５は、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させた状態で第１切替バルブ２３６を開く。
【0168】
補充準備部１１５は、補充準備を開始させる前の補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差に比べて、補充準備後において上記圧力差を少なくとも縮小させていればよい。一例として、補充準備部１１５は、補充部２５０内の圧力（第１接続部２３０内の圧力）が第１設定値Ｐｒ１に略一致するように圧送部２５６を制御し、送液部２１０内の圧力が第２設定値Ｐｒ２に略一致するように圧送部２１４を制御する。第１設定値Ｐｒ１と第２設定値Ｐｒ２とは、互いに略同一であってもよく、第１設定値Ｐｒ１が第２設定値Ｐｒ２よりも大きくてもよく、小さくてもよい。以下では、第１設定値Ｐｒ１が第２設定値Ｐｒ２よりも大きい値に設定されている場合を例示する。一例では、第１設定値Ｐｒ１は、第２設定値Ｐｒ２よりも１ｋＰａ～１５ｋＰａ程度大きい値に設定されている。
【0169】
補充準備の一例として、まず、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６と第２切替バルブ２３８とが閉じた状態で、補充部２５０内の圧力が第１設定値Ｐｒ１に近くづくように圧送部２５６を制御し、送液部２１０内の圧力が第２設定値Ｐｒ２に近づくように圧送部２１４を制御する。そして、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８を開いた後に、第１切替バルブ２３６を閉じた状態に維持したまま、第１接続部２３０内の圧力（補充部２５０から第１切替バルブ２３６までの間の圧力）が第１設定値Ｐｒ１に近くづくように圧送部２５６を制御し、送液部２１０内の圧力が第２設定値Ｐｒ２に近づくように圧送部２１４を制御する。補充準備部１１５は、補充準備の実行期間において、送液部２１０の出力バルブ２１８を閉じた状態に維持してもよい。
【0170】
図２５は、第３実施形態に係る液処理手順の一例を示すフローチャートである。図２５に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ２０１，Ｓ２０２を順に実行する。ステップＳ２０１では、例えば、吐出準備部１１１が、ノズル３１からの処理液の吐出の準備として、送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させるように処理液供給部２９Ａを制御する。ステップＳ２０２では、例えば、吐出制御部１１２が、送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差が縮小した状態で、ノズル３１から処理液をウェハＷに向けて吐出させるように処理液供給部２９Ａを制御する。ステップＳ２０１の吐出準備及びステップＳ２０２の吐出処理の詳細については後述する。
【0171】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２０３，Ｓ２０４を順に実行する。ステップＳ０３では、例えば、補充準備部１１５が、補充部２５０から送液部２１０に処理液を補充する準備として、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように処理液供給部２９Ａを制御する。ステップＳ２０４では、例えば、補充制御部１１６が、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差が縮小した状態で、補充部２５０から送液部２１０に処理液を補充させるように処理液供給部２９Ａを制御する。ステップＳ２０３の補充準備及びステップＳ０４の補充処理の詳細については後述する。以上により、一連の液処理手順が終了する。
【0172】
図２６（ａ）は、ステップＳ２０１の吐出準備手順の一例を示すフローチャートである。図２６（ａ）に示されるように、制御装置１００は、最初にステップＳ２１１を実行する。ステップＳ２１１では、例えば、吐出準備部１１１が、第１切替バルブ２３６、第２切替バルブ２３８、及び吐出バルブ７２が閉じた状態において、出力バルブ２１８を閉状態から開状態に切り替える。
【0173】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２１２，Ｓ２１３を実行する。ステップＳ２１２では、例えば、吐出準備部１１１が、送液部２１０内の圧力を調節する。吐出準備部１１１は、例えば、圧力測定部２２４による測定値に基づいて、送液部２１０内の圧力（送液管２１２内の圧力）を調節する。吐出準備部１１１は、圧力測定部２２４による測定値が吐出圧力の設定値Ｐｄに追従するように（近づくように）、ポンプ駆動部２２２を制御してもよい。例えば、吐出準備部１１１は、圧力測定部２２４の測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部２２２からポンプ２１６への駆動圧を調節してもよい。吐出準備部１１１は、送液部２１０内の圧力が設定値Ｐｄに達するまで、ステップＳ２１２，Ｓ２１３の処理を繰り返す。ステップＳ２１２，Ｓ２１３の実行により、吐出準備部１１１は、吐出バルブ７２が閉じた状態で、送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差を縮小させる。
【0174】
次に、制御装置１００はステップＳ２１４を実行する。ステップＳ２１４では、例えば、吐出準備部１１１が、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８を閉じた状態に維持し、出力バルブ２１８を開いた状態に維持したまま、吐出バルブ７２を閉状態から開状態に切り替える。以上により、吐出準備部１１１は吐出準備を終了する。
【0175】
図２５（ｂ）は、ステップＳ２０２の吐出制御手順の一例を示すフローチャートである。例えば、吐出準備部１１１により送液部２１０内と吐出部３０内との圧力差が縮小され、吐出バルブ７２が開かれた状態で、図２５（ｂ）に示されるように、制御装置１００が、ステップＳ２２１，Ｓ２２２を実行する。ステップＳ２２１では、吐出制御部１１２が、ノズル３１まで送られる処理液の吐出圧力を調節する。ステップＳ２２１において、吐出制御部１１２は、吐出圧力の設定値Ｐｄで処理液を吐出部３０に送るように圧送部２１４（ポンプ駆動部２２２）の制御を開始する。これにより、吐出制御部１１２は、吐出バルブ７２が開かれた状態でノズル３１からの処理液の吐出を開始させる。吐出制御部１１２は、吐出開始後においても吐出圧力の調節を継続する。
【0176】
吐出制御部１１２は、例えば、圧力測定部２２４による測定値に基づいてポンプ駆動部２２２（ポンプ２１６から処理液に加わる圧力）を調節する。吐出制御部１１２は、処理液の吐出圧力を設定値Ｐｄに追従させるようにポンプ駆動部２２２を調節してもよい。吐出制御部１１２は、圧力測定部２２４による測定値と設定値Ｐｄとの偏差に応じて、当該偏差がゼロに近づくようにポンプ駆動部２２２からのポンプ２１６への駆動圧を調節してもよい。吐出制御部１１２は、ステップＳ２２１の実行開始から所定時間が経過するまで、ステップＳ２２１，Ｓ２２２の処理を繰り返す。上記所定時間は、動作指令保持部１０２が保持する動作指令に定められており、例えば、１回あたりの液処理において使用される処理液の量に応じて予め設定されている。
【0177】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２２３，Ｓ２２４を順に実行する。ステップＳ２２３では、例えば、吐出制御部１１２が、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８を閉じた状態に維持したまま、出力バルブ２１８及び吐出バルブ７２を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。ステップＳ２３４では、例えば、吐出制御部１１２が、圧力測定部２２４による測定値に基づいてポンプ駆動部２２２を制御することにより、送液部２１０内の圧力（ポンプ２１６内の圧力）を待機圧Ｐｓ２に調節する。なお、ステップＳ２０１，Ｓ２０２の吐出準備及び吐出処理が実行されている間において、制御装置１００は、圧送部２５６により、補充部２５０内の圧力（ポンプ２６６内の圧力）を待機圧Ｐｓ１に維持させてもよい。待機圧Ｐｓ１は、待機圧Ｐｓ２よりも大きくてもよい。補充部２５０内の待機圧Ｐｓ１は、上記第１設定値Ｐｒ１よりも大きい値に予め定められていてもよい。送液部２１０内の待機圧Ｐｓ２は、上記第２設定値Ｐｒ２よりも大きい値に予め定められていてもよい。
【0178】
図２７は、ステップＳ２０３の補充準備手順の一例を示すフローチャートである。図２７に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ２３１，Ｓ２３２を実行する。ステップＳ２３１では、例えば、補充準備部１１５が、第１切替バルブ２３６と第２切替バルブ２３８とが閉じた状態で、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように、補充部２５０内の圧力と送液部２１０内の圧力とを調節する。補充制御部１１６は、例えば、図２８（ａ）に示されるように、補充部２５０内の圧力を調節するために、圧力測定部２７４による測定値に基づいてポンプ駆動部２７２を制御する。また、補充制御部１１６は、送液部２１０内の圧力を調節するために、圧力測定部２２４による測定値に基づいてポンプ駆動部２２２を制御する。
【0179】
一例では、補充準備部１１５は、補充部２５０内の圧力が待機圧Ｐｓ１から第１設定値Ｐｒ１に近づくようにポンプ駆動部２７２を制御し、送液部２１０内の圧力が待機圧Ｐｓ２から第２設定値Ｐｒ２に近づくようにポンプ駆動部２２２を制御する。補充準備部１１５は、補充部２５０内の圧力が第１設定値Ｐｒ１に達し、送液部２１０内の圧力が第２設定値Ｐｒ２に達するまで、ステップＳ２３１，Ｓ２３２の処理を繰り返す。ステップＳ２３１，Ｓ２３２の実行により、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させる。
【0180】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２３３を実行する。ステップＳ２３３では、例えば、補充準備部１１５が、第１切替バルブ２３６、出力バルブ２１８、及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、第２切替バルブ２３８を閉状態から開状態に切り替える。
【0181】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２３４，Ｓ２３５を順に実行する。ステップＳ２３４では、例えば、補充準備部１１５が、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、第１接続部２３０内（ポンプ２６６と第１切替バルブ２３６との間）と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように、第１接続部２３０内の圧力（ポンプ２６６の圧力）と送液部２１０内の圧力とを調節する。補充制御部１１６は、例えば、図２８（ｂ）に示されるように、第１接続部２３０内の圧力を調節するために、圧力測定部２７４による測定値に基づいてポンプ駆動部２７２を制御する。また、補充制御部１１６は、送液部２１０内の圧力をステップＳ２３１，Ｓ２３２の実行により調節した値に維持するようにポンプ駆動部２２２を制御する。
【0182】
一例では、補充準備部１１５は、補充部２５０のポンプ２６６と第１切替バルブ２３６との間の圧力が第１設定値Ｐｒ１に近づくようにポンプ駆動部２７２を制御する。補充準備部１１５は、補充部２５０と第１切替バルブ２３６との間の圧力が第１設定値Ｐｒ１に達するまで、ステップＳ２３４，Ｓ２３５の処理を繰り返す。ステップＳ２３４，Ｓ２３５の実行により、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させる。
【0183】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２３６を実行する。ステップＳ２３６では、例えば、補充準備部１１５が、第２切替バルブ２３８を開き、出力バルブ２１８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、第１切替バルブ２３６を閉状態から開状態に切り替える。これにより、送液部２１０のポンプ２６６からフィルタ２３４を通って送液部２１０のポンプ２１６に向かう処理液の流れが生じる。以上により、補充準備部１１５は補充準備処理を終了する。
【0184】
図２９は、ステップＳ２０４の補充制御手順の一例を示すフローチャートである。図２９に示されるように、制御装置１００は、まずステップＳ２４１，Ｓ２４２を実行する。ステップＳ２４１では、例えば、補充制御部１１６が、補充部２５０の圧送部２５６（ポンプ２６６）から送液部２１０の圧送部２１４（ポンプ２１６）に送られる処理液の補充圧力、及び当該処理液の補充流量を調節する。一例では、補充制御部１１６は、第１実施形態での補充圧力・補充流量の調節と同様に、補充圧力を目標値に追従させるように圧送部２５６及び圧送部２１４のいずれか一方を制御しつつ、補充流量を目標値に追従させるように圧送部２５６及び圧送部２１４の他方を制御する。
【0185】
補充制御部１１６は、ステップＳ２４１の実行開始から所定時間が経過するまでステップＳ２４１，Ｓ２４２の処理を繰り返す。所定時間は、当該時間内に送液部２１０（ポンプ２１６）への処理液の補充が完了するように予め定められており、動作指令保持部１０２に記憶されている。
【0186】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２４３を実行する。ステップＳ２４３では、補充制御部１１６が、出力バルブ２１８及び吐出バルブ７２を閉じた状態に維持したまま、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８を開状態から閉状態にそれぞれ切り替える。これにより、補充部２５０のポンプ２６６から送液部２１０のポンプ２１６に向かう処理液の流れが止まる。
【0187】
次に、制御装置１００は、ステップＳ２４４を実行する。ステップＳ２４４では、例えば、制御装置１００が、補充部２５０のポンプ２６６内の圧力及び送液部２１０のポンプ２１６内の圧力をそれぞれ調節する。一例では、制御装置１００は、圧力測定部２７４による測定値に基づいてポンプ駆動部２７２を制御することにより、ポンプ２６６内の圧力（補充部２５０内の圧力）を待機圧Ｐｓ１に調節する。制御装置１００は、圧力測定部２２４による測定値に基づいてポンプ駆動部２２２を制御することにより、ポンプ２１６内の圧力（送液部２１０内の圧力）を待機圧Ｐｓ２に調節する。以上により、補充制御部１１６は補充処理を終了する。
【0188】
［第３実施形態の効果］
以上説明した第３実施形態に係る塗布・現像装置２及び液処理手順においても、第１実施形態及び第２実施形態と同様に、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差が縮小された後に第１切替バルブ２３６が開かれる。このため、第１切替バルブ２３６を開いた際に、補充部２５０から送液部２１０に処理液を補充するための流路内での処理液のハンチングの発生が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に有用である。
以上説明した第３実施形態に係る塗布・現像装置２及び液処理手順においても、第１実施形態及び第２実施形態と同様に、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差が縮小された後に第１切替バルブ２３６が開かれる。このため、第１切替バルブ２３６を開いた際に、補充部２５０から送液部２１０に処理液を補充するための流路内での処理液のハンチングの発生が抑制される。従って、ウェハＷに吐出される処理液中のパーティクル低減に有用である。
【0189】
上述の第３実施形態において、フィルタ２３４は、第１接続部２３０内に設けられている。第１切替バルブ２３６は、フィルタ２３４と送液部２１０との間を開閉する。第１切替バルブ２３６が開くと、フィルタ２３４を通した送液部２１０までの処理液の流れが生じる。仮に補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差が大きい状態で第１切替バルブ２３６が開くと、補充部２５０と送液部２１０とを接続する第１接続部２３０内において、フィルタ２３４からパーティクルが発生する程度の処理液のハンチングが生じるおそれがある。これに対して、上記構成では、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差が縮小された後に第１切替バルブ２３６が開かれる。そのため、第１接続部２３０内での処理液のハンチングに起因したパーティクルの発生の抑制に有用である。
【0190】
上述の第３実施形態において、第１接続部２３０は、補充部２５０とフィルタ２３４との間を開閉する第２切替バルブ２３８を有する。補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させることと、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させることと、を順に実行する。この場合、第１切替バルブ２３６と第２切替バルブ２３８とを略同一のタイミングで開状態に切り替える場合に比べて、第１切替バルブ２３６の上流の圧力と第１切替バルブ２３６の下流の圧力との差をより高い精度で縮小させることができる。したがって、第１接続部２３０内での処理液のハンチングに起因したパーティクルの発生の抑制に更に有用である。なお、補充部２５０内の配管容積は、送液部２１０内の処理液の配管容積よりも大きい傾向がある。上記構成では、配管容積が大きい上流側に位置する切替バルブから順に段階的に開けていくことで、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差の調節が容易となる。
【0191】
（変形例）
ステップＳ２０３の補充準備手順において、上述の例では、送液部２１０内の圧力及び補充部２５０内の圧力がそれぞれ変更されるが、補充準備部１１５は、いずれか一方の圧力を変更することで送液部２１０内と補充部２５０内との圧力差を縮小させてもよい。例えば、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、送液部２１０内の圧力を変更せずに、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように補充部２５０内の圧力を変更してもよい。そして、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、送液部２１０内の圧力を変更せずに、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように第１接続部２３０内の圧力を変更してもよい。
ステップＳ２０３の補充準備手順において、上述の例では、送液部２１０内の圧力及び補充部２５０内の圧力がそれぞれ変更されるが、補充準備部１１５は、いずれか一方の圧力を変更することで送液部２１０内と補充部２５０内との圧力差を縮小させてもよい。例えば、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、送液部２１０内の圧力を変更せずに、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように補充部２５０内の圧力を変更してもよい。そして、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、送液部２１０内の圧力を変更せずに、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように第１接続部２３０内の圧力を変更してもよい。
【0192】
補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、補充部２５０内の圧力を変更せずに、補充部２５０内と送液部２１０内との圧力差を縮小されるように送液部２１０内の圧力を変更してもよい。そして、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８が開き、第１切替バルブ２３６が閉じた状態で、補充部２５０内の圧力を変更せずに、第１接続部２３０内と送液部２１０内との圧力差を縮小させるように送液部２１０内の圧力を変更してもよい。
【0193】
上述の例では、第２切替バルブ２３８及び第１切替バルブ２３６の順で開閉状態の切替えが行われるが、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６を開状態に切り替えた後に、第２切替バルブ２３８を開状態に切り替えてもよい。具体的には、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６及び第２切替バルブ２３８が閉じた状態で、補充部２５０内と送液部２１０内と圧力差を縮小させた後に、第１切替バルブ２３６を開状態に切り替えてもよい。そして、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６が開き、第２切替バルブ２３８（切替バルブ）が閉じた状態で、送液部２１０内（より詳細には、送液部２１０内及び第１接続部２３０のうちの第２切替バルブ２３８よりも下流の領域内）と補充部２５０内との圧力差を縮小させてもよい。その後、補充準備部１１５は、補充部２５０と送液部２１０との間を開くために、第２切替バルブ２３８を開状態に切り替えてもよい。
【0194】
第１接続部２３０は、第２切替バルブ２３８を有していなくてもよい。この場合、補充準備部１１５は、第１切替バルブ２３６が閉じられた状態で、補充部２５０内（より詳細には、補充部２５０内及び第１接続部２３０のうちの第１切替バルブ２３６よりも上流の領域内）と送液部２１０内との圧力差を縮小させてもよい。第１接続部２３０は、第１切替バルブ２３６を有していなくてもよい。この場合、補充準備部１１５は、第２切替バルブ２３８（切替バルブ）が閉じられた状態で、送液部２１０内（より詳細には、送液部２１０内及び第１接続部２３０のうちの第２切替バルブ２３８よりも下流の領域内）と補充部２５０内との圧力差を縮小させてもよい。
【0195】
なお、上記具体例は、以下の構成を含んでいる。
（付記１）
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、を備え、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記補充準備部は、前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させるように前記補充部内の圧力を変更する、基板処理装置。
（付記２）
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充制御部は、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充圧力を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部のいずれか一方を制御し、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充流量を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部の他方を制御する、付記２記載の基板処理装置。
（付記３）
前記ノズルまで送られる前記処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように前記吐出用圧送部を制御する吐出制御部を更に備え、
前記補充制御部は、前記補充圧力を目標値に追従させる制御において、前記処理液の補充が完了するまで前記補充圧力の目標値を前記吐出圧力の目標値に設定する、付記２記載の基板処理装置。
（付記４）
前記ノズルまで送られる前記処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように前記吐出用圧送部を制御する吐出制御部を更に備え、
前記補充制御部は、前記補充圧力を目標値に追従させる制御において、前記処理液の補充が完了するまで前記補充圧力の目標値を徐々に前記吐出圧力の目標値に近づける、付記２記載の基板処理装置。
（付記５）
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開く吐出準備部と、
前記吐出準備部により前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させる吐出制御部と、を更に備える、付記１又は２記載の基板処理装置。
（付記６）
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記切替バルブは、前記接続バルブよりも小さい開度変化率で開閉する、付記１記載の基板処理装置。
（付記７）
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブを更に備え、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、前記フィルタと前記吐出用圧送部との間の圧力を測定する圧力測定部と、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充準備部は、
前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差が縮小するように、前記補充用圧送部を制御することと、
前記切替バルブが開き、前記吐出バルブと前記接続バルブとが閉じた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記補充用圧送部と前記吐出用圧送部との間の圧力が設定値に近づくように前記補充用圧送部を制御することと、
前記切替バルブと前記吐出バルブとが閉じ、前記接続バルブが開いた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記送液部内の圧力が前記設定値に近づくように前記吐出用圧送部を制御することと、を順に実行する、付記１記載の基板処理装置。
（付記１）
基板に処理液を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記処理液を前記吐出部に送る送液部と、
前記吐出部に送るための前記処理液を前記送液部に補充する補充部と、
前記補充部と前記送液部との間を開閉する切替バルブを有する接続部と、
前記補充部から前記送液部に補充される処理液に含まれる異物を除去するフィルタと、
前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させた後に前記切替バルブを開く補充準備部と、
前記補充準備部により前記切替バルブが開かれた状態で、前記補充部から前記送液部への前記処理液の補充を開始させる補充制御部と、を備え、
前記フィルタは、前記送液部内に設けられており、
前記補充準備部は、前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差を縮小させるように前記補充部内の圧力を変更する、基板処理装置。
（付記２）
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充制御部は、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充圧力を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部のいずれか一方を制御し、
前記補充用圧送部から前記吐出用圧送部への補充流量を目標値に追従させるように前記補充用圧送部及び前記吐出用圧送部の他方を制御する、付記２記載の基板処理装置。
（付記３）
前記ノズルまで送られる前記処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように前記吐出用圧送部を制御する吐出制御部を更に備え、
前記補充制御部は、前記補充圧力を目標値に追従させる制御において、前記処理液の補充が完了するまで前記補充圧力の目標値を前記吐出圧力の目標値に設定する、付記２記載の基板処理装置。
（付記４）
前記ノズルまで送られる前記処理液の吐出圧力を目標値に追従させるように前記吐出用圧送部を制御する吐出制御部を更に備え、
前記補充制御部は、前記補充圧力を目標値に追従させる制御において、前記処理液の補充が完了するまで前記補充圧力の目標値を徐々に前記吐出圧力の目標値に近づける、付記２記載の基板処理装置。
（付記５）
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブと、
前記送液部内と前記吐出部内との圧力差を縮小させるように前記送液部内の圧力を変更した後に前記吐出バルブを開く吐出準備部と、
前記吐出準備部により前記吐出バルブが開かれた状態で、前記ノズルから前記基板への前記処理液の吐出を開始させる吐出制御部と、を更に備える、付記１又は２記載の基板処理装置。
（付記６）
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、を更に有し、
前記切替バルブは、前記接続バルブよりも小さい開度変化率で開閉する、付記１記載の基板処理装置。
（付記７）
前記送液部と前記吐出部との間を開閉する吐出バルブを更に備え、
前記送液部は、前記フィルタを介して前記補充部と前記吐出部とを接続する送液管と、前記送液管を経て前記補充部から前記処理液を受け入れ、前記送液管を経て前記吐出部に前記処理液を送り出す吐出用圧送部と、前記送液管と前記吐出用圧送部との間を開閉する接続バルブと、前記フィルタと前記吐出用圧送部との間の圧力を測定する圧力測定部と、を更に有し、
前記補充部は、液源と、前記液源から前記送液部に前記処理液を送り出す補充用圧送部と、を有し、
前記補充準備部は、
前記切替バルブが閉じた状態で、前記補充部内と前記送液部内との圧力差が縮小するように、前記補充用圧送部を制御することと、
前記切替バルブが開き、前記吐出バルブと前記接続バルブとが閉じた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記補充用圧送部と前記吐出用圧送部との間の圧力が設定値に近づくように前記補充用圧送部を制御することと、
前記切替バルブと前記吐出バルブとが閉じ、前記接続バルブが開いた状態で、前記圧力測定部の測定値に基づいて、前記送液部内の圧力が前記設定値に近づくように前記吐出用圧送部を制御することと、を順に実行する、付記１記載の基板処理装置。
【符号の説明】
【0196】
２…塗布・現像装置、３０…吐出部、５０，２５０…補充部、５１…液源、５３…圧送部、６０，２１０…送液部、６１…送液管、６３，２３４…フィルタ、６４…圧送部、６７…第１接続バルブ、６８…第２接続バルブ、６９…圧力測定部、７１…切替バルブ、７２…吐出バルブ、８０，２３０…第１接続部、９０…第２接続部、１００…制御装置、１１１…吐出準備部、１１２…吐出制御部、１１５…補充準備部、１１６…補充制御部、２３６…第１切替バルブ、２３８…第２切替バルブ。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】