ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社
知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-09
(45)【発行日】2024-08-20
(54)【発明の名称】プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/3065 20060101AFI20240813BHJP
【ＦＩ】
H01L21/302 105A
H01L21/302 101C
【請求項の数】
23
(21)【出願番号】P 2023063808
(22)【出願日】2023-04-11
(62)【分割の表示】P 2022136874の分割
【原出願日】2022-08-30
(65)【公開番号】P2024035044
(43)【公開日】2024-03-13
【審査請求日】2023-04-11
【審判番号】
【審判請求日】2024-02-09
【早期審理対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100126480
【弁理士】
【氏名又は名称】佐藤 睦
(74)【代理人】
【識別番号】100140431
【弁理士】
【氏名又は名称】大石 幸雄
(74)【代理人】
【識別番号】100135677
【弁理士】
【氏名又は名称】澤井 光一
(74)【代理人】
【識別番号】100131598
【弁理士】
【氏名又は名称】高村 和宗
(72)【発明者】
【氏名】米澤 隆宏
【合議体】
【審判長】恩田 春香
【審判官】松永 稔
【審判官】棚田 一也
(56)【参考文献】
【文献】特開２０００－２１６１３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００３－５２４７０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－２１３３３９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２１－０８６８４９（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０２１／０９０７９８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００１－０３５９２０（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０２２／１６４８２０（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
H01L21/3065
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられた基板支持部と、前記基板支持部に対向して配置される上部電極又はアンテナを含むプラズマ生成部とを有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜（ただし、有機成分及びシリカ成分を主成分とする有機無機複合膜を除く。）及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素ガスを含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程であって、前記処理ガスに含まれるガスのうち前記フッ化水素ガスの流量が最も多い、工程と、
（ｂ－２）前記プラズマ生成部にソースＲＦ信号を供給して、前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は１ｋＷ以下である、工程と
を含み、
前記ソースＲＦ信号の電力は、前記バイアス信号の電力よりも大きい、
プラズマ処理方法。
【請求項2】
前記マスクは、レジスト膜である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項3】
前記マスクは、ＥＵＶレジスト膜である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項4】
前記開口パターンに含まれる開口の幅は、３０ｎｍ以下である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項5】
前記基板支持部は前記基板を支持する基板支持面において複数のゾーンを含み、前記（ａ）の工程は、前記基板支持部の温度を、前記ゾーン単位で設定する工程を含み、
前記（ｂ）の工程において、前記シリコン含有膜は、前記基板支持部の温度がゾーン単位で設定された状態でエッチングされる、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項6】
前記基板支持部は、１又は複数のヒータを含み、前記基板の温度を調節するように構成された温調モジュールを備え、前記（ｂ）の工程は、前記温調モジュールにより、前記基板支持部の温度が８０℃以下に設定された状態で実行される、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項7】
前記処理ガスは、炭素含有ガスを含む、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項8】
前記処理ガスは、リン含有ガスを含む、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項9】
前記処理ガスは、タングステン含有ガス、ホウ素含有ガス及び酸素含有ガスからなる群から選択される少なくとも１種のガスを含む、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項10】
前記処理ガスは、ハロゲン含有分子を含む、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項11】
前記処理ガスは、不活性ガスを含む、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項12】
前記処理ガスは、フッ素原子の数に対する水素原子数の比が０．３以上である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項13】
前記処理ガスは、炭素原子の数に対する水素原子の数の比が１．０以上である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項14】
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含み、
前記プラズマ処理装置は、
前記基板支持部に対向して、前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、炭素を含む少なくとも１種のガス及び炭素を含まない少なくとも１種のガス（フッ化水素を除く）を含み、
前記炭素を含む少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第１のガス注入部から供給され、
前記炭素を含まない少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第２のガス注入部から供給される、プラズマ処理方法。
【請求項15】
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含み、
前記プラズマ処理装置は、
前記チャンバ内において前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバ内において前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、少なくとも１種の炭素含有ガスを含み、
前記少なくとも１種の炭素含有ガスは、前記第１のガス注入部及び前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給され、
前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量は、前記第１のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量よりも多い、プラズマ処理方法。
【請求項16】
前記（ｂ）において、前記チャンバ内の圧力は５０ｍＴｏｒｒ以下に設定される、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項17】
前記ＥＵＶレジストは、有機膜レジストである、請求項３に記載のプラズマ処理方法。
【請求項18】
前記ＥＵＶレジストは、金属含有レジストである、請求項３に記載のプラズマ処理方法。
【請求項19】
前記シリコン含有膜の厚さは、４０ｎｍ以下である、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項20】
前記シリコン含有膜の厚さは、２０ｎｍ以下である、請求項１７に記載のプラズマ処理方法。
【請求項21】
チャンバと、ガス供給部と、前記チャンバ内に設けられた基板支持部と、前記基板支持部に対向して配置される上部電極又はアンテナを含むプラズマ生成部と、制御部とを備えるプラズマ処理装置であって、前記制御部は、
（ａ）シリコン含有膜（ただし、有機成分及びシリカ成分を主成分とする有機無機複合膜を除く。）及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、基板を前記基板支持部に準備する制御と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する制御と
を実行し、
前記（ｂ）において、前記制御部は、
（ｂ－１）フッ化水素ガスを含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する制御であって、前記処理ガスに含まれるガスのうち前記フッ化水素ガスの流量が最も多い、制御と、
（ｂ－２）前記プラズマ生成部にソースＲＦ信号を供給して、前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する制御と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する制御であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は１ｋＷ以下である、制御と
を実行し、
前記ソースＲＦ信号の電力は、前記バイアス信号の電力よりも大きい、
プラズマ処理装置。
【請求項22】
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられた基板支持部と、前記基板支持部に対向して配置される上部電極又はアンテナを含むプラズマ生成部とを有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素及び酸素含有ガス（ただし、炭酸ガス及び一酸化炭素ガスを除く。）を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記プラズマ生成部にソースＲＦ信号を供給して、前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は１ｋＷ以下である、工程と
を含み、
前記ソースＲＦ信号の電力は、前記バイアス信号の電力よりも大きい、
プラズマ処理方法。
【請求項23】
チャンバと、ガス供給部と、前記チャンバ内に設けられた基板支持部と、前記基板支持部に対向して配置される上部電極又はアンテナを含むプラズマ生成部と、制御部とを備えるプラズマ処理装置であって、前記制御部は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、基板を前記基板支持部に準備する制御と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する制御と
を実行し、
前記（ｂ）において、前記制御部は、
（ｂ－１）フッ化水素及び酸素含有ガス（ただし、炭酸ガス及び一酸化炭素ガスを除く。）を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する制御と、
（ｂ－２）前記プラズマ生成部にソースＲＦ信号を供給して、前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する制御と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する制御であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は１ｋＷ以下である、制御と
を実行し、
前記ソースＲＦ信号の電力は、前記バイアス信号の電力よりも大きい、
プラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示の例示的実施形態は、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
電子デバイスの製造においては、基板のシリコン含有膜のプラズマエッチングが行われている。例えば、特許文献１には、プラズマエッチングにより、誘電体膜をエッチングする方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１６－３９３０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、エッチング膜に開口パターンを適切に形成する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、前記プラズマ処理方法は、（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程とを含み、前記（ｂ）の工程は、（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程とを含むプラズマ処理方法が提供される。
【発明の効果】
【0006】
本開示の例示的実施形態によれば、エッチング膜に開口パターンを適切に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】プラズマ処理システムの構成例を説明するための図である。
【図2】プラズマ処理装置の構成例を説明するための図である。
【図3】本処理方法の一例を示すフローチャートである。
【図4A】基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【図4B】基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【図4C】基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【図4D】基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【図4E】基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本開示の各実施形態について説明する。
【0009】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法が提供される。プラズマ処理方法は、プラズマ処理装置は、チャンバ及びチャンバ内に設けられた基板支持部を有し、プラズマ処理方法は、（ａ）シリコン含有膜及びシリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を基板支持部に準備する工程であって、マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、（ｂ）チャンバ内でプラズマを生成して、シリコン含有膜をエッチングしてシリコン含有膜に開口パターンを形成する工程とを含み、（ｂ）の工程は、（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスをチャンバ内に供給する工程と、（ｂ－２）チャンバ内で処理ガスからプラズマを生成する工程と、（ｂ－３）基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程とを含む。
【0010】
一つの例示的実施形態において、マスクは、レジスト膜である。
【0011】
一つの例示的実施形態において、マスクは、ＥＵＶレジスト膜である。
【0012】
一つの例示的実施形態において、開口パターンに含まれる開口の幅は、３０ｎｍ以下である。
【0013】
一つの例示的実施形態において、（ｂ－２）の工程において、実効値は、１ｋＷ以下である。
【0014】
一つの例示的実施形態において、基板支持部は基板を支持する基板支持面において複数のゾーンを含み、（ａ）の工程は、基板支持部の温度を、ゾーン単位で設定する工程を含み、（ｂ）の工程において、シリコン含有膜は、基板支持部の温度がゾーン単位で設定された状態でエッチングされる。
【0015】
一つの例示的実施形態において、基板支持部は、１又は複数のヒータを含み、基板の温度を調節するように構成された温調モジュールを備え、（ｂ）の工程は、温調モジュールにより、基板支持体の温度が８０℃以下に設定された状態で実行される。
【0016】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、炭素含有ガスを含む。
【0017】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、リン含有ガスを含む。
【0018】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、タングステン含有ガス、ホウ素含有ガス及び酸素含有ガスからなる群から選択される少なくとも１種のガスを含む。
【0019】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、ハロゲン含有分子を含む。
【0020】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、不活性ガスを含む。
【0021】
一つの例示的実施形態において、処理ガスは、フッ化水素ガスを含む。
【0022】
一つの例示的実施形態において、処理ガスに含まれるガスのうち、フッ化水素ガスの流量が最も多い。
【0023】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置は、基板支持部に対向して、チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、チャンバの側面に配置された第２のガス注入部とを有し、処理ガスは、炭素を含む少なくとも１種のガス及び炭素を含まない少なくとも１種のガスを含み、炭素を含む少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、第１のガス注入部から供給され、炭素を含まない少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、第２のガス注入部から供給される。
【0024】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置は、チャンバ内においてチャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、チャンバ内においてチャンバの側面に配置された第２のガス注入部とを有し、処理ガスは、少なくとも１種の炭素含有ガスを含み、少なくとも１種の炭素含有ガスは、第１のガス注入部及び第２のガス注入部からチャンバ内に供給され、第２のガス注入部からチャンバ内に供給される少なくとも１種の炭素含有ガスの流量は、第１のガス注入部からチャンバ内に供給される少なくとも１種の炭素含有ガスの流量よりも多い。
【0025】
一つの例示的実施形態において、（ｂ）において、チャンバ内の圧力は５０ｍＴｏｒｒ以下に設定される。
【0026】
一つの例示的実施形態において、ＥＵＶレジストは、有機膜レジストである。
【0027】
一つの例示的実施形態において、ＥＵＶレジストは、金属含有レジストである。
【0028】
一つの例示的実施形態において、シリコン含有膜の厚さは、４０ｎｍ以下である。
【0029】
一つの例示的実施形態において、シリコン含有膜の厚さは、２０ｎｍ以下である。
【0030】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法が提供される。プラズマ処理装置は、チャンバ及びチャンバ内に設けられた基板支持部を有し、プラズマ処理方法は、（ａ）シリコン含有膜及びシリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を基板支持部に準備する工程であって、マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、（ｂ）チャンバ内でプラズマを生成して、シリコン含有膜をエッチングしてシリコン含有膜に開口パターンを形成する工程とを含み、（ａ）の工程において、開口パターンに含まれる開口の幅は３０ｎｍ以下であり、（ｂ）の工程は、（ｂ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスをチャンバ内に供給する工程と、（ｂ－２）チャンバ内で処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程と、（ｂ－３）基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程とを含む。
【0031】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法が提供される。プラズマ処理装置は、チャンバ及びチャンバ内に設けられた基板支持部を有し、プラズマ処理方法は、（ａ）第１のシリコン含有膜と、第１のシリコン含有膜上の炭素含有膜と、炭素含有膜上の第２のシリコン含有膜と、第２のシリコン含有膜上のレジスト膜とを有する基板を準備する工程であって、レジスト膜は、開口幅が３０ｎｍ以下の開口パターンを含む、準備工程と、（ｂ）開口パターンを介して、第２のシリコン含有膜をエッチングし、第２のシリコン含有膜に第１の凹部を形成する工程と、（ｃ）第１の凹部を介して、炭素含有膜をエッチングし、炭素含有膜に第２の凹部を形成する工程と、（ｄ）第２の凹部を介して、第１のシリコン含有膜をエッチングし、第１のエッチング含有膜に第３の凹部を形成する工程と、を含み、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、基板支持部にバイアス信号が供給され、（ｄ）は、（ｄ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスをチャンバ内に供給する工程と、（ｄ－２）チャンバ内で処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程とを含む。
【0032】
一つの例示的実施形態において、バイアス信号は、２ｋＷ以下の実効値を有するＲＦ信号である。
【0033】
一つの例示的実施形態において、バイアス信号は、パルス化されたバイアスＤＣ信号である。
【0034】
一つの例示的実施形態において、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、連続する２つ以上の工程に亘って、プラズマが連続して生成される。
【0035】
一つの例示的実施形態において、第１のシリコン含有膜又は第２のシリコン含有膜の厚さは４０ｎｍ以下である。
【0036】
一つの例示的実施形態において、レジスト膜が有する開口パターンは欠陥を含む。
【0037】
一つの例示的実施形態において、チャンバ、ガス供給部、プラズマ生成部、チャンバ内に設けられた基板支持部及び制御部を備えるプラズマ処理装置が提供される。プラズマ処理装置において、制御部は、（ａ）シリコン含有膜及びシリコン含有膜上のマスク膜を有する基板であって、マスク膜は開口パターンを含む、基板を基板支持部に準備する制御と、（ｂ）チャンバ内でプラズマを生成して、シリコン含有膜をエッチングしてシリコン含有膜に開口パターンを形成する制御とを実行し、（ｂ）において、制御部は、（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスをチャンバ内に供給する制御と、（ｂ－２）チャンバ内で処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する制御と、（ｂ－３）基板支持部にバイアス信号を供給する制御であって、バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、制御とを実行する。
【0038】
以下、図面を参照して、本開示の各実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一または同様の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づいて上下左右等の位置関係を説明する。図面の寸法比率は実際の比率を示すものではなく、また、実際の比率は図示の比率に限られるものではない。
【0039】
＜プラズマ処理システムの一例＞
図１は、プラズマ処理システムの構成例を説明するための図である。一実施形態において、プラズマ処理システムは、プラズマ処理装置１及び制御部２を含む。プラズマ処理システムは、基板処理システムの一例であり、プラズマ処理装置１は、基板処理装置の一例である。プラズマ処理装置１は、プラズマ処理チャンバ１０、基板支持部１１及びプラズマ生成部１２を含む。プラズマ処理チャンバ１０は、プラズマ処理空間を有する。また、プラズマ処理チャンバ１０は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間に供給するための少なくとも１つのガス供給口と、プラズマ処理空間からガスを排出するための少なくとも１つのガス排出口とを有する。ガス供給口は、後述するガス供給部２０に接続され、ガス排出口は、後述する排気システム４０に接続される。基板支持部１１は、プラズマ処理空間内に配置され、基板を支持するための基板支持面を有する。
図１は、プラズマ処理システムの構成例を説明するための図である。一実施形態において、プラズマ処理システムは、プラズマ処理装置１及び制御部２を含む。プラズマ処理システムは、基板処理システムの一例であり、プラズマ処理装置１は、基板処理装置の一例である。プラズマ処理装置１は、プラズマ処理チャンバ１０、基板支持部１１及びプラズマ生成部１２を含む。プラズマ処理チャンバ１０は、プラズマ処理空間を有する。また、プラズマ処理チャンバ１０は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間に供給するための少なくとも１つのガス供給口と、プラズマ処理空間からガスを排出するための少なくとも１つのガス排出口とを有する。ガス供給口は、後述するガス供給部２０に接続され、ガス排出口は、後述する排気システム４０に接続される。基板支持部１１は、プラズマ処理空間内に配置され、基板を支持するための基板支持面を有する。
【0040】
プラズマ生成部１２は、プラズマ処理空間内に供給された少なくとも１つの処理ガスからプラズマを生成するように構成される。プラズマ処理空間において形成されるプラズマは、容量結合プラズマ（ＣＣＰ；Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）、ＥＣＲプラズマ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ－Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ－ｒｅｓｏｎａｎｃｅ ｐｌａｓｍａ）、ヘリコン波励起プラズマ（ＨＷＰ：Ｈｅｌｉｃｏｎ Ｗａｖｅ Ｐｌａｓｍａ）、又は、表面波プラズマ（ＳＷＰ：Ｓｕｒｆａｃｅ Ｗａｖｅ Ｐｌａｓｍａ）等であってもよい。また、ＡＣ（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ Ｃｕｒｒｅｎｔ）プラズマ生成部及びＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）プラズマ生成部を含む、種々のタイプのプラズマ生成部が用いられてもよい。一実施形態において、ＡＣプラズマ生成部で用いられるＡＣ信号（ＡＣ電力）は、１００ｋＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内の周波数を有する。従って、ＡＣ信号は、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）信号及びマイクロ波信号を含む。一実施形態において、ＲＦ信号は、１００ｋＨｚ～１５０ＭＨｚの範囲内の周波数を有する。
【0041】
＜プラズマ処理装置の一例＞
図２は、プラズマ処理システムの構成例を説明するための図である。プラズマ処理システムは、誘導結合型のプラズマ処理装置１及び制御部２を含む。誘導結合型のプラズマ処理装置１は、プラズマ処理チャンバ１０、ガス供給部２０、電源３０及び排気システム４０を含む。プラズマ処理チャンバ１０は、誘電体窓を含む。また、プラズマ処理装置１は、基板支持部１１、ガス導入部及びアンテナ１４を含む。基板支持部１１は、プラズマ処理チャンバ１０内に配置される。アンテナ１４は、プラズマ処理チャンバ１０上又はその上方（すなわち誘電体窓１０１上又はその上方）に配置される。プラズマ処理チャンバ１０は、誘電体窓１０１、プラズマ処理チャンバ１０の側壁１０２及び基板支持部１１により規定されたプラズマ処理空間１０ｓを有する。プラズマ処理チャンバ１０は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間１０ｓに供給するための少なくとも１つのガス供給口と、プラズマ処理空間からガスを排出するための少なくとも１つのガス排出口とを有する。プラズマ処理チャンバ１０は接地される。
図２は、プラズマ処理システムの構成例を説明するための図である。プラズマ処理システムは、誘導結合型のプラズマ処理装置１及び制御部２を含む。誘導結合型のプラズマ処理装置１は、プラズマ処理チャンバ１０、ガス供給部２０、電源３０及び排気システム４０を含む。プラズマ処理チャンバ１０は、誘電体窓を含む。また、プラズマ処理装置１は、基板支持部１１、ガス導入部及びアンテナ１４を含む。基板支持部１１は、プラズマ処理チャンバ１０内に配置される。アンテナ１４は、プラズマ処理チャンバ１０上又はその上方（すなわち誘電体窓１０１上又はその上方）に配置される。プラズマ処理チャンバ１０は、誘電体窓１０１、プラズマ処理チャンバ１０の側壁１０２及び基板支持部１１により規定されたプラズマ処理空間１０ｓを有する。プラズマ処理チャンバ１０は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間１０ｓに供給するための少なくとも１つのガス供給口と、プラズマ処理空間からガスを排出するための少なくとも１つのガス排出口とを有する。プラズマ処理チャンバ１０は接地される。
【0042】
基板支持部１１は、本体部１１１及びリングアセンブリ１１２を含む。本体部１１１は、基板Ｗを支持するための中央領域１１１ａと、リングアセンブリ１１２を支持するための環状領域１１１ｂとを有する。ウェハは基板Ｗの一例である。本体部１１１の環状領域１１１ｂは、平面視で本体部１１１の中央領域１１１ａを囲んでいる。基板Ｗは、本体部１１１の中央領域１１１ａ上に配置され、リングアセンブリ１１２は、本体部１１１の中央領域１１１ａ上の基板Ｗを囲むように本体部１１１の環状領域１１１ｂ上に配置される。従って、中央領域１１１ａは、基板Ｗを支持するための基板支持面とも呼ばれ、環状領域１１１ｂは、リングアセンブリ１１２を支持するためのリング支持面とも呼ばれる。
【0043】
一実施形態において、本体部１１１は、基台１１１０及び静電チャック１１１１を含む。基台１１１０は、導電性部材を含む。基台１１１０の導電性部材はバイアス電極として機能し得る。静電チャック１１１１は、基台１１１０の上に配置される。静電チャック１１１１は、セラミック部材１１１１ａとセラミック部材１１１１ａ内に配置される静電電極１１１１ｂとを含む。セラミック部材１１１１ａは、中央領域１１１ａを有する。一実施形態において、セラミック部材１１１１ａは、環状領域１１１ｂも有する。なお、環状静電チャックや環状絶縁部材のような、静電チャック１１１１を囲む他の部材が環状領域１１１ｂを有してもよい。この場合、リングアセンブリ１１２は、環状静電チャック又は環状絶縁部材の上に配置されてもよく、静電チャック１１１１と環状絶縁部材の両方の上に配置されてもよい。また、後述するＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）電源３１及び／又はＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）電源３２に結合される少なくとも１つのＲＦ／ＤＣ電極がセラミック部材１１１１ａ内に配置されてもよい。この場合、少なくとも１つのＲＦ／ＤＣ電極がバイアス電極として機能する。なお、基台１１１０の導電性部材と少なくとも１つのＲＦ／ＤＣ電極とが複数のバイアス電極として機能してもよい。また、静電電極１１１１ｂがバイアス電極として機能してもよい。従って、基板支持部１１は、少なくとも１つのバイアス電極を含む。
【0044】
リングアセンブリ１１２は、１又は複数の環状部材を含む。一実施形態において、１又は複数の環状部材は、１又は複数のエッジリングと少なくとも１つのカバーリングとを含む。エッジリングは、導電性材料又は絶縁材料で形成され、カバーリングは、絶縁材料で形成される。
【0045】
また、基板支持部１１は、静電チャック１１１１、リングアセンブリ１１２及び基板のうち少なくとも１つをターゲット温度に調節するように構成される温調モジュールを含んでもよい。温調モジュールは、ヒータ、伝熱媒体、流路１１１０ａ、又はこれらの組み合わせを含んでもよい。流路１１１０ａには、ブラインやガスのような伝熱流体が流れる。一実施形態において、流路１１１０ａが基台１１１０内に形成され、１又は複数のヒータが静電チャック１１１１のセラミック部材１１１１ａ内に配置される。また、基板支持部１１は、基板Ｗの裏面と中央領域１１１ａとの間の間隙に伝熱ガスを供給するように構成された伝熱ガス供給部を含んでもよい。
【0046】
ガス導入部は、ガス供給部２０からの少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間１０ｓ内に導入するように構成される。一実施形態において、ガス導入部は、中央ガス注入部（ＣＧＩ：Ｃｅｎｔｅｒ Ｇａｓ Ｉｎｊｅｃｔｏｒ）１３を含む。中央ガス注入部１３１は、基板支持部１１の上方に配置され、誘電体窓１０１に形成された中央開口部に取り付けられる。中央ガス注入部１３１は、少なくとも１つのガス供給口１３１ａ、少なくとも１つのガス流路１３１ｂ、及び少なくとも１つのガス導入口１３１ｃを有する。ガス供給口１３１ａに供給された処理ガスは、ガス流路１３１ｂを通過してガス導入口１３１ｃからプラズマ処理空間１０ｓ内に導入される。なお、ガス導入部は、中央ガス注入部１３１に加えて又はその代わりに、側壁１０２に形成された１又は複数の開口部に取り付けられる１又は複数のサイドガス注入部（ＳＧＩ：Ｓｉｄｅ Ｇａｓ Ｉｎｊｅｃｔｏｒ）を含んでもよい。
【0047】
ガス導入部は、サイドガス注入部の一例として、周辺ガス注入部５２を含んでよい。周辺ガス注入部５２は、複数の周辺注入口５２ｉを含んでいる。複数の周辺注入口５２ｉは、主として基板Ｗの縁部に向けてガスを供給する。複数の周辺注入口５２ｉは、基板Ｗの縁部、又は、基板Ｗを支持する中央領域１１１ａの縁部に向けて開口している。複数の周辺注入口５２ｉは、ガス導入口１３１ｃと同程度の高さ位置に配置されてよい。また、複数の周辺注入口５２ｉは、ガス導入口１３１ｃよりも下方、且つ、基板支持部１１の上方において、基板支持部１１の周方向に沿って配置されてもよい。即ち、複数の周辺注入口５２ｉは、誘電体窓１０１の直下よりも電子温度の低い領域（プラズマ拡散領域）において、ガス流路１３１ｂの軸線を中心として環状に配列されている。
【0048】
ガス供給部２０は、少なくとも１つのガスソース２１及び少なくとも１つの流量制御器２２を含んでもよい。一実施形態において、ガス供給部２０は、少なくとも１つの処理ガスを、それぞれに対応のガスソース２１からそれぞれに対応の流量制御器２２を介してガス導入部に供給するように構成される。各流量制御器２２は、例えばマスフローコントローラ又は圧力制御式の流量制御器を含んでもよい。さらに、ガス供給部２０は、少なくとも１つの処理ガスの流量を変調又はパルス化する１又はそれ以上の流量変調デバイスを含んでもよい。
【0049】
電源３０は、少なくとも１つのインピーダンス整合回路を介してプラズマ処理チャンバ１０に結合されるＲＦ電源３１を含む。ＲＦ電源３１は、少なくとも１つのＲＦ信号（ＲＦ電力）を少なくとも１つのバイアス電極及びアンテナ１４に供給するように構成される。これにより、プラズマ処理空間１０ｓに供給された少なくとも１つの処理ガスからプラズマが形成される。従って、ＲＦ電源３１は、プラズマ処理チャンバ１０において１又はそれ以上の処理ガスからプラズマを生成するように構成されるプラズマ生成部の少なくとも一部として機能し得る。また、バイアスＲＦ信号を少なくとも１つのバイアス電極に供給することにより、基板Ｗにバイアス電位が発生し、形成されたプラズマ中のイオンを基板Ｗに引き込むことができる。
【0050】
一実施形態において、ＲＦ電源３１は、第１のＲＦ生成部３１ａ及び第２のＲＦ生成部３１ｂを含む。第１のＲＦ生成部３１ａは、アンテナ１４に結合され、少なくとも１つのインピーダンス整合回路を介してプラズマ生成用のソースＲＦ信号（ソースＲＦ電力）を生成するように構成される。一実施形態において、ソースＲＦ信号は、１０ＭＨｚ～１５０ＭＨｚの範囲内の周波数を有する。一実施形態において、第１のＲＦ生成部３１ａは、異なる周波数を有する複数のソースＲＦ信号を生成するように構成されてもよい。生成された１又は複数のソースＲＦ信号は、アンテナ１４に供給される。
【0051】
第２のＲＦ生成部３１ｂは、少なくとも１つのインピーダンス整合回路を介して少なくとも１つのバイアス電極に結合され、バイアスＲＦ信号（バイアスＲＦ電力）を生成するように構成される。バイアスＲＦ信号の周波数は、ソースＲＦ信号の周波数と同じであっても異なっていてもよい。一実施形態において、バイアスＲＦ信号は、ソースＲＦ信号の周波数よりも低い周波数を有する。一実施形態において、バイアスＲＦ信号は、１００ｋＨｚ～６０ＭＨｚの範囲内の周波数を有する。一実施形態において、第２のＲＦ生成部３１ｂは、異なる周波数を有する複数のバイアスＲＦ信号を生成するように構成されてもよい。生成された１又は複数のバイアスＲＦ信号は、少なくとも１つのバイアス電極に供給される。また、種々の実施形態において、ソースＲＦ信号及びバイアスＲＦ信号のうち少なくとも１つがパルス化されてもよい。
【0052】
また、電源３０は、プラズマ処理チャンバ１０に結合されるＤＣ電源３２を含んでもよい。ＤＣ電源３２は、バイアスＤＣ生成部３２ａを含む。一実施形態において、バイアスＤＣ生成部３２ａは、少なくとも１つのバイアス電極に接続され、バイアスＤＣ信号を生成するように構成される。生成されたバイアスＤＣ信号は、少なくとも１つのバイアス電極に印加される。
【0053】
種々の実施形態において、バイアスＤＣ信号は、パルス化されてもよい。この場合、電圧パルスのシーケンスが少なくとも１つのバイアス電極に印加される。電圧パルスは、矩形、台形、三角形又はこれらの組み合わせのパルス波形を有してもよい。一実施形態において、ＤＣ信号から電圧パルスのシーケンスを生成するための波形生成部がバイアスＤＣ生成部３２ａと少なくとも１つのバイアス電極との間に接続される。従って、バイアスＤＣ生成部３２ａ及び波形生成部は、電圧パルス生成部を構成する。電圧パルスは、正の極性を有してもよく、負の極性を有してもよい。また、電圧パルスのシーケンスは、１周期内に１又は複数の正極性電圧パルスと１又は複数の負極性電圧パルスとを含んでもよい。なお、バイアスＤＣ生成部３２ａは、ＲＦ電源３１に加えて設けられてもよく、第２のＲＦ生成部３１ｂに代えて設けられてもよい。
【0054】
アンテナ１４は、１又は複数のコイルを含む。一実施形態において、アンテナ１４は、同軸上に配置された外側コイル及び内側コイルを含んでもよい。この場合、ＲＦ電源３１は、外側コイル及び内側コイルの双方に接続されてもよく、外側コイル及び内側コイルのうちいずれか一方に接続されてもよい。前者の場合、同一のＲＦ生成部が外側コイル及び内側コイルの双方に接続されてもよく、別個のＲＦ生成部が外側コイル及び内側コイルに別々に接続されてもよい。
【0055】
排気システム４０は、例えばプラズマ処理チャンバ１０の底部に設けられたガス排出口１０ｅに接続され得る。排気システム４０は、圧力調整弁及び真空ポンプを含んでもよい。圧力調整弁によって、プラズマ処理空間１０ｓ内の圧力が調整される。真空ポンプは、ターボ分子ポンプ、ドライポンプ又はこれらの組み合わせを含んでもよい。
【0056】
図３は、一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理方法（以下「本処理方法」という。）の一例を示すフローチャートである。また、図４Ａから図４Ｅは、基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。本処理方法は、例えば、図２に示すプラズマ処理装置１を用いて、基板Ｗに対して実行される。以下、各図を参照しつつ、図４Ａに示す基板Ｗに対して、図３に示す本処理方法を実行する例を説明する。なお、以下の例では、図１及び図２に示す制御部２が、図２に示すプラズマ処理装置１の各部を制御して、本処理方法が実行される。
【0057】
（工程ＳＴ１：基板の準備）
工程ＳＴ１において、基板Ｗをプラズマ処理チャンバ１０のプラズマ処理空間１０ｓ内に準備する。工程ＳＴ１において、基板Ｗは、少なくとも、基板支持部１１に配置され、静電チャック１１１１により保持される。基板Ｗが有する各構成を形成する工程の少なくとも一部は、工程ＳＴ１の一部として、プラズマ処理空間１０ｓ内で行われてよい。また、基板Ｗの各構成の全部又は一部がプラズマ処理装置１の外部の装置又はチャンバで形成された後、基板Ｗがプラズマ処理空間１０ｓ内に搬入され、基板支持部１１に配置されてもよい。
工程ＳＴ１において、基板Ｗをプラズマ処理チャンバ１０のプラズマ処理空間１０ｓ内に準備する。工程ＳＴ１において、基板Ｗは、少なくとも、基板支持部１１に配置され、静電チャック１１１１により保持される。基板Ｗが有する各構成を形成する工程の少なくとも一部は、工程ＳＴ１の一部として、プラズマ処理空間１０ｓ内で行われてよい。また、基板Ｗの各構成の全部又は一部がプラズマ処理装置１の外部の装置又はチャンバで形成された後、基板Ｗがプラズマ処理空間１０ｓ内に搬入され、基板支持部１１に配置されてもよい。
【0058】
工程ＳＴ１は、基板支持部１１の温度を設定する工程を含んでよい。基板支持部１１の温度を設定するために、制御部２は温調モジュールを制御し得る。一例として、制御部２は、基板支持部１１の温度を８０℃以下、７０℃以下又は６０℃以下に設定してよい。また、基板支持部１１は、基板支持面の平面視において、複数のソーンを含んでよい。そして、制御部２は、基板支持部１１の温度を、各ゾーン単位で設定し、制御してよい。
【0059】
一例として、プラズマ処理チャンバ１０内に準備される基板Ｗは、図４Ａに示す断面構造を有する。基板Ｗは、下地膜ＵＦ、金属化合物膜ＭＦ、シリコン含有膜ＳＦ－１、炭素含有膜ＣＦ、シリコン含有膜ＳＦ－２及びマスク膜ＭＫを含む。マスク膜ＭＫは、マスク膜及びＥＵＶレジスト膜の一例である。なお、シリコン含有膜ＳＦ－１及びＳＦ－２を総称して「シリコン含有膜ＳＦ」ともいう。
【0060】
下地膜ＵＦは、シリコンウェハ上に形成された有機膜、誘電体膜、金属膜、半導体膜等であってよい。また、下地膜ＵＦは、シリコンウェハであってよい。また、下地膜ＵＦは、複数の膜が積層されて構成されてよい。
【0061】
金属化合物膜ＭＦは、金属又は半導体を含む膜である。一例として、金属化合物ＭＦは、多結晶シリコン膜、窒化チタン（ＴｉＮ）膜、タングステンカーバイド（ＷＣ）膜又はタングステンシリサイド（ＷＳｉ）膜であり得る。
【0062】
シリコン含有膜ＳＦ－１及びＳＦ－２は、シリコン（Ｓｉ）を含有する膜であり得る。シリコン含有膜ＳＦは、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜を含み得る。一例として、シリコン含有膜は、ＳｉＯ2膜又はＳｉＯＮ膜である。シリコン含有膜は、シリコンを含有する膜であれば、他の膜種を有する膜であってもよい。また、シリコン含有膜ＳＦは、シリコン膜（例えばアモルファスシリコン膜又は多結晶シリコン膜）を含んでいてもよい。また、シリコン含有膜ＳＦは、シリコン窒化膜、多結晶シリコン膜、炭素含有シリコン膜、及び低誘電率膜のうち少なくとも一つを含んでいてよい。炭素含有シリコン膜は、ＳｉＣ膜及び／又はＳｉＯＣ膜を含み得る。低誘電率膜は、シリコンを含有し、層間絶縁膜として用いられ得る。また、シリコン含有膜ＳＦは、スピンオングラス（ＳＯＧ）膜、シリコン含有反射防止（ＳｉＡＲＣ）膜であってよい。また、シリコン含有膜ＳＦ－１は、半金属及び／又は金属を含んでよい。一例として、シリコン含有膜ＳＦ－１は、ＳｉＯ2膜、ホウ化シリコン膜（ＢＳｉ）、タングステンシリコン膜（ＷＳｉ）又はＳｉＮ膜であり得る。また、一例として、シリコン含有膜ＳＦ－２は、ＳＯＧ膜、ＳｉＯＮ膜、ＳｉＣ膜、ＳｉＯＣ膜又はアモルファスシリコン膜であり得る。
【0063】
また、シリコン含有膜ＳＦは、互いに異なる膜種を有する二つ以上のシリコン含有膜を含んでいてもよい。二つ以上のシリコン含有膜は、シリコン酸化膜及びシリコン窒化膜を含んでいてもよい。シリコン含有膜ＳＦは、例えば、交互に積層された一つ以上のシリコン酸化膜及び一つ以上のシリコン窒化膜を含む多層膜であってもよい。シリコン含有膜ＳＦは、交互に積層された複数のシリコン酸化膜及び複数のシリコン窒化膜を含む多層膜であってもよい。或いは、二つ以上のシリコン含有膜は、シリコン酸化膜及びシリコン膜を含んでいてもよい。シリコン含有膜ＳＦは、例えば、交互に積層された一つ以上のシリコン酸化膜及び一つ以上のシリコン膜を含む多層膜であってもよい。シリコン含有膜ＳＦは、交互に積層された複数のシリコン酸化膜及び複数の多結晶シリコン膜を含む多層膜であってもよい。或いは、二つ以上のシリコン含有膜は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、及びシリコン膜を含んでいてもよい。
【0064】
また、シリコン含有膜ＳＦ－１は、シリコン含有膜ＳＦ－２よりも、エッチング耐性の高い膜であってよい。当該エッチング耐性は、例えば、フルオロカーボンガス及び／又はハイドロフルオロカーボンガスを処理ガスとするエッチングにおける耐性であってよい。なお、シリコン含有膜ＳＦ－２は、シリコン含有膜ＳＦ－１よりも薄くてよい。また、シリコン含有膜ＳＦ－２は、マスク膜ＭＫ及び／又は炭素含有膜ＣＦよりも薄くてよい。
【0065】
炭素含有膜ＣＦは、炭素を含む膜であり得る。炭素含有膜ＣＦは、有機材料を含む膜であってよく、また、無機材料を含む膜であってよい。一例として、炭素含有膜ＣＦは、スピンオンカーボン（ＳＯＣ膜）又はアモルファスカーボン（ＡＣＬ）膜である。
【0066】
マスク膜ＭＫは、金属含有膜であり得る。当該金属含有膜は、スズ含有膜であってよい。マスク膜ＭＫは、工程ＳＴ２においてシリコン含有膜ＳＦ－２のエッチングレートよりも低いエッチングレートを有する材料から形成される。マスク膜ＭＫは、レジスト膜であってよく、ＥＵＶ用のフォトレジスト膜であってよい。一例として、ＥＵＶ用のフォトレジスト膜は、スズ含有膜であり得る。一例として、スズ含有膜は、酸化スズ及び／又は水酸化スズを含み得る。また、一例として、ＥＵＶ用のフォトレジスト膜は、ヨウ素（Ｉ）、テルル（Ｔｅ）、アンチモン（Ｓｂ）、インジウム（Ｉｎ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ヒ素（Ａｓ）及びハフニウム（Ｈｆ）からなる群から選択された少なくとも１つの金属を含有する金属含有膜であり得る。
【0067】
マスク膜ＭＫは、シリコン含有膜ＳＦ－２上に少なくとも１つの開口ＯＰを規定する開口パターンを有する。マスク膜ＭＫは、マスク膜ＭＫの外周以外において、少なくとも１つの側壁を有する。開口ＯＰは、当該側壁によって規定される閉じた空間である。マスク膜ＭＫによって規定される少なくとも１つの開口ＯＰは、基板Ｗの平面視において、任意の形状を有してよい。当該形状は、円形状、楕円形状、矩形形状、線形状等を含み得る。マスク膜ＭＫが有する開口パターンは、基板Ｗの平面視において、ホール形状を有する複数の開口ＯＰが規則的に配置されたアレイパターンを含み得る。当該ホール形状は、円形状、楕円形状、矩形形状等を含み得る。また、マスク膜ＭＫが有する開口パターンは、基板Ｗの平面視において、線形状を有する複数の開口ＯＰが一定の間隔で並ぶラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）パターンを含み得る。開口ＯＰのピッチ（マスク膜ＭＫの中心間距離）は１００ｎｍ以下であってよい。あるいは、開口ＯＰの幅は、３０ｎｍ以下であってよい。当該幅は、開口ＯＰがホール形状を有する場合、当該ホールの直径であってよい。また、当該幅は、開口パターンがラインアンドスペースパターンを有する場合、当該ライン又は当該スペースの幅であってよい。また、シリコン含有膜ＳＦ－１又はＳＦ－２の厚さは、４０ｎｍ以下又は２０ｎｍ以下であってよい。
【0068】
マスク膜ＭＫによって規定される開口ＯＰにおいて、シリコン含有膜ＳＦ－２は、その表面（上面）が露出している。後述する工程ＳＴ２において、マスク膜ＭＫによって規定された開口ＯＰの形状に基づいて、シリコン含有膜ＳＦ－２、炭素含有膜ＣＦ、シリコン含有膜ＳＦ－１及び金属化合物膜ＭＦがエッチングされる。そして、各膜にホールやトレンチ等の凹部ＲＣが形成される。各膜に形成される１つ以上の凹部ＲＣの各々は、基板Ｗの平面視において、１つ以上の開口ＯＰの各々に基づいた形状を有する。
【0069】
なお、マスク膜ＭＫが有する開口パターンは、欠陥を含み得る。一例として、当該開口パターンの欠陥は、マスク膜ＭＫに開口パターンを形成した時に発生したエッチング残渣を含み得る。エッチング残渣は、開口ＯＰを規定するマスク膜ＭＫの側壁や、開口ＯＰの底部（すなわち、シリコン含有膜ＳＦ－２の表面）に存在し得る。
【0070】
（工程ＳＴ２：エッチングの実行）
工程ＳＴ２において、基板Ｗにおいてマスク膜ＭＫの下方に配置された各膜をエッチングする。工程ＳＴ２は、シリコン含有膜ＳＦ－２をエッチングする工程（工程ＳＴ２１）、炭素含有膜ＣＦをエッチングする工程（工程ＳＴ２２）、シリコン含有膜ＳＦ－１をエッチングする工程（工程ＳＴ２３）及び金属化合物膜ＭＦをエッチングする工程（工程ＳＴ２４）を有する。
工程ＳＴ２において、基板Ｗにおいてマスク膜ＭＫの下方に配置された各膜をエッチングする。工程ＳＴ２は、シリコン含有膜ＳＦ－２をエッチングする工程（工程ＳＴ２１）、炭素含有膜ＣＦをエッチングする工程（工程ＳＴ２２）、シリコン含有膜ＳＦ－１をエッチングする工程（工程ＳＴ２３）及び金属化合物膜ＭＦをエッチングする工程（工程ＳＴ２４）を有する。
【0071】
工程ＳＴ２の各工程は、プラズマ処理チャンバ１０内に処理ガスを供給する工程、ソースＲＦ信号を供給する工程及びバイアスＲＦ信号を供給する工程を含み得る。当該各工程において、処理ガスからプラズマの活性種（イオン、ラジカル）が生成され、当該活性種によって各膜がエッチングされる。なお、処理ガス、ソースＲＦ信号及びバイアス信号の供給が開始する順番は任意である。工程ＳＴ２の各工程において供給されるバイアス信号が有する電力の実効値（以下「電力」ともいう。）は、２ｋＷ以下又は１ｋＷ以下であり得る。なお、工程ＳＴ２における連続する２つ以上の工程に亘って、プラズマ処理チャンバ１０内でプラズマが連続して生成されてよい。すなわち、連続する２つ以上の工程間において、プラズマが途切れることなく生成されてよい。これにより、プラズマ処理チャンバ１０内に発生するパーティクルを低減することができる。
【0072】
工程ＳＴ２の各工程において、処理ガスがプラズマ処理チャンバ１０内に供給される。処理ガスの種類は、各工程においてエッチングの対象となる膜の材料、当該膜の厚さ、当該膜の上方及び／又は下方にある膜の材料、マスクとなる膜が有するパターン等に基づいて、適宜選択されてよい。
【0073】
工程ＳＴ２の各工程において、プラズマ処理チャンバ１０内の圧力は、適宜設定されてよい。一例として、プラズマ処理チャンバ１０内の圧力は、５０ｍＴｏｒｒ以下、３０ｍＴｏｒｒ以下又は１０ｍＴｏｒｒ以下に設定され得る。
【0074】
（工程ＳＴ２１：シリコン含有膜ＳＦ－２のエッチング）
次に、図４Ｂに示すように、工程ＳＴ２１において、シリコン含有膜ＳＦ－２をエッチングする。一例として、シリコン含有膜ＳＦ－２は、フルオロカーボンガス及び／又はハイドロフルオロカーボンガスを含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。工程ＳＴ２１において、当該処理ガスから生成されたプラズマを用いて基板Ｗをエッチングすると、マスク膜ＭＫをマスクとして、シリコン含有膜ＳＦ－２がエッチングされ、シリコン含有膜ＳＦ－２に凹部ＲＣが形成される。また、凹部ＲＣの底部において、炭素含有膜ＣＦが露出する。なお、シリコン含有膜ＳＦ－２のエッチングにおいて、マスク膜ＭＫの一部がエッチングされてよい。また、マスク膜ＭＫの開口パターンが、エッチング残渣を含む欠陥を含む場合、シリコン含有膜ＳＦ－２は、当該エッチング残渣をマスクとしてエッチングされ得る。すなわち、凹部ＲＣによってシリコン含有膜ＳＦ－２に形成されるパターンも、当該エッチング残渣に基づく欠陥を含み得る。
次に、図４Ｂに示すように、工程ＳＴ２１において、シリコン含有膜ＳＦ－２をエッチングする。一例として、シリコン含有膜ＳＦ－２は、フルオロカーボンガス及び／又はハイドロフルオロカーボンガスを含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。工程ＳＴ２１において、当該処理ガスから生成されたプラズマを用いて基板Ｗをエッチングすると、マスク膜ＭＫをマスクとして、シリコン含有膜ＳＦ－２がエッチングされ、シリコン含有膜ＳＦ－２に凹部ＲＣが形成される。また、凹部ＲＣの底部において、炭素含有膜ＣＦが露出する。なお、シリコン含有膜ＳＦ－２のエッチングにおいて、マスク膜ＭＫの一部がエッチングされてよい。また、マスク膜ＭＫの開口パターンが、エッチング残渣を含む欠陥を含む場合、シリコン含有膜ＳＦ－２は、当該エッチング残渣をマスクとしてエッチングされ得る。すなわち、凹部ＲＣによってシリコン含有膜ＳＦ－２に形成されるパターンも、当該エッチング残渣に基づく欠陥を含み得る。
【0075】
（工程ＳＴ２２：炭素含有膜ＣＦのエッチング）
次に、図４Ｃに示すように、工程ＳＴ２２において、炭素含有膜ＣＦをエッチングする。一例として、炭素含有膜ＣＦは、水素、ハロゲン及び酸素を含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。また、一例として、処理ガスは、水素、臭素、塩素及び／又はヨウ素を含有する分子からなる１以上のガスを含んでよい。一例として、当該ガスは、Ｈ2、Ｂｒ2、Ｃｌ2、ＨＢｒ、ＨＣｌ、ＨＩ等である。処理ガスは、酸素を含有する分子からなる１以上のガスを含んでよい。一例として、当該ガスは、Ｏ2、ＣＯ2、ＣＯＳ等である。また、処理ガスは、Ｈｅ、Ａｒ、Ｎ2等の不活性ガスを含んでよい。
次に、図４Ｃに示すように、工程ＳＴ２２において、炭素含有膜ＣＦをエッチングする。一例として、炭素含有膜ＣＦは、水素、ハロゲン及び酸素を含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。また、一例として、処理ガスは、水素、臭素、塩素及び／又はヨウ素を含有する分子からなる１以上のガスを含んでよい。一例として、当該ガスは、Ｈ2、Ｂｒ2、Ｃｌ2、ＨＢｒ、ＨＣｌ、ＨＩ等である。処理ガスは、酸素を含有する分子からなる１以上のガスを含んでよい。一例として、当該ガスは、Ｏ2、ＣＯ2、ＣＯＳ等である。また、処理ガスは、Ｈｅ、Ａｒ、Ｎ2等の不活性ガスを含んでよい。
【0076】
一例として、マスク膜ＭＫがスズ含有膜である場合、工程ＳＴ２２において、当該処理ガスから生成されたプラズマを用いて基板Ｗをエッチングすると、図４Ｃに示すように、マスク膜ＭＫが除去される。そして、シリコン含有膜ＳＦ－２をマスクとして、炭素含有膜ＣＦがエッチングされ、炭素含有膜ＣＦに凹部ＲＣが形成される。また、凹部ＲＣの底部において、シリコン含有膜ＳＦ－１が露出する。なお、炭素含有膜ＣＦのエッチングにおいて、シリコン含有膜ＳＦ－２の一部がエッチングされてよい。また、マスク膜ＭＫの開口パターンが、エッチング残渣を含む欠陥を含む場合、炭素含有膜ＣＦは、当該エッチング残渣に基づく欠陥を含むシリコン含有膜ＳＦ－２をマスクとしてエッチングされ得る。すなわち、凹部ＲＣによって炭素含有膜ＣＦに形成されるパターンも、当該エッチング残渣に基づく欠陥を含み得る。
【0077】
（工程ＳＴ２２：シリコン含有膜ＳＦ－１のエッチング）
次に、図４Ｄに示すように、工程ＳＴ２３において、シリコン含有膜ＳＦ－１をエッチングする。一例として、シリコン含有膜ＳＦ－１は、炭素、水素及びフッ素を含む１以上のガスを含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。処理ガスは、１以上のガスを含む。ここで、当該１つ以上のガスの各々が水素、炭素及びフッ素を含んでよい。また、当該１つ以上のガスが複数のガスである場合、当該複数のガスのうち、１つのガスが、水素、炭素及びフッ素の１以上を含み、当該複数のガスのうち、残りの１つ以上のガスの一部又は全部が、水素、炭素及びフッ素の残りを含んでよい。
次に、図４Ｄに示すように、工程ＳＴ２３において、シリコン含有膜ＳＦ－１をエッチングする。一例として、シリコン含有膜ＳＦ－１は、炭素、水素及びフッ素を含む１以上のガスを含む処理ガスから生成されたプラズマを用いてエッチングしてよい。処理ガスは、１以上のガスを含む。ここで、当該１つ以上のガスの各々が水素、炭素及びフッ素を含んでよい。また、当該１つ以上のガスが複数のガスである場合、当該複数のガスのうち、１つのガスが、水素、炭素及びフッ素の１以上を含み、当該複数のガスのうち、残りの１つ以上のガスの一部又は全部が、水素、炭素及びフッ素の残りを含んでよい。
【0078】
工程ＳＴ２３において用いられる処理ガスは、プラズマ処理中に、プラズマ処理チャンバ１０内でフッ化水素（ＨＦ）種を生成可能なガスを含み得る。フッ化水素種は、工程ＳＴ２３において、シリコン含有膜ＳＦ－１をエッチングするエッチャントとして機能する。
【0079】
炭素、水素及びフッ素を含むガスは、ハイドロフルオロカーボンからなる群から選択される少なくとも１種のガスであってよい。ハイドロフルオロカーボンは、例えば、ＣＨ2Ｆ2、ＣＨＦ3、又はＣＨ3Ｆの少なくとも一つである。ハイドロフルオロカーボンは、二つ以上の炭素原子を含んでいてもよく、二つ以上六つ以下の炭素原子を含んでいてもよい。ハイドロフルオロカーボンは、例えば、Ｃ2ＨＦ5、Ｃ2Ｈ2Ｆ4、Ｃ2Ｈ3Ｆ3、Ｃ2Ｈ4Ｆ2等の二つの炭素原子を含んでいてもよい。ハイドロフルオロカーボンは、例えば、Ｃ3ＨＦ7、Ｃ3Ｈ2Ｆ2、Ｃ3Ｈ2Ｆ4、Ｃ3Ｈ2Ｆ6、Ｃ3Ｈ3Ｆ5、Ｃ4Ｈ2Ｆ6、Ｃ4Ｈ5Ｆ5、Ｃ4Ｈ2Ｆ8等、三つの又は四つの炭素原子を含んでいてもよい。ハイドロフルオロカーボンガスは、例えば、Ｃ5Ｈ2Ｆ6、Ｃ5Ｈ2Ｆ10、Ｃ5Ｈ3Ｆ7等の五つの炭素原子を含んでもいてもよい。一実施形態として、ハイドロフルオロカーボンガスは、Ｃ3Ｈ2Ｆ4、Ｃ3Ｈ2Ｆ6、Ｃ4Ｈ2Ｆ6及びＣ4Ｈ2Ｆ8からなる群から選択される少なくとも１種を含む。なお、処理ガスは、プラズマ処理中にプラズマ処理チャンバ１０内でフッ化水素（ＨＦ）種を生成可能なガスとして、フッ化水素（ＨＦ）を含んでよい。なお、処理ガスにおいて、フッ素原子の数に対する水素原子の数の比は、０．３以上、０．４以上又は０．５以上であってよい。また、処理ガスにおいて、炭素原子の数に対する水素原子の数の比は、１．０以上、１．５以上又は２．０以上であってよい。
【0080】
また、処理ガスは、水素及びフッ素を含むガスとして、プラズマ処理中に、プラズマ処理チャンバ１０内でフッ化水素種を生成可能な混合ガスを含んでよい。フッ化水素種を生成可能な混合ガスは、水素源及びフッ素源を含んでよい。水素源は、例えば、Ｈ2、ＮＨ3、Ｈ2Ｏ、Ｈ2Ｏ2又はハイドロカーボン（ＣＨ4、Ｃ3Ｈ6等）であってよい。フッ素源は、ＢＦ3、ＮＦ3、ＰＦ3、ＰＦ5、ＳＦ6、ＷＦ6、ＸｅＦ2又はフルオロカーボンであってよい。一例として、フッ化水素種を生成可能な混合ガスは、三フッ化窒素（ＮＦ3）と水素（Ｈ2）との混合ガスである。
【0081】
また、処理ガスは、炭素を含むガスとして、ハイドロカーボン（ＣxＨy）、フルオロカーボン（ＣvＦw）からなる群から選択される少なくとも一種の炭素含有ガスを含んでいてもよい。ここで、ｘ、ｙ、ｖ及びｗの各々は自然数である。ハイドロカーボンは、例えば、ＣＨ4、Ｃ2Ｈ6、Ｃ3Ｈ6、Ｃ3Ｈ8又はＣ4Ｈ10等を含んでもよい。フルオロカーボンは、例えば、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ2、Ｃ2Ｆ4、Ｃ3Ｆ8、Ｃ4Ｆ6、Ｃ4Ｆ8又はＣ5Ｆ8等を含んでもよい。これらの炭素含有ガスから生成される化学種は、マスク膜ＭＫを保護し得る。
【0082】
炭素を含むガスは、不飽和結合を有する直鎖状のものであってもよい。不飽和結合を有する直鎖状の炭素含有ガスとして、例えば、Ｃ3Ｆ6（ヘキサフルオロプロパン）ガス、Ｃ4Ｆ8（オクタフルオロ－１－ブテン、オクタフルオロ－２－ブテン）ガス、Ｃ3Ｈ2Ｆ4（１，３，３，３－テトラフルオロプロペン）ガス、Ｃ4Ｈ2Ｆ6（トランス－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン）ガス、Ｃ4Ｆ8Ｏ（ペンタフルオロエチルトリフルオロビニルエーテル）ガス、ＣＦ3ＣＯＦガス（１，２，２，２－テトラフルオロエタン－１－オン）、ＣＨＦ2ＣＯＦ（ジフルオロ酢酸フルオライド）ガス及びＣＯＦ2（フッ化カルボニル）ガスからなる群から選択される少なくとも１種を用いてもよい。これらのガスは、地球温暖化係数（ＧＷＰ）が比較的低いガスであるため、温室効果の改善に有意である。
【0083】
また、処理ガスは、少なくとも一つのリン含有分子を更に含み得る。リン含有分子は、十酸化四リン（Ｐ4Ｏ10）、八酸化四リン（Ｐ4Ｏ8）、六酸化四リン（Ｐ4Ｏ6）等の酸化物であってもよい。十酸化四リンは、五酸化二リン（Ｐ2Ｏ5）と呼ばれることがある。リン含有分子は、三フッ化リン（ＰＦ3）、五フッ化リン（ＰＦ5）、三塩化リン（ＰＣｌ3）、五塩化リン（ＰＣｌ5）、三臭化リン（ＰＢｒ3）、五臭化リン（ＰＢｒ5）、ヨウ化リン（ＰＩ3）のようなハロゲン化物（ハロゲン化リン）であってもよい。即ち、リンを含む分子は、ハロゲン元素としてフッ素を含むフッ化物（フッ化リン）であってもよい。或いは、リンを含む分子は、ハロゲン元素としてフッ素以外のハロゲン元素を含んでもよい。リン含有分子は、フッ化ホスホリル（ＰＯＦ3）、塩化ホスホリル（ＰＯＣｌ3）、臭化ホスホリル（ＰＯＢｒ3）のようなハロゲン化ホスホリルであってよい。リン含有分子は、ホスフィン（ＰＨ3）、リン化カルシウム（Ｃａ3Ｐ2等）、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）、リン酸ナトリウム（Ｎａ3ＰＯ4）、ヘキサフルオロリン酸（ＨＰＦ6）等であってよい。リン含有分子は、フルオロホスフィン類（ＨxＰＦy）であってよい。ここで、ｘとｙの和は、３又は５である。フルオロホスフィン類としては、ＨＰＦ2、Ｈ2ＰＦ3が例示される。処理ガスは、少なくとも一つのリン含有分子として、上記のリン含有分子のうち一つ以上のリン含有分子を含み得る。例えば、処理ガスは、少なくとも一つのリン含有分子として、ＰＦ3、ＰＣｌ3、ＰＦ5，ＰＣｌ5，ＰＯＣｌ3、ＰＨ3、ＰＢｒ3、又はＰＢｒ5の少なくとも一つを含み得る。また、少なくとも一つのリン含有分子として、ＰＣｌaＦb（ａ及びｂは正の整数）及びＰＣcＨdＦe（ｃ、ｄ及びｅは正の整数）からなる群から選択される少なくとも一つを含み得る。なお、処理ガスに含まれる各リン含有分子が液体又は固体である場合、各リン含有分子は、加熱等によって気化されてプラズマ処理チャンバ１０内に供給され得る。
【0084】
また、処理ガスは、ハロゲン含有分子を含んでもよい。ハロゲン含有分子は、炭素を含有しなくてもよい。ハロゲン含有分子は、フッ素含有分子であってよく、フッ素以外のハロゲン元素を含有するハロゲン含有分子であってもよい。フッ素含有分子は、例えば、三フッ化窒素（ＮＦ3）、六フッ化硫黄（ＳＦ6）、三フッ化ホウ素（ＢＦ3）などのガスを含んでいてもよい。フッ素以外のハロゲン元素を含有するハロゲン含有分子は、例えば、塩素含有ガス、臭素含有ガス及びヨウ素からなる群から選択される少なくとも１種であってよい。塩素含有ガスは、例えば、塩素（Ｃｌ2）、二塩化ケイ素（ＳｉＣｌ2）、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4）、四塩化炭素（ＣＣｌ4）、ジシクロロシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）、六塩化二ケイ素（Ｓｉ2Ｃｌ6）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、塩化スルフリル（ＳＯ2Ｃｌ2）、三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）などのガスである。臭素含有ガスは、例えば、臭素（Ｂｒ2）、臭化水素（ＨＢｒ）、ジブロモジフルオロメタン（ＣＢｒ2Ｆ2）、ブロモペンタフルオロエタン（Ｃ2Ｆ5Ｂｒ）三臭化リン（ＰＢｒ3）、五臭化リン（ＰＢｒ5）、リン酸オキシブロミド（ＰＯＢｒ3）、三臭化ホウ素（ＢＢｒ3）などのガスである。ヨウ素含有ガスは、例えば、ヨウ化水素（ＨＩ）、トリフルオロヨードメタン（ＣＦ3Ｉ）、ペンタフルオロヨードエタン（Ｃ2Ｆ5Ｉ）、ヘプタフルオロプロピルヨージド（Ｃ3Ｆ7Ｉ）、五フッ化ヨウ素（ＩＦ5）、七フッ化ヨウ素（ＩＦ7）、ヨウ素（Ｉ2）、三ヨウ化リン（ＰＩ3）などのガスである。これらのハロゲン含有分子はから生成される化学種は、プラズマエッチングで形成される凹部の形状を制御するために用いられ得る。
【0085】
処理ガスは、酸素含有分子を含んでよい。酸素含有分子は、例えばＯ2、ＣＯ2又はＣＯを含んでいてもよい。また、処理ガスは、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の貴ガスを含んでよい。
【0086】
また、図２のプラズマ処理装置１において、処理ガスは、中央ガス注入部１３１及びサイドガス注入部の一方又は双方から、プラズマ処理チャンバ１０内に供給されてよい。一例として、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスの流量よりも、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量が多くてよい。即ち、処理ガスに含まれる炭素含有ガスの流量に対する、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスの流量の割合が５０％以下、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量の割合が５０％以上であってよい。また、処理ガスに含まれる炭素含有ガスの流量に対する、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスの流量の割合が２０％以下、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量の割合が８０％以上であってよい。また、処理ガスに含まれる炭素含有ガスの流量に対する、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスの流量の割合が１０％以下、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量の割合が９０％以上であってよい。また、処理ガスに含まれる炭素含有ガスの流量に対する、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスの流量の割合が５％以下、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量の割合が９５％以上であってよい。また、処理ガスに含まれる炭素含有ガスの流量における、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスの流量の割合が１００％であってよい。
【0087】
また、一例として、プラズマ処理チャンバ１０内に供給される処理ガスのうち、中央ガス注入部１３１から供給される炭素含有ガスに含まれる炭素原子の数よりも、サイドガス注入部から供給される炭素含有ガスに含まれる炭素原子の数が多くてよい。
【0088】
処理ガスに含まれる炭素含有ガスの少なくとも一部を、サイドガス注入部からプラズマ処理チャンバ１０内に供給することにより、基板Ｗの面内において、エッチング膜のエッチングレートの均一性及び／又はエッチング膜に形成される凹部の寸法の均一性を向上することができる。
【0089】
次に、工程ＳＴ２３において供給されるソースＲＦ信号及びバイアス信号について説明する。工程ＳＴ２３において供給されるソースＲＦ信号は、一例として、図２のプラズマ処理装置１における上部電極又は図２におけるプラズマ処理装置１のアンテナ１４に供給され得る。上部電極は電極の一例である。ソースＲＦ信号は、ＲＦの連続波であってよく、また、パルス波であってもよい。ソースＲＦ信号の電力は、バイアス信号の電力よりも大きい。一例として、ソースＲＦ信号の電力は、３００Ｗ以上であってよい。また、ソースＲＦ信号の電力は、５００Ｗ以上、１，０００Ｗ以上、又は、２，０００Ｗ以上であってよい。
【0090】
工程ＳＴ２３において供給されるバイアス信号は、一例として、図２の基板支持部１１に供給される。バイアス信号は、基板支持部１１においてバイアス電極として機能し得る部材に供給されてよい。バイアス信号は、ＲＦ信号であり得る。バイアス信号の電力は、ソースＲＦ信号の電力よりも小さい。一例として、バイアス信号の電力は、２００Ｗ以下であってよい。また、バイアス信号の電力は、１００Ｗ以下、又は、５０Ｗ以下であってよい。なお、一例として、バイアス信号の電力は、ソースＲＦ信号の電力よりも大きくてもよい。
【0091】
工程ＳＴ２３において、処理ガスから生成されたプラズマを用いて基板Ｗをエッチングすると、シリコン含有膜ＳＦ－２及び／又は炭素含有膜ＣＦをマスクとして、シリコン含有膜ＳＦ－１がエッチングされ、シリコン含有膜ＳＦ－１に凹部ＲＣが形成される。また、凹部ＲＣの底部において、金属化合物ＭＦが露出する。なお、シリコン含有膜ＳＦ－２は、シリコン含有膜ＳＦ－１と同様のエッチング条件でエッチングされ得る。当該エッチング条件は、処理ガスの種類、ソースＲＦ信号の電力、バイアス信号の電力、プラズマ処理チャンバ１０内の圧力を含み得る。
【0092】
なお、工程ＳＴ２３において、工程ＳＴ２１及び／又は工程ＳＴ２２において生成された、金属を含有する堆積物を除去してよい。当該金属は、マスク膜ＭＫに含まれる金属であってよい。また、一例として、当該金属は、スズ（Ｓｎ）であってよい。当該堆積物は、工程ＳＴ２１及び／又は工程ＳＴ２２のエッチングにおいて生じた、当該金属を含む化合物等の残渣であってよい。また、当該堆積物は、基板Ｗに付着した堆積物であってよく、また、プラズマ処理チャンバ１０の内壁に付着した堆積物であってよい。
【0093】
本処理方法では、バイアス信号の電力を比較的低くしてシリコン含有膜をエッチングする。すなわち、処理ガスから生成されたフッ化水素種が有するエネルギーを低く抑えることができる。これにより、ＥＵＶレジスト等のマスク膜が有する開口パターンを、シリコン含有膜に適切に形成することができる。
【0094】
また、本処理方法では、マスク膜ＭＫが金属を含有する場合、当該金属を含む堆積物及び／又はマスク膜ＭＫに含まれる欠陥を除去しつつ、シリコン含有膜ＳＦをエッチングすることができる。これにより、シリコン含有膜ＳＦのエッチングにおいて、当該堆積物及び／又は当該欠陥の影響を低減できるので、シリコン含有膜ＳＦに含まれる欠陥を低減することができる。なお、当該堆積物は、基板Ｗに含まれる他の膜をエッチングする工程において生成された、当該金属を含む化合物等であり得る。また、当該欠陥は、マスク膜ＭＫに開口パターンを形成する工程で生成した、マスク膜ＭＫのエッチング残渣であり得る。
【0095】
また、本処理方法では、当該堆積物及び／又は当該欠陥を除去しつつ、シリコン含有膜ＳＦをエッチングできるので、シリコン含有膜ＳＦが有するパターンの粗さを改善することができる。
【0096】
以上の各実施形態は、説明の目的で説明されており、本開示の範囲を限定することを意図するものではない。各実施形態は、本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく種々の変形をなし得る。例えば、ある実施形態における一部の構成要素を、他の実施形態に追加することができる。また、ある実施形態における一部の構成要素を、他の実施形態の対応する構成要素と置換することができる。一例として、本開示は以下の形態を含み得る。
【0097】
（付記１）
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含む、プラズマ処理方法。
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含む、プラズマ処理方法。
【0098】
（付記２）
前記マスクは、レジスト膜である、付記１に記載のプラズマ処理方法。
前記マスクは、レジスト膜である、付記１に記載のプラズマ処理方法。
【0099】
（付記３）
前記マスクは、ＥＵＶレジスト膜である、付記１に記載のプラズマ処理方法。
前記マスクは、ＥＵＶレジスト膜である、付記１に記載のプラズマ処理方法。
【0100】
（付記４）
前記開口パターンに含まれる開口の幅は、３０ｎｍ以下である、付記１から３のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記開口パターンに含まれる開口の幅は、３０ｎｍ以下である、付記１から３のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0101】
（付記５）
前記（ｂ－２）の工程において、前記実効値は、１ｋＷ以下である、付記１から４のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記（ｂ－２）の工程において、前記実効値は、１ｋＷ以下である、付記１から４のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0102】
（付記６）
前記基板支持部は前記基板を支持する基板支持面において複数のゾーンを含み、
前記（ａ）の工程は、前記基板支持部の温度を、前記ゾーン単位で設定する工程を含み、
前記（ｂ）の工程において、前記シリコン含有膜は、前記基板支持部の温度がゾーン単位で設定された状態でエッチングされる、付記１から５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記基板支持部は前記基板を支持する基板支持面において複数のゾーンを含み、
前記（ａ）の工程は、前記基板支持部の温度を、前記ゾーン単位で設定する工程を含み、
前記（ｂ）の工程において、前記シリコン含有膜は、前記基板支持部の温度がゾーン単位で設定された状態でエッチングされる、付記１から５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0103】
（付記７）
前記基板支持部は、１又は複数のヒータを含み、前記基板の温度を調節するように構成された温調モジュールを備え、
前記（ｂ）の工程は、前記温調モジュールにより、前記基板支持体の温度が８０℃以下に設定された状態で実行される、付記１から５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記基板支持部は、１又は複数のヒータを含み、前記基板の温度を調節するように構成された温調モジュールを備え、
前記（ｂ）の工程は、前記温調モジュールにより、前記基板支持体の温度が８０℃以下に設定された状態で実行される、付記１から５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0104】
（付記８）
前記処理ガスは、炭素含有ガスを含む、付記１から７のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、炭素含有ガスを含む、付記１から７のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0105】
（付記９）
前記処理ガスは、リン含有ガスを含む、付記１から８のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、リン含有ガスを含む、付記１から８のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0106】
（付記１０）
前記処理ガスは、タングステン含有ガス、ホウ素含有ガス及び酸素含有ガスからなる群から選択される少なくとも１種のガスを含む、付記１から９のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、タングステン含有ガス、ホウ素含有ガス及び酸素含有ガスからなる群から選択される少なくとも１種のガスを含む、付記１から９のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0107】
（付記１１）
前記処理ガスは、ハロゲン含有分子を含む、付記１から１０のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、ハロゲン含有分子を含む、付記１から１０のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0108】
（付記１２）
前記処理ガスは、不活性ガスを含む、付記１から１１のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、不活性ガスを含む、付記１から１１のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0109】
（付記１３）
前記処理ガスは、フッ化水素ガスを含む、付記１から１２のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスは、フッ化水素ガスを含む、付記１から１２のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0110】
（付記１４）
前記処理ガスに含まれるガスのうち、前記フッ化水素ガスの流量が最も多い、付記１３に記載のプラズマ処理方法。
前記処理ガスに含まれるガスのうち、前記フッ化水素ガスの流量が最も多い、付記１３に記載のプラズマ処理方法。
【0111】
（付記１５）
前記プラズマ処理装置は、
前記基板支持部に対向して、前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、炭素を含む少なくとも１種のガス及び炭素を含まない少なくとも１種のガスを含み、
前記炭素を含む少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第１のガス注入部から供給され、
前記炭素を含まない少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第２のガス注入部から供給される、付記１から１４のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記プラズマ処理装置は、
前記基板支持部に対向して、前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、炭素を含む少なくとも１種のガス及び炭素を含まない少なくとも１種のガスを含み、
前記炭素を含む少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第１のガス注入部から供給され、
前記炭素を含まない少なくとも１種のガスの少なくとも１種は、前記第２のガス注入部から供給される、付記１から１４のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0112】
（付記１６）
前記プラズマ処理装置は、
前記チャンバ内において前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバ内において前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、少なくとも１種の炭素含有ガスを含み、
前記少なくとも１種の炭素含有ガスは、前記第１のガス注入部及び前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給され、
前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量は、前記第１のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量よりも多い、付記１から１５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記プラズマ処理装置は、
前記チャンバ内において前記チャンバの上面に配置された第１のガス注入部と、
前記チャンバ内において前記チャンバの側面に配置された第２のガス注入部と
を有し、
前記処理ガスは、少なくとも１種の炭素含有ガスを含み、
前記少なくとも１種の炭素含有ガスは、前記第１のガス注入部及び前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給され、
前記第２のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量は、前記第１のガス注入部から前記チャンバ内に供給される前記少なくとも１種の炭素含有ガスの流量よりも多い、付記１から１５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0113】
（付記１７）
前記（ｂ）において、前記チャンバ内の圧力は５０ｍＴｏｒｒ以下に設定される、付記１から１５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記（ｂ）において、前記チャンバ内の圧力は５０ｍＴｏｒｒ以下に設定される、付記１から１５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0114】
（付記１８）
前記ＥＵＶレジストは、有機膜レジストである、付記３に記載のプラズマ処理方法。
前記ＥＵＶレジストは、有機膜レジストである、付記３に記載のプラズマ処理方法。
【0115】
（付記１９）
前記ＥＵＶレジストは、金属含有レジストである、付記３に記載のプラズマ処理方法。
前記ＥＵＶレジストは、金属含有レジストである、付記３に記載のプラズマ処理方法。
【0116】
（付記２０）
前記シリコン含有膜の厚さは、４０ｎｍ以下である、付記１から１９のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記シリコン含有膜の厚さは、４０ｎｍ以下である、付記１から１９のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0117】
（付記２１）
前記シリコン含有膜の厚さは、２０ｎｍ以下である、付記２０に記載のプラズマ処理方法。
前記シリコン含有膜の厚さは、２０ｎｍ以下である、付記２０に記載のプラズマ処理方法。
【0118】
（付記２２）
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ａ）の工程において、前記開口パターンに含まれる開口の幅は３０ｎｍ以下であり、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含む、プラズマ処理方法。
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板を前記基板支持部に準備する工程であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する工程と
を含み、
前記（ａ）の工程において、前記開口パターンに含まれる開口の幅は３０ｎｍ以下であり、
前記（ｂ）の工程は、
（ｂ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する工程であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、工程と
を含む、プラズマ処理方法。
【0119】
（付記２３）
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）第１のシリコン含有膜と、前記第１のシリコン含有膜上の炭素含有膜と、前記炭素含有膜上の第２のシリコン含有膜と、前記第２のシリコン含有膜上のレジスト膜とを有する基板を準備する工程であって、前記レジスト膜は、開口幅が３０ｎｍ以下の開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記開口パターンを介して、前記第２のシリコン含有膜をエッチングし、前記第２のシリコン含有膜に第１の凹部を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の凹部を介して、前記炭素含有膜をエッチングし、前記炭素含有膜に第２の凹部を形成する工程と、
（ｄ）前記第２の凹部を介して、前記第１のシリコン含有膜をエッチングし、前記第１のエッチング含有膜に第３の凹部を形成する工程と、
を含み、
前記（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、前記基板支持部にバイアス信号が供給され、
前記（ｄ）は、
（ｄ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｄ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程と
を含む、プラズマ処理方法。
プラズマ処理装置において実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、チャンバ及び前記チャンバ内に設けられた基板支持部を有し、
前記プラズマ処理方法は、
（ａ）第１のシリコン含有膜と、前記第１のシリコン含有膜上の炭素含有膜と、前記炭素含有膜上の第２のシリコン含有膜と、前記第２のシリコン含有膜上のレジスト膜とを有する基板を準備する工程であって、前記レジスト膜は、開口幅が３０ｎｍ以下の開口パターンを含む、準備工程と、
（ｂ）前記開口パターンを介して、前記第２のシリコン含有膜をエッチングし、前記第２のシリコン含有膜に第１の凹部を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の凹部を介して、前記炭素含有膜をエッチングし、前記炭素含有膜に第２の凹部を形成する工程と、
（ｄ）前記第２の凹部を介して、前記第１のシリコン含有膜をエッチングし、前記第１のエッチング含有膜に第３の凹部を形成する工程と、
を含み、
前記（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、前記基板支持部にバイアス信号が供給され、
前記（ｄ）は、
（ｄ－１）少なくとも水素及びフッ素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する工程と、
（ｄ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する工程と
を含む、プラズマ処理方法。
【0120】
（付記２４）
前記バイアス信号は、２ｋＷ以下の実効値を有するＲＦ信号である、付記２２に記載のプラズマ処理方法。
前記バイアス信号は、２ｋＷ以下の実効値を有するＲＦ信号である、付記２２に記載のプラズマ処理方法。
【0121】
（付記２５）
前記バイアス信号は、パルス化されたバイアスＤＣ信号である、付記２２又は２３に記載のプラズマ処理方法。
前記バイアス信号は、パルス化されたバイアスＤＣ信号である、付記２２又は２３に記載のプラズマ処理方法。
【0122】
（付記２６）
前記（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、連続する２つ以上の工程に亘って、プラズマが連続して生成される、付記２２から２５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）において、連続する２つ以上の工程に亘って、プラズマが連続して生成される、付記２２から２５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0123】
（付記２７）
前記第１のシリコン含有膜又は前記第２のシリコン含有膜の厚さは４０ｎｍ以下である、付記２２から２６のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記第１のシリコン含有膜又は前記第２のシリコン含有膜の厚さは４０ｎｍ以下である、付記２２から２６のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0124】
（付記２８）
前記レジスト膜が有する前記開口パターンは欠陥を含む、付記２２から２７のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
前記レジスト膜が有する前記開口パターンは欠陥を含む、付記２２から２７のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【0125】
（付記２９）
チャンバ、ガス供給部、プラズマ生成部、前記チャンバ内に設けられた基板支持部及び制御部を備えるプラズマ処理装置であって、
前記制御部は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、基板を前記基板支持部に準備する制御と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する制御と
を実行し、
前記（ｂ）において、前記制御部は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する制御と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する制御と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する制御であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、制御と
を実行する、プラズマ処理装置。
チャンバ、ガス供給部、プラズマ生成部、前記チャンバ内に設けられた基板支持部及び制御部を備えるプラズマ処理装置であって、
前記制御部は、
（ａ）シリコン含有膜及び前記シリコン含有膜上のマスク膜を有する基板であって、前記マスク膜は開口パターンを含む、基板を前記基板支持部に準備する制御と、
（ｂ）前記チャンバ内でプラズマを生成して、前記シリコン含有膜をエッチングして前記シリコン含有膜に前記開口パターンを形成する制御と
を実行し、
前記（ｂ）において、前記制御部は、
（ｂ－１）フッ化水素を含む処理ガスを前記チャンバ内に供給する制御と、
（ｂ－２）前記チャンバ内で前記処理ガスからフッ化水素種を含むプラズマを生成する制御と、
（ｂ－３）前記基板支持部にバイアス信号を供給する制御であって、前記バイアス信号が有する電力の実効値は２ｋＷ以下である、制御と
を実行する、プラズマ処理装置。
【符号の説明】
【0126】
１…プラズマ処理装置、２…制御部、１０…プラズマ処理チャンバ、１２…プラズマ生成部、１３…中央ガス注入部、１４…アンテナ、２０…ガス供給部、３０…電源、３１…ＲＦ電源、３２…ＤＣ電源、５２…周辺ガス注入部、１０１…誘電体窓、１０２…側壁、１１１…本体部、１１１ａ…中央領域、１１１ｂ…環状領域、１３１…中央ガス注入部、ＣＦ…炭素含有膜、ＭＦ…金属化合物膜、ＭＫ…マスク膜、ＯＰ…開口、ＲＣ…凹部、ＳＦ…シリコン含有膜、ＵＦ…下地膜
【図1】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図4D】
【図4E】