特許 7529805 光源の制御装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-29

(45)【発行日】2024-08-06

(54)【発明の名称】光源の制御装置

(51)【国際特許分類】

   H01S 3/00 20060101AFI20240730BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20240730BHJP

【ＦＩ】

H01S3/00 G

G03F7/20 502

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2022570358

(86)(22)【出願日】2021-05-25

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-07-28

(86)【国際出願番号】 US2021034102

(87)【国際公開番号】W WO2021262374

(87)【国際公開日】2021-12-30

【審査請求日】2023-01-16

(31)【優先権主張番号】63/043,301

(32)【優先日】2020-06-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】513192029

【氏名又は名称】サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】オブライエン，ケビン，マイケル

【審査官】百瀬 正之

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１４－５２５３１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１２／０１８９０３１（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特表２０１９－５０５９８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０２６３２０８（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００８－０９８２８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１０８１８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００９－５４０５４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／０７９９４３（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｓ ３／００－３／３０

Ｇ０３Ｆ ７／２０－７／２４

Ｇ０３Ｆ ９／００－９／０２

Ｂ２３Ｋ ２６／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

出力デバイスにより使用される生成光ビームを生成モード中に生成する光源のアイドルモードを制御するための装置であって、
前記生成光ビームが前記出力デバイスにより使用されるために生成されていないアイドルモードでの前記光源の動作を共に定義する、それぞれに連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられ得る一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を作成する命令ユニットと、
前記命令ユニットと通信状態にあり、前記光源と通信するアイドルユニットであって、
前記命令ユニットから前記アイドル計画を受信し、
前記アイドル計画を記憶し、
前記アイドルモードに関連したコマンドを受信したときに前記アイドル計画を前記光源に提供するアイドルユニットと、を備え、
前記命令ユニットが、
前記符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する前記光源の感度を決定することを含む分析に少なくとも基づいて前記アイドル計画を作成し、
前記符号化された特性の１つ以上の前記値の前記変化は、前記アイドルモード中に前記光源が生成するアイドル光ビームのパルスのバースト間の間隔を延ばす休止の変化を少なくとも含む、
装置。

【請求項2】

前記一セットの符号化された特性が、それぞれが前記アイドル光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む、請求項１の装置。

【請求項3】

各発射パターンが、前記アイドル光ビームがパルスを生成する速度、前記アイドル光ビームのパルスのエネルギー、前記アイドル光ビームの前記パルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の前記間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む、請求項２の装置。

【請求項4】

前記一セットの符号化された特性が、電圧、２つ以上のチャンバ間の放電タイミング目標、前記光源内の１つ以上の特性又は設定、及び前記光源内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号のうちの１つ以上を含む、請求項１の装置。

【請求項5】

前記光源の１つ以上の状態を感知するメトロロジユニットを更に備えた、請求項１の装置。

【請求項6】

前記命令ユニットが、
ユーザからの入力、
前記光源の以前の状態の分析、及び
前記光源及び前記出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析、
のうちの１つ以上に更に基づいて前記アイドル計画を作成する、請求項１の装置。

【請求項7】

前記符号化された特性の１つ以上の前記値の前記変化は、前記アイドル光ビームがパルスを生成する速度の変化、前記アイドル光ビームの前記パルスのエネルギーの変化、前記アイドル光ビームの前記パルスの総バースト数の変化、及び各バースト内のパルス数の変化のうちの１つ以上を更に含む、請求項６の装置。

【請求項8】

前記符号化された特性の１つ以上の前記値の前記変化に対する前記光源の前記感度を決定することが、前記光源の以前のアイドルモード、以前の生成モード、又は以前のアイドルモード及び以前の生成モードの両方における動作中にメトロロジユニットから収集したデータを分析することを含む、請求項６の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
[0001] この出願は、ＣＯＮＴＲＯＬ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ ＦＯＲ ＡＮ ＯＰＴＩＣＡＬ ＳＯＵＲＣＥと題する２０２０年６月２４日出願の米国出願第６３／０４３，３０１号の優先権を主張するものであり、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

【0002】

[0002] 開示される主題は、光源をアイドルモードにおいて制御する又は動作させるように構成された装置に関する。

【背景技術】

【0003】

[0003] フォトリソグラフィとは、半導体回路をシリコンウェーハなどの基板上にパターニングするプロセスである。光源が、ウェーハ上のフォトレジストを露光するのに用いられる深紫外（ＤＵＶ）光を発生させる。ＤＵＶ光は、例えば、約１００ナノメートル（ｎｍ）～約４００ｎｍの波長を有する光である。光源はレーザ源（例えばエキシマレーザ）であり、ＤＵＶ光はパルスレーザビームであることが多い。光源からのＤＵＶ光は投影光学システムと相互作用し、投影光学システムはマスクを通してシリコンウェーハ上のフォトレジスト上にビームを投影する。このようにして、フォトレジスト上にチップ設計の層がパターニングされる。フォトレジスト及びウェーハはその後エッチング及び洗浄され、そしてフォトリソグラフィプロセスは繰り返す。

【発明の概要】

【0004】

[0004] 一部の一般的な態様では、装置が、出力デバイスにより使用される生成光ビームを生成モードにおいて生成する光源のアイドルモードを制御するように構成されている。装置は、命令ユニットと、命令ユニットと通信状態にあり、光源と通信するように構成されたアイドルユニットとを備える。命令ユニットは、出力デバイスにより使用される生成光ビームが生成されていないアイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を作成するように構成されている。セット内の各特性には、連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられる可能性がある。アイドルユニットは、命令ユニットからアイドル計画を受信し、アイドル計画を記憶し、アイドルモードに関連したコマンドを受信したときにアイドル計画を光源に提供するように構成されている。

【0005】

[0005] 実施例が以下の特徴の１つ以上を含む可能性がある。例えば、アイドルモード中に、光源はパルスアイドル光ビームを生成することができ、一セットの符号化された特性は、それぞれがパルスアイドル光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む可能性がある。各発射パターンは、アイドル光ビームがパルスを生成する速度、アイドル光ビームのパルスのエネルギー、アイドル光ビームのパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む可能性がある。

【0006】

[0006] 一セットの符号化された特性は、電圧、２つ以上のチャンバ間の放電タイミング目標、光源内の１つ以上の特性又は設定、及び光源内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号のうちの１つ以上を含む可能性がある。

【0007】

[0007] アイドルユニットは、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成される可能性がある。アイドルユニットは、アイドルモードに関連したコマンドを、生成モード中、アイドルモード中、又は生成モード及びアイドルモード以外の時間中に受信するように構成される可能性がある。

【0008】

[0008] 装置は、光源の１つ以上の状態を感知するように構成されたメトロロジユニットを備える可能性がある。命令ユニットは、メトロロジユニットと通信状態にある可能性があり、命令ユニットは、メトロロジユニットからの感知した状態の１つ以上の分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成されている。

【0009】

[0009] 命令ユニットは、ユーザからの入力に基づいてアイドル計画を作成するように構成される可能性がある。命令ユニットは、光源の以前の状態の分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成される可能性がある。命令ユニットは、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成される可能性がある。命令ユニットは、符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度を決定することを含む分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成される可能性がある。符号化された特性の１つ以上の値の変化は、アイドル光ビームのパルスのバースト間の間隔を延ばす休止の変化、アイドル光ビームがパルスを生成する速度の変化、アイドル光ビームのパルスのエネルギーの変化、アイドル光ビームのパルスの総バースト数の変化、及び各バースト内のパルス数の変化のうちの１つ以上を含む可能性がある。符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度は、光源の以前のアイドルモード、以前の生成モード、又は以前のアイドルモード及び以前の生成モードの両方における動作中にメトロロジユニットから収集したデータを分析することによって決定される可能性がある。

【0010】

[0010] アイドルモード中に、光源は、アイドル光ビームを生成するか又は光ビームを生成しないように構成される可能性がある。アイドルモード中に、光源は、出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないパルスアイドル光ビームを生成することができる。

【0011】

[0011] 他の一般的な態様では、装置が、光源と、光源と通信するように構成された生成ユニットと、光源と通信するように構成されたアイドルユニットとを備える。光源は、生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成される生成モードと、生成光ビームが出力デバイスによる使用のための生成されないアイドルモードとを含む複数の動作モードのうちの１つのモードにあるように構成されている。生成ユニットは、生成モードにおいて光源を動作させるように構成されている。アイドルユニットは、光源のいずれかの動作モード中を含む任意の時点に、アイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信し、コマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することによって、アイドルモードにおいて光源を動作させるように構成されている。

【0012】

[0012] 実施例が以下の特徴の１つ以上を含む可能性がある。例えば、光ビームがパルス光ビームである可能性があり、一セットの符号化された特性は、それぞれがアイドルパルス光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む可能性がある。各発射パターンは、アイドル光ビームがパルスを生成する速度、アイドル光ビームのパルスのエネルギー、アイドル光ビームのパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む可能性がある。

【0013】

[0013] 一セットの符号化された特性は、電圧、２つ以上のチャンバ間の放電タイミング目標、光源内の１つ以上の特性又は設定、及び光源内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号のうちの１つ以上を含む可能性がある。

【0014】

[0014] アイドルユニットは、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成される可能性がある。アイドルユニットは、アイドルモードに関連したコマンドを、生成モード中、アイドルモード中、又は生成モード又はアイドルモード以外の時間中に受信するように構成される可能性がある。

【0015】

[0015] 装置は、光源の１つ以上の状態を感知するように構成されたメトロロジユニットを備える可能性がある。装置は、アイドルユニット及びメトロロジユニットと通信状態にあり、アイドル計画を作成するように構成された命令ユニットを備える可能性がある。

【0016】

[0016] アイドル計画の一セットの符号化された特性内の各特性には、連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられる可能性がある。

【0017】

[0017] 光源は、提供されたアイドル計画内で関連付けられた発射パターンを実行することを含む提供されたアイドル計画を受け入れ、処理し、実行するように構成される可能性がある。

【0018】

[0018] 生成ユニットは出力デバイス内のコンポーネントである可能性がある。

【0019】

[0019] 他の一般的な態様では、装置が、少なくとも１つが出力デバイスに対して稼働中の複数の光源と、生成ユニットと、アイドルユニットとを備える。各稼働中の光源は、生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成される生成モードと、生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成されていないアイドルモードとを含む複数の動作モードのうちの１つのモードにあるように構成されている。生成ユニットは、稼働中の光源と通信し、生成モードにおいて稼働中の光源を動作させるように構成されている。アイドルユニットは、任意の時点に、アイドルモードにおける１つ以上の稼働中の光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信し、コマンドを受信したときにアイドル計画を稼働中の光源に提供することによって、アイドルモードにおいて稼働中の光源を動作させるように構成されている。

【0020】

[0020] 実施例が以下の特徴の１つ以上を含む可能性がある。例えば、アイドル計画はアイドルモードにおける複数の稼働中の光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含む可能性がある。アイドルユニットは、複数の稼働中の光源のそれぞれにアイドル計画を提供することによって、各アイドルモードにおいて稼働中の光源を動作させるように構成される可能性がある。アイドルユニットは、複数の稼働中の光源のそれぞれにアイドル計画を提供することによって、各アイドルモードにおける異なる時点、同じ時点、又は重複時点に稼働中の光源を動作させるように構成される可能性がある。

【0021】

[0021] アイドルモード中に、稼働中の光源はパルスアイドル光ビームを生成する可能性があり、一セットの符号化された特性は、それぞれがパルスアイドル光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む可能性がある。

【0022】

[0022] アイドルユニットは、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成される可能性がある。

【0023】

[0023] 装置は、一セットのプログラマブル命令に基づいてアイドル計画を作成するように構成された命令ユニットを備える可能性がある。

【0024】

[0024] 他の一般的な態様では、光源のモードを制御する方法が実行される。方法は、光源が出力デバイスにより使用される生成光ビームを生成している生成モード、又は出力デバイスにより使用される生成光ビームが生成されていないアイドルモードにおける光源の動作を可能にすることを含む。方法は、光源を生成モード又はアイドルモードで動作させている間を含む任意の時点に、アイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信することを含む。方法はまた、アイドルモードに関連したコマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することを含む。

【0025】

[0025] 実施例が以下の特徴の１つ以上を含む可能性がある。例えば、アイドル計画は、生成モードにおける光源の動作を停止した後に、提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を開始すること、及び提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を継続することの１つ以上によって光源に提供される可能性がある。

【0026】

[0026] 方法はアイドル計画を記憶することを含む可能性がある。方法は、出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないアイドル光ビームを生成するように又は光ビームを生成しないように光源に命令することを含む、光源にアイドルモードで動作するように命令することを含む可能性がある。方法は、光源の１つ以上の感知した状態の分析、ユーザからの入力、光源の以前の状態の分析、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析、及び符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度のうちの１つ以上に基づいてアイドル計画を作成することを含む可能性がある。

【0027】

[0027] アイドル計画は、コマンドがもはや受信されなくなるまでアイドル計画を光源に提供することによって光源に提供される可能性がある。

【0028】

[0028] 他の一般的な態様では、光源のモードを制御する方法が実行される。方法は、光源が出力デバイスにより使用される生成光ビームを生成している生成モード、又は出力デバイスにより使用される生成光ビームが生成されていないアイドルモードにおける光源の動作を可能にすることを含む。方法は、アイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信することを含む。セット内の各特性には、ある範囲内にあり一セットの離散値に限定されない任意の値が割り当てられる可能性がある。方法は、アイドルモードに関連したコマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することを含む。

【0029】

[0029] 実施例が以下の特徴の１つ以上を含む可能性がある。例えば、アイドル計画は、生成モードにおける光源の動作を停止した後に、提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を開始すること、及び提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を継続することによって、光源に提供される可能性がある。

【0030】

[0030] 方法はアイドル計画を記憶することを含む可能性がある。方法は、出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないアイドル光ビームを生成するように又は光ビームを生成しないように光源に命令することを含む、光源にアイドルモードで動作するように命令することを含む可能性がある。方法は、光源の１つ以上の感知した状態の分析、ユーザからの入力、光源の以前の状態の分析、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析、及び符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度のうちの１つ以上に基づいてアイドル計画を作成することを含む可能性がある。

【図面の簡単な説明】

【0031】

【図1】[0031] 生成モードで動作する際に生成光ビームを出力デバイスに提供する光源をアイドルモードにおいて制御する又は動作させるように構成された、命令ユニット及びアイドルユニットを備えた装置のブロック図である。

【図2A】[0032] 光源が生成モードで動作している図１の装置のブロック図である。

【図2B】[0033] 光源が真のアイドルモードで動作している図１の装置のブロック図である。

【図2C】[0034] 光源がウォームアイドルモードで動作している図１の装置のブロック図である。

【図3】[0035] アイドルモードでの動作に関する指示を与える、装置により作成され光源に提供されるアイドル計画の実施例の模式図である。

【図4】[0036] 光源の実施例のブロック図であり、１つ以上が装置と通信状態にあり得る生成ユニット及びメトロロジユニットも含む。

【図5】[0037] １つ以上のモジュールを含む汎用ユニット（命令ユニット、アイドルユニット、生成ユニット、又はメトロロジユニットに対応し得る）の実施例のブロック図である。

【図6】[0038] デュアルステージ光源である光源及び出力デバイスの実施例のブロック図である。

【図7】[0039] 図１の命令ユニットと、それぞれが各出力デバイスに対して配置された各光源を含む複数の光源システムとを備えた装置の実施例のブロック図である。

【図8】[0040] 図１の装置、図７の装置、又は図７の光源システムのいずれか１つにより実行される手順、及び図１、図４、図６、及び図７の光源のいずれか１つにより実行される手順のフローチャートである。

【図9】[0041] ウォームアイドルモードで動作している図１の装置の実施例のブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0032】

[0042] 図１を参照すると、装置１００が光源１４０をアイドルモードにおいて制御する又は動作させるように構成されている。図２Ａに示すように、生成時間において、光源１４０は、光源１４０が出力デバイス１６５により使用され必要とされる生成光ビーム１６０を生成する生成モードで動作する。一方、出力デバイス１６５が生成光ビーム１６０を必要としないアイドル時間が存在する。これらのアイドル時間において、装置は、生成光ビーム１６０が出力デバイス１６５による使用のために生成されていないアイドルモードで光源１４０を動作させる。図２Ｂ及び図２Ｃは、アイドルモード動作の２つの可能な構成を示している。図２Ｂでは、アイドルモードで動作する光源１４０は光ビームを生成せず、このモードは真のアイドルモードと呼ばれる可能性がある。一方、図２Ｃでは、アイドルモードで動作する光源１４０はアイドル光ビーム１６２を生成し、このモードはウォームアイドルモードと呼ばれる可能性がある。アイドル光ビーム１６２は変化し得る特性を有し、様々なときにかかる特性は、出力デバイス１６５により必要とされる一セットの生成特性に一致しないことがあるか又はこのセットの範囲外にある可能性がある。

【0033】

[0043] アイドルモードにおいて、光源１４０はスタンバイ状態にあり、指示を受けるとできるだけ早く生成モードに再び切り替わる準備ができている。装置１００は、光源１４０の摩耗及び劣化をできるだけ低減するように光源１４０をアイドルモードで動作させるように構成されている。更に、装置１００は、光源１４０をアイドルモードからのより早い復帰を可能にする状態に保つように光源１４０をアイドルモードで動作させるように構成されている。つまり、装置１００は、光源１４０をアイドルモードから生成モードにより迅速に遷移させつつも光源１４０の劣化を低減することができる。装置１００は、光源１４０の予定外のダウンタイムの発生を防ぐことができ、改善しなければ光源１４０の長い不使用期間又はダウンタイムの後に低下し得るドーズ安定性を改善することもできる。

【0034】

[0044] 装置１００は、アイドルモードにおける光源１４０の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画１１５を作成するように構成された命令ユニット１１０を備える。装置１００は、命令ユニット１１０と通信状態にあり、光源１４０と通信するように構成されたアイドルユニット１２０を備える。アイドルユニット１２０は、命令ユニット１１０からアイドル計画１１５を受信し、後で使用するためにアイドル計画１１５を記憶するように構成されている。

【0035】

[0045] 一部の実施例では、アイドルユニット１２０及び命令ユニット１１０の１つ以上は、光源１４０及び出力デバイス１６５と別個である。他の実施例では、アイドルユニット１２０及び命令ユニット１１０の１つ以上は、出力デバイス１６５に統合されている。

【0036】

[0046] 命令ユニット１１０は、光源１４０がアイドル計画１１５を実行することが必要になる前に提供される限り、任意の適切なときにアイドル計画１１５をアイドルユニット１２０に提供することができる。図２Ｂ及び図２Ｃに示すように、命令ユニット１１０は、アイドル計画１１５をアイドルユニット１２０に提供したところか又は提供しているところであり、アイドルユニット１２０は、アイドルモードに関連したコマンド１０５を受信するとアイドル計画１１５を光源１４０に提供する。アイドルユニット１２０は、アイドルモードに関連したコマンド１０５を、出力デバイス１６５、及び出力デバイス１６５以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成されている。例えば人間のオペレータ又は別のコンピュータ（例えば出力デバイス１６５又は命令ユニット１１０内の）が、コマンド１０５をアイドルユニット１２０に提供することができる。更にアイドルユニット１２０は、アイドルモードに関連したコマンド１０５を、生成モード中、アイドルモード中、又は生成モード及びアイドルモード以外の時間中に受信するように構成されている。

【0037】

[0047] 光源１４０は、パルス生成光ビーム１６０を生成するパルス光源である可能性がある。光源１４０を生成モードで動作させることによって、高繰り返し率及び強力なパルスパワーで動作させるための要件に少なくとも部分的に起因した光源１４０内のコンポーネントの摩耗が生じる。したがって、光源１４０の生成モードにおける動作も、光源１４０内のかなりのリソースを使用する。したがって、出力デバイス１６５がもはや生成光ビーム１６０を必要としない場合、光源１４０が急速に摩耗するのを防ぐために光源１４０の使用を減らすことは理にかなっている。一方、ここで光源１４０を完全に停止することは、非活動期間の後に光源１４０を再始動させること（生成モードに復帰すること）をはるかに時間がかかるものにするため実際的ではない場合がある。この光源１４０の完全な停止から再始動を行うのに失われる時間は、時間が出力デバイス１６５を動作させるのに失われ、出力デバイス１６５の動作の効率損失をもたらすことを意味する。更に、光源１４０は、フル生成モードから完全停止に遷移する又は非活動期間からフル生成モードに遷移する際の過渡効果（動作パラメータのサージ又はスパイク）を受ける可能性が高い。このため、装置１００は、使用されるリソースを減らし、過渡効果を減らし、光源１４０の寿命を延ばし、そしてまた再始動する、すなわち生成モードに復帰し生成光ビーム１６０の生成準備が整うのにかかる時間が少なくて済む状態に光源１４０を維持するように、光源１４０をアイドルモードで動作させる。

【0038】

[0048] 過渡効果は非常に変化しやすく、光源１４０間で異なり、経時的に変化し、その特定の光源１４０の使用の詳細及び履歴に依存することが多い。過渡効果の発現も変化しやすい可能性がある。以下で図４及び図６も参照すると、過渡効果には、例えば励起機構４４１の効率（例えば電圧効率）の変化、利得媒体４４２を収容する１つ以上のチャンバにおけるエネルギーバースト過渡の形状及びサイズの変化、生成光ビーム１６０のスペクトル帯域幅の過渡、生成光ビーム１６０の波長変動、生成光ビーム１６０のポインティング、発散、及びビームプロファイルなどの他の特性の変化、生成光ビーム１６０のパルス繰り返し率の変化に対する可変感度、及び熱又は温度過渡が挙げられる。これらの発現の一部は、光源１４０が生成モードを再開し定常状態動作に達するとき漸近挙動を示す。そして、各発現の漸近挙動は他のものとは異なる速度で収束する可能性がある。

【0039】

[0049] 以下でより詳細に考察するように、装置１００は、一セットの符号化された特性内の各特性に、連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられ得るアイドル計画１１５を少なくとも部分的に使用することによって、効率的なアイドルモード及び生成モードへのより迅速な復帰を可能にする。一セットの符号化された特性は、連続した値の範囲内で無限にプログラム可能と考えられ、各特性は経時的に調整又は修正される可能性がある。別の言い方をすれば、各特性は一セットの異なる値に限定されず、各特性は、唯一の限定が実際的限界であり、理論的限界でない場合、プログラムされ得る任意の値をとる可能性がある。一セットの符号化された特性は任意の数の発射パターンを含む可能性があり、特性は任意の順序で配置される可能性があり、発射パターンのシーケンスはいつでも変更される可能性があり、特性又は発射パターンは反復可能な可能性がある。

【0040】

[0050] 図３を参照すると、発射パターン３１７ｉ（ｉは任意の正の整数である）のシーケンス３１６を含むアイドル計画１１５の例３１５が示されている。各発射パターン３１７ｉは、パルスアイドル光ビーム１６２を共に定義する一セットの符号化された特性を含む。例えば、シーケンス３１６は、次の発射パターン、［ＦＰ１］：［ＦＰ２］：［ＦＰ１］：［ＦＰ３］：［ＦＰ３］：［ＦＰ１］で始まる。また、アイドル計画１１５のシーケンスは再入可能である、すなわちシーケンスは実行中に中断される可能性があり、そしてシーケンスの中断されたところから再開される可能性がある。あるいは、アイドル計画１１５のシーケンスは再開している可能性がある、すなわちアイドルモードに入るたびに最初から始まる。

【0041】

[0051] 各発射パターン３１７ｉは、例えばアイドル光ビームがパルスを生成する速度、アイドル光ビームのパルスのエネルギー、アイドル光ビームのパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む。示されている例では、発射パターンＦＰｉが符号化された特性［ＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３、ＣＰ４、ＣＰ５、ＣＰ６］によって与えられる可能性がある。ここでＣＰ１はアイドル光ビーム１６２のパルスの総バースト数に対応し、ＣＰ２はアイドル光ビーム１６２のパルスが生成される繰り返し率に対応し、ＣＰ３はアイドル光ビーム１６２の各バースト内の総パルス数、ＣＰ４はバースト間の間隔に対応し、ＣＰ５はアイドル光ビーム１６２のターゲットエネルギーに対応し、ＣＰ６はバースト間の間隔を超えて延びる休止時間に対応する。

【0042】

[0052] 一部の実施例では、一セットの符号化された特性は、光源１４０の励起機構（光源４４０の励起機構４４１など）に印加される電圧、光源１４０の（例えば図６の光源６４０内の）２つ以上のチャンバ間の放電タイミング又は差動タイミング目標、光源１４０内の１つ以上の特性又は設定、及び光源１４０内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号（光源４４０に提供されるアクチュエータ信号４４５など）のうちの１つ以上を含む。装置１００は、アイドル計画１１５の作成をいつでも、光源１４０が生成モードにある（図２Ａ）間でも可能にすることができる。装置１００の追加の特徴及び特性が、光源１４０及び出力デバイス１６５の構造の考察の後に、以下でより詳細に考察される。

【0043】

[0053] 図４を参照すると、生成モードで動作中の光源１４０の実施例４４０が示されている。光源４４０は、励起機構４４１と、励起機構４４１により動作制御される利得媒体４４２とを備える。光源４４０は、生成モード中にパルス生成光ビーム４６０を生成するように構成されている。励起信号４４３が光源４４０に印加され、光源４４０が生成モードにあるときに励起機構４４１を励起する。一方、光源４４０は、図２Ｂ及び図２Ｃについて以上で考察したように、アイドルユニット１２０がアイドル計画１１５を光源４４０に提供し、生成光ビーム４６０が出力デバイス１６５によって使用されるために生成されないアイドルモードで動作する。光源４４０がアイドルモードにある（又は生成モードにない）とき、励起信号４４３は光源４４０に印加されず、励起機構４４１が励起されない（例えば図２Ｂに示すアイドルモード）か、又は励起信号４４３はアイドル計画１１５の制御下で印加される（例えば図２Ｃに示すアイドルモード）。

【0044】

[0054] したがって、アイドルモードにある間、励起信号４４３がアイドルユニット１２０によって発生され、生成モードにある間、励起信号４４３は生成ユニット４５０によって発生される。励起信号４４３は、光源４４０に生成光ビーム４６０（そしてまたアイドルモードで動作している場合にはアイドル光ビーム１６２）を生成させるのに十分な任意の種類の信号である。

【0045】

[0055] 励起機構４４１は、励起信号４４３に応答して利得媒体４４２を励起する。利得媒体４４２は、出力デバイス１６５での照射に必要とされる波長、エネルギー、及び帯域幅で生成光ビーム１６０を生成するのに適した任意の媒体である。例えば利得媒体４４２は、ガス若しくは液体などの流体、水晶、ガラス、又は半導体である可能性がある。

【0046】

[0056] 励起機構４４１は、利得媒体４４２を励起する能力がある任意の機構である。例えば励起機構４４１は、利得媒体４４２を励起する放電を電極で囲まれた体積内に生じさせる複数の電極である可能性がある。励起信号４４３は、例えば電気信号（電圧信号など）又は追加の要素（電圧又は電流源など）に励起機構４４１に提供される電気信号を発生させるコマンド信号である可能性がある。励起信号４４３は、正弦波電圧信号又は方形波電圧信号などの時変直流（ＤＣ）電気信号又は交流（ＡＣ）電気信号である可能性がある。更に、アイドル計画１１５の１つ以上の符号化された特性は、時変信号の最大振幅、時変信号の平均振幅、時変信号の周波数、時変信号のデューティサイクル、及び／又は時変信号に関連したその他の特性を含む、励起信号４４３の特性に対応する可能性がある。光源４４０が（図６に示すような）デュアルステージ光源である一部の実施例では、各利得媒体４４２に関連する二セットの励起機構４４１が存在する可能性がある。これらの実施例では、それぞれが励起機構４４１の１つに提供される２つの励起信号４４２と、２つの励起信号４４２間の相対的タイミングを制御するように構成された差動タイミング装置とが存在する可能性がある。かかる実施例では、アイドル計画１１５の１つ以上の符号化された特性は更に、これらの２つの励起信号４４２間の相対的タイミングに相当する可能性がある。

【0047】

[0057] 光源４４０は、利得媒体４４２が生成した光ビームと相互作用し、これを形成及び調整するための１つ以上の光デバイスを含む光学素子のセット４４４を備える可能性もある。かかる光学素子は、例えば光ビーム４６０の少なくとも１つのスペクトル特徴（波長や帯域幅など）を調整するように構成されているスペクトル特徴選択装置を含む可能性がある。一部の実施例では、スペクトル特徴選択装置は、プリズム、ミラー、及び回折素子などの光学コンポーネントを含む。１つ以上のアクチュエータ信号４４５がセット４４４内の光学素子に関連するアクチュエータに提供されることによって、光学素子の動作（例えば、動き、幾何学的配置、又はその他の物理的側面）を制御する可能性がある。生成モード中、生成ユニット４５０はアクチュエータ信号４４５をアクチュエータに供給することができる。更に、アイドル計画１１５の１つ以上の符号化された特性は、アクチュエータ信号４４５の特性に対応する可能性がある。

【0048】

[0058] メトロロジユニット４５１を更に備えた装置１００の実施例４００が示されている。メトロロジユニット４５１は、光源４４０の１つ以上の状態を感知するように構成されている。命令ユニット１１０はメトロロジユニット４５１と通信状態にある。命令ユニット１１０は、以下で更に考察されるように、メトロロジユニット４５１からの感知された状態の１つ以上の分析に基づいてアイドル計画１１５を作成するように構成されている。また、メトロロジユニット４５１は生成ユニット４５０と通信することができる。

【0049】

[0059] 図５を参照すると、命令ユニット１１０、アイドルユニット１２０、生成ユニット４５０、又はメトロロジユニット４５１に相当し得る各ユニット５２５が、以下のモジュール、すなわち電子処理モジュール５２６、コンピュータ可読メモリモジュール５２７、及び入出力モジュール５２８のいずれかを含む可能性がある。電子処理モジュール５２６は、汎用又は専用マイクロプロセッサなどのコンピュータプログラムの実行に適した１つ以上のプロセッサ、及び任意の種類のデジタルコンピュータの１つ以上の任意のプロセッサを含む。一般に電子プロセッサは、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、又はその両方から命令及びデータを受信する。電子処理モジュール５２６は、命令を実行し、メモリモジュール５２７に記憶されているデータにアクセスする任意のタイプの電子プロセッサを含む可能性がある。電子プロセッサは、メモリモジュール４２７にデータを書き込む能力も有する。

【0050】

[0060] メモリモジュール５２７は、ＲＡＭなどの揮発性メモリ、又は不揮発性メモリである可能性がある。一部の実施例では、メモリモジュール５２７は不揮発性及び揮発性の部分又はコンポーネントを含む。メモリモジュール５２７は、ユニット５２５の動作に使用されるデータ及び情報を記憶することができる。例えば、アイドルユニット１２０内のメモリモジュール５２７は、命令ユニット１１０から受信したアイドル計画１１５を記憶することができる。別の例として、生成ユニット４５０内のメモリモジュール５２７は、光源４４０及び／又は出力デバイス１６５から受信した情報を記憶することができる。

【0051】

[0061] 入出力モジュール５２８は、ユニット５２５がオペレータ、光源４４０、他のユニット、及び／又は別の電子デバイス上で実行されている自動化プロセスとデータ及び信号を交換することを可能にする任意の種類のインターフェイスである。例えば命令ユニット１１０は、アイドル計画１１５に関連するデータを命令ユニット１１０の入出力モジュール５２８を介して受信することができる。別の例では、命令ユニット１１０は光源４４０及び／又は出力デバイス１６５からデータを受信することができる。入出力モジュール５２８は、視覚的ディスプレイ、キーボード、並びにパラレルポート、ユニバーサル・シリアル・バス（ＵＳＢ）接続、及び／又は、例えばイーサネットなどの任意のタイプのネットワークインターフェイスのうちの１つ以上を含む可能性がある。入出力モジュール５２８はまた、例えばＩＥＥＥ８０２．１１、ブルートゥース、又は近距離無線通信（ＮＦＣ）接続を介した物理的な接触がない通信を可能にすることができる。

【0052】

[0062] ユニット５２５は、他のユニット、光源４４０、及び／又は出力デバイス１６５に各データ接続を介して結合されている。これらのデータ接続は、物理的ケーブル若しくはその他の物理的データ路（ＩＥＥＥ８０２．３ベースのデータ伝送をサポートするケーブルなど）、無線データ接続（ＩＥＥＥ８０２．１１又はブルートゥースを介してデータを提供するデータ接続など）、又は有線及び無線データ接続の組み合わせである可能性がある。

【0053】

[0063] 各ユニット５２５（アイドルユニット１２０、命令ユニット１１０、生成ユニット４５０、メトロロジユニット４５１）が別々のエンティティとして示されているが、一部の実施例では、ユニット５２５の１つ以上が、他のコンポーネント（光源４４０又は出力デバイス１６５など）又は他のユニット５２５の一部として実装されることが可能である。例えば一部の実施例では、生成ユニット４５０は、出力デバイス１６５内の、又は出力デバイス１６５と関連付けられたコンポーネントである。

【0054】

[0064] 図６を参照すると、光源１４０の実施例６４０及び装置１００の実施例６００がフォトリソグラフィシステム６７０の一部として示されている。光源６４０は、リソグラフィ露光装置６６５である出力デバイス１６５に提供されるパルス生成光ビーム６６０を生成する。光源６４０は、例えばパルス生成光ビーム６６０（レーザビームであり得る）を出力するエキシマ光源である。パルス生成光ビーム６６０は、リソグラフィ露光装置６６５に入ると、投影光学システム６７５を通して誘導され、ウェーハ６７６上に投影されてウェーハ６７６上のフォトレジスト上に１つ以上のマイクロ電子フィーチャを形成する。フォトリソグラフィシステム６７０は生成ユニット３５０の実施例６５０も備える。図６の例では、生成ユニット６５０は、光源６４０及びリソグラフィ露光装置６６５のコンポーネントに接続されている。この例では、生成ユニット６５０は、パルス生成光ビーム６６０に関連したデータ又はその他の情報をリソグラフィ露光装置６６５から受信することができる、及び／又はコマンドをリソグラフィ露光装置６６５に送信することができる。また、生成ユニット６５０は光源６４０に関連したデータをメトロロジユニット６５１から受信することができる。他の例では、生成ユニット６５０は光源６４０のみに接続される。

【0055】

[0065] 図６に示す例では、光源６４０は、シード光ビーム６４５をパワー増幅器（ＰＡ）６４３Ｂに提供する主発振器（ＭＯ）６４３Ａを備えた２ステージレーザシステムである。ＭＯ６４３Ａ及びＰＡ６４３Ｂは、光源６４０のサブシステム又は光源６４０の一部であるシステムと見なされる可能性がある。パワー増幅器６４３Ｂは、シード光ビーム６４５を主発振器６４３Ａから受光し、シード光ビーム６４５を増幅させてリソグラフィ露光装置６６５で使用される生成光ビーム６６０を発生させる。例えば主発振器６４３Ａは、シードパルスエネルギーが１パルス当たり約１ミリジュール（ｍＪ）のパルスシード光ビーム６４５を放射することができ、これらのシードパルスはパワー増幅器６４３Ｂによって約１０～１５ｍＪに増幅される可能性がある。

【0056】

[0066] 主発振器６４３Ａは、（励起機構３４１を構成する）２つの細長い電極６４１Ａを有する放電チャンバ６４６Ａと、ガス混合物である利得媒体６４２Ａと、電極６４１Ａ間でガスを循環させるためのファンとを備える。共振器が、放電チャンバ６４６Ａの一方の側の（ライン狭隘化モジュールを構成し得る）ビームターナ６４７Ａと、放電チャンバ６４６Ａの第２の側の出力カプラ６４８Ａとの間に形成される。ライン狭隘化モジュール６４７Ａは、放電チャンバ６４６Ａのスペクトル出力を細かく調整する格子などの回折光学部品を備える可能性がある。

【0057】

[0067] 光源６４０は、シード光ビーム６４５を形成するために必要に応じて出力光ビームのサイズ又は形状を変更するビーム結合光学システム６４９も備える。

【0058】

[0068] メトロロジユニット６５１は、出力光ビーム（出力カプラ６４８Ａからシード光ビーム６４５）を受光するライン中心分析モジュールを備える可能性がある。ライン中心分析モジュールは、シード光ビーム６４５の波長などのスペクトル特徴を測定又はモニタするのに使用され得る測定システムである。ライン中心分析モジュールは、光源６４０内の他の場所に配置される可能性があるか、又は光源６４０の出力部に配置される可能性がある。

【0059】

[0069] パワー増幅器６４３Ｂは、シード光ビーム６４５を主発振器６４３Ａから受光し、シード光ビームを放電チャンバ６４６Ｂを通ってビーム旋回光学素子６４７Ｂに誘導するビーム結合光学システム６４８Ｂを備える。ビーム旋回光学素子６４７Ｂは、放電チャンバ６４６Ｂ内に送り返されるようにシード光ビーム６４５の方向を修正又は変更する。放電チャンバ６４６Ｂは、一対の細長い電極６４１Ｂと、ガス混合物である利得媒体６４２Ｂと、電極６４１Ｂ間でガス混合物を循環させるためのファンとを備える。

【0060】

[0070] 各放電チャンバ６４６Ａ、６４６Ｂ内で使用される利得媒体６４２Ａ、６４２Ｂのガス混合物は、出力デバイス（リソグラフィ露光装置６６５）での照射に必要な波長及び帯域幅の光ビームを生成するのに適した任意のガスである可能性がある。エキシマ源の場合、ガス混合物は、緩衝ガスであるヘリウム及び／又はネオン以外の、例えばアルゴンやクリプトンなどの貴ガス（希ガス）、例えばフッ素や塩素などのハロゲン、及び微量のキセノンを含む可能性がある。ガス混合物の具体的な例として、約１９３ｎｍの波長の光を発するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、約２４８ｎｍの波長の光を発するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）、又は約３５１ｎｍの波長の光を発する塩化キセノン（ＸｅＣｌ）が挙げられる。エキシマ利得媒体（ガス混合物）は、各細長い電極６４１Ａ、６４１Ｂへの電圧６４３（励起信号３４３）の印加によって、高圧放電において短い（例えばナノ秒）電流パルスで励起される。

【0061】

[0071] メトロロジユニット６５１は、光ビーム６６０の様々なパラメータ（帯域幅及び／又は波長のスペクトル特徴など）が測定され得る帯域幅分析モジュール６５２を備える可能性もある。出力光ビーム６６０は、ビーム準備システム６５３を通って誘導される可能性もある。ビーム準備システム６５３は、例えば、出力光ビーム６６０のパルスのそれぞれが、例えば光学遅延ユニットにおいて時間的に引き伸ばされて、リソグラフィ露光装置６６５に衝突する光ビームの性能特性を調整するパルスストレッチャを備える可能性がある。ビーム準備システム６５３はまた、ビーム６６０に作用することができる他のコンポーネント、例えば、反射及び／又は屈折光学素子（例えばレンズ及びミラーなど）、フィルタ、及び光学的開口（自動シャッタを含む）などを備えることができる。

【0062】

[0072] 生成光ビーム６６０はパルス光ビームであり、互いから時間的に分離される１つ以上のパルスバーストを含む可能性がある。各バーストは１つ以上の光パルスを含む可能性がある。一部の実施例では、バーストは数百個のパルス、例えば１００～４００個のパルスを含む。

【0063】

[0073] 以上で考察したように、利得媒体６４２Ａ（又は６４２Ｂ）が電圧６４３Ａを電極６４１Ａに印加することによって励起されるとき、利得媒体６４２Ａは光を発する。電圧６４３Ａが電極６４１Ａにパルスで印加されるとき、利得媒体６４２Ａから発せられる光もパルス化される。したがって、パルス生成光ビーム６６０の繰り返し率は、電圧６４３Ａが電極６４１Ａに印加される速度によって決定され、電圧６４３Ａが印加されるたびに光パルスが生成される。光パルスは利得媒体６４２Ａを通って伝搬し、出力カプラ６４８Ａからチャンバ６４６Ａを出る。したがって、パルス列が、電圧６４３Ａが電極６４１Ａに周期的に繰り返し印加されることによって生成される。パルスの繰り返し率は、約５００Ｈｚ～６，０００Ｈｚの間である可能性がある。一部の実施例では、繰り返し率は、６，０００Ｈｚより大きく、例えば１２，０００Ｈｚ以上である可能性がある。

【0064】

[0074] 生成ユニット６５０からの信号はまた、主発振器６４３Ａ及びパワー増幅器６４３Ｂの各パルスエネルギー、ひいては生成光ビーム６６０のエネルギーを制御するために、主発振器６４３Ａ及びパワー増幅器６４３Ｂ内の電極６４１Ａ、６４１Ｂへのエネルギーの付与をそれぞれ制御するのに使用される可能性がある。電極６４１Ａに提供される信号６４３Ａと電極６４１Ｂに提供される信号６４３Ｂとの間には遅延が存在する可能性がある。遅延量は、生成光ビーム６６０におけるコヒーレンス量や生成光ビーム６６０の帯域幅などの生成光ビーム６６０の特性に影響を及ぼす可能性がある。パルス生成光ビーム６６０は、数十ワットの範囲、例えば約５０Ｗ～約１３０Ｗの平均出力電力を有する可能性がある。出力部における光ビーム６６０の放射照度（すなわち、単位面積当たりの平均電力）は、６０Ｗ／ｃｍ^２～８０Ｗ／ｃｍ^２に及ぶことがある。

【0065】

[0075] 図１を再度参照すると、以上で考察したように、命令ユニット１１０はアイドル計画１１５を作成し、作成したアイドル計画１１５を、光源１４０と関連付けられているアイドルユニット１２０に提供する。図２Ｂ及び図２Ｃに示すように、コマンド１０５を受信すると、アイドルユニット１２０はアイドル計画１１５を光源１４０に提供することによって光源１４０をアイドルモードで動作させる。作成されるアイドル計画１１５は複数の異なる光源に適用される可能性がある。かかる構成の実施例が図７に示されている。図７では、装置７７８が命令ユニット１１０と３つの光源システム７７８Ａ、７７８Ｂ、７７８Ｃとを備え、各光源システム７７８Ａ、７７８Ｂ、７７８Ｃは各光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃを含んでいる。装置７７８には３つの光源システム７７８Ａ、７７８Ｂ、７７８Ｃが示されているが、アイドル計画１１５を、１つか２つのみ又は３つより多い光源システムに適用することが可能である。

【0066】

[0076] 各光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃは、その各出力デバイス７６５Ａ、７６５Ｂ、７５６Ｃに対していつでも稼働中である可能性がある。光源１４０と同様に、各光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃは、生成光ビームが出力デバイス７６５Ａ、７６５Ｂ、７６５Ｃによる使用のために生成される生成モード、及び生成光ビームが出力デバイス７６５Ａ、７６５Ｂ、７６５Ｃによる使用のために生成されていないアイドルモードを含む複数の動作モードの１つにあるように構成されている。図７に示す時点では、光源７４０Ａ、７４０Ｃはアイドルモードで動作し、各アイドル光ビーム７６２Ａ、７６２Ｃを生成しているのに対し、光源７４０Ｂは生成ユニット７５０Ｂの制御下において生成モードで動作し、生成光ビーム７６０Ｂを生成している。

【0067】

[0077] 命令ユニット７１０は、（アイドル計画７１５が光源によって実行されるのに先立って）アイドル計画７１５を各アイドルユニット７２０Ａ、７２０Ｂ、７２０Ｃに供給する。更に、アイドルユニット７２０Ａ、７２０Ｃは各コマンド７０５Ａ、７０５Ｃを受信してアイドル計画７１５を各光源７４０Ａ、７４０Ｃに提供する。アイドル計画７１５は、（各７２０Ａ、７２０Ｂ、７２０Ｃによって受信された後）いつでも光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃに提供される可能性がある。例えばアイドル計画７１５は、図７に示す光源７４０Ａ、７４０Ｃなど２つ以上の光源に同時に提供される可能性がある。あるいは、アイドル計画７１５は、アイドル計画７１５が光源７４０Ｂには提供されていないが光源７４０Ａ、７４０Ｃには提供されている図７に示すように、異なるときに提供される可能性がある。このようにアイドル計画７１５はモジュール式である。

【0068】

[0078] 光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃは、共通する一部の特性を共有する可能性がある一方、一部の特性は異なる可能性がある。一例として、最大６０００Ｈｚの発射パルス繰り返し率を定めるアイドル計画７１５が、６０００Ｈｚ動作が可能な光源にのみ適用され、４０００Ｈｚ以下の繰り返し率が可能な光源には適用されない可能性がある。光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃ間の一部の他の特性は、アイドル計画７１５のモジュール性が３つの全ての光源７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃ間で機能するために共有される必要がある場合がある。

【0069】

[0079] 図８を参照すると、光源１４０（又は光源４４０、６４０、７４０Ａ、７４０Ｂ、７４０Ｃのいずれか）の動作モードを制御するための手順８８０が、装置１００（又は装置４００）によって実行される。手順８８０は、光源１４０により実行される手順８９０と並行して実行される。

【0070】

[0080] 手順８８０は、アイドルモードにおける光源１４０の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画１１５を作成すること（８８１）を含む。手順８８０はまた、コマンド１０５が受信されたかどうかを判定すること（８８２）、及びコマンド１０５が受信された場合にアイドル計画１１５を光源１４に提供すること（８８３）を含む。

【0071】

[0081] 手順８９０は、光源１４０が出力デバイス１６５により使用される生成光ビーム１６０を生成している生成モードで光源１４０を動作させること（８９１）を含む。手順８９０は、アイドルコマンドが受信されたかどうかを判定すること（８９２）を含む。アイドルコマンドは、生成光ビーム１６０が出力デバイス１６５による使用のために生成されていないアイドルモードで動作するように光源１４０に命令するコマンドである。更に、（光源１４０にアイドルモードで動作するように命令する）アイドルコマンドが、生成ユニット４５０などの外部エンティティ又はマニュアルユーザによって提供される。光源１４０がアイドルコマンドを受信したとき（８９２）にアイドルモードに入ることができるように、アイドル計画１１５の提供（８８３）は、アイドルコマンドの受信（８９２）に先立って行われる必要がある。

【0072】

[0082] 光源１４０は、提供されたアイドル計画１１５を、アイドルコマンドを受信したとき（８９２）に実行する（８９３）。具体的には、光源１４０は提供されたアイドル計画１１５に基づいてアイドルモードで動作する（８９３）。また、手順８９０は、アイドルモードでの動作を開始する前に、光源１４０の生成モードでの動作を停止することを含む可能性もある。例えば、８９２においてアイドルコマンドを受信したとき、光源１４０は生成モードでの動作を停止することができる。アイドルモードで動作している（８９３）間に、光源１４０は、アイドルモードでの動作を終了させる（例えば生成ユニット４５０又はユーザからの）命令又はコマンドが受信されたかどうかを判定し（８９４）、かかる命令が受信された（８９４）場合に、光源は、生成動作モードに入る命令が受信されたかどうかを判定する（８９５）。生成動作モードに入る命令が受信された（８９５）場合、光源は生成モードで動作する（８９１）。それ以外の場合、手順８９０は終了する。

【0073】

[0083] 手順８８０及び手順８９０の詳細を次に考察する。具体的には、光源１４０は、生成ユニット４５０の制御下において生成モードで動作すること（８９１）ができる可能性がある。代替的に、光源１４０は、アイドルユニット１２０の制御下においてアイドルモードで動作すること（８９３）ができる可能性がある。アイドル計画１１５が命令ユニット１１０によって作成された（８８１）後、アイドル計画１１５はアイドルユニット１２０に送信され、アイドルユニット１２０においてコマンド１０５が受信される（８８２）までアイドルユニット１２０によって記憶される可能性がある。アイドルユニット１２０は、出力デバイス１６５、及び出力デバイス１６５以外のエンティティ（ユーザ又は別のコンピュータ若しくはマシン）のうちの１つ以上からコマンド１０５を受信する（８８２）ことができる。アイドルユニット１２０は命令ユニット１１０からコマンド１０５を受信する（８８２）ことができる。アイドルユニット１２０は、光源１４０が生成モードで動作している間、光源１４０がアイドルモードで動作している間、又は生成モード及びアイドルモードでの動作以外の時間中、又は手順８９０中のいつでもコマンド１０５を受信する（８８２）ことができる。アイドルユニット１２０は、アイドル計画１１５を光源１４０に提供する（８８３）ことができる。

【0074】

[0084] アイドル計画１１５の光源１４０における受信は、アイドルコマンドの受信（８９２）に先立って行われる限り、光源１４０を生成モードで動作させている間を含む任意の時点で行われる可能性がある。代替的に又は付加的に、アイドルモードで動作している（８９３）間に新しいアイドル計画１１５を受信することが可能である。更に、（アイドル計画１１５の）一セットの符号化された特性内の各特性には、ある範囲内の任意の値が割り当てられる可能性があり、値は一セットの離散値に限定されない。

【0075】

[0085] 上述のように、手順８８０は、アイドル計画１１５が作成された（８８１）後に（例えばアイドルユニット１２０に）アイドル計画１１５を記憶することを含む可能性もある。具体的には、アイドル計画１１５が作成された（８８１）後にアイドルユニット１２０がアイドル計画１１５を受信することと、アイドルユニット１２０がコマンドを受信する（８８２）こととの間に遅延がある場合にアイドル計画１１５を記憶することは有益である可能性がある。例えばアイドル計画１１５は、アイドルユニット１２０のメモリモジュール５２７内に記憶される可能性がある。

【0076】

[0086] （８８３において）光源１４０に提供されたアイドル計画１１５は、アイドルモードでの動作を開始する命令を伴う（８９２）可能性がある。このアイドルモードでの動作を開始させる光源１４０への命令は、図２Ｃに示すように、出力デバイス１４０が必要とする一セットの生成特性に含まれない光ビームであるアイドル光ビーム１６２を生成させる１つ以上の命令を含む可能性がある。このアイドルモードでの動作を開始させる光源１４０への命令（８９２）は、図２Ｂに示すように、光ビームを全く生成させない１つ以上の命令を含む可能性がある。

【0077】

[0087] 以上で考察したように、光源１４０は、生成光ビーム１６０として及びアイドル光ビーム１６２としてパルス光ビームを生成することができる。アイドル計画１１５の一セットの符号化された特性は、図３に示すように、それぞれがパルスアイドル光ビーム１６２を規定する発射パターンのシーケンスを含む可能性がある。発射パターンＦＰｉは、１つ以上の符号化された特性を含む。可能な符号化された特性の例として、アイドル光ビーム１６２がパルスを生成する速度、アイドル光ビーム１６２のパルスのエネルギー、アイドル光ビーム１６２のパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の時間間隔、及びアイドル光ビーム１６２のパルスのバースト間の時間間隔を延ばす一時休止が挙げられる。

【0078】

[0088] 図４を参照して以上で考察された実施例では、一セットの符号化された特性は、励起機構４４１に提供された励起信号４４３の値を含む可能性がある。したがって、以上で考察した例では、この励起信号４４３は電極に提供された電圧である場合があり、したがって、符号化された特性が、この電圧と関連付けられた値又は値のセットを含む可能性がある。図６を参照して以上で考察された実施例では、一セットの符号化された特性は、２つ以上のチャンバ６４６Ａ、６４６Ｂ間の放電タイミングの目標値を含む可能性がある。この放電タイミングは、主発振器６４３Ａが生成したパルスとパワー増幅器６４３Ｂが生成したパルスの発生間のタイミング差に対応する可能性がある。

【0079】

[0089] 一セットの符号化された特性は、光源１４０内の１つ以上の特性又は設定を含む可能性がある。一セットの符号化された特性は、光源１４０内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号を含む可能性がある。例えば、一セットの符号化された特性は、ライン狭隘化モジュール６４７Ａ内の光学素子を制御するアクチュエータに提供される１つ以上の信号を含む可能性がある。ライン狭隘化モジュール６４７Ａと関連付けられたアクチュエータの１つは、１つ以上のプリズムの格子に対する位置又は角度を調整することによって、シード光ビーム６４５（ひいてはアイドルモード中にシード光ビーム６４５から生成されるアイドル光ビーム）のスペクトル特性を調整することができる。

【0080】

[0090] 図８を参照して以上で考察したように、命令ユニット１１０はアイドル計画１１５を作成する（８８１）。命令ユニット１１０は、光源１４０の感知された１つ以上の状態の分析に基づいてアイドル計画１１５を作成する（８８１）ことができる。例えば、光源１４０の感知された状態はメトロロジユニット４５１から命令ユニット１１０に提供される可能性がある。命令ユニット１１０は、例えば命令ユニット１１０内の入出力モジュール５２８によるユーザからの入力に基づいてアイドル計画１１５を作成する（８８１）ことができる。命令ユニット１１０は、光源１４０の以前の状態の分析に基づいてアイドル計画１１５を作成する（８８１）ことができる。命令ユニット１１０は、光源１４０及び出力デバイス１６５のうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析に基づいてアイドル計画１１５を作成する（８８１）ことができる。

【0081】

[0091] 命令ユニット１１０は、符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源１４０の感度を決定することを含む分析に基づいてアイドル計画１１５を作成する（８８１）ことができる。例えば、命令ユニット１１０は、符号化された特性の値を変更することによって光源１４０を調査した後、光源１４０の感知された状態がどのように変化するかを（メトロロジユニット４５１によって）分析することができる。命令ユニット１１０は、アイドル光ビーム１６２のパルスのバースト間の間隔を延ばす休止の変化に対する光源１４０の感度を決定することができる。命令ユニット１１０は、アイドル光ビーム１６２がパルスを生成する速度の変化に対する光源１４０の感度を決定することができる。命令ユニット１１０は、アイドル光ビーム１６２のパルスのエネルギーの変化に対する光源１４０の感度を決定することができる。命令ユニット１１０は、アイドル光ビーム１６２のパルスの総バースト数の変化に対する光源１４０の感度を決定することができる。命令ユニット１１０は、アイドル光ビーム１６２の各バースト内のパルス数の変化に対する光源１４０の感度を決定することができる。命令ユニット１１０は、符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源１４０の感度を、光源１４０の以前のアイドルモード、以前の生成モード、又は以前のアイドルモード及び以前の生成モードの両方における動作中にメトロロジユニット４５１から収集したデータを分析することによって決定することができる。

【0082】

[0092] この感度を決定することによって、命令ユニット１１０は、アイドル計画１１５を作成する（８８１）最良の方法を決定することができる。

【0083】

[0093] 一部の実施例では、手順８９０は、それぞれがアイドルモード動作を終了させ（８９４）生成モード動作に入る（８９５）ようにする命令が受信されたかどうかを判定する（アイドルモード動作中いつでも生じ得る）１つ以上のクエリを含む可能性もある。手順８９０は、かかる命令を受信するとアイドルモードでの光源１４０の動作から生成モードに切り替えることができる。そして、手順８９０はアイドルモード動作（８９３）中に１つ以上の信号をモニタリングすることを更に含むこと、及び１つ以上の信号が閾値を上回る場合に、アイドルモードから生成モードに自動的に切り替わること（ステップ８９４におけるｙｅｓ及びステップ８９５におけるｙｅｓ）が可能である。

【0084】

[0094] 図８に示す実施例では、アイドル計画１１５は、アイドルモードでの動作中（８９３）光源１４０によって無限に繰り返される。したがって、この実施例では、アイドルモードでの動作を停止するために、光源１４０は止める又は停止するコマンドを受信すること（８９４）が必要になる。他の実施例では、アイドル計画１１５は限られた回数繰り返され、その後に光源１４０はアイドルモードでの動作を自動的に停止し、光源１４０が他の指令を受けるまで（例えば生成モードに入る（８９５）又は別のアイドルモードに入る（８９２）ように命令される場合）光ビームの生成を停止する真のアイドルモードに入る。この状況では、アイドル計画１１５は限られた数の発射パターン（［ＦＰｉ］ここでｉは有限である）を有し、全ての発射パターンが使い果たされた後、光源１４０は発射を自動的に停止し、生成モードに入る（８９１）ようにする次の命令、又はロードされ実行される（８９３）新しいアイドル計画１１５の受信を待つ。

【0085】

[0095] 考えられるアイドルモード及びアイドル計画１１５がどのように作成されるかを含むアイドル計画１１５の一部の例を次に考察する。アイドルモード及びアイドル計画１１５のいずれもがいつでも動作可能であり、相互に排他的ではない。したがって、第１のアイドル計画のセットが光源１４０の命令ユニット１１０によって特定の方法で作成され、第２のアイドル計画のセットが同じ光源１４０の命令ユニットによって異なる方法で作成されることがある。第１のアイドル計画のセット及び第２のアイドル計画のセットは、異なるときに使用され、光源１４０の動作又は出力デバイス１６５の状態を巡る状況に基づく使用のために選択される可能性がある。

【0086】

[0096] 一例では、アイドル計画１１５は、光源１４０が図２Ｂに示すように光ビームのパルスを生成しない真のアイドルモードか、光源１４０が図２Ｃに示すようにアイドル光ビーム１６２を生成するウォームアイドルモードのいずれかで動作するように光源１４０に命令する可／不可フラグを含む。例えばフラグが「可」に設定される場合、これはアイドル計画１１５を受信したときにウォームアイドルモードで動作するようにとの光源１４０への命令である。代替的に、アイドルユニット１２０に提供されるコマンド１０５に可／不可フラグを含めることが可能である。その結果、アイドルユニット１２０は、アイドル計画１１５全体を光源１４０に提供する必要なく、不可フラグが提供された場合に真のアイドルモードに入るように光源１４０に命令する。また、コマンド１０５はまた、光源１４０のウォームアイドルモードでの動作を止める又は終了させるようにアイドルユニット１２０に命令するのに使用される可能性がある。他の実施例では、たとえ光源１４０が従うべきアイドル計画１１５を受信し、ウォームアイドルモードで動作している場合でも、光源１４０がアイドルモードで動作するように指令を受けたとしても、光源１４０が実際にアイドル光ビーム１６２を生成しないことが賢明であるか又は必要である場合がある。例えば、出力デバイス１６５のオペレータが、何にもまして光ビーム１６２のパルスを節約することを評価する可能性があり、アイドルモードを出て生成モードに入った後に何らかの性能低下を受け入れる用意がある。あるいは、ウォームアイドルモードで動作するように光源１４０に命令するアイドル計画１１５の容易かつ迅速な無効化が必要な場合がある。

【0087】

[0097] 一部の実施例では、コマンド１０５は、ユーザ又は出力デバイス１６５により提供される外部手動コマンドである。コマンド１０５はいつでも送信される可能性がある。他の実施例では、コマンド１０５は自動イベントの発生時に送信される。例えば、コマンド１０５はアイドルユニット１２０に送信されて、メトロロジユニット４５１が生成光ビーム１６０（又はアイドル光ビーム１６２）の停止を必要とするエラーを感知した場合に真のアイドルモードに入るように光源１４０に命令することができる。この例では、メトロロジユニット４５１はコマンド１０５をアイドルユニット１２０に伝達する。

【0088】

[0098] 一部の実施例では、アイドル計画１１５は手動構成で作成及び提供される。ウォームアイドルモードで動作するためのアイドル計画１１５の発射パターン３１７ｉを含む図３に示すシーケンス３１６は、ファイル、その他の媒体に記載される可能性があるか、又は命令ユニット１１０上で実行されているソフトウェア内でハードコードされ（アイドルユニット１２０にアイドル計画１１５として提供され）る可能性がある。このように、シーケンス３１６はあらかじめプログラムされている。光源１４０は、アイドル計画１１５に含まれているシーケンス３１６を実行する。アイドル計画１１５は、光源１４０に対してローカルであり得るアイドルユニット１２０や、例えば光源１４０と通信する汎用コンピュータなどの何らかの密結合ハードウェアに記憶されている可能性がある。かかる汎用コンピュータは、光源１４０からデータを受信し、光源１４０にコマンドを送信し、データを記憶し、データを出力デバイス１６５のオペレータ、顧客、又は現場サービス要員などの他のユーザに送信することができる。汎用コンピュータは、（光源１４０から受信するデータを含む）プログラムを実行し、決定し、光源１４０にどの制御コマンドを送信すべきか又はユーザにどのデータを送信すべきかを決めることができる。かかる汎用コンピュータは、アイドルユニット１２０を実装するのに使用される可能性がある。

【0089】

[0099] 他の実施例では、アイドル計画１１５は動的構成で作成され光源１４０に提供される。動的構成では、命令ユニット１１０は、発射パターン３１７ｉのシーケンス３１６を含むアイドル計画１１５を決定し、アイドル計画１１５をアイドルユニット１２０に提供し、アイドルユニット１２０はアイドル計画１１５を光源１４０に提供する。光源１４０はアイドル計画１１５を受け入れ、ウォームアイドルモードで動作する。

【0090】

[0100] アイドル計画１１５のアイドルユニット１２０から光源１４０への送信は、新しいファイルを光源１４０内のコントローラにアップロードすることによって行われる可能性があり、光源１４０内のコントローラはファイルを読み込んで実行する。他の実施例では、アイドルユニット１２０は、例えば以上で考察した汎用コンピュータ内に実装される場合に光源１４０を直接制御する。更に他の実施例では、アイドルユニット１２０は光源１４０の一部の側面（例えばアクチュエータ設定）を制御することができ、光源１４０のオンボードコントローラは他の側面（パルス繰り返し数及びバーストパターンなど）を制御することができる。

【0091】

[0101] 一部の実施例では、アイドル計画１１５のアイドルユニット１２０から光源１４０への送信は、１つ以上のコマンド、データ、構成可能変数、パラメータ、及び／又はマシン定数などの現存する構成アイテムのストリームによって、光源１４０内のコントローラにより動作されるソフトウェアに直接送信されることによって行われる可能性がある。

【0092】

[0102] 他の実施例では、命令ユニット１１０は、発射パターン３１７ｉのシーケンス３１６を、動的適応構成を用いて作成することができる。命令ユニット１１０は、アイドル計画１１５を作成するために、光源１４０の以前又は現在の動作中に光源１４０又はメトロロジユニット４５１により収集されたデータを使用することができる。命令ユニット１１０は、一部のパラメータ空間にわたって光源１４０の性能を最適化するプロセスを実行することができ、そのとき命令ユニット１１０はプロセスを継続的又は周期的に更新することができる。

【0093】

[0103] 動的適応構成の一部の実施例では、命令ユニット１１０は、出力デバイス１６５のために生成光ビーム１６０を生成するために動作するとき、感知され記憶されている光源１４０からのデータを使用する。例えば、図６を参照すると、命令ユニット１１０は、リソグラフィ露光装置６６５がいくつかのウェーハ６７６を処理する間に、生成モードにおいて光源６４０から得られたデータを使用することができる。命令ユニット１１０は、光源６４０が複数の範囲に分けられる発射休止の各長さにどれくらい敏感であるかを決定することができる。例えば休止は、５０～１００ミリ秒（ｍｓ）かかる可能性があるバースト間間隔から、１００～２００ｍｓかかる可能性があるウェーハライン変更、１５～６０秒かかる可能性があるウェーハ交換、少なくとも３００秒かかる可能性があるロット交換、更に長い休止に及ぶ可能性がある。命令ユニット１１０は、光源１４０がどの休止範囲に最も敏感であるかを決定することができ、そのとき命令ユニットは、それらの休止範囲に従ってアイドル光ビーム１６２のパルスを生成するように光源１４０に命令する発射パターン３１７ｉを構成することができる。

【0094】

[0104] 別の例として、命令ユニット１１０は、ガスコントローラがガス混合物（ガス混合物６４２など）の許容可能な状態を維持するように応答できるように光源１４０が動作できるようにアイドル計画１１５を調整することができる。例えば、アイドル計画１１５は、ガス混合物６４２の特定の成分がガス混合物６４２中で一定濃度以上に確実に保たれるように調整される可能性がある。

【0095】

[0105] 更なる例として、命令ユニット１１０は、あらかじめ設定された時間に、命令を待つことなくウォームアイドルモードに入るようにするコマンド１０５をアイドルユニット１２０に送信することができる。

【0096】

[0106] 動的適応構成の他の実施例では、命令ユニット１１０は、（アイドル光ビーム１６２のパルス間の休止を生成する）光源１４０の発射の休止、アイドル光ビーム１６２のパルスが生成される繰り返し率、アイドル光ビーム１６２のパルスのエネルギー目標、及びデューティサイクルなどの特定の特性又は特性の変化に対して光源１４０がどれくらい敏感であるかを決定するための事前のウォームアイドルモードでの動作中に光源１４０から（例えばメトロロジユニット４５１を介して）収集されたデータを得ることができる。図９を参照すると、命令ユニット１１０及び／又はアイドルユニット１２０は、光源１４０を試験発射パターン９１７Ｔのセットに従って動作させ、試験光ビーム９６２ｔを生成するために試験アイドル計画９１５ｔを光源１４０に送信することさえもできる。命令ユニット１１０は、（シーケンス３１６及び発射パターン３１７ｉを含む）アイドル計画１１５を最も敏感な条件（又は特性）でパルスを生成するように調整することができるため、光源１４０がこれらの最も敏感な条件下でその他の適応又は学習アルゴリズムを訓練することが可能になる。これを達成する１つの方法は、アイドルユニット１２０が発射パターン９１７Ｔを一方向に調整することであり、これによって命令ユニット１１０は、かかる調整によって（例えばメトロロジユニット４５１からの１つ以上の出力を分析することによって）感度が上昇したかどうかを判定することができる。感度が上昇したと命令ユニット１１０が判定した場合、アイドルユニット１２０は、感度が上昇しなくなった（又は低下した若しくは限界に達した）と命令ユニット１１０が判定するまで発射パターン９１７Ｔを調整し続けることができる。かかる調整によって感度が上昇しない場合、アイドルユニット１２０は異なる（例えば、直交又は反対）方向に調整することができる。

【0097】

[0107] 動的適応構成の他の実施例では、命令ユニット１１０は、はるかに長い期間にわたって、例えば生成光ビーム１６０の数百万又は数千万個のパルスについてのデータをメトロロジユニット４５１から得る。命令ユニット１１０は、かかるデータに基づいてより高いデューティサイクルが必要であるかどうかを判定することができる。例えば、命令ユニット１１０に提供されるデータは、アイドル光ビーム１６２のパルスを生成する際の効率の低下を示すことができ、効率の低下は、利得媒体４４２を収容する１つ以上のチャンバへのガス注入（フッ素ガス注入など）によって十分に補償されない。なぜなら、かかるガス注入は、現在のアイドル計画１１５による開ループ制御法によって制御されるためである。アイドル光ビーム１６２のデューティサイクルの増加によって、フッ素制御法が閉ループ制御に移行することによってフッ素ガス注入の濃度が上昇し効率が上昇する可能性がある。最終的に、効率が許容レベルに回復すると、アイドル光ビーム１６２のデューティサイクルは減少してアイドルモード中に発射されるパルス総数が減ることによって、光源１４０の摩耗が減り、全体的なコストが節約される。かかる動的適応動作は、（アイドル計画１１５を作る）命令ユニット１１０が光源１４０の他の部分がどのように機能するか（ガス制御及び動作効率など）についての知識を有しているために可能であり、命令ユニット１１０は、この知識及び光源１４０の性能の測定結果に基づいて、所望の結果を達成するためにアイドル計画１１５をどのように調整すべきかを決定することができる。

【0098】

[0108] 動的適応構成の他の実施例では、命令ユニット１１０は、この光源１４０のコールドスタートの深刻度を判定するために、光源１４０が（生成光ビーム１６０又はアイドル光ビーム１６２であり得る）光ビームのパルスをどのようにして発射する、すなわち生成するかに関する以前のデータを使用することができる。コールドスタートとは、（アイドル光ビーム１６２を生成していない）アイドルモードから生成モードへの遷移である。「深刻」であるコールドスタートはより多くの遷移時間を要する。そのようなより深刻なコールドスタートに苦しむ光源１４０では、命令ユニット１１０がより積極的なアイドル計画１１５を作成することができる。例えば、より積極的なアイドル計画１１５が、光源１４０内のモジュールがあまりに「冷たく」なることを防ぐために、より高いデューティサイクルでパルスを生成することを含む可能性がある。アイドルモードから生成モードに遷移するのにあまりに時間を要し過ぎる場合、モジュールは冷たすぎる。一方、命令ユニット１１０は、光源１４０のコールドスタートがそれほど深刻でない場合、デューティサイクルがより低いか、休止がより長いか、あるいはパルス生成のない（図２Ｂ）それほど積極的でないアイドル計画１１５を作成することができる。

【0099】

[0109] 他の実施例では、装置１００は、機会が利用可能であることを検知するときはいつでもウォームアイドルモードを開始するように構成される可能性がある。例えば命令ユニット１１０は、光源１４０がかなりの時間真のアイドルモードにあり、冷たくなりすぎており、コールドスタートにかなりの時間を要する状態に近づいていると判定することができる。この場合、命令ユニット１１０は、効率的に再始動できるように光源１４０を十分暖かい状態に保つために、（アイドル計画１１５を用いて）自動的にウォームアイドルモードに入るようにするコマンド１０５をアイドルユニット１２０に送信することができる。

【0100】

[0110] 実施形態は以下の条項を使用して更に説明されることがある。１．出力デバイスにより使用される生成光ビームを生成モード中に生成する光源のアイドルモードを制御するための装置であって、
生成光ビームが出力デバイスにより使用されるために生成されていないアイドルモードでの光源の動作を共に定義する、それぞれに連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられ得る一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を作成する命令ユニットと、
命令ユニットと通信状態にあり、光源と通信するアイドルユニットであって、
命令ユニットからアイドル計画を受信し、
アイドル計画を記憶し、
アイドルモードに関連したコマンドを受信したときにアイドル計画を光源に提供するアイドルユニットと、を備えた装置。
２．アイドルモード中に、光源がパルスアイドル光ビームを生成し、一セットの符号化された特性が、それぞれがパルスアイドル光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む、条項１の装置。
３．各発射パターンが、アイドル光ビームがパルスを生成する速度、アイドル光ビームのパルスのエネルギー、アイドル光ビームのパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む、条項２の装置。
４．一セットの符号化された特性が、電圧、２つ以上のチャンバ間の放電タイミング目標、光源内の１つ以上の特性又は設定、及び光源内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号のうちの１つ以上を含む、条項１の装置。
５．アイドルユニットが、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信する、条項１の装置。
６．アイドルユニットが、アイドルモードに関連したコマンドを、生成モード中、アイドルモード中、又は生成モード及びアイドルモード以外の時間中に受信する、条項１の装置。
７．光源の１つ以上の状態を感知するメトロロジユニットを更に備えた、条項１の装置。
８．命令ユニットが、メトロロジユニットと通信状態にあり、命令ユニットが、メトロロジユニットからの感知した状態の１つ以上の分析に基づいてアイドル計画を作成する、条項７の装置。
９．命令ユニットが、ユーザからの入力に基づいてアイドル計画を作成するように構成されている、条項１の装置。
１０．命令ユニットが、光源の以前の状態の分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成されている、条項１の装置。
１１．命令ユニットが、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成されている、条項１の装置。
１２．命令ユニットが、符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度を決定することを含む分析に基づいてアイドル計画を作成するように構成されている、条項１の装置。１３．符号化された特性の１つ以上の値の変化は、アイドル光ビームのパルスのバースト間の間隔を延ばす休止の変化、アイドル光ビームがパルスを生成する速度の変化、アイドル光ビームのパルスのエネルギーの変化、アイドル光ビームのパルスの総バースト数の変化、及び各バースト内のパルス数の変化のうちの１つ以上を含む、条項１２の装置。
１４．符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度を決定することが、光源の以前のアイドルモード、以前の生成モード、又は以前のアイドルモード及び以前の生成モードの両方における動作中にメトロロジユニットから収集したデータを分析することを含む、条項１２の装置。
１５．アイドルモード中に、光源が、アイドル光ビームを生成するか又は光ビームを生成しないように構成されている、条項１の装置。
１６．アイドルモード中に、光源が、出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないパルスアイドル光ビームを生成する、条項１の装置。１７．生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成される生成モード、及び
生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成されないアイドルモードを含む複数の動作モードのうちの１つにある光源と、
光源と通信し、光源を生成モードにおいて動作させる生成ユニットと、
光源と通信するアイドルユニットであって、
光源のいずれかの動作モード中を含む任意の時点に、アイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信し、
コマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することによって、アイドルモードにおいて光源を動作させるアイドルユニットと、を備えた装置。
１８．アイドルモード中に、光源がパルス光ビームを生成し、一セットの符号化された特性が、それぞれがアイドルパルス光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む、条項１７の装置。
１９．各発射パターンが、アイドル光ビームがパルスを生成する速度、アイドル光ビームのパルスのエネルギー、アイドル光ビームのパルスの総バースト数、各バースト内のパルス数、バースト間の間隔、及びバースト間の間隔を延ばす休止のうちの１つ以上を含む、条項１８の装置。
２０．一セットの符号化された特性が、電圧、２つ以上のチャンバ間の放電タイミング目標、光源内の１つ以上の特性又は設定、及び光源内のアクチュエータに提供される１つ以上の信号のうちの１つ以上を含む、条項１７の装置。
２１．アイドルユニットが、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成されている、条項１７の装置。
２２．アイドルユニットが、アイドルモードに関連したコマンドを、生成モード中、アイドルモード中、又は生成モード又はアイドルモード以外の時間中に受信するように構成されている、条項１７の装置。
２３．光源の１つ以上の状態を感知するように構成されたメトロロジユニットを更に備えた、条項１７の装置。
２４．アイドルユニット及びメトロロジユニットと通信状態にあり、アイドル計画を作成するように構成された命令ユニットを更に備えた、条項２３の装置。
２５．アイドル計画の一セットの符号化された特性内の各特性に、連続した値の範囲内の任意の値が割り当てられ得る、条項１７の装置。２６．光源が、提供されたアイドル計画内で関連付けられた発射パターンを実行することを含む、提供されたアイドル計画を受け入れ、処理し、実行する、条項１７の装置。
２７．生成ユニットが出力デバイス内のコンポーネントである、条項１７の装置。
２８．少なくとも１つが出力デバイスに対して稼働中である複数の光源であって、各稼働中の光源が、
生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成される生成モードと、
生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成されていないアイドルモードと、を含む複数の動作モードのうちの１つにある複数の光源と、
稼働中の光源と通信し、稼働中の光源を生成モードにおいて動作させる生成ユニットと、
任意の時点に、アイドルモードにおける１つ以上の稼働中の光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信し、
コマンドを受信したときに、アイドル計画を稼働中の光源に提供することによって、稼働中の光源をアイドルモードにおいて動作させるアイドルユニットと、を備えた装置。
２９．アイドル計画が、アイドルモードにおける複数の稼働中の光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含む、条項２８の装置。
３０．アイドルユニットが、複数の稼働中の光源のそれぞれにアイドル計画を提供することによって、各アイドルモードにおいて稼働中の光源を動作させるように構成されている、条項２９の装置。
３１．アイドルユニットが、複数の稼働中の光源のそれぞれにアイドル計画を提供することによって、各アイドルモードにおける異なる時点、同じ時点、又は重複時点に稼働中の光源を動作させるように構成されている、条項３０の装置。
３２．アイドルモード中に、稼働中の光源がパルスアイドル光ビームを生成し、一セットの符号化された特性が、それぞれがパルスアイドル光ビームを規定する複数の発射パターンのシーケンスを含む、条項２８の装置。
３３．アイドルユニットが、アイドルモードに関連したコマンドを、出力デバイス、及び出力デバイス以外のエンティティのうちの１つ以上から受信するように構成されている、条項２８の装置。
３４．一セットのプログラマブル命令に基づいてアイドル計画を作成するように構成された命令ユニットを更に備えた、条項２８の装置。
３５．光源のモードを制御する方法であって、 光源が出力デバイスによる使用のために生成光ビームを生成している生成モード、又は生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成されていないアイドルモードにおける光源の動作を可能にすること、
光源を生成モード又はアイドルモードで動作させている間を含む任意の時点に、アイドルモードにおける光源の動作を共に定義する一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信すること、及び
アイドルモードに関連したコマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することを含む方法。
３６．アイドル計画を光源に提供することが、
生成モードにおける光源の動作を停止した後に、提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を開始すること、及び
提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を継続することのうちの１つ以上を含む、条項３５の方法。
３７．アイドル計画を記憶することを更に含む、条項３５の方法。
３８．出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないアイドル光ビームを生成するように、又は光ビームを生成しないように光源に命令することを含む、光源にアイドルモードで動作するように命令することを更に含む、条項３５の方法。
３９．光源の１つ以上の感知した状態の分析、ユーザからの入力、光源の以前の状態の分析、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析、及び符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度のうちの１つ以上に基づいてアイドル計画を作成することを更に含む、条項３５の方法。
４０．アイドル計画を光源に提供することが、コマンドがもはや受信されなくなるまでアイドル計画を光源に提供することを含む、条項３５の方法。
４１．光源のモードを制御する方法であって、
光源が出力デバイスによる使用のために生成光ビームを生成している生成モード、又は生成光ビームが出力デバイスによる使用のために生成されていないアイドルモードにおける光源の動作を可能にすること、
アイドルモードでの光源の動作を共に定義する、それぞれにある範囲内にあり一セットの離散値に限定されない任意の値が割り当てられ得る一セットの符号化された特性を含むアイドル計画を受信すること、及び
アイドルモードに関連したコマンドを受信したときに、アイドル計画を光源に提供することを含む方法。
４２．アイドル計画を光源に提供することが、
生成モードにおける光源の動作を停止した後に、提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を開始すること、及び
提供されたアイドル計画に基づいてアイドルモードにおける光源の動作を継続することのうちの１つ以上を含む、条項４１の方法。
４３．アイドル計画を記憶することを更に含む、条項４１の方法。
４４．出力デバイスが必要とする一セットの生成特性に含まれないアイドル光ビームを生成するように、又は光ビームを生成しないように光源に命令することを含む、光源にアイドルモードで動作するように命令することを更に含む、条項４１の方法。
４５．光源の１つ以上の感知した状態の分析、ユーザからの入力、光源の以前の状態の分析、光源及び出力デバイスのうちの１つ以上の性能を最適化又は改善しようとする分析、及び符号化された特性の１つ以上の値の変化に対する光源の感度のうちの１つ以上に基づいてアイドル計画を作成することを更に含む、条項４１の方法。

【0101】

[0111] 他の実施例は請求項の範囲内にある。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】