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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7725368	半導体装置の製造の間に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング溶液及び方法	2025年 8月19日
特許 7709517	銅及びスルーシリコンビア（ＴＳＶ）化学機械平坦化（ＣＭＰ）のためのパッドインボトル（ＰＩＢ）技術	2025年 7月16日
特許 7696461	ケイ素及び窒素を含有する膜を製造するための方法	2025年 6月20日
特許 7695316	半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法	2025年 6月18日
特許 7684232	ケイ素含有膜堆積のための組成物およびそれを用いた方法	2025年 5月27日
特許 7675095	高い弾性率を有する膜を堆積するための新規な前駆体	2025年 5月12日
特許 7668790	フォトレジスト除去剤	2025年 4月25日
特許 7667785	低酸化物トレンチディッシングシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化研磨	2025年 4月23日
特許 7664914	ＥＵＶマスク保護構造のためのエッチング組成物及び方法	2025年 4月18日
特許 7650266	ケイ素含有膜の非コンフォーマル性堆積のための組成物、及びその組成物を使用する方法	2025年 3月24日
特許 7650275	高い酸化物膜の除去速度のシャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）化学機械平坦化（ＣＭＰ）研磨	2025年 3月24日
特許 7637129	モノアルコキシシラン及びジアルコキシシラン、並びにそれらから作られる高密度の有機シリカ膜	2025年 2月27日
特許 7628116	ポストエッチング残留物を除去するための組成物、その組成物を使用する方法、及びその組成物の使用	2025年 2月 7日
特許 7611297	ケイ素含有表面への選択的堆積	2025年 1月 9日
特許 7611361	環状シロキサン、及びこれを用いて製造された膜	2025年 1月 9日

17 件中 1-15 件を表示

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7725368 7709517 7696461 7695316 7684232 7675095 7668790 7667785 7664914 7650266 7650275 7637129 7628116 7611297 7611361

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