特許 7533445 露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-08-05

(45)【発行日】2024-08-14

(54)【発明の名称】露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240806BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G03F7/20 521

【請求項の数】 19

(21)【出願番号】P 2021511276

(86)(22)【出願日】2020-03-04

(86)【国際出願番号】 JP2020009125

(87)【国際公開番号】W WO2020203003

(87)【国際公開日】2020-10-08

【審査請求日】2023-02-01

(31)【優先権主張番号】P 2019069148

(32)【優先日】2019-03-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】000004112

【氏名又は名称】株式会社ニコン

(74)【代理人】

【識別番号】100161207

【弁理士】

【氏名又は名称】西澤 和純

(74)【代理人】

【識別番号】100140774

【弁理士】

【氏名又は名称】大浪 一徳

(74)【代理人】

【識別番号】100175824

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 淳一

(72)【発明者】

【氏名】吉田 亮平

(72)【発明者】

【氏名】井田 真高

(72)【発明者】

【氏名】吉田 大輔

(72)【発明者】

【氏名】野嶋 琢己

(72)【発明者】

【氏名】松橋 佑介

(72)【発明者】

【氏名】渡辺 暢章

【審査官】田中 秀直

(56)【参考文献】

【文献】特開２００２－２５８４８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１７／１５０３８８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１１－０４４４８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－２９７９７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－１９９８００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－３０５７４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１９８９９０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被露光基板を露光する露光装置において、
前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、
照明光を供給する照明光学系であって、
前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、
前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、
を有する前記照明光学系と、
前記照明光が入射する投影光学系であって、
前記オプチカルインテグレーターと前記被露光基板の間の光路上であって前記被露光基板と共役な位置に位置し、前記照明光による前記被露光基板の照明領域を設定する絞り
を有する前記投影光学系と、
前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して、前記走査方向に光学的に対応する第１方向に移動させる制御部と、
を備え、
前記照度変更部材は、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、
を有し、
前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる、
露光装置。

【請求項2】

被露光基板を露光する露光装置において、
前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、
照明光を供給する照明光学系であって、
前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、
前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、
を有する前記照明光学系と、
前記照明光が入射する投影光学系であって、
前記オプチカルインテグレーターと前記被露光基板の間の光路上であって前記被露光基板と共役な位置に位置し、前記照明光による前記被露光基板の照明領域を設定する絞り
を有する前記投影光学系と、
前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して第１方向に移動させる制御部と、
を備え、
前記照度変更部材は、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、
を有し、
前記制御部は、前記投影光学系に対する前記基板ステージの移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、
前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる、
露光装置。

【請求項3】

請求項１または請求項２に記載の露光装置において、
前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の中心を含む中心領域に対応する前記入射面の部分と重なる第３減光部材を含み、
前記制御部は、前記第１制御信号および前記第２制御信号と異なる第３制御信号によって、前記第３減光部材を、前記第１方向に移動させる、露光装置。

【請求項4】

被露光基板を露光する露光装置において、
前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、
照明光が入射する投影光学系と、
前記投影光学系に前記照明光を供給する照明光学系であって、
前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、
前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置され、前記投影光学系の走査露光視野により時間的に連続的に露光される前記被露光基板上の第１領域における露光量と、前記走査露光視野により時間的に離散的に露光される前記走査方向と直交する非走査方向に前記第１領域を挟んで並ぶ第２領域および第３領域のそれぞれにおける露光量との比を変更するよう前記照明光の照度を変更する照度変更部材と、
を有する前記照明光学系と、
前記照度変更部材を第１方向に移動させる制御部と、を備え、
前記照度変更部材は、
前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において、前記第２領域に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、
前記光軸方向において、前記第３領域に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、
を有し、
前記制御部は、前記投影光学系に対する前記基板ステージの移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、
前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる、
露光装置。

【請求項5】

請求項１から４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１減光部材は、前記第２部分と前記光軸方向において重ならない状態で、前記第１部分と前記光軸方向において重なるように、前記第１方向に移動可能であり、
前記第２減光部材は、前記第１部分と前記光軸方向において重ならない状態で、前記第２部分と前記光軸方向において重なるように、前記第１方向に移動可能である、
露光装置。

【請求項6】

請求項４に記載の露光装置において、
前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記入射面において前記第１領域に対応する部分と重なる第３減光部材を含む、露光装置。

【請求項7】

請求項６に記載の露光装置において、
前記制御部は、前記第１制御信号および前記第２制御信号と異なる第３制御信号によって、前記第３減光部材を、前記第１方向に移動させる、露光装置。

【請求項8】

請求項４に記載の露光装置であって、
前記第１減光部材および前記第２減光部材のそれぞれは、前記第２領域の前記非走査方向の幅をＤＷとし、前記入射面に対する前記被露光基板の横倍率をβとし、前記入射面における前記照明光の開口数をＮＡとした場合において、以下の式（１）に基づいて定まる所定距離Ｄだけ、前記入射面から前記照明光学系の光軸方向に離れた位置に設けられている、
露光装置。
ただし、０ ≦ Ｄ ≦ １．２×ＤＷ／（β・ＮＡ） ・・・（１）

【請求項9】

請求項８に記載の露光装置において、
前記オプチカルインテグレーターは、前記走査方向に光学的に対応する前記第１方向に配列されている複数のレンズエレメントを含むレンズブロックが、前記第１方向と交差する第２方向に複数配列されているフライアイレンズであり、
前記第１減光部材は、少なくとも１つの前記レンズブロックの中に配置されている１つ以上のレンズエレメントの、前記第２領域に対応する部分の少なくとも一部を減光し、
前記第２減光部材は、少なくとも１つの前記レンズブロックの中に配置されている１つ以上のレンズエレメントの、前記第３領域に対応する部分の少なくとも一部を減光する、
露光装置。

【請求項10】

請求項９に記載の露光装置において、
前記第１減光部材および前記第２減光部材は、いずれも複数の前記レンズブロックのうちのｍ個（ｍは２以上の自然数）のレンズブロックのそれぞれに対応してｍ個配置され、
前記ｍ個の前記第１減光部材および前記第２減光部材の前記第１方向の一方の端部は、前記レンズブロック内の前記レンズエレメントの前記第１方向の配列の周期Ｐに対して、前記第１方向にそれぞれＰ／ｍだけ異なる位置に設定されている、露光装置。

【請求項11】

請求項４に記載の露光装置において、
前記投影光学系および前記照明光学系は、前記走査方向と交差する方向に複数並列して配置され、
前記被露光基板上の前記第２領域は、前記露光において、複数の前記投影光学系のうち第１投影光学系の走査露光視野により前記被露光基板上の露光される第１露光領域の一部と、前記第１投影光学系に対して前記走査方向および前記走査方向と直交する非走査方向に離間して設けられた第２投影光学系の走査露光視野により前記被露光基板上の露光される第２露光領域の一部とが重複された領域である、露光装置。

【請求項12】

請求項１１に記載の露光装置において、
前記被露光基板上の前記第１領域は、前記露光において、前記第１投影光学系の走査露光視野により前記被露光基板上の露光される前記第１露光領域の他部の領域、または、前記第２投影光学系の走査露光視野により前記被露光基板上の露光される第２露光領域の他部の領域である、露光装置。

【請求項13】

請求項１から１２のいずれか一項に記載の露光装置で前記被露光基板を露光処理することと、
露光された前記被露光基板を現像処理することと、
を含むデバイス製造方法。

【請求項14】

基板を露光する露光装置に用いられる照明光学系であって、走査方向へ移動される物体上の照明領域に照明光を照射する前記照明光学系において、
前記照明光が入射される入射面が前記基板の上面と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、
前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、
前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して、前記走査方向に光学的に対応する第１方向に移動させる制御部と、を備え、
前記照度変更部材は、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、
を有し、
前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる、照明光学系。

【請求項15】

基板を露光する露光装置に用いられる照明光学系であって、走査方向へ移動される物体上の照明領域に照明光を照射する前記照明光学系において、
前記照明光が入射される入射面が前記基板の上面と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、
前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、
前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して第１方向に移動させる制御部と、を備え、
前記照度変更部材は、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、
前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、
を有し、
前記制御部は、前記照明光に対する前記基板の移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、
前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる、
照明光学系。

【請求項16】

請求項１４又は１５に記載の照明光学系において、
前記第１減光部材は、前記第２部分と前記光軸方向において重ならない状態で、前記第１部分と前記光軸方向において重なるように、前記第１方向に移動可能であり、
前記第２減光部材は、前記第１部分と前記光軸方向において重ならない状態で、前記第２部分と前記光軸方向において重なるように、前記第１方向に移動可能である、照明光学系。

【請求項17】

請求項１４又は１５に記載の照明光学系において、
前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の中心を含む中心領域に対応する前記入射面の部分と重なる第３減光部材を含む、照明光学系。

【請求項18】

請求項１７に記載の照明光学系において、
前記制御部は、前記第１制御信号および前記第２制御信号と異なる第３制御信号によって、前記第３減光部材を、前記第１方向に移動させる、照明光学系。

【請求項19】

請求項１４から１８のいずれか一項に記載の照明光学系と、
前記基板を保持し、前記基板上に前記物体が有する所定パターンが転写されるように、前記照明光に対して、前記基板を前記走査方向へ相対移動させる基板ステージと、を含む露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

マスク上のパターン原版を大型基板に露光転写するための装置として、マスクおよび基板を、投影光学系に対して相対走査して露光を行なうスキャン型露光装置が知られている。スキャン露光により、露光視野はスキャン方向（走査方向）に拡大されるが、さらにスキャン方向と交差する方向（非スキャン方向）にも露光視野を拡大するために、複数回のスキャン露光を、その露光領域を非スキャン方向にオーバーラップさせて行う露光装置も知られている。
さらに、複数の投影光学系を非スキャン方向に並列的に備え、複数の投影光学系が露光する露光視野の一部をオーバーラップさせつつ露光を行うことで、一回の走査により基板上に電子回路を露光転写する方法も知られている（例えば特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】日本国特開２０１６－５４２３０号公報

【発明の概要】

【0004】

第１の態様によると、露光装置は、被露光基板を露光する露光装置において、前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、照明光を供給する照明光学系であって、前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、を有する前記照明光学系と、前記照明光が入射する投影光学系であって、前記オプチカルインテグレーターと前記被露光基板の間の光路上であって前記被露光基板と共役な位置に位置し、前記照明光による前記被露光基板の照明領域を設定する絞りを有する前記投影光学系と、前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して、前記走査方向に光学的に対応する第１方向に移動させる制御部と、を備え、前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、を有し、前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる。
第２の態様によると、露光装置は、被露光基板を露光する露光装置において、前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、照明光を供給する照明光学系であって、前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、を有する前記照明光学系と、前記照明光が入射する投影光学系であって、前記オプチカルインテグレーターと前記被露光基板の間の光路上であって前記被露光基板と共役な位置に位置し、前記照明光による前記被露光基板の照明領域を設定する絞りを有する前記投影光学系と、前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して第１方向に移動させる制御部と、を備え、前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、を有し、前記制御部は、前記投影光学系に対する前記基板ステージの移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる。
第３の態様によると、露光装置は、被露光基板を露光する露光装置において、前記被露光基板を走査方向に移動させる基板ステージと、照明光が入射する投影光学系と、前記投影光学系に前記照明光を供給する照明光学系であって、前記照明光が入射する入射面が前記被露光基板と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置され、前記投影光学系の走査露光視野により時間的に連続的に露光される前記被露光基板上の第１領域における露光量と、前記走査露光視野により時間的に離散的に露光される前記走査方向と直交する非走査方向に前記第１領域を挟んで並ぶ第２領域および第３領域のそれぞれにおける露光量との比を変更するよう前記照明光の照度を変更する照度変更部材と、を有する前記照明光学系と、前記照度変更部材を第１方向に移動させる制御部と、を備え、前記照度変更部材は、前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において、前記第２領域に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、前記光軸方向において、前記第３領域に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、を有し、前記制御部は、前記投影光学系に対する前記基板ステージの移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる。
第４の態様によると、デバイス製造方法は、第１から第４までのいずれかの態様による露光装置で被露光基板を露光処理することと、露光された前記被露光基板を現像処理することと、を含む。
第５の態様によると、照明光学系は、基板を露光する露光装置に用いられる照明光学系であって、走査方向へ移動される物体上の照明領域に照明光を照射する前記照明光学系において、前記照明光が入射される入射面が前記基板の上面と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して、前記走査方向に光学的に対応する第１方向に移動させる制御部と、を備え、前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、を有し、前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる。
第６の態様によると、照明光学系は、基板を露光する露光装置に用いられる照明光学系であって、走査方向へ移動される物体上の照明領域に照明光を照射する前記照明光学系において、前記照明光が入射される入射面が前記基板の上面と共役な位置に位置するオプチカルインテグレーターと、前記オプチカルインテグレーターの前記入射面側に配置された照度変更部材と、前記オプチカルインテグレーターの光軸方向において前記照度変更部材が前記入射面と重なる量が変化するように、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して第１方向に移動させる制御部と、を備え、前記照度変更部材は、前記光軸方向において、前記照明領域における前記走査方向に直交する非走査方向の一方側の端を含む第１端部に対応する前記入射面の第１部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第１減光部材と、前記光軸方向において、前記照明領域における前記非走査方向の他方側の端を含む第２端部に対応する前記入射面の第２部分と重なるように、前記第１方向に移動可能である第２減光部材と、を有し、前記制御部は、前記照明光に対する前記基板の移動中に、前記照度変更部材を前記オプチカルインテグレーターに対して相対移動させ、前記制御部は、第１制御信号によって、前記第１減光部材を前記第１方向に移動させ、前記第１制御信号とは異なる第２制御信号によって、前記第２減光部材を前記第１方向に移動させる。
第７の態様によると、露光装置は、第７または第８の態様による照明光学系と、前記基板を保持し、前記基板上に前記物体が有する所定パターンが転写されるように、前記照明光に対して、前記基板を前記走査方向へ相対移動させる基板ステージと、を含む。

【図面の簡単な説明】

【0005】

【図1】第１実施形態の露光装置の構成を示す側面図。

【図2】第１実施形態の露光装置の一部分を示す斜視図。

【図3】第１実施形態の露光装置のフライアイレンズからマスクまでを拡大して示した斜視図。

【図4】第１実施形態の露光装置のマスク上の視野と基板上の視野との関係を表す図。図４（ａ１）、図４（ａ２）および図４（ａ３）は、それぞれ図１中の投影光学系１９ｃにおけるマスク上の視野、投影光学系内の視野絞り、基板上の視野を示す図、図４（ｂ１）、図４（ｂ２）および図４（ｂ３）は、それぞれ図１中の投影光学系１９ｂにおけるマスク上の視野、投影光学系内の視野絞り、基板上の視野を示す図。

【図5】第１実施形態の露光装置が基板に対して走査露光する際に、基板上に照射される露光エネルギー、および感光材料における実効感光量の一例を示す図。図５（ａ）は各投影光学系の基板上の露光視野を示す図、図５（ｂ）は基板２２上に形成される露光領域を示す図、図５（ｃ）は基板上に照射される露光量の一例を示す図、図５（ｄ）は基板上に照射される露光量の他の一例を示す図。

【図6】第１実施形態の露光装置のフライアイレンズ、減光部材および減光部材保持部を、光源側から見た図。

【発明を実施するための形態】

【0006】

（露光装置の第１実施形態）
図１は、第１実施形態の露光装置１００を示す側面図である。後述するように露光装置１００は、５本の投影光学系１９ａ～１９ｅを備えているが、図１には、そのうちの２本である投影光学系１９ａ、１９ｂのみが示されている。
投影光学系１９ａ～１９ｅは、投影倍率（横倍率）が＋１倍の正立正像を形成する光学系であり、マスク１５に描画されているパターンを、基板２２の上面に形成されている感光材料に露光転写する。なお、感光材料が形成された基板２２は、被露光基板と解釈することができる。

【0007】

基板２２は、不図示の基板ホルダーを介して基板ステージ２７により保持される。基板ステージ２７は、不図示のリニアモータ等により、基板ステージ定盤２８上をＸ方向（に走査するとともに、Ｙ方向に移動可能となっている。基板ステージ２７のＸ方向の位置は、基板ステージ２７に取り付けられている移動鏡２４の位置を介してレーザー干渉計２５により計測される。同様に基板ステージ２７のＹ方向の位置も、不図示のレーザー干渉計により計測される。
位置検出光学系２３は、基板２２上に形成されているアライメントマーク等の既存のパターンの位置を検出する。

【0008】

マスク１５は、マスクステージ１６により保持される。マスクステージ１６は、不図示のリニアモータ等により、マスクステージ定盤１７上をＸ方向に走査するとともに、Ｙ方向に移動可能となっている。マスクステージ１６のＸ方向の位置は、マスクステージ１６に取り付けられている移動鏡１３の位置を介してレーザー干渉計１４により計測される。同様にマスクステージ１６のＹ方向の位置も、不図示のレーザー干渉計により計測される。

【0009】

不図示の制御系は、レーザー干渉計１４，２５等の計測値に基づいて、不図示のリニアモータ等を制御して、マスクステージ１６および基板ステージ２７のＸＹ位置を制御する。不図示の制御系は、基板２２へのマスクパターンの露光に際しては、マスク１５と基板２２とを、投影光学系１９ａ～１９ｅによる結像関係を保ったまま、投影光学系１９ａ～１９ｅに対して相対的に、Ｘ方向に略同一速度で走査させる。
本明細書では、露光に際して、基板２２が走査される方向（Ｘ方向）を「走査方向」および「スキャン方向」とも呼ぶ。また、基板２２の面内に含まれる方向であってＸ方向と直交する方向（Ｙ方向）を「非走査方向」および「非スキャン方向」とも呼ぶ。Ｚ方向は、Ｘ方向およびＹ方向と直交する方向である。
なお、図１および以下の各図に矢印で示したＸ方向、Ｙ方向、およびＺ方向は、その矢印の指し示す方向を＋方向とする。

【0010】

図２は、第１実施形態の露光装置１００の照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの下流部から基板２２までの部分を示す斜視図である。以下、図２も参照して説明を続ける。
図２に示したとおり、５つの投影光学系１９ａ～１９ｅのうち、３つの投影光学系１９ａ、１９ｃ、１９ｅ（以下、総称してまたは個々に「第１列の投影光学系１９Ｆ」とも呼ぶ）は、Ｙ方向に並んで配置されている。そして、２つの投影光学系１９ｂ、１９ｄ（以下、総称してまたは個々に「第２列の投影光学系１９Ｒ」とも呼ぶ）は、Ｙ方向に並んで、第１列の投影光学系１９Ｆよりも＋Ｘ側に配置されている。
第１列の投影光学系１９Ｆの各投影光学系は、その光軸がＹ方向に所定の間隔で離れて配置される。第２列の投影光学系１９Ｒの各光学系も第１列の投影光学系１９Ｆと同様に配置される。また、投影光学系１９ｂは、その光軸のＹ方向の位置が、投影光学系１９ａと投影光学系１９ｃのそれぞれの光軸を結んだ直線の略中心と一致するように、配置される。また、投影光学系１９ｄも、投影光学系１９ｂと同様に、配置される。

【0011】

第１実施形態の露光装置１００は、各投影光学系１９ａ～１９ｅのそれぞれに対応して、複数の照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅを備えている。一例として、図１に示されるように、投影光学系１９ａに対応する照明光学系ＩＬａは、光軸ＩＸａに沿って、インプットレンズ８ａ、フライアイレンズ１１ａおよびコンデンサーレンズ１２ａを備えている。他の照明光学系ＩＬｂ～ＩＬｅも同様に、インプットレンズ８ｂ～８ｅ、フライアイレンズ１１ｂ～１１ｅ、およびコンデンサーレンズ１２ｂ～１２ｅを含んでいる。なお、上述のように図２には、各照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅのうち、フライアイレンズ１１ａ～１１ｅ、およびコンデンサーレンズ１２ａ～１２ｅのみが示されている。
なお、側面図である図１には、投影光学系１９ｃ～１９ｅは、投影光学系１９ａまたは１９ｂとＸ方向の位置が重なるため示していない。同様に、照明光学系ＩＬｃ～ＩＬｅも、照明光学系ＩＬａまたはＩＬｂとＸ方向の位置が重なるため示していない。

【0012】

ランプ等の光源１から供給される照明光は、楕円ミラー２、折り曲げミラー３、リレーレンズ４、折り曲げミラー５、リレーレンズ６、光ファイバー７等の導光光学系を介して、各照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅに供給される。光ファイバー７は、１つの入射側７１に入射した照明光を略均等に分岐して、５つの射出側７２ａ～７２ｅに射出する。光ファイバー７の５つの射出側７２ａ～７２ｅのそれぞれから射出された照明光は、各照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの中のインプットレンズ８ａ～８ｅに入射する。そして、照明光は、さらにフライアイレンズ１１ａ～１１ｅ、およびコンデンサーレンズ１２ａ～１２ｅを経て、マスク１５上の各照明領域ＭＩａ～ＭＩｅに照射される。

【0013】

フライアイレンズ１１ａ～１１ｅは、その入射側面（インプットレンズ８ｂ～８ｅ側の面）が、投影光学系１９ａ～１９ｅ、コンデンサーレンズ１２ａ～１２ｅおよびフライアイレンズ１１ａ～１１ｅを介して、基板２２の上面（基板２２が載置される基板ホルダーの上面もしくはその近傍）と共役（結像関係）である共役面ＣＰとなる位置に配置されている。

【0014】

図３は、一例として、照明光学系ＩＬｃに含まれるフライアイレンズ１１ｃ、およびコンデンサーレンズ１２ｃと、マスク１５上の照明領域ＭＩｃを拡大して示した斜視図である。
フライアイレンズ１１ｃは、照明領域ＭＩｃと相似形の、Ｙ方向に長い長方形の断面形状（ＸＹ面内の形状）を有するレンズエレメント１１０が、Ｘ方向およびＹ方向に複数個配列されて形成されている。各レンズエレメント１１０の入射面１１ｃｉ（上方の面、すなわち＋Ｚ側の面）は、各レンズエレメント１１０およびコンデンサーレンズ１２ｃからなる光学系により、マスク１５上の照明領域ＭＩｃ（マスク１５が載置されるマスクステージの上面もしくはその近傍）に対する共役面ＣＰとなっている。従って、基板２２上の露光視野ＰＩｃに対する共役面ＣＰでもある。それぞれのレンズエレメント１１０の入射面に照射される照明光は、マスク１５上の照明領域ＭＩｃに重畳して照射される。これにより、照明領域ＭＩｃ内の照明光の照度が略均一化される。

【0015】

照明光学系ＩＬｃを除く他の照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの構成も、図３に示した構成と同様である。
フライアイレンズ１１ａ～１１ｅは、それぞれの照明領域ＭＩａ～照明領域ＭＩｅに照明光を重畳して照射するオプチカルインテグレーターの一例である。
フライアイレンズ１１ａ～１１ｅの入射面１１ａｉ～１１ｅｉの側（インプットレンズ８ａ～８ｅ側）には、後述する減光部材１０ａ～１０ｅが、減光部材保持部９ａ～９ｅにより保持され、配置されている。

【0016】

投影光学系１９ａ～１９ｅのそれぞれは、正立正像の像を形成するために、例えば２回結像型の光学系により構成される。この場合、各投影光学系１９ａ～１９ｅの上半分を構成する光学系により、各投影光学系１９ａ～１９ｅの光軸ＰＡＸａ～ＰＡＸｅの方向（Ｚ方向）の中間付近にある中間像面２０に、マスク１５のパターンの中間像が形成される。中間像は、各投影光学系１９ａ～１９ｅの下半分を構成する光学系により再度結像され、基板２２上に、マスク１５のパターンの像が形成される。

【0017】

中間像面２０は基板２２と共役であるため、各投影光学系１９ａ～１９ｅ内の中間像面２０にそれぞれ視野絞り２１ａ～２１ｅを配置することにより、基板２２上の各投影光学系１９ａ～１９ｅによる露光視野ＰＩａ～ＰＩｅを規定することができる。

【0018】

図４は、マスク１５上の照明領域ＭＩａ～ＭＩｅと、視野絞り２１ａ～２１ｅと、露光視野ＰＩａ～ＰＩｅとの関係を示す図である。
図４（ａ１）は、投影光学系１９ｃに対応するマスク１５上の照明領域ＭＩｃを示す図であり、照明領域ＭＩｃは、フライアイレンズ１１ｃのレンズエレメント１１０の断面形状と相似な長方形となっている。

【0019】

図４（ａ２）は、投影光学系１９ｃ内の視野絞り２１ｃと、そこに照射される照明光ＭＩｃ２を示す図である。視野絞り２１ｃには、マスク１５上の照明領域ＭＩｃの中間像である破線で示した照明光ＭＩｃ２が照射される。照明光ＭＩｃ２のうち、視野絞り２１ｃの遮光部（斜線で示した部分）に照射された照明光は視野絞り２１ｃにより遮光される。 一方、視野絞り２１ｃの開口部２１ｃｏを透過した照明光は、投影光学系１９ｃの下半分を構成する光学系により基板２２上で再度結像し、基板２２上に露光視野ＰＩｃを形成する。

【0020】

図４（ａ３）は、基板２２上の露光視野ＰＩｃを示すである。
一例として、投影光学系１９ｃ～１９ｅが全屈折光学系から成るとき、中間像である照明光ＭＩＣ２は照明領域ＭＩｃに対する倒立正像（像のＸ方向およびＹ方向が共に反転し、鏡像ではない像）であり、露光視野ＰＩｃは視野絞り２１ｃに対する倒立正像となる。従って、図４（ａ２）および図４（ａ３）に示したとおり、視野絞り２１ｃの開口部２１ｃｏの形状と、露光視野ＰＩｃの形状は、相互にＺ軸回りに１８０度回転したものと一致する。

【0021】

露光視野ＰＩｃは、一例として、Ｙ方向に平行な２辺のうちの短辺が＋Ｘ側に、長辺が－Ｘ側にある台形である。ここで、露光視野ＰＩｃのうち、＋Ｘ側の短辺の全てと－Ｘ側の長辺の一部で囲まれた長方形の領域を、中心領域ＰＩｃｃと呼ぶ。一方、露光視野ＰＩｃのうち、中心領域ＰＩｃｃに含まれない＋Ｙ方向の端部を左端領域ＰＩｃｌと呼び、露光視野ＰＩｃのうち、中心領域ＰＩｃｃに含まれない－Ｙ方向の端部を右端領域ＰＩｃｒと呼ぶ。
中心領域ＰＩｃｃのＹ方向の長さ（幅）を幅Ｗｓと呼び、左端領域ＰＩｃｌおよび右端領域ＰＩｃｒのＹ方向の長さ（幅）は等しく、これを幅Ｗｏと呼ぶ。

【0022】

一方、図４（ｂ１）～図４（ｂ３）は、それぞれ投影光学系１９ｂに対応する、マスク１５上の照明領域ＭＩｂと、視野絞り２１ｂと、露光視野ＰＩｂとを示す図である。図４（ｂ２）に示すとおり、投影光学系１９ｂにおいては、視野絞り２１ｂの開口部２１ｂｏの形状は、投影光学系１９ｃの視野絞り２１ｃの開口部２１ｃｏの形状をＸ方向に反転した形状となっている。その結果、図４（ｂ３）に示すとおり、投影光学系１９ｂの露光視野ＰＩｂの形状は、投影光学系１９ｃの露光視野ＰＩｃの形状をＸ方向に反転した形状となっている。

【0023】

上述の露光視野ＰＩｃと同様に、露光視野ＰＩｂについても、－Ｘ側の短辺の全てと＋Ｘ側の長辺の一部で囲まれた長方形の領域を、中心領域ＰＩｂｃと呼ぶ。露光視野ＰＩｂのうち、中心領域ＰＩｂｃに含まれない＋Ｙ方向の端部を左端領域ＰＩｂｌと呼び、露光視野ＰＩｂのうち、中心領域ＰＩｂｃに含まれない－Ｙ方向の端部を右端領域ＰＩｃｒと呼ぶ。

【0024】

図５（ａ）は、基板２２上での、５つの投影光学系１９ａ～１９ｅの各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅを示す図である。第１列の投影光学系１９Ｆである投影光学系１９ａ、１９ｅの露光視野ＰＩａ、ＰＩｅは、上述した投影光学系１９ｃの露光視野ＰＩｃと同様に、Ｙ方向に平行な２辺のうちの短辺が＋Ｘ側に、長辺が－Ｘ側にある台形である。一方、第２列の投影光学系１９Ｒである投影光学系１９ｄの露光視野ＰＩｄは、上述した投影光学系１９ｂの露光視野ＰＩｂと同様に、Ｙ方向に平行な２辺のうちの短辺が－Ｘ側に、長辺が＋Ｘ側にある台形である。

【0025】

投影光学系１９ａ、１９ｄ、１９ｅの露光視野ＰＩａ、ＰＩｄ、ＰＩｅについても、上述の露光視野ＰＩｂ、ＰＩｃと同様に、中心領域ＰＩａｃ、ＰＩｄｃ、ＰＩｅｃ、および左端領域ＰＩａｌ、ＰＩｄｌ、ＰＩｅｌ、右端領域ＰＩａｒ、ＰＩｄｒ、ＰＩｅｒを定義できる。ただし、－Ｙ方向の端に配置されている露光視野ＰＩａは、視野絞り２１ａにより、その－Ｙ方向の端部がＸ方向に平行となるように照明光を遮光するため右端領域ＰＩａｒは存在しない。また、＋Ｙ方向の端に配置されている露光視野ＰＩｅは、視野絞り２１ａにより、その＋Ｙ方向の端部がＸ方向に平行となるように照明光を遮光するため左端領域ＰＩａｌは存在しない。なお、視野絞り２１ａと２１ｅとの形状を、視野絞り２１ｃの形状と異ならせるようにしても良いし、別の部材を用いて、露光視野ＰＩａでは右端領域ＰＩａｒが存在しないよう、照明光を遮光するようにしてもよい。

【0026】

各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅの各中心領域ＰＩａｃ～ＰＩｅｃのＹ方向の長さはいずれも幅Ｗｓに等しく、左端領域ＰＩａｌ～ＰＩｄｌおよび右端領域ＰＩｂｒ～ＰＩｅｒの長さは、いずれも幅Ｗｏに等しい。そして、露光視野ＰＩａ～ＰＩｅのうちＹ方向に隣接する２つの露光視野において、隣接する左端領域ＰＩａｌ～ＰＩｄｌと右端領域ＰＩｂｒ～ＰＩｅｒのＹ方向の位置は、一致している。
各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅのこのような形状および位置の設定は、投影光学系１９ａ～１９ｅの配置位置、および視野絞り２１ａ～２１ｅの開口部２１ａｏ～２１ｅｏの形状および位置を設定することにより行なう。

【0027】

図５（ｂ）は、基板２２が基板ステージ２７によりＸ方向に走査され、図５（ａ）に示した露光視野ＰＩａ～ＰＩｅにより露光された際に、基板２２上に形成される露光領域を示す図である。基板２２上には、走査露光により各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅにより露光される走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅが形成される。図５（ｂ）において、第１列の投影光学系１９ａ、１９ｃ、１９ｅが形成する走査露光視野ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅは２点鎖線で示し、第２列の投影光学系１９ｂ、１９ｄが形成する走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄは１点鎖線で示している。

【0028】

これらの走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅは、露光視野ＰＩａ～ＰＩｅがＸ方向への走査露光によりＸ方向に延長されたものである。各走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅのＹ方向（非走査方向）の端部は、それぞれ隣接する他の走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅの非走査方向の端部とオーバーラップしている。たとえば、左端領域ＰＩａｌによる露光領域と右端領域ＰＩｂｒによる露光領域とが一致する。他の露光領域においても同様であるため、説明は省略する。

【0029】

以下では、Ｙ方向のうち、各走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅの１つにより露光された部分を非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅとも呼び、各走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅの２つがオーバーラップして露光された部分をオーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄとも呼ぶ。
露光視野ＰＩａ～ＰＩｅのうち、左端領域ＰＩａｌ～ＰＩｄｌと右端領域ＰＩｂｒ～ＰＩｅｒは、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄに対応する露光視野であり、中心領域ＰＩａｃ～ＰＩｅｃは、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅに対応する露光視野である。

【0030】

各走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅの２つがオーバーラップして露光されたオーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄは、始めに第１列の投影光学系１９ａ、１９ｃ、１９ｅにより露光され、その後第２列の投影光学系１９ｂ、１９ｄにより露光されるため、露光が時間的に分割されて行われている。換言すると、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄは、時間的に離散的に露光が行われる。これに対し、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅは、走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅのうち１つの走査露光視野により露光される領域であり、時間的に分割されず連続して露光された領域である。
時間的に連続的に露光が行われる非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅを、第１領域と解釈することもできる。一方、時間的に離散的に露光が行われるオーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄを、第２領域と解釈することもできる。

【0031】

図５（ｃ）は、Ｘ方向への走査露光により基板２２上に露光される露光量Ｅを示すグラフである。グラフの縦軸は露光量、横軸はＹ方向の座標である。図５（ａ）に示したとおり、Ｙ方向の各微小区間で各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅをＸ方向に積算した値は等しく、かつ、フライアイレンズ１１の作用等により各露光視野ＰＩａ～ＰＩｅ内の照度は均一であるため、基板２２上の露光量Ｅは一定の値Ｅ１となる。
すなわち、Ｙ方向のうち、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅにおける露光量Ｅと、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄにおける露光量Ｅとは、共に露光量Ｅの値がＥ１となり等しくなる。

【0032】

しかし、例えば、走査露光視野ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅと、走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄとが、図５（ａ）の状態から相互にＹ方向に位置ずれした場合には、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄにおける露光量は、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅにおける露光量Ｅ１とは異なってくる。このような現象は、例えば、第１列の投影光学系１９ａ、１９ｃ、１９ｅと第２列の投影光学系１９ｂ、１９ｄによる走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄとが、相互にＹ方向に位置ずれした場合に生じる。あるいは、被露光基板２２がプロセスによる熱等の理由により変形し、この変形を補正するために、基板ステージ２７をＸ方向からずれた方向に走査して露光するような場合にも生じる。

【0033】

図５（ｄ）は、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄにおける露光量が、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅにおける露光量Ｅ１とは異なる場合の、露光量Ｅを示すグラフである。
図５（ｄ）は、一例として、走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄが、走査露光視野ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅに対して－Ｙ方向にずれた場合の例を示している。この場合、露光量Ｅ１に対して、オーバーラップ部Ｏａ、Ｏｃでは露光量は増加し、オーバーラップ部Ｏｂ、Ｏｄでは露光量は減少する。図示はしないが、走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄが、走査露光視野ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅに対して＋Ｙ方向にずれた場合には、露光量Ｅ１に対して、オーバーラップ部Ｏａ、Ｏｃでは露光量は減少し、オーバーラップ部Ｏｂ、Ｏｄでは露光量は増加する。

【0034】

図５（ｄ）に示すような露光量で露光が行われた場合には、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄと非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅとで、基板２２上の感光材料の反応の程度が異なってしまうため、感光材料に転写されたパターンの線幅や厚さが変化してしまうことになる。なお、上述した場合以外であっても、たとえば、被露光基板２２がプロセスによる熱等の理由により局所的に変形した場合にも同様の現象が生じる。ただし、この場合は、被露光基板２２全面において、図５（ｄ）のグラフに示された露光量Ｅの分布とはならず、被露光基板２２のうち局所的に変形した領域にのみ、図５（ｄ）のグラフに示された露光量Ｅの分布となる。また、オーバーラップ領域Ｏa～Ｏｄの全ての領域でなく、少なくとも１つのオーバーラップ領域において、露光量Ｅ１とは異なる露光量となる領域が発生する。また、被露光基板２２の局所的な変形に限らず、被露光基板２２に塗布された感光材料の厚さムラによって、上述のように、少なくとも１つのオーバーラップ領域において、露光量Ｅ１とは異なる露光量となる領域が発生する。

【0035】

そこで、第１実施形態の露光装置１００では、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅのそれぞれのフライアイレンズ１１ａ～１１ｅの入射面１１ａｉ～１１ｅｉの側、つまりインプットレンズ８ａ～８ｅとフライアイレンズ１１ａ～１１ｅとの間の位置、且つフライアイレンズ１１ａ～１１ｅの入射面１１ａｉ～１１ｅｉの近傍に、照度変更部材の一例である減光部材１０ａ～１０ｅを設けている。そして減光部材１０ａ～１０ｅは、減光部材保持部９ａ～９ｅにより、それぞれの照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの光軸Ｉｘａ～Ｉｘｅと略直交する方向であるＸ方向に移動自在に保持されている。減光部材１０ａ～１０ｅのＸ方向の位置は、制御部５０からの制御信号SigＡ～SigＥにより制御される。

【0036】

図６は、照明光学系ＩＬｃに設けられているフライアイレンズ１１ｃ、減光部材１０ｃ（１０ｃａ１、１０ｃａ２、１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、１０ｃｃ１、１０ｃｃ２）、および減光部材保持部９ｃ（９ｃａ、９ｃｂ、９ｃｃ）を、インプットレンズ８ｃ側から見た図である。以下、図６を参照して、照明光学系ＩＬｃに設けられている減光部材１０ｃ、および減光部材保持部９ｃについて説明する。なお、他の照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅに設けられている減光部材１０ａ～１０ｅ、および減光部材保持部９ａ～９ｅについても以下と同様である。

【0037】

フライアイレンズ１１ｃは、断面がＹ方向に長い長方形であるレンズエレメント１１０がＸ方向に複数配列されたレンズブロックが、Ｙ方向に複数配列されている。上述のとおり、図６は、フライアイレンズ１１ｃを入射面１１ａｉ～１１ｅｉの側であるインプットレンズ８ｃ側から見た図である。そして、各レンズエレメント１１０の入射側面は、基板２２上に形成される露光視野ＰＩｃに対する共役面ＣＰとなっている。そのため、図６には、各レンズエレメント１１０の中に、露光視野ＰＩｃに対応する領域である露光視野対応領域ＩＰＩｃを破線で示している。なお、露光視野ＰＩｃに対する露光視野対応領域ＩＰＩｃの横倍率はβ倍であるとする。

【0038】

第１実施形態の露光装置１００は、減光部材１０ｃとして、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２と、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２とを、備えている。
このうち、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２および第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２のＹ方向の幅Ｗｂは、露光視野ＰＩｃの右端領域ＰＩｃｒと左端領域ＰＩｃｌの幅Ｗｏのβ倍と略等しい。

【0039】

第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２は、フライアイレンズ１１ｃの＋Ｘ方向の側に配置され、いくつかのレンズエレメント１１０の露光視野対応領域ＩＰＩｃの中の露光視野ＰＩｃの左端領域ＰＩｃｌに対応する部分を覆い、減光する。
第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２は、フライアイレンズ１１ｃの＋Ｘ方向の側に配置され、いくつかのレンズエレメント１１０の露光視野対応領域ＩＰＩｃの中の露光視野ＰＩｃの右端領域ＰＩｃｒに対応する部分を覆い、減光する。

【0040】

なお、上述のようにフライアイレンズ１１ｃは、レンズエレメント１１０がＸ方向に複数配列されたレンズブロックが、Ｙ方向に複数配列されているものである。従って、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２は、少なくとも１つのレンズブロックの中に配置されている１つ以上のレンズエレメント１１０の、オーバーラップ部Ｏｃに対応する左端領域ＰＩｃｌの少なくとも一部を減光する部材であると解釈することができる。同様に第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２は、少なくとも１つのレンズブロックの中に配置されている１つ以上のレンズエレメント１１０の、オーバーラップ部Ｏｂに対応する右端領域ＰＩｃｒの少なくとも一部を減光する部材であると解釈することができる。

【0041】

第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のＹ方向の幅Ｗａは、露光視野ＰＩｃの中心領域ＰＩｃｃの幅Ｗｓのβ倍と略等しい。
第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２は、フライアイレンズ１１ｃの－Ｘ方向の側に配置され、いくつかのレンズエレメント１１０の露光視野対応領域ＩＰＩｃの中の露光視野ＰＩｃの中心領域ＰＩｃｃに対応する部分を覆い、減光する。
第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２は、少なくとも１つのレンズブロックの中に配置されている１つ以上のレンズエレメント１１０の、非オーバーラップ部Ｓｃに対応する中心領域ＰＩｃｃの少なくとも一部を減光する部材であると解釈することができる。

【0042】

第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２はスライダー９１ｂに保持され、スライダー９１ｂは減光部材保持部９ｃｂにより、Ｘ方向に移動自在に保持されている。スライダー９１ｂと減光部材保持部９ｃｂとの相対位置関係は、エンコーダー等により計測され、制御部５０に伝達される。また、スライダー９１ｂと減光部材保持部９ｃｂとの相対位置関係、すなわち、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２のＸ方向の位置は、制御部５０からの制御信号SigＣｂにより制御される。

【0043】

第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２も、同様にスライダー９１ｃに保持され、スライダー９１ｃは減光部材保持部９ｃｃにより、Ｘ方向に移動自在に保持されている。
第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２も、同様にスライダー９１ａに保持され、スライダー９１ａは減光部材保持部９ｃａにより、Ｘ方向に移動自在に保持されている。
第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２および第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のＸ方向の位置も、上記と同様に計測され、それぞれ制御部５０からの制御信号SigＣｃ、SigＣａにより制御される。

【0044】

第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２を±Ｘ方向に移動させることにより、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２により減光されるレンズエレメント１１０の数を変更することができる。これにより、基板２２上のオーバーラップ部Ｏｃの露光量を増減することができる。
第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２を±Ｘ方向に移動させることにより、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２により減光されるレンズエレメント１１０の数を変更することができる。これにより、基板２２上のオーバーラップ部Ｏｂの露光量を増減することができる。

【0045】

同様に、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２を±Ｘ方向に移動させることにより、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２により減光されるレンズエレメント１１０の数を変更することができる。これにより、基板２２上の非オーバーラップ部Ｓｃの露光量を増減することができる。
以上のことから、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれのＸ方向の位置を適切に調整することにより、基板２２上のオーバーラップ部Ｏｂの露光量を、基板２２上の非オーバーラップ部Ｓｃの露光量よりも、相対的に増加させたり減少させたりすることができる。

【0046】

また、制御部５０は、基板２２上を露光するためにＸ方向への走査させている間に、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれのＸ方向の位置を適切に調整するようにしてもよい。上述した、基板２２のうち局所的に変形した領域を露光する直前に、制御部５０は、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれのＸ方向の位置を適切に調整し、変形した領域の露光が完了した後に、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれのＸ方向の位置を変更するようにしてもよい。また、感光料の塗布ムラがある基板２２を露光する際にも、制御部は、基板２２上の感光料の厚みに応じて、減光部材をそれぞれＸ方向へ移動させるようにしてもよい。なお、露光装置１００は、基板２２上を露光させるためにＸ方向へ走査させていている間や基板２２を走査露光する前に、基板２２上の局所的な変形や感光料の塗布ムラを検出するような計測部を設けてもよい。

【0047】

減光部材１０ｃ（第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２）は、金属製の薄板であっても良く、透明なガラス板上に減光部材により形成された減光膜であってもよい。減光部材１０ｃは、フィルタのように照明光を完全に遮光するものに限られず、一部の照明光のみを遮光、透過させる部材であっても良い。つまり減光部材１０ｃは、照度を変更するための照度変更部材であればよい。

【0048】

他の照明光学系ＩＬａ、ＩＬｂ、ＩＬｄ、ＩＬｅが備える減光部材１０ａ、１０ｂ、１０ｄ、１０ｅ、および減光部材保持部９ａ、９ｂ、９ｄ、９ｅについても、上述の減光部材１０ｃおよび減光部材保持部９ｃの構造と、同様である。
これにより、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄの露光量と、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部の露光量の比率を調整することが照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅ毎に可能になり、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄと非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部において転写されたパターンの線幅や厚さの変化を防止することができる。

【0049】

一例として、図５（ｄ）のような状態では、照明光学系ＩＬｂ、ＩＬｄ内の第２端部減光部材を＋Ｘ方向へ移動させ各露光視野ＰＩｂ、ＰＩｄの右端領域ＰＩｂｒ、ＰＩｄｒの露光量を減少させるか、照明光学系ＩＬａ、ＩＬｃ、ＩＬｅ内の第１端部減光部材を－Ｘ方向へ移動させ各露光視野ＰＩａ、ＰＩｃ、ＰＩｅの左端領域ＰＩａｌ、ＰＩｃｌ、ＰＩｅｌの露光量を増加させることで、オーバーラップ部Ｏａ、Ｏｃの露光量と、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部の露光量とを等しくさせる。なお、第２端部減光部材を＋Ｘ方向へ移動させ、かつ、第１端部減光部材を－Ｘ方向へ移動させて、露光量を調整するようにしてもよい。また、オーバーラップ部Ｏｂ、Ｏｄに関しては、照明光学系ＩＬａ、ＩＬｃ、ＩＬｅ内の第２端部減光部材を＋Ｘ方向へ移動させたり、照明光学系ＩＬｂ、ＩＬｄ内の第１端部減光部材を－Ｘ方向へ移動させたり、どちらも移動させることで、オーバーラップ部Ｏｂ、Ｏｄの露光量と、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部の露光量とを等しくさせてもよい。

【0050】

減光部材１０ｃは、フライアイレンズ１１ｃの上方から－Ｘ方向へ移動すると、非オーバーラップ部Ｓｃの露光量が、移動前と比べて増加するため、増加部材として機能するとも言える。同様に、第１端部減光部材と第２端部減光部材とは、フライアイレンズ１１ｃの上方から＋Ｘ方向へ移動すると、オーバーラップ部Ｏｃの露光量が、移動前と比べて増加するため、増加部材として機能するとも言える。減光部材１０ｃは、フライアイレンズ１１ｃの上方から－Ｘ方向へ移動するが、Ｘ方向に関して、フライアイレンズ１１ｃと重ならない位置まで移動させてもよいし、減光部材１０ｃとフライアイレンズ１１ｃとのＸ方向の重なり量が小さくなるように移動させてもよい。

【0051】

減光部材１０ｃは、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉからＺ方向に所定距離だけ離れた位置に配置されるので、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉにおいては、減光部材１０ｃのＸＹ方向のエッジは、ぼやけて投影される。逆に言えば、減光部材１０ｃをフライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉからＺ方向にどれだけ離して配置すれば良いかは、基板２２上における減光部材１０ｃのエッジの半影ボケの量を決定するパラメータである、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉと基板２２との横倍率（上述のβ）、およびフライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉにおける照明光の開口数に基づいて、決定することができる。さらに、基板２２上のオーバーラップ部Ｏａ～ＯｄのＹ方向の幅も加味して決定することができる。なお、減光部材１０ｃをフライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉに対するＺ方向の位置を変更可能、つまりＺ方向における減光部材１０ｃとフライアイレンズ１１ｃとの距離を変更することができると機構を有すると良い。

【0052】

一例として、オーバーラップ部Ｏａ～ＯｄのＹ方向の幅をＤＷ、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉに対する基板２２の横倍率をβ、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉにおける照明光の開口数をＮＡとするとき、減光部材１０ｃの、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉからのＺ方向の距離Ｄは、
０ ≦ Ｄ ≦ １．２×ＤＷ／（β・ＮＡ） ・・・（１）
とするのが良い。
距離Ｄが式（１）を満たす場合、減光部材１０ｃのエッジによる基板２２上の露光量変化（露光量ムラ）の影響をさらに低減することができる。

【0053】

なお、減光部材１０ｃのＸ方向の位置の決定は、例えば、減光部材１０ｃの挿入量（Ｘ方向の位置）を異なる数段階に設定した複数の条件でテスト露光を行い、その結果から最適な挿入量を決定すると良い。
また、露光装置１００の内部に設けられた計測装置により基板２２の塗布された感光料の厚みを計測し、その結果から減光部材１０ｃの最適な挿入量を決定してもよい。なお、計測装置は露光装置１００外に設けられたものでもよい。
また、減光部材１０ｃの挿入量の決定に際しては、基板ステージ２７上に設けた照度センサ２６を使用して、露光視野ＰＩｃ内の各部の照度を計測しながら行うと良い。

【0054】

なお、図６に示した第３減光部材を構成する２本の減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれの＋Ｘ方向の端部は、それぞれフライアイレンズ１１ｃのレンズエレメント１１０のＸ方向の配列のピッチＰＸの半分だけずれている。上述のとおり、各レンズエレメント１１０中には、露光視野ＰＩｃに対応する露光視野対応領域ＩＰＩｃｗが存在するが、露光視野対応領域ＩＰＩｃｗは、レンズエレメント１１０のＸ方向の全面に渡って広がっているわけではない。すなわち、レンズエレメント１１０のＸ方向の両端部は、基板２２上の露光視野ＰＩｃとは対応せず、投影光学系１９ｃ内の視野絞り２１ｃ上に投影され、視野絞り２１ｃにより遮光される部分である。

【0055】

従って、減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２の＋Ｘ方向の端部が、レンズエレメント１１０のＸ方向の両端部の近傍にある場合には、減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２をＸ方向に移動しても、基板２２上の露光量を変更することができない。
そこで、第１実施形態においては、２本の減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のそれぞれの＋Ｘ方向の端部を、レンズエレメント１１０のＸ方向の配列のピッチＰＸの半分だけずらしている。

【0056】

このような配置により、２本の減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２の一方の＋Ｘ方向端部が、レンズエレメント１１０のＸ方向の両端部の近傍にある場合には、他方の＋Ｘ方向端部はレンズエレメント１１０のＸ方向の中心の近傍に配置される。よって、２本の減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２をともにＸ方向に移動することにより、常に基板２２上の露光量を変更することができる。なお、減光部材１０ｃ１と１０ｃ２とをそれぞれＸ方向に独立して移動させられる構成としても良い。

【0057】

なお、減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２は上述の２本に限られるわけではなく３本以上であって、それぞれが異なるレンズブロックに配置されていてもよい。この場合にも、減光部材の本数がｍ本（ｍは２以上の自然数）であれば、各減光部材の＋Ｘ方向の端部は、ピッチＰＸに対して、ＰＸ／ｍだけずれて設定されていることが好ましい。
上述の第３減光部材を構成する減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２の＋Ｘ方向端の位置や、本数については、第１端部減光部材を構成する減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２および第２端部減光部材を構成する減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２の－Ｘ方向端の位置や、本数に対しても同様に適用できる。

【0058】

なお、減光部材１０ｃは、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉからＺ方向に所定距離だけ離れた位置に配置されるとしたが、これに限定されない。減光部材１０ｃは、フライアイレンズ１１ｃの入射面１１ｃｉ、つまり基板２２の上面に対する共役面ＣＰに設けられても良い。減光部材１０ｃが照明光を完全に遮光するものであると、それを共役面ＣＰに一致して配置した場合には、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄの露光量と、非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部の露光量とが不連続的に変化してしまう恐れがある。従って、この場合には、減光部材１０ｃは、形状を変形させたり、フィルタのようなＹ方向の位置に応じて照明光の遮光率が連続的に変化させたりするものであると良い。また、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２および第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２と、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２とで、照明光の遮光率を変更させてもよい。

【0059】

（変形例１）
以上の第１の実施形態においては、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２をフライアイレンズ１１ｃの－Ｘ方向の側に配置し、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２をフライアイレンズ１１ｃの＋Ｘ方向側に配置したが、この配置に限定されない。減光部材１０ｃをそれぞれＸ方向へ移動させたとき、各減光部材１０ｃどうしが、衝突やメカ的に干渉しなければ、全ての減光部材１０ｃを、フライアイレンズ１１ｃの＋Ｘ方向側もしくは－Ｘ方向側に配置してもよく、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅのＸ方向の大きさを小さくすることができる。

【0060】

（変形例２）
減光部材１０ｃは、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２とをＸ方向へ移動させることで、オーバーラップ部Ｏｂ、Ｏｄの露光量と非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ部の露光量との比率を変更することができるため、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２を省き、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２および第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２のみで構成するようにしてもよい。また、減光部材１０は、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２および第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２を省き、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２のみで構成するようにしてもよい。

【0061】

なお、第１の実施形態では、全ての照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅ内の減光部材１０ａ～１０ｅの構成が同様であるとしたが、これに限定されず、たとえば、第１列の投影光学系１９Ｆと第２列の投影光学系１９Ｒとで、減光部材の構成を変更させてもよいし、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅ毎に減光部材の構成を変更させてもよい。
また、基板２２が局所的に変形した場合や感光料の塗布ムラがある場合等は、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅのうち、その領域へ照明光を投影する照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅが有する減光部材のみを移動させ、別の領域へ照明項を投影する照明光学系では、減光部材を移動させないようにしてもよい。

【0062】

（変形例３）
以上、第１の実施形態では、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２はレンズエレメントのうち＋Ｙ方向の２列に対して、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２はレンズエレメントのうち－Ｙ方向の２列に対して、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２はレンズエレメントのうち中央の２列に対して、Ｘ方向に相対移動させたが、これに限定されない。第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２、第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｃ２、第３端部減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２の全てが、同じ列に配列されたレンズエレメントに対してＸ方向へ相対移動させるようにしてもよいし、一部異ならせるようにしてもよい。

【0063】

（変形例４）
照度変更部材の一例である減光部材１０ａ～１０ｅは、フライアイレンズ１１に対してＸ方向に移動自在であると説明したが、Ｚ方向の移動自在であってもよい。また、減光部材１０ａ～１０ｅのそれぞれがＺ方向に積み重なった複数枚の減光部材により構成されていてもよい。この複数枚の減光部材が互いにＹ方向へ相対移動する、換言すると複数の減光部材がフライアイレンズ１１に対してＹ方向へ相対移動することもできる。このように、照度変更部材がフライアイレンズ１１に対してＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向のいずれかの方向に相対移動することで、基板２２上の露光量分布を変更することができる。

【0064】

（変形例５）
以上の第１実施形態および各変形例においては、５つの投影光学系１９ａ～１９ｅを有するものとしたが、投影光学系の本数は５つに限られるわけではなく、３つや８つなど、いくつであってもよい。
また、以上の第１実施形態および各変形例においては、複数の投影光学系１９ａ～１９ｅを有し、１度のＸ方向の走査により、各投影光学系が形成する複数の露光視野ＳＩａ～ＳＩｅが相互にＹ方向にオーバーラップするとしている。

【0065】

しかし、投影光学系は１つであり、基板２２のＸ方向への走査露光を、基板２２およびマスク１５をＹ方向に移動させつつ複数回行い、各走査露光により形成される複数の露光視野を相互にＹ方向にオーバーラップさせてもよい。この場合にも、１つの投影光学系に対応する照明光学系は、上述の照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅと同様の構成を備えることが望ましい。
なお、上述の第１実施形態および各変形例のように複数の投影光学系１９ａ～１９ｅを有する装置は、一度の走査露光で基板２２上の、より多くの面積を露光することができ、処理能力に優れている。

【0066】

以上の第１実施形態および各変形例においては、複数の投影光学系１９ａ～１９ｅは全屈折光学系から成るとしたが、これに限らず、反射屈折光学系や全反射光学系を採用することもできる。
また、以上の第１実施形態および各変形例においては、露光視野ＰＩａ～ＰＩｅの形状は台形であるとしたが、これは台形に限られるものではなく、例えば、その上記中心部分に相当する部分の形状が円弧であり、円弧の両端に三角形の右端領域および左端領域を備える視野であってもよい。

【0067】

以上の第１実施形態および各変形例においては、各投影光学系１９ａ～１９ｅの光軸ＰＡＸａ～ＰＡＸｅ、および各照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの光軸ＩＸａ～ＩＸｅは、基本的にはＺ方向と平行に設定されているものとしている。ただし、いずれかの光学系の中に折り曲げミラーが採用されている場合には、光軸の向きはＺ方向とは並行ではなくなる。
また、いずれかの光学系の中に折り曲げミラーが採用されている場合には、減光部材１０ａ～１０ｅの移動方向も基板２２の走査方向（Ｘ方向）とは異なる方向になる。しかし、この場合であっても、減光部材１０ａ～１０ｅは、折り曲げミラーを含めた基板２２とフライアイレンズ１１ａ～１１ｅの共役関係に基づいて基板２２の走査方向に光学的に対応する方向に移動自在とすれば良い。

【0068】

また、以上の実施形態においては、各投影光学系１９ａ～１９ｅは、Ｘ方向に第１列の投影光学系１９Ｆおよび第２列の投影光学系１９Ｒの２列の光学系が配置されているものとしたが、これは２列に限られるものではなく、Ｘ方向に３列以上の光学系が配置されていてもよい。

【0069】

オプチカルインテグレーターとして、上述のフライアイレンズ１１に代えて、ロッドインテグレーターを採用することもできる。ロッドインテグレーターを採用した場合には、基板２２およびマスク１５との共役面ＣＰは、ロッドインテグレーターの射出側（マスク１５の側）になるので、減光部材１０もロッドインテグレーターの射出側の近傍に配置する。そして、ロッドインテグレーターの射出面のＸ側の一端の近傍を部分的に遮光する構成とする。

【0070】

減光部材１０ａ～１０ｅを照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅ内に配置する代わりに、投影光学系１９ａ～１９ｅの中間像面２０近傍に配置してもよい。この場合にも、減光部材は、中間像面２０近傍において、露光視野ＰＩａ～ＰＩｅの中心領域ＰＩａｃ～ＰＩｅｃに対応する部分を遮光する構成とする。

【0071】

投影光学系１９ａ～１９ｅ内に視野絞り２１ａ～２１ｅを配置する代わりに、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅの内部に中間像面（マスク１５に対する共役面）を設け、照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅ内の中間像面に基板２２上の露光視野ＰＩａ～ＰＩｅの形状を規定する視野絞り設けてもよい。

【0072】

以上の実施形態においては、投影光学系１９ａ～１９ｅおよび照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅは固定され、基板２２が基板ステージ２７により移動するものとしたが、代わりに、投影光学系１９ａ～１９ｅおよび照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅが基板ステージ上に設けられ、基板２２に対して走査する構成としてもよい。
また、マスク１５は、ガラス基板上にパターンが形成されたマスクに限らず、デジタルマルチミラーデバイスや液晶デバイスからなる可変整形マスクであってもよい。

【0073】

露光装置１００の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置であり、例えば有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ―Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネル製造用の露光装置にも適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも適用できる。
露光装置１００により露光された基板（ガラスプレート等）は、不図示の現像装置により現像処理され、必要に応じて、露光および現像処理により形成された感光材料のパターンに基づいてエッチング加工等が行われる。

【0074】

また、露光対象はガラス基板に限られず、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。なお、第１実施形態および各変形例の露光装置は、一辺の長さ、又は対角長が５００ｍｍ以上の基板が露光対象物である場合に特に有効である。また、露光対象の基板が可撓性を有するシート状である場合には、該シートがロール状に形成されていても良い。

【0075】

上述した第１実施形態および各変形例によれば、次の作用効果が得られる。
（１）第１実施形態または各変形例の露光装置１００は、第１時間に被露光基板２２上の第１露光領域（走査露光視野ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅ）を露光する第１露光と、第１時間とは異なる第２時間に被露光基板２２上の第２露光領域（走査露光視野ＳＩｂ、ＳＩｄ）を露光する第２露光とにより、被露光基板２２を露光する露光装置において、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅを有し、照明光を供給する照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅと、投影光学系１９ａ～１９ｅと、被露光基板２２上に所定パターンが露光されるよう、被露光基板２２を投影光学系１９ａ～１９ｅに対して走査方向（Ｘ方向）に相対移動させる基板ステージ２７と、を備えている。
そして、照明光が入射される入射面１１ａｉ～１１ｅｉが被露光基板２２の上面と共役になる位置（共役面ＣＰ）に設けられたオプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅの入射面側に、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅに対して相対移動可能に配置され、被露光基板２２上のうち第１露光領域および第２露光領域の各領域の一部が重複する第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）を露光する露光量と、第１露光領域の他部および第２露光領域の他部の領域である第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）を露光する露光量との一方を、他方に対して相対的に変更するよう照明光の照度を変更する照度変更部材１０ａ～１０ｅと、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅに対する照度変更部材１０ａ～１０ｅの相対移動を制御する制御部５０と、を備えている。
さらに、制御部５０は、照度変更部材１０ａ～１０ｅを、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）における露光量を第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）における露光量に対して相対的に大きくなるように、オプチカルインテグレーターに対して相対移動させる。
この構成により、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量との比率を調整することが可能になり、第１領域と第２領域において転写されたパターンの線幅や厚さの変化を防止することができる。

【0076】

（２）第１実施形態または各変形例の露光装置１００は、第１時間に被露光基板２２上の第１露光領域（ＳＩａ、ＳＩｃ、ＳＩｅ）を露光する第１露光と、第１時間とは異なる第２時間に被露光基板２２上の第２露光領域（ＳＩｂ、ＳＩｄ）を露光する第２露光とにより、被露光基板２２を露光する露光装置において、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅを有し、照明光を供給する照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅと、投影光学系１９ａ～１９ｅと、被露光基板２２上に所定パターンが露光されるよう、被露光基板２２を投影光学系１９ａ～１９ｅに対して走査方向（Ｘ方向）に相対移動させる基板ステージ２７とを備えている。
そして、照明光が入射される入射面１１ａｉ～１１ｅｉが被露光基板２２の上面と共役になる位置に設けられたオプチカルインテグレーターの入射面側に、オプチカルインテグレーターに対して相対移動可能に配置され、被露光基板２２上のうち第１露光領域および第２露光領域の各領域の一部が重複する第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）を露光する露光量と、第１露光領域の他部および第２露光領域の他部の領域である第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）を露光する露光量との一方に対する他方の露光量比を変更するよう照明光の照度を変更する照度変更部材１０ａ～１０ｅと、オプチカルインテグレーターに対する照度変更部材の相対移動を制御する制御部５０と、を備えている。
さらに、制御部５０は、投影光学系１９ａ～１９ｅに対する基板ステージ２７の移動中に、照度変更部材１０ａ～１０ｅをオプチカルインテグレーターに対して相対移動させる。
この構成により、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量との比率を調整することが可能になり、第１領域と第２領域において転写されたパターンの線幅や厚さの変化を防止することができる。

【0077】

（３）第１実施形態または各変形例の露光装置１００は、投影光学系１９ａ～１９ｅと、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅを有し投影光学系１９ａ～１９ｅに照明光を供給する照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅと、被露光基板２２上に所定パターンが露光されるよう、被露光基板２２を投影光学系１９ａ～１９ｅに対して走査方向に相対的に移動させる基板ステージ２７と、を備えている。
さらに、露光において、投影光学系の走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅにより時間的に連続的に露光される被露光基板２２上の第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）における露光量と、走査露光視野により時間的に離散的に露光される第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）における露光量との一方の露光量に対する他方の露光量を相対的に変更する照度変更部材１０ａ～１０ｅと、照明光の入射面１１ａｉ～１１ｅｉが被露光基板２２上の走査露光視野ＳＩａ～ＳＩｅに対して共役面ＣＰとなる位置に設けられたオプチカルインテグレーターに対して、照度変更部材１０ａ～１０ｅを、走査方向に光学的に対応する第１方向へ相対移動させる制御部と、を備えている。
そして、制御部５０は、照度変更部材１０ａ～１０ｅを、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）における露光量を第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）における露光量に対して相対的に大きくなるように、オプチカルインテグレーターに対して相対移動させる。
この構成により、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量との比率を調整することが可能になり、第１領域と第２領域において転写されたパターンの線幅や厚さの変化を防止することができる。

【0078】

（４）第１実施形態または各変形例の露光装置１００は、投影光学系１９ａ～１９ｅと、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅを有し投影光学系１９ａ～１９ｅに照明光を供給する照明光学系ＩＬａ～ＩＬｅと、被露光基板２２上に所定パターンが露光されるよう、被露光基板２２を投影光学系１９ａ～１９ｅに対して走査方向（Ｘ方向）に相対移動させる基板ステージ２７と、を備えている。
そして、照明光が入射される入射面１１ａｉ～１１ｅｉが被露光基板２２の上面と共役になる位置（共役面ＣＰ）に設けられたオプチカルインテグレーターの入射面側に、オプチカルインテグレーターに対して相対移動可能に配置され、投影光学系１９ａ～１９ｅの走査露光視野により時間的に連続的に露光される被露光基板２２上の第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）における露光量と、走査露光視野により時間的に離散的に露光される第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）における露光量との一方に対する他方の露光量比を変更するよう照明光の照度を変更する照度変更部材１０ａ～１０ｅと、オプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅに対する照度変更部材１０ａ～１０ｅの相対移動を制御する制御部５０と、を備え、制御部５０は、投影光学系１９ａ～１９ｅに対する基板ステージの移動中に、照度変更部材１０ａ～１０ｅをオプチカルインテグレーターオプチカルインテグレーター１１ａ～１１ｅに対して相対移動させる。
この構成により、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量との比率を調整することが可能になり、第１領域と第２領域において転写されたパターンの線幅や厚さの変化を防止することができる。

【0079】

（５）照度変更部材１０ａ～１０ｅは、共役面ＣＰのうちの第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）に対応する部分の、第１方向と交差する第２方向の第１の側の端部近傍に設けられた第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と、共役面ＣＰのうちの第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）に対応する部分の、第２方向の第１の側とは反対側の第２の側の端部近傍に設けられた第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｂｃと、を含む構成とすることで、オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄの露光量を精度良く低減させることができる。
（６）制御部５０が、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｂｃを、別々に制御して第１方向に移動させる構成とすることで、複数の第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）のそれぞれの露光量を個別に調整することができ、転写されたパターンの線幅や厚さを一層均一にすることができる。

【0080】

（７）照度変更部材１０ａ～１０ｅが、共役面ＣＰのうち第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）に対応する部分に設けられた第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２を含む構成とすることでと、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量の比率を、一層高精度に調整することができる。（８）制御部５０は、第３減光部材１０ｃａ１、１０ｃａ２を、第１端部減光部材１０ｃｂ１、１０ｃｂ２と第２端部減光部材１０ｃｃ１、１０ｃｂｃとは独立して第１方向に移動させる構成とすることで、第１領域（非オーバーラップ部Ｓａ～Ｓｅ）の露光量と、第２領域（オーバーラップ部Ｏａ～Ｏｄ）の露光量の比率を、さらに高精度に調整することができる。

【0081】

上述では、種々の実施形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。また、各実施形態および変形例は、それぞれ単独で適用しても良いし、組み合わせて用いても良い。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。

【0082】

次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特願２０１９－０６９１４８号（２０１９年３月２９日出願）

【符号の説明】

【0083】

１００：露光装置、１：光源、ＩＬａ～ＩＬｅ：照明光学系、１０ａ～１０ｅ：減光部材（照度変更部材）、１１ａ～１１ｅ：フライアイレンズ、１２ａ～１２ｅ：コンデンサーレンズ、１５：マスク、ＭＩａ～ＭＩｅ：照明視野、１９ａ～１９ｅ：投影光学系、２１ａ～２１ｅ：視野絞り、２２：基板、ＳＩａ～ＳＩｅ：走査露光視野、Ｓａ～Ｓｅ：非オーバーラップ部、Ｏａ～Ｏｄ：オーバーラップ部、５０：制御部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】