特許 7544737 脱気装置、脱気システム及びそれらを使用する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-08-26

(45)【発行日】2024-09-03

(54)【発明の名称】脱気装置、脱気システム及びそれらを使用する方法

(51)【国際特許分類】

   B01D 19/00 20060101AFI20240827BHJP

   B01D 61/00 20060101ALI20240827BHJP

   B01D 69/08 20060101ALI20240827BHJP

【ＦＩ】

B01D19/00 H

B01D61/00

B01D69/08

【請求項の数】 23

(21)【出願番号】P 2021557329

(86)(22)【出願日】2020-03-24

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-05-30

(86)【国際出願番号】 US2020024494

(87)【国際公開番号】W WO2020198244

(87)【国際公開日】2020-10-01

【審査請求日】2023-03-22

(31)【優先権主張番号】62/824,094

(32)【優先日】2019-03-26

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(73)【特許権者】

【識別番号】517114182

【氏名又は名称】バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 篤

(74)【代理人】

【識別番号】100123582

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100195213

【弁理士】

【氏名又は名称】木村 健治

(74)【代理人】

【氏名又は名称】胡田 尚則

(74)【代理人】

【識別番号】100202441

【弁理士】

【氏名又は名称】岩田 純

(72)【発明者】

【氏名】クリストファー ディー．フォンタナ

(72)【発明者】

【氏名】デイビッド カール エシェルマン

(72)【発明者】

【氏名】ジェフリー シー．バーソルド

(72)【発明者】

【氏名】ブラッドリー ティー．リース

【審査官】中村 泰三

(56)【参考文献】

【文献】特開平０８－２０６４０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－２３８１２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１９４４２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０５－１０３９５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－１１３８７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－３５０９０３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１６２５０１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０１Ｄ １９／００

Ｂ０１Ｄ ５３／２２

Ｂ０１Ｄ ６１／００－７１／８２

Ｃ０２Ｆ １／２０

Ｃ２３Ｃ １６／００－５６

Ｈ０１Ｌ ２１／２０５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理液体（１１４）中に捕捉又は溶解された気体の分子を除去するための脱気装置（６０）であって、
１つ又は複数の真空チャンバー壁（２４、２５）を有する真空チャンバー（６２）と；
１つ又は複数の流体入口（２２）及び１つ又は複数の流体出口（２３）であって、それらを通って処理液体（１１４）が真空チャンバー（６２）の中へと及び外へとそれぞれ通過し、真空チャンバー壁（２４、２５）のうち少なくとも１つを貫通している１つ又は複数の入口（２２）及び１つ又は複数の出口（２３）と；
真空チャンバー（６２）の内部に位置し、捕捉又は溶解された気体の分子に対して透過性であるが、処理液体（１１４）に対して非透過性であるように構成された１つ又は複数のセパレータ（６８）と；
真空ポート（６６）を通じて、１つ又は複数のセパレータ（６８）を挟んで圧力差を適用して、捕捉又は溶解された気体の分子を処理液体（１１４）から脱離させ、１つ又は複数のセパレータ（６８）を通って透過させて、それによって捕捉又は溶解された気体を処理液体（１１４）から除去するための少なくとも１つのバキュームと；
１つ又は複数の入口（２２）及び１つ又は複数のセパレータ（６８）と流体連通している１つ又は複数の供給ライン（４７）と、
閉じているときに、入口（２２）、セパレータ（６８）及び出口（２３）を含む流動経路を、脱気装置（６０）中の１つ又は複数の他のセパレータ（６８）を含む１つ又は複数の他の流動経路から隔離する、供給ライン（４７）中の少なくとも１つのバルブ（３７）及び捕集ライン（４１）中の少なくとも１つのバルブ（３３）とを備える、脱気装置（６０）。

【請求項2】

１つ又は複数の入口（２２）に接続されていて、かつセパレータ（６８）の数が入口（２２）の数より多い場合には２つ以上のセパレータ（６８）を１つ又は複数の供給ライン（４７）に接続する２つ以上の連結部（ＪＡ、ＪＢ、ＪＣ）を有している１つ又は複数の供給ライン（４７）を備える、請求項１に記載の脱気装置（６０）。

【請求項3】

２つ以上のセパレータ（６８）を備える、請求項１又は２に記載の脱気装置（６０）。

【請求項4】

３つ以上のセパレータ（６８）を備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項5】

１つの入口（２２）を備える、請求項１～４のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項6】

２つ以上の入口（２２）を備える、請求項１～５のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項7】

３つ以上の入口（２２）を備える、請求項１～６のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項8】

１つの出口（２３）を備える、請求項１～７のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項9】

２つ以上の出口（２３）を備える、請求項１～８のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項10】

３つ以上の出口（２３）を備える、請求項１～９のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項11】

２つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの供給ライン（４７）を備える、請求項１～１０のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項12】

３つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの供給ライン（４７）を備える、請求項１～１１のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項13】

２つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの捕集ライン（４１）を備える、請求項１～１２のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項14】

３つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの捕集ライン（４１）を備える、請求項１～１３のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項15】

１つのセパレータ（６８）以外の全てのセパレータ（６８）を、その１つのセパレータ（６８）から隔離することができるように、１つのセパレータ（６８）を除いたそれぞれのセパレータ（６８）の上流に少なくとも１つのバルブ（３５）を備える、請求項１～１４のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項16】

圧力計（８２）と、真空チャンバー（６２）と流体連通している可変速ポンプ（８３）とをさらに備える、請求項１～１５のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項17】

圧力計（８２）及びポンプ（８３）と電気通信していて、圧力が所定の圧力でないときに可変速ポンプ（８３）のポンプ速度を調節する制御システム（９８）をさらに備える、請求項１６に記載の脱気装置（６０）。

【請求項18】

第一のセパレータ（６８）が第一の処理流体（１１４）を脱気し、かつ第二のセパレータ（６８）が第二の処理流体（１１４）を脱気する、請求項１～１７のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項19】

ハウジング（１００）をさらに備える、請求項１～１８のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。

【請求項20】

請求項１～１９のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）を通して処理流体を流動させる工程を含む、処理流体（１１４）を脱気する方法。

【請求項21】

使用の箇所（８６）における脱気された流体についての要求の増加に基づいて、１つ又は複数のセパレータ（６８）と流体連通している閉じたバルブを自動で又は手動で開いて、１つ又は複数のセパレータ（６８）を通して流体を送ることによって、脱気装置（６０）において脱気される処理流体（１１４）の量を増加させる工程を含む、請求項２０に記載の処理流体（１１４）を脱気する方法。

【請求項22】

脱気装置（６０）が２つの異なる流体を脱気する、請求項２０又は２１に記載の方法。

【請求項23】

１つのセパレータ（６８）を、処理流体（１１４）を脱気している１つ又は複数の他のセパレータ（６８）から隔離する工程をさらに含む、請求項２０～２２のいずれか１項に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体処理設備及び操作に、より具体的には、半導体処理液体中に捕捉又は溶解された気体を、このような液体が気化されて半導体処理チャンバーに輸送される前に除去するための方法及び設備に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体ウエハ処理操作において、しばしば、ウエハ処理反応体流体は、気体の形態で、ウエハ処理チャンバーの内部に供給される。しかし、これらの反応体の幾つかについては、液体の形態で、幾つかの離れた貯蔵箇所に貯蔵されている化学的な前駆体であることが通常である。次いで、反応体は、液体貯蔵器から、流量計を通じて、気化器において気化され、その後、気体の形態でチャンバーに供給される。

【0003】

これらの要素及び従来技術の脱気装置１３４を組み込んだウエハ処理システムの典型的な例が、図１に模式的に示されている。この図において、典型的な化学気相堆積（ＣＶＤ）ウエハ処理設備１１０が、処理チャンバー１１２を含めて示されている。標準的な商業ウエハ処理液体又は流体１１４（液体及び流体の用語は、相互交換可能に使用することができる）は、シールされた流体コンテナ１１６中に、液体の形態で収容される。ＣＶＤプロセスについて、（オルトケイ酸テトラエチルについて、例えば略称ＴＥＯＳのブランド名で販売される）処理液体１１４は、ケイ素源、並びに任意選択でドーパント液体、例えばＴＥＯＰ（ＰＯ（Ｃ₂ＯＨ₅）₃）、ＴＭＢ（トリメトキシボラン、ホウ酸トリメチル、（ＣＨ₃Ｏ）₃Ｂ）、ＴＭＰ（トリメトキシホスフィン、亜リン酸トリメチル、（ＣＨ₃Ｏ）₃Ｐ）、ＴＥＰ（リン酸トリエチル）及び同様のものを含有する。

【0004】

液体１１４は、液体流量計１１８及び気化器１３０を介してチャンバー１１２に供給され、それらの全ては供給源ライン１３９によって、ともに接続されている。流量計１１８は、チャンバー１１２中へと通過する処理流体１１４の量を非常に正確に調節することを意図されていて、気化器１３０は、流体１１４を、その液体状態から、その気体状態へと変換するように機能する。液体１１４は、圧力を受けた不活性気体を、例えばヘリウム、アルゴン又は窒素を、コンテナ１１６中の液体１１４の表面の上の空間１２４中に注入することによって、供給源ライン１３９に沿って移動される（不活性気体は、不活性気体源から、矢印方向１５２に沿って、輸送チューブ１５０を通って注入される）。不活性気体の加圧の結果として、流体１１４は、圧力を受けて、供給源ライン１３９に沿って流動し、導管１４９を介してチャンバー１１２中に流動する前に、制御及び気化される。流体制御バルブ１２８は、接続ライン１２６を介して流量計１１８と通信している。流量計１１８は、過剰な量の処理流体１１４が導管１４９中に流動していることを感知し、流量計１１８は制御バルブ１２８に知らせ、制御バルブ１２８は、次いで流体１１４の流動を限定するように動作する。同様に、流量計１１８が、少なすぎる流体が導管１４９中で流動していることを感知した場合、流量計１１８は制御バルブ１２８に知らせ、制御バルブ１２８は開いて、さらなる流体１１４がチャンバー１１２中へと流動することを可能とする。

【0005】

処理流体１１４中に捕捉又は溶解された、空間１２４中に注入された不活性気体は、液体１１４が流量計１１８を通って流動する前に、脱気装置１３４によって除去され、従って、流量計１１８は、液体１１４中に捕捉又は溶解された気体によって影響を受けず、チャンバー１１２中へと通過する処理流体１１４の容積の正確さを改善する。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

公知の商業的な脱気設備は、半導体製造において使用される流体から気体を除去するために、何年間、さらには何十年間使用されてきたが；しかし、今日まで、脱気される流体についての要求量の増加若しくは減少、又は処理チャンバーへの１つ又は複数の流体の追加は、個別の脱気システムの追加及び削減を必要とし、製造施設において重要な床面積を取ることを必要とし、重大な設備コストへの増加を必要とする。今ある商業的な脱気設備は、要求量の増加及び減少に対してフレキシブルではない。従って、改善された脱気設備及びシステムのための要求が存在する。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明は、処理流体又は処理液体中に捕捉又は溶解された気体を除去するための脱気装置及び脱気装置システム（これらの用語は相互交換可能に使用することができる）であって、（ｉ）１つ又は複数のチャンバー壁を備える真空チャンバーと；（ｉｉ）１つ又は複数の流体入口及び１つ又は複数の流体出口であって、それらを通って処理液体が真空チャンバーの中へと及び外へとそれぞれ通過し、１つ又は複数の真空チャンバー壁を貫通している１つ又は複数の入口及び１つ又は複数の出口と；（ｉｉｉ）真空チャンバーの内部に位置し、捕捉又は溶解された気体の分子に対して透過性であるが、液体の分子に対して非透過性であるように構成された１つ又は複数のセパレータと；（ｉｖ）セパレータを挟んで圧力差を適用して、捕捉又は溶解された気体の分子を液体から脱離させ、１つ又は複数のセパレータを通って透過させて、それによって捕捉又は溶解された気体を処理液体から除去するための少なくとも１つのバキュームと；（ｖ）任意選択で、１つ又は複数の入口及び２つ以上のセパレータと流体連通している１つ又は複数の供給ラインとを備える脱気装置及び脱気装置システムを提供する。

【0008】

本発明の１つの態様において、脱気装置は、（ｖ）１つ又は複数の入口に接続されていて、かつセパレータの数が入口の数より多い場合には２つ以上のセパレータを１つ又は複数の供給ラインに接続する２つ以上の連結部を有している１つ又は複数の供給ラインをさらに備える。

【0009】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、２つ以上のセパレータ又は３つ以上のセパレータを備える。

【0010】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、１つの入口、２つ以上の入口又は３つ以上の入口を備える。

【0011】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、１つの出口、２つ以上の出口又は３つ以上の出口を備える。

【0012】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、２つ以上のセパレータと流体連通している供給ラインを備える。

【0013】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、３つ以上のセパレータと流体連通している供給ラインを備える。

【0014】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、２つ以上のセパレータと、又は３つ以上のセパレータと流体連通している捕集ラインを備える。

【0015】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、閉じているときに、入口、セパレータ及び出口を含む流動経路を、脱気装置中の１つ又は複数の他のセパレータを含む１つ又は複数の他の流動経路から隔離する、前記供給ライン中の少なくとも１つのバルブ及び捕集ライン中の少なくとも１つのバルブを備える。

【0016】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、１つのセパレータ以外の全てのセパレータを、その１つのセパレータから隔離することができるように、１つのセパレータを任意選択で除いたそれぞれのセパレータの上流の少なくとも１つのバルブを備える。

【0017】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、圧力計と、真空チャンバーと流体連通している可変速ポンプと、圧力計及びポンプと電気通信していて、圧力が所定の圧力でないときに可変速ポンプのポンプ速度を調節する制御器とを備える。「所定の」は、あらかじめ決定されていることを意味していて、そのため、所定の特性（ここでは圧力）は、幾つかの結果（ここではポンプ速度を調節すること）の前に決定される必要がある、すなわち選択されるか又は少なくとも知られている必要がある。

【0018】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、第一のセパレータは第一の流体を脱気し、かつ第二のセパレータは第二の流体を脱気する。

【0019】

本発明のさらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、脱気装置は、ハウジングを備える。

【0020】

本発明は、本明細書において開示される脱気装置の実施態様のうち任意のものを通して流体を流動させる工程を含む、流体を脱気する方法をさらに提供する。

【0021】

さらなる態様において、単独で、又は他の態様と組み合わせて、流体を脱気する方法は、（任意選択で、センサーの検出に応じて、又は使用の箇所における脱気された流体についての要求量の手動の増加に応じて）１つ又は複数のセパレータと流体連通している閉じたバルブを手動又は自動のいずれかで開いて、１つ又は複数のセパレータを通して流体を送ることによって、脱気装置において脱気される流体の量を増加させる工程をさらに含む。

【0022】

本発明の別の態様において、単独で、又は本発明の他の態様と組み合わせて、閉じたバルブを開く自動プロセスは、流量計に応じたものであってよく、又はスケールであって、液体のための供給源がスケールに対して位置することができるスケールによって測定された流体の重量の変化の速度に応じたものであってよい。任意選択で、スケールと、流体の供給源とは、キャビネット中に位置することができる。

【0023】

本発明の別の態様において、単独で、又は本発明の他の態様と組み合わせて、方法は、２つの異なる流体を同時に脱気する工程をさらに含む。２つの異なる流体は、少なくとも２つの異なるセパレータを通して送られる。

【0024】

本発明の別の態様において、単独で、又は本発明の他の態様と組み合わせて、方法は、１つのセパレータを、流体を脱気している１つ又は複数の他のセパレータから隔離する工程をさらに含む。

【0025】

本開示は、以下の利点：（１）半導体ウエハの処理流体が半導体ウエハの処理設備へのこのような流体の供給を制御する手段に到達する前に、半導体ウエハの処理流体から捕捉又は溶解された気体を除去することであって、それによって、流体をより正確に制御することができること；（２）単一の真空チャンバーを備える１つの脱気システムを通じて１つ又は複数の流体を脱気することが、１つ又は複数のセパレータを通じて、１つの減圧手段及び／又は１つの制御システムのみを必要とすること；（３）１つの真空チャンバーを通じて１つ又は複数の流体を脱気することが、使用の箇所における要求量に応じることができる、その第一の流体及び／又は第二の流体の増加又は減少した流量において、１つの減圧手段及び／又は１つの制御システムのみを必要とすること、のうち１つ又は複数を達成する方法及び設備を提供する。

【0026】

本開示の、これらの利点及び他の利点は、以下の、好ましい実施態様の詳細な説明を読むことによって、当業者にとって、確かに明らかになる。

【0027】

本開示は、添付の図面と関連して読んだとき、以下の詳細な説明から、最も良く理解される。以下の図が、図面に含まれる。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】半導体ウエハ処理システムの、従来技術の模式図である。

【図2】本発明の実施態様による脱気装置の一部の、部分的な横断面図である。

【図3】本発明の実施態様による脱気装置の横断面図である。

【図4】本発明の実施態様による脱気装置の横断面図である。

【図5】本発明の脱気装置の実施態様を使用する脱気システムの模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0029】

本発明の脱気装置の実施態様が、図２～５を参照して、下で、さらに詳細に説明される。脱気装置は、処理流体中に捕捉又は溶解された不活性気体のうち任意のものを除去するように動作する。脱気装置の動作の結果として、導管によってツールへと輸送される処理流体は、処理流体中に捕捉又は溶解された気体を、ほとんど又は全く有しない。実質的に気体を含有しない液体とともに、液体流量計が設けられ、従って、液体の経路上の導管に沿ってツールへと通過する液体の量を正確に測定することができる。

【0030】

図２～５において同一又は類似である要素に、同一又は類似の符号を与えるよう企図された。

【0031】

本発明の脱気装置の一部の１つの実施態様が図２に示されている。図２は、真空チャンバー６２、及び真空チャンバー６２中に収容された１つ又は複数のセパレータの１つの例を示している。示されている真空チャンバー６２は、鉛直方向の円柱壁６３と、頂壁２４と、対向して位置する底壁２５とによって画定される。第一の及び第二の流体入口２２Ａ、２２Ｂ（集合的に又は単一で、入口２２）は頂壁２４に位置し、頂壁２４を貫通していて、第一の及び第二の流体出口２３Ａ、２３Ｂ（集合的に又は単一で、出口２３）は底壁２５に位置し、底壁２５を貫通している。（入口及び出口はどこに位置してもよく、任意の壁を通過してよく、真空チャンバー６２の同じ壁であってもよく、加えて、方向の用語「頂」、「底」、「鉛直」及び類似の用語が、示されている実施態様を説明するのに使用されているが、用語は限定することを意味するものではないことに注意すべきである。）流動するとき、流体は、矢印６４によって示される方向に、かつチューブの束によって構成される第一の及び／又は第二のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ（集合的に又は単一で、セパレータ６８）を通じて、脱気装置６０を通って流動し、それぞれのチューブは、セパレータ材料を含むか、又はセパレータ材料から形成される。脱気装置６０は、真空ポート６６を介して真空チャンバー６２に接続されている減圧器、例えばバキューム（図示されていない）を備える。脱気装置６０が使用されているとき、１つ又は複数の流体が１つ又は複数のセパレータ６８Ａ、６８Ｂを通って流動するとともに、真空ポート６６を通して真空チャンバー６２を真空引きすることによって、真空チャンバー６２中の圧力は所定のレベルに低下し、所定のレベルは１０ｍＴｏｒｒ～１５０Ｔｏｒｒであってよい。流体の圧力は１０～３０ｐｓｉｇであってよい。圧力差は、気体に対して透過性であるが、液体に対して透過性ではないセパレータ６８Ａ、６８Ｂのチューブを通じて、流体中の気体を引き抜く。チューブを横切る圧力は２０～１００ｐｓｉであってよい。

【0032】

図２に示される実施態様において、頂壁２４若しくは底壁２５又はその両方は、真空チャンバー６２から取り外し可能である。代わりに、頂壁２４及び／又は底壁２５は、円柱壁６３に溶接されていてよい。代わりの実施態様において、円柱壁６３の開口部（図示されていない）は、真空チャンバー６２及び真空チャンバー６２に含有される１つ又は複数のセパレータ６８Ａ、６８Ｂにアクセスするように設けることができる。好ましくは、頂壁２４又は底壁２５のうち少なくとも１つは、真空チャンバー６２の円柱壁６３から取り外し可能である。１つの実施態様において、頂壁２４及び底壁２５は、ガスケット（図示されていない）、例えばＯリング（図示されていない）を用いて、円柱壁６３の対向する端部に、両方ともにボルト締めすることができ、頂壁２４と円柱壁６３の１つの端部１６３とがガスケットと接触し、底壁２５と円柱壁６３の逆の端部２６３とが接触して、気密又は液密の密封を提供する。

【0033】

入口２２Ａ及び出口２３Ａに接続され、入口２２Ａ及び出口２３Ａに流体連通している複数のチューブ６９Ａを備えるセパレータ６８Ａが示されている。セパレータ６８Ｂは、入口２２Ｂ及び出口２３Ａに接続され、入口２２Ｂ及び出口２３Ｂに流体連通している複数のチューブ６９Ｂを備える。セパレータ６８Ａ、６８Ｂはそれぞれ、複数のチューブ６９Ａ、６９Ｂのそれぞれの端部に取り付けられたコネクタ６７をさらに備える。コネクタ６７のそれぞれを、ねじ切りして、セパレータ６８Ａ、６８Ｂに隣接する入口２２Ａ、２２Ｂ及び出口２３Ａ、２３Ｂの端部に取り付けられた逆にねじ切りされた中空のコネクタ１６８と接続して、それらを通る流体の流動を提供することができる。代わりに、入口２２Ａ、２２Ｂとチューブ６９Ａ、６９Ｂの一方の端部との間の、及び出口２３Ａ、２３Ｂとチューブ６９Ａ、６９Ｂの他方の端部との間の空密のシールを提供する限りにおいて、並びにそれらを通る流体の流動を提供する限りにおいて、任意の適した接続装置を使用することができる。示されている実施態様において、チューブ６９Ａ、６９Ｂの数は、典型的には約１～約１２５であり；チューブ６９Ａ、６９Ｂのサイズは、約５～約２５フィート（約１５２～約７６２ｃｍ）の長さ、及び約０．０２５～約０．０５インチ（約０．０６４～約０．１３ｃｍ）の壁の厚さであってよく；真空チャンバー６２は、３リットル～１５リットルの容積を有する。代わりの実施態様において、セパレータ６８は、単一のチューブ又は管であってよい。

【0034】

真空チャンバー６２に、鉛直又は水平の支持構造（図示されていない）を設けて、脱気装置６０が使用されているとき、及び真空チャンバー６２中の圧力が低下されているときに、真空チャンバー６２の形状を維持することができる。

【0035】

処理流体（図示されていない）は、脱気装置６０の真空チャンバー６２を通って流動し、一方で真空チャンバー６２は、真空ポート６６において真空引きされて、真空チャンバー６２中の圧力を低下させる。この圧力差の結果として、流体中に捕捉又は溶解された気体分子は、セパレータ６８のチューブを通って透過し、真空ポート６６を通って真空引きされる。このプロセスは、脱気装置６０の下流端において、実質的に気体を含有しない処理液体をもたらす。

【0036】

管のための好ましい材料は、合成フッ素ポリマー、例えばＴｅｆｒｏｎ（登録商標）（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．，Ｉｎｃ．ｏｆ Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅの商標）である。より好ましくは、管のための材料は、ＦＥＰ Ｔｅｆｒｏｎ（登録商標）（Ｔｅｆｒｏｎ（登録商標）のフッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）形態）であるが、Ｔｅｆｒｏｎ（登録商標）のペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）形態又はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）形態もまた適している場合がある。ＰＴＦＥは、非常に長い非分岐鎖の形に結合された少なくとも２００００のＣ₂Ｆ₄モノマー単位から構成される、非常に安定な熱可塑性のテトラフルオロエチレンホモポリマーである。ＦＥＰ Ｔｅｆｒｏｎ（登録商標）は、セパレータチューブ６９Ａ、６９Ｂであって、典型的な不活性加圧気体の分子がそれを通過することができるように十分に多孔性であり、一方で同時に、ＴＥＯＳ又は他の商業的に入手可能な反応体の分子に対して非透過性であるセパレータチューブ６９Ａ、６９Ｂを提供する利点を有する。ＦＥＰはまた、上に記載される寸法の管として形成されるときに、それを挟んだ圧力差に耐えるのに十分な構造強度を有するため、適している。さらに、ＦＥＰは、半導体処理操作における使用のための、工業的に許容される材料である。ＦＥＰは比較的高純度であり、任意の処理環境又は処理流体中に不純物を気体放出及び注入しないことが見出された。このことは、本発明の脱気装置６０におけるセパレータ６８としての使用のために他の点で適した他の材料については必ずしも当てはまらない。

【0037】

さらに、図２は、真空チャンバー６２中でセパレータ６８Ａ及び６８Ｂを囲む膜７６を示している。膜７６は、真空ポート６６に近接した開口部７８を有する。さらに、図２は、真空チャンバー６２の内部に位置する任意選択の低ワット数加熱器８０を示している。加熱器８０は、所望されるときに、膜７６の温度を何度か、典型的には１０℃上昇させ、それによって膜の透過性を向上させるように機能する。

【0038】

図示されていないが、本発明の脱気装置６０の任意の実施態様は、セパレータ６８の不具合を検知するためのセンサーを備えることができると想定されている。この不具合は、例えば、セパレータ６８がコネクタ６７から接続を切られた場合に、又はチューブ６９Ａ、６９Ｂが破裂した場合に起こり得る。このような不具合は、例えば、脱気装置６０の真空チャンバー６２の底部に液体センサーを配置して、例えば破裂したセパレータチューブ６９Ａ、６９Ｂの結果として、蓄積している任意の液体を検出することによって、検知することができる。代わりに、真空ポート６６の近くに、又は下で説明される他の場所に圧力センサーを配置して、チューブの不具合の際に、又はセパレータ６８に関連する他の不具合、例えば連結部又は入口若しくは出口ラインにおける漏出の際に起こる、真空チャンバー６２中の圧力の任意の突然の変化を検知することができる。

【0039】

図２に示される実施態様において、入口２２Ａ、２２Ｂの数は、セパレータ６８Ａ、６８Ｂの数に等しい。同様に、出口２３Ａ、２３Ｂの数は、セパレータ６８Ａ、６８Ｂの数に等しい。同じ又は異なる化学物質を、入口２２Ａ、セパレータ６８Ａ及び出口２３Ａを含む、真空チャンバー６２を通る第一の流動経路又は列Ａ、並びに入口２２Ｂ、セパレータ６８Ｂ及び出口２３Ｂを含む、真空チャンバー６２を通る第二の流動経路又は列Ｂを通して供給することができる。入口２２Ａは、第一の流体のために、第一の供給源（図示されていない）に接続されている供給ライン３８に接続されていて、入口２２Ｂは、（第一の供給源若しくは第二の供給源のいずれかからの）同じ第一の化学物質、又は第二の供給源からの第二の化学物質のために、第一の供給源又は第二の供給源（図示されていない）に接続されている供給ライン３９に接続されている。

【0040】

図３は、３つのセパレータ６８を備える、本発明の脱気装置６０の代替的な実施態様を示している。図３に示される脱気装置６０の実施態様において、入口２２の数はまた、セパレータ６８の数に等しく、出口２３の数もまた、セパレータ６８の数に等しい。脱気装置６０はハウジング１００を備え、ハウジング１００中に、真空チャンバー６２と、ポンプ８３と、ハウジング１００の中への１つ又は複数の供給源ラインと、ハウジング１００の外への１つ又は複数の放出管と、バルブと、１つ又は複数の流体（化学物質）をセパレータ６８のそれぞれに送る他のラインとが位置する。

【0041】

図３に示される実施態様において、第一の、第二の及び第三のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃが存在する。図３は、複数の供給ライン及び放出ラインを備えることができる、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃの上流及び下流の、真空チャンバー６２の外部にある配管を示している。セパレータ６８の入口側において、図示されるように、第一の及び第二の供給源ライン３８、３９は、第一の、第二の及び第三の入口２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃの上流に備えられ、１つ又は２つの異なる又は同じ流体化学物質流をセパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのうち１つ又は複数に流動させるのに使用することができる。加えて、脱気装置の配管は供給ライン４７を備え、供給ライン４７は、供給源ラインの下流にあり、かつ、この実施態様においては、第一の、第二の及び第三の連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣにおいて、供給ライン４７を入口２２Ａ、２２Ｂ及び２２Ｃにそれぞれ接続することによって、１つ又は複数の供給源ラインを第一の、第二の及び第三のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃに接続している（代わりの実施態様において、供給ライン４７は、入口２２の下流にあり、かつ真空チャンバー６２の内部に位置することができる）。図示されるように、供給源ライン３８は、その中に、供給ライン４７との接続部Ｊ３８の上流にバルブを有する。供給源ライン３９は、接続部Ｊ３９において供給ライン４７と接続している。連結部は、接続部ともいわれ、同じものであるか、又は異なるものである場合がある。例えば、適した連結部は、２方向、３方向又は４方向の接続具である。

【0042】

上で図２について説明されたように、入口２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃのそれぞれは、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのそれぞれに、それぞれ接続されている。供給ライン４７は、その中に１つ又は複数のバルブを備えることができる。図示されるように、供給ライン４７は、その中に、連結部ＪＡとＪＢとの間に位置する１つのバルブ３７を有する。第一の、第二の及び第三の入口２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃのそれぞれは、それらの中に、供給ライン４７中の第一の、第二の及び第三の連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣの下流に位置する第一の、第二の及び第三のバルブ３５Ａ、３５Ｂ及び３５Ｃをそれぞれ有する。流体を脱気装置６０中に流動させるために流体の単一の供給源が使用される場合、バルブ３７は閉じていてよく、流体は、供給源ライン３９を通って流動し、その流体の脱気装置６０への流量に応じて、バルブ３５Ａ、３５Ｂ及び３５Ｃのうち１つだけ、２つだけ又は３つ全てが開かれて、流体が、それぞれ、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのうち１つ、２つ又は３つ全てを通って流動することを可能とする。流体の単一の供給源からの流量が少ない場合、１つのバルブのみ、例えばバルブ３５Ｂのみが開かれ、従って、流体は、セパレータ６８Ｂと流体的に接続されている入口２２Ｂを介して、真空チャンバー６２中に流動する。供給源ライン３９における流体の流量が、２つのセパレータを必要とするほどに十分に多い場合、バルブ３７は閉じていてよく（又は閉じたままであり）、流体の流動は、それぞれ、供給源ライン３９を介して供給ライン４７へと、開いたバルブ３５Ｂ及び３５Ｃを通ってセパレータ６８Ｂ及び６８Ｃへと行くことができる。他方で、供給源ライン３９を通る流体の流動が３つのセパレータのために十分である場合、供給源ライン３８中のバルブ２９が閉じられ；供給ライン４７中のバルブ３７、並びに入口２２Ａ、２２Ｂ及び２２Ｃ中のバルブ３５Ａ、３５Ｂ及び３５Ｃが全て開かれて、流体は、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃ中に、及びセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃを通って流動する。

【0043】

図３に示されるように、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃの下流に、脱気装置６０中に設けられる任意選択の配管が、さらに存在する。図示されるように、脱気装置６０は、出口２３Ａ、２３Ｂ及び２３Ｃと；それぞれ、出口２３Ａ、２３Ｂ及び２３Ｃのそれぞれの中にあるバルブ３１Ａ、３１Ｂ及び３１Ｃと；出口２３Ａ、２３Ｂ及び２３Ｃに流体的に接続され、かつ２つの放出ライン４８及び４９に流体的に接続されている捕集ライン４１とを備える。放出管４８及び４９は、それぞれ、コネクタＪ４８及びＪ４９を介して、捕集ライン４１に接続されている。出口２３Ａ、２３Ｂ及び２３Ｃは、それぞれ、連結部ＪＤ、ＪＥ及びＪＦを介して、捕集ライン４１に接続されている。さらに、脱気装置６０は、放出ライン４８中に（捕集ライン４１の下流に）バルブ４０を、連結部ＪＤ及びＪＥの間の捕集ライン４１中にバルブ３３を備える。図３に示される実施態様について上で説明されたように、セパレータ６８Ｂが、流体が流動する唯一のセパレータである場合、バルブ３１Ｂは開かれ、バルブ３３及び３１Ｃは閉じられて、脱気された流体を、放出ライン４９中に、及び放出ライン４９を通じて、脱気装置６０の下流にある１つ又は複数のツール（図示されていない）へと送ることができる。先に説明されたように、セパレータ６８Ｂ及び６８Ｃが同じ流体を脱気している場合、バルブ３３は閉じられ、バルブ３１Ｂ及び３１Ｃは開かれる。３つの全てのセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃが流体を脱気していて、１つの放出ラインのみが使用される場合、バルブ４０は閉じられ、バルブ３１Ａ、３１Ｂ及び３１Ｃは開かれる。

【0044】

１つより多い流体供給源が使用される場合、脱気装置６０中に流体を流動させるために、供給源ライン３８及び３９が使用される。脱気される流体は同じであるか、又は異なっていてよい。第一の及び第二の流体供給源からの流体が同じであり、かつ全てのセパレータが作動している場合、セパレータの上流のバルブのうち全ては開かれていてよい。代わりに、脱気される第一の及び第二の流体が同じでない場合、第一の流体を脱気するのに使用される１つ又は複数のセパレータは、第二の流体を脱気するのに使用される１つ又は複数のセパレータから隔離されていなければならない。従って、例えば、第一の流体が、供給源ライン３８を介して脱気装置６０中に流動し、かつ第二の流体が、供給源ライン３９を介して脱気装置６０中に流動する場合、供給ライン４７中のバルブ３７及び捕集ライン４１中のバルブ３３は閉じられて、第一の流体列を第二の流体列から隔離する。第一の供給源ライン３９中の第一の流体は、第一の連結部Ｊ３９及びＪＢ、第一の入口２２Ｂ中の第一のバルブ３５Ｂを通って、第一のセパレータ６８Ａ、第一の出口２３Ａ中の第一のバルブ３１Ａ、第一の連結部ＪＤ及びＪ４８、バルブ４０並びに第一の放出ライン４８の中へと流動する。供給ライン４７を第三のセパレータ６８Ｃへと接続しているバルブ３５Ｃが閉じている場合、第二の供給源ライン３９中の第二の流体は、第二の連結部Ｊ３９及びＪＢ、第二のバルブ３５Ａ、第二の入口２２Ｂに向かって、及びそれらを通って、第二のセパレータ６８Ｂ中に流動し、次いで、第二の出口２３Ｂ、第二のバルブ３１Ｂ（好ましくは、バルブ３１Ｃは閉じている）、第二の連結部ＪＥ及びＪ４９、第二のバルブ４０に向かって、及びそれらを通って、放出ライン４８に向かって、及びそれらを通って流動する。第二の流体の流量が十分に多い場合、第二の流体は、第二の及び第三のセパレータ６８Ｂ及び６８Ｃを通って流動する。それぞれ、第二の及び第三の入口２２Ｂ及び２２Ｃ中の第二の及び第三のバルブ３５Ｂ、３５Ｃは、第二の流体の、第二の及び第三のセパレータ６８Ｂ、６８Ｃ中への流動のために開かれている。加えて、第二の及び第三の出口２３Ｂ、２３Ｃ中の、第二の及び第三のセパレータ６８Ｂ、６８Ｃの下流のバルブ３１Ｂ、３１Ｃは、第二の流体の流動のために開かれている。

【0045】

図４に示される実施態様において、入口２２の数は、セパレータ６８の数より少ない。同様に、出口２３の数は、セパレータ６８の数より少ない。図４に示される脱気装置６０は、増加又は減少する流量の、脱気される単一の化学物質のために設計されている。図４に示される脱気装置６０は、第二の脱気システムを追加する大きなコスト及び専有面積を必要とすることなく、脱気される単一の化学物質の流量の増加を可能とする。図４に示される実施態様において、脱気される化学物質は、入口２２と、第一のセパレータ６８Ａと、出口２３とを含む、真空チャンバー６２を通る第一の流動経路、並びに／又は入口２２と、第二のセパレータ６８Ｂと、出口２３とを、及び／若しくは入口２２と、第三のセパレータ６８Ｃと、出口２３とを含む、真空チャンバー６２を通る第二の流動経路を通して供給することができる。入口２２は、流体のための供給源（図示されていない）に接続されている供給源ライン３８に接続されている。出口２３は、脱気された流体を、１つ又は複数のツール（図示されていない）に提供する放出ラインに接続されている。

【0046】

図４に示される実施態様において、脱気装置６０は、１つより多くのセパレータ（すなわち、第一の、第二の及び第三のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃ）と、入口２２と、供給ライン４７と、捕集ライン４１と、出口２３とを備える。この実施態様において、第一の、第二の及び第三のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃは、連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣにおいて供給ライン４７と、並びに連結部ＪＤ、ＪＥ及びＪＦにおいて捕集ライン４１と接続している。供給ライン４７及び捕集ライン４１は、真空チャンバー６２の内部で、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃの上流及び下流に位置する。（図示される通りでは、単一の供給源ライン３９が存在するが、所望される場合には、図３に示される実施態様のように、１つ又は複数のさらなる供給源ライン及び入口を、本実施態様に加えることができる。加えて、所望される場合には、供給ライン４７及び／又は捕集ライン４１のうち１つ又は複数は、真空チャンバー６２の外部に位置してもよい。）脱気装置の配管は、供給源ライン３９の下流の、及びこの実施態様においては１つ又は複数の入口２２の下流の供給ライン４７を含む。（図３において示された通りでは、供給ライン４７は、１つ又は複数の入口２２の上流で、真空チャンバー６２の外部であった。）供給ライン４７は、１つ又は複数の供給源ライン３９をセパレータ６８に接続していて、この実施態様においては、連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣにおいて、供給ライン４７を、第一の、第二の及び第三のセパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃに接続することによって接続されている。

【0047】

供給源ライン３９は、接続部Ｊ３９において、供給ライン４７に接続している。（連結部及び接続部は、同じであるか、又は異なってもよい。２方向、３方向及び／又は４方向の配管接続具のうち１つ又は複数を、連結部及び接続部のために使用することができ、この実施態様及び他の実施態様において、連結部及び接続部は、図示されている通りの場所だけでなく、供給ライン４７及び捕集ライン４１におけるいずれの場所に位置してもよい。）供給ライン４７中の連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣは、それぞれ、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのそれぞれに直接接続していてよく、又はそれぞれ、連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣのうち１つ若しくは複数と、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのうち１つ若しくは複数との間に、幾つかの管又は代わりの接続具が存在してよい。幾つかの実施態様において、急速開放バルブ（図示されていない）を、それぞれ、連結部ＪＡ、ＪＢ及びＪＣのうち１つ又は複数と、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃのうち１つ又は複数との間に備えることができる。

【0048】

供給ライン４７は、その中に、１つ又は複数のバルブを備えることができる。図示されるように、供給ライン４７は、連結部ＪＡとＪＢとの間に位置する１つのバルブ３７を有する（連結部は、それぞれ、第一の及び第二のセパレータ６８Ａ及び６８Ｂと流体連通している）。図示されるように、供給ライン４７は、連結部ＪＢとＪＣとの間に位置する第二のバルブ５７を有する（連結部は、それぞれ、第二の及び第三のセパレータ６８Ｂ及び６８Ｃと流体連通している）。図４の実施態様は、脱気装置６０を通って流動する流体が存在する場合に、セパレータ６８Ｂが常に作動するように設計されている。バルブ３７及び５７は、ともに閉じているか、ともに開かれているか、又は、それぞれ、個別に、開と閉若しくは閉と開であり、脱気される流体の容積に応じて、それぞれ、セパレータ６８Ａ及び６８Ｃの両方又はそれぞれの中への流体の流動を妨げるか、又は可能とすることができる。

【0049】

捕集ライン４１との連結部ＪＤ、ＪＥ及びＪＦが、セパレータ６８Ａ、６８Ｂ及び６８Ｃの放出端部にある。捕集ライン４１は、その中に、１つ又は複数のバルブを有することができる。典型的には、捕集ライン４１中のバルブの数は、供給ライン４７中のバルブの数と一致する。図示されるように、第一の及び第二の連結部ＪＤ及びＪＥの間にバルブ３３が、第二の及び第三の連結部ＪＥ及びＪＦの間にバルブ５３が存在する。セパレータ６８Ａが作動していないとき、すなわちバルブ３７が閉じているとき、バルブ３３も閉じている。セパレータ６８Ｃが作動していないとき、すなわちバルブ５７が閉じているとき、バルブ５３も閉じている。操作の期間の後、セパレータ６８Ｂが作動している（流体を脱気している）唯一のセパレータとなったとき、流体の増加のための要求がある場合、又は同じ化学物質流体が供給される第二のツールが作動される場合、さらなるセパレータを、又は供給ライン中のバルブと、捕集ライン中の対応するバルブとを開けることによってセパレータ６８Ａ及び／若しくは６８Ｃを作動させることができ、このことは、１つ又は複数のセパレータへの、及び１つ又は複数のセパレータを通る流体の流動を提供する。セパレータ６８Ａのために、バルブ３７及び３３が開かれるか、及び／又はセパレータ６８Ｃのために、バルブ５７及び５３が開かれて、それらのセパレータへの、及びそれらのセパレータを通る、脱気される流体の流動を提供する。

【0050】

代わりの実施態様において、供給ライン４７は、真空チャンバー６２に対して外部であり、かつ捕集ライン４１は、真空チャンバー６２に対して内部であってよく、及び／又は供給ライン４７は、真空チャンバー６２に対して内部であり、かつ捕集ライン４１は、真空チャンバー６２に対して外部であってよい。真空チャンバー６２に対して内部の供給ライン４７及び捕集ライン４１を有することは、真空チャンバー６２の１つ又は複数の壁を貫通する必要がある、より少ない入口２２及び出口２３を提供することができる。壁を通る、より少ない貫通は、貫通のうち１つにおける漏出の機会を減少させる。他方で、供給ライン４７及び／又は捕集ライン４１が真空チャンバー６２に対して外部に位置する場合、真空チャンバー６２はサイズを小さくすることができ、供給ライン４７及び／若しくは捕集ライン４１に対して、又はその中の、供給ライン４７及び／若しくは捕集ライン４１のいずれか若しくは両方の中のバルブ若しくはバルブ制御器に対して修理がされる必要がある場合、真空チャンバー６２の外部に位置する場合には、それらにアクセスしやすい。供給ライン４７及び捕集ライン４１が真空チャンバー６２の内部に位置する場合、頂壁２４及び底壁２５のうち１つ若しくは両方は取り外し可能であってよく、並びに／又は真空チャンバー６２は空密のシールを有するアクセス扉（図示されていない）を設けられてよい。

【0051】

本発明のさらなる態様において、脱気装置６０において使用されるセパレータ６８は、特定の容積の流体を脱気するように設計される場合があるが、セパレータ６８の容積は等量である必要はない。例えば、標準的なセパレータは、例えば、０．５容積の流体／分、１容積の流体／分、及び０．８容積の流体／分を脱気するように製造することができる。従って、例えば、セパレータが使用されていて、１容積の流体／分を脱気していて、エンドユーザーが容積を１．５に増やす必要がある場合、同じ真空チャンバー６２の内部の、０．５容積の流体／分のセパレータを作動させることができる。１つの実施態様において、それぞれのセパレータ６８は複数のチューブを備える。セパレータが脱気することができる流体の容積を変えるために、それぞれのセパレータについて、チューブの数を増加又は減少させることができる。流体の要求量が、１容積の流体／分から１．５容積の流体／分へと増加する場合、作動される第二のセパレータにおいて使用されるチューブの数は、既に作動されていたセパレータにおけるチューブの数の半分となる。

【0052】

代わりの実施態様において、使用していないセパレータを隔離するバルブのうち任意のものは、代わりに、プラグ（図示されていない）に取り換えることができる。セパレータ、例えばセパレータ６８Ａ及び６８Ｃが、最初に取り付けられたときに設備に設けられていないとき、プラグを設けることができるが、脱気された流体についての要求量が増加した場合に、プラグは、供給ライン４７及び捕集ライン４１と流体連通しているセパレータ６８Ａ、６８Ｃのうち１つ又は複数の、並びに任意選択で、供給ライン４７及び捕集ライン４１中のバルブのペア３７及び３３又は５７及び５３のうち１つ又は複数の容易な交換及び取り付けを可能とする。１つの実施態様において、脱気装置６０は、第一のセパレータのみを、又は第一の及び第二のセパレータのみを、例えばセパレータ６８Ｂを、又はセパレータ６８Ａ及び６８Ｂを取り付けられていてよく、プラグ（図示されていない）を、バルブ３７若しくは５７並びに／又はバルブ３３及び５３の、いずれか又は両方の代わりに設けることができる。流体を１つ又は複数のセパレータ中に流動させる前に、プラグは取り外されなければならず、１つ又は複数のセパレータは脱気装置６０に取り付けられなければならない。

【0053】

図５は、さらなる態様を有する脱気システムの模式図を示している。脱気装置６０は、脱気される流体のための供給源８４（タンクとして図示されている）と、脱気された流体の使用の箇所８６との間に配置される。脱気装置６０は、真空チャンバー６２と；真空チャンバー６２の内部を大気圧より低い圧力に減圧するための真空ポンプ８３（使用することができる任意の減圧装置を表すために使用される）と；真空ポンプ８３を真空チャンバー６２の真空ポート６６に接続して、真空ライン８８を形成する真空吸引管と；真空吸引管８８中の圧力を測定するための圧力計８２と；真空ライン中で、圧力計８２の位置よりも、真空チャンバー６２に近い位置に配置された液体漏出センサー８１とを備える。脱気システムは、制御システム９８、ヒューマンマシンインターフェース又はＨＭＩ９７、並びにバルブを開閉してポンプ速度を調節する電気的及び／又は機械的構成要素をさらに備える。真空チャンバー６２は、真空チャンバー６２の頂壁２４が鉛直方向に上向きに配向されるように、入口２２及び出口２３が両方ともに頂壁２４を通過するように、かつ入口２２及び出口２３が両方ともに鉛直方向に上向きに配向されるように、脱気装置のハウジング１００中に取り付けられる。任意選択のポンプ８５は、流体供給源８４中に保持された流体を取り出し、流体を脱気装置６０に送り、次いで、脱気された流体を使用の箇所８６に送る。流体供給源８４の上部が他の方法で加圧されて脱気装置６０への流体の流動をもたらす場合、ポンプ８５は省略することができる。さらに、代わりの実施態様において、任意選択のポンプ８５及び流体供給源８４もまた、ハウジング１００の中にあってよい。

【0054】

図５に示される脱気装置６０において、真空チャンバー６２と真空ポンプ８３との間の真空ライン８８に配置された圧力計８２は、（配線接続の、無線の、又は他の方法の）データ送信器９９を介して、圧力計８２が測定した量を、制御システム９８に電気的に通信して、変動について確認する。制御システム９８は、その情報を使用して真空ポンプ８３と通信して、真空ポンプ８３を加速又は減速させる。好ましい実施態様において、ポンプ８３は、１つ、２つ、３つ又はより多くのセパレータ６８が、真空チャンバー６２中の流体を脱気しているかどうかにかかわらず、真空チャンバー６２中の低下された圧力の同じレベルを維持することを可能とし、一方で真空ポンプ８３の摩耗を低減することを可能とする可変速ポンプである。

【0055】

加えて、脱気装置６０は、例えばチューブの束６９Ａ、６９Ｂのチューブの漏出又はコネクタ６７の漏出によって引き起こされる場合がある真空チャンバー６２における任意の漏出があるかどうかを決定するための液体漏出センサー８１を備えることができる。漏出が検知される場合、脱気プロセスは停止されるべきである。適した種類の液体漏出センサー８１は、限定するものではないが、例えば、２本の導線を有し、導線間の抵抗の変化を検知する液体漏出センサー８１、超音波液体検知器、又は光ファイバー型の液体漏出センサーを使用することができる。さらに、検知器、例えば液体漏出センサー８１及び真空計を、脱気装置６０の真空チャンバー６２中に配置することができる。

【0056】

図５に示されるように、液体トラップ８９を、脱気装置６０中で、真空チャンバー６２と真空ポンプ８３との間の真空ライン８８に配置することができる。液体トラップ８９は、真空ポート６６を介して真空ライン８８中に流動した脱気される流体が、真空ポンプ８３中に引き抜かれて、圧力計８２と接触することを妨げる。このように構成されているとき、圧力計８２及び真空ポンプ８３を不具合から守ることができる。

【0057】

液体トラップ８９として、液体を保持することができる小さいチャンバーと、気体が透過することはできるが、一方で液体が透過することを妨げる気体透過性のフィルターを備える構成要素とを使用することができる。このような気体透過性のフィルターの具体的な例は、フッ素樹脂又はポリオレフィン樹脂から製造される多孔性の膜を含む多孔性のフィルターである。具体的には、液体トラップ８９は、液体漏出センサー８１と真空ポンプ８３との間で、好ましくは液体漏出センサー８１と圧力計８２との間で、真空ライン８８に配置される。

【0058】

さらに、図５に示される脱気システムは、それを通って流動する脱気された流体の流量を測定する流量計１１８を備え、制御バルブを調節して、使用の箇所８６への脱気された流体の流量を増加又は減少させる。増加した又は減少した要求量がある場合、脱気された流体についての要求量に応じて、流量計１１８は、脱気装置６０中のバルブを自動的に開閉する制御システム９８と通信して、１つ若しくは複数のさらなるセパレータ、又は１つ若しくは複数の、より少ないセパレータに流体を流動させる。加えて、任意選択のポンプ８５の速度は、要求量の増加又は減少に応じて、制御システム９８に応答して、調節することができる。代わりに、流体の流動は、（任意選択で、センサーの検出に応じて、又は使用の箇所８６における脱気された流体についての要求量の手動の増加に応じて）１つ又は複数のセパレータ６８と流体連通している閉じたバルブを開いて、１つ又は複数のセパレータ６８を通して流体を送ることによって、手動で（自動に対して）調節することができる。

【0059】

代わりに、又は加えて、閉じたバルブを開ける自動又は手動のプロセスは、流量計１１８に応じたものであってよく、又は流体供給源８４の重量を測定するスケール（図示されていない）によって測定された流体の重量の変化の速度に応じたものであってよい。代わりの実施態様において、ポンプ８５と、任意選択で流量計１１８、制御バルブ１２８及び気化器１３０のうち１つ又は複数とに加えて、任意選択で、スケール及び流体の供給源８４はハウジング１００中に位置してよい。流体制御バルブ１２８は、接続ライン１２６を介して、流量計１１８と通信している。

【0060】

具体的な実施態様を参照して、本発明が説明された。当業者にとって、複数の変形は明らかであることができる。このような複数の変形は、本開示に含まれる。
本発明の実施形態としては、以下の実施形態を挙げることができる。
（付記１）
処理液体（１１４）中に捕捉又は溶解された気体の分子を除去するための脱気装置（６０）であって、
１つ又は複数の真空チャンバー壁（２４、２５）を有する真空チャンバー（６２）と；
１つ又は複数の流体入口（２２）及び１つ又は複数の流体出口（２３）であって、それらを通って処理液体（１１４）が真空チャンバー（６２）の中へと及び外へとそれぞれ通過し、真空チャンバー壁（２４、２５）のうち少なくとも１つを貫通している１つ又は複数の入口（２２）及び１つ又は複数の出口（２３）と；
真空チャンバー（６２）の内部に位置し、捕捉又は溶解された気体の分子に対して透過性であるが、処理液体（１１４）に対して非透過性であるように構成された１つ又は複数のセパレータ（６８）と；
真空ポート（６６）を通じて、１つ又は複数のセパレータ（６８）を挟んで圧力差を適用して、捕捉又は溶解された気体の分子を処理液体（１１４）から脱離させ、１つ又は複数のセパレータ（６８）を通って透過させて、それによって捕捉又は溶解された気体を処理液体（１１４）から除去するための少なくとも１つのバキュームと；
任意選択で、１つ又は複数の入口（２２）及び１つ又は複数のセパレータ（６８）と流体連通している１つ又は複数の供給ライン（４７）とを備える、脱気装置（６０）。
（付記２）
１つ又は複数の入口（２２）に接続されていて、かつセパレータ（６８）の数が入口（２２）の数より多い場合には２つ以上のセパレータ（６８）を１つ又は複数の供給ライン（４７）に接続する２つ以上の連結部（ＪＡ、ＪＢ、ＪＣ）を有している１つ又は複数の供給ライン（４７）を備える、付記１に記載の脱気装置（６０）。
（付記３）
２つ以上のセパレータ（６８）を備える、付記１又は２に記載の脱気装置（６０）。
（付記４）
３つ以上のセパレータ（６８）を備える、付記１～３のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記５）
１つの入口（２２）を備える、付記１～４のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記６）
２つ以上の入口（２２）を備える、付記１～５のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記７）
３つ以上の入口（２２）を備える、付記１～６のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記８）
１つの出口（２３）を備える、付記１～７のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記９）
２つ以上の出口（２３）を備える、付記１～８のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１０）
３つ以上の出口（２３）を備える、付記１～９のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１１）
２つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの供給ライン（４７）を備える、付記１～１０のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１２）
３つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの供給ライン（４７）を備える、付記１～１１のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１３）
２つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの捕集ライン（４１）を備える、付記１～１２のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１４）
３つ以上のセパレータ（６８）と流体連通している１つの捕集ライン（４１）を備える、付記１～１３のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１５）
閉じているときに、入口（２２）、セパレータ（６８）及び出口（２３）を含む流動経路を、脱気装置（６０）中の１つ又は複数の他のセパレータ（６８）を含む１つ又は複数の他の流動経路から隔離する、供給ライン（４７）中の少なくとも１つのバルブ（３７）及び捕集ライン（４１）中の少なくとも１つのバルブ（３３）を備える、付記１～１４のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１６）
１つのセパレータ（６８）以外の全てのセパレータ（６８）を、その１つのセパレータ（６８）から隔離することができるように、１つのセパレータ（６８）を除いたそれぞれのセパレータ（６８）の上流に少なくとも１つのバルブ（３５）を備える、付記１～１５のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１７）
圧力計（８２）と、真空チャンバー（６２）と流体連通している可変速ポンプ（８３）とをさらに備える、付記１～１６のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記１８）
圧力計（８２）及びポンプ（８３）と電気通信していて、圧力が所定の圧力でないときに可変速ポンプ（８３）のポンプ速度を調節する制御システム（９８）をさらに備える、付記１７に記載の脱気装置（６０）。
（付記１９）
第一のセパレータ（６８）が第一の処理流体（１１４）を脱気し、かつ第二のセパレータ（６８）が第二の処理流体（１１４）を脱気する、付記１～１８のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記２０）
ハウジング（１００）をさらに備える、付記１～１９のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）。
（付記２１）
付記１～２０のいずれか１項に記載の脱気装置（６０）を通して処理流体を流動させる工程を含む、処理流体（１１４）を脱気する方法。
（付記２２）
使用の箇所（８６）における脱気された流体についての要求の増加に基づいて、１つ又は複数のセパレータ（６８）と流体連通している閉じたバルブを自動で又は手動で開いて、１つ又は複数のセパレータ（６８）を通して流体を送ることによって、脱気装置（６０）において脱気される処理流体（１１４）の量を増加させる工程を含む、付記２１に記載の処理流体（１１４）を脱気する方法。
（付記２３）
脱気装置（６０）が２つの異なる流体を脱気する、付記２１又は２２に記載の方法。
（付記２４）
１つのセパレータ（６８）を、処理流体（１１４）を脱気している１つ又は複数の他のセパレータ（６８）から隔離する工程をさらに含む、付記２１～２３のいずれか１項に記載の方法。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】