(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-09-03
(45)【発行日】2024-09-11
(54)【発明の名称】インプリント用光硬化性組成物
(51)【国際特許分類】
C08F 2/46 20060101AFI20240904BHJP
H01L 21/027 20060101ALI20240904BHJP
C08L 101/00 20060101ALI20240904BHJP
C08F 20/10 20060101ALI20240904BHJP
C08F 290/06 20060101ALI20240904BHJP
G02B 1/04 20060101ALI20240904BHJP
G02B 3/00 20060101ALI20240904BHJP
B29C 59/02 20060101ALI20240904BHJP
C08F 292/00 20060101ALI20240904BHJP
【ＦＩ】
C08F2/46
H01L21/30 502D
C08L101/00
C08F20/10
C08F290/06
G02B1/04
G02B3/00 Z
B29C59/02 Z
C08F292/00
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2022545602
(86)(22)【出願日】2021-08-04
(86)【国際出願番号】 JP2021028993
(87)【国際公開番号】W WO2022044743
(87)【国際公開日】2022-03-03
【審査請求日】2024-06-27
(31)【優先権主張番号】P 2020144179
(32)【優先日】2020-08-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001999
【氏名又は名称】弁理士法人はなぶさ特許商標事務所
(72)【発明者】
【氏名】今井 翔太
【審査官】植木 隆和
(56)【参考文献】
【文献】特開２０００－１７１８０４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－１６６４８６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－１３０９０６（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／１４２６０１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０２０／００７１５４１（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／０２７
Ｇ０３Ｆ ７／２０
Ｂ２９Ｃ ５９／０２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
樹脂と光開始剤とを含有するインプリント用光硬化性組成物であって、動的粘弾性測定により測定した該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であり、前記樹脂は必須成分として少なくとも一種の架橋性樹脂及び任意成分として非架橋性樹脂を含み、下記式（１）で表されるパラメータＸが０．１５以上０．５８以下である、インプリント用光硬化性組成物。【数1】
（式（１）中、ｍは前記樹脂に含まれる前記架橋性樹脂の数を表し、ｘ ｉ は前記樹脂の全ての成分の和１００質量部に占める各々の該架橋性樹脂の割合（単位：質量部）を表し、ｙ ｉ は各々の該架橋性樹脂が有する重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）を表し、ｉは１乃至ｍの正の整数を表す。）
【請求項2】
前記硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において１．７×１０
９
Ｐａ以上３．９×１０
９
Ｐａ以下であり、且つ１００℃において１．９×１０
７
Ｐａ以上１．３×１０
９
Ｐａ以下である、請求項１に記載のインプリント用光硬化性組成物。
【請求項3】
前記樹脂はラジカル重合性樹脂を含み、前記光開始剤は光ラジカル発生剤を含む、請求項１又は請求項２に記載のインプリント用光硬化性組成物。
【請求項4】
前記樹脂はカチオン重合性樹脂を含み、前記光開始剤は光酸発生剤を含む、請求項１又は請求項２に記載のインプリント用光硬化性組成物。
【請求項5】
さらにシリカ粒子を含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物。
【請求項6】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物の硬化物。
【請求項7】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物の成型体。
【請求項8】
カメラモジュール用レンズである請求項７に記載の成型体。
【請求項9】
前記カメラモジュール用レンズはハイブリッドレンズである、請求項８に記載の成型体。
【請求項10】
インプリント用光硬化性組成物の成型体の製造方法であって、支持体上に請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物を塗布する塗布工程、該インプリント用光硬化性組成物と、目的とする成型体の外形の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程、該インプリント工程の後、該モールドを介して該インプリント用光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程、該光硬化部と該モールドとを分離する離型工程、及び該離型工程の後、該インプリント用光硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して該光硬化部を露出させる現像工程、及び該現像工程の後、該光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を含む、成型体の製造方法。
【請求項11】
前記光硬化工程の後、前記離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに含む、請求項１０に記載の成型体の製造方法。
【請求項12】
前記現像工程の後、前記乾燥工程の前に、リンス液を用いて前記光硬化部をリンス処理するリンス工程をさらに含む、請求項１０又は請求項１１に記載の成型体の製造方法。
【請求項13】
前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程をさらに含む、請求項１０乃至請求項１２のいずれか一項に記載の成型体の製造方法。
【請求項14】
前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程をさらに含む、請求項１３に記載の成型体の製造方法。
【請求項15】
前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含む、請求項１３に記載の成型体の製造方法。
【請求項16】
前記ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含む、請求項１４に記載の成型体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、硬化物の貯蔵弾性率の範囲を特定したインプリント用光硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
樹脂製レンズは、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、車載カメラ等の電子機器に搭載されるカメラモジュールに使用されている。近年、電子機器の小型化や高性能化がますます進んでおり、それに伴い、カメラモジュールの薄型化や高解像度化が求められるようになった。このような背景から、樹脂製レンズの製造方法として、熱可塑性樹脂の射出成型から、光硬化性樹脂のＵＶインプリントによるウェハレベル成型への移行が盛んに検討されている。
【0003】
ＵＶインプリントによるウェハレベル成型の方法としては、ガラス基板等の支持体上に光硬化性樹脂を塗布した後その光硬化性樹脂にモールドを押し当てて光を照射する過程を経ることで、支持体上に樹脂製レンズを成型する方法と、支持体を使わずに光硬化性樹脂を一対のモールドで挟み込んで光を照射する過程を経ることで、モノリシックな樹脂製レンズを成型する方法とが挙げられる。特に、前者の方法で得られるものは、無機系の支持体と有機系の樹脂製レンズとを組み合わせた構造であることからハイブリッドレンズと呼ばれ、生産性の観点から好んで使用されている。このような方法で成型されたレンズを、ＩＲカットフィルター、イメージセンサー等の光学部材と組み合わせて積層することで、カメラモジュールが製造される。
【0004】
ここで、カメラモジュール、特に高解像度カメラモジュールは、収差と呼ばれる像のボケや歪みを抑制するために、形状を精密に設計した複数枚のレンズを必要とする。レンズ形状のずれは収差の発生を招くため、レンズには成型時の形状を保持することが求められる。樹脂の形状保持性を高めるための手段として、該樹脂の貯蔵弾性率を大きくすることが知られている。
【0005】
一方、カメラモジュールは日常生活に欠かせない電子機器に搭載されているため、安定して品質を保つことができる信頼性も必要である。信頼性を評価するための代表的な試験として、熱衝撃試験（例えば－２０℃以下の低温及び８０℃以上の高温に交互に繰り返し曝す試験）があり、レンズには、該試験を経てもクラックが生じないような耐衝撃性が求められる。樹脂の耐衝撃性を高めるための手段として、該樹脂の貯蔵弾性率を小さくすることが知られている。
【0006】
すなわち、カメラモジュール用樹脂製レンズにとって、形状保持性と耐衝撃性が非常に重要であるものの、貯蔵弾性率の観点から両特性はトレードオフの関係にあるため、これらの両立が困難であった。
【0007】
例えば、特許文献１には、硬化物の弾性率が１．０×１０４乃至１．０×１０５Ｐａである光学用紫外線硬化型接着剤組成物が提案されており、弾性率を１．０×１０５Ｐａ以下にすることで熱衝撃及び外部衝撃に対する緩衝性が向上し、１．０×１０４以上にすることで機械的強度が向上すると記載されている。特許文献２には、１６０℃における硬化物の貯蔵弾性率を０．１×１０９Ｐａ以上にすることで、高温環境下でも優れた形状保持性を有するウェハレベルレンズを形成することができる旨が記載されているが、耐衝撃性には言及されていない。加えて、特許文献２においてハイブリッドレンズは想定されていないため、特許文献２で提案されている貯蔵弾性率の範囲が、樹脂製レンズの１つの面がガラス基板等の支持体と接している、ハイブリッドレンズならではの特殊な場合にもあてはまるかどうか、不明である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【文献】特開２０１５－２０９５２０号公報
【文献】特開２０１６－２７４０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
特許文献１で提案されている弾性率の範囲は、カメラモジュール用樹脂製レンズが形状保持性を確保するには不十分である。前述のように、形状保持性と耐衝撃性は貯蔵弾性率の観点からトレードオフの関係にあり、両特性をどちらも十分に満たすカメラモジュール用樹脂製レンズは未だなく、その開発が望まれていた。本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、形状保持性と耐衝撃性を両立するカメラモジュール用樹脂製レンズ、特にハイブリッドレンズを作製することが可能な、インプリント用光硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明者は、前記課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、カメラモジュール用樹脂製レンズの形状保持性と耐衝撃性は、硬化物の貯蔵弾性率と密接な関係があることを突き止めた。具体的には、動的粘弾性測定（以下、ＤＭＡと略称することがある。）により測定した硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であれば耐衝撃性が劇的に向上し、１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であれば形状保持性が劇的に向上することを見出した。さらに、前記貯蔵弾性率の範囲を満足するために必要な条件を規定した独自のパラメータを見出し、本発明を完成するに至った。
【0011】
すなわち、本発明の第一態様は、樹脂と光開始剤とを含有するインプリント用光硬化性組成物であって、動的粘弾性測定により測定した該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上である、インプリント用光硬化性組成物である。
【0012】
前記樹脂は、例えば必須成分として少なくとも一種の架橋性樹脂及び任意成分として非架橋性樹脂を含み、下記式（１）で表されるパラメータＸが０．１０以上０．６０未満である。
（式（１）中、ｍは前記樹脂に含まれる前記架橋性樹脂の数を表し、ｘｉは前記樹脂の全ての成分の和１００質量部に占める各々の該架橋性樹脂の割合（単位：質量部）を表し、ｙｉは各々の該架橋性樹脂が有する重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）を表し、ｉは１乃至ｍの正の整数を表す。）
【数1】
（式（１）中、ｍは前記樹脂に含まれる前記架橋性樹脂の数を表し、ｘｉは前記樹脂の全ての成分の和１００質量部に占める各々の該架橋性樹脂の割合（単位：質量部）を表し、ｙｉは各々の該架橋性樹脂が有する重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）を表し、ｉは１乃至ｍの正の整数を表す。）
【0013】
前記樹脂は例えばラジカル重合性樹脂を含み、前記光開始剤は例えば光ラジカル発生剤を含む。または、前記樹脂は例えばカチオン重合性樹脂を含み、前記光開始剤は例えば光酸発生剤を含む。
【0014】
前記インプリント用光硬化性組成物は、さらにシリカ粒子を含有してもよい。
【0015】
本発明の第二態様は、前記インプリント用光硬化性組成物の硬化物である。
【0016】
本発明の第三態様は、前記インプリント用光硬化性組成物の成型体である。
【0017】
前記成型体は、例えばカメラモジュール用レンズである。前記カメラモジュール用レンズは、例えばハイブリッドレンズである。
【0018】
本発明の第四態様は、インプリント用光硬化性組成物の成型体の製造方法であって、支持体上に前記インプリント用光硬化性組成物を塗布する塗布工程、該インプリント用光硬化性組成物と、目的とする成型体の外形の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程、該インプリント工程の後、該モールドを介して該インプリント用光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程、該光硬化部と該モールドとを分離する離型工程、該離型工程の後、該インプリント用光硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して該光硬化部を露出させる現像工程、及び該現像工程の後、該光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を含む、成型体の製造方法である。
【0019】
前記光硬化工程の後、前記離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに含んでもよい。
【0020】
前記現像工程の後、前記乾燥工程の前に、リンス液を用いて前記光硬化部をリンス処理するリンス工程をさらに含んでもよい。
【0021】
前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程をさらに含んでもよい。
【0022】
前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程をさらに含んでもよい。
【0023】
前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含んでもよい。
【0024】
前記ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含んでもよい。
【発明の効果】
【0025】
本発明のインプリント用光硬化性組成物は、該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率が前記範囲を満たし、前記パラメータＸが前記範囲を満たすため、該硬化物の形状保持性と耐衝撃性いずれも優れる。したがって、本発明のインプリント用光硬化性組成物は、カメラモジュール用樹脂製レンズ、特にハイブリッドレンズとして好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【0026】
本発明のインプリント用光硬化性組成物について、より詳細に説明する。
［ＤＭＡ］
ＤＭＡとは、Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ（動的粘弾性測定）であって、ＪＩＳ Ｋ ７２４４－４に記載の内容を参考にした下記条件で実施される測定を指す。
＜試験片作製条件＞
本発明のインプリント用光硬化性組成物を、厚さが２００μｍとなるようにガラス基板２枚で挟み込み、極大波長３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、空気雰囲気下にて照度５０ｍＷ／ｃｍ２で１２０秒間（露光量６Ｊ／ｃｍ２）ＵＶ露光し、得られた硬化物を裁断することで短冊状試験片（長さ３０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ２００μｍ）を作製する。
＜測定条件＞
測定モード：引張振動
引張ひずみ：０．１％
周波数：１Ｈｚ
測定温度範囲：－５０℃から２００℃
昇温速度：２℃／分
測定雰囲気：空気
［ＤＭＡ］
ＤＭＡとは、Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ（動的粘弾性測定）であって、ＪＩＳ Ｋ ７２４４－４に記載の内容を参考にした下記条件で実施される測定を指す。
＜試験片作製条件＞
本発明のインプリント用光硬化性組成物を、厚さが２００μｍとなるようにガラス基板２枚で挟み込み、極大波長３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、空気雰囲気下にて照度５０ｍＷ／ｃｍ２で１２０秒間（露光量６Ｊ／ｃｍ２）ＵＶ露光し、得られた硬化物を裁断することで短冊状試験片（長さ３０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ２００μｍ）を作製する。
＜測定条件＞
測定モード：引張振動
引張ひずみ：０．１％
周波数：１Ｈｚ
測定温度範囲：－５０℃から２００℃
昇温速度：２℃／分
測定雰囲気：空気
【0027】
［貯蔵弾性率］
本発明における貯蔵弾性率とは、前記ＤＭＡによって測定された引張貯蔵弾性率を指す。貯蔵弾性率は、材料の弾性的性質を表す物性である。例えば、金属及びガラス等に代表される貯蔵弾性率が極めて大きい材料は、硬く変形しにくいが、変形によって生じたストレスの散逸性に乏しく、一方、ゴム等に代表される貯蔵弾性率が極めて小さい材料は、柔らかく変形しやすいが、変形によって生じたストレスの散逸性に優れる。一般的な樹脂は、温度が低くなるにつれて貯蔵弾性率が大きくなり、弾性的性質が強くなる一方、温度が高くなるにつれて貯蔵弾性率が小さくなり、弾性的性質が弱くなる。
本発明における貯蔵弾性率とは、前記ＤＭＡによって測定された引張貯蔵弾性率を指す。貯蔵弾性率は、材料の弾性的性質を表す物性である。例えば、金属及びガラス等に代表される貯蔵弾性率が極めて大きい材料は、硬く変形しにくいが、変形によって生じたストレスの散逸性に乏しく、一方、ゴム等に代表される貯蔵弾性率が極めて小さい材料は、柔らかく変形しやすいが、変形によって生じたストレスの散逸性に優れる。一般的な樹脂は、温度が低くなるにつれて貯蔵弾性率が大きくなり、弾性的性質が強くなる一方、温度が高くなるにつれて貯蔵弾性率が小さくなり、弾性的性質が弱くなる。
【0028】
本発明のインプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体の耐衝撃性は、該硬化物の－４０℃における貯蔵弾性率と密接に関係しており、該硬化物の－４０℃における貯蔵弾性率が４．０×１０９Ｐａ以上であると、熱衝撃試験中に生じたストレスの散逸性に乏しくなることで、該硬化物及び成型体が割れる、支持体から剥離する等、耐衝撃性が著しく低下する。ここで、－４０℃という温度に着目した理由は、一般的な熱衝撃試験における最低温度が－４０℃付近であることによる。
【0029】
本発明のインプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体の形状保持性は、該硬化物の１００℃における貯蔵弾性率と密接に関係しており、該硬化物の１００℃における貯蔵弾性率が１．０×１０７Ｐａ未満であると、該硬化物及び成型体の形状保持性が著しく低下する。ここで、１００℃という温度に着目した理由は、ＵＶインプリントによるウェハレベル成型における好ましいプロセス最高温度が１００℃付近であることによる。
【0030】
［樹脂］
本発明における樹脂は、架橋性樹脂と非架橋性樹脂とに大別される。本発明における架橋性樹脂とは、重合によって３次元架橋体を形成し得る樹脂であり、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、エポキシ基及びオキセタニル基から選択される重合性官能基を１分子中に少なくとも２つ有する樹脂である。１分子中に有する重合性官能基の種類は同じであっても異なっていてもよい。また、本発明における非架橋性樹脂とは、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基又はオキセタニル基を１分子中に１つしか有しないか、または１つも有しない樹脂である。なお、本発明における（メタ）アクリレートとは、１分子中にメタクリロイルオキシ基を少なくとも１つ有するメタクリレート又は１分子中にアクリロイルオキシ基を少なくとも１つ有するアクリレートを指す。
本発明における樹脂は、架橋性樹脂と非架橋性樹脂とに大別される。本発明における架橋性樹脂とは、重合によって３次元架橋体を形成し得る樹脂であり、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、エポキシ基及びオキセタニル基から選択される重合性官能基を１分子中に少なくとも２つ有する樹脂である。１分子中に有する重合性官能基の種類は同じであっても異なっていてもよい。また、本発明における非架橋性樹脂とは、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基又はオキセタニル基を１分子中に１つしか有しないか、または１つも有しない樹脂である。なお、本発明における（メタ）アクリレートとは、１分子中にメタクリロイルオキシ基を少なくとも１つ有するメタクリレート又は１分子中にアクリロイルオキシ基を少なくとも１つ有するアクリレートを指す。
【0031】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な架橋性樹脂のうち、ラジカル重合性樹脂として、例えば、以下に示す商品及び化合物が挙げられる。
ビスコート＃１９５、同＃２３０、同＃２６０、同＃３１０ＨＰ、同＃３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＢＤ、ＮＰＧ、Ａ－ＮＰＧ、ＨＤ－Ｎ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、ＮＯＤ－Ｎ、Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、Ａ－ＩＮＤ、ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、ＤＣＰ、Ａ－ＤＣＰ、Ａ－ＤＯＧ、１Ｇ、２Ｇ、３Ｇ、４Ｇ、９Ｇ、１４Ｇ、２３Ｇ、Ａ－２００、Ａ－４００、Ａ－６００、Ａ－１０００、ＡＰＧ－１００、ＡＰＧ－２００、ＡＰＧ－４００、ＡＰＧ－７００、３ＰＧ、９ＰＧ、Ａ－１２０６ＰＥ、Ａ－０６１２ＰＥ、Ａ－０４１２ＰＥ、Ａ－１０００ＰＥＲ、Ａ－３０００ＰＥＲ、Ａ－ＰＴＭＧ－６５、ＡＢＥ－３００、Ａ－ＢＰＥ－４、Ａ－ＢＰＥ－１０、Ａ－ＢＰＥ－２０、Ａ－ＢＰＥ－３０、Ａ－ＢＰＰ－３、Ｕ－２ＰＰＡ、Ｕ－２００ＰＡ、Ｕ－１６０ＴＭ、Ｕ－２９０ＴＭ、ＵＡ－４２００、ＵＡ－４４００、ＵＡ－１２２Ｐ、ＵＡ－Ｗ２Ａ（以上、新中村化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－１２１Ｍ、同ＦＡ－１２４Ｍ、同ＦＡ－１２５Ｍ、同ＦＡ－１２９ＡＳ、同ＦＡ－２２２Ａ、同ＦＡ－２２０Ｍ、同ＦＡ－２４０Ｍ、同ＦＡ－２４０Ａ、同ＦＡ－Ｐ２４０Ａ、同ＦＡ－Ｐ２７０Ａ、同ＦＡ－０２３Ｍ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ｍ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ａ、同ＦＡ－３２０Ｍ、同ＦＡ－３２１Ｍ、同ＦＡ－３２１８Ｍ、同ＦＡ－３２１Ａ、同ＦＡ－３２４Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＡＨ－６００、ＵＦ－８００１Ｇ、ライトエステル１．４ＢＧ、同ＮＰ、同１．６ＨＸ、同１．９ＮＤ、同２ＥＧ、同３ＥＧ、同４ＥＧ、同９ＥＧ、同１４ＥＧ、同ＢＰ－２ＥＭＫ、ライトアクリレート（登録商標）１．６ＨＸ－Ａ、同１．９ＮＤ－Ａ、同ＮＰ－Ａ、同ＭＰＤ－Ａ、同ＤＣＰ－Ａ、同３ＥＧ－Ａ、同４ＥＧ－Ａ、同９ＥＧ－Ａ、同１４ＥＧ－Ａ、同ＰＴＭＧＡ－２５０、同ＢＰ－４ＥＡＬ、同ＢＰ－４ＰＡ、同ＨＰＰ－Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、同７０ＰＡ、同２００ＰＡ、同８０ＭＦＡ、同３００２Ｍ（Ｎ）、同３００２Ａ（Ｎ）、同３０００ＭＫ、同３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＨＤＤＡ、ＤＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＩＲＲ ２１４－Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１１、同１３０、同１４５、同１５０、同２１０、同２３０、同２７０、同２８０／１５ＩＢ、同２８４、同４４９１、同４６８３、同４８５８、同８３０７、同８４０２、同８４１１、同８４１３、同８８０４、同８８０７、同９２７０、同２４６／２０ＨＥＭＡ、同１２７１、同２８６、同４８５９、同８４０９、同８８０９、同８８１０、同８８１１、ＫＲＭ（登録商標）７７３５、同８９６１、同８１９１（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＨＤＤＡ、Ｌ－Ｃ９Ａ、ＮＤ－ＤＡ、ＰＥ－２００、ＰＥ－３００、ＰＥ－４００、ＰＥ－６００、ＰＥＭ－１０００、ＢＰＥＭ－４、ＢＰＥ－４、ＢＰＥＭ－１０、ＢＰＥ－１０、ＢＰＥ－２０、ＨＢＰＥ－４、ＨＢＰＥＭ－１０、ＨＰＮ（第一工業製薬（株）製）、Ｍ－１１００、Ｍ－１２００（以上、東亞合成（株）製）、ＵＭ－９０（３／１）ＤＭ、ＵＭ－９０（１／１）ＤＭ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＭ、ＵＭ－９０（３／１）ＤＡ、ＵＭ－９０（１／１）ＤＡ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ（以上、宇部興産（株）製）、ＵＶ－２０００Ｂ、ＵＶ－３０００Ｂ、ＵＶ－３２００Ｂ、ＵＶ－３３００Ｂ、ＵＶ－３３１０Ｂ、ＵＶ－３５００ＢＡ、ＵＶ－３５２０ＥＡ、ＵＶ－３７００Ｂ、ＵＶ－６６４０Ｂ及びＵＶ－６６３０Ｂ（以上、三菱ケミカル（株）製）等の二官能（メタ）アクリレート；
ビスコート＃２９５、同＃３００、同＃８０２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、Ａ－９３００、Ａ－９３００－１ＣＬ、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、ＴＭＰＴ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＡＤ－ＴＭＰ、ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＴＭＭＴ、Ａ－９５５０、Ａ－ＤＰＨ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１０ＰＡ、ＵＡ－１１００Ｈ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－５３Ｈ、ＵＡ－３３Ｈ、ＵＡ－７１００（以上、新中村化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－７３１Ａ、同ＦＡ－１３７Ｍ（以上、日立化成（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ライトエステルＴＭＰ、ライトアクリレート（登録商標）ＴＭＰ－Ａ、同ＰＥ－３Ａ、同ＰＥ－４Ａ、同ＤＰＥ－６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＰＥＴＡ、ＤＰＨＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＯＴＡ４８０、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１６０Ｓ、同４０、同１４０、同１１４２、同２２０、同８８００、同２９４／２５ＨＤ、同４２２０、同４５１３、同４７３８、同４７４０、同４８２０、同８３１１、同９２６０、同８７０１、同４２６５、同４５８７、同４６６６、同４６８０、同８２１０、同８４０５、同１２９０、同５１２９、同８３０１Ｒ、同４５０１、同２２２１、同８４６５、同１２５８、同４１０１、同４２０１、同８２０９、同１２９１、同８６０２、同２２５、ＫＲＭ（登録商標）８６６７、同８２９６、同８５２８、同８２００、同８２００ＡＥ、同８５３０、同８９０４、同８５３１ＢＡ、同８４５２（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＴＭＰＴＭ、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ－２Ｐ、ＴＭＰ－３Ｐ、ＴＭＰ－３、ＰＥＴ－３、ＰＥＴＡ－４、ＴＥＩＣＡ、ＭＦ－００１、ＭＦ－１０１（以上、第一工業製薬（株）製）、Ｍ－３０５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－４００、Ｍ－４０２、Ｍ－４０３、Ｍ－４０４、Ｍ－４０５、Ｍ－４０６、Ｍ－４０８、Ｍ－４５０、Ｍ－４６０、Ｍ－４７１（以上、東亞合成（株）製）、ＵＶ－２７５０Ｂ、ＵＶ－７０００Ｂ、ＵＶ－７５１０Ｂ、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－７６２０ＥＡ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ及びＵＶ－７６５０Ｂ（以上、三菱ケミカル（株）製）等の多官能（メタ）アクリレート；
その他、前記重合性官能基を１分子中に少なくとも２つ有するポリマー及びデンドリマー。
ビスコート＃１９５、同＃２３０、同＃２６０、同＃３１０ＨＰ、同＃３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＢＤ、ＮＰＧ、Ａ－ＮＰＧ、ＨＤ－Ｎ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、ＮＯＤ－Ｎ、Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、Ａ－ＩＮＤ、ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、ＤＣＰ、Ａ－ＤＣＰ、Ａ－ＤＯＧ、１Ｇ、２Ｇ、３Ｇ、４Ｇ、９Ｇ、１４Ｇ、２３Ｇ、Ａ－２００、Ａ－４００、Ａ－６００、Ａ－１０００、ＡＰＧ－１００、ＡＰＧ－２００、ＡＰＧ－４００、ＡＰＧ－７００、３ＰＧ、９ＰＧ、Ａ－１２０６ＰＥ、Ａ－０６１２ＰＥ、Ａ－０４１２ＰＥ、Ａ－１０００ＰＥＲ、Ａ－３０００ＰＥＲ、Ａ－ＰＴＭＧ－６５、ＡＢＥ－３００、Ａ－ＢＰＥ－４、Ａ－ＢＰＥ－１０、Ａ－ＢＰＥ－２０、Ａ－ＢＰＥ－３０、Ａ－ＢＰＰ－３、Ｕ－２ＰＰＡ、Ｕ－２００ＰＡ、Ｕ－１６０ＴＭ、Ｕ－２９０ＴＭ、ＵＡ－４２００、ＵＡ－４４００、ＵＡ－１２２Ｐ、ＵＡ－Ｗ２Ａ（以上、新中村化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－１２１Ｍ、同ＦＡ－１２４Ｍ、同ＦＡ－１２５Ｍ、同ＦＡ－１２９ＡＳ、同ＦＡ－２２２Ａ、同ＦＡ－２２０Ｍ、同ＦＡ－２４０Ｍ、同ＦＡ－２４０Ａ、同ＦＡ－Ｐ２４０Ａ、同ＦＡ－Ｐ２７０Ａ、同ＦＡ－０２３Ｍ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ｍ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ａ、同ＦＡ－３２０Ｍ、同ＦＡ－３２１Ｍ、同ＦＡ－３２１８Ｍ、同ＦＡ－３２１Ａ、同ＦＡ－３２４Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＡＨ－６００、ＵＦ－８００１Ｇ、ライトエステル１．４ＢＧ、同ＮＰ、同１．６ＨＸ、同１．９ＮＤ、同２ＥＧ、同３ＥＧ、同４ＥＧ、同９ＥＧ、同１４ＥＧ、同ＢＰ－２ＥＭＫ、ライトアクリレート（登録商標）１．６ＨＸ－Ａ、同１．９ＮＤ－Ａ、同ＮＰ－Ａ、同ＭＰＤ－Ａ、同ＤＣＰ－Ａ、同３ＥＧ－Ａ、同４ＥＧ－Ａ、同９ＥＧ－Ａ、同１４ＥＧ－Ａ、同ＰＴＭＧＡ－２５０、同ＢＰ－４ＥＡＬ、同ＢＰ－４ＰＡ、同ＨＰＰ－Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、同７０ＰＡ、同２００ＰＡ、同８０ＭＦＡ、同３００２Ｍ（Ｎ）、同３００２Ａ（Ｎ）、同３０００ＭＫ、同３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＨＤＤＡ、ＤＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＩＲＲ ２１４－Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１１、同１３０、同１４５、同１５０、同２１０、同２３０、同２７０、同２８０／１５ＩＢ、同２８４、同４４９１、同４６８３、同４８５８、同８３０７、同８４０２、同８４１１、同８４１３、同８８０４、同８８０７、同９２７０、同２４６／２０ＨＥＭＡ、同１２７１、同２８６、同４８５９、同８４０９、同８８０９、同８８１０、同８８１１、ＫＲＭ（登録商標）７７３５、同８９６１、同８１９１（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＨＤＤＡ、Ｌ－Ｃ９Ａ、ＮＤ－ＤＡ、ＰＥ－２００、ＰＥ－３００、ＰＥ－４００、ＰＥ－６００、ＰＥＭ－１０００、ＢＰＥＭ－４、ＢＰＥ－４、ＢＰＥＭ－１０、ＢＰＥ－１０、ＢＰＥ－２０、ＨＢＰＥ－４、ＨＢＰＥＭ－１０、ＨＰＮ（第一工業製薬（株）製）、Ｍ－１１００、Ｍ－１２００（以上、東亞合成（株）製）、ＵＭ－９０（３／１）ＤＭ、ＵＭ－９０（１／１）ＤＭ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＭ、ＵＭ－９０（３／１）ＤＡ、ＵＭ－９０（１／１）ＤＡ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ（以上、宇部興産（株）製）、ＵＶ－２０００Ｂ、ＵＶ－３０００Ｂ、ＵＶ－３２００Ｂ、ＵＶ－３３００Ｂ、ＵＶ－３３１０Ｂ、ＵＶ－３５００ＢＡ、ＵＶ－３５２０ＥＡ、ＵＶ－３７００Ｂ、ＵＶ－６６４０Ｂ及びＵＶ－６６３０Ｂ（以上、三菱ケミカル（株）製）等の二官能（メタ）アクリレート；
ビスコート＃２９５、同＃３００、同＃８０２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、Ａ－９３００、Ａ－９３００－１ＣＬ、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、ＴＭＰＴ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＡＤ－ＴＭＰ、ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＴＭＭＴ、Ａ－９５５０、Ａ－ＤＰＨ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１０ＰＡ、ＵＡ－１１００Ｈ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－５３Ｈ、ＵＡ－３３Ｈ、ＵＡ－７１００（以上、新中村化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－７３１Ａ、同ＦＡ－１３７Ｍ（以上、日立化成（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ライトエステルＴＭＰ、ライトアクリレート（登録商標）ＴＭＰ－Ａ、同ＰＥ－３Ａ、同ＰＥ－４Ａ、同ＤＰＥ－６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＰＥＴＡ、ＤＰＨＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＯＴＡ４８０、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１６０Ｓ、同４０、同１４０、同１１４２、同２２０、同８８００、同２９４／２５ＨＤ、同４２２０、同４５１３、同４７３８、同４７４０、同４８２０、同８３１１、同９２６０、同８７０１、同４２６５、同４５８７、同４６６６、同４６８０、同８２１０、同８４０５、同１２９０、同５１２９、同８３０１Ｒ、同４５０１、同２２２１、同８４６５、同１２５８、同４１０１、同４２０１、同８２０９、同１２９１、同８６０２、同２２５、ＫＲＭ（登録商標）８６６７、同８２９６、同８５２８、同８２００、同８２００ＡＥ、同８５３０、同８９０４、同８５３１ＢＡ、同８４５２（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＴＭＰＴＭ、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ－２Ｐ、ＴＭＰ－３Ｐ、ＴＭＰ－３、ＰＥＴ－３、ＰＥＴＡ－４、ＴＥＩＣＡ、ＭＦ－００１、ＭＦ－１０１（以上、第一工業製薬（株）製）、Ｍ－３０５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－４００、Ｍ－４０２、Ｍ－４０３、Ｍ－４０４、Ｍ－４０５、Ｍ－４０６、Ｍ－４０８、Ｍ－４５０、Ｍ－４６０、Ｍ－４７１（以上、東亞合成（株）製）、ＵＶ－２７５０Ｂ、ＵＶ－７０００Ｂ、ＵＶ－７５１０Ｂ、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－７６２０ＥＡ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ及びＵＶ－７６５０Ｂ（以上、三菱ケミカル（株）製）等の多官能（メタ）アクリレート；
その他、前記重合性官能基を１分子中に少なくとも２つ有するポリマー及びデンドリマー。
【0032】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な架橋性樹脂のうち、カチオン重合性樹脂として、例えば、以下に示す商品及び化合物が挙げられる。
ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８３０、同８３０－Ｓ、同８３５、同８４０、同８４０－Ｓ、同８５０、同８５０－Ｓ、同８５０－ＬＣ、同ＨＰ－８２０（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－２０１、同ＥＸ－２１１、同ＥＸ－２１２、同ＥＸ－２５２、同ＥＸ－８１０、同ＥＸ－８１１、同ＥＸ－８２１、同ＥＸ－８３０、同ＥＸ－８３２、同ＥＸ－８４１、同ＥＸ－８５０、同ＥＸ－８５１、同ＥＸ－８６１、同ＥＸ－９２０、同ＥＸ－９３１、同ＥＸ－９９１Ｌ、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１、同ＥＸ－３２１Ｌ、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６１４Ｂ、同ＥＸ－６２２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ｊＥＲ（登録商標）１５２、同６３０、同８２５、同８２７、同８２８、同８２８ＥＬ、同８２８ＵＳ、同８２８ＸＡ（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＴＥＴＲＡＤ（登録商標）－Ｃ、同－Ｘ（以上、三菱ガス化学（株）製）、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０８１、エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（以上、（株）ダイセル製）、エポトート（登録商標）ＹＤ－１１５、同ＹＤ－１１５ＣＡ、同ＹＤ－１２７、同ＹＤ－１２８、同ＹＤ－１２８Ｇ、同ＹＤ－１２８Ｓ、同ＹＤ－１２８ＣＡ、同ＹＤ－８１２５、同ＹＤ－８２５ＧＳ、同ＹＤＦ－１７０、同ＹＤＦ－１７０Ｎ、同ＹＤＦ－８１７０Ｃ、同ＹＤＦ－８７０ＧＳ、同ＺＸ－１０５９、同ＹＨ－４０４、同ＹＨ－４３４、同ＹＨ－４３４Ｌ、同ＹＨ－５１３、同ＹＨ－５２３、同ＳＴ－３０００（以上、日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、アデカレジン（登録商標）ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４１００Ｇ、同ＥＰ－４１００Ｅ、同ＥＰ－４１００ＴＸ、同ＥＰ－４３００Ｅ、同ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４４００、同ＥＰ－４５２０Ｓ、同ＥＰ－４５３０、同ＥＰ－４９０１、同ＥＰ－４９０１Ｅ、同ＥＰ－４０００、同ＥＰ－４００５、同ＥＰ－７００１、同ＥＰ－４０８０Ｅ、同ＥＰＵ－６、同ＥＰＵ－７Ｎ、同ＥＰＵ－１１Ｆ、同ＥＰＵ－１５Ｆ、同ＥＰＵ－１３９５、同ＥＰＵ－７３Ｂ、同ＥＰＵ－１７、同ＥＰＵ－１７Ｔ－６、同ＥＰＲ－１４１５－１、同ＥＰＲ－２０００、同ＥＰＲ－２００７、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０３、同ＥＤ－５０３Ｇ、同ＥＤ－５０６、同ＥＤ－５２３Ｔ、同ＥＤ－５０５（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミエポキシ（登録商標）ＥＬＭ－４３４、同ＥＬＭ－４３４Ｌ、同ＥＬＭ－４３４ＶＬ、同ＥＬＭ－１００、同ＥＬＭ－１００Ｈ（以上、住友化学（株）製）、エポライトＭ－１２３０、同４０Ｅ，同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、共栄社化学（株）製）及びＴＨＩ－ＤＥ（ＥＮＥＯＳ（株）製）等のエポキシ樹脂；
ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＯＸＢＰ、同ＯＸＩＰＡ（以上、宇部興産（株）製）、アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ－１２１及び同ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製）等のオキセタン樹脂。
ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８３０、同８３０－Ｓ、同８３５、同８４０、同８４０－Ｓ、同８５０、同８５０－Ｓ、同８５０－ＬＣ、同ＨＰ－８２０（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－２０１、同ＥＸ－２１１、同ＥＸ－２１２、同ＥＸ－２５２、同ＥＸ－８１０、同ＥＸ－８１１、同ＥＸ－８２１、同ＥＸ－８３０、同ＥＸ－８３２、同ＥＸ－８４１、同ＥＸ－８５０、同ＥＸ－８５１、同ＥＸ－８６１、同ＥＸ－９２０、同ＥＸ－９３１、同ＥＸ－９９１Ｌ、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１、同ＥＸ－３２１Ｌ、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６１４Ｂ、同ＥＸ－６２２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ｊＥＲ（登録商標）１５２、同６３０、同８２５、同８２７、同８２８、同８２８ＥＬ、同８２８ＵＳ、同８２８ＸＡ（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＴＥＴＲＡＤ（登録商標）－Ｃ、同－Ｘ（以上、三菱ガス化学（株）製）、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０８１、エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（以上、（株）ダイセル製）、エポトート（登録商標）ＹＤ－１１５、同ＹＤ－１１５ＣＡ、同ＹＤ－１２７、同ＹＤ－１２８、同ＹＤ－１２８Ｇ、同ＹＤ－１２８Ｓ、同ＹＤ－１２８ＣＡ、同ＹＤ－８１２５、同ＹＤ－８２５ＧＳ、同ＹＤＦ－１７０、同ＹＤＦ－１７０Ｎ、同ＹＤＦ－８１７０Ｃ、同ＹＤＦ－８７０ＧＳ、同ＺＸ－１０５９、同ＹＨ－４０４、同ＹＨ－４３４、同ＹＨ－４３４Ｌ、同ＹＨ－５１３、同ＹＨ－５２３、同ＳＴ－３０００（以上、日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、アデカレジン（登録商標）ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４１００Ｇ、同ＥＰ－４１００Ｅ、同ＥＰ－４１００ＴＸ、同ＥＰ－４３００Ｅ、同ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４４００、同ＥＰ－４５２０Ｓ、同ＥＰ－４５３０、同ＥＰ－４９０１、同ＥＰ－４９０１Ｅ、同ＥＰ－４０００、同ＥＰ－４００５、同ＥＰ－７００１、同ＥＰ－４０８０Ｅ、同ＥＰＵ－６、同ＥＰＵ－７Ｎ、同ＥＰＵ－１１Ｆ、同ＥＰＵ－１５Ｆ、同ＥＰＵ－１３９５、同ＥＰＵ－７３Ｂ、同ＥＰＵ－１７、同ＥＰＵ－１７Ｔ－６、同ＥＰＲ－１４１５－１、同ＥＰＲ－２０００、同ＥＰＲ－２００７、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０３、同ＥＤ－５０３Ｇ、同ＥＤ－５０６、同ＥＤ－５２３Ｔ、同ＥＤ－５０５（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミエポキシ（登録商標）ＥＬＭ－４３４、同ＥＬＭ－４３４Ｌ、同ＥＬＭ－４３４ＶＬ、同ＥＬＭ－１００、同ＥＬＭ－１００Ｈ（以上、住友化学（株）製）、エポライトＭ－１２３０、同４０Ｅ，同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、共栄社化学（株）製）及びＴＨＩ－ＤＥ（ＥＮＥＯＳ（株）製）等のエポキシ樹脂；
ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＯＸＢＰ、同ＯＸＩＰＡ（以上、宇部興産（株）製）、アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ－１２１及び同ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製）等のオキセタン樹脂。
【0033】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な非架橋性樹脂のうち、ラジカル重合性樹脂として、例えば、以下に示す商品及び化合物が挙げられる。
ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＮＯＡＡ、ＩＯＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＩＳＴＡ、ＩＢＸＡ、１－ＡＤＡ、１－ＡＤＭＡ、ビスコート＃１５０、同＃１５５、同＃１６０、同＃１９０、同＃１９２、同＃ＭＴＧ、ビスマー＃ＭＰＥ４００Ａ、同＃ＭＰＥ５００Ａ、ＨＥＡ、４－ＨＢＡ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－ＢＺＭ、同ＦＡ－ＢＺＡ、同ＦＡ－５１１ＡＳ、同ＦＡ－５１２Ｍ、同ＦＡ－５１２ＭＴ、同ＦＡ－５１２ＡＳ、同ＦＡ－５１３Ｍ、同ＦＡ－５１３ＡＳ（以上、日立化成（株）製）、ＬＭＡ、ＬＡ、Ｓ、Ａ－Ｓ、Ｓ－１８００Ｍ、Ｓ－１８００Ａ、ＩＢ、Ａ－ＩＢ、ＰＨＥ－１Ｇ、ＡＭＰ－１０Ｇ、ＰＨＥ－２Ｇ、ＡＭＰ－２０ＧＹ、Ｍ－２０Ｇ、Ｍ－３０Ｇ、ＡＭ－３０Ｇ、Ｍ－４０Ｇ、Ｍ－９０Ｇ、ＡＭ－９０Ｇ、Ｍ－１３０Ｇ、ＡＭ－１３０Ｇ、Ｍ－２３０Ｇ、ＡＭ－２３０Ｇ、Ｍ－３０ＰＧ、ＡＭ－３０ＰＧ、７０２Ａ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトエステルＭ、同Ｅ、同ＮＢ、同ＩＢ、同ＴＢ、同ＥＨ、同Ｌ、同Ｓ、同ＣＨ、同ＩＢ－Ｘ、同ＢＺ、同ＰО、同ＴＨＦ（１０００）、同１３０ＭＡ、同０４１ＭＡ、同ＨＯ－２５０（Ｎ）、同ＨＯＡ（Ｎ）、同ＤＭ、同ＤＥ、ライトアクリレート（登録商標）Ｌ－Ａ、同Ｓ－Ａ、同ＩＢ－ＸＡ、同ＰＯ－Ａ、同ＴＨＦ－Ａ、同ＭＴＧ－Ａ、同１３０Ａ、同ＤＰＭ－Ａ、同ＥＣ－Ａ、エポキシエステルＭ－６００Ａ、（以上、共栄社化学（株）製）、ＶＥＥＭ及びＶＥＥＡ（以上、（株）日本触媒製）等の単官能（メタ）アクリレート；
ＦＸ－ＡＯ－ＭＡ（（株）日本触媒製）等のラジカル環化重合性化合物。
ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＮＯＡＡ、ＩＯＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＩＳＴＡ、ＩＢＸＡ、１－ＡＤＡ、１－ＡＤＭＡ、ビスコート＃１５０、同＃１５５、同＃１６０、同＃１９０、同＃１９２、同＃ＭＴＧ、ビスマー＃ＭＰＥ４００Ａ、同＃ＭＰＥ５００Ａ、ＨＥＡ、４－ＨＢＡ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－ＢＺＭ、同ＦＡ－ＢＺＡ、同ＦＡ－５１１ＡＳ、同ＦＡ－５１２Ｍ、同ＦＡ－５１２ＭＴ、同ＦＡ－５１２ＡＳ、同ＦＡ－５１３Ｍ、同ＦＡ－５１３ＡＳ（以上、日立化成（株）製）、ＬＭＡ、ＬＡ、Ｓ、Ａ－Ｓ、Ｓ－１８００Ｍ、Ｓ－１８００Ａ、ＩＢ、Ａ－ＩＢ、ＰＨＥ－１Ｇ、ＡＭＰ－１０Ｇ、ＰＨＥ－２Ｇ、ＡＭＰ－２０ＧＹ、Ｍ－２０Ｇ、Ｍ－３０Ｇ、ＡＭ－３０Ｇ、Ｍ－４０Ｇ、Ｍ－９０Ｇ、ＡＭ－９０Ｇ、Ｍ－１３０Ｇ、ＡＭ－１３０Ｇ、Ｍ－２３０Ｇ、ＡＭ－２３０Ｇ、Ｍ－３０ＰＧ、ＡＭ－３０ＰＧ、７０２Ａ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトエステルＭ、同Ｅ、同ＮＢ、同ＩＢ、同ＴＢ、同ＥＨ、同Ｌ、同Ｓ、同ＣＨ、同ＩＢ－Ｘ、同ＢＺ、同ＰО、同ＴＨＦ（１０００）、同１３０ＭＡ、同０４１ＭＡ、同ＨＯ－２５０（Ｎ）、同ＨＯＡ（Ｎ）、同ＤＭ、同ＤＥ、ライトアクリレート（登録商標）Ｌ－Ａ、同Ｓ－Ａ、同ＩＢ－ＸＡ、同ＰＯ－Ａ、同ＴＨＦ－Ａ、同ＭＴＧ－Ａ、同１３０Ａ、同ＤＰＭ－Ａ、同ＥＣ－Ａ、エポキシエステルＭ－６００Ａ、（以上、共栄社化学（株）製）、ＶＥＥＭ及びＶＥＥＡ（以上、（株）日本触媒製）等の単官能（メタ）アクリレート；
ＦＸ－ＡＯ－ＭＡ（（株）日本触媒製）等のラジカル環化重合性化合物。
【0034】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な非架橋性樹脂のうち、カチオン重合性樹脂として、例えば、以下に示す商品及び化合物が挙げられる。
ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－１２１、同ＥＸ－１４１、同ＥＸ－１４５、同ＥＸ－１４６、同ＥＸ－１４７、同ＥＸ－１７１、同ＥＸ－１９２、同ＥＸ－７３１（以上、ナガセケムテックス（株）製）、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０２、同ＥＤ－５０２Ｓ、同ＥＤ－５０９Ｅ、同ＥＤ－５０９Ｓ及び同ＥＤ－５２９（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）等の単官能エポキシ樹脂；
ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＥＨＯ、同ＨＢＯＸ（以上、宇部興産（株）製）、アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ－１０１及び同ＯＸＴ－２１２（以上、東亞合成（株）製）等の単官能オキセタン樹脂。
ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－１２１、同ＥＸ－１４１、同ＥＸ－１４５、同ＥＸ－１４６、同ＥＸ－１４７、同ＥＸ－１７１、同ＥＸ－１９２、同ＥＸ－７３１（以上、ナガセケムテックス（株）製）、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０２、同ＥＤ－５０２Ｓ、同ＥＤ－５０９Ｅ、同ＥＤ－５０９Ｓ及び同ＥＤ－５２９（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）等の単官能エポキシ樹脂；
ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＥＨＯ、同ＨＢＯＸ（以上、宇部興産（株）製）、アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ－１０１及び同ＯＸＴ－２１２（以上、東亞合成（株）製）等の単官能オキセタン樹脂。
【0035】
［パラメータＸ］
本発明のインプリント用光硬化性組成物は、下記式（１）で表されるパラメータＸが０．１０以上０．６０未満となる樹脂を含有する。
（式（１）中、ｍは前記樹脂に含まれる前記架橋性樹脂の数を表し、ｘｉは前記樹脂の全ての成分の和１００質量部に占める各々の該架橋性樹脂の割合（単位：質量部）を表し、ｙｉは各々の該架橋性樹脂が有する重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）を表し、ｉは１乃至ｍの正の整数を表す。）
本発明のインプリント用光硬化性組成物は、下記式（１）で表されるパラメータＸが０．１０以上０．６０未満となる樹脂を含有する。
【数2】
（式（１）中、ｍは前記樹脂に含まれる前記架橋性樹脂の数を表し、ｘｉは前記樹脂の全ての成分の和１００質量部に占める各々の該架橋性樹脂の割合（単位：質量部）を表し、ｙｉは各々の該架橋性樹脂が有する重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）を表し、ｉは１乃至ｍの正の整数を表す。）
【0036】
前記重合性官能基当量とは、１グラム当量の重合性官能基を含む樹脂の質量を指し、簡易的には、重合性官能基を含む樹脂の分子量又は平均分子量を該重合性官能基の数で除す、または核磁気共鳴分光法、赤外分光法等の各種手法によって定量的に分析することで算出される。重合性官能基を含む樹脂が（メタ）アクリレートの場合は、ＪＩＳ Ｋ ２６０５に記載の方法によって（メタ）アクリル当量を、エポキシ樹脂の場合は、ＪＩＳ Ｋ ７２３６に記載の方法によってエポキシ当量を測定することができる。
【0037】
ここで、本発明におけるパラメータＸの意味について説明する。パラメータＸは、本発明のインプリント用光硬化性組成物を硬化させて成る三次元架橋体の架橋密度を、硬化前の組成物の段階で見積もる、本発明者が見出した独自のパラメータであり、架橋性樹脂に関する項から成る。上記式（１）は、各々の架橋性樹脂について、含有割合と、重合性官能基当量の逆数すなわち単位質量当たり重合性官能基数とを乗じ（ｘｉ／ｙｉ）、各々の架橋性樹脂ｘｉ／ｙｉの総和をとったものであり、三次元架橋体の架橋密度に対する、架橋性樹脂の寄与を意味する。三次元架橋体の架橋密度に対する非架橋性樹脂の寄与をゼロと見做した。その理由は、非架橋性樹脂は、それ自身が重合しないか、または重合しても三次元架橋体を形成せずに架橋点間を伸長するのみであることによる。重合性官能基当量が小さい架橋性樹脂を樹脂中に多く含有するほど、パラメータＸは大きい値をとり、本発明のインプリント用光硬化性組成物の硬化物は架橋密度が大きくなる。反対に、重合性官能基当量が大きい架橋性樹脂、または非架橋性樹脂を樹脂中に多く含有するほど、パラメータＸは小さい値をとり、本発明のインプリント用光硬化性組成物の硬化物は架橋密度が小さくなる。
【0038】
本発明のインプリント用光硬化性組成物のパラメータＸは、該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率と密接に関係しており、パラメータＸが０．１０以上０．６０未満となるように樹脂を選択することで、該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率は、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であるという条件を満足する。パラメータＸが０．６０以上であるインプリント用光硬化性組成物は、該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ以上となり、該インプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体の耐衝撃性が著しく低下する。パラメータＸが０．１０未満であるインプリント用光硬化性組成物は、該インプリント用光硬化性組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、１００℃において１．０×１０７Ｐａ未満となり、該インプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体の形状保持性が著しく低下する。
【0039】
本発明におけるインプリント用光硬化性組成物が含有する樹脂の種類は、パラメータＸが０．１０以上０．６０未満である限り特に限定されない。本発明におけるインプリント用光硬化性組成物が、樹脂及び光開始剤以外にシリカ粒子及びその他添加剤を含有していても、パラメータＸが０．１０以上０．６０未満となるように樹脂を含有することが望ましい。
【0040】
［光開始剤］
本発明における光開始剤は、光ラジカル発生剤及び光酸発生剤に大別される。光ラジカル発生剤はラジカル重合性樹脂と、光酸発生剤はカチオン重合性樹脂と組み合わせて用いることが望ましい。
本発明における光開始剤は、光ラジカル発生剤及び光酸発生剤に大別される。光ラジカル発生剤はラジカル重合性樹脂と、光酸発生剤はカチオン重合性樹脂と組み合わせて用いることが望ましい。
【0041】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な光ラジカル発生剤として、例えば、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、ジベンゾイル類、アントラキノン類、アシルホスフィンオキシド類、ベンゾイルベンゾエート類、オキシムエステル類及びチオキサントン類が挙げられ、特に、分子内開裂型の光ラジカル発生剤が好ましい。前記光ラジカル発生剤として市販品を用いてもよく、例えば、ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）１２７、同１８４、同３６９、同３６９Ｅ、同３７９ＥＧ、同５００、同６５１、同８１９、同７８４、同９０７、同１１７３、同２９５９、同ＴＰＯ Ｈ（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同ＯＸＥ０３、同ＯＸＥ０４、ＣＧＩ１７００、同ＣＧＩ１７５０、同ＣＧＩ１８５０、同ＣＧ２４－６１（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０、同ＫＩＰ６５ＬＴ、同ＫＩＰ１００Ｆ、同ＫＴ３７、同ＫＴ５５、同ＫＴＯ４６及び同ＫＩＰ７５（以上、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）が挙げられる。
【0042】
本発明のインプリント用光硬化性組成物に使用可能な光酸発生剤として、例えば、アリールスルホニウム塩類及びアリールヨードニウム塩類が挙げられる。前記光酸発生剤として市販品を用いてもよく、例えば、ＣＰＩ（登録商標）－１００Ｐ、同－１０１Ａ、同－１１０Ｐ、同－２００Ｋ、同－２１０Ｓ、同－３００、同－３１０Ｂ、同－４００、同－４１０Ｓ、ＩＫ－１（以上、サンアプロ（株）製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＴＰＳ－ＴＦ、ＴＰＳ－ＣＳ、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ及びＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）が挙げられる。
【0043】
本発明のインプリント用光硬化性組成物の光開始剤の含有量は、該インプリント用光硬化性組成物が含有する全ての樹脂成分の和１００質量部に対して、０．０５質量部乃至５質量部、好ましくは０．１質量部乃至３質量部、より好ましくは０．５質量部乃至２質量部である。前記光開始剤の含有量を上記範囲内とすることで、本発明のインプリント用光硬化性組成物は、露光により硬化させることができる。
前記光開始剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
前記光開始剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【0044】
［シリカ粒子］
本発明のインプリント用光硬化性組成物はシリカ粒子を含有してもよく、使用可能なシリカ粒子は、一次粒子径が１ｎｍ乃至１００ｎｍである。ここで、一次粒子とは、粉体を構成する粒子であり、この一次粒子が凝集した粒子を二次粒子という。前記一次粒子径は、ガス吸着法（ＢＥＴ法）により測定される前記シリカ粒子の比表面積（単位質量あたりの表面積）Ｓ、該シリカ粒子の密度ρ、及び一次粒子径Ｄとの間に成り立つ関係式：Ｄ＝６／（ρＳ）から算出することができる。前記関係式から算出される一次粒子径は、平均粒子径であり、一次粒子の直径である。一次粒子径を上記範囲内とすることで、本発明のインプリント用光硬化性組成物の透明性を損なうことなくシリカ粒子を配合することができる。
本発明のインプリント用光硬化性組成物はシリカ粒子を含有してもよく、使用可能なシリカ粒子は、一次粒子径が１ｎｍ乃至１００ｎｍである。ここで、一次粒子とは、粉体を構成する粒子であり、この一次粒子が凝集した粒子を二次粒子という。前記一次粒子径は、ガス吸着法（ＢＥＴ法）により測定される前記シリカ粒子の比表面積（単位質量あたりの表面積）Ｓ、該シリカ粒子の密度ρ、及び一次粒子径Ｄとの間に成り立つ関係式：Ｄ＝６／（ρＳ）から算出することができる。前記関係式から算出される一次粒子径は、平均粒子径であり、一次粒子の直径である。一次粒子径を上記範囲内とすることで、本発明のインプリント用光硬化性組成物の透明性を損なうことなくシリカ粒子を配合することができる。
【0045】
前記シリカ粒子は、表面修飾されていないシリカ粒子及び表面修飾シリカ粒子のうち、どちらを使用してもよい。前記表面修飾されていないシリカ粒子として、例えば、ＣＨＯ－ＳＴ－Ｍ、ＤＭＡＣ－ＳＴ、ＤＭＡＣ－ＳＴ－ＺＬ、ＥＡＣ－ＳＴ、ＥＧ－ＳＴ、ＥＧ－ＳＴ－ＺＬ、ＥＧ－ＳＴ－ＸＬ３０、ＩＰＡ－ＳＴ、ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ、ＩＰＡ－ＳＴ－ＺＬ、ＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰ、メタノールシリカゾル、ＭＡ－ＳＴ－Ｍ、ＭＡ－ＳＴ－Ｌ、ＭＡ－ＳＴ－ＺＬ、ＭＡ－ＳＴ－ＵＰ、ＭＥＫ－ＳＴ、ＭＥＫ－ＳＴ－４０、ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ、ＭＥＫ－ＳＴ－ＺＬ、ＭＥＫ－ＳＴ－ＵＰ、ＭＩＢＫ－ＳＴ、ＭＩＢＫ－ＳＴ－Ｌ、ＮＭＰ－ＳＴ、ＮＰＣ－ＳＴ－３０、ＰＭＡ－ＳＴ、ＰＧＭ－ＳＴ、ＰＧＭ－ＳＴ、ＰＧＭ－ＳＴ－ＵＰ、及びＴＯＬ－ＳＴ（以上、日産化学（株）製）が挙げられる。前記表面修飾シリカ粒子として、例えば、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０Ｙ、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ、ＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙ、ＰＧＭ－ＡＣ－４１３０Ｙ、ＭＩＢＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ、ＭＩＢＫ－ＳＤ－Ｌ（以上、日産化学（株）製）、ＥＬＣＯＭ（登録商標）Ｖ－８８０２及び同Ｖ－８８０４（以上、日揮触媒化成（株）製）が挙げられる。市販品以外にも、前記表面修飾されていないシリカ粒子とシランカップリング剤とを、各種公知の方法により反応させたものを使用することができる。
【0046】
本発明のインプリント用光硬化性組成物が前記シリカ粒子を含有する場合、その含有量は、該インプリント用光硬化性組成物が含有する樹脂の全ての成分の和１００質量部に対して、５質量部乃至６０質量部、好ましくは８質量部乃至４５質量部、より好ましくは１０質量部乃至３０質量部である。前記シリカ粒子を上記範囲内で含有することによって、本発明のインプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体の耐熱性向上等の効果を付与することができる。
【0047】
前記シリカ粒子は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。例えば、一次粒子径の異なる複数のシリカ粒子を組み合わせてもよいし、表面修飾に用いたシランカップリング剤の種類または量が異なる複数のシリカ粒子を組み合わせてもよい。
【0048】
［その他添加剤］
さらに、本発明のインプリント用光硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、酸化防止剤、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、消泡剤などの添加剤を含有することができる。
さらに、本発明のインプリント用光硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、酸化防止剤、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、消泡剤などの添加剤を含有することができる。
【0049】
［インプリント用光硬化性組成物の調製方法］
本発明のインプリント用光硬化性組成物の調製方法は、特に限定されない。調製方法として、例えば、樹脂、光開始剤、並びに必要によりシリカ粒子及びその他添加剤を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。溶液に調製した本発明のインプリント用光硬化性組成物は、孔径が０．１μｍ乃至１０μｍのフィルターなどを用いてろ過した後、使用することが望ましい。
本発明のインプリント用光硬化性組成物の調製方法は、特に限定されない。調製方法として、例えば、樹脂、光開始剤、並びに必要によりシリカ粒子及びその他添加剤を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。溶液に調製した本発明のインプリント用光硬化性組成物は、孔径が０．１μｍ乃至１０μｍのフィルターなどを用いてろ過した後、使用することが望ましい。
【0050】
［硬化物］
本発明のインプリント用光硬化性組成物を露光（光硬化）して、硬化物を得ることができ、本発明は該硬化物も対象とする。露光する光線としては、前記硬化物を得ることができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びＸ線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びＵＶ－ＬＥＤが使用できる。
本発明のインプリント用光硬化性組成物を露光（光硬化）して、硬化物を得ることができ、本発明は該硬化物も対象とする。露光する光線としては、前記硬化物を得ることができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びＸ線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びＵＶ－ＬＥＤが使用できる。
【0051】
［成型体］
本発明のインプリント用光硬化性組成物は、ＵＶインプリント法によって、硬化物の形成と並行して各種成型体を容易に製造することができる。以下、成型体の製造に関して詳細なプロセスを記載する。
本発明のインプリント用光硬化性組成物は、ＵＶインプリント法によって、硬化物の形成と並行して各種成型体を容易に製造することができる。以下、成型体の製造に関して詳細なプロセスを記載する。
【0052】
［塗布工程］
本発明の成型体の製造方法は、支持体上に、本発明のインプリント用光硬化性組成物を塗布する塗布工程を有する。前記インプリント用光硬化性組成物は、ディスペンサー、スピナー等の適当な塗布方法により前記支持体上に塗布される。前記支持体は、開口部を有するパターンを有していてもよく、該パターンは、ネガ型感光性樹脂組成物又はポジ型感光性樹脂組成物をパターニングして形成され、その形状は例えば格子状である。前記支持体は、例えば、酸化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板（無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む）、ＩＴＯ膜が形成されたガラス基板が挙げられる。前記支持体は、前記インプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体との密着性を向上させるために、該支持体と該インプリント用光硬化性組成物との間にプライマー層を有していてもよい。
本発明の成型体の製造方法は、支持体上に、本発明のインプリント用光硬化性組成物を塗布する塗布工程を有する。前記インプリント用光硬化性組成物は、ディスペンサー、スピナー等の適当な塗布方法により前記支持体上に塗布される。前記支持体は、開口部を有するパターンを有していてもよく、該パターンは、ネガ型感光性樹脂組成物又はポジ型感光性樹脂組成物をパターニングして形成され、その形状は例えば格子状である。前記支持体は、例えば、酸化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板（無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む）、ＩＴＯ膜が形成されたガラス基板が挙げられる。前記支持体は、前記インプリント用光硬化性組成物から得られる硬化物及び成型体との密着性を向上させるために、該支持体と該インプリント用光硬化性組成物との間にプライマー層を有していてもよい。
【0053】
［インプリント工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記インプリント用光硬化性組成物と、目的とする成型体の外形の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程を有する。ここで、前記目的とする成型体の形状が凹面である場合、前記反転パターンは凸面である。前記モールドの材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過する材料である限り限定されないが、例えば、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）樹脂、石英、硼珪酸ガラス及びフッ化カルシウムが挙げられる。前記モールドの材料が樹脂である場合、非感光性樹脂、感光性樹脂いずれであってもよい。前記感光性樹脂として、例えば、国際公開第２０１９／０３１３５９号に開示されているインプリント用レプリカモールド材料が挙げられる。また、前記遮光膜の材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過しない材料である限り限定されないが、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、コバルト、チタン、タンタル、タングステン及びモリブデンが挙げられる。前記モールドは、後述する離型工程のために、離型剤を塗布し乾燥することで離型処理した後に使用することが望ましい。前記離型剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７００、同１７１０、同１７２０（以上、スリーエムジャパン（株）製）、フロロサーフ（登録商標）ＦＧ－５０８４、同ＦＧ－５０９３（以上、（株）フロロテクノロジー製）、デュラサーフ（登録商標）ＤＰ－５００、同ＤＰ－２００、同ＤＳ－５４００、同ＤＨ－１００、同ＤＨ－４０５ＴＨ、同ＤＨ－６１０、同ＤＳ－５８００、同ＤＳ－５９３５（以上、（株）ハーベス製）、ポリフロン（登録商標）ＰＴＦＥ ＴＣ－７１０５ＧＮ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７１０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７１１３ＬＢ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４００ＣＲ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０５ＧＮ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０８ＧＹ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７６０９Ｍ１、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７８０８ＧＹ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７８０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＤ－７１３９ＢＤ、オプツール（登録商標）ＤＡＣ－ＨＰ、同ＤＳＸ－Ｅ、オプトエース（登録商標）ＷＰ－１４０、ダイフリー（登録商標）ＧＷ－４０００、同ＧＷ－４０１０、同ＧＷ－４５００、同ＧＷ－４５１０、同ＧＷ－８０００、同ＧＷ－８５００、同ＭＳ－１７５、同ＧＦ－７００、同ＧＦ－７５０、同ＭＳ－６００、同ＧＡ－３０００、同ＧＡ－９７００、同ＧＡ－９７５０（以上、ダイキン工業（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ－５５３、同Ｆ－５５５、同Ｆ－５５８、同Ｆ－５６１（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＳＦＥ－ＤＰ０２Ｈ、ＳＮＦ－ＤＰ２０Ｈ、ＳＦＥ－Ｂ００２Ｈ、ＳＮＦ－Ｂ２００Ａ、ＳＣＶ－Ｘ００８、ＳＦＥＸ００８、ＳＮＦ－Ｘ８００、ＳＲ－４０００Ａ、Ｓ－６８０、Ｓ－６８５、ＭＲ Ｆ－６４４１－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６７１１－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６７５８－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６８１１－ＡＬ、及びＭＲ ＥＦ－６５２１－ＡＬ（以上、ＡＧＣセイミケミカル（株）製）が挙げられる。前記離型剤として、上記市販品以外に、例えば国際公開第２０１９／０３１３１２号に開示されているモールド用離型剤が挙げられる。
本発明の成型体の製造方法は、前記インプリント用光硬化性組成物と、目的とする成型体の外形の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程を有する。ここで、前記目的とする成型体の形状が凹面である場合、前記反転パターンは凸面である。前記モールドの材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過する材料である限り限定されないが、例えば、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）樹脂、石英、硼珪酸ガラス及びフッ化カルシウムが挙げられる。前記モールドの材料が樹脂である場合、非感光性樹脂、感光性樹脂いずれであってもよい。前記感光性樹脂として、例えば、国際公開第２０１９／０３１３５９号に開示されているインプリント用レプリカモールド材料が挙げられる。また、前記遮光膜の材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過しない材料である限り限定されないが、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、コバルト、チタン、タンタル、タングステン及びモリブデンが挙げられる。前記モールドは、後述する離型工程のために、離型剤を塗布し乾燥することで離型処理した後に使用することが望ましい。前記離型剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７００、同１７１０、同１７２０（以上、スリーエムジャパン（株）製）、フロロサーフ（登録商標）ＦＧ－５０８４、同ＦＧ－５０９３（以上、（株）フロロテクノロジー製）、デュラサーフ（登録商標）ＤＰ－５００、同ＤＰ－２００、同ＤＳ－５４００、同ＤＨ－１００、同ＤＨ－４０５ＴＨ、同ＤＨ－６１０、同ＤＳ－５８００、同ＤＳ－５９３５（以上、（株）ハーベス製）、ポリフロン（登録商標）ＰＴＦＥ ＴＣ－７１０５ＧＮ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７１０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７１１３ＬＢ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４００ＣＲ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０５ＧＮ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０８ＧＹ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７４０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７６０９Ｍ１、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７８０８ＧＹ、同ＰＴＦＥ ＴＣ－７８０９ＢＫ、同ＰＴＦＥ ＴＤ－７１３９ＢＤ、オプツール（登録商標）ＤＡＣ－ＨＰ、同ＤＳＸ－Ｅ、オプトエース（登録商標）ＷＰ－１４０、ダイフリー（登録商標）ＧＷ－４０００、同ＧＷ－４０１０、同ＧＷ－４５００、同ＧＷ－４５１０、同ＧＷ－８０００、同ＧＷ－８５００、同ＭＳ－１７５、同ＧＦ－７００、同ＧＦ－７５０、同ＭＳ－６００、同ＧＡ－３０００、同ＧＡ－９７００、同ＧＡ－９７５０（以上、ダイキン工業（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ－５５３、同Ｆ－５５５、同Ｆ－５５８、同Ｆ－５６１（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＳＦＥ－ＤＰ０２Ｈ、ＳＮＦ－ＤＰ２０Ｈ、ＳＦＥ－Ｂ００２Ｈ、ＳＮＦ－Ｂ２００Ａ、ＳＣＶ－Ｘ００８、ＳＦＥＸ００８、ＳＮＦ－Ｘ８００、ＳＲ－４０００Ａ、Ｓ－６８０、Ｓ－６８５、ＭＲ Ｆ－６４４１－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６７１１－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６７５８－ＡＬ、ＭＲ Ｆ－６８１１－ＡＬ、及びＭＲ ＥＦ－６５２１－ＡＬ（以上、ＡＧＣセイミケミカル（株）製）が挙げられる。前記離型剤として、上記市販品以外に、例えば国際公開第２０１９／０３１３１２号に開示されているモールド用離型剤が挙げられる。
【0054】
［光硬化工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記インプリント工程の後、前記モールドを介して前記インプリント用光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程を有する。露光する光線としては、前記光硬化部を形成することができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びＸ線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びＵＶ－ＬＥＤが使用できる。前記光硬化部の膜厚は、通常１μｍ乃至２０００μｍであり、好ましくは１００μｍ乃至１０００μｍであり、より好ましくは３００μｍ乃至７００μｍである。前記モールドは、紫外線等の光を透過する材料から作成され、且つ該紫外線等の光を透過しない遮光膜を有するため、本工程ではマスクとして使用される。
本発明の成型体の製造方法は、前記インプリント工程の後、前記モールドを介して前記インプリント用光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程を有する。露光する光線としては、前記光硬化部を形成することができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びＸ線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びＵＶ－ＬＥＤが使用できる。前記光硬化部の膜厚は、通常１μｍ乃至２０００μｍであり、好ましくは１００μｍ乃至１０００μｍであり、より好ましくは３００μｍ乃至７００μｍである。前記モールドは、紫外線等の光を透過する材料から作成され、且つ該紫外線等の光を透過しない遮光膜を有するため、本工程ではマスクとして使用される。
【0055】
［離型工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記光硬化部と前記モールドとを分離する離型工程を有する。離型方法は、前記光硬化部が損傷及び変形することなく、前記モールドから完全に分離することができる限り、特に限定されない。前記モールドは、前記離型剤を塗布し乾燥する離型処理によって、前記光硬化部と該モールドとの分離が容易となる。前記光硬化工程の後、本離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに有してもよい。前記光硬化部を加熱する手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブン等が挙げられる。前記光硬化部を加熱する工程は、５０℃乃至２００℃、好ましくは５０℃乃至１５０℃、より好ましくは５０℃乃至１００℃の温度範囲で、１分間乃至１時間、好ましくは１分間乃至３０分間、より好ましくは１分間乃至１０分間行われる。
本発明の成型体の製造方法は、前記光硬化部と前記モールドとを分離する離型工程を有する。離型方法は、前記光硬化部が損傷及び変形することなく、前記モールドから完全に分離することができる限り、特に限定されない。前記モールドは、前記離型剤を塗布し乾燥する離型処理によって、前記光硬化部と該モールドとの分離が容易となる。前記光硬化工程の後、本離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに有してもよい。前記光硬化部を加熱する手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブン等が挙げられる。前記光硬化部を加熱する工程は、５０℃乃至２００℃、好ましくは５０℃乃至１５０℃、より好ましくは５０℃乃至１００℃の温度範囲で、１分間乃至１時間、好ましくは１分間乃至３０分間、より好ましくは１分間乃至１０分間行われる。
【0056】
［現像工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記離型工程の後、前記インプリント用光硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して前記光硬化部を露出させる現像工程を有する。本現像工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。本現像工程は、５℃乃至５０℃、好ましくは１５℃乃至３５℃、より好ましくは２０℃乃至３０℃の温度範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。
本発明の成型体の製造方法は、前記離型工程の後、前記インプリント用光硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して前記光硬化部を露出させる現像工程を有する。本現像工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。本現像工程は、５℃乃至５０℃、好ましくは１５℃乃至３５℃、より好ましくは２０℃乃至３０℃の温度範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。
【0057】
前記現像液としては、前記インプリント用光硬化性組成物の未硬化部を除去することができる限り特に限定されないが、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びγ－ブチロラクトンが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。前記現像液は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【0058】
［リンス工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記現像工程の後、後述する乾燥工程の前に、リンス液を用いて前記光硬化部をリンス処理するリンス工程を有してもよい。本リンス工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。本リンス工程は、５℃乃至５０℃、好ましくは１５℃乃至３５℃、より好ましくは２０℃乃至３０℃の温度範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。前記リンス液としては、前記光硬化部にダメージを与えることなく、前記現像液を洗い流すことができる限り特に限定されない。
本発明の成型体の製造方法は、前記現像工程の後、後述する乾燥工程の前に、リンス液を用いて前記光硬化部をリンス処理するリンス工程を有してもよい。本リンス工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。本リンス工程は、５℃乃至５０℃、好ましくは１５℃乃至３５℃、より好ましくは２０℃乃至３０℃の温度範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。前記リンス液としては、前記光硬化部にダメージを与えることなく、前記現像液を洗い流すことができる限り特に限定されない。
【0059】
本発明の成型体の製造方法において使用する前記現像液及び前記リンス液は、前記光硬化部に対する濡れ性を向上させて現像及びリンスを効率的に進行させる目的で、界面活性剤をさらに含有してもよい。前記界面活性剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、前記界面活性剤が使用される場合、その含有量は、前記現像液又は前記リンス液１００質量部に対して、０．００１質量部乃至５質量部であり、好ましくは０．０１質量部乃至３質量部であり、より好ましくは０．０５質量部乃至１質量部である。
【0060】
［乾燥工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記現像工程の後、前記光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を有する。本乾燥工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、前記支持体をスピナー、コーター等のスピン乾燥可能な装置を使用して回転させる方法が挙げられる。本乾燥工程は、２００ｒｐｍ乃至３０００ｒｐｍ、好ましくは５００ｒｐｍ乃至２０００ｒｐｍ、より好ましくは１０００ｒｐｍ乃至１５００ｒｐｍの回転数範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。
本発明の成型体の製造方法は、前記現像工程の後、前記光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を有する。本乾燥工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、前記支持体をスピナー、コーター等のスピン乾燥可能な装置を使用して回転させる方法が挙げられる。本乾燥工程は、２００ｒｐｍ乃至３０００ｒｐｍ、好ましくは５００ｒｐｍ乃至２０００ｒｐｍ、より好ましくは１０００ｒｐｍ乃至１５００ｒｐｍの回転数範囲で、１０秒間乃至１０分間、好ましくは１０秒間乃至３分間、より好ましくは１０秒間乃至１分間行われる。
【0061】
［ポスト露光工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程を有してもよい。本ポスト露光工程の雰囲気としては、特に限定されないが、例えば、空気雰囲気及び窒素雰囲気が挙げられる。本ポスト露光工程において露光する光線は、前記光硬化工程で使用可能な光線を使用することができる。
本発明の成型体の製造方法は、前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程を有してもよい。本ポスト露光工程の雰囲気としては、特に限定されないが、例えば、空気雰囲気及び窒素雰囲気が挙げられる。本ポスト露光工程において露光する光線は、前記光硬化工程で使用可能な光線を使用することができる。
【0062】
［ポストベーク工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程を有してもよい。本ポストベーク工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブンが挙げられる。本ポストベーク工程は、５０℃乃至２００℃、好ましくは５０℃乃至１５０℃、より好ましくは５０℃乃至１００℃の温度範囲で、１分間乃至１時間、好ましくは１分間乃至３０分間、より好ましくは１分間乃至１０分間行われる。
本発明の成型体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程を有してもよい。本ポストベーク工程の手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブンが挙げられる。本ポストベーク工程は、５０℃乃至２００℃、好ましくは５０℃乃至１５０℃、より好ましくは５０℃乃至１００℃の温度範囲で、１分間乃至１時間、好ましくは１分間乃至３０分間、より好ましくは１分間乃至１０分間行われる。
【0063】
［反射防止膜形成工程］
本発明の成型体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、又は前記ポストベーク工程を行う場合は該ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに有してもよい。前記反射防止膜は、前記光硬化物に入射する光の反射を抑制し、透過率を向上させるために、該光硬化物の表面に形成される。前記反射防止膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、ミスト法、スピンコート法、ディップコート法及びスプレーコート法が挙げられる。また、前記反射防止膜として、フッ化マグネシウム、二酸化ケイ素等の無機膜、及びオルガノポリシロキサン等の有機膜が挙げられる。
本発明の成型体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、又は前記ポストベーク工程を行う場合は該ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに有してもよい。前記反射防止膜は、前記光硬化物に入射する光の反射を抑制し、透過率を向上させるために、該光硬化物の表面に形成される。前記反射防止膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、ミスト法、スピンコート法、ディップコート法及びスプレーコート法が挙げられる。また、前記反射防止膜として、フッ化マグネシウム、二酸化ケイ素等の無機膜、及びオルガノポリシロキサン等の有機膜が挙げられる。
【0064】
このような方法によって製造された成型体は、カメラモジュール用レンズとして好適に使用することができる。
【実施例】
【0065】
以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例及び比較例において、試料の調製及び評価に用いた装置は下記の通りである。
【0066】
（１）撹拌脱泡
（株）シンキー製 自転・公転ミキサーあわとり練太郎（登録商標）ＡＲＥ－３１０
（２）ＵＶ露光
シーシーエス（株）製 バッチ式ＵＶ－ＬＥＤ照射装置（極大波長３６５ｎｍ）
（３）貯蔵弾性率測定
ティーエイインスツルメントジャパン（株）製 動的粘弾性測定装置Ｑ８００
ティーエイインスツルメントジャパン（株）製 エアチラーシステムＡＣＳ－３
（４）耐衝撃性評価
エスペック（株）製 小型熱衝撃試験機ＴＳＥ－１１－Ａ
（５）形状保持性評価
三鷹光器（株）製 非接触表面性状測定装置ＰＦ－６０
（株）シンキー製 自転・公転ミキサーあわとり練太郎（登録商標）ＡＲＥ－３１０
（２）ＵＶ露光
シーシーエス（株）製 バッチ式ＵＶ－ＬＥＤ照射装置（極大波長３６５ｎｍ）
（３）貯蔵弾性率測定
ティーエイインスツルメントジャパン（株）製 動的粘弾性測定装置Ｑ８００
ティーエイインスツルメントジャパン（株）製 エアチラーシステムＡＣＳ－３
（４）耐衝撃性評価
エスペック（株）製 小型熱衝撃試験機ＴＳＥ－１１－Ａ
（５）形状保持性評価
三鷹光器（株）製 非接触表面性状測定装置ＰＦ－６０
【0067】
下記製造例、実施例及び比較例において使用した樹脂、光開始剤及びシリカ粒子の供給元は下記の通りである。
Ａ－ＤＣＰ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－ＤＣＰ
Ａ－ＤＯＧ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－ＤＯＧ
ＡＰＧ－７００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＡＰＧ－７００
Ａ－６００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－６００
ＡＭ－９０Ｇ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＡＭ－９０Ｇ
１Ｇ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル １Ｇ
ＤＣＰ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＤＣＰ
ＵＡ－４２００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫオリゴ ＵＡ－４２００
ＵＡ－５１０Ｈ：共栄社化学（株）製 製品名：ＵＡ－５１０Ｈ
Ｅ４５１３：ダイセル・オルネクス（株）製 製品名：ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４５１３
Ｅ５１２９：ダイセル・オルネクス（株）製 製品名：ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）５１２９
Ｖ＃１９０：大阪有機化学工業（株）製 製品名：ビスコート＃１９０
Ｖ＃２６０：大阪有機化学工業（株）製 製品名：ビスコート＃２６０
ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ：宇部興産（株）製 製品名：ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ
ＴＨＩ－ＤＥ：ＥＮＥＯＳ（株）製 製品名：ＴＨＩ－ＤＥ
ＧＴ４０１：（株）ダイセル製 製品名：エポリード（登録商標）ＧＴ４０１
Ｉ１８４：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製 製品名：ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）１８４
Ｉ１１０Ｐ：サンアプロ（株）製 製品名：ＣＰＩ（登録商標）－１１０Ｐ
ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ：日産化学（株）製 製品名：ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ
Ａ－ＤＣＰ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－ＤＣＰ
Ａ－ＤＯＧ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－ＤＯＧ
ＡＰＧ－７００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＡＰＧ－７００
Ａ－６００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル Ａ－６００
ＡＭ－９０Ｇ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＡＭ－９０Ｇ
１Ｇ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル １Ｇ
ＤＣＰ：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫエステル ＤＣＰ
ＵＡ－４２００：新中村化学工業（株）製 製品名：ＮＫオリゴ ＵＡ－４２００
ＵＡ－５１０Ｈ：共栄社化学（株）製 製品名：ＵＡ－５１０Ｈ
Ｅ４５１３：ダイセル・オルネクス（株）製 製品名：ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４５１３
Ｅ５１２９：ダイセル・オルネクス（株）製 製品名：ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）５１２９
Ｖ＃１９０：大阪有機化学工業（株）製 製品名：ビスコート＃１９０
Ｖ＃２６０：大阪有機化学工業（株）製 製品名：ビスコート＃２６０
ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ：宇部興産（株）製 製品名：ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ
ＴＨＩ－ＤＥ：ＥＮＥＯＳ（株）製 製品名：ＴＨＩ－ＤＥ
ＧＴ４０１：（株）ダイセル製 製品名：エポリード（登録商標）ＧＴ４０１
Ｉ１８４：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製 製品名：ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）１８４
Ｉ１１０Ｐ：サンアプロ（株）製 製品名：ＣＰＩ（登録商標）－１１０Ｐ
ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ：日産化学（株）製 製品名：ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ
【0068】
［製造例１］
５００ｍＬナスフラスコに、Ａ－ＤＣＰを１２０ｇ、及びメチルエチルケトンを１２０ｇ秤量し、撹拌して均一化した。その後、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（メタクリロイルオキシ基で表面修飾された一次粒子径１０ｎｍ乃至１５ｎｍのシリカ粒子、固形分４６質量％、メチルエチルケトン分散液）２６０ｇを加え、攪拌して均一化した。その後、エバポレーターを用いて、５０℃、減圧度１３３．３Ｐａ以下の条件でメチルエチルケトンを留去し、シリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液（該シリカ粒子濃度５０質量％）を得た。
５００ｍＬナスフラスコに、Ａ－ＤＣＰを１２０ｇ、及びメチルエチルケトンを１２０ｇ秤量し、撹拌して均一化した。その後、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（メタクリロイルオキシ基で表面修飾された一次粒子径１０ｎｍ乃至１５ｎｍのシリカ粒子、固形分４６質量％、メチルエチルケトン分散液）２６０ｇを加え、攪拌して均一化した。その後、エバポレーターを用いて、５０℃、減圧度１３３．３Ｐａ以下の条件でメチルエチルケトンを留去し、シリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液（該シリカ粒子濃度５０質量％）を得た。
【0069】
［実施例１］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを６．０ｇ及びＡＰＧ－７００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを６．０ｇ及びＡＰＧ－７００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１を調製した。
【0070】
［実施例２］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡＰＧ－７００を６．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡＰＧ－７００を６．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２を調製した。
【0071】
［実施例３］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を７．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物３を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を７．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物３を調製した。
【0072】
［実施例４］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを２．０ｇ及びＡＰＧ－７００を８．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物４を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを２．０ｇ及びＡＰＧ－７００を８．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物４を調製した。
【0073】
［実施例５］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡＰＧ－７００を４．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を２．０ｇ（シリカ粒子として１．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物５を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡＰＧ－７００を４．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を２．０ｇ（シリカ粒子として１．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物５を調製した。
【0074】
［実施例６］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを８．０ｇ及びＡ－６００を２．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物６を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを８．０ｇ及びＡ－６００を２．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物６を調製した。
【0075】
［実施例７］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを６．０ｇ及びＡ－６００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物７を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを６．０ｇ及びＡ－６００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物７を調製した。
【0076】
［実施例８］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡ－６００を６．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物８を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを４．０ｇ及びＡ－６００を６．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物８を調製した。
【0077】
［実施例９］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを６．０ｇ及びＡ－６００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物９を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを６．０ｇ及びＡ－６００を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物９を調製した。
【0078】
［実施例１０］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を７．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１０を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を７．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１０を調製した。
【0079】
［実施例１１］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを２．０ｇ及びＡＰＧ－７００を８．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１１を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを２．０ｇ及びＡＰＧ－７００を８．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１１を調製した。
【0080】
［実施例１２］
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１２を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１２を調製した。
【0081】
［実施例１３］
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを９．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＶ＃１９０を１．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１３を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを９．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＶ＃１９０を１．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１３を調製した。
【0082】
［実施例１４］
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを８．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＶ＃１９０を２．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１４を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを８．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＶ＃１９０を２．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１４を調製した。
【0083】
［実施例１５］
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを９．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを１．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１５を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを９．０ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを１．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１５を調製した。
【0084】
［実施例１６］
前記架橋性樹脂としてＥ４５１３を１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１６を調製した。
前記架橋性樹脂としてＥ４５１３を１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１６を調製した。
【0085】
［比較例１］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１７を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１７を調製した。
【0086】
［比較例２］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを７．０ｇ及びＡＰＧ－７００を１．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を２．０ｇ（シリカ粒子として１．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１８を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを７．０ｇ及びＡＰＧ－７００を１．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を２．０ｇ（シリカ粒子として１．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１８を調製した。
【0087】
［比較例３］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を１．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を６．０ｇ（シリカ粒子として３．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１９を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＣＰを３．０ｇ及びＡＰＧ－７００を１．０ｇ、前記シリカ粒子として製造例１で調製したシリカ粒子のＡ－ＤＣＰ分散液を６．０ｇ（シリカ粒子として３．０ｇ）、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物１９を調製した。
【0088】
［比較例４］
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２０を調製した。
前記架橋性樹脂としてＡ－ＤＯＧを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２０を調製した。
【0089】
［比較例５］
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２１を調製した。
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２１を調製した。
【0090】
［比較例６］
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を８．０ｇ及びＶ＃２６０を２．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２２を調製した。
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を８．０ｇ及びＶ＃２６０を２．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２２を調製した。
【0091】
［比較例７］
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を６．０ｇ及びＶ＃２６０を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２３を調製した。
前記架橋性樹脂としてＥ５１２９を６．０ｇ及びＶ＃２６０を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２３を調製した。
【0092】
［比較例８］
前記架橋性樹脂としてＵＡ－５１０Ｈを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２４を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＡ－５１０Ｈを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２４を調製した。
【0093】
［比較例９］
前記架橋性樹脂として１Ｇを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２５を調製した。
前記架橋性樹脂として１Ｇを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２５を調製した。
【0094】
［比較例１０］
前記架橋性樹脂としてＤＣＰを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２６を調製した。
前記架橋性樹脂としてＤＣＰを１０．０ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２６を調製した。
【0095】
［比較例１１］
前記架橋性樹脂としてＴＨＩ－ＤＥを６．０ｇ及びＧＴ４０１を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１１０Ｐを０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２７を調製した。
前記架橋性樹脂としてＴＨＩ－ＤＥを６．０ｇ及びＧＴ４０１を４．０ｇ、並びに前記光開始剤としてＩ１１０Ｐを０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２７を調製した。
【0096】
［比較例１２］
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２８を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＭ－９０（１／３）ＤＡを２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２８を調製した。
【0097】
［比較例１３］
前記架橋性樹脂としてＵＡ－４２００を２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２９を調製した。
前記架橋性樹脂としてＵＡ－４２００を２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物２９を調製した。
【0098】
［比較例１４］
前記架橋性樹脂としてＥ４５１３を２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物３０を調製した。
前記架橋性樹脂としてＥ４５１３を２．５ｇ、前記非架橋性樹脂としてＡＭ－９０Ｇを７．５ｇ、及び前記光開始剤としてＩ１８４を０．１ｇ、それぞれ配合し、５０℃で１５時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて１０分間撹拌脱泡することで、インプリント用光硬化性組成物３０を調製した。
【0099】
前記実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製したインプリント用光硬化性組成物１乃至３０の配合比を、下記表１に示す。なお、下記表１中、「部」は「質量部」を表す。
【0100】
表１
【表1】
【0101】
［貯蔵弾性率測定］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物を、２００μｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、ガラス基板２枚で挟み込んだ。前記ガラス基板は、予めＮｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）を塗布し乾燥することで離型処理したものである。その後、前記離型処理したガラス基板２枚に挟まれた前記インプリント用光硬化性組成物を、前記ＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、空気雰囲気下にて照度５０ｍＷ／ｃｍ２で１２０秒間（露光量６Ｊ／ｃｍ２）ＵＶ露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離し、裁断することで短冊状試験片（長さ３０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ２００μｍ）を作製した。前記短冊状試験片の貯蔵弾性率を、前記エアチラーシステムを接続した前記動的粘弾性測定装置を用いて測定した。なお、測定条件は下記の通りである。
＜測定条件＞
測定モード：引張振動
引張ひずみ：０．１％
周波数：１Ｈｚ
測定温度範囲：－５０℃から２００℃
昇温速度：２℃／分
測定雰囲気：空気
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物を、２００μｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、ガラス基板２枚で挟み込んだ。前記ガラス基板は、予めＮｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）を塗布し乾燥することで離型処理したものである。その後、前記離型処理したガラス基板２枚に挟まれた前記インプリント用光硬化性組成物を、前記ＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、空気雰囲気下にて照度５０ｍＷ／ｃｍ２で１２０秒間（露光量６Ｊ／ｃｍ２）ＵＶ露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離し、裁断することで短冊状試験片（長さ３０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ２００μｍ）を作製した。前記短冊状試験片の貯蔵弾性率を、前記エアチラーシステムを接続した前記動的粘弾性測定装置を用いて測定した。なお、測定条件は下記の通りである。
＜測定条件＞
測定モード：引張振動
引張ひずみ：０．１％
周波数：１Ｈｚ
測定温度範囲：－５０℃から２００℃
昇温速度：２℃／分
測定雰囲気：空気
【0102】
前記各インプリント用光硬化性組成物から前記短冊状試験片を２つ作製し、該２つの短冊状試験片それぞれの貯蔵弾性率を測定し、それらの平均値を最終的な貯蔵弾性率として採用した。前記各インプリント用光硬化性組成物について、－４０℃における貯蔵弾性率の平均値及び１００℃における貯蔵弾性率の平均値を下記表３に示す。
【0103】
［パラメータＸの算出］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物について、前記式（１）に基づいてパラメータＸを算出した。なお、架橋性樹脂の重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）としては、製品のカタログ等に記載の数値をそのまま採用し、記載されていないものについては、製品のカタログ等に記載の構造式、平均分子量及び官能基数の情報を参考にして求めたものを採用した。各架橋性樹脂の重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）は下記表２の通りである。
表２
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物について、前記式（１）に基づいてパラメータＸを算出した。なお、架橋性樹脂の重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）としては、製品のカタログ等に記載の数値をそのまま採用し、記載されていないものについては、製品のカタログ等に記載の構造式、平均分子量及び官能基数の情報を参考にして求めたものを採用した。各架橋性樹脂の重合性官能基当量（単位：ｇ／ｅｑ）は下記表２の通りである。
表２
【表2】
【0104】
［耐衝撃性評価］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物を、無アルカリガラス基板（５ｃｍ角、７００μｍ厚）上に適量滴下した。前記無アルカリガラス基板は、予めＫＢＭ－５０３（信越化学工業（株）製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、本明細書ではＰＧＭＥＡと略称する。）で１０重量％に希釈した溶液を塗布し乾燥することで、密着処理したものである。その後、前記無アルカリガラス基板上に滴下した前記インプリント用光硬化性組成物を、遮光膜付き透明樹脂製凸面モールド（開口部６ｍｍ×７ｍｍ）で挟み込んだ。前記モールドは、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）を塗布し乾燥することで離型処理したものである。続いて、前記無アルカリガラス基板と前記モールドとで挟まれた前記インプリント用光硬化性組成物を、前記ＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、前記モールドを介して照度５０ｍＷ／ｃｍ２で所定時間ＵＶ露光し、光硬化部を形成した。なお、この時のＵＶ露光時間は、実施例１乃至実施例７、実施例１０乃至実施例１６、及び比較例１乃至比較例１０については５秒間、実施例８、実施例９、及び比較例１２乃至比較例１４については３秒間、比較例１１については２０秒間である。その後、前記モールドを離型し、前記光硬化部が密着した前記無アルカリガラス基板を、攪拌されたＰＧＭＥＡ中に１分間浸漬（現像）し、さらにＰＧＭＥＡでリンスすることで未露光部（未硬化部）を除去した。その結果、前記無アルカリガラス基板上に、６ｍｍ×７ｍｍ、最厚部４００μｍ、最薄部約３０μｍの凹面を有するレンズが成型された。
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物を、無アルカリガラス基板（５ｃｍ角、７００μｍ厚）上に適量滴下した。前記無アルカリガラス基板は、予めＫＢＭ－５０３（信越化学工業（株）製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、本明細書ではＰＧＭＥＡと略称する。）で１０重量％に希釈した溶液を塗布し乾燥することで、密着処理したものである。その後、前記無アルカリガラス基板上に滴下した前記インプリント用光硬化性組成物を、遮光膜付き透明樹脂製凸面モールド（開口部６ｍｍ×７ｍｍ）で挟み込んだ。前記モールドは、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）を塗布し乾燥することで離型処理したものである。続いて、前記無アルカリガラス基板と前記モールドとで挟まれた前記インプリント用光硬化性組成物を、前記ＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、前記モールドを介して照度５０ｍＷ／ｃｍ２で所定時間ＵＶ露光し、光硬化部を形成した。なお、この時のＵＶ露光時間は、実施例１乃至実施例７、実施例１０乃至実施例１６、及び比較例１乃至比較例１０については５秒間、実施例８、実施例９、及び比較例１２乃至比較例１４については３秒間、比較例１１については２０秒間である。その後、前記モールドを離型し、前記光硬化部が密着した前記無アルカリガラス基板を、攪拌されたＰＧＭＥＡ中に１分間浸漬（現像）し、さらにＰＧＭＥＡでリンスすることで未露光部（未硬化部）を除去した。その結果、前記無アルカリガラス基板上に、６ｍｍ×７ｍｍ、最厚部４００μｍ、最薄部約３０μｍの凹面を有するレンズが成型された。
【0105】
次に、前記無アルカリガラス基板上に成型された前記レンズを、前記ＵＶ－ＬＥＤ照射装置を用いて、再び照度５０ｍＷ／ｃｍ２で所定時間ＵＶ露光した後、前記熱衝撃試験機へ投入し、熱衝撃試験を行った。なお、この時のＵＶ露光時間は、実施例１乃至実施例７、実施例１０乃至実施例１６、比較例１乃至比較例１０については１１５秒間、実施例８、実施例９、比較例１２乃至比較例１４については１１７秒間、比較例１１については１００秒間である（前記各インプリント用光硬化性組成物につき、２度のＵＶ露光の合計露光時間が１２０秒間、すなわち合計露光量が同一（６Ｊ／ｃｍ２）となるように統一した）。また、熱衝撃試験条件は下記の通りである。
＜熱衝撃試験条件＞
低温槽温度：－４０℃
高温槽温度：８５℃
各温度での曝し時間：３０分（１サイクル＝１時間）
サイクル数：５０
＜熱衝撃試験条件＞
低温槽温度：－４０℃
高温槽温度：８５℃
各温度での曝し時間：３０分（１サイクル＝１時間）
サイクル数：５０
【0106】
熱衝撃試験終了後、目視観察で前記レンズにクラックが確認できるものの耐衝撃性を“×”、クラックが確認できないものの耐衝撃性を“○”と判定した。その結果を下記表３に示す。
【0107】
［形状保持性評価］
実施例１乃至実施例１６、比較例１、比較例４、比較例１０乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物について、前記［耐衝撃性評価］に記載の、熱衝撃試験機へ投入する直前までの手順と同じ手順で、前記無アルカリガラス基板上に前記レンズを成型した。前記レンズの凹面の形状を、前記非接触表面性状測定装置を用いて測定し、該レンズの最厚部の厚さと最薄部の厚さの差（μｍ）を算出した（ここで算出された値を“差Ａ”と呼ぶ）。続いて、前記レンズが成型された前記無アルカリガラス基板を、１００℃のホットプレート上に１０分間置いて加熱し、ホットプレート上から取り外してから１０分後に、再度前記レンズの凹面の形状を、前記非接触表面性状測定装置を用いて測定し、該レンズの最厚部の厚さと最薄部の厚さの差（μｍ）を算出した（ここで算出された値を“差Ｂ”と呼ぶ）。差Ａから差Ｂを減じた値をレンズの形状変化量（μｍ）と定義した。前記各インプリント用光硬化性組成物について、前記形状変化量が１０μｍ以上の場合の形状保持性を“×”、前記形状変化量が２μｍ以下の場合の形状保持性を“○”と判定した。その結果を下記表３に示す。
実施例１乃至実施例１６、比較例１、比較例４、比較例１０乃至比較例１４で調製した各インプリント用光硬化性組成物について、前記［耐衝撃性評価］に記載の、熱衝撃試験機へ投入する直前までの手順と同じ手順で、前記無アルカリガラス基板上に前記レンズを成型した。前記レンズの凹面の形状を、前記非接触表面性状測定装置を用いて測定し、該レンズの最厚部の厚さと最薄部の厚さの差（μｍ）を算出した（ここで算出された値を“差Ａ”と呼ぶ）。続いて、前記レンズが成型された前記無アルカリガラス基板を、１００℃のホットプレート上に１０分間置いて加熱し、ホットプレート上から取り外してから１０分後に、再度前記レンズの凹面の形状を、前記非接触表面性状測定装置を用いて測定し、該レンズの最厚部の厚さと最薄部の厚さの差（μｍ）を算出した（ここで算出された値を“差Ｂ”と呼ぶ）。差Ａから差Ｂを減じた値をレンズの形状変化量（μｍ）と定義した。前記各インプリント用光硬化性組成物について、前記形状変化量が１０μｍ以上の場合の形状保持性を“×”、前記形状変化量が２μｍ以下の場合の形状保持性を“○”と判定した。その結果を下記表３に示す。
【0108】
表３
【表3】
【0109】
実施例１乃至実施例１６で調製したインプリント用光硬化性組成物は、該組成物から得られた硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であり、さらに、パラメータＸが０．１０以上０．６０未満であった。前記インプリント用光硬化性組成物から作製されたレンズは、耐衝撃性評価及び形状保持性評価において“○”判定であった。
【0110】
一方、比較例１乃至比較例１０で調製したインプリント用光硬化性組成物は、該組成物から得られた硬化物の貯蔵弾性率が、１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であったものの、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ以上であり、さらに、パラメータＸが０．６０以上であった。前記インプリント用光硬化性組成物から作製されたレンズは、耐衝撃性評価において軒並み“×”判定であった。
【0111】
比較例１１で調製したインプリント用光硬化性組成物は、該組成物から得られた硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ以上であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ未満であり、さらに、パラメータＸが０．６０以上であった。前記インプリント用光硬化性組成物から作製されたレンズは、耐衝撃性評価及び形状保持性評価において“×”判定であった。
【0112】
比較例１２乃至比較例１４で調製したインプリント用光硬化性組成物は、該組成物から得られた硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であったものの、１００℃において１．０×１０７Ｐａ未満であり、さらに、パラメータＸが０．１０未満であった。前記インプリント用光硬化性組成物から作製されたレンズは、耐衝撃性評価において “○”判定であったものの、形状保持性評価において軒並み“×”判定であった。
【0113】
以上の結果より、硬化物の貯蔵弾性率が、－４０℃において４．０×１０９Ｐａ未満であり、且つ１００℃において１．０×１０７Ｐａ以上であるインプリント用光硬化性組成物、及びパラメータＸが０．１０以上０．６０未満であるインプリント用光硬化性組成物は、形状保持性及び耐衝撃性を両立し、一方で、硬化物の貯蔵弾性率及びパラメータＸが前記範囲から外れるインプリント用光硬化性組成物は、形状保持性及び耐衝撃性を両立することができないことが示された。