特許 7527400 オーバーレイ計測ツールおよび方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-25

(45)【発行日】2024-08-02

(54)【発明の名称】オーバーレイ計測ツールおよび方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 9/00 20060101AFI20240726BHJP

   H01L 21/66 20060101ALI20240726BHJP

   G01B 11/00 20060101ALI20240726BHJP

【ＦＩ】

G03F9/00 H

H01L21/66 J

G01B11/00 G

【請求項の数】 35

(21)【出願番号】P 2022571783

(86)(22)【出願日】2021-05-17

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-06-23

(86)【国際出願番号】 US2021032655

(87)【国際公開番号】W WO2021236470

(87)【国際公開日】2021-11-25

【審査請求日】2024-03-07

(31)【優先権主張番号】63/028,568

(32)【優先日】2020-05-22

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】17/068,328

(32)【優先日】2020-10-12

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】500049141

【氏名又は名称】ケーエルエー コーポレイション

(74)【代理人】

【識別番号】110001210

【氏名又は名称】弁理士法人ＹＫＩ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】マナッセン アムノン

(72)【発明者】

【氏名】ヒル アンドリュー ブイ

(72)【発明者】

【氏名】ラレド ジラド

【審査官】田中 秀直

(56)【参考文献】

【文献】米国特許出願公開第２００４／０２４５４３９（ＵＳ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０２０／０４６４０８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１９／１９９５８５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開平１１－２８７６１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－２９７１０１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｇ０３Ｆ ９／００

Ｈ０１Ｌ ２１／６６

Ｇ０１Ｂ １１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

オーバーレイ計測ツールであって、
照明源と、
試料上のオーバーレイターゲットを照明源からの１つ以上の照明ビームで照明するように構成された１つ以上の照明光学系であって、前記オーバーレイターゲットは１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む、１つ以上の照明光学系と、
オーバーレイターゲットの周期的フィーチャからの回折光を検出器に向けるように構成された１つ以上の集光光学系と、
瞳平面に位置する調節可能な瞳マスクであって、前記瞳平面は集光瞳平面に対応し、前記調節可能な瞳マスクは、前記瞳平面の１つ以上の部分にわたり分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、前記１つ以上の制御ゾーンは、調節可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定可能であり、調整可能な瞳透過率分布は、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的な制御を提供し、前記１つ以上の制御ゾーンは、異なる瞳透過率分布を利用する２つ以上の計測モードに従って前記オーバーレイ計測ツールの操作性を提供する、調節可能な瞳マスクと、
調整可能な瞳マスクに通信可能に結合されたコントローラであって、１つ以上のプロセッサを含み、１つ以上のプロセッサに、調節可能な瞳マスクに、選択されたオーバーレイ計測レシピに対応する選択された瞳透過率分布を提供し、選択された瞳透過率分布は、ターゲットから検出器への選択されたセットの回折次数の回折の伝送を提供する１つ以上の制御ゾーンの選択された構成に対応し、前記２つ以上の計測モードの１つに関連し、検出器からの測定データに基づいて、前記２つ以上の計測モードの１つに関連する１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定することを、行わせるプログラム命令を実行するように構成されたコントローラと、
を含む、
オーバーレイ計測ツール。

【請求項2】

請求項１に記載のオーバーレイ計測ツールであって、
対物レンズを含み、
前記１つ以上の照明光学系は、前記対物レンズを通して前記１つ以上の照明ビームで前記オーバーレイターゲットを照明し、前記１つ以上の集光光学系は、前記対物レンズによって集光された前記回折光を前記検出器に向け、前記調整可能な瞳マスクは、前記照明光学系および前記集光光学系の両方に共通の瞳平面に位置する、オーバーレイ計測ツール。

【請求項3】

１つ以上の制御ゾーンは、１つ以上の照明ビームのうちの１つの選択された数でオーバーレイターゲットを照明するように個々に位置指定可能であり、１つ以上の制御ゾーンの少なくともいくつかは、試料上の１つ以上の照明ビームの選択的制御を提供するために、１つ以上の照明ビームに対応する瞳平面の部分に配置されることを特徴とする請求項２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項4】

照明源は、瞳平面内の２つの直交方向に沿って対称な照明ビームを提供する四重極（クワドロポール）照明源を備え、１つ以上の制御ゾーンは、瞳平面内に環を形成するように配置された２つの制御ゾーンを含み、２つの制御ゾーンの各々は、環の半分に対応し、２つの制御ゾーンの各々は、１つ以上の照明ビームのうちの２つの直交照明ビームからの２つの通過光が、２つの直交照明ビームからの光に応答して試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、２つの直交照明ビームからの光に応答して試料からのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰させるように配向されることを特徴とする請求項２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項5】

対向する照明ビームによるオーバーレイターゲットの連続的な測定を提供するために、２つの制御ゾーンの透過率は、連続的に交互に変更されてもよいことを特徴とする請求項４に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項6】

１つ以上の照明光学系は、瞳平面に配置された出力端を有する１つ以上のファイバを含むことを特徴とする請求項２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項7】

瞳平面は、対物レンズの内部瞳平面に対応することを特徴とする請求項２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項8】

瞳平面は、対物レンズの内部瞳平面に共役な中継面に対応することを特徴とする請求項２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項9】

１つ以上の照明ビームのうちの１つは、オーバーレイターゲットを垂直入射で照明するように配置され、１つ以上の制御ゾーンは、瞳平面内の中心にある円形制御ゾーンを含み、円形制御ゾーンは、垂直入射における照明ビームからの光に応答して、試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、垂直入射における照明ビームからのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰させるように配向される、ことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項10】

１つ以上の制御ゾーンは、環状制御ゾーンを含み、環状制御ゾーンは、１つ以上の照明ビームのそれぞれからの光に応答して試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、１つ以上の照明ビームのそれぞれからの光に応答して試料からのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰させるように配向されることを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項11】

請求項１に記載のオーバーレイ計測ツールであって、
対物レンズを含み、
前記１つ以上の集光光学系は、前記対物レンズによって集光された回折光を前記検出器に向け、前記１つ以上の照明光学系は、前記対物レンズに近接する１つ以上の集束用レンズを使用して、傾斜した角度で前記照明源から前記試料に前記１つ以上の照明ビームを向ける、
オーバーレイ計測ツール。

【請求項12】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、メカニカルシャッタを含むことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項13】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、電気光学減衰器を含むことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項14】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、調整可能な透過率を提供する空間光変調器を含むことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項15】

検出器は、静的試料上の１つ以上の位置を撮像するための静的撮像検出器を含むことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項16】

検出器は、移動する試料上の１つ以上の位置を撮像する走査検出器を含むことを特徴とする請求項１に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項17】

オーバーレイ計測ツールであって、
照明源と、
試料上のオーバーレイターゲットを照明源からの１つ以上の照明ビームで照明するように構成された１つ以上の照明光学系であって、前記オーバーレイターゲットは１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む、１つ以上の照明光学系と、
オーバーレイターゲットからの回折光を検出器に向けるように構成された１つ以上の集光光学系と、
瞳平面に位置する調節可能な瞳マスクであって、前記瞳平面は集光瞳平面に対応し、前記調節可能な瞳マスクは、前記瞳平面の１つ以上の部分にわたり分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、前記１つ以上の制御ゾーンは、調節可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定可能であり、調整可能な瞳透過率分布が、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的な制御を提供し、前記１つ以上の制御ゾーンは、異なる瞳透過率分布を利用する２つ以上の計測モードに従って前記オーバーレイ計測ツールの操作性を提供する、調節可能な瞳マスクと、
調整可能な瞳マスクに通信可能に結合されたコントローラであって、１つ以上のプロセッサを含み、１つ以上のプロセッサに、試料上の複数のオーバーレイターゲットに対する、前記２つ以上の計測モードの選択された計測モードに関連するオーバーレイ計測レシピを受信し、調整可能な瞳マスクにより試料上の複数のオーバーレイターゲットの測定のための、前記２つ以上の計測モードの選択された計測モードに関連するそれぞれのオーバーレイ計測レシピに従って瞳透過率分布を調整し、検出器からの測定データに基づいて、試料上の複数のオーバーレイターゲットについての、前記２つ以上の計測モードの選択された計測モードに関連する１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定することを行わせるプログラム命令を実行するように構成された、コントローラと、
を含む、
オーバーレイ計測ツール。

【請求項18】

複数のオーバーレイターゲットは、２つ以上のターゲットデザインを含み、２つ以上のターゲットデザインは、第１のオーバーレイ計測レシピを必要とする画像に基づいてオーバーレイ計測を提供する少なくとも１つの撮像ターゲットデザインと、第２のオーバーレイ計測レシピを必要とする回折光の分布に基づくオーバーレイ計測を提供する少なくとも１つの散乱計測ターゲットデザインと、を含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項19】

複数のオーバーレイターゲットは、異なるオーバーレイ計測レシピによる２つ以上の計測を必要とする少なくとも１つのターゲットを含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項20】

検出器は、静的試料上の１つ以上の位置を撮像する静的撮像検出器であって、前記オーバーレイ計測レシピの少なくとも１つが、前記試料が静的であるときに測定を提供する、静的撮像検出器を含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項21】

検出器は、移動する試料上の１つ以上の位置を撮像する走査検出器であって、前記オーバーレイ計測レシピの少なくとも１つは、前記試料が移動しているときに測定を提供する、走査検出器を含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項22】

対物レンズをさらに含み、
前記１つ以上の照明光学系は、前記対物レンズを通して前記１つ以上の照明ビームで前記オーバーレイターゲットを照明し、前記１つ以上の集光光学系は、前記対物レンズによって集光された前記回折光を前記検出器に向け、前記調整可能な瞳マスクは、前記照明光学系および前記集光光学系の両方に共通の瞳平面に位置する、請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項23】

１つ以上の制御ゾーンは、１つ以上の照明ビームのうちの１つの選択された数でオーバーレイターゲットを照明するように個々に位置指定可能であり、１つ以上の制御ゾーンの少なくともいくつかは、試料上の１つ以上の照明ビームの選択的制御を提供するために、１つ以上の照明ビームに対応する瞳平面の部分に配置されることを特徴とする請求項２２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項24】

照明源は、瞳平面内の２つの直交方向に沿って対称照明ビームを提供する四重極照明源を備え、１つ以上の制御ゾーンは、瞳平面内に環を形成するように配置された２つの制御ゾーンを含み、２つの制御ゾーンの各々は、環の半分に対応し、２つの制御ゾーンの各々は、１つ以上の照明ビームのうちの２つの直交照明ビームからの２つの通過光が、２つの直交照明ビームからの光に応答して試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、２つの直交照明ビームからの光に応答して試料からのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰させるように配向されることを特徴とする請求項２２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項25】

２つの制御ゾーンの透過率は、対向する照明ビームによるオーバーレイターゲットの連続的な測定を提供するために、連続的に交互に変更されてもよいことを特徴とする請求項２４に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項26】

１つ以上の照明光学系は、瞳平面に配置された出力端を有する１つ以上のファイバを含むことを特徴とする請求項２２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項27】

瞳平面は、対物レンズの内部瞳平面に対応することを特徴とする請求項２２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項28】

瞳平面は、対物レンズの内部瞳平面に共役な中継面に対応することを特徴とする請求項２２に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項29】

１つ以上の照明ビームのうちの１つは、オーバーレイターゲットを垂直入射で照明するように配置され、１つ以上の制御ゾーンは、瞳平面内の中心にある円形制御ゾーンを含み、円形制御ゾーンは、垂直入射における照明ビームからの光に応答して、試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、垂直入射における照明ビームからのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰するように配向されることを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項30】

１つ以上の制御ゾーンは、環状制御ゾーンを含み、環状制御ゾーンは、１つ以上の照明ビームのそれぞれからの光に応答して試料からの光の１つ以上の非ゼロ次回折を通過させ、１つ以上の照明ビームのそれぞれからの光に応答して試料からのゼロ次回折を遮断または光学的に減衰させるように配向されることを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項31】

対物レンズを有し、１つ以上の集光光学系は、対物レンズによって集光された回折光を検出器に導き、１つ以上の照明光学系は、対物レンズに近接する１つ以上の集束用レンズを使用して、傾斜する角度で照明源から試料に１つ以上の照明ビームを向ける、請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項32】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、メカニカルシャッタを含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項33】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、電気光学減衰器を含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項34】

１つ以上の制御ゾーンの少なくとも１つは、調整可能な透過率を提供する空間光変調器を含むことを特徴とする請求項１７に記載のオーバーレイ計測ツール。

【請求項35】

方法であって、
試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットに対するオーバーレイ計測レシピを受信することと、
オーバーレイ計測ツールを用いた試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットの測定のためのオーバーレイ計測レシピに従って、調整可能な瞳マスクの瞳透過率分布を調整する指示することと、を含み、
オーバーレイ計測ツールは、
照明源からの１つ以上の照明ビームでオーバーレイターゲットを照明するように構成された１つ以上の照明光学系であって、前記オーバーレイターゲットは、１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む、１つ以上の照明光学系と、
オーバーレイターゲットからの回折光を検出器に向けるように構成された１つ以上の集光光学系と、
集光瞳平面に対応する瞳平面に配置され、瞳平面の１つ以上の部分にわたって分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、１つ以上の制御ゾーンは、調整可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定可能であり、調整可能な瞳透過率分布は、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的な制御を提供し、前記１つ以上の制御ゾーンは、異なる瞳透過率分布を利用する２つ以上の計測モードに従って前記オーバーレイ計測ツールの操作性を提供する、調整可能な瞳マスクと、
を含み、
検出器からの測定データに基づいて、試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットについての、前記２つ以上の計測モードの選択された計測モードに関連する１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定する、方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、概してオーバーレイ計測に関し、より詳細には、調整可能な瞳マスクを用いて複数のオーバーレイ測定技術間でトグルする（切り換える）ためのシステムおよび方法に関する。

【背景技術】

【0002】

関連出願の参照
本出願は、米国仮出願６３／０２８，５６８ （２０２０年５月２２日出願、ＭＥＡＳＵＲＥＭＥＮＴ ＭＯＤＥＳ ＦＯＲ ＯＶＥＲＬＡＹ：オーバーレイのための測定モード）、発明者：Ａｍｎｏｎ Ｍａｎａｓｓｅｎ、Ａｎｄｙ Ｈｉｌｌ、およびＧｉｌａｄ Ｌａｒｅｄｏ、についての米国特許法１１９条（ｅ）の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0003】

オーバーレイ計測システムは、典型的には、対象の層上に位置するオーバーレイターゲットフィーチャの相対位置を測定することによって、サンプルの複数の層のオーバーレイアライメント（位置合わせ）に特徴付けられる。製造されるフィーチャ（特徴）のサイズが減少し、フィーチャ密度が増加するにつれて、これらのフィーチャを特徴付ける（キャラクタライズする）ために必要なオーバーレイ計測システムに対する需要が増加する。異なるオーバーレイ計測技術は、精度、再現性またはスループットの間の異なるトレードオフを生じえる。したがって、異なるオーバーレイ計測技術をサンプルのさまざまな部分またはロットの異なるサンプル間で利用することが有利であり得る。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】米国特許第１１１５６８６４Ｂ２公報

【文献】米国特許第１１１１８９０３Ｂ２公報

【文献】米国特許出願公開２０１２／０００４４３９公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、異なるオーバーレイ計測技術は、測定中にサンプルの照明およびサンプルからの光の集光のために異なる仕様を必要とするかもしれない。したがって、単一のオーバーレイ計測ツールを用いて異なるオーバーレイ技術を用いてオーバーレイを測定するシステムおよび方法を提供し、さらに異なるオーバーレイ技術間の効率的な切り替えを提供することが望ましいかもしれない。

【課題を解決するための手段】

【0006】

オーバーレイ計測ツールは、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。ある例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは照明源を含む。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、照明源からの１つ以上の照明ビームでオーバーレイターゲットを照明する１つ以上の照明光学系を含み、オーバーレイターゲットは、１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む。他の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、オーバーレイターゲットの周期的フィーチャからの回折光を検出器に向ける１つ以上の集光光学系を含む。別の例示的な実施形態では、オーバーレイ計測ツールは、瞳平面に配置された調整可能な瞳マスクを含み、瞳平面は集光瞳平面に対応する。別の例示的な実施形態では、調整可能な瞳マスクは、瞳平面の１つ以上の部分にわたって分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、１つ以上の制御ゾーンは、調整可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定（アドレス）可能であり、調整可能な瞳透過率分布は、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的制御を提供する。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、調整可能な瞳マスクに通信可能に結合されたコントローラを含む。別の例示的な実施形態では、コントローラは、調節可能な瞳マスクに、選択されたオーバーレイ計測レシピに対応する選択された瞳透過率分布を提供するように指示する（ダイレクトする）ことができ、選択された瞳透過率分布は、ターゲットから検出器への回折の選択された次数のセットの透過を提供する１つ以上の制御ゾーンの選択された構成に対応する。別の例示的な実施形態において、コントローラは、検出器からの測定データに基づいて１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定し得る。

【0007】

オーバーレイ計測ツールは、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。ある例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは照明源を含む。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、照明源からの１つ以上の照明ビームでオーバーレイターゲットを照明する１つ以上の照明光学系を含み、オーバーレイターゲットは、１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、回折光をオーバーレイターゲットから検出器に向ける１つ以上の集光光学系を含む。別の例示的な実施形態では、オーバーレイ計測ツールは、瞳平面に配置された調整可能な瞳マスクを含み、瞳平面は集光瞳平面に対応する。別の例示的な実施形態では、調整可能な瞳マスクは、瞳平面の１つ以上の部分にわたって分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、１つ以上の制御ゾーンは、調整可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定可能であり、調整可能な瞳透過率分布は、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的制御を提供する。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、調整可能な瞳マスクに通信可能に結合されたコントローラを含む。他の例示的な実施形態において、コントローラは、サンプル上の複数のオーバーレイターゲットに対するオーバーレイ計測レシピを受信し得る。他の例示的な実施形態において、コントローラは、サンプル上の複数のオーバーレイターゲットに対するオーバーレイ計測レシピを受信し得る。別の例示的な実施形態では、コントローラは、調整可能な瞳マスクに指示して、試料上の複数のオーバーレイターゲットの測定のためのそれぞれのオーバーレイ計測レシピに従って瞳透過率分布を調整することができる。他の例示的な実施形態において、コントローラは、検出器からの測定データに基づいて、サンプル上の複数のオーバーレイターゲットについての１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定し得る。

【0008】

本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って方法が開示される。ある例示的な実施形態において、方法は、サンプル上の１つ以上のオーバーレイターゲットのためのオーバーレイ計測レシピを受け取ることを含む。別の例示的な実施形態では、方法は、オーバーレイ計測ツールを用いて試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットの測定のためのそれぞれのオーバーレイ計測レシピに従って瞳透過率分布を調整するように調整可能な瞳マスクに指示することを含む。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、照明源からの１つ以上の照明ビームでオーバーレイターゲットを照明する１つ以上の照明光学系を含み、オーバーレイターゲットは、１つ以上の測定方向に沿った周期的特徴を含む。別の例示的な実施形態において、オーバーレイ計測ツールは、回折光をオーバーレイターゲットから検出器に向ける１つ以上の集光光学系を含む。別の例示的な実施形態では、オーバーレイ計測ツールは、瞳平面に配置された調整可能な瞳マスクを含み、瞳平面は集光瞳平面に対応する。別の例示的な実施形態では、調整可能な瞳マスクは、瞳平面の１つ以上の部分にわたって分布する１つ以上の制御ゾーンを含み、１つ以上の制御ゾーンは、調整可能な瞳透過率分布を提供するように個々に位置指定可能であり、調整可能な瞳透過率分布は、瞳平面のそれぞれの１つ以上の部分における回折光の検出器への通過の選択的制御を提供する。他の例示的な実施形態において、方法は、検出器からの測定データに基づいてサンプル上の１つ以上のオーバーレイターゲットについての１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定を決定することを含む。

【0009】

前述の概要および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に組み込まれ、明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、全般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。

【0010】

本開示の多数の利点は、添付の図面を参照することによって当業者によってよりよく理解され得る。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1A】図１Ａは、本開示の１つ以上の実施形態によるオーバーレイ計測システムを示す概念図である。

【図1B】図１Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態によるオーバーレイ計測ツールを示す概念図である。

【図1C】図１Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、レンズ外照明を示すオーバーレイ計測ツールの一部分の概念図である。

【図1D】図１Ｄは、本開示の１つ以上の実施形態による、ケーシング内の１つ以上のスリットを通して内部瞳平面への直接アクセスを含む、対物レンズの概念図である。

【図1E】図１Ｅは、本開示の１つ以上の実施形態による複数の瞳平面を示すオーバーレイ計測ツールの概念図である。

【図2】図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、非オーバーラップフィーチャを有するオーバーレイターゲットの上面図である。

【図3】図３は、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーラップ構造を有するオーバーレイターゲットの斜視図である。

【図4A】図４Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、瞳平面内に成形制御ゾーンを提供する調整可能な瞳マスクの概略図である。

【図4B】図４Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、環状制御ゾーンを提供する調節可能な瞳マスクの概略図である。

【図4C】図４Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、結合して環を形成する２つの制御ゾーンを提供する調節可能な瞳マスクの概略図である。

【図5A】図５Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、第１の測定値を提供するために第１のレシピで構成された図４Ｃの調整可能な瞳マスクの概略図である。

【図5B】図５Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、第２の測定値を提供するために第２のレシピで構成された図４Ｃの調整可能な瞳マスクの概略図である。

【図5C】図５Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による同時オーバーレイ計測のために図４Ｂのように構成された調節可能な瞳マスクの概略図である。

【図6A】図６Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、画像ベースの散乱計測またはグレイフィールド散乱計測を提供するために照明経路および集光経路に共通の瞳平面に配置されるように構成された調整可能な瞳マスクの概略図である。

【図6B】図６Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーレイ計測のための画像ベースの散乱計測またはグレイフィールド散乱計測を提供するために集光経路専用の瞳平面に配置されるように図４Ｂのように構成される調整可能な瞳マスクの概略図である。

【図7】図７は、本開示の１つ以上の実施形態による、グレイイメージングオーバーレイ計測を提供するために図４Ａのように構成された調節可能な瞳マスクの概略図である。

【図8】図８は、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーレイ計測方法において実行されるステップを示す流れ図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、図面を参照しながら、本開示の実施形態について以下に説明する。

【0013】

ここで、添付の図面に示される開示された主題を詳細に参照する。本開示は、特定の実施形態およびその特定の特徴に関して具体的に示され、説明されてきた。本明細書に記載される実施形態は、限定的ではなく例示的であると解釈される。本開示の精神および範囲から逸脱することなく、形態および詳細における種々の変更および修正が行われ得ることが、当業者に容易に明白である。

【0014】

本開示の実施形態は、共通のオーバーレイ計測ツールを用いる複数のオーバーレイ計測技術を用いて２つ以上のリソグラフィパターニングステップ間のオーバーレイ（例えばオーバーレイ誤差（エラー））を測定するためのシステムおよび方法を対象とする。さらなる実施形態は、オーバーレイ計測技術間の効率的な切り替えを提供するために、測定中にサンプルの照明および／またはサンプルからの光の集光を効率的に修正することに関する。

【0015】

本開示の目的のために、オーバーレイという用語は、一般に、２つ以上のリソグラフィパターニングステップによって製作された試料上のフィーチャの相対位置を記述するために使用され、オーバーレイ誤差という用語は、公称配置からのフィーチャの偏差を記述する。例えば、多層デバイスは、各層に対して異なるリソグラフィステップを使用して複数のサンプル層上にパターン化された特徴を含んでもよく、層間の特徴（フィーチャ）の整列は、典型的には、結果として生じるデバイスの適正な性能を確実にするように厳密に制御されなければならない。したがって、オーバーレイ測定は、２つ以上のサンプル層上のフィーチャの相対位置を特徴付けることができる。別の例として、複数のリソグラフィステップを使用して、単一のサンプル層上にフィーチャを製造することができる。ダブルパターニング技術またはマルチパターニング技術と一般に呼ばれるそのような技術は、リソグラフィシステムの解像度に近い高密度フィーチャの製造を容易にすることができる。この文脈におけるオーバーレイ測定は、この単一層上の異なるリソグラフィステップからのフィーチャの相対位置を特徴付けることができる。オーバーレイ計測の特定の用途に関する本開示全体にわたる例および例示は、例示目的のみのために提供され、本開示を限定するものとして解釈されるべきではないことを理解されたい。

【0016】

いくつかのアプリケーションにおいて、オーバーレイ測定は、製造されたデバイス（装置）のフィーチャ（例えば、デバイス・フィーチャ）上で直接実行されてもよいが、オーバーレイ測定は、通常、デバイス・フィーチャと同じリソグラフィステップを用いて印刷された専用のオーバーレイターゲット上で実行される。このようにして、オーバーレイターゲットのフィーチャ（例えばターゲットフィーチャ）は、オーバーレイ測定を容易にするように特別に設計（デザイン）され得る。さらに、１つの製造ステップ（例えば、１つ以上のサンプル層の製造後）で測定されたオーバーレイは、後続の製造ステップにおける追加のサンプル層の製造のためにプロセスツール（例えば、リソグラフィツール等である）を正確に位置合わせするための補正可能物（ｃｏｒｒｅｃｔａｂｌｅｓ：修正を可能とする）を生成するために使用され得る。

【0017】

様々なオーバーレイ計測ターゲットデザイン、測定技術、および対応するオーバーレイ計測ツールが開発されている。例えば、画像ベースのオーバーレイ計測ツールは、オーバーレイターゲット（例えば、アドバンストイメージングメトロロジー（ＡＩＭ）ターゲット、ボックスインボックスメトロロジーターゲット等である）を照明し、明視野イメージングまたは暗視野イメージングを含むがこれらに限定されない様々なイメージング技術に基づいてオーバーレイターゲットの画像を含むオーバーレイ信号をキャプチャし得る。したがって、オーバーレイは、キャプチャされた画像におけるオーバーレイターゲットフィーチャの相対位置（例えば、フィールド平面分布）を測定することによって決定され得る。別の例として、散乱計測ベースのオーバーレイ計測ツールは、オーバーレイターゲット（例えば、格子オーバ格子計測ターゲット等である）を照明し、照明ビームの回折、散乱および／または反射に関連付けられたオーバーレイターゲットから発せられる光の角度分布を含むオーバーレイ信号を捕捉し得る。この場合、オーバーレイは、捕捉された光の角度分布（例えば、瞳平面分布）に基づいて決定されてもよい。さらに、画像化または散乱計測に基づき得るさまざまな回折ベースのオーバーレイ技術は、制御された角度照射プロファイルで周期的特徴を有するオーバーレイターゲットを照射することによって生成される特定の回折次数の回折を利用し得る。加えて、ある計測技術は、静的ターゲットの特徴付けに適しているかもしれないが、他の計測技術は、オーバーレイターゲットが動いている間のオーバーレイターゲットの特徴付けに適しているかもしれない。

【0018】

しかしながら、オーバーレイターゲットの使用に対する中心的な課題は、オーバーレイターゲットによって生成されるオーバーレイ測定がデバイス・フィーチャ上の実際のオーバーレイを正確に表すことを保証することである。ターゲット・ベースのオーバーレイ測定は、さまざまな理由でデバイス・フィーチャの実際のオーバーレイから逸脱し得る。例えば、ターゲット・フィーチャとデバイス・フィーチャとの間のサイズ、配向、密度、または物理的位置の差は、オーバーレイ測定における系統的誤差として現れる製造偏差をもたらし得る。加えて、異なるオーバーレイ技術およびターゲットデザインは、サイズ、精度、照明源要件および測定の複雑さまたは速度の間で異なるトレードオフを有し得る。結果として、所与の測定の特定のニーズに基づいて異なるオーバーレイ計測技術の間で効率的に切り替えることが望ましいかもしれない。

【0019】

本開示の実施形態は、試料から検出器への光の透過を動的に調整するために少なくとも集光瞳に位置する調整可能な瞳マスクを含むオーバーレイ計測ツールを対象とする。この点に関して、調節可能な瞳マスクは、システム内の光の角度分布の動的制御を容易にすることができ、さらに、集光瞳の異なる領域内の光を利用することができる異なるオーバーレイ計測技術間の切り替えを容易にすることができる。

【0020】

調節可能な瞳マスクは、様々な方法で構成することができる。いくつかの実施形態では、調節可能な瞳マスクは、瞳を通る光の空間的に調節可能な透過率を提供する。この点に関して、瞳の様々な部分を通る光の透過率を別々に制御することができる。さらに、調節可能な瞳マスクは、透過モードまたは反射モードで動作することができる。

【0021】

本開示のさらなる実施形態は、測定中にサンプル上の照明の角度分布を動的に調整するために、オーバーレイ計測ツールの照明瞳に調整可能な瞳マスクをさらに含むオーバーレイ計測ツールを対象とする。いくつかの実施形態では、オーバーレイ計測ツールは、重複しない照明瞳平面および集光瞳平面に位置する別個の調整可能な瞳マスクを含む。いくつかの実施形態では、オーバーレイ計測ツールは、重複する照明瞳および集光瞳平面内に単一の調節可能な瞳マスクを含む。例えば、試料を同時に照明し、試料から光を集光するために使用される対物レンズの内部瞳平面は、照明瞳および集光瞳の両方に対応し得る。別の例として、１つ以上のリレー光学系を使用して、対物レンズの内部瞳平面を所望の位置（例えば、対物レンズのケーシングの外側である）にリレーして、調整可能な瞳マスクの配置を容易にすることができる。

【0022】

本開示の追加の実施形態は、試料を同時に照明し、試料から光を集光するために使用される対物レンズの内部瞳平面などであるがこれに限定されない共通の照明および集光瞳における構造化照明を含むオーバーレイ計測ツールを対象とする。例えば、オーバーレイ計測ツールは、共通の瞳に位置する出力端を有する１つ以上のファイバに照明を提供する照明源を含み得る。さらに、オーバーレイ計測ツールは、ファイバによって不明瞭にされない（邪魔されない）瞳の部分において調整可能な瞳マスクを含み得る。

【0023】

少なくとも集光瞳に調整可能な瞳マスクを含むオーバーレイ計測ツールは、広範囲のオーバーレイ計測技術を用いてサンプルのオーバーレイを測定するのに適し得ることが本明細書で企図される。例えば、そのようなオーバーレイ計測ツールは、画像ベースのオーバーレイ技術と散乱計測ベースのオーバーレイ技術との間で切り替えるように構成可能であり得る。さらに、そのようなオーバーレイ計測ツールは、調整可能な瞳マスクに基づいて、静止サンプルの測定と、それが測定フィールドを通して走査されるときに動いているサンプルの測定との間で切り替えるように構成可能であり得る。

【0024】

結果として、本明細書に開示される調整可能な瞳マスクを含むオーバーレイ計測ツールは、様々なオーバーレイ測定技術を実行するための柔軟なプラットフォームを提供し得る。したがって、そのようなツールは、既存のツールを上回る多数の利益を提供し得る。例えば、そのようなツールは、選択可能な測定レシピ（仕様、処方）を用いて、サンプルにわたって分散されたオーバーレイターゲットの大規模なサンプリングを提供し得る。これは、高い測定スループットで試料の異なる部分に対する異なるオーバーレイレシピ（および潜在的に異なるターゲット形状）の使用を可能にし得る。対照的に、単一の専用技術またはレシピを用いてオーバーレイ測定をそれぞれ提供する１つ以上のオーバーレイ計測ツールの使用は、異なる測定を実行するために様々なツール間でサンプルを物理的に移動させることを必要とし、これはスループットを実質的に減少させる。

【0025】

本開示を通して使用されるように、「サンプル」という用語は、概して、半導体または非半導体材料（例えば、ウエハ等である）から形成される基板を指す。例えば、半導体または非半導体材料は、単結晶シリコン、ガリウムヒ素、およびリン化インジウムを含み得るが、それらに限定されない。試料は、１つ以上の層を含んでもよい。例えば、そのような層は、レジスト、誘電材料、導電性材料、および半導体材料を含んでもよいが、それらに限定されない。多くの異なる種類のそのような層が当技術分野において公知であり、本明細書で使用される試料という用語は、その上にすべての種類のそのような層が形成され得る試料を包含することが意図される。サンプル上に形成される１つ以上の層は、パターン化されてもよく、またはパターン化されなくてもよい。例えば、サンプルは、複数のダイを含んでもよく、各ダイは、反復可能なパターン化特徴を有する。そのような材料の層の形成および処理は、最終的に、完成したデバイスをもたらし得る。多くの異なるタイプのデバイスを試料上に形成することができ、本明細書で使用する試料という用語は、当技術分野で知られている任意のタイプのデバイスが作製されている試料を包含することを意図する。さらに、本開示の目的のために、サンプルおよびウェハという用語は、交換可能であると解釈されるべきである。さらに、本開示の目的のために、パターニングデバイス、マスクおよびレチクルという用語は、交換可能であると解釈されるべきである。

【0026】

本開示の追加の実施形態は、任意の選択されたオーバーレイ測定技術のためにオーバーレイ計測ツールを構成するために必要なパラメータを提供するのに適したオーバーレイ計測ツールのためのレシピを提供することを対象とする。オーバーレイ計測ツールは、典型的には、サンプルの照明ならびにサンプルからの光の集光を制御するためのパラメータのセットを含むレシピに従って構成可能である。異なるオーバーレイ計測技術は、サンプル上の光の異なる照明プロファイルを必要とし得、さらに、測定のために集光瞳の異なる部分からの光を利用し得ることが本明細書において認識される。例えば、オーバーレイ計測ツールのレシピは、限定されないが、照明波長、照明瞳分布（例えば、照明角度の分布およびそれらの角度における照明の関連する強度である）、入射照明の偏光、照明の空間分布、またはサンプル高さのような照明パラメータを含み得る。別の例として、オーバーレイ計測ツールのレシピは、集光瞳分布（例えば、測定に使用されるサンプルからの角度光の所望の分布及びそれらの角度における関連するフィルタリングされた強度）、対象のサンプルの部分を選択するための集光視野絞り設定、集光された光の偏光、または波長フィルタなどであるがこれらに限定されない集光パラメータを含み得る。

【0027】

いくつかの実施形態において、オーバーレイ計測レシピは、所望のオーバーレイ測定技術の選択を容易にするために、少なくとも集光瞳における調整可能な瞳マスクのための様々な設定を含み得る。いくつかの実施形態において、異なるオーバーレイ計測レシピが、サンプルまたは一連のサンプルにわたる異なるターゲットに対して提供される。このようにして、異なるオーバーレイ計測技術が試料上の異なる位置で利用され得る。

【0028】

例示的な例として、回折ベースのオーバーレイ計測技術は、選択された入射角での照明で周期的特徴を有するオーバーレイターゲットを照明し、周期的オーバーレイターゲットによる別個の回折次数の回折（単に回折次数とも表現するが、当該回折次数の回折（光または電磁波）を意味する）の生成をもたらす。選択された回折次数は、次いで、オーバーレイを決定する際に使用するために集光されてもよい。このアプローチを使用すると、回折次数の回折の放射角度は、計測ターゲットの周期性、照明の波長、および照明の角度などの要因に基づく。さらに、異なる技法は、照明および集光構成の異なる組み合わせを利用してもよい。いくつかの実施形態において、少なくとも集光瞳に調整可能な瞳マスクを含む単一のオーバーレイ計測ツールは、様々なオーバーレイ計測技術を用いてオーバーレイ計測を提供するために（例えば、ランタイム中に）動的に調整されてもよい。

【0029】

本開示のさらなる実施形態は、オーバーレイデータを１つ以上のプロセスツールに提供することを対象とする。オーバーレイ計測ツールからのオーバーレイデータは、概して、さまざまなリソグラフィステップに関連付けられたオーバーレイ（またはオーバーレイ誤差）を決定するのに充分な情報を有するオーバーレイ計測ツールの任意の出力を含み得る。例えば、オーバーレイデータは、１つ以上のデータセット、１つ以上の画像、１つ以上の検出器読取値等を含み得るが、それらを含む必要はない。このオーバーレイデータは、リソグラフィツールの診断情報を含むがこれに限定されない様々な目的のために、またはプロセス制御訂正可能物（ｃｏｒｒｅｃｔａｂｌｅｓ：訂正のための指標）の生成のために使用され得る。例えば、ロット内のサンプルのオーバーレイデータを使用して、同じロット内の後続のサンプルのリソグラフィ露光を制御するためのフィードバック補正可能値を生成することができる。別の例では、ロット内のサンプルのオーバーレイデータを使用して、現在の露光における任意の偏差を考慮するために、後続のリソグラフィステップにおいて同じまたは同様のサンプルのリソグラフィ露光を制御するためのフィードフォワード補正可能値を生成することができる。

【0030】

ここで図１～８を参照すると、選択可能な技術を介したオーバーレイ計測のためのシステムおよび方法が、本開示の１つ以上の実施形態によるより詳細に示されている。

【0031】

図１Ａは、本開示の１つ以上の実施形態によるオーバーレイ計測システム１００を示す概念図である。

【0032】

一実施形態では、オーバーレイ計測システム１００は、任意の数のオーバーレイレシピに基づいてオーバーレイターゲットからオーバーレイ信号を取得するためのオーバーレイ計測ツール１０２を含む。例えば、オーバーレイ計測ツール１０２は、照明を試料１０４に向けることができ、さらに、試料１０４から発する光または他の発散される放射線などを集光して、２つ以上の試料層のオーバーレイの決定に適したオーバーレイ信号を生成することができる。オーバーレイ計測ツール１０２は、試料１０４上のオーバーレイターゲットに関連付けられたオーバーレイを決定するのに適したオーバーレイ信号を生成するのに適した当該技術分野において知られている任意のタイプのオーバーレイ計測ツールであり得る。オーバーレイ計測ツール１０２は、撮像モードまたは非撮像モードで選択的に動作することができる。例えば、撮像モードでは、個々のオーバーレイターゲット要素は、サンプル上の照明スポット（例えば、明視野画像、暗視野画像等の一部である）内で解像可能であり得る。別の例として、オーバーレイ計測ツール１０２は、試料１０４からの放射の角度分布（例えば、試料１０４による放射の散乱および／または回折に関連する）を特徴付けるためにサンプルからの放射が瞳平面において分析される散乱計測ベースのオーバーレイ計測ツールとして動作し得る。

【0033】

さらに、オーバーレイツールは、オーバーレイターゲットのオーバーレイを決定するのに適したオーバーレイ信号を取得するための測定パラメータを定義する任意の数のレシピに基づいてオーバーレイ信号を生成するように構成可能であり得る。例えば、オーバーレイ計測ツールのレシピは、照明波長、サンプルから発する光の検出波長、サンプル上の照明のスポットサイズまたは形状、入射照明の角度、入射照明の偏光、集光された光の偏光、オーバーレイターゲット上の入射照明のビームの位置を含み得るが、これらに限定されない。オーバーレイ計測ツールの焦点ボリュームにおけるオーバーレイターゲットの位置など。

【0034】

別の実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、オーバーレイ計測ツール１０２の少なくとも集光経路の瞳平面内に調整可能な瞳マスク１０６を含む。集光瞳内の調整可能な瞳マスク１０６は、検出器に向けられる瞳平面内の空間位置の関数として光の強度を動的に調整することができる。この点に関して、調整可能な瞳マスク１０６は、特定の測定で使用するために試料１０４上のオーバーレイターゲットによって生成される特定の回折次数の回折を動的に選択および／または拒否するために使用され得る。同様に、照明瞳内の調整可能な瞳マスク１０６は、サンプルに向けられる瞳平面内の空間位置の関数として光の強度を動的に調整することができる。これに関して、調整可能な瞳マスク１０６は、サンプルに入射する照明の角度および各角度における関連する強度を動的に制御するために使用され得る。

【0035】

調節可能な瞳マスク１０６は、当技術分野で知られている任意の空間的に位置指定可能な光学素子を含むことができる。さらに、調節可能な瞳マスク１０６は、反射モードまたは透過モードで動作してもよく、この点に関して、瞳を通過した光は、調節可能な瞳マスク１０６から反射および／または透過された光であってもよい。例えば、調整可能な瞳マスク１０６は、これらに限定されないが、液晶デバイス、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス、またはプログラマブルミラーアレイなどの空間的に位置指定可能なピクセルを有する空間的に位置指定可能なデバイスを含むことができる。別の例として、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳孔に選択的に挿入され得る１つ以上の固体構成要素（例えば、ディスク）として形成され得る。

【0036】

一実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳を通して光を選択的に遮断または通過させる。別の実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳を通過する光の強度に対する選択的な制御を提供する。例えば、偏光子と結合された空間的に選択可能な偏光を提供する液晶デバイスを含む調整可能な瞳マスク１０６は、瞳を通過した光の空間的に選択可能な強度プロファイルを提供することができる。

【0037】

別の実施形態において、オーバーレイ計測システム１００は、コントローラ１０８を含む。コントローラ１０８は、以下を含み得る。

【0038】

コントローラ１０８は、記憶媒体１１２またはメモリ上に維持されるプログラム命令を実行するように構成された１つ以上のプロセッサ１１０を含み得る。この点に関して、コントローラ１０８の１つ以上のプロセッサ１１０は、本開示全体にわたって説明される様々なプロセスステップのいずれかを実行し得る。さらに、コントローラ１０８は、オーバーレイ計測ツール１０２またはその中の任意のコンポーネントに通信可能に結合されてもよい。

【0039】

コントローラ１０８の１つ以上のプロセッサ１１０は、当技術分野で知られている任意のプロセッサまたは処理要素（ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｅｌｅｍｅｎｔ）を含むことができる。本開示の目的のために、「プロセッサ」または「処理要素」という用語は、１つ以上の処理または論理要素（例えば、１つ以上のマイクロプロセッサデバイス、１つ以上の特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）デバイス、１つ以上のフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、または１つ以上のデジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ））を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得、この意味で、１つ以上のプロセッサ１１０は、アルゴリズムおよび／または命令（たとえば、メモリに記憶されたプログラム命令）を実行するように構成された任意のデバイスを含み得る。一実施形態において、１つ以上のプロセッサ１１０は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、ネットワーク接続されたコンピュータ、または本開示を通して記載されるようにオーバーレイ計測システム１００と共に動作または動作するよう構成されたプログラムを実行するよう構成された任意の他のコンピュータシステムとして具現化され得る。

【0040】

さらに、オーバーレイ計測システム１００の異なるサブシステムは、本開示に記載されたステップの少なくとも一部を実行するのに適したプロセッサまたは論理要素を含み得る。したがって、上記の説明は、本開示の実施形態に対する限定として解釈されるべきではなく、単なる例示として解釈されるべきである。さらに、本開示全体にわたって説明されるステップは、単一のコントローラ１０８によって、または代替として複数のコントローラによって実行され得る。さらに、コントローラ１０８は、共通のハウジングまたは複数のハウジング内に収容された１つ以上のコントローラを含むことができる。このようにして、任意のコントローラまたはコントローラの組み合わせが、オーバーレイ計測システム１００への統合に適したモジュールとして別個にパッケージ化され得る。

【0041】

記憶媒体１１２は、関連する１つ以上のプロセッサ１１０によって実行可能なプログラム命令を記憶するのに適した、当技術分野で知られている任意の記憶媒体を含み得る。例えば、記憶媒体１１２は、非一時的な記憶媒体を含んでもよい。別の例として、記憶媒体１１２は、読取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気または光メモリデバイス（たとえば、ディスク）、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含み得るが、それらに限定されない。さらに、記憶媒体１１２は、１つ以上のプロセッサ１１０とともに共通のコントローラハウジング内に収容され得ることに留意されたい。一実施形態では、記憶媒体１１２は、１つ以上のプロセッサ１１０およびコントローラ１０８の物理的位置に対して遠隔に配置され得る。たとえば、コントローラ１０８の１つ以上のプロセッサ１１０は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能なリモートメモリ（たとえば、サーバ）にアクセスすることができる。

【0042】

図１Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態によるオーバーレイ計測ツール１０２を示す概念図である。一実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、少なくとも１つの照明ビーム１１６を生成するように構成された照明源１１４を含む。照明源１１４からの照明は、限定はしないが、紫外線（ＵＶ）放射、可視光線、または赤外線（ＩＲ）放射を含む１つ以上の選択された波長の光を含むことができる。例えば、オーバーレイ計測ツール１０２は、照明瞳平面に１つ以上の開口を含み、照明源１１４からの照明を１つ以上の照明ビーム１１６または照明ローブ（ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ ｌｏｂｅｓ）に分割してもよい。この点に関して、オーバーレイ計測ツール１０２は、ダイポール照明、直交照明などを提供し得る。さらに、試料１０４上の１つ以上の照明ビーム１１６の空間プロファイルは、任意の選択された空間プロファイルを有するように視野面絞りによって制御することができる。

【0043】

照明源１１４は、少なくとも１つの照明ビーム１１６を提供するのに適した任意のタイプの照明源を含むことができる。一実施形態では、照明源１１４はレーザ源である。例えば、照明源１１４は、１つ以上の狭帯域レーザ源、広帯域レーザ源、スーパーコンティニュームレーザ源、白色光レーザ源、または同等物を含んでもよいが、それらに限定されない。これに関して、照明源１１４は、高いコヒーレンス（例えば、高い空間コヒーレンスおよび／または時間コヒーレンス）を有する照明ビーム１１６を提供することができる。別の実施形態では、照明源１１４は、レーザ維持プラズマ（ＬＳＰ）源を含む。例えば、照明源１１４は、限定はしないが、ＬＳＰランプ、ＬＳＰバルブ、またはレーザ源によってプラズマ状態に励起されると広帯域照明を放出することができる１つ以上の要素を収容するのに適したＬＳＰチャンバを含むことができる。別の実施形態では、照明源１１４はランプ源を含む。例えば、照明源１１４は、アークランプ、放電ランプ、無電極ランプなどを含み得るが、これらに限定されない。これに関して、照明源１１４は、低コヒーレンス（例えば、低い空間コヒーレンスおよび／または時間コヒーレンス）を有する照明ビーム１１６を提供することができる。別の実施形態では、照明源１１４は、複数のコヒーレント光源から単一の出力分布に形成される高輝度照明源を含む。例えば、共通のエタンデュにおいて単一の出力分布を提供するように構成された複数のコヒーレント光源を含む高輝度照明光源は、概して米国特許出願１６，４３０，８６１（２０１９年６月４日）で説明される。これは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0044】

照明源１１４は、自由空間技法および／または光ファイバを使用して、照明ビーム１１６を提供してもよい。一実施形態では、照明源１１４は、２つ以上の光ファイバ内に光を提供することによって、マルチローブ照明ビーム１１６を生成し、各光ファイバから出力される光は、照明ビーム１１６の照明ローブである。別の実施形態では、照明源１１４は、光源を２つ以上の回折次数に回折させることによって、マルチローブ照明ビーム１１６を生成し、照明ビーム１１６の照明ローブは、光源の回折次数の回折のうちの少なくともいくつかから形成される。制御された回折による複数の照明ローブの効率的な生成は、概して、２０１９年３月１４日に公開され、Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ Ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ Ｓｈａｐｉｎｇ ｆｏｒ Ｓｃａｔｔｅｒｏｍｅｔｒｙ Ｏｖｅｒｌａｙと題された米国特許出願公開ＵＳ２０２０／０１２４４０８に記載されている。これは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0045】

別の実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、照明経路１１８を介して試料１０４に照明ビーム１１６を向ける。照明経路１１８は、照明ビーム１１６を修正および／または調整するのに、ならびに照明ビーム１１６を試料１０４に向けるのに適した１つ以上の光学構成要素を含むことができる。一実施形態では、照明経路１１８は、１つ以上の照明経路レンズ１２０（例えば、照明ビーム１１６をコリメートするため、瞳平面および／または視野面を中継（リレー）するためなどである）を含む。別の実施形態では、照明経路１１８は、照明ビーム１１６を成形または別様に制御するための１つ以上の照明経路光学系１２２を含む。例えば、照明経路光学系１２２は、１つ以上の視野絞り、１つ以上の瞳絞り、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上のビームスプリッタ、１つ以上の拡散器、１つ以上のホモジナイザ、１つ以上のアポダイザ、１つ以上のビーム整形器、または１つ以上のミラー（例えば、静的ミラー、平行移動可能ミラー、走査ミラーなどである）を含んでもよいが、それらに限定されない。

【0046】

別の実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、照明ビーム１１６を試料１０４上に集束させる対物レンズ１２４を含む（例えば、試料１０４の２つ以上の層上に位置するオーバーレイターゲット要素を有するオーバーレイターゲット）。別の実施形態では、試料１０４は、試料１０４を固定するのに適した試料ステージ１２６上に配置され、照明ビーム１１６に対して試料１０４を位置決めするようにさらに構成される。

【0047】

別の実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、集光経路１３２を通って試料１０４（例えば、試料１０４上のオーバーレイターゲット）から発する光または他の光（例えば、集光された光１３０）を捕捉するように構成された１つ以上の検出器１２８を含む。集光経路１３２は、試料１０４からの集光光１３０を修正および／または調整するのに適した１つ以上の光学素子を含むことができる。一実施形態では、集光経路１３２は、１つ以上の集光経路レンズ１３４（例えば、照明ビーム１１６をコリメートするため、瞳平面および／または視野面を中継するためなどである）を含み、これは、対物レンズ１２４を含み得るが、これを含む必要はない。別の実施形態では、集光経路１３２は、集光された光１３０を成形または別様に制御する、１つ以上の集光経路光学部１３６を含む。例えば、集光経路光学系１３６は、１つ以上の視野絞り、１つ以上の瞳絞り、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上のビームスプリッタ、１つ以上の拡散器、１つ以上のホモジナイザ、１つ以上のアポダイザ、１つ以上のビーム整形器、または１つ以上のミラー（例えば、静的ミラー、平行移動可能ミラー、走査ミラーなどである）を含んでもよいが、それらに限定されない。

【0048】

検出器１２８は、集光経路１３２内の任意の選択された位置に配置することができる。一実施形態において、オーバーレイ計測ツール１０２は、試料１０４の画像を生成するために視野平面（例えば、試料１０４と共役な平面である）に検出器１２８を含む。別の実施形態では、オーバーレイ計測ツール１０２は、瞳像を生成するために瞳平面（例えば、回折面）に検出器１２８を含む。これに関して、瞳孔像は、試料１０４の検出器１２８からの光の角度分布に対応し得る。例えば、試料１０４からの照明ビーム１１６の回折に関連付けられた回折次数の回折（例えば、試料１０４上のオーバーレイターゲット）は、瞳平面内で撮像されるか、または別様に観察されてもよい。一般的な意味で、検出器１２８は、試料１０４からの反射（または透過）、散乱、または回折光の任意の組み合わせを捕捉することができる。

【0049】

オーバーレイ計測ツール１０２は、概して、オーバーレイを示す試料１０４からの光を捕捉するのに適した任意の数またはタイプの検出器１２８を含み得る。一実施形態では、検出器１２８は、静的試料を特徴付けるのに適した１つ以上の検出器１２８を含む。この点に関して、オーバーレイ計測ツール１０２は、測定中に試料１０４が静止している静止モードで動作し得る。例えば、検出器１２８は、電荷結合素子（ＣＣＤ）または相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）素子などであるがこれらに限定されない２次元画素アレイを含むことができる。これに関して、検出器１２８は、単一の測定において２次元画像（例えば、視野平面画像又は瞳平面画像である）を生成することができる。

【0050】

一実施形態では、検出器１２８は、移動する試料（例えば、走査試料）を特徴付けるのに適した１つ以上の検出器１２８を含む。この点に関して、オーバーレイ計測ツール１０２は、測定中に試料１０４が測定フィールドに対して走査（スキャン）される走査モードで動作し得る。例えば、検出器１２８は、選択された画像許容差（ｉｍａｇｅ ｔｏｌｅｒａｎｃｅｓ：例えば、画像のぼけ、コントラスト、シャープネスなど）内で走査中に１つ以上の画像を捕捉するのに充分な捕捉時間および／またはリフレッシュレートを有する２Ｄピクセルアレイを含んでもよい。別の例として、検出器１２８は、一度に１ラインの画素の画像を連続的に生成するライン走査検出器を含むことができる。別の例として、検出器１２８は、時間遅延積分（ＴＤＩ）検出器を含み得る。ＴＤＩ検出器は、試料１０４の運動がＴＤＩ検出器内の電荷転送クロック信号に同期されるときに試料１０４の連続画像を生成することができる。特に、ＴＤＩ検出器は、画素の列上の露光から電荷を取得し、走査方向に沿って画素の隣接する列間で電荷を転送するためのクロックパルスを含む。走査方向に沿った試料１０４の運動がＴＤＩ検出器における電荷移動と同期されるとき、電荷は、走査中に連続的に蓄積する。このプロセスは、電荷が画素の最終列に到達するまで続き、続いて検出器から読み出される。このようにして、物体の画像は、単純なラインスキャンカメラで可能であるよりも長い時間枠にわたって蓄積される。この比較的長い取得時間は、画像内の光子ノイズレベルを減少させる。さらに、画像と電荷の同期運動は、記録された画像のぼけを防止する。

【0051】

別の実施形態において、オーバーレイ計測ツール１０２は、計測測定中に測定フィールドに対して試料１０４を走査する走査サブシステムを含む。例えば、試料ステージ１２６は、対物レンズ１２４の焦点容積内に試料１０４を位置決めし、配向することができる。別の実施形態では、試料ステージ１２６は、限定はしないが、直線並進ステージ、回転ステージ、または先端／傾斜ステージなどの１つ以上の調節可能なステージを含む。別の実施形態では、図示されていないが、走査サブシステムは、試料１０４に対して照明ビーム１１６を走査するための１つ以上のビーム走査光学系（例えば、回転可能なミラー、検流計（ガルバノメーター）などである）を含む。

【0052】

オーバーレイ計測ツール１０２の照明経路１１８および集光経路１３２は、照明ビーム１１６で試料１０４を照明し、入射照明ビーム１１６に応答して試料１０４から発せられる光を集光するのに適した広範囲の構成に向けることができる。例えば、図１Ｂに示すように、オーバーレイ計測ツール１０２は、共通の対物レンズ１２４が同時に照明ビーム１１６を試料１０４に向け、試料１０４から光を集光することができるように配向されたビームスプリッタ１３８を含むことができる。別の例として、照明経路１１８および集光経路１３２は、重複しない光路を含み得る。

【0053】

図１Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、レンズ外照明を示すオーバーレイ計測ツール１０２の一部分の概念図である。一実施形態では、照明源１１４は、１つ以上の光ファイバ１４０および照明経路レンズ１２０の出力から１つ以上の照明ビーム１１６を提供し、集光された光１３０を受光するために使用される対物レンズ１２４の開口数より大きい角度で、照明ビーム１１６を試料１０４に指向させる。この構成では、対物レンズ１２４は、試料１０４からの鏡面反射（例えば、０次回折）を集光しない。

【0054】

ここで図１Ｄおよび１Ｅを参照すると、オーバーレイ計測ツール１０２が任意の数の瞳平面１４２を含んでもよく、調整可能な瞳マスクが任意の数の瞳平面に配置されてもよいことが本明細書で企図される。

【0055】

一実施形態では、テレセントリック（ｔｅｌｅｃｅｎｔｒｉｃ）瞳平面１４２ａは、対物レンズ１２４内に内部に配置される。対物レンズ１２４の瞳平面は、対物レンズ１２４のケーシング１４４内にあってもよいが、そうである必要はないことが本明細書で認識される。図１Ｄは、本開示の１つ以上の実施形態による、ケーシング１４４内の１つ以上のスリットを通した内部瞳平面１４２ａへの直接アクセスを含む、対物レンズ１２４の概念図である。この構成では、瞳平面１４２ａは、照明経路１１８及び集光経路１３２の両方に配置され、この位置における調整可能な瞳マスク１０６は、試料１０４の角度照明プロファイル及び検出器１２８に向けられた集光された光１３０の角度プロファイルの両方に同時に影響を与える。

【0056】

図１Ｅは、本開示の１つ以上の実施形態による複数の瞳平面１４２を示すオーバーレイ計測ツール１０２の概念図である。オーバーレイ計測ツール１０２はさらに、照明経路１１８および集光経路１３２の任意の組み合わせにおいて、１つ以上の中継瞳平面１４２を含んでもよい。例えば、照明経路レンズ１２０は、対物レンズ１２４の内部テレセントリック瞳平面１４２ａを照明経路１１８内の瞳平面１４２ｂに中継するように構成することができる。この位置の調整可能な瞳マスク１０６は、単に試料１０４の照明を操作するように動作する。別の例として、集光経路レンズ１３４は、対物レンズ１２４の内部テレセントリック瞳平面１４２ａを集光経路１３２内の瞳平面１４２ｃに中継するように構成することができる。この位置における調節可能な瞳マスク１０６は、検出器１２８に渡された試料１０４からの集光された光１３０を操作するためにのみ動作する。別の例として、オーバーレイ計測ツール１０２は、対物レンズ１２４の内部テレセントリック瞳平面１４２ａを照明経路１１８および集光経路１３２の両方に共通の瞳平面１４２ｄに中継するように構成された１つ以上の中継レンズ１４６を含み得る。この位置における調整可能な瞳マスク１０６は、試料１０４の角度照明プロファイルと検出器１２８に向けられた集光光１３０の角度プロファイルの両方に同時に影響を与える。

【0057】

さらに、オーバーレイ計測ツール１０２は、照明経路１１８および／または集光経路１３２内に１つ以上の視野平面１４８を生成するように構成された１つ以上の光学素子を含むことができる。

【0058】

本明細書において前述したように、オーバーレイ計測ツール１０２は、任意の数のオーバーレイレシピ（例えば、測定パラメータのセット）を用いて、試料１０４上のオーバーレイターゲットに関連付けられたオーバーレイ信号を生成するように構成可能であり得る。さらに、オーバーレイ計測ツール１０２は、異なるレシピに基づく複数のオーバーレイ信号が迅速に取得され得るように、測定パラメータの迅速な調整を提供し得る。例えば、オーバーレイ計測システム１００のコントローラ１０８は、オーバーレイレシピに従って調整可能なコンポーネントを構成するために、オーバーレイ計測ツール１０２の１つ以上の調整可能なコンポーネントと通信可能に結合されてもよい。

【0059】

オーバーレイレシピは、測定パラメータとして照明ビーム１１６の波長（例えば、中心波長）、帯域幅、およびスペクトルプロファイル等であるが、それらに限定されない、試料に入射する照明ビーム１１６のスペクトルの１つ以上の側面を含んでもよい。

【0060】

オーバーレイレシピは、サンプリングモードをさらに含み得る。例えば、レシピは、特定の測定が、視野平面画像、瞳平面、または両方の捕捉を含むべきかどうかを含んでもよい。したがって、コントローラ１０８は、オーバーレイレシピに従って画像平面を調整するために、オーバーレイ計測ツール１０２内の様々な平面に配置された１つ以上の検出器１２８に通信可能に結合され得る。別の例として、レシピは、特定の測定値が静的動作モードで生成され得るか走査動作モードで生成され得るかを含み得る。したがって、コントローラ１０８は、オーバーレイレシピに従って測定中に試料１０４の位置および／または運動を調整するために、走査サブシステム（例えば、１つ以上の検出器１２８、試料ステージ１２６など）に通信可能に結合され得る。

【0061】

ここで図２Ａ～図３を参照すると、オーバーレイ計測ツール１０２による特徴付けに適したオーバーレイターゲットが、本開示の１つ以上の実施形態に従ってより詳細に説明される。

【0062】

オーバーレイ計測ツール１０２は、一般に、あらゆるデザインを有するあらゆるタイプのオーバーレイターゲットを特徴付けるのに適している。特に、照明源１１４、調整可能な瞳マスク１０６、または検出器１２８などであるがこれらに限定されないオーバーレイ計測ツール１０２の様々な構成要素は、測定されるべきオーバーレイターゲットの特定のデザインに基づいてオーバーレイレシピに従って調整され得る。いくつかの実施形態では、オーバーレイターゲットは、入射照明ビーム１１６を回折する少なくとも１つのサンプル層上の周期的フィーチャを含む。したがって、対物レンズ１２４によって集光される光は、オーバーレイターゲットからの１つ以上の回折次数の回折を含み得る。

【0063】

図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、非オーバーラップフィーチャを有するオーバーレイターゲット２０２の上面図である。例えば、図２のオーバーレイターゲット２０２は、画像ベースのオーバーレイまたは様々な回折ベースのオーバーレイ方法に好適であり得る。一実施形態では、オーバーレイターゲット２０２は、ここではオーバーレイターゲット２０２の象限（ｑｕａｄｒａｎｔｓ）として表される４つのセル２０４ａ～２０４ｄを含む。各セル２０４ａ～ｄは、試料１０４の第１の層２０８上に位置する第１層印刷要素２０６と、試料１０４の第２の層２１２上に位置する第２層印刷要素２１０とを含み得る。

【0064】

さらに、セル２０４ｂおよびセル２０４ｄは、図２に示されるように、Ｘ方向に沿ってオーバーレイ測定を提供するよう構成され得る。例えば、Ｘ方向に沿ったオーバーレイ測定は、各セル内の、またはセル２０４ｂとセル２０４ｄとの間の第１層印刷要素２０６および第２層印刷要素２１０の相対位置を直接比較することによって行われ得る。別の例では、Ｘ方向に沿ったオーバーレイ測定は、セル２０４ｂとセル２０４ｄとにわたって分布する第１層印刷要素２０６間の回転対称点（例えば、回転対称、反射対称、鏡面対称などである）を、セル２０４ｂとセル２０４ｄとにわたって分布する第２層印刷要素２１０間の対称点と比較することによって行われ得る。同様に、セル２０４ａおよびセル２０４ｃは、図２に示されるようにＹ方向に沿ってオーバーレイ測定を提供するよう構成され得る。

【0065】

図３は、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーラップ構造を有するオーバーレイターゲット２０２の斜視図である。例えば、図３のオーバーレイターゲット２０２は、散乱計測オーバーレイ計測に適し得る。一実施形態では、第２層印刷要素２１０の少なくとも一部は、第１層印刷要素２０６と重なる。

【0066】

さらに、オーバーレイターゲット２０２は、周期的フィーチャを含み得るが、周期的フィーチャを含む必要はない。これに関して、本明細書で前述したように、単一の入射角（または狭い範囲の入射角）で照明ビーム１１６でオーバーレイターゲット２０２を照明することは、周期的特徴からの回折に基づいて別個の回折次数の回折を生成することができる。例えば、図２～図３の第１層印刷要素２０６及び第２層印刷要素２１０は全て、Ｘ方向及び／又はＹ方向に周期的である。

【0067】

図２および図３は、単に例示を目的として提供されており、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。本願明細書において前に記載したように、オーバーレイ計測ツール１０２は、概して、イメージングモード（例えば、視野平面に配置された検出器１２８を有する）または散乱計測モード（例えば、瞳平面内の検出器１２８を有する）においてパターン要素の任意のデザインを有するオーバーレイターゲットを特徴付け得る。さらに、オーバーレイ計測ツール１０２は、概して、静的取得モードで、またはオーバーレイターゲットが動いている間に、オーバーレイターゲットを特徴付けてもよい。したがって、図２及び図３に示されるパターン要素の特定の配置は、単なる例示である。

【0068】

ここで図４Ａ～図４Ｃを参照すると、調節可能な瞳マスク１０６の様々な構成が、本開示の１つ以上の実施形態に従ってより詳細に説明される。

【0069】

調節可能な瞳マスク１０６は、１つ以上の機械的シャッタ（メカニカルシャッタ）、１つ以上の減光フィルタ、１つ以上の電気光学シャッタ、１つ以上の空間光変調器、１つ以上の変形可能ミラー、１つ以上の液晶デバイス、または１つ以上の偏光子を含むが、それらに限定されない、当技術分野で公知の任意の種類の空間的に位置指定可能な光学要素を含んでもよい。さらに、調節可能な瞳マスク１０６は、反射モードまたは透過モードで動作することができる。この点に関して、瞳を通過した光は、調節可能な瞳マスク１０６から反射および／または透過された光であってもよい。本開示における瞳平面１４２を通した光の透過または透過率への言及は、単に例示目的で提供され、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。むしろ、そのような例は、反射モードまたは透過モードのいずれかにおける動作に広く関係すると解釈されるべきである。

【0070】

調節可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２を通る光の透過を、任意の選択された程度の空間分解能で制御することができる。例えば、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２を通る光の透過が別々に制御され得る１つ以上の独立して制御可能な領域を有し得る。例えば、調整可能な瞳マスク１０６は、これらに限定されないが、液晶デバイス、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス、またはプログラマブルミラーアレイなどの位置指定可能なピクセルを有する空間アドレス（位置）指定可能なデバイスを含むことができる。これに関して、調整可能な瞳マスク１０６は、空間アドレス可能デバイスの空間分解能で瞳平面１４２を通る光の透過を制御することができる。別の例では、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳孔に選択的に挿入することができる１つ以上の固体構成要素（例えば、シャッタ）を含むことができる。

【0071】

さらに、調整可能な瞳マスク１０６は、様々な機構を使用して光の透過を制御することができる。一実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２内の所与の位置で全ての光を選択的に遮断または通過させる（例えば、バイナリ演算）。例えば、バイナリ演算は、概して、任意のタイプのシャッタまたは空間アドレス可能デバイスの使用を通して達成され得る。本明細書では、バイナリ演算は、所望のオーバーレイ計測技法を達成するために選択された回折次数の光を遮断することを含むが、それに限定されない、瞳平面１４２の特定の領域内の光を選択的に遮断するために好適であり得ることが企図される。別の実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２を通る光の制御可能な減衰またはフィルタリングを提供する。例えば、制御可能な減衰は、電気光学減衰器、例えば偏光回転子（例えば、電気光学偏光回転子、空間光変調器、液晶デバイス等である）に結合された偏光子によって達成され得るが、これに限定されない。この点に関して、偏光回転子は、瞳平面１４２の全部または一部における光の偏光を選択的に回転させて、偏光子を通して調整可能な透過率を提供することができる。

【0072】

調整可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２の任意の選択された部分にわたる光の透過をさらに制御することができる。本開示の目的のために、調節可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２を横切る１つ以上の制御ゾーン４０２を通る光の透過を制御するものとして説明される。これに関して、各制御ゾーン４０２を通る光の透過は、独立して制御され得る。各制御ゾーン４０２は、調整可能な瞳マスク１０６またはその部分に関連する１つ以上の空間アドレス指定可能なデバイスに対応し得る。たとえば、制御ゾーン４０２は、シャッタの形状（例えば、機械的シャッタ、電気光学シャッタなどである）に対応し得る。別の例として、制御ゾーン４０２は、グループとして制御されるピクセルのグループに対応し得る。例えば、偏光子に結合された複数のピクセルを有する液晶デバイスから形成される調整可能な瞳マスク１０６の場合、制御ゾーン４０２は、グループとして制御される液晶デバイスのピクセルのグループとして形成され得る。

【0073】

図４Ａ～４Ｃは、調節可能な瞳マスク１０６が瞳平面１４２全体にわたって分布する様々な制御ゾーン４０２の制御を提供するようにどのように構成され得るかの３つの非限定的な例を示す。本明細書では、調節可能な瞳マスク１０６の任意の構成が、オーバーレイ計測ツール１０２内の任意の瞳平面１４２（例えば、図１Ｅに示す瞳平面１４２ａ～ｄのいずれか）において使用され得ることが企図される。以下の特定の例は、可能な構成として単に例示目的で提供され、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。さらに、図４Ａ～図４Ｃは別個の構成として示されているが、いくつかの実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、制御ゾーン４０２ａ～ｄのすべてを含む。この点に関して、単一の調整可能な瞳マスク１０６を選択的に調整して、図４Ａ～図４Ｃの構成のいずれかを提供することができる。

【0074】

図４Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、瞳平面１４２内に成形制御ゾーン４０２ａを提供する調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。図４Ａに示されるように、制御ゾーン４０２ａは、オーバーレイ計測ツール１０２を通る光の最大角度範囲に対応する瞳孔境界４０４内にあってもよい。制御ゾーン４０２ａは、図４Ａに図示されるような円形制御ゾーンを含むが、それに限定されない、任意のサイズまたは形状を有してもよい。さらに、制御ゾーン４０２ａは、瞳孔境界４０４内の中心にあってもよいが、その必要はない。図４Ａの調節可能な瞳マスク１０６は、試料１０４からの選択された回折次数の回折光の遮断を必要とするオーバーレイ計測技術、または試料１０４からの０次光が減衰されるグレーモード撮像によく適し得るが、それらに限定されない。例えば、グレーモード散乱計測は一般に２０１９年１月３日に公開された米国特許出願公開２０１２／０００４４３９に記載されている。これは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0075】

図４Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、環状制御ゾーン４０２を提供する調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。環状制御ゾーン４０２は、任意の幅４０６を有してもよく、さらに瞳孔境界４０４内の任意の位置に位置してもよい。例えば、図４Ｂに図示されるように、制御ゾーン４０２ｂは、瞳孔境界４０４の中心にあり、瞳孔境界４０４から内向きに延在し、不明瞭ではない中央領域４０８を残す。図４Ｂの調整可能な瞳マスク１０６は、瞳平面１４２内の既知の半径方向位置で選択された回折次数の回折を遮断または減衰するのによく適しているが、これに限定されない。

【0076】

図４Ａおよび４Ｂに図示されるもの等の調節可能な瞳マスク１０６は、照明経路１１８または集光経路１３２（例えば、図１Ｅの瞳平面１４２ｂ、ｃである）のいずれかに専用の瞳平面１４２内への配置によく適し得るが、それらに限定されない。例えば、集光瞳内の対称調節可能瞳マスク１０６は、直交方向（例えば、ＸおよびＹ方向）に沿った瞳平面１４２内の選択された半径における回折次数の回折を遮断または減衰させ、正規照明または対称照明（例えば、ダイポール照明、四重極照明、輪帯照明などである）を含むが、それらに限定されない、任意の照明条件下で、ＸおよびＹ方向における同時オーバーレイ測定を促進してもよい。

【0077】

しかしながら、いくつかのオーバーレイ計測技術が、測定方向に沿って対称的に対向した照明ビーム１１６の順次照明を提供することが望ましい場合がある。例えば、試料がダイポールまたは他の対称分布の対向するビームで順次照射される２つの測定を行うことが望ましい場合がある。

【0078】

図４Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、結合して環を形成する２つの制御ゾーン４０２を提供する調節可能な瞳マスク１０６の概略図である。一実施形態では、図４Ｃに示すように、調整可能な瞳マスク１０６は、図４Ｂに示すものと同様の環を形成するように組み合わされる第１の制御ゾーン４０２ｃおよび第２の制御ゾーン４０２ｄを含む。しかしながら、この場合、２つの制御ゾーン４０２ｃ、ｄは、別々に制御可能である。図４Ｃの調整可能な瞳マスク１０６は、照明経路１１８及び集光経路１３２（例えば、図１Ｅの瞳平面１４２ａ、ｄである）によって共有される瞳平面１４２内に配置するのによく適している。この点に関して、調整可能な瞳マスク１０６は、ダイポールまたは他の対称分布の対向するビームによる順次照明に適しているが、これに限定されない。

【0079】

さらに、制御ゾーン４０２ｃ、ｄは、任意の選択された角度で配向されてもよい。一実施形態では、図４Ｃに示されるように、制御ゾーン４０２ｃ、ｄは、直交照明ビーム１１６による試料の同時照明を容易にするために、直交測定方向（例えば、ＸおよびＹ方向）に対して４５度の角度で配向される。

【0080】

図５Ａ及び図５Ｂは、順次照明のための照明経路１１８及び集光経路１３２（例えば、図１Ｅの瞳平面１４２ａ、ｄのいずれかである）に共通の瞳平面１４２に配置された複数の制御ゾーン４０２を有する調整可能な瞳マスク１０６の使用を示す。図５Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、第１の測定値を提供するために第１のレシピで構成された図４Ｃの調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。図５Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、第２の測定値を提供するために第２のレシピで構成された図４Ｃの調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。

【0081】

図５Ａ～５Ｃにおいて、照明経路１１８は４つの照明ビーム１１６ａ～ｄを提供し、照明ビーム１１６ａ、ｂはＸ方向に沿って双極子照明を提供し、照明ビーム１１６ｃ、ｄはＹ方向に沿って双極子照明を提供する。さらに、図５Ａ～図５Ｃは、限定はしないが図２または図３のオーバーレイターゲット２０２など、Ｘ方向およびＹ方向の両方に周期的特徴を有するオーバーレイ計測ターゲットの照明によって生成される離散回折次数（ｄｉｓｃｒｅｔｅ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｒｄｅｒｓ）の回折の存在を示す。

【0082】

図５Ａでは、第１の制御ゾーン４０２ｃは、照明ビーム１１６ａ、ｃ（例えば、Ｘ方向およびＹ方向のそれぞれにおいて１つのビームである）が試料１０４を照明することを可能にするように透明であり、第２の制御ゾーン４０２ｄは、他の照明ビーム１１６ｂ、ｄを遮断するように完全に不透明である。調節可能な瞳マスク１０６はさらに、検出器１２８に通過させられ得る集光された光１３０の分布を制御する。例えば、不透明な第２の制御ゾーン４０２ｄは、照明ビーム１１６ａからの０次回折５０２ａを遮断し得るが、非ゼロ回折次数（ゼロ次回折）５０４ａ、５０６ａは、不明瞭化されていない中央領域４０８を通過し得る。同様に、不透明な第２の制御ゾーン４０２ｄは、照明ビーム１１６ｃからの０次回折５０２ｃを遮断し得るが、非ゼロ回折次数（非ゼロ次回折）５０４ｃ、５０６ｃは、不明瞭化されていない中央領域４０８を通過し得る。

【0083】

図５Ｂでは、制御ゾーン４０２ｃ、ｄの特性は、第１の制御ゾーン４０２ｃが、照明ビーム１１６ａ、ｃを遮断または減衰するために不透明であり、第２の制御ゾーン４０２ｄが、照明ビーム１１６ｂ、ｄが試料１０４を照明することを可能にするために透明であるように逆転される。この場合、不透明な第１の制御ゾーン４０２ｃは、照明ビーム１１６ｂからの０次回折５０２ｂを遮断するが、非ゼロ回折次数５０４ｂ、５０６ｂは、不明瞭化されていない中央領域４０８を通過することができる。同様に、不透明な第２の制御ゾーン４０２ｄは、照明ビーム１１６ｄからの０次回折５０２ｄを遮断し得るが、非ゼロ回折次数５０４ｄ、５０６ｄは、不明瞭化されていない中央領域４０８を通過し得る。

【0084】

図５Ａおよび５Ｂによって図示されるように、照明経路１１８および集光経路１３２の両方に共通の瞳平面１４２内の複数の制御ゾーン４０２を伴う調節可能瞳マスク１０６の配置は、照明ビーム１１６および集光光１３０の両方の柔軟な制御を提供し得る。さらに、そのような調節可能な瞳マスク１０６は、多種多様なオーバーレイ計測技法が単一のシステムを使用して実行され得るように、異なる照明および／または集光プロファイルを伴う逐次照明を可能にする。しかしながら、図５Ａおよび図５Ｂは、本明細書では単に例示を目的として提供されており、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。本明細書では、調節可能な瞳マスク１０６は、関心対象の１つ以上のオーバーレイ計測技法に適応するように様々な構成で配向された任意の数の制御ゾーン４０２を有し得ることが企図される。

【0085】

本明細書では、逐次照射（シーケンシャル照射：例えば、図５Ａ及び図５Ｂに示すように）は、当技術分野で公知の任意の技法を使用して実施され得ることが企図される。例えば、試料１０４が静止している場合、別のターゲットの測定のために試料１０４を移動させる前に、オーバーレイターゲット上で複数の順次測定が実行され得る。さらに、移動試料１０４上のオーバーレイターゲットの複数の測定を提供するためのさまざまな技術が実装され得る。例えば、ターゲットを２回走査してもよい。別の例によれば、走査速度およびデータ取り込み速度は、オーバーレイターゲットがオーバーレイ計測ツール１０２の視野内にある間に複数の測定を提供するように調整され得る。別の例として、走査式のオーバーレイ計測ツール１０２は、２つ以上の測定条件を使用してインターリーブされたデータ（例えば、インターリーブされた画像）を生成することができる。例えば、走査ベースの計測のためのインターリーブされた画像の生成は、概して、その全体が参照することによって組み込まれる、米国特許出願１６／５８６，５０４（２０１９年９月２７日），米国特許出願公開２０２１／００９６０６１Ａ１で説明される。

【0086】

図５Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、同時オーバーレイ計測のために図４Ｂのように構成される調節可能な瞳マスク１０６の概略図である。図５Ｃでは、調整可能な瞳マスク１０６は、集光経路１３２専用の瞳平面１４２内に配置される。図５Ｃに図示される回折次数の回折は、図５Ａおよび５Ｂの逐次照明アプローチまたは図５Ｃの同時照明アプローチのいずれかを使用して同様のオーバーレイ測定が行われ得るように、図５Ａおよび５Ｂの場合と同じである。図５Ｃでは、４つの照明ビーム１１６ａ～ｄの全てが試料を同時に照明することができる。単一の制御ゾーン４０２ｂは、すべての０次回折５０２ａ～ｄを遮断または減衰するために不透明である。さらに、中央領域４０８は、すべての照明ビーム１１６ａ～ｄからの－１次回折５０４ａ～ｄおよび－２次回折５０６ａ～ｄが検出器１２８を通過することを可能にする。

【0087】

いくつかの実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、複次散乱（ＤＯＳ：ｄｏｕｂｌｅ－ｏｒｄｅｒ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）オーバーレイ計測のために構成され得る。ＤＯＳオーバーレイ計測において、周期的オーバーレイターゲットは、双極子照明（例えば、試料を対向する方位角で照明する２つの照明ビーム１１６）で照明され、測定は、照明ビーム１１６の各々に関連する２つの非ゼロ回折次数（非ゼロ次回折）に基づく。一実施形態では、ＤＯＳは逐次照射で実施される。例えば、逐次ＤＯＳオーバーレイ計測は、図５Ａおよび図５Ｂの構成を使用して実行され得る。この構成では、非ゼロ回折５０４ａ～ｄは－１回折次数（－１次回折）に対応し、非ゼロ回折５０６ａ～ｄは－２回折次数（－２次回折）に対応する。別の例として、図５Ｃの構成を使用して同時ＤＯＳオーバーレイ計測を実行することができ、この場合も、非ゼロ回折（非ゼロ次回折）５０４ａ～ｄは－１回の回折次数（－１次回折）に対応し、非ゼロ回折５０６ａ～ｄは－２回の回折次数（－２次回折）に対応する。

【0088】

いくつかの実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、光学モアレ（ＯＭ：ｏｐｔｉｃａｌ Ｍｏｉｒｅ）オーバーレイ計測のために構成され得る。ＯＭオーバーレイ計測において、オーバーレイターゲットは、格子構造が異なる周期を有する２つ以上の層（例えば、図３に示すように、）上に重複する格子構造を有する１つ以上のセルを含む。その結果、集光された光１３０は、２つの格子間の周期性の差に基づくモアレ効果に関連する１つ以上のモアレ回折次数の回折を含むことができる。例えば、逐次ＯＭオーバーレイ計測は、図５Ａおよび５Ｂの構成を使用して実行され得る。この構成では、非ゼロ回折５０４ａ～ｄは－１回折次数に対応し、非ゼロ回折５０６ａ～ｄはモアレ回折次数に対応する。別の例として、図５Ｃの構成を使用して同時ＯＭオーバーレイ計測を実行することができ、この場合も、非ゼロ回折５０４ａ～ｄは－１回折次数に対応し、非ゼロ回折５０６ａ～ｄはモアレ回折次数に対応する。

【0089】

加えて、調整可能な瞳マスク１０６の制御ゾーン４０２ａ～ｃが照明ビーム１１６ａ～ｄからの０次回折５０２ａ～ｄを完全に遮断するのではなく減衰させるように構成されるグレーモードＯＭ計測を実行することができる。

【0090】

いくつかの実施形態では、調節可能な瞳マスク１０６は、リトロー（Ｌｉｔｔｒｏｗ）オーバーレイ計測のために構成され得る。リトローオーバーレイ計測において、周期的オーバーレイターゲットは双極子照明で照明され、周期性および照明波長は、回折次数（典型的には１次回折）が入射光と同じ角度に沿って逆反射して戻るように調整される。リトローオーバーレイ計測は、全ての光が妨害されずに瞳平面１４２を通過し得るように、完全に透過性であるように構成される調節可能な瞳マスク１０６を用いて実装され得る。

【0091】

図６Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、照明経路１１８および集光経路１３２に共通の瞳平面１４２に配置されて画像ベースの散乱計測またはグレイフィールド散乱計測を提供するように構成された調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。第１の制御ゾーン４０２ｃは、照明ビーム１１６ａが試料１０４を照明することを可能にするために透明であり、第２の制御ゾーン４０２ｄは、０次回折５０２ａを遮断または減衰するために不透明である。さらに、非ゼロ回折次数５０８（典型的には１次回折）は、遮られていない中央領域４０８を通過することができる。

【0092】

図６Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーレイ計測のための画像ベースのスキャトロメトリまたはグレイフィールドスキャトロメトリを提供するために集光経路１３２専用の瞳平面１４２に配置されるように図４Ｂのように構成される調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。図６Ｂでは、単一の制御ゾーン４０２ｂは、０次回折５０２ａを遮断または減衰することができ、非ゼロ回折次数５０８（典型的には、１次回折）は、遮られていない中央領域４０８を通過することができる。

【0093】

図７は、本開示の１つ以上の実施形態による、グレイイメージングオーバーレイ計測を提供するために図４Ａのように構成される調整可能な瞳マスク１０６の概略図である。図７において、調整可能な瞳マスク１０６は、集光経路１３２専用の瞳平面１４２に配置される。周期的オーバーレイターゲットは、垂直入射角で単一の照明ビーム１１６（図示せず）で照明される。調節可能な瞳マスク１０６は、０次回折５０２ｅを遮断または減衰させるように瞳孔境界４０４の中心部分に位置する単一の制御ゾーン４０２ａを有し、非ゼロ回折５１０（例えば、＋／－１次回折）は、妨害されずに瞳平面１４２を通過し得る。

【0094】

図４Ａ～図７によって示されるように、少なくとも集光瞳平面１４２に配置され、瞳平面１４２全体にわたって分布する１つ以上の個別に調整可能な制御ゾーン４０２を有する調整可能な瞳マスク１０６は、オーバーレイ計測のための高度にカスタマイズ可能なデータ集光を容易にすることができる。したがって、単一のオーバーレイ計測ツールは、多種多様な技術を用いてオーバーレイ計測測定を提供するよう構成され得る。いくつかの実施形態では、単一のオーバーレイ計測ツールは、単一のサンプル（試料：ｓａｍｐｌｅ）または試料のセット上の異なるターゲットのための複数のオーバーレイ計測技術の間で切り替えるように動的に構成されてもよい。この点に関して、大量のサンプリングが達成され得る。

【0095】

図８は、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバーレイ計測方法８００において実行されるステップを示す流れ図である。出願人は、オーバーレイ計測システム１００の文脈において本明細書で前述された実施形態および有効化技術は、方法８００に拡張されると解釈されるべきであることに留意する。しかしながら、方法８００はオーバーレイ計測システム１００のアーキテクチャに限定されないことにさらに留意されたい。

【0096】

ある実施形態において、方法は、試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットに対するオーバーレイ計測レシピを受信するステップ８０２を含む。例えば、レシピは、オーバーレイ計測システム１００などの計測ツールを構成するのに適した測定パラメータを含み得るが、これに限定されない。したがって、レシピは、１つ以上の照明ビーム１１６の波長、１つ以上の照明ビーム１１６に関連する１つ以上の照明角度、１つ以上の照明ビーム１１６の偏光、２つまたは複数の照明ビーム１１６がオーバーレイターゲットを同時にまたは連続的に照明するかどうかなどのパラメータを含むことができるが、これらに限定されない。または、オーバーレイターゲットが測定中に静止しているか移動しているかである。別の例として、レシピは、検出器１２８からの測定データに基づいて１つ以上の測定方向に沿ってオーバーレイ測定を生成するための１つ以上の処理ステップ（例えば、コントローラ１０８によって実行される）を含んでもよい。したがって、レシピは、一般に、特定のオーバーレイ計測技術を用いてオーバーレイターゲットからオーバーレイ計測を生成するために必要とされるパラメータまたはステップを提供し得る。

【0097】

別の実施形態では、方法８００は、調整可能な瞳マスク（例えば、調整可能な瞳マスク１０６）に指示して、オーバーレイ計測ツール（例えば、オーバーレイ計測システム１００）を用いて試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットの測定のためのそれぞれのオーバーレイ計測レシピに従って瞳透過率分布を調整するステップ８０４を含む検出器（例えば検出器１２８）からの測定データに基づく試料上の１つ以上のオーバーレイターゲットについての１つ以上の測定方向に沿ったオーバーレイ測定。この点に関して、調整可能な瞳マスク１０６は、オーバーレイ計測システム１００が、任意の数のオーバーレイ技術を用いて任意の数のオーバーレイターゲット上でオーバーレイ測定値を生成することを可能にし得る。

【0098】

本明細書で説明する方法のすべては、方法の実施形態の１つ以上のステップの結果をメモリに記憶することを含み得る。結果は、本明細書で説明される結果のいずれかを含んでもよく、当技術分野で公知の任意の様式で記憶されてもよい。メモリは、本明細書で説明される任意のメモリ、または当技術分野で知られている任意の他の好適な記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、メモリ内にアクセスされ、本明細書に説明される方法またはシステム実施形態のうちのいずれかによって使用され、ユーザへの表示のためにフォーマットされ、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステムによって使用される等することができる。さらに、結果は、「永久的に」、「半永久的に」、「一時的に」、またはある期間にわたって記憶され得る。例えば、メモリは、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよく、結果は、必ずしもメモリ内に無期限に持続しなくてもよい。

【0099】

上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載される任意の他の方法の任意の他のステップを含み得ることがさらに企図される。加えて、上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載のシステムのいずれかによって実行することができる。

【0100】

当業者は、本明細書で説明される構成要素動作、デバイス、オブジェクト、およびそれらに付随する議論が、概念的明確性のために例として使用されること、および種々の構成修正が検討されることを認識するであろう。したがって、本明細書で使用されるように、記載される特定の例および付随する議論は、それらのより一般的なクラスの代表であることが意図される。概して、任意の特定の例の使用は、そのクラスを表すことが意図され、特定の構成要素、動作、デバイス、およびオブジェクトの非包含は、限定として解釈されるべきではない。

【0101】

本明細書で使用するとき、「上」、「下」、「上」、「下」、「上」、「上方」、「下方」、「下方」などの方向を示す用語は、説明の目的で相対的な位置を提供することを意図しており、絶対的な基準系を示すことを意図していない。説明された実施形態に対する様々な修正は、当業者には明らかであり、本明細書で定義された一般的な原理は、他の実施形態に適用され得る。

【0102】

本明細書における実質的に任意の複数形および／または単数形の用語の使用に関して、当業者は、文脈および／または用途に適切であるように、複数形から単数形に、および／または単数形から複数形に変換することができる。様々な単数形／複数形の置き換えは、理解しやすいように、本明細書で明確に記載されない。

【0103】

本明細書で説明される主題は、場合によっては、他の構成要素内に含まれる、または他の構成要素と接続される、異なる構成要素を図示する。そのような描写されたアーキテクチャは、単なる例示であり、実際には、同じ機能性を達成する多くの他のアーキテクチャが実装され得ることを理解されたい。概念的な意味では、同じ機能を達成するための構成要素の任意の配置は、所望の機能が達成されるように効果的に「関連付けられる」。したがって、特定の機能を達成するために組み合わされた本明細書の任意の２つの構成要素は、アーキテクチャまたは中間構成要素にかかわらず、所望の機能が達成されるように互いに「関連付けられる」と見なすことができる。同様に、そのように関連付けられた任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「接続」または「結合」されていると見なされることができ、そのように関連付けられることが可能な任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「結合可能」であると見なされることができる。結合可能な特定の例は、物理的に結合可能及び／又は物理的に相互作用する構成要素及び／又は無線で相互作用可能及び／又は無線で相互作用する構成要素及び／又は論理的に相互作用及び／又は論理的に相互作用可能な構成要素を含むが、これらに限定されない。

【0104】

さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。一般に、本明細書および特に添付の特許請求の範囲（例えば、添付の特許請求の範囲の本体）で使用される用語は一般に「オープン」用語（例えば、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語は、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）がこれに限定されない」と解釈されるべきであり、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語は「少なくとも有する（ｈａｖｉｎｇ）」と解釈されるべきであり、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」という用語は「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）がこれに限定されない」と解釈されるべきである等である）として意図されることが当業者には理解されよう。導入される請求項の記載の具体的な数が意図される場合、そのような意図は、その請求項において明示的に記載されるべきであり、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しないことが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、理解の助けとして、以下の添付の特許請求の範囲は、導入句「少なくとも１つの（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」および「１つ以上の（ｏｎｅ ｏｒ ｍｏｒｅ）」を使用して請求項の記載を導くことを含むことができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」による請求項の記載の導入が、そのような導入された請求項の記載を含む任意の特定の請求項を、１つのそのような記載のみを含む発明に限定することを意味すると解釈されるべきではない。同じ請求項が「１つ以上」または「少なくとも１つ」という導入句および「ａ」または「ａｎ」（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」は、典型的には、「少なくとも１つ」または「１つ以上」を意味すると解釈されるべきである）などの不定冠詞を含む場合でも、同じことが、請求項の記載を紹介するために使用される明確な記事の使用にも当てはまる。また、導入される請求項の記載の具体的な数が明示的に列挙されている場合でも、そのような記載は、典型的には少なくとも列挙された数（例えば、他の修飾因子を伴わない「２つの列挙」の裸の列挙は、典型的には、少なくとも２つの列挙、または２つ以上の列挙を意味する）を意味すると解釈されるべきであることを、当業者は認識されよう。さらに、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡおよびＢを共に、ＡおよびＣを共に、ＢおよびＣを共に、および／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムを含むが、それらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡおよびＢを共に、ＡおよびＣを共に、ＢおよびＣを共に、および／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムを含むが、それらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。２つ以上の代替用語を提示する事実上いかなる離接する語および／または句も、説明、特許請求の範囲、または図面のどこにあっても、その用語の一方（ｏｎｅ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、その用語のいずれか（ｅｉｔｈｅｒ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、または両方の用語（ｂｏｔｈ ｔｅｒｍｓ）を含む可能性を企図すると理解されるべきであることが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、「ＡまたはＢ」という語句は、「Ａ」または「Ｂ」または「ＡおよびＢ」の可能性を含むと理解されるであろう。

【0105】

本開示およびその付随する利点の多くは、前述の説明によって理解されるであろうと考えられ、開示される主題から逸脱することなく、またはその物質的利点の全てを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、および配置において種々の変更が行われ得ることが明白となるであろう。説明される形態は単なる説明であり、そのような変更を包含し、含むことが以下の特許請求の範囲の意図である。さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図1D】

【図1E】

【図2】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図5A】

【図5B】

【図5C】

【図6A】

【図6B】

【図7】

【図8】