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露光装置の技術分野

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本実施形態の露光装置の全体構造の一例を示す構造説明図である。
【図2】 本実施形態の露光パターン形成装置を介した後の光路の説明図である。
【図3】 一例のコリメータレンズが移動する時の光路変化の説明図である。
【図4】 露光パターン形成装置の正面図である。
【図5】 本実施形態のワークと露光ヘッドが主走査軸に相対移動し続けることを示す説明図である。
【図6】 本実施形態の露光パターン形成装置を介した露光用光の光量分布を示す説明図である。
【図7】 本実施形態の露光用光の予定露光領域における積算露光量と露光工程及び現像工程を経て形成されるパターンの範囲の関係説明図である。
【図8】 本実施形態のワークの予定露光領域における所定領域に形成されるパターンの一例を示す輪郭説明図である。
【図9】 本実施形態のワークの予定露光領域における所定領域に形成されるパターンの別の例を示す輪郭説明図である。
【図10】 連続露光するパターンを示す説明図である。
【図11】 従来技術における斜め方向の予定露光領域へのパターンの形成過程を示す説明図である。
【図12】 本実施形態の斜め方向の予定露光領域への露光パターン形成の一例を示す過程説明図である。
【図13】 本実施形態の露光パターンの変形例を示す輪郭説明図である。
【図14】 本実施形態の露光パターン形成装置の欠陥素子の位置分布を示す説明図である。
【図15】 本実施形態の露光パターン形成装置の異なる露光用素子の対応する予定露光領域における露光過程を示す説明図である。
【図16】 本実施形態の検出光学系の一例を示す構造説明図である。
【図17】 本実施形態の検出光学系の別の一例を示す構造説明図である。
【図18】 本実施形態の異なる露光用素子が対応する予定露光領域に形成する露光パターンの一例を示す構造説明図である。
【図19】 本実施形態の異なる露光用素子が対応する予定露光領域に形成する露光パターンの一例を示す構造説明図である。
【図20】 本実施形態の異なる露光用素子が対応する予定露光領域に形成する露光パターンの一例を示す構造説明図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１ 露光装置 １０ 露光光学系 １１ 露光光源 １２ 露光パターン形成装置 １３ コリメート光学系 １４ 対物光学系 １５ 駆動装置 ２０ 基板ステージ ３０ 制御ユニット ４０ オートフォーカス光学系 ４１ オートフォーカス光源 ４２ オートフォーカス用コリメータレンズ群 ４３ 第１オートフォーカス用検出光学系 ４４ 第２オートフォーカス用検出光学系 ５０ 検出光学系 ５１ 検出用コリメータ光学系 ５２ 検出用対物光学系 １３１ 変位光学系 １３２ 変倍光学系 １３２ａ 第１レンズ群 １３２ｂ 第２レンズ群 １３２ｃ 第３レンズ群 １３２ｄ 第４レンズ群 ＡＬ オートフォーカスパターン画像ビーム ＤＬ 検出用光 ＤＮ ダイクロイックミラー ＤＵ 検出ユニット ＥＬ 露光用光 ＥＰ、ＥＰ１、ＥＰ２、ＥＰ３、ＥＰ４ パターン ＤＭ１、ＤＭ２、ＤＭ３、ＤＭ４ 露光用素子 ＥＲ１ 第１予定露光領域 ＥＲ２ 第２予定露光領域 ＥＵ１ 第１列の露光用素子 ＥＵ２ 第２列の露光用素子 ＥＵ３ 第３列の露光用素子 Ｇ 間隔 ＨＵ 露光ヘッド Ｏ 光軸 Ｐｘ１、Ｐｘ２、Ｐｘ３ サイズ Ｔｄ 閾値 Ｒ１ 第１領域 Ｒ２ 第２領域 Ｗ ワーク

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