特許 7527150 基板処理装置及び搬送スケジュール作成方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-25

(45)【発行日】2024-08-02

(54)【発明の名称】基板処理装置及び搬送スケジュール作成方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/02 20060101AFI20240726BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20240726BHJP

【ＦＩ】

H01L21/02 Z

H01L21/68 A

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2020133022

(22)【出願日】2020-08-05

(65)【公開番号】P2022029637

(43)【公開日】2022-02-18

【審査請求日】2023-05-08

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100096389

【弁理士】

【氏名又は名称】金本 哲男

(74)【代理人】

【識別番号】100101557

【弁理士】

【氏名又は名称】萩原 康司

(74)【代理人】

【識別番号】100167634

【弁理士】

【氏名又は名称】扇田 尚紀

(74)【代理人】

【識別番号】100187849

【弁理士】

【氏名又は名称】齊藤 隆史

(74)【代理人】

【識別番号】100212059

【弁理士】

【氏名又は名称】三根 卓也

(72)【発明者】

【氏名】松山 健一郎

(72)【発明者】

【氏名】川崎 裕一郎

【審査官】正山 旭

(56)【参考文献】

【文献】特開平０７－２８３０９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－３１１５１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－０４５９２６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許第０５６６８７３３（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００６／０２２８１９５（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を処理する基板処理装置であって、
所定の処理を行う複数の処理部と、
搬送対象体を搬送する搬送機構と、を備え、
複数の搬送対象体が、予め定められた搬入順序で前記基板処理装置内に搬入され、
搬送対象体を前記搬送機構によって少なくとも１つの前記処理部に搬送し当該搬送対象体に対し処理を行うためのプロセスジョブを取得する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
一の搬送対象体について前記処理部への搬送を開始する前に、前記一の搬送対象体とそれより先に前記基板処理装置内に搬入された先搬入の搬送対象体とで、前記プロセスジョブが異なり、且つ、互いの前記プロセスジョブに、前記処理部が重複し得る同種の処理が含まれる場合、前記先搬入の搬送対象体に対する前記同種の処理が完了する前に前記一の搬送対象体に対して前記同種の処理を先行して実施する先行実施を行うことの可否を判定し、
前記一の搬送対象体に対し、前記プロセスジョブに基づく処理を行う前記処理部が、単一であり、且つ、前記先搬入の搬送対象体と重複する場合、当該重複する処理部に前記先搬入の搬送対象体が到達するまでの予定時間より、当該処理部から前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間が短いか否かに基づいて、前記先行実施を行うか否か判定し、
前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、前記先行実施を行うと判定する、基板処理装置。

【請求項2】

前記制御部は、
前記プロセスジョブに基づく処理を行う前記処理部が前記一の搬送対象体と前記先搬入の搬送対象体とで重複するか否かに基づいて、前記先行実施を行うか否か判定し、
重複しない場合、前記先行実施を行うと判定する、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記制御部は、
前記プロセスジョブに基づく処理を行う前記処理部が、前記一の搬送対象体と前記先搬入の搬送対象体とで複数重複する場合、重複する前記処理部それぞれにおいて、当該処理部に前記先搬入の前記搬送対象体が到達するまでの予定時間より、当該処理部から前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間が短いか否かに基づいて、前記先行実施を行うか否か判定し、
重複する前記処理部それぞれにおいて前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、前記先行実施を行うと判定する、請求項１または２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

搬送対象体が待機する待機部をさらに備え、
前記搬送機構は、前記待機部へ搬送することが搬送スケジュールで指定されている搬送対象体について、予め定められた条件を満たす場合、前記待機部を経由しないように搬送する、請求項１～３のいずれか１項に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記搬送機構は、当該搬送機構によって搬送可能な状態の搬送対象体が前記基板処理装置内に複数存在する場合、前記処理部による処理が未だ行われていない搬送対象体を優先して搬送する、請求項１～４のいずれか１項に記載の基板処理装置。

【請求項6】

搬送対象体は、所定のパターンが形成されたマスクの製造に用いられるマスク基板である、請求項１～５のいずれか１項に記載の基板処理装置。

【請求項7】

基板を処理する基板処理装置内での、搬送対象体の搬送スケジュールを作成する方法であって、
前記基板処理装置は、
所定の処理を行う複数の処理部と、
搬送対象体を搬送する搬送機構と、を備え、
複数の搬送対象体が、予め定められた搬入順序で前記基板処理装置内に搬入され、
前記方法は、
搬送対象体を前記搬送機構によって少なくとも１つの前記処理部に搬送し当該搬送対象体に対し処理を行うためのプロセスジョブを取得する工程と、
一の搬送対象体について前記処理部への搬送を開始する前に、前記一の搬送対象体とそれより先に前記基板処理装置内に搬入された先搬入の搬送対象体とで、前記プロセスジョブが異なり、且つ、互いの前記プロセスジョブに、前記処理部が重複し得る同種の処理が含まれる場合、前記先搬入の搬送対象体に対する前記同種の処理が完了する前に前記一の搬送対象体に対して前記同種の処理を先行して実施する先行実施を行うことの可否を判定する工程と、を含み、
当該判定する工程は、
前記一の搬送対象体に対し、前記プロセスジョブに基づく処理を行う前記処理部が、単一であり、且つ、前記先搬入の搬送対象体と重複する場合、当該重複する処理部に前記先搬入の搬送対象体が到達するまでの予定時間より、当該処理部から前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間が短いか否かに基づいて、前記先行実施を行うか否か判定し、
前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、前記先行実施を行うと判定する、搬送スケジュール作成方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置及び搬送スケジュール作成方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、算出された最小待機サイクルが先投入基板の所定の処理手順の実行に必要な循環搬送の回数に対応する標準待機サイクル未満の場合に、搬送ロボットによる後投入の基板の最初の循環搬送を、先投入の基板の循環搬送の後、最小待機サイクル以上で標準待機サイクル未満の範囲内で遅延させる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平８－１５３７６５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示にかかる技術は、基板を処理する基板処理装置において、スループットをより向上させる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様は、基板を処理する基板処理装置であって、所定の処理を行う複数の処理部と、搬送対象体を搬送する搬送機構と、を備え、複数の搬送対象体が、予め定められた搬入順序で前記基板処理装置内に搬入され、搬送対象体を前記搬送機構によって少なくとも１つの前記処理部に搬送し当該搬送対象体に対し処理を行うためのプロセスジョブを取得する制御部をさらに備え、前記制御部は、一の搬送対象体について前記処理部への搬送を開始する前に、前記一の搬送対象体とそれより先に前記基板処理装置内に搬入された先搬入の搬送対象体とで、前記プロセスジョブが異なり、且つ、互いの前記プロセスジョブに、前記処理部が重複し得る同種の処理が含まれる場合、前記先搬入の搬送対象体に対する前記同種の処理が完了する前に前記一の搬送対象体に対して前記同種の処理を先行して実施する先行実施を行うことの可否を判定し、前記一の搬送対象体に対し、前記プロセスジョブに基づく処理を行う前記処理部が、単一であり、且つ、前記先搬入の搬送対象体と重複する場合、当該重複する処理部に前記先搬入の搬送対象体が到達するまでの予定時間より、当該処理部から前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間が短いか否かに基づいて、前記先行実施を行うか否か判定し、
前記一の搬送対象体が搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、前記先行実施を行うと判定する。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、基板を処理する基板処理装置において、スループットをより向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本実施形態にかかる基板処理装置の内部構成の概略を示す説明図である。

【図2】本実施形態にかかる基板処理装置の内部構成の概略を示す正面図である。

【図3】本実施形態にかかる基板処理装置の内部構成の概略を示す背面図である。

【図4】搬送スケジュールの作成処理の一例の流れを示すフローチャートである。

【図5】搬送スケジュールの一例を示す図である。

【図6】搬送スケジュールの作成処理の他の例の流れを示すフローチャートである。

【図7】搬送スケジュールの他の例を示す図である。

【図8】搬送スケジュールの作成処理の他の例の流れを示すフローチャートである。

【図9】搬送スケジュールの他の例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

例えば半導体デバイスの製造プロセスにおいては、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）にフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成している。このフォトリソグラフィー処理では、所定のパターンが形成されたマスクを用いてウェハの露光処理が行われている。

【0009】

マスク用の基板に所定のパターンを形成する際にもフォトリソグラフィー処理が行われる。すなわち、先ず、基板上にレジスト液を塗布しレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を所定のパターンに露光する露光処理、露光されたレジスト膜を加熱する加熱処理、露光され加熱されたレジスト膜を現像する現像処理などが順次行われ、基板上に所定のレジストパターンが形成される。その後、このレジストパターンをマスクとして基板のエッチング処理が行われ、そのレジスト膜の除去処理などが行われて、基板に所定のパターンが形成される。

【0010】

上述のフォトリソグラフィー処理に含まれる各処理は、別々の処理ユニットで行われ、例えば、そのうちの複数の処理ユニットは１つの基板処理装置に搭載される。この基板処理装置内における基板の搬送スケジュールは、例えば、当該基板処理装置への搬入順に、基板毎に決定される。

【0011】

ところで、搬送スケジュールの決定方法によっては、処理ユニットが使用されない期間が長くなり、高いスループットが得られないことがある。例えば、基板処理装置で基板に対し行うべき処理が、連続して搬入される基板間で異なる場合、搬送スケジュールの決定方法によっては、処理ユニットが使用されない期間が長くなり、高いスループットが得られないことがある。そのため、従来、搬送スケジュールの決定方法が種々提案されている。

【0012】

本開示にかかる技術は、基板を処理する基板処理装置において、スループットをより向上させる。

【0013】

以下、本実施形態にかかる基板処理装置及び搬送スケジュール決定方法について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

【0014】

＜基板処理装置＞
図１は、本実施形態にかかる基板処理装置１の内部構成の概略を示す説明図である。図２及び図３は、各々基板処理装置１の内部構成の概略を示す、正面図と背面図である。以下では、基板としてマスク用の基板Ｇを処理する場合について説明する。基板Ｇは例えばガラスからなる。

【0015】

基板処理装置１は、図１に示すように例えば外部との間でカセットＣが搬入出されるカセットステーション２と、現像処理やＰＥＢ（Post Exposure Bake）処理等の所定の処理を施す複数の各種処理ユニットを備えた処理ステーション３と、を有する。そして、基板処理装置１は、カセットステーション２と、処理ステーション３と、を一体に接続した構成を有している。また、基板処理装置１は、当該基板処理装置１の制御を行う制御部４を有している。

【0016】

カセットステーション２は、例えばカセット搬入出部１０と基板搬送部１１に分かれている。例えばカセット搬入出部１０は、基板処理装置１のＸ方向負方向（図１の左方向）側の端部に設けられている。

【0017】

カセット搬入出部１０には、カセット載置台１２が設けられている。カセット載置台１２上のＹ方向正方向（図１の上方向）側は、複数、例えば２つのカセットＣを載置可能に構成されている。カセットＣは、水平方向のＹ方向（図１の上下方向）に一列に並べて載置可能である。カセットＣは、基板Ｇを収容可能、且つ、基板処理装置１の外部に設けられたＯＨＴ（Overhead Hoist Transfer）等のカセット搬送装置（図示せず）により搬送可能、に構成された可搬容器である。本実施形態では、各カセットＣには基板Ｇが１枚のみ収容される。また、本実施形態では、後述の基板搬送ユニット２１によって基板Ｇが払い出され空となったカセットＣは、上記カセット搬送装置によってカセット載置台１２上から除去され、基板Ｇを収容した別のカセットＣが上記カセット搬送装置によってカセット載置台１２上に載置される。空となったカセットＣは、所定のタイミングで、上記カセット搬送装置によってカセット載置台１２に戻され、このカセットＣから搬出され基板処理装置１により処理された基板Ｇが、基板搬送ユニット２１によって収納される。なお、以下では、基板処理装置１による処理前の基板Ｇを収容したカセットＣをカセットＣ－ＩＮ、基板処理装置による処理後の基板Ｇを収容するカセットＣをカセットＣ－ＯＵＴと言うことがある。

【0018】

また、カセット載置台１２のＹ方向負方向（図１の下方向）側の内部には、待機部としてのバッファユニットＳＢＵが設けられている。バッファユニットＳＢＵは、基板Ｇを一時的に収容するものである。このバッファユニットＳＢＵは、基板Ｇが、搬送開始から搬送終了までの間のいずれかのタイミングで待機する部分である。具体的には、バッファユニットＳＢＵは、基板Ｇが、カセットＣ－ＩＮから搬入され、カセットＣ－ＯＵＴへ搬出されるまでの間のいずれかのタイミングで待機する部分である。なお、以下では、基板処理装置１による処理前の基板Ｇが待機する搬入側待機部としてのバッファユニットＳＢＵをバッファユニットＳＢＵ‐ＩＮ、基板処理装置１による処理後の基板Ｇが待機する搬出側待機部としてのバッファユニットＳＢＵをバッファ部ＳＢＵ－ＯＵＴということがある。

【0019】

基板搬送部１１には、図１に示すようにＹ方向に延びる搬送路２０上を移動自在な搬送機構としての基板搬送ユニット２１が設けられている。基板搬送ユニット２１は、鉛直方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在である。基板搬送ユニット２１により、カセット載置台１２上のカセットＣと、処理ステーション３の後述する第３のブロックＧ３の受け渡しユニットＴＲＳとの間や、カセット載置台１２上のカセットＣとカセット載置台１２上のバッファユニットＳＢＵとの間、カセット載置台１２上のバッファユニットＳＢＵと上記第３のブロックＧ３の受け渡しユニットＴＲＳとの間、で基板Ｇを搬送できる。

【0020】

処理ステーション３には、各種ユニットを備えた複数、例えば第１～第３の３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３が設けられている。例えば処理ステーション３の正面側（図１のＹ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられている。また、処理ステーション３のカセットステーション２側とは反対側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられ、処理ステーション３のカセットステーション２側（図１のＸ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられている。

【0021】

第１のブロックＧ１には、例えば、図２に示すように、基板Ｇに対してスピン塗布処理可能に構成された２つの液処理ユニット３０、３１が積層されるように配置されている。液処理ユニット３０は、現像処理用のものであり、液処理ユニット３１は、リンス処理用のものである。リンス処理とは、現像処理の際に用いられる処理液を用いて基板Ｇの表面を洗浄する処理である。なお、液処理ユニット３０、３１の両方が、現像処理にもリンス処理にも用いられるようにしてもよい。液処理ユニット３０は、例えば鉛直方向に２つ並べて配置されている。また、液処理ユニットの数や配置は、任意に選択できる。

【0022】

液処理ユニット３０では、例えば所定の処理液を用いたスピン塗布処理が基板Ｇに対して行われる。スピン塗布処理では、例えば吐出ノズル（図示せず）から基板Ｇ上に処理液を吐出すると共に、基板Ｇを回転させて、処理液を基板Ｇの表面に拡散させる。

【0023】

第２のブロックＧ２には、例えば、図３に示すように、基板Ｇの加熱や冷却といった熱処理を行う５つの熱処理ユニット４０～４４が設けられている。熱処理ユニットの数や配置についても、任意に選択できる。

【0024】

熱処理ユニット４０～４４は、例えば、冷却板４５と、熱板４６と、を有する。熱処理ユニット４０～４４による基板Ｇの熱処理の際は、例えば、まず、冷却板４５に基板Ｇが載置され、その後に、熱板４６に載置される。冷却板４５と熱板４６との間の基板Ｇの受け渡しは、例えば、熱処理ユニット４０～４４に内蔵される搬送機構（図示せず）で行ってもよいし、後述の基板搬送ユニット６０で行ってもよい。なお、以下では、冷却板４５と熱板４６との間の基板Ｇの受け渡しは、熱処理ユニット４０～４４内の搬送機構（図示せず）で行われるものとし、この搬送機構による搬送に要する時間は、熱処理ユニット４０での熱処理時間に含まれるものとする。

【0025】

第３のブロックＧ３には、複数、例えば２つの受け渡しユニットＴＲＳが設けられている。なお、以下では、基板処理装置１による処理前の基板Ｇが収容される受け渡しユニットＴＲＳを受け渡しユニットＴＲＳ‐ＩＮ、基板処理装置１による処理後の基板Ｇが収容される受け渡しユニットＴＲＳを受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴということがある。
また、第３のブロックＧ３には、洗浄用治具を格納する治具保管ユニット５０が設けられている。

【0026】

図１に示すように、処理ステーション３の中央には、搬送機構としての基板搬送ユニット６０が配置されている。

【0027】

基板搬送ユニット６０は、例えばＸ方向、Ｙ方向、θ方向及び鉛直方向に移動自在な搬送アーム６１を有している。基板搬送ユニット６０は、処理ステーション３内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２及び第３のブロックＧ３内の所定のユニットに基板Ｇを搬送できる。処理ステーション３に配置される基板搬送ユニット６０の数は、１つでも複数でもよい。

【0028】

上述の制御部４は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、上述の各種処理ユニットや搬送ユニットなどの駆動系の動作を制御して、基板処理装置１による基板Ｇの処理を制御するプログラムが格納されている。また、後述の搬送スケジュール作成処理のためのプログラムもプログラム格納部に格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から制御部４にインストールされたものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

【0029】

制御部４は、記憶部４ａ、取得部４ｂ及び作成部４ｃを有する。

【0030】

記憶部４ａは、各種情報を記憶するものであり、例えば、基板Ｇの搬送スケジュールを作成するためのデータ等を記憶する。なお、搬送スケジュールには、各基板Ｇの搬送先の情報及び搬送順序の情報、すなわち、搬送経路の情報が含まれ、さらに、各搬送先への搬送タイミングすなわち搬送時刻の情報も含まれる。また、上記搬送スケジュールを作成するためのデータは、例えば、搬送レシピ及び処理レシピである。

【0031】

搬送レシピには、カセットＣ－ＩＮから搬出された基板Ｇが基板処理装置１で処理されてカセットＣ－ＯＵＴに搬入されるまでの搬送経路を設定するための情報が設定されている。各搬送レシピは、順に実行される１または複数の搬送工程（ステップ）を含み、搬送工程毎に搬送先候補が１または複数設定されている。

【0032】

処理レシピには、各処理ユニットで行われる処理の内容に関する情報が設定されている。例えば、処理レシピには、液処理ユニット３０の場合には、基板Ｇの回転速度や処理液の供給時間等に関する情報が設定され、熱処理ユニット４０の場合には、温度設定値や温調時間等に関する情報が設定されている。処理レシピは、基板Ｇに設定されている後述のプロセスジョブに応じて、複数種類の中から選択することができる。

【0033】

取得部４ｂは、プロセスジョブを取得する。プロセスジョブは、基板Ｇを基板搬送ユニット２１及び基板搬送ユニット６０によって少なくとも１つの処理ユニットに搬送し当該基板Ｇに対し処理を行うためのものである。具体的には、プロセスジョブは、基板Ｇに対し処理ユニットを用いて行う処理を、基板群毎に定めるためのものである。プロセスジョブは、本実施形態では、カセットＣ毎に（前述のように本実施形態では各カセットＣには１枚の基板Ｇが収容されるため）、すなわち、基板Ｇ１枚毎に、予め設定されている。また、プロセスジョブには、プロセスジョブの識別情報や、各プロセスジョブが設定される基板Ｇの識別情報や、各基板Ｇに対して実施される処理レシピを特定する情報が含まれる。

【0034】

このプロセスジョブは、例えば、基板処理装置１が設置される工場内の装置を管理するホストコンピュータ（図示せず）に記憶されており、取得部４ｂは、プロセスジョブを通信部（図示せず）を介して上記ホストコンピュータから取得する。

【0035】

本実施形態において、基板Ｇの搬送開始位置であるカセットＣ－ＩＮから基板処理装置１内への基板Ｇの搬入順は、予め定められている。作成部４ｃは、基板Ｇの搬送スケジュールを基板Ｇ毎且つ上記搬入順に決定する。なお、カセットＣ－ＩＮから基板処理装置１内への基板Ｇの搬入順は、当該基板Ｇが収容されたカセットＣ－ＩＮがカセット載置台１２に載置された順である。

【0036】

作成部４ｃは、具体的には、プロセスジョブに設定されている情報に基づいて、スケジュール作成対象の基板Ｇ（以下、「作成対象の基板Ｇ」と省略することがある。）に対して実施される処理レシピを選択し、この処理レシピに設定されている処理を実行可能な処理ユニットを選択する。作成部４ｃは、選択した処理ユニットを含み、各処理ユニットに搬入されるまでに基板Ｇが通過する受け渡しユニットＴＲＳやバッファユニットＳＢＵ等を含んだ搬送レシピを選択し、この搬送レシピ７２に基づいて、スケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路を決定する。そして、作成部４ｃは、決定した搬送経路に基づいて、スケジュール作成対象の基板Ｇの搬送スケジュールを作成する。

【0037】

作成部４ｃが作成した搬送スケジュールは記憶部４ａに記憶される。
作成部４ｃによる、より具体的な搬送スケジュールの作成方法については後述する。

【0038】

次に、以上のように構成された基板処理装置１の動作の一例について説明する。
カセット搬送装置（図示せず）によって、カセット載置台１２にカセットＣ－ＩＮが搬入されると、取得部４ｂが、このカセットＣ－ＩＮに収容されている１枚の基板Ｇについてのプロセスジョブをホストコンピュータ（図示せず）から取得する。次いで、作成部４ｃが、カセットに収容されている１枚の基板Ｇについて、取得部４ｂが取得したプロセスジョブに基づいて、搬送スケジュールを作成する。

【0039】

そして、作成された搬送スケジュールに基づいて、制御部４が、基板搬送ユニット２１、６０等を制御し、基板Ｇを搬送しながら、プロセスジョブに基づく処理をこの基板Ｇに対して行う。例えば、まず、基板搬送ユニット２１が、基板Ｇを、カセットＣ－ＩＮから基板処理装置１内に搬入する。なお、カセットＣ－ＩＮは、基板Ｇが払い出されると、カセット搬送装置（図示せず）によってカセット載置台１２から除去される。

【0040】

次いで、基板搬送ユニット２１が、基板Ｇを、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮを介して又は直接、受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮへ搬送する。次いで、基板搬送ユニット６０が、搬送スケジュールにしたがって、プロセスジョブに基づいて選択された処理ユニットに搬送する。プロセスジョブに基づいて選択された処理ユニット全てで処理が完了すると、最後の処理を行った処理ユニットから、基板搬送ユニット６０が、基板Ｇを、受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴに搬送する。そして、基板搬送ユニット２１が、基板Ｇを、受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴから、バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴを介して又は直接、搬送終了位置であるカセットＣ－ＯＵＴに搬出する。なお、カセットＣ－ＯＵＴは、対応する基板Ｇが、受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴまたはバッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴへ搬送されたときに、カセット載置台１２に載置される。

【0041】

＜搬送スケジュールの作成処理の例１＞
続いて、搬送スケジュールの作成処理の一例について説明する。

【0042】

本実施形態では、前述のように、プロセスジョブは基板Ｇ１枚毎に予め設定されている。そのため、作成部４ｃによるスケジュール作成対象の基板Ｇと、スケジュール作成対象の基板Ｇが搬入される時点でプロセスジョブに基づく処理が未完了の、先搬入の基板Ｇ（以下、「未完了基板Ｇ」と省略することがある。）とでは、プロセスジョブ（の識別情報）が異なっている。なお、作成対象の基板Ｇが搬入される時点とは、具体的には、例えば、作成対象の基板Ｇを収納したカセットＣが基板処理装置１に搬入された時点である。
また、作成対象の基板Ｇのプロセスジョブと未完了基板Ｇのプロセスジョブとで異なっていても、前者のプロセスジョブに含まれる、処理ユニットによる処理と同種の処理が、後者のプロセスジョブに含まれる場合がある。

【0043】

作成部４ｃは、作成対象の基板Ｇの搬送スケジュールを作成する際、上述のようにプロセスジョブが互いに異なるが双方に同種の処理が含まれる場合、以下のような判定を行う。すなわち、作成部４ｃは、未完了基板Ｇに対する上記同種の処理が完了する前に作成対象の基板Ｇに対して上記同種の処理を先行して実施する先行実施（以下、「同種処理の先行実施」ということがある。）を行うことの可否を判定する。この際、先に作成した、未完了基板Ｇの搬送スケジュールの変更は行なわない。そして、作成部４ｃは、同種処理の先行実施の可否の判定結果に基づいて、作成対象の基板Ｇの搬送スケジュールを作成する。この作成の際、搬送スケジュールに含まれるバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間を、上記判定結果に基づいて設定する。

【0044】

作成部４ｃは、例えば、未完了基板Ｇと、スケジュール作成対象の基板Ｇとで、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットが重複するか否かに基づいて、同種処理の先行実施の可否を判定する。そして、重複しない場合、作成部４ｃは、同種処理の先行実施が可能と判定する。

【0045】

図４は、作成部４ｃによる搬送スケジュールの作成処理の一例の流れを示すフローチャートである。図５は、本例の作成処理で作成された搬送スケジュールの一例を示す図である。なお、以下では、スケジュール作成対象の基板Ｇのプロセスジョブと未完了基板Ｇのプロセスジョブとに、同種の処理が含まれているものとする。

【0046】

作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇの搬送スケジュールを作成する際、まず、基本条件を満たすか否か判定する（ステップＳ１）。具体的には、取得部４ｂが取得したプロセスジョブの情報に基づいて、スケジュール作成対象の基板Ｇに対する処理に用いられる処理ユニットを含む、スケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路を決定する。また、作成部４ｃは、未完了基板Ｇについての搬送スケジュールを取得する。そして、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路及びプロセスジョブ、未完了基板Ｇについての搬送スケジュール等に基づいて、例えば以下の基本条件（Ａ１）～（Ａ４）を全て満たすか否か判定する。

【0047】

（Ａ１）バッファユニットＳＢＵの残り収納枚数以上の基板Ｇが処理ステーション３内に存在しない。
（Ａ２）スケジュール作成対象の基板Ｇと、未完了基板Ｇとでは、プロセスジョブが異なる。
（Ａ３）スケジュール作成対象の基板Ｇについて決定された搬送経路は、処理ステーション３内での全搬送工程（ステップ）に対しそれぞれ搬送先候補が１つのみ設定されている搬送レシピを使用している。
（Ａ４）スケジュール作成対象の基板Ｇについて決定された搬送経路にバッファユニットＳＢＵ－ＩＮ及びバッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴが含まれている。

【0048】

上記（Ａ１）は、同種処理の先行実施を行ったときに、処理ステーション３内で基板Ｇが滞留するのを防ぐための条件である。
上記（Ａ３）は、同種処理の先行実施の可否の判定を行う機会を限定的にするのための条件である。
上記（Ａ４）のうち、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮに関する条件は、先投入の基板Ｇについての処理終了まで処理ステーション３内への搬送を保留する必要がある基板Ｇのための条件である。また、バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴの条件は、対応するカセットＣ－ＯＵＴがカセット載置台１２に載置されるまでカセットＣ－ＯＵＴへの搬送を保留する必要がある基板Ｇのための条件である。

【0049】

なお、上記（Ａ３）の条件に代えて、上記搬送経路が以下の搬送レシピを使用している、ということを条件としてもよい。すなわち、作成対象の基板Ｇ及び未完了基板Ｇの両方のプロセスジョブに含まれる同種の処理に関する搬送工程のみを抽出した場合に、抽出した搬送工程に対しそれぞれ搬送先候補が１つのみ設定されている搬送レシピを使用している、という条件である。

【0050】

上述の基本条件を満たす場合（ステップＳ１、ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットが、スケジュール作成対象の基板Ｇと未完了基板Ｇとで重複するか否かに基づいて、同種処理の先行実施の可否を判定する（ステップＳ２）。この判定は、作成部４ｃが決定したスケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路及び作成部４ｃが取得した未完了基板Ｇについての搬送スケジュール等に基づいて、行われる。

【0051】

処理ユニットが重複せず、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施が可能と判定する場合（ステップＳ２、ＮＯの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施が行われるよう搬送スケジュールを作成する（ステップＳ３）。例えば、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、当該基板Ｇが、決定された搬送経路に沿って、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットに最短で搬送されるよう、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間を設定し、搬送スケジュールを作成する。

【0052】

一方、ステップＳ２において、処理ユニットが重複し、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施不可と判定する場合（ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、従来と同様に搬送スケジュールを決定する（ステップＳ４）。例えば、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間を以下のように設定して、搬送スケジュールを作成する。すなわち、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇと未完了基板Ｇとで重複する処理ユニットでの、未完了基板Ｇに対する処理が完了し、当該処理ユニットから未完了基板Ｇが搬出されるまで当該処理ユニットにスケジュール作成対象の基板Ｇが搬送されないように、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間を設定する。

【0053】

また、ステップＳ１において、上述の基本条件を満たさない場合（ＮＯの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、ステップＳ２と同様、従来と同様な方法で搬送スケジュールを作成する（ステップＳ４）。

【0054】

ここで、図５に示すように、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇ、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇ、プロセスジョブＰＪ３の基板ＧがカセットＣ－ＩＮからこの順で基板処理装置１に搬入されるものとする。また、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇについて既に搬送スケジュールが作成済みであるものとする。
プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇの搬送経路は、カセットＣ－ＩＮ→バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ→受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮ→リンス処理用の液処理ユニット３１→熱処理ユニット４０→現像処理用の液処理ユニット３０→受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴ→バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴ→カセットＣ－ＯＵＴである。
プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇの搬送経路は、カセットＣ－ＩＮ→バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ→受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮ→現像処理用の液処理ユニット３０→受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴ→バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴ→カセットＣ－ＯＵＴである。
プロセスジョブＰＪ３の基板Ｇの搬送経路は、カセットＣ－ＩＮ→バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ→受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮ→熱処理ユニット４１→受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴ→バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴ→カセットＣ－ＯＵＴである。

【0055】

プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇは、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇと、現像処理用の液処理ユニット３０が重複するため、ステップＳ２におけるＹＥＳの場合に該当する。したがって、作成部４ｃは、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇについての搬送スケジュールを従来と同様に作成する。そのため、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇの搬送スケジュールは、プロセスジョブＰＪ１の液処理ユニット３０での現像処理が終わってから、プロセスジョブＰＪ２の液処理ユニット３０での現像処理が開始されるよう、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間が長く設定されている。

【0056】

それに対し、プロセスジョブＰＪ３の基板Ｇは、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇ、プロセスジョブＰＪ２の未完了基板Ｇとの間で、重複する処理ユニットがないため、ステップＳ２におけるＮＯの場合に該当する。したがって、作成部４ｃは、プロセスジョブＰＪ３の基板Ｇについては、同種処理（ここでは熱処理）の先行実施が行われるよう搬送スケジュールを作成し、具体的には、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間が最短となるような搬送スケジュールを作成する。

【0057】

以上のように本実施形態では、作成部４ｃが、搬送スケジュールを作成する際に、スケジュール作成対象の基板Ｇと未完了基板Ｇとで、プロセスジョブが異なり、且つ、互いのプロセスジョブに同種の処理が含まれる場合、同種処理の先行実施を行うことの可否を判定する。したがって、基板処理装置１において、同種処理の先行実施を行うことの可否に基づいて搬送スケジュールを作成することで、各基板Ｇの基板処理装置１内への搬入から搬出までの時間（各処理ユニットでの処理の時間も含む）を短縮することができる。言い換えると、未完了基板Ｇとプロセスジョブが異なるスケジュール作成対象の基板Ｇについて、基板処理装置１内への搬入から搬出までの時間が短い搬送スケジュールを作成することができる。その結果、スループットをより向上させることができる。

【0058】

＜搬送スケジュールの作成処理の例２＞
本例では、作成部４ｃは、作成対象の基板Ｇに対し処理を行う処理ユニットが、単一であり、且つ、未完了基板Ｇと重複する場合、この重複する処理ユニットに未完了基板Ｇが到達するまでの予定時間より、当該処理ユニットからスケジュール作成対象の基板Ｇが搬出されるまでの予定時間が短いか否か判定する。そして、作成部４ｃは、上記搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、同種処理の先行実施が可能と判定し、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、上記判定結果に基づく搬送スケジュールを作成する。

【0059】

図６は、本例の搬送スケジュールの作成処理の流れを示すフローチャートである。図７は、本例の作成処理で作成された搬送スケジュールの一例を示す図である。なお、以下では、スケジュール作成対象の基板Ｇのプロセスジョブと未完了基板Ｇのプロセスジョブとに、同種の処理が含まれているものとする。

【0060】

作成部４ｃは、ステップＳ１において、前述の基本条件を満たす場合（ステップＳ１、ＹＥＳの場合）、スケジュール作成対象の基板Ｇに対し処理を行う処理ユニットが、単一であり、且つ、未完了基板Ｇと重複するか否か判定する（ステップＳ１１）。この判定は、作成部４ｃが決定したスケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路及び作成部４ｃが取得した未完了基板Ｇについての搬送スケジュール等に基づいて、行われる。

【0061】

単一であるという条件、及び、重複するという条件の少なくともいずれか一方を満たさず、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施不可と判定する場合（ステップＳ１１、ＮＯの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、従来と同様に搬送スケジュールを決定する。

【0062】

一方、いずれも満たす場合（ステップＳ１１、ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、この重複する処理ユニットに未完了基板Ｇが到達するまでの予定時間Ｔ１より、当該処理ユニットからスケジュール作成対象の基板Ｇが搬出されるまでの予定時間Ｔ２が短いか否か判定する（ステップＳ１２）。上記到達するまでの予定時間Ｔ１は、未完了基板Ｇの搬送スケジュールに基づいて、作成部４ｃが算出する。また、上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２は、例えば、カセットＣ－ＩＮから当該処理ユニットに基板Ｇが到達するまでに要する最短の時間Ｔ２１と当該処理ユニットでの処理時間Ｔ２２とに基づいて、以下の式に従って作成部４ｃが算出する。
Ｔ２＝Ｔ２１＋Ｔ２２

【0063】

上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２の算出に必要な、上記最短の時間Ｔ２１の情報及び当該処理ユニットでの処理時間Ｔ２２の情報のうち、前者は例えば記憶部４ａに予め記憶されており、後者はプロセスジョブにより特定されるプロセスレシピに示されている。

【0064】

なお、作成部４ｃは、上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２を、マージンＴ２３を考慮して、以下の式に従って算出してもよい。
Ｔ２＝Ｔ２１＋Ｔ２２＋Ｔ２３
マージンＴ２３は、例えば、他の基板Ｇを搬送することによる遅延時間等を考慮して設定される。

【0065】

上記到達するまでの予定時間Ｔ１より上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２が長く、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施不可と判定する場合（ステップＳ１２、ＮＯの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、従来と同様に搬送スケジュールを決定する。
一方、上記到達するまでの予定時間Ｔ１より上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２が短く、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施可能と判定する場合（ステップＳ１２、ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施が行われるよう搬送スケジュールを作成する。

【0066】

ここで、図７に示すように、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇ、プロセスジョブＰＪ２の基板ＧがカセットＣ－ＩＮからこの順で基板処理装置１に搬入されるものとする。また、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇについて既に搬送スケジュールが作成済みであるものとする。

【0067】

プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇは、当該基板Ｇに対し処理を行う処理ユニットが、現像処理用の液処理ユニット３０のみ、すなわち単一であり、且つ、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇと重複するため、ステップＳ１１におけるＹＥＳの場合に該当する。また、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇが現像処理用の液処理ユニット３０に到達するまでの予定時間Ｔ１より、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇが現像処理用の液処理ユニット３０から搬出されるまでの予定時間Ｔ２より短い。そのため、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇは、ステップＳ１２におけるＹＥＳの場合に該当する。
したがって、作成部４ｃは、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇについては、同種処理の先行実施（現像処理の先行実施）が行われるよう搬送スケジュールを作成し、具体的には、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間が最短となるような搬送スケジュールを作成する。

【0068】

同種処理の先行実施の可否を判定する条件が、上述のように、スケジュール作成対象の基板Ｇに対し処理を行う処理ユニットが単一であるという条件を含むことで以下の効果がある。すなわち、同種処理の先行実施が可能であるという判定をした場合に、他の処理を行う工程への影響の算出が不要なため、搬送スケジュールを容易に作成することができる、という効果がある。

【0069】

＜搬送スケジュールの作成処理の例３＞
本例では、作成部４ｃは、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットが、スケジュール作成対象の基板Ｇと、未完了基板Ｇとで、複数重複する場合、以下の判定を行う。すなわち、作成部４ｃは、重複する処理ユニットそれぞれについて、当該処理ユニットに未完了基板Ｇが到達するまでの予定時間より、当該処理ユニットからスケジュール作成対象の基板Ｇが搬出されるまでの予定時間が短いか否か判定する。そして、作成部４ｃは、重複する処理ユニットそれぞれにおいて、上記搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、同種処理の先行実施が可能と判定し、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、上記判定結果に基づく搬送スケジュールを作成する。

【0070】

図８は、本例の搬送スケジュールの作成処理の流れを示すフローチャートである。図９は、本例の作成処理で作成された搬送スケジュールの一例を示す図である。なお、以下では、スケジュール作成対象の基板Ｇのプロセスジョブと未完了基板Ｇのプロセスジョブとに、同種の処理が含まれているものとする。

【0071】

作成部４ｃは、ステップＳ１において、前述の基本条件を満たす場合（ステップＳ１、ＹＥＳの場合）、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットが、スケジュール作成対象の基板Ｇと、未完了基板Ｇとで、複数重複するか否か判定する（ステップＳ２１）。この判定は、作成部４ｃが決定したスケジュール作成対象の基板Ｇの搬送経路及び作成部４ｃが取得した未完了基板Ｇについての搬送スケジュール等に基づいて、行われる。

【0072】

複数重複しておらず、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施不可と判定する場合（ステップＳ２１、ＮＯの場合）、作成部４ｃは、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、従来と同様に搬送スケジュールを決定する。

【0073】

一方、複数重複している場合（ステップＳ２１、ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、重複する複数の処理ユニットそれぞれについて、当該処理ユニットに未完了基板Ｇが到達するまでの予定時間Ｔ１より、当該処理ユニットからスケジュール作成対象の基板Ｇが搬出されるまでの予定時間Ｔ２が短いか否か判定する（ステップＳ２２）。

【0074】

重複する処理ユニットのうち１つでも、上記到達するまでの予定時間Ｔ１より上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２が長く、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施不可と判定する場合（ステップＳ１２、ＮＯの場合）、作成部４ｃは、このスケジュール作成対象の基板Ｇについて、従来と同様に搬送スケジュールを決定する。
一方、重複する処理ユニット全てにおいて、上記到達するまでの予定時間Ｔ１より上記搬出されるまでの予定時間Ｔ２が短く、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施可能と判定する場合（ステップＳ１２、ＹＥＳの場合）、作成部４ｃは、このスケジュール作成対象の基板Ｇについて、同種処理の先行実施が行われるよう搬送スケジュールを作成する。

【0075】

ここで、図９に示すように、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇ、プロセスジョブＰＪ４の基板ＧがカセットＣ－ＩＮからこの順で基板処理装置１に搬入されるものとする。また、プロセスジョブＰＪ１の基板Ｇについて既に搬送スケジュールが作成済みであるものとする。

【0076】

プロセスジョブＰＪ４の基板Ｇの搬送経路は、カセットＣ－ＩＮ→バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ→受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮ→熱処理ユニット４０→現像処理用の液処理ユニット３０→受け渡しユニットＴＲＳ－ＯＵＴ→バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴ→カセットＣ－ＯＵＴである。

【0077】

プロセスジョブＰＪ４の基板Ｇは、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇとの間で重複する処理ユニットが、熱処理ユニット４０と現像処理用の液処理ユニット３０の２つ、すなわち複数であるため、ステップＳ２１におけるＹＥＳの場合に該当する。また、熱処理ユニット４０と現像処理用の液処理ユニット３０のそれぞれについて、プロセスジョブＰＪ１の未完了基板Ｇが処理ユニットに到達するまでの予定時間Ｔ１より、プロセスジョブＰＪ４の基板Ｇが処理ユニットから搬出されるまでの予定時間Ｔ２より短い。そのため、プロセスジョブＰＪ４の基板Ｇは、ステップＳ２２におけるＹＥＳの場合に該当する。
したがって、作成部４ｃは、プロセスジョブＰＪ２の基板Ｇについては、同種処理の先行実施が行われるよう搬送スケジュールを作成し、具体的にはバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間が最短となるような搬送スケジュールを作成する。

【0078】

なお、搬送スケジュールの作成処理の例２、３における作成部４ｃの動作は、まとめて、以下のように言い換えることができる。
上記例２、３では、作成部４ｃは、プロセスジョブに基づく処理を行う処理ユニットが、スケジュール作成対象の基板Ｇと、未完了基板Ｇとで、重複する場合、重複する処理ユニットそれぞれについて、当該処理ユニットに未完了基板Ｇが到達するまでの予定時間より、当該処理ユニットからスケジュール作成対象の基板Ｇが搬出されるまでの予定時間が短いか否か判定する。そして、上記例２、３では、作成部４ｃは、重複する処理ユニットそれぞれにおいて、上記搬出されるまでの予定時間の方が短い場合、同種処理の先行実施が可能と判定し、スケジュール作成対象の基板Ｇについて、上記判定結果に基づく搬送スケジュールを作成する。

【0079】

なお、搬送スケジュールの作成処理の例１～３全てを併用してもよいし、上記例１～３のいずれか複数の組み合わせを併用してもよい。

【0080】

搬送スケジュールの作成処理の例１～３のように、搬送スケジュールを決定すると、基本的に、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ及びバッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴへ基板Ｇを搬送することが搬送スケジュールで指定される。このように指定されている場合であっても、予め定められた条件を満たすか否かに基づいて、基板搬送ユニット２１が、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮ及びバッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴを経由しないように、基板Ｇの搬送を行うようにしてもよい。バッファユニットＳＢＵ－ＩＮについての上記予め定められた条件とは、例えば、搬送される基板Ｇが同種処理の先行実施可能と判定されていること、である。バッファユニットＳＢＵ－ＯＵＴについての上記予め定められた条件とは、例えば、搬送される基板Ｇに対応するカセットＣ－ＯＵＴがカセット載置台１２に載置されていること、である。
このように、バッファユニットＳＢＵを経由しないように基板Ｇの搬送を行うことで、バッファユニットＳＢＵからの基板Ｇの搬送、及び、バッファユニットＳＢＵへの基板の搬送を省略することができるため、基板搬送ユニット２１の負担が減る。このように負担が減った分、基板搬送ユニット２１を、高スループットに寄与する基板の搬送に用いることができる。したがって、バッファユニットＳＢＵを経由しないように基板Ｇの搬送を行うことで、基板処理装置１のスループットをさらに高くすることができる。

【0081】

以上の搬送スケジュールの作成処理は、基板と同様に基板処理装置１内を搬送される基板以外の搬送対象体の搬送スケジュールの作成にも適用することができる。基板以外の搬送対象体とは、例えば、液処理ユニット３０、３１に搬送されて、液処理ユニットの洗浄に用いられる洗浄用治具である。なお、治具保管ユニット５０が、洗浄用治具の搬送開始位置及び待機部に相当する。

【0082】

また、基板搬送ユニット６０によって搬送可能な状態の基板Ｇが基板処理装置１内に同時に複数存在することもある。この場合、基板搬送ユニット６０は、処理ユニットによる処理が未だ行われていない基板を優先して搬送するようにしてもよい。基板搬送ユニット６０は、受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮに収容された基板Ｇを最も優先して搬送するようにしてもよい。これにより、処理ステーション３内の基板Ｇの数を増やすことができる。基板搬送ユニット２１についても、処理ユニットによる処理が未だ行われていない基板を優先して搬送するようにしてもよい。基板搬送ユニット２１は、例えば、受け渡しユニットＴＲＳ－ＩＮへの基板Ｇの搬送を最も優先するようにしてもよい。これにより、処理ユニットが使用されていない時間を短縮することができる。

【0083】

さらに、熱処理ユニット４０～４４による熱処理に際し、熱板４６の温度変更が必要な基板Gがスケジュール作成対象の場合、熱板４６の温度が静定されるまでの間、バッファユニットＳＢＵ－ＩＮで待機するよう、当該基板Ｇの搬送スケジュールが作成されるようにしてもよい。これにより、熱板４６の温度が静定されるまでの間、カセットＣ内で待機する場合に比べて、基板処理装置１内の処理ユニットの未使用時間を短縮できるため、スループットをさらに高めることができる。

【0084】

以上の例では、同種処理の先行実施の可否を、搬送スケジュール作成時に、スケジュール作成対象の基板Ｇに対し行っていた。同種処理の先行実施の可否の判定は、搬送スケジュールを作成した後、当該搬送スケジュールに従って後搬入の基板Ｇを処理ユニットに搬送する前に、後搬入の基板Ｇと先搬入の基板Ｇとの間で行ってもよい。そして、その判定結果に基づいて、後搬入の基板Ｇの搬送スケジュールを修正するようにしてもよい。

【0085】

なお、後搬入の基板Ｇと先搬入の基板Ｇとで同じ処理ユニットを用いる場合、スループット向上のためには、先搬入基板Ｇに対する上記同じ処理ユニットを用いた処理が完了した直後に余計な間を置かずに後搬入の基板Ｇに対する上記同じ処理ユニットを用いた処理が行われることが好ましい。これを可能とするため、後搬入の基板Ｇの搬送スケジュールにおけるバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間は、決定または修正される。

【0086】

同種処理の先行実施の可否の判定結果に基づいて、後搬入の基板Ｇの搬送スケジュールを修正した場合、上記同種処理以外の処理で、スケジュール上、後搬入の基板Ｇと先搬入の基板Ｇとで処理ユニットが重複し得る。したがって、同種処理の先行実施の可否の判定結果に基づいて後搬入の基板Ｇの搬送スケジュールを修正した場合、待機時間の修正等も必要か判定するようにし、適切な待機時間を設定するようにしてもよい。

【0087】

バッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間は例えば以下のように決定または修正される。
まず、仮に待機時間を設定しなかったときに、後搬入の基板Ｇが搬入されるタイミングから直前の先搬入の基板Ｇが搬出されるタイミングまでの時間が最も長い処理ユニットを特定する。そして、この特定した処理ユニットから先搬入の基板Ｇが搬出された直後に当該処理ユニットに後搬入の基板Ｇが搬入されるよう上記待機時間は決定または修正される。

【0088】

この例では、後搬入の基板ＧについてのバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間は、後搬入の基板ＧをバッファユニットＳＢＵ－ＩＮに搬入した時点を基準として計測される。

【0089】

後搬入の基板ＧについてのバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間は以下のような時点を基準として計測されてもよい。例えば、後搬入の基板Ｇと先搬入の基板Ｇとで時間が重複し得る処理ユニットであって後搬入の基板Ｇが最初に搬入される処理ユニットに、当該処理ユニットに対する直前の先搬入の基板が搬入された時点を基準として計測されてもよい。この場合、後搬入の基板ＧについてのバッファユニットＳＢＵ－ＩＮでの待機時間は、上記時間が重複し得る、最初に搬入される処理ユニットから上記直前の先搬入の基板が搬出された直後に当該処理ユニットに後搬入の基板Ｇが搬入されるよう、決定または修正される。また他の手法として、当該処理ユニットにおいて先搬入の基板が処理されている途中の当該処理ユニットの動作状態（図示していないが、ユニット内の機器または基板の動作状態など）を、上記の基準としてもよい。

【0090】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【符号の説明】

【0091】

１ 基板処理装置
４ｂ 取得部
４ｃ 作成部
２１ 基板搬送ユニット
３０ 液処理ユニット
３１ 液処理ユニット
４０ 熱処理ユニット
４１ 熱処理ユニット
４２ 熱処理ユニット
４３ 熱処理ユニット
４４ 熱処理ユニット
６０ 基板搬送ユニット
Ｇ 基板
Ｇ１ 第１のブロック
Ｇ１ ブロック
ＰＪ１ プロセスジョブ
ＰＪ２ プロセスジョブ
ＰＪ３ プロセスジョブ
ＰＪ４ プロセスジョブ
ＳＢＵ バッファユニット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】