特許 7535920 処理液吐出量の測定用容器及び処理液吐出量の測定方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-08-08

(45)【発行日】2024-08-19

(54)【発明の名称】処理液吐出量の測定用容器及び処理液吐出量の測定方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20240809BHJP

   G03F 7/16 20060101ALI20240809BHJP

   B05C 11/00 20060101ALI20240809BHJP

   B05D 3/00 20060101ALI20240809BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564Z

G03F7/16 502

B05C11/00

B05D3/00 D

【請求項の数】 16

(21)【出願番号】P 2020194246

(22)【出願日】2020-11-24

(65)【公開番号】P2022083023

(43)【公開日】2022-06-03

【審査請求日】2023-08-24

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100096389

【弁理士】

【氏名又は名称】金本 哲男

(74)【代理人】

【識別番号】100101557

【弁理士】

【氏名又は名称】萩原 康司

(74)【代理人】

【識別番号】100167634

【弁理士】

【氏名又は名称】扇田 尚紀

(74)【代理人】

【識別番号】100187849

【弁理士】

【氏名又は名称】齊藤 隆史

(74)【代理人】

【識別番号】100212059

【弁理士】

【氏名又は名称】三根 卓也

(72)【発明者】

【氏名】東 龍之介

【審査官】後藤 慎平

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１８－０９８４１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０１－１３５５６５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／１６

Ｂ０５Ｃ １１／００

Ｂ０５Ｄ ３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板の液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量の測定用容器であって、
処理液を受け止めるための凹部を有する容器本体と、
前記容器本体の凹部を覆う蓋と、を備え、
前記蓋は、前記処理液ノズルが挿入される貫通孔を有し、
前記貫通孔の径は、前記容器本体の凹部の径よりも小さい、測定用容器。

【請求項2】

前記蓋は、
第１の蓋体と、
前記第１の蓋体を覆う第２の蓋体と、
前記第１の蓋体と前記第２の蓋体のいずれか一方に形成された凸部と他方に形成された前記凸部を受容する凹部が嵌合する嵌合部と、を有し、
前記貫通孔は、前記第１の蓋体のみを貫通し、
前記第２の蓋体は、前記嵌合部を中心として回転するように構成されている、請求項１に記載の測定用容器。

【請求項3】

前記嵌合部は、前記第１の蓋体の中心に位置し、
前記貫通孔は、第１の貫通孔と第２の貫通孔を有し、
前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔の各々は、前記第１の蓋体と前記第２の蓋体を貫通し、
前記第１の貫通孔は、前記嵌合部に形成され、
前記第２の貫通孔は、前記第１の蓋体の中心とは異なる位置に形成されている、請求項２に記載の測定用容器。

【請求項4】

前記第１の蓋体の側面と前記第２の蓋体の側面の各々に、前記第２の貫通孔を構成する前記第１の蓋体の開口部と前記第２の蓋体の開口部が重なることを示す目印が設けられている、請求項３に記載の測定用容器。

【請求項5】

前記第２の貫通孔は、前記嵌合部を中心として回転する方向に延びた形状である、請求項３又は４に記載の測定用容器。

【請求項6】

前記容器本体の径は、前記基板を保持する前記液処理装置の基板保持部の径と同一である、請求項１～５のいずれか一項に記載の測定用容器。

【請求項7】

前記容器本体の凹部における当該容器本体の表面は、前記基板と同じ材質で形成されている、請求項１～６のいずれか一項に記載の測定用容器。

【請求項8】

前記容器本体の凹部における当該容器本体の厚さは、前記基板と同じ厚さである、請求項１～７のいずれか一項に記載の測定用容器。

【請求項9】

基板の液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量の測定方法であって、
処理液を受け止めるための凹部を有する容器本体と、
前記容器本体の凹部を覆う蓋と、を備え、
前記蓋は、前記容器本体の凹部の径よりも小さく、かつ、前記処理液ノズルの外径よりも大きい貫通孔を有した測定用容器を用い、
前記測定用容器の質量を測定する工程と、
前記基板を保持する基板保持部に前記測定用容器を載置し、前記貫通孔に前記処理液ノズルを挿入して前記容器本体の凹部に前記処理液を吐出する工程と、
前記処理液が吐出された前記測定用容器の質量を測定することで前記処理液の吐出量を測定する工程と、を有する、測定方法。

【請求項10】

前記蓋は、
第１の蓋体と、
前記第１の蓋体を覆う第２の蓋体と、
前記第１の蓋体と前記第２の蓋体のいずれか一方に形成された凸部と他方に形成された前記凸部を受容する凹部が嵌合する嵌合部と、を有し、
前記貫通孔は、前記第１の蓋体のみを貫通し、
前記処理液を吐出する工程において、前記貫通孔に前記処理液ノズルを挿入して前記容器本体の凹部に前記処理液を吐出し、前記嵌合部を中心として前記第２の蓋体を回転させて前記貫通孔を塞ぐ、請求項９に記載の測定方法。

【請求項11】

前記嵌合部は、前記第１の蓋体の中心に位置し、
前記貫通孔は、第１の貫通孔と第２の貫通孔を有し、
前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔の各々は、前記第１の蓋体と前記第２の蓋体を貫通し、
前記第１の貫通孔は、前記嵌合部に形成され、
前記第２の貫通孔は、前記第１の蓋体の中心とは異なる位置に形成され、
前記処理液を吐出する工程において、前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔に前記処理液ノズルを挿入して前記容器本体の凹部に前記処理液を吐出し、前記嵌合部を中心として前記第２の蓋体を回転させて前記第２の貫通孔を塞ぐ、請求項１０に記載の測定方法。

【請求項12】

前記第１の蓋体の側面と前記第２の蓋体の側面の各々に、前記第２の貫通孔を構成する前記第１の蓋体の開口部と前記第２の蓋体の開口部が重なる位置を示す目印が設けられ、
前記第１の蓋体の目印と前記第２の蓋体の目印が合うように前記嵌合部を中心として前記第２の蓋体を回転させた後、前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔に前記処理液ノズルを挿入して前記容器本体の凹部に前記処理液を吐出する、請求項１１に記載の測定方法。

【請求項13】

前記第２の貫通孔は、前記嵌合部を中心として回転する方向に延びた形状である、請求項１１又は１２に記載の測定方法。

【請求項14】

前記容器本体の径は、前記基板保持部の径と同一である、請求項９～１３のいずれか一項に記載の測定方法。

【請求項15】

前記容器本体の凹部における当該容器本体の表面は、前記基板と同じ材質で形成されている、請求項９～１４のいずれか一項に記載の測定方法。

【請求項16】

前記容器本体の凹部における当該容器本体の厚さは、前記基板と同じ厚さである、請求項９～１５のいずれか一項に記載の測定方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、処理液吐出量の測定用容器及び処理液吐出量の測定方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、略静止した基板の略中心上に、溶剤を供給する溶剤供給工程と、溶剤供給工程の後に、基板の略中心上であって溶剤の上にレジスト液を供給しつつ、第１の回転数で基板を回転させる第１の工程と、第１の工程の後に、第１の回転数よりも低い第２の回転数で基板を回転させる第２の工程と、第２の工程の後に、第１の回転数よりも低く第２の回転数よりも高い第３の回転数で基板を回転させる第３の工程とを有するレジスト塗布方法を開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１０－２０７７８８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示にかかる技術は、基板の液処理を行う液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量を測定する際に処理液の揮発量を低減させる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様は、基板の液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量の測定用容器であって、処理液を受け止めるための凹部を有する容器本体と、前記容器本体の凹部を覆う蓋と、を備え、前記蓋は、前記処理液ノズルが挿入される貫通孔を有し、前記貫通孔の径は、前記容器本体の凹部の径よりも小さい。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、基板の液処理を行う液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量を測定する際に処理液の揮発量を低減させることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本実施形態にかかる液処理装置の構成の概略を模式的に示す側面断面図である。

【図2】本実施形態にかかる処理液吐出量の測定用容器の構成の概略を示す側面断面図である。

【図3】図２の測定用容器の分解図である。

【図4】第１の蓋体の上面図である。

【図5】第２の蓋体の上面図である。

【図6】第１の蓋体と第２の蓋体が重なった状態の上面図である。

【図7】第１の蓋体と第２の蓋体が重なった状態の上面図である。

【図8】第１の蓋体と第２の蓋体の各々の側面に設けられた目印の説明図である。

【図9】処理液吐出量の測定方法を示す説明図である。

【図10】処理液吐出量の他の測定方法を示す説明図である。

【図11】他の実施形態にかかる測定用容器の構成例を示す上面図である。

【図12】他の実施形態にかかる測定用容器の構成例を示す上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

半導体デバイス等の製造プロセスには、レジストパターンを形成するためにレジスト液を基板に塗布する処理がある。この処理では、例えばスピンチャックに保持された半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）を回転させながら、このウェハの中心部に処理液としてレジスト液を吐出する。

【0009】

レジスト液をウェハに塗布する処理では、レジスト液の吐出量を高精度に制御することが求められる。このため、レジスト液をウェハに塗布する処理を行う前には、処理液ノズルからのレジスト液の吐出量の測定と、測定結果に基づいたレジスト液の吐出量の調節が行われる。そのようなレジスト液の吐出量の測定は以下のようにして行われる。

【0010】

まず、レジスト液が吐出される測定用容器の質量をレジスト塗布装置の外部に配置された電子天秤で測定する。この測定用容器は、レジスト液を受け止めるための容器本体と、容器本体を覆う蓋で構成されており、測定用容器の質量は容器本体と蓋を含む質量である。測定用容器の質量を測定した後、作業者はレジスト塗布装置に測定用容器を運び、スピンチャックに容器本体を載置する。次いで、処理液ノズルから容器本体にレジスト液を吐出する。その後、容器本体内のレジスト液の揮発を防ぐため、作業者が容器本体の上に蓋を被せる。作業者はその状態の測定用容器を電子天秤に運び、レジスト液が吐出された測定用容器の質量を測定する。そして、レジスト液を吐出する前と後の測定用容器の質量差に基づいてレジスト液の吐出量が測定される。

【0011】

従来の測定用容器を用いて上記のような吐出量測定を行う場合、容器本体にレジスト液を吐出してから蓋を被せるまでの間、容器本体の上部が開放されているためにレジスト液の揮発が起こりやすい。レジスト液の揮発量が多いと、レジスト液が揮発した分だけ測定用容器の質量が軽くなるため、測定結果として得られる吐出量は実際のレジスト液の吐出量よりも少なくなる。このため、レジスト液の吐出量の測定を精度良く行う観点からは、容器本体にレジスト液を吐出した後のレジスト液の揮発量が少ないことが好ましい。特に、レジスト液の消費量削減を目的として行われるレジスト液の少量吐出（低レート吐出）による塗布処理では、レジスト液の吐出量の管理をより厳格に行う必要があり、吐出量の測定精度を向上させることが求められる。この観点からも、レジスト液の吐出量の測定時においてはレジスト液の揮発量を低減させる必要がある。

【0012】

そこで、本開示にかかる技術は、基板の液処理を行う液処理装置における処理液ノズルからの処理液吐出量を測定する際に処理液の揮発量を低減させる。

【0013】

以下、本実施形態にかかる処理液吐出量の測定用容器及び処理液吐出量の測定方法について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

【0014】

本実施形態にかかる測定用容器を説明するにあたり、まずは処理液吐出量の測定が必要となる液処理装置について説明する。図１は、本実施形態にかかる液処理装置の構成の概略を示す側面断面図である。

【0015】

本実施形態における液処理装置は、基板としてのウェハＷに処理液としてレジスト液を塗布して液処理を行うレジスト塗布装置１００である。レジスト塗布装置１００は、図１に示すように内部を密閉可能な処理容器１０１を有している。処理容器１０１の側面には、ウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されている。

【0016】

処理容器１０１内には、ウェハＷを保持する基板保持部としてスピンチャック１０２が設けられている。このスピンチャック１０２は、保持したウェハＷを回転させることができる。スピンチャック１０２は、例えばモータ等のアクチュエータを有するチャック駆動部１０３により所定の速度に回転できる。また、チャック駆動部１０３には、例えばシリンダ等の昇降駆動機構が設けられており、スピンチャック１０２は昇降自在になっている。

【0017】

また、処理容器１０１内には、スピンチャック１０２の外側に配置された、スピンチャック１０２に保持されるウェハＷを囲むカップ１０４が設けられている。カップ１０４は、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止めて回収するアウターカップ１０５と、アウターカップ１０５の内周側に位置するインナーカップ１０６と、を含む。アウターカップ１０５の上面には、スピンチャック１０２に対するウェハＷの受け渡しの前後にウェハＷが通過する開口１０７が形成されている。

【0018】

さらに、処理容器１０１内には、レジスト液をウェハＷに吐出するためのノズルユニット１０８が上下方向及び水平方向に移動自在に設けられている。このノズルユニット１０８は、レジスト液を吐出する複数本（本実施形態では５本）の処理液ノズル１０９を備えており、各処理液ノズルは一列に並んで配置されている。

【0019】

また、レジスト塗布装置１００は、制御部２００を備えている。制御部２００は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、レジスト塗布装置１００におけるウェハＷのレジスト塗布処理を制御する各種のプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部２００にインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｈは一時的記憶媒体か非一時的記憶媒体かを問わない。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

【0020】

図２は、液処理装置における処理液吐出量の測定用容器１の構成の概略を示す側面断面図である。図３は、図２の容器１の分解図である。図２及び図３に示すように、測定用容器１（以下、単に「容器」という）は、レジスト液を受け止めるための凹部１１を備えた容器本体１０と、その凹部１１を覆う蓋２０を備えている。

【0021】

本実施形態における容器本体１０は、円板状の底板部１２と、突起部１３を有している。突起部１３は、底板部１２から上方に延びており、上面視において円環状に形成されている。容器本体１０は、そのような突起部１３で囲まれた領域を有しており、当該領域がレジスト液を受け止める凹部１１として機能する。

【0022】

容器本体１０の径は特に限定されないが、スピンチャック１０２の径と同一であることが好ましい。処理液吐出量の測定時において容器本体１０をスピンチャック１０２に載置する際には、容器本体１０の中心位置とスピンチャック１０２の中心位置を一致させることが望ましいが、容器本体１０の径がスピンチャック１０２の径と同一であれば、そのような位置合わせがしやすくなる。例えば容器本体１０の径がスピンチャック１０２の径と同一であれば、スピンチャック１０２と容器本体１０の各々の側面を揃えるようにして容器本体１０を載置することができるため、スピンチャック１０２に対する容器本体１０の位置合わせがしやすくなる。また、スピンチャック１０２がウェハＷの吸引吸着が可能な構造であれば、スピンチャック１０２に容器本体１０を載置した際に容器本体１０の吸引を行うことで、吸引状況に鑑みて容器本体１０とスピンチャック１０２の中心位置が互いに一致しているか判断できる。例えば容器本体１０の吸引時に吸引不良が生じていれば、それはスピンチャック１０２の上面に形成されている吸引孔（図示せず）が容器本体１０によって覆われていないことを意味するため、容器本体１０とスピンチャック１０２の中心位置がずれていることを確認できる。なお、容器本体１０の径とは、厳密には容器本体の１０の、スピンチャック１０２の上面に接触する面の径であり、スピンチャック１０２の径とは当該スピンチャック１０２の上面の径である。スピンチャック１０２の径は例えば１００～２００ｍｍである。

【0023】

容器本体１０の材質は特に限定されないが、凹部１１における容器本体１０の表面の材質はウェハＷと同じ材質であることが好ましく、例えばシリコンやガラス等である。凹部１１における容器本体１０とウェハＷが同じ材質であれば、レジスト液の吸収による容器本体１０の膨潤が起こりにくくなり、処理液吐出量の測定のために同一の容器１を繰り返し使用したとしても容器本体１０の体積は変化しにくい。すなわち、各測定における容器本体１０の条件を同一条件とすることができ、処理液吐出量の測定バラツキを抑えることが可能となる。また、凹部１１における容器本体１０の表面の材質をウェハＷと同じ材質とすることで、ウェハＷ上でのレジスト液の広がり方を容器本体１０でも再現することができ、レジスト塗布処理時に近い条件で処理液吐出量の測定を行うことができる。なお、凹部１１における容器本体１０の表面の材質をウェハＷと同じ材質とする場合、容器本体１０の全体をウェハＷと同じ材質としてもよいし、凹部１１における容器本体１０の表面に例えばシリコン系膜をコーティングすることによって容器本体１０の凹部１１の表面のみをウェハＷと同じ材質にしてもよい。

【0024】

凹部１１における容器本体１０の厚さ（本実施形態では凹部１１における底板部１２の厚さ）は、ウェハＷと同じ厚さであることが好ましい。凹部１１における容器本体１０の厚さとウェハＷの厚さが互いに異なる場合、処理液吐出量の測定時とウェハＷの塗布処理時で処理液ノズル１０９の適正高さが異なるため、処理液ノズル１０９の高さ調節作業が必要となる。一方、凹部１１における容器本体１０の厚さとウェハＷの厚さが同じであれば、そのような処理液ノズル１０９の高さ調節作業を省略することができる。また、凹部１１における容器本体１０の厚さとウェハＷの厚さが同じであれば、ウェハＷのレジスト塗布処理に近い条件で容器本体１０にレジスト液を吐出することができるため、処理液吐出量の測定精度を高めることができる。

【0025】

次に、容器本体１０の凹部１１を覆う蓋２０について図２～図６を参照しながら説明する。本実施形態における蓋２０は、第１の蓋体３０と、第１の蓋体３０を覆う第２の蓋体４０を備えている。なお、図４は、第１の蓋体３０の上面図であり、図５は、第２の蓋体４０の上面図であり、図６は、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０が重なった状態の上面図である。

【0026】

本実施形態における第１の蓋体３０は、円板状の天板部３１と、突起部３２を有している。突起部３２は、天板部３１から下方に延びており、突起部３２は平面視において円環状に形成されている。第１の蓋体３０の突起部３２の内径は容器本体１０の突起部１３の外径よりも大きく、第１の蓋体３０を容器本体１０に被せる際には第１の蓋体３０の突起部３２の内面と容器本体１０の突起部１３の外面とが互いに接触または近接するようにして容器本体１０の凹部１１が覆われる。

【0027】

図３及び図４に示すように第１の蓋体３０には、処理液ノズル１０９と本数と配置に合わせて５つの開口部３３が列状に形成されている。本明細書では、第１の蓋体３０の開口部３３のうち、第１の蓋体３０の中心部に形成された開口部３３を中心開口部３３ａと称し、その中心開口部３３ａ以外の開口部３３を周辺開口部３３ｂと称すことがある。本実施形態における中心開口部３３ａは円形の穴であり、周辺開口部３３ｂは扇形の穴である。

【0028】

第１の蓋体３０の材質は特に限定されないが、耐薬性がある材質であることが好ましい。第１の蓋体３０の径は例えば９０～１９０ｍｍであり、第１の蓋体３０の天板部３１の厚さは例えば１～３ｍｍである。なお、処理液吐出量の測定の後には次回の測定に備えて容器１の洗浄が行われるため、洗浄作業を容易に行うという観点からは、第１の蓋体３０は容器本体１０に対して着脱自在であることが好ましい。また、第１の蓋体３０の形状は容器本体１０の凹部１１を覆うことができれば特に限定されない。

【0029】

本実施形態における第２の蓋体４０は、第１の蓋体３０の天板部３１と同様に円板状に形成されている。図３及び図５に示すように第２の蓋体４０には、処理液ノズル１０９と本数と配置に合わせて５つの開口部４２が列状に形成されている。本明細書では、第２の蓋体４０の開口部４２のうち、第２の蓋体４０の中心部に形成された開口部４２を中心開口部４２ａと称し、その中心開口部４２ａ以外の開口部４２を周辺開口部４２ｂと称すことがある。本実施形態における中心開口部４２ａは円形の穴であり、周辺開口部４２ｂは扇形の穴である。

【0030】

第２の蓋体４０の材質も特に限定されないが、耐薬性がある材質であることが好ましい。第２の蓋体４０の径は例えば９０～１９０ｍｍであり、第２の蓋体４０の厚さは例えば１～３ｍｍである。

【0031】

図２に示すように蓋２０は、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０を貫通する貫通孔Ａ、Ｂを有している。本実施形態における貫通孔Ａ、Ｂは、図３に示す第１の蓋体３０に形成された開口部３３と第２の蓋体４０の形成された開口部４２が重なることで構成されている。貫通孔Ａ、Ｂは、容器本体１０の凹部１１の径よりも小さく、かつ、処理液ノズル１０９が通過できるよう処理液ノズル１０９の外径よりも大きい。なお、貫通孔の数や配置は処理液ノズル１０９の本数や配置によって適宜変更される。また例えば、処理液ノズル１０９の本数や配置が異なるノズルユニット１０８を用いた場合でも同一の容器１で処理液吐出量の測定ができるよう、貫通孔の数を多数形成して容器１に汎用性を持たせてもよい。

【0032】

本明細書では、蓋２０に形成された貫通孔Ａ、Ｂのうち、第１の蓋体３０の中心開口部３３ａと第２の蓋体４０の中心開口部４２ａが重なることで構成された貫通孔を第１の貫通孔Ａと称し、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂが重なることで構成された貫通孔を第２の貫通孔Ｂと称すことがある。前述のように第１の蓋体３０の中心開口部３３ａと第２の蓋体４０の中心開口部４２ａはそれぞれ円形であるため、これらの中心開口部３３ａ、４２ａが重なることで形成される第１の貫通孔Ａも円形である。また、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂはそれぞれ扇形であるため、これらの周辺開口部３３ｂ、４２ｂが重なることで形成される第２の貫通孔Ｂも扇形である。

【0033】

図３及び図６に示すように蓋２０は、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０を嵌合する嵌合部５０を有しており、嵌合部５０は第１の蓋体３０の中心に位置している。本実施形態における嵌合部５０は、第２の蓋体４０の突起部４１と第１の蓋体３０の中心開口部３３ａで構成される。第２の蓋体４０の突起部４１は、第２の蓋体４０の中心開口部４２ａの周縁から下方に延び、その突起部４１が第１の蓋体３０の中心開口部３３ａに受容される。これにより、第１の蓋体３０に対する第２の蓋体４０の半径方向の移動が制限され、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０が嵌合した状態となる。なお、本実施形態における嵌合部５０は第２の蓋体４０の突起部４１が第１の蓋体３０の中心開口部３３ａに収まる構造であるため、第１の蓋体３０の中心開口部３３ａの径が第２の蓋体４０の中心開口部４２ａの径よりも大きい。ただし、嵌合部５０の構造は特に限定されず、例えば本実施形態とは逆に第２の蓋体４０の中心開口部４２ａの径が第１の蓋体３０の中心開口部３３ａの径よりも大きく、第１の蓋体３０に設けられた上方に延びる突起部（図示せず）が第２の蓋体４０の中心開口部４２ａに受容される構造としてもよい。すなわち、嵌合部５０は、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０のいずれか一方に凸部が形成され、他方に当該凸部を受容する凹部が形成される構造であればよい。

【0034】

図７に示すように、第２の蓋体４０は、上記の嵌合部５０を中心として回転するように構成されている。図４に示す第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと、図５に示す第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂが重なった図６のような状態から第２の蓋体４０が回転すると、図７のように第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂが互いに重ならない状態となり、第２の貫通孔Ｂが塞がれた状態となる。なお、第２の蓋体４０を回転させる具体的な手段については特に限定されないが、例えば作業者が第１の蓋体３０の側面を押さえながら第２の蓋体４０を回転させるようにしてもよい。また例えば第２の蓋体４０の上面にノブ（図示せず）を設け、作業者がノブを掴んで第２の蓋体４０を回転させるようにしてもよい。また例えば第１の蓋体３０の周方向の回転を規制する回転規制部（図示せず）を設け、作業者が第１の蓋体３０の側面を押さえずに第２の蓋体４０を回転させるようにしてもよい。

【0035】

なお、第１の貫通孔Ａと第２の貫通孔Ｂの形状は特に限定されないが、第２の貫通孔Ｂは、嵌合部５０を中心として回転する方向に延びた形状であることが好ましい。スピンチャック１０２に容器本体１０を載置する際には、スピンチャック１０２の周方向における第２の貫通孔Ｂの位置が適正位置からずれることもあり得る。しかし、第２の貫通孔Ｂが本実施形態における扇形のように嵌合部５０を中心として回転する方向に延びる形状であれば、周方向における第２の貫通孔Ｂの位置が適正位置から多少ずれていたとしても、第２の貫通孔Ｂに処理液ノズル１０９を挿入することができる。また、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂの各々が、嵌合部５０を中心として回転する方向に延びる形状であれば、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂとが一部重なっていなくても、各周辺開口部３３ｂ、４２ｂが重なっている領域については第２の貫通孔Ｂとして機能させることができる。すなわち、周辺開口部３３ｂ、４２ｂの各々が、嵌合部５０を中心として回転する方向に延びる形状であれば、容器本体１０に蓋２０を被せる際に第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂが厳密に重なるようにしておかなくてもよいため、処理液吐出量の測定時における事前の準備作業が容易になる。

【0036】

図５に示すように第２の蓋体４０の上面には、十字状の目印５１（以下「上面部目印」）が設けられていることが好ましい。この上面部目印５１は、容器本体１０に蓋２０を被せる際に、周方向における第２の貫通孔Ｂの位置を定めるための目安となるものである。なお、上面部目印５１は十字状であることに限定されない。

【0037】

図８に示すように第１の蓋体３０の側面と第２の蓋体４０の側面の各々には、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂが重なることを示す目印５２、５３（以下「側面部目印」）が設けられていることが好ましい。図８の例における側面部目印５２、５３は、それぞれ鉛直方向に延びる直線である。図８のように第１の蓋体３０の側面部目印５２と第２の蓋体４０の側面部目印５３がずれている場合には、図７のように第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂと第２の蓋体４０の周辺開口部４２ｂがずれた状態にあるが、第２の蓋体４０を回転させて各々の側面部目印５２、５３を一致させることで、周辺開口部３３ｂと周辺開口部４２ｂを重なった状態にすることができる。このような側面部目印５２、５３があることにより容器本体１０に蓋２０を被せる際の蓋２０側の事前の準備を容易に行うことができる。特に、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂが第２の蓋体４０によって隠れることで、第２の蓋体４０をどの程度回転させれば各周辺開口部３３ｂ、４２ｂが重なるかが不明な場合には、側面部目印５２、５３が設けられていることが好ましい。

【0038】

本実施形態における容器１は以上のように構成されている。次に、この容器１を用いた処理液吐出量の測定方法について説明する。

【0039】

まず、処理液吐出量の測定を行うにあたり、測定に用いられる容器１（容器本体１０と蓋２０）の質量を電子天秤などで測定する。

【0040】

次に、図９（ａ）に示すようにスピンチャック１０２に容器本体１０を載置する。この際、容器本体１０の中心とスピンチャック１０２の中心が一致するように容器本体１０を載置する。続いて、ノズルユニット１０８を下降させて処理液ノズル１０９の下端を容器本体１０に近づけ、接液吐出が可能となる処理液ノズル１０９の高さを確認する。その後、ノズルユニット１０８を上昇させる。なお、測定に使用する容器１の厚さに応じた接液吐出が可能となる処理液ノズル１０９の高さを予め把握できていれば、図９（ａ）のような処理液ノズル１０９の高さ調節作業は省略してもよい。

【0041】

次に、図９（ｂ）に示すようにスピンチャック１０２に載置された容器本体１０の上に蓋２０を被せる。この際、第１の蓋体３０の開口部３３と第２の蓋体４０の開口部４２が重なるように第２の蓋体４０を回転させておく。

【0042】

次に、図９（ｃ）に示すようにノズルユニット１０８を下降させ、処理液ノズル１０９を第１の貫通孔Ａと第２の貫通孔Ｂに挿入して容器本体１０の凹部１１にレジスト液を吐出する。なお、図９の例では５本ある処理液ノズル１０９のうちの中央にある処理液ノズル１０９からのみレジスト液を吐出しているが、他の処理液ノズル１０９からレジスト液を吐出してもよい。いずれの処理液ノズル１０９からレジスト液を吐出するかは測定目的によって任意に設定される。

【0043】

次に、図９（ｄ）に示すようにノズルユニット１０８を上昇させて退避させた後、作業者が第２の蓋体４０を回転させて第２の貫通孔Ｂを塞ぐ。

【0044】

その後、作業者はレジスト液が吐出された状態の容器１を電子天秤まで運び、再度容器１の質量を測定する。そして、レジスト液吐出後の容器１の質量と、レジスト液吐出前の容器１の質量差からレジスト液の吐出量を算出する。これにより処理液吐出量の測定が完了する。

【0045】

本実施形態における容器１を用いた場合であっても、図９（ｃ）に示すレジスト液の吐出後からレジスト液の揮発が始まるが、本実施形態における容器１によれば、レジスト液が容器本体１０に吐出された段階では既に容器本体１０に蓋２０が被せられた状態にある。このため、処理液ノズル１０９を退避させた後に容器本体１０に蓋２０を被せる場合に比べ、レジスト液の揮発量を低減させることができ、処理液吐出量の測定を精度良く行うことが可能となる。

【0046】

また、本実施形態における容器１の場合、図９（ｄ）に示すように第２の貫通孔Ｂを塞ぐことができるため、レジスト液の揮発量をより低減することが可能となる。さらに本実施形態における容器１の場合は、容器１から処理液ノズル１０９を退避させた後、第２の蓋体４０を回転させるだけで速やかに第２の貫通孔Ｂを塞ぐことができるため、レジスト液の揮発抑制効果が高まる。

【0047】

なお、本実施形態では第２の蓋体４０に開口部４２を設けているが、開口部４２については設けなくてもよい。この場合、貫通孔Ａ、Ｂは第１の蓋体３０のみを貫通した状態となる。そのような容器１を用いた処理液吐出量の測定は図１０のようにして行われる。詳述すると、図１０（ａ）に示すように処理液ノズル１０９の高さ調節を行った後、図１０（ｂ）に示すようにスピンチャック１０２に第１の蓋体３０のみを被せる。続いて、図１０（ｃ）に示すように第１の蓋体３０の貫通孔Ａ、Ｂに処理液ノズル１０９を挿入し、容器本体１０の凹部１１にレジスト液を吐出する。その後、図１０（ｄ）に示すように第１の蓋体３０の上に第２の蓋体４０を被せて、その状態の容器１の質量測定を行う。このような方法であってもレジスト液の揮発低減効果を得ることができる。

【0048】

また、第２の蓋体４０に開口部４２が設けられていない場合、第１の蓋体３０と第２の蓋体４０の嵌合部５０の位置は例えば図１１のように第１の蓋体３０の中心に位置していなくてもよい。図１１の例では、第２の蓋体４０は長方形状の平板であって、嵌合部５０は、第１の蓋体３０の周辺開口部３３ｂよりも第１の蓋体３０の半径方向外側に位置している。このような構造の容器１の場合、図１０（ｃ）のように第１の蓋体３０の貫通孔Ａ、Ｂに処理液ノズル１０９を挿入してレジスト液を吐出した後、図１１に示す長方形状の第２の蓋体４０を、嵌合部５０を中心として回転させることで、図１０（ｄ）のように貫通孔Ａ、Ｂを塞ぐことができる。すなわち、開口部４２を有しない第２の蓋体４０が第１の蓋体３０の開口部３３を覆うことができる形状であって、処理液ノズル１０９と干渉しない位置に嵌合部５０が設けられた容器１であっても、レジスト液の揮発低減効果を得ることができる。

【0049】

また、図１２に示すように、蓋２０は、第２の蓋体４０を第１の蓋体３０に対して一方向にスライドさせて、第１の蓋体３０の開口部３３を覆う状態と覆わない状態とを切替可能に構成されてもよい。図１２の例においては、図１０（ｃ）のように第１の蓋体３０の貫通孔Ａ、Ｂに処理液ノズル１０９を挿入してレジスト液を吐出した後、第２の蓋体４０をスライドさせることで、図１０（ｄ）のように貫通孔Ａ、Ｂを塞ぐことができる。

【0050】

また、蓋２０を構成する第２の蓋体４０は必須の構成要素ではない。第１の蓋体３０のみであっても、第１の蓋体３０に貫通孔Ａ、Ｂが設けられていれば、容器本体１０を第１の蓋体３０で覆った状態でレジスト液を吐出することができる。つまり、第１の蓋体３０のみであっても、容器本体１０にレジスト液が吐出された段階では、既に容器本体１０が第１の蓋体３０で覆われた状態にあるため、レジスト液の吐出後に蓋２０を被せる場合に比べてレジスト液の揮発量を低減することができる。

【0051】

また、本開示にかかる容器は、半導体ウェハ以外の処理対象基板、例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）基板の液処理装置における処理液吐出量の測定にも適用できる

【0052】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【符号の説明】

【0053】

１ 測定用容器
１０ 容器本体
１１ 凹部
２０ 蓋
１００ レジスト塗布装置
１０２ スピンチャック
１０９ 処理液ノズル
Ａ、Ｂ 貫通孔
Ｗ ウェハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】