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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-09-09
(45)【発行日】2024-09-18
(54)【発明の名称】シリコン単結晶製造装置
(51)【国際特許分類】
C30B 29/06 20060101AFI20240910BHJP
G01J 5/00 20220101ALI20240910BHJP
C30B 15/26 20060101ALI20240910BHJP
【ＦＩ】
C30B29/06 502C
G01J5/00 101D
C30B15/26
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2021130601
(22)【出願日】2021-08-10
(65)【公開番号】P2023025390
(43)【公開日】2023-02-22
【審査請求日】2023-08-16
(73)【特許権者】
【識別番号】302006854
【氏名又は名称】株式会社ＳＵＭＣＯ
(74)【代理人】
【識別番号】110000637
【氏名又は名称】弁理士法人樹之下知的財産事務所
(72)【発明者】
【氏名】尼ヶ▲崎▼ 晋
【審査官】今井 淳一
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－２１８４０２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１４／０３４６３７７（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ３０Ｂ ２９／０６
Ｇ０１Ｊ ５／００
Ｃ３０Ｂ １５／２６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
チャンバと、前記チャンバ内に配置された坩堝と、
測定対象からの輻射光を検出する検出素子、前記輻射光を前記検出素子に集光するレンズ、前記測定対象を視認するためのファインダー、および中心が前記レンズの光軸と一致するマーキングを有する放射温度計と、
前記ファインダーを介して前記マーキングおよび前記測定対象を撮影する撮影装置と、
撮影された前記マーキングおよび前記測定対象を表示する表示装置と、
前記測定対象を撮影可能に照明する照明装置と、
前記放射温度計による測定位置を調整が可能な状態で前記放射温度計を支持する調整装置と、を備え、
前記撮影装置は、画像を撮影可能であり、前記マーキングと前記測定位置の両方を同時に撮影可能な高深度レンズを有しているカメラであり、
前記放射温度計によりシリコン融液表面の温度を計測する、シリコン単結晶製造装置。
【請求項2】
請求項１に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記高深度レンズは、液体レンズであるシリコン単結晶製造装置。
【請求項3】
請求項１又は請求項２に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記撮影装置は、前記カメラを前記ファインダーに固定するためのカメラ固定治具を有し、
前記カメラ固定治具は、
円筒状に形成されて前記ファインダーに接続される接続軸と、
前記接続軸が挿入可能な挿入部を有し、前記カメラを保持するカメラ保持部と、
前記挿入部内に前記接続軸が挿入された状態で前記カメラ保持部を前記接続軸に固定する固定部材と、を有するシリコン単結晶製造装置。
【請求項4】
請求項３に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記接続軸は、前記ファインダーに接続される接続部と、前記接続部と一体をなして円筒状をなし、外周面における前記接続部とは反対の側に雄ネジ溝が形成され、内部を通じて前記ファインダーを確認可能な円筒部と、を有し、
前記挿入部は、下方が開放され、突き当りが前記円筒部の外径の寸法と同じ寸法の内径の円弧とされているＵ字溝であり、
前記固定部材は、前記接続軸の雄ネジ溝と螺合して、前記挿入部内に前記円筒部を挿入した状態で前記カメラ保持部を固定するシリコン単結晶製造装置。
【請求項5】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記調整装置は、前記放射温度計を支持する二軸ゴニオステージであるシリコン単結晶製造装置。
【請求項6】
請求項５に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記二軸ゴニオステージを支持するベースプレートと、
前記放射温度計と前記二軸ゴニオステージとの間に配置されるマウントプレートと、
前記ベースプレートに形成された雌ネジ孔に螺合する軸部と、前記マウントプレートの下面に接触する頭部とを有する複数のストッパボルトと、
前記ストッパボルトの高さを固定するナットと、を有するシリコン単結晶製造装置。
【請求項7】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記放射温度計で測定される輻射光の光路を、入射方向に対して直交方向に反射する反射部を有するシリコン単結晶製造装置。
【請求項8】
請求項７に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記反射部は、アルミ蒸着ミラーにより形成されているミラー本体を有するシリコン単結晶製造装置。
【請求項9】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のシリコン単結晶製造装置において、前記坩堝が着脱可能に取り付けられ、前記坩堝を回転及び昇降駆動させる坩堝軸と、
前記坩堝軸に着脱可能に取り付けられ、前記撮影装置によって撮影される座標板と、を備えるシリコン単結晶製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、シリコン単結晶製造装置に関する。
【背景技術】
【0002】
チョクラルスキー法（ＣＺ法）によるシリコン単結晶の引き上げは、坩堝内のシリコン融液に種結晶を着床させ、引き上げワイヤーにより種結晶を上方に引き上げることにより行われる。
シリコン単結晶の引き上げにおいて、坩堝内のシリコン融液表面の温度は重要なパラメータの一つであり、シリコン融液表面の温度を正確に測定することにより、シリコン単結晶の品質を精密に制御することが可能となる。
特許文献１には、プルチャンバの上部に放射温度計と二次元温度計を配置し、これら二つの温度計を用いて、シリコン融液表面の温度を測定する技術が開示されている。
シリコン単結晶の引き上げにおいて、坩堝内のシリコン融液表面の温度は重要なパラメータの一つであり、シリコン融液表面の温度を正確に測定することにより、シリコン単結晶の品質を精密に制御することが可能となる。
特許文献１には、プルチャンバの上部に放射温度計と二次元温度計を配置し、これら二つの温度計を用いて、シリコン融液表面の温度を測定する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１４－２１８４０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ところで、放射温度計では、通常、付属のファインダーを目視することによって測定位置の位置合わせを行うが、プルチャンバの上部に配置された放射温度計のファインダーから坩堝までの測定距離が長く、測定者の目視調整では、見る人の感覚および見る角度により測定位置が変動して安定しないという課題がある。
加えて、チャンバ内にシリコン融液が無いときはチャンバ内は暗闇にあり、これまで通常はシリコン融液（発光物）がある状態で目視調整を行うことが常であった。しかし、この場合、目視によりマーキングは見えるが、目標位置が正確に分からないという問題があった。
加えて、チャンバ内にシリコン融液が無いときはチャンバ内は暗闇にあり、これまで通常はシリコン融液（発光物）がある状態で目視調整を行うことが常であった。しかし、この場合、目視によりマーキングは見えるが、目標位置が正確に分からないという問題があった。
【0005】
本発明の目的は、放射温度計によりシリコン融液表面の温度を計測するシリコン単結晶製造装置において、放射温度計による測定位置を目標位置に対して正確に合わせることができるシリコン単結晶製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明のシリコン単結晶製造装置は、チャンバと、前記チャンバ内に配置された坩堝と、測定対象からの輻射光を検出する検出素子、前記輻射光を前記検出素子に集光するレンズ、前記測定対象を視認するためのファインダー、および中心が前記レンズの光軸と一致するマーキングを有する放射温度計と、前記ファインダーを介して前記マーキングおよび前記測定対象を撮影する撮影装置と、撮影された前記マーキングおよび前記測定対象を表示する表示装置と、前記測定対象を撮影可能に照明する照明装置と、前記放射温度計による測定位置を調整が可能な状態で前記放射温度計を支持する調整装置と、を備えることを特徴とする。
【0007】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記撮影装置は、画像を撮影可能なカメラであってよい。
【0008】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記カメラは、前記マーキングと前記測定位置の両方を同時に撮影可能な高深度レンズを有してよい。
上記シリコン単結晶製造装置において、前記高深度レンズは、液体レンズであってよい。
上記シリコン単結晶製造装置において、前記高深度レンズは、液体レンズであってよい。
【0009】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記撮影装置は、前記カメラを前記ファインダーに固定するためのカメラ固定治具を有し、前記カメラ固定治具は、円筒状に形成されて前記ファインダーに接続される接続軸と、前記接続軸が挿入可能な挿入部を有し、前記カメラを保持するカメラ保持部と、前記挿入部内に前記接続軸が挿入された状態で前記カメラ保持部を前記接続軸に固定する固定部材と、を有してよい。
【0010】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記接続軸は、前記ファインダーに接続される接続部と、前記接続部と一体をなして円筒状をなし、外周面における前記接続部とは反対の側に雄ネジ溝が形成され、内部を通じて前記ファインダーを確認可能な円筒部と、を有し、前記挿入部は、下方が開放され、突き当りが前記円筒部の外径の寸法と同じ寸法の内径の円弧とされているＵ字溝であり、前記固定部材は、前記接続軸の雄ネジ溝と螺合して、前記挿入部内に前記円筒部を挿入した状態で前記カメラ保持部を固定してよい。
【0011】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記調整装置は、前記放射温度計を支持する二軸ゴニオステージであってよい。
【0012】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記二軸ゴニオステージを支持するベースプレートと、前記放射温度計と前記二軸ゴニオステージとの間に配置されるマウントプレートと、前記ベースプレートに形成された雌ネジ孔に螺合する軸部と、前記マウントプレートの下面に接触する頭部とを有する複数のストッパボルトと、前記ストッパボルトの高さを固定するナットと、を有してよい。
【0013】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記放射温度計で測定される輻射光の光路を、入射方向に対して直交方向に反射する反射部を有してよい。
【0014】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記反射部は、アルミ蒸着ミラーにより形成されているミラー本体を有してよい。
【0015】
上記シリコン単結晶製造装置において、前記坩堝が着脱可能に取り付けられ、前記坩堝を回転及び昇降駆動させる坩堝軸と、前記坩堝軸に着脱可能に取り付けられ、前記撮影装置によって撮影される座標板と、を備えてよい。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、放射温度計によりシリコン融液表面の温度を計測するシリコン単結晶製造装置において、放射温度計による測定位置を目標位置に正確に合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明にかかるシリコン単結晶製造装置の一実施形態の概略構成を示す縦断面図である。
【図2】本発明にかかるプルチャンバ蓋体に固定された放射温度計ユニットの一実施形態を示す斜視図である。
【図3】本発明にかかる調整装置の一実施形態の一部を分解した斜視図である。
【図4】本発明にかかる放射温度計および反射部の一実施形態の構造を説明する一部を断面視した側面図である。
【図5】本発明にかかる撮影装置の一実施形態の分解斜視図である。
【図6】本発明にかかるカメラ保持部の一実施形態の斜視図である。
【図7】本発明にかかる座標板の一実施形態の平面図および側面図である。
【図8】円板固定工程における座標板の固定状態を説明する概略図である。
【図9】表示装置に表示された撮影画像の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
図１は、本発明にかかるシリコン単結晶製造装置の一実施形態の概略構成を示す縦断面図である。シリコン単結晶製造装置１は、ＣＺ法を用いてシリコン単結晶ＳＭを製造する。
図１に示されるように、シリコン単結晶製造装置１は、チャンバ５０と、坩堝５１と、ヒーター５２と、引き上げ部５３と、熱遮蔽体５４と、断熱材５５と、坩堝軸５６と、放射温度計ユニット２と、を備えている。
図１は、本発明にかかるシリコン単結晶製造装置の一実施形態の概略構成を示す縦断面図である。シリコン単結晶製造装置１は、ＣＺ法を用いてシリコン単結晶ＳＭを製造する。
図１に示されるように、シリコン単結晶製造装置１は、チャンバ５０と、坩堝５１と、ヒーター５２と、引き上げ部５３と、熱遮蔽体５４と、断熱材５５と、坩堝軸５６と、放射温度計ユニット２と、を備えている。
【0019】
チャンバ５０は、結晶の引き上げを行うメインチャンバ５７と、メインチャンバ５７の上部に接続され、引き上げられた結晶が収容されるプルチャンバ５８とを備えている。プルチャンバ５８には、アルゴン（Ａｒ）ガスなどの不活性ガスをメインチャンバ５７内に導入するガス導入口５９が設けられている。メインチャンバ５７の下部には、真空ポンプの駆動により、メインチャンバ５７内の気体を排出するガス排気口（図示せず）が設けられている。
【0020】
プルチャンバ５８は、円筒形状のプルチャンバ本体５８Ａと、プルチャンバ本体５８Ａの上端を塞ぐプルチャンバ蓋体５８Ｂとを有する。プルチャンバ蓋体５８Ｂには、測定用窓５８Ｃが設けられている。測定用窓５８Ｃは、シリコン融液Ｍからの輻射光および可視光を透過する材料、例えば石英によって形成することができる。
【0021】
メインチャンバ５７には、メインチャンバ５７内を観察するための観察窓５７Ａが設けられている。観察窓５７Ａの近傍であって、メインチャンバ５７の外側には、測定対象を撮影可能に照明する照明装置６３が設けられている。照明装置６３は、坩堝５１や、後述する座標板３５（図８参照）を照らすように方向付けられている。照明装置６３としては、ＬＥＤライトが好ましい。発明者らの実験によれば、ＬＥＤライトの光量は７０ルーメン以上２００ルーメン以下とすることで十分であり、このような光量とすることで、例えば１０００ルーメンの照明装置とするよりもコストを低減することができる。
【0022】
放射温度計ユニット２は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定されており、測定用窓５８Ｃを介して、シリコン融液表面の測定位置の温度を測定する。なお、放射温度計ユニット２からシリコン融液表面までの距離は、約６ｍである。
プルチャンバ５８の上部には、メンテナンスデッキ６０が設けられている。作業者は、メンテナンスデッキ６０上で、放射温度計ユニット２に関する作業（調整、測定など）を行うことができる。
プルチャンバ５８の上部には、メンテナンスデッキ６０が設けられている。作業者は、メンテナンスデッキ６０上で、放射温度計ユニット２に関する作業（調整、測定など）を行うことができる。
【0023】
坩堝５１は、メインチャンバ５７内に配置され、シリコン融液Ｍを貯留する。
ヒーター５２は、坩堝５１の外側に所定間隔を隔てて配置され、坩堝５１内のシリコン融液Ｍを加熱する。引き上げ部５３は、一端に種結晶ＳＣが取り付けられるケーブル６１と、ケーブル６１を昇降及び回転させる引き上げ駆動部６２とを備えている。
ヒーター５２は、坩堝５１の外側に所定間隔を隔てて配置され、坩堝５１内のシリコン融液Ｍを加熱する。引き上げ部５３は、一端に種結晶ＳＣが取り付けられるケーブル６１と、ケーブル６１を昇降及び回転させる引き上げ駆動部６２とを備えている。
【0024】
熱遮蔽体５４は、引き上げられるシリコン単結晶ＳＭを囲むように設けられ、ヒーター５２からシリコン単結晶ＳＭへの輻射熱を遮断する。坩堝軸５６は、坩堝５１を下方から支持する支持軸であり、坩堝５１を所定の速度で回転及び昇降させる駆動装置（図示せず）に接続されている。なお、坩堝５１は、坩堝軸５６に対して着脱可能に取り付けられ、坩堝軸５６には坩堝５１に替えて後述する座標板３５を着脱可能に取り付けることができる。
【0025】
次に、放射温度計ユニット２について説明する。
放射温度計ユニット２は、シリコン単結晶ＳＭの製造時に、坩堝５１内のシリコン融液表面の温度を測定する放射温度計３を備えるユニットである。
図２は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定された放射温度計ユニット２の斜視図である。
放射温度計ユニット２は、シリコン単結晶ＳＭの製造時に、坩堝５１内のシリコン融液表面の温度を測定する放射温度計３を備えるユニットである。
図２は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定された放射温度計ユニット２の斜視図である。
【0026】
図２に示されるように、放射温度計ユニット２は、シリコン融液表面の温度を非接触で計測する放射温度計３と、放射温度計３による測定位置を調整する調整装置４と、放射温度計３による測定位置を撮影する撮影装置５と、表示装置１３（図１参照）と、反射部６と、を備えている。
反射部６は、放射温度計３で測定される輻射光（赤外線）の光路Ｐを、入射方向に対して直交方向に反射する。シリコン融液Ｍからの輻射光の光路Ｐは、反射部６で直交方向に反射されてレンズ１５に入射され、放射温度計３で測定される。
反射部６は、放射温度計３で測定される輻射光（赤外線）の光路Ｐを、入射方向に対して直交方向に反射する。シリコン融液Ｍからの輻射光の光路Ｐは、反射部６で直交方向に反射されてレンズ１５に入射され、放射温度計３で測定される。
【0027】
放射温度計３のファインダー１７は、通常は目視による温度測定の際に使用されるが、本発明の放射温度計ユニット２では、ファインダー１７に撮影装置５を取り付けている。これにより、撮影装置５は、放射温度計３および反射部６を介して測定位置を撮影することができる。
【0028】
放射温度計３は、調整装置４を介してプルチャンバ蓋体５８Ｂに固定されている。本実施形態の放射温度計ユニット２では、放射温度計３は、レンズ１５の光軸Ａが略水平となるように配置されている。
【0029】
図３は、調整装置４の一部を分解した斜視図である。調整装置４は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定され、放射温度計３を支持し、放射温度計３による測定位置を調整する装置である。
調整装置４は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定されるベースプレート７と、ベースプレート７上に固定される二軸ゴニオステージ８と、二軸ゴニオステージ８上に固定され、放射温度計３を支持するマウントプレート９と、を備えている。
調整装置４は、プルチャンバ蓋体５８Ｂに固定されるベースプレート７と、ベースプレート７上に固定される二軸ゴニオステージ８と、二軸ゴニオステージ８上に固定され、放射温度計３を支持するマウントプレート９と、を備えている。
【0030】
ベースプレート７は、例えばボルトＢ１（図２参照）などの締結部材によってプルチャンバ蓋体５８Ｂに固定される板状部材である。ベースプレート７は、放射温度計３および二軸ゴニオステージ８を支持するのに十分な強度を有する板によって形成することができる。ベースプレート７は、プルチャンバ蓋体５８Ｂにその上面が水平となるように固定される。ベースプレート７の上面には、例えばボルト（図示せず）によって二軸ゴニオステージ８が固定される。
【0031】
ベースプレート７には、複数のストッパボルト１０を取り付けることができる。ストッパボルト１０は、ベースプレート７の雌ネジ孔に螺合する軸部１０Ａと、樹脂製のパッドが設けられた頭部１０Ｂとを有するボルトである。ストッパボルト１０は、頭部１０Ｂのパッドがマウントプレート９の下面に接触するように調整される。
【0032】
二軸ゴニオステージ８は、調整装置４によって支持された放射温度計３の姿勢調整に使用される装置である。二軸ゴニオステージ８により放射温度計３の姿勢が調整されることによって、放射温度計３のレンズ１５の光軸Ａの角度が調整されて、放射温度計３による測定位置が調整される。
二軸ゴニオステージ８は、２つの一軸ゴニオステージ（傾斜ステージ）を各々の回転中心が互いに直交するように組み合わせたものであり、ベースプレート７上に配置される第一ゴニオステージ１１と、第一ゴニオステージ１１の上方に接続される第二ゴニオステージ１２とを備える。
二軸ゴニオステージ８は、２つの一軸ゴニオステージ（傾斜ステージ）を各々の回転中心が互いに直交するように組み合わせたものであり、ベースプレート７上に配置される第一ゴニオステージ１１と、第一ゴニオステージ１１の上方に接続される第二ゴニオステージ１２とを備える。
【0033】
第一ゴニオステージ１１は、第一固定ステージ１１Ａと、第一固定ステージ１１Ａの上方に接続されている第一可動ステージ１１Ｂと、第一ハンドル１１Ｃとを有する。第一固定ステージ１１Ａの上面は、Ｙ軸（図３参照）と平行な軸線を中心とする円筒状の曲面であり、第一可動ステージ１１Ｂの下面は、第一固定ステージ１１Ａの上面に沿う曲面である。第一ハンドル１１Ｃを回動させることにより、第一可動ステージ１１ＢがＹ軸と平行な軸回りに回動する。
【0034】
第二ゴニオステージ１２は、第二固定ステージ１２Ａと、第二固定ステージ１２Ａの上方に接続されている第二可動ステージ１２Ｂと、第二ハンドル１２Ｃとを有する。第二固定ステージ１２Ａの上面は、Ｘ軸（図３参照）と平行をなす軸線を中心とする円筒状の曲面であり、第二可動ステージ１２Ｂの下面は、第二固定ステージ１２Ａの上面に沿う曲面である。第二ハンドル１２Ｃを回動させることにより、第二可動ステージ１２ＢがＸ軸と平行な軸回りに回動する。
ここで、Ｘ軸は、チャンバ５０の中心を通過して水平に延びる軸線であり、Ｙ軸はＸ軸に直交し水平方向に延びる軸線である。
ここで、Ｘ軸は、チャンバ５０の中心を通過して水平に延びる軸線であり、Ｙ軸はＸ軸に直交し水平方向に延びる軸線である。
【0035】
マウントプレート９は、例えばボルトＢ２などの締結部材によって第二ゴニオステージ１２の上面に固定され、放射温度計３と二軸ゴニオステージ８との間に配置される板状部材である。マウントプレート９は放射温度計３を支持するのに十分な強度を有する板によって形成することができる。マウントプレート９には、マウントプレート９上に放射温度計３を固定する際に使用する、複数の放射温度計固定孔９Ａが形成されている。
【0036】
次に、放射温度計３の構成について説明する。図４は、放射温度計３および反射部６の構造を説明する一部を断面視した側面図である。
図４に示されるように、放射温度計３は、略円筒形状のケーシング１４と、ケーシング１４内に配置されたレンズ１５と、ケーシング１４内に配置された検出素子１６と、ファインダー１７と、を備える。
図４に示されるように、放射温度計３は、略円筒形状のケーシング１４と、ケーシング１４内に配置されたレンズ１５と、ケーシング１４内に配置された検出素子１６と、ファインダー１７と、を備える。
【0037】
レンズ１５は、その光軸Ａがケーシング１４の中心軸と一致するように配置されている。すなわち、ケーシング１４の中心軸が水平となるように放射温度計３を設置することによって、レンズ１５の光軸Ａを水平とすることができる。
放射温度計３は、ケーシング１４に形成された開口部１４Ａを介して取り込まれた測定対象の輻射光をレンズ１５およびビームスプリッタ１８を介して検出素子１６に集光する方式の放射温度計である。ビームスプリッタ１８は、輻射光と可視光を分離するためのもので、例えば、ハーフミラーを使用することができる。
放射温度計３は、ケーシング１４に形成された開口部１４Ａを介して取り込まれた測定対象の輻射光をレンズ１５およびビームスプリッタ１８を介して検出素子１６に集光する方式の放射温度計である。ビームスプリッタ１８は、輻射光と可視光を分離するためのもので、例えば、ハーフミラーを使用することができる。
【0038】
検出素子１６は、輻射光に感応し、輻射光のエネルギーに対応した電気信号を発生する素子である。
放射温度計３は、その中心がレンズ１５の光軸Ａと一致するマーキング（例えば黒丸）を有している。マーキングは、その中心が測定中心となるように記されている。このマーキングは、通常は、レンズ１５に直接形成すれば良いが、レンズ１５以外に形成してもよい。また、放射温度計３の距離係数は、測定距離（本実施形態であれば、例えば６，０００ｍｍ）と測定対象物の大きさに応じて選択する。
放射温度計３は、その中心がレンズ１５の光軸Ａと一致するマーキング（例えば黒丸）を有している。マーキングは、その中心が測定中心となるように記されている。このマーキングは、通常は、レンズ１５に直接形成すれば良いが、レンズ１５以外に形成してもよい。また、放射温度計３の距離係数は、測定距離（本実施形態であれば、例えば６，０００ｍｍ）と測定対象物の大きさに応じて選択する。
【0039】
次に、反射部６について説明する。反射部６は、輻射光の光路Ｐを直角に曲げるための機構である。
図４に示されるように、反射部６は、放射温度計３のケーシング１４に固定されるミラーケーシング３０と、ミラーケーシング３０内に固定されるミラー本体３１と、ミラーケーシング３０の下方に接続され、ミラーケーシング３０と測定用窓５８Ｃとの間をシールドするシールドパイプ３２とを有する。なお、二軸ゴニオステージ８によって放射温度計３を傾けた際に、シールドパイプ３２が測定用窓５８Ｃに衝突しないように、シールドパイプ３２と測定用窓５８Ｃとの間には僅かな隙間が設定されている。
ミラーケーシング３０は、ミラー本体３１がレンズ１５の光軸Ａに対して適切な角度となるように、ミラー本体３１を収容するケーシングである。ミラーケーシング３０は、外部の光を遮断する機能を有する。
図４に示されるように、反射部６は、放射温度計３のケーシング１４に固定されるミラーケーシング３０と、ミラーケーシング３０内に固定されるミラー本体３１と、ミラーケーシング３０の下方に接続され、ミラーケーシング３０と測定用窓５８Ｃとの間をシールドするシールドパイプ３２とを有する。なお、二軸ゴニオステージ８によって放射温度計３を傾けた際に、シールドパイプ３２が測定用窓５８Ｃに衝突しないように、シールドパイプ３２と測定用窓５８Ｃとの間には僅かな隙間が設定されている。
ミラーケーシング３０は、ミラー本体３１がレンズ１５の光軸Ａに対して適切な角度となるように、ミラー本体３１を収容するケーシングである。ミラーケーシング３０は、外部の光を遮断する機能を有する。
【0040】
ミラー本体３１は、輻射光（赤外線）および可視光を反射可能な材料によって形成されている。ミラー本体３１は例えば、アルミ蒸着ミラーにより形成することができる。ミラー本体３１は、アルミ蒸着ミラーに限らず、例えば金蒸着ミラーを採用してもよい。金蒸着コートのミラーは赤外波長や近赤外波長で最良条件においては高反射率を持つが、シリコンは６００℃程度で０．６μm（６００ｎｍ）程度の波長と言われ、さらに高温では短波長となる。その領域ではアルミ蒸着ミラーと金蒸着ミラーの反射率に大差はない。このため、金蒸着ミラーに比べて安価なアルミ蒸着ミラーを用いることができる。
シールドパイプ３２は、ミラーケーシング３０の下方に接続される円筒状の部材である。シールドパイプ３２は、ミラーケーシング３０と測定用窓５８Ｃとの間で、外部の光を遮断する機能を有する。
シールドパイプ３２は、ミラーケーシング３０の下方に接続される円筒状の部材である。シールドパイプ３２は、ミラーケーシング３０と測定用窓５８Ｃとの間で、外部の光を遮断する機能を有する。
【0041】
次に、撮影装置５について説明する。図５は撮影装置５の分解斜視図である。なお、以下の説明では、放射温度計３のレンズ１５（図４参照）の光軸Ａに沿う方向を軸線方向ＤＡと呼ぶ。また、撮影装置５の各構成要素の説明で使用する上下方向ＤＶ、軸線方向ＤＡなどの方向は、図５に対応する。
図５に示されるように、撮影装置５は、カメラ１９と、カメラ１９をファインダー１７に固定するためのカメラ固定治具２０と、を有する。
図５に示されるように、撮影装置５は、カメラ１９と、カメラ１９をファインダー１７に固定するためのカメラ固定治具２０と、を有する。
【0042】
カメラ１９は、画像を撮影可能な装置であり、高深度レンズ１９Ａと、電源供給に用いられるケーブル１９Ｂとを有する。カメラ１９の本体部は直方体形状をなし、その下面には、カメラ１９の固定に使用される雌ネジ穴１９Ｃが形成されている。カメラ１９には、例えば、充電式のポータブルバッテリーにより電源供給を行うことができる。
【0043】
また、カメラ１９は、近距離（例えば、１００ｍｍ）から遠距離（例えば、６，０００ｍｍ）までを同時に撮影可能な高深度レンズ１９Ａを備えている。高深度レンズ１９Ａは、例えば、液体レンズを用いた機構を採用することができる。液体レンズは、二種類の同密度の液体を使用して電気的に液体間の界面の曲率を制御することにより焦点距離を変更可能なレンズである。液体レンズは、２種類の同密度の液体、例えば絶縁体としてのオイルと導体としての水を使用して、電圧を変化させることで２つの液体間の界面の曲率を変化させてレンズの焦点距離を変更する。
【0044】
さらに、カメラ１９は、無線通信（例えば無線ＬＡＮ）によるデータ送受信機能を有している。作業者は、表示装置１３（図１参照）を介して、カメラ１９によって撮影された画像を確認することができる。
表示装置１３は、カメラ１９と無線通信可能な装置、例えばタブレットＰＣなどの端末とすることができ、カメラ１９の制御用ソフトウェアを組み込むことによって、フォーカス・露光などのカメラ１９における各種設定操作を行える構成としてもよい。
カメラ１９の構成は上記の構成に限ることはなく、表示装置１３をカメラ１９と一体とし、無線通信機能を有さないものとしてもよい。本実施形態では、カメラ１９として、コグネックス社製ビジョンセンサIn-Sight 2000シリーズを採用しているが、同様の機能を有するものであればこれに限ることはない。
表示装置１３は、カメラ１９と無線通信可能な装置、例えばタブレットＰＣなどの端末とすることができ、カメラ１９の制御用ソフトウェアを組み込むことによって、フォーカス・露光などのカメラ１９における各種設定操作を行える構成としてもよい。
カメラ１９の構成は上記の構成に限ることはなく、表示装置１３をカメラ１９と一体とし、無線通信機能を有さないものとしてもよい。本実施形態では、カメラ１９として、コグネックス社製ビジョンセンサIn-Sight 2000シリーズを採用しているが、同様の機能を有するものであればこれに限ることはない。
【0045】
カメラ固定治具２０は、ファインダー１７に固定される接続軸２１と、カメラ１９を保持して接続軸２１に固定されるカメラ保持部２２と、接続軸２１にカメラ保持部２２を固定するためのナットである固定部材２３と、を有する。
【0046】
接続軸２１は、ファインダー１７に接続される接続部２４と、接続部２４と一体をなす円筒部２５とを有する。接続軸２１は、カメラ保持部２２をファインダー１７に固定するための基部として機能する部材である。
【0047】
接続部２４は、放射温度計３のファインダー１７の外周面に形成された雄ネジ溝と螺合するナット状の部位である。接続部２４の外周面には、ローレット加工が施されている。接続部２４の外周面にローレット加工を施して滑り止めの機能を付与することによって、接続軸２１のファインダー１７への取り付けを容易とすることができる。
円筒部２５は、接続部２４と同軸状をなす円筒状の部位である。円筒部２５の内径は、円筒部２５の内部を通じてファインダー１７を確認可能な大きさである。円筒部２５の外周面における接続部２４とは反対の側には、固定部材２３と螺合する雄ネジ溝２５Ａが形成されている。
円筒部２５は、接続部２４と同軸状をなす円筒状の部位である。円筒部２５の内径は、円筒部２５の内部を通じてファインダー１７を確認可能な大きさである。円筒部２５の外周面における接続部２４とは反対の側には、固定部材２３と螺合する雄ネジ溝２５Ａが形成されている。
【0048】
接続部２４の外径は円筒部２５の外径より大きく、接続部２４は、撮影装置５を組み立てた際に後述するベース部４０と面接触する接触面２４Ａを有する。本実施形態の接続部２４は、軸線方向から見て円形をなす円柱形状だが、これに限ることはなく、多角形状としてもよい。
【0049】
カメラ保持部２２は、接続軸２１に固定されるブラケット部２７と、ブラケット部２７と一体とされ、カメラ１９を支持するカメラ支持部２８と、を有する。
【0050】
図５および図６に示されるように、ブラケット部２７は、接続軸２１に固定されるベース部４０と、ベース部４０の両端から接続軸２１から離隔する方向に突出する一対のアーム部４１と、を有する上方から見てコ字形の部位である。
【0051】
ベース部４０は、矩形板状の部材である。ベース部４０は、接続軸２１の接続部２４と固定部材２３とに挟まれることで接続軸２１に固定される。
ベース部４０には、接続軸２１の円筒部２５が挿入され、下方が開放されたＵ字形の挿入部４２が形成されている。挿入部４２は、その上端部であり半円形状の円弧部４２Ａと、円弧部４２Ａの両端とベース部４０の下方の長辺４０Ａとを接続し、互いに平行をなす一対の直線部４２Ｂとからなる。換言すれば、挿入部４２は、下方の長辺４０Ａから上方の長辺４０Ｂに向かって形成された切り欠きであり、切り欠きの突き当りが円弧とされている。
円弧部４２Ａの内径の寸法は、接続軸２１の円筒部２５の外径の寸法と同じであり、一対の直線部４２Ｂ同士の間隔は、接続軸２１の円筒部２５の直径よりも僅かに大きい寸法である。
なお、接続軸２１を挿入する挿入部４２は、必ずしもＵ字形である必要はなく、単なる円形の穴でも良いが、Ｕ字形にすれば、接続軸２１を下から挿入してベース部４０に取り付けることができるので、その取付けが容易となる。
ベース部４０には、接続軸２１の円筒部２５が挿入され、下方が開放されたＵ字形の挿入部４２が形成されている。挿入部４２は、その上端部であり半円形状の円弧部４２Ａと、円弧部４２Ａの両端とベース部４０の下方の長辺４０Ａとを接続し、互いに平行をなす一対の直線部４２Ｂとからなる。換言すれば、挿入部４２は、下方の長辺４０Ａから上方の長辺４０Ｂに向かって形成された切り欠きであり、切り欠きの突き当りが円弧とされている。
円弧部４２Ａの内径の寸法は、接続軸２１の円筒部２５の外径の寸法と同じであり、一対の直線部４２Ｂ同士の間隔は、接続軸２１の円筒部２５の直径よりも僅かに大きい寸法である。
なお、接続軸２１を挿入する挿入部４２は、必ずしもＵ字形である必要はなく、単なる円形の穴でも良いが、Ｕ字形にすれば、接続軸２１を下から挿入してベース部４０に取り付けることができるので、その取付けが容易となる。
【0052】
アーム部４１は、矩形板状をなし、アーム部４１の主面同士が平行をなすようにベース部４０の両端に接続されている。
【0053】
カメラ支持部２８は矩形板状をなし、カメラ１９の下面を下方から支持する部位である。
カメラ支持部２８には、カメラ１９の下面に形成されている雌ネジ穴１９Ｃに対応する丸孔２８Ａが形成されている。
カメラ支持部２８には、カメラ１９の下面に形成されている雌ネジ穴１９Ｃに対応する丸孔２８Ａが形成されている。
【0054】
次に、カメラ固定治具２０を用いたカメラ１９の取り付け方法について説明する。
まず、ファインダー１７に接続軸２１を固定する。また、ボルトＢ３を用いてカメラ保持部２２にカメラ１９を固定する。次いで、挿入部４２の円弧部４２Ａと、接続軸２１の円筒部２５を接触させた状態で、固定部材２３を用いてカメラ保持部２２を接続軸２１に固定する。
まず、ファインダー１７に接続軸２１を固定する。また、ボルトＢ３を用いてカメラ保持部２２にカメラ１９を固定する。次いで、挿入部４２の円弧部４２Ａと、接続軸２１の円筒部２５を接触させた状態で、固定部材２３を用いてカメラ保持部２２を接続軸２１に固定する。
【0055】
カメラ固定治具２０は、このようにカメラ１９をカメラ固定治具２０を用いてファインダー１７に取り付けることで、カメラ１９がファインダー１７を介して放射温度計３のマーキングおよび測定対象を撮影が可能となり、カメラ１９の高深度レンズ１９Ａの光軸が放射温度計３のレンズ１５の光軸Ａと略一致し、撮影画像の略中心にマーキングが表示されるように形成されている。
カメラ１９をファインダー１７に取り付けることで、カメラ１９の高深度レンズ１９Ａが円筒部２５の内側を介してファインダー１７に面し、かつ、撮影画像に放射温度計３のマーキングおよび測定対象が映し出される。
カメラ１９をファインダー１７に取り付けることで、カメラ１９の高深度レンズ１９Ａが円筒部２５の内側を介してファインダー１７に面し、かつ、撮影画像に放射温度計３のマーキングおよび測定対象が映し出される。
【0056】
次に、調整装置４を用いた放射温度計３による測定位置の調整の際に使用する、座標板３５について説明する。座標板３５は、放射温度計３による測定位置の調整の際に、坩堝５１を取り外した後の坩堝軸５６の上端に固定されて、シリコン融液表面を模した仮想液面として機能する円板である。
【0057】
図７は、座標板３５の平面図および側面図である。図７に示されるように、座標板３５は、円板状をなす部材である。座標板３５は、その主面が水平をなすように、坩堝軸５６の上端に固定される。
座標板３５は、例えば、坩堝軸５６と接触しても問題無い材質、例えばポリテトラフルオロエチレンのような樹脂によって形成されていることが好ましい。
座標板３５は、一面に目標位置を記す際に座標として機能するパターンが溝加工により形成されている。パターンとしては、格子状のパターン（図７（ａ））でもよいし、同心円状の複数の円および、中心から放射状に延びる複数の線からなるパターン（図７（ｂ））でもよい。さらに、これらの各パターンを、座標板３５の表面および裏面にそれぞれ形成してもよい。
座標板３５は、例えば、坩堝軸５６と接触しても問題無い材質、例えばポリテトラフルオロエチレンのような樹脂によって形成されていることが好ましい。
座標板３５は、一面に目標位置を記す際に座標として機能するパターンが溝加工により形成されている。パターンとしては、格子状のパターン（図７（ａ））でもよいし、同心円状の複数の円および、中心から放射状に延びる複数の線からなるパターン（図７（ｂ））でもよい。さらに、これらの各パターンを、座標板３５の表面および裏面にそれぞれ形成してもよい。
【0058】
次に、上記シリコン単結晶製造装置１を用いた、温度測定位置の調整方法について説明する。
シリコン単結晶の製造方法は、目標位置決定工程と、座標板固定工程と、撮影工程と、調整工程と、を有する。
シリコン単結晶の製造方法は、目標位置決定工程と、座標板固定工程と、撮影工程と、調整工程と、を有する。
【0059】
目標位置決定工程は、シリコン融液表面のうち、温度を測定することにより効果的な結晶品質制御が可能となる目標位置を決定する工程である。
目標位置決定工程では、例えば、二次元温度計によって測定されたシリコン融液表面の温度分布を測定する。次いで、測定された温度分布に基づき温度が他の領域よりも低温であり続ける常低温領域を特定する。次いで、この常低温領域の内側に目標位置を設定する。このとき、座標板３５に目標位置Ｔ（図９参照）を記してもよい。
目標位置決定工程では、例えば、二次元温度計によって測定されたシリコン融液表面の温度分布を測定する。次いで、測定された温度分布に基づき温度が他の領域よりも低温であり続ける常低温領域を特定する。次いで、この常低温領域の内側に目標位置を設定する。このとき、座標板３５に目標位置Ｔ（図９参照）を記してもよい。
【0060】
座標板固定工程では、図８に示されるように、坩堝５１を取り外した状態で、坩堝軸５６の上端に座標板３５を取り付ける。次いで、坩堝軸５６を上下動させることにより、座標板３５の上面がシリコン融液表面の高さと同じになるように座標板３５を移動させる。
【0061】
撮影工程では、照明装置６３を用いて座標板３５が撮影できる程度の照度を確保した後、撮影装置５によりファインダー１７を介して放射温度計３のマーキングおよび測定対象である座標板３５の撮影を行う。図９は、撮影画像の一例である。図９に示すように、表示装置１３には、放射温度計３のマーキングＭＫ、および座標板３５（目標位置Ｔ）の撮影画像が同時に表示される。このような撮影画像は、高深度レンズにより予め焦点深度を調整しておくことによって得られる。
【0062】
調整工程では、撮影画像において、目標位置ＴとマーキングＭＫの中心が一致するように、調整装置４を操作する。作業者は、表示装置１３に表示された撮影画像を確認しながら、調整装置４を操作することができる。
具体的には、まず最初にマウントプレート９の下面に接触するストッパボルト１０の頭部をストッパボルト１０のネジをベースプレート７にねじ込むことで下げてマウントプレート９の下面より５～１０ｍｍ程度を離しておく。次いで二軸ゴニオステージ８の第一ハンドル１１Ｃを回転させることにより、Ｙ軸に沿う軸を中心に放射温度計３を回転させ、第二ハンドル１２Ｃを回転させることにより、Ｘ軸に沿う軸を中心に放射温度計３を回転させる。二軸ゴニオステージ８を用いることで、例えば０．１°の傾きを与えることで、６ｍ離れた測定位置が約１０．５ｍｍ（ｔａｎ０．１°×６，０００ｍｍ）動くことになる。これにより、放射温度計３の測定位置を厳密に調整することができる。
目標位置への調整を完了した後、ストッパボルト１０のねじ込みをベースプレート７より緩めることでストッパボルト１０の頭部を上げていき、マウントプレート９の下面へ接触させたところでストッパボルト１０とベースプレート７との間に配置した二個の六角ナット１０Ｃをベースプレート７の側へ締めこむことにより、ストッパボルト１０の高さを固定させる。
次いで、坩堝軸５６から座標板３５を取り外して、坩堝５１を取り付ける。また、ファインダー１７からカメラ固定治具２０を取り外す。
具体的には、まず最初にマウントプレート９の下面に接触するストッパボルト１０の頭部をストッパボルト１０のネジをベースプレート７にねじ込むことで下げてマウントプレート９の下面より５～１０ｍｍ程度を離しておく。次いで二軸ゴニオステージ８の第一ハンドル１１Ｃを回転させることにより、Ｙ軸に沿う軸を中心に放射温度計３を回転させ、第二ハンドル１２Ｃを回転させることにより、Ｘ軸に沿う軸を中心に放射温度計３を回転させる。二軸ゴニオステージ８を用いることで、例えば０．１°の傾きを与えることで、６ｍ離れた測定位置が約１０．５ｍｍ（ｔａｎ０．１°×６，０００ｍｍ）動くことになる。これにより、放射温度計３の測定位置を厳密に調整することができる。
目標位置への調整を完了した後、ストッパボルト１０のねじ込みをベースプレート７より緩めることでストッパボルト１０の頭部を上げていき、マウントプレート９の下面へ接触させたところでストッパボルト１０とベースプレート７との間に配置した二個の六角ナット１０Ｃをベースプレート７の側へ締めこむことにより、ストッパボルト１０の高さを固定させる。
次いで、坩堝軸５６から座標板３５を取り外して、坩堝５１を取り付ける。また、ファインダー１７からカメラ固定治具２０を取り外す。
【0063】
上記実施形態によれば、撮影装置５によって撮影された撮影画像を見ながら、放射温度計３による測定位置の調整を行うことによって、ファインダー１７を目視しながら行う調整と比較して、放射温度計３による測定位置を目標位置に正確に合わせることができる。すなわち、ファインダー１７を目視することによる目視調整では、作業者の感覚および見る角度により測定位置が変動して安定しないが、撮影画像による調整では、マーキングＭＫと座標板３５とが重なって表示されるため、作業者による差を無くすることができる。よって、所望の位置でシリコン融液表面の温度測定を行いながら、シリコン単結晶の引き上げが可能となる。
【0064】
また、撮影画像を、カメラ１９から離れた場所に配置した表示装置１３に表示することによって、作業者は自由な姿勢で撮影画像の確認が可能となる。
また、ファインダー１７に接続軸２１を取り付け、この接続軸２１にベース部４０の挿入部４２を嵌めて固定部材２３で締め付ける方法によりカメラ保持部２２をファインダー１７に取り付ける構成にしたことによって、接続軸２１に対してカメラ保持部２２を容易に脱着することができる。
また、接続軸２１の円筒部２５に挿入部４２の円弧部４２Ａを接触させることによりカメラ１９の位置決めがなされる構造としたことによって、カメラ１９の位置決めの再現性を高め、作業者毎の取り付け誤差をなくすることができる。
また、ファインダー１７に接続軸２１を取り付け、この接続軸２１にベース部４０の挿入部４２を嵌めて固定部材２３で締め付ける方法によりカメラ保持部２２をファインダー１７に取り付ける構成にしたことによって、接続軸２１に対してカメラ保持部２２を容易に脱着することができる。
また、接続軸２１の円筒部２５に挿入部４２の円弧部４２Ａを接触させることによりカメラ１９の位置決めがなされる構造としたことによって、カメラ１９の位置決めの再現性を高め、作業者毎の取り付け誤差をなくすることができる。
【0065】
また、カメラ１９は、焦点距離を調整可能な焦点機構を有するため、マーキングＭＫおよび座標板３５の２箇所に焦点が有った画像を撮影して、表示装置１３に表示させることができる。
また、表示装置１３で座標板３５などが表示された撮影画像を確認しながら調整装置４の調整が行えるため、一人の作業者による作業が可能となる。
また、表示装置１３で座標板３５などが表示された撮影画像を確認しながら調整装置４の調整が行えるため、一人の作業者による作業が可能となる。
【0066】
また、調整装置４として二軸ゴニオステージ８を使用することによって、放射温度計３による測定位置の微調整を可能とすることができる。さらに、二軸ゴニオステージ８による角度調整のみで放射温度計３の測定位置を変更するため、調整後にマウントプレート９、等を固定するボルトを締める必要が無く、測定位置の変動がない。
また、二軸ゴニオステージ８の調整後、ストッパボルト１０の頭部をマウントプレート９の下面に接触させた状態でストッパボルト１０を固定することにより、経時変化またはシリコン単結晶製造装置１より発生する機械微振動などで二軸ゴニオステージ８の変動による温度測定位置の変動を抑止することができる。
また、二軸ゴニオステージ８の調整後、ストッパボルト１０の頭部をマウントプレート９の下面に接触させた状態でストッパボルト１０を固定することにより、経時変化またはシリコン単結晶製造装置１より発生する機械微振動などで二軸ゴニオステージ８の変動による温度測定位置の変動を抑止することができる。
【0067】
また、ゴニオステージは水平面での設置が推奨されているため、輻射光の光路Ｐを反射部６によって直交方向に反射させる構成としたことによって、二軸ゴニオステージ８を用いた調整作業が可能となった。また、反射部６と二軸ゴニオステージ８の組み合わせにより、メンテナンスデッキ６０上での作業が可能となり、調整作業を容易とすることができる。
【0068】
また、反射部６のミラーとしてアルミ蒸着ミラーを採用したことにより、金蒸着ガラスミラーと比較して、色具合がカメラ視認に適したミラーとすることができる。
また、カメラ１９として、充電式のポータブルバッテリーにより電源供給を行うことができるものを使用することにより、カメラ１９の携帯性が高まり、高所での作業を容易とすることができる。
また、調整工程の際に、シリコン融液表面を模した仮想液面として機能する座標板３５を用いることによって、設定した目標位置の把握が容易となり、撮影画像を用いた調整を容易とすることができる。
また、カメラ１９として、充電式のポータブルバッテリーにより電源供給を行うことができるものを使用することにより、カメラ１９の携帯性が高まり、高所での作業を容易とすることができる。
また、調整工程の際に、シリコン融液表面を模した仮想液面として機能する座標板３５を用いることによって、設定した目標位置の把握が容易となり、撮影画像を用いた調整を容易とすることができる。
【0069】
［変形例］
本発明は、以上の各実施形態で説明した構成のものに限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形例は、本発明に含まれる。
上記実施形態では、カメラ保持部２２を、ブラケット部２７とカメラ支持部２８とが一体である構成としたがこれに限ることはない。例えば、ブラケット部２７とカメラ支持部２８とを別体構造とし、カメラ支持部２８を軸線方向ＤＡにスライド自在にブラケット部２７に取り付けてもよい。このような構造とすることにより、カメラ１９の軸線方向ＤＡの位置を調整することができる。
本発明は、以上の各実施形態で説明した構成のものに限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形例は、本発明に含まれる。
上記実施形態では、カメラ保持部２２を、ブラケット部２７とカメラ支持部２８とが一体である構成としたがこれに限ることはない。例えば、ブラケット部２７とカメラ支持部２８とを別体構造とし、カメラ支持部２８を軸線方向ＤＡにスライド自在にブラケット部２７に取り付けてもよい。このような構造とすることにより、カメラ１９の軸線方向ＤＡの位置を調整することができる。
【0070】
また、上記実施形態では、ファインダー１７に接続軸２１を固定した後、接続軸２１を介してカメラ保持部２２を取り付ける構成としたがこれに限ることはない。例えば、ファインダー１７を軸線方向ＤＡにより長く形成して、ファインダー１７とカメラ保持部２２とを直接的に固定してもよい。
【0071】
また、調整装置４として二軸ゴニオステージを採用したが、放射温度計３による測定位置を調整できる装置であれば他の構成を採用することができる。例えば、調整装置４として、Ｘ軸・Ｙ軸・θ軸が各々独立した構造のステージ装置の採用も可能である。
また、上記実施形態では、反射部６を設けて輻射光を反射する構成としたが、これに限ることはなく、放射温度計３が直接輻射光を取り込む構成としてもよい。例えば、二軸ゴニオステージ上にＬ字ブラケットを取り付けて、このＬ字ブラケットに放射温度計３を光軸が鉛直方向に沿うように取り付けることによって、反射部６を省略することができる。
また、座標板３５は、円板とする必要はなく、多角形状としてもよい。放射温度計３に設けるマーキングは黒丸に限定されず、その形状や色は適宜設定できる。
また、上記実施形態では、反射部６を設けて輻射光を反射する構成としたが、これに限ることはなく、放射温度計３が直接輻射光を取り込む構成としてもよい。例えば、二軸ゴニオステージ上にＬ字ブラケットを取り付けて、このＬ字ブラケットに放射温度計３を光軸が鉛直方向に沿うように取り付けることによって、反射部６を省略することができる。
また、座標板３５は、円板とする必要はなく、多角形状としてもよい。放射温度計３に設けるマーキングは黒丸に限定されず、その形状や色は適宜設定できる。
【符号の説明】
【0072】
１…シリコン単結晶製造装置、２…放射温度計ユニット、３…放射温度計、４…調整装置、５…撮影装置、６…反射部、８…二軸ゴニオステージ、１３…表示装置、１５…レンズ、１６…検出素子、１７…ファインダー、１９…カメラ、１９Ａ…高深度レンズ、２０…カメラ固定治具、２１…接続軸、２２…カメラ保持部、２３…固定部材、２４…接続部、２５…円筒部、２５Ａ…雄ネジ溝、４０…ベース部、４２…挿入部、４２Ａ…円弧部（円弧）、３１…ミラー本体、３５…座標板、５０…チャンバ、５１…坩堝５１、５３…引き上げ部、６３…照明装置、Ａ…光軸、Ｍ…シリコン融液、ＭＫ…マーキング、Ｐ…光路、ＳＭ…シリコン単結晶。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】