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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-03
(45)【発行日】2024-10-11
(54)【発明の名称】磁気記録媒体および磁気記録再生装置
(51)【国際特許分類】
G11B 5/70 20060101AFI20241004BHJP
G11B 5/714 20060101ALI20241004BHJP
G11B 5/73 20060101ALI20241004BHJP
G11B 5/78 20060101ALI20241004BHJP
G11B 5/84 20060101ALI20241004BHJP
G11B 5/735 20060101ALI20241004BHJP
G11B 5/738 20060101ALI20241004BHJP
【ＦＩ】
G11B5/70
G11B5/714
G11B5/73
G11B5/78
G11B5/84 C
G11B5/735
G11B5/738
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2024004346
(22)【出願日】2024-01-16
(62)【分割の表示】P 2023085856の分割
【原出願日】2019-05-15
(65)【公開番号】P2024026777
(43)【公開日】2024-02-28
【審査請求日】2024-01-16
(73)【特許権者】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000109
【氏名又は名称】弁理士法人特許事務所サイクス
(72)【発明者】
【氏名】笠田 成人
【審査官】川中 龍太
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１２－０４３４９５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１７４４７６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－２２９５２９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１８１３９６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１９－１７５５３５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ１１Ｂ ５／６２ － ５／８２
Ｇ１１Ｂ ５／８４ － ５／８５８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層の厚みは３０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、
前記バックコート層の表面においてエタノール洗浄後に光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと前記バックコート層の表面においてエタノール洗浄前に光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分、Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ、は０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下であり、かつ
前記非磁性支持体は、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体である磁気記録媒体。
【請求項2】
前記差分、Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ、は１．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項3】
前記差分、Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ、は２．０ｎｍ以上１３．０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項4】
前記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、０．１％以上０．３％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項5】
前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末を含む非磁性層を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項6】
磁気テープである、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、
を含む磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、磁気記録媒体および磁気記録再生装置に関する。
【背景技術】
【0002】
磁気記録媒体（例えば特許文献１参照）は、大容量のデータ（情報）を長期間保存するためのデータストレージメディアとして有用な記録媒体である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開平９－２２７８８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
磁気記録媒体へのデータの記録および記録されたデータの再生は、一般に、磁気記録媒体を磁気記録再生装置（ドライブと呼ばれる。）に装着し、磁気記録媒体をドライブ内で走行させて行われる。記録および再生におけるエラーの発生を抑制するためには、ドライブ内での磁気記録媒体の走行を安定化すること（走行安定性を向上させること）が望ましい。
【0005】
一方、データストレージ用途に用いられる磁気記録媒体は、温度および湿度が管理されたデータセンターで使用されることがある。一方、データセンターではコスト低減のために省電力化が求められている。省電力化のためには、データセンターにおける温湿度の管理条件を現在より緩和できるか、または管理を不要にできることが望ましい。しかし、温湿度の管理条件を緩和するか、または管理を行わないと、磁気記録媒体が、天候変化、季節の変化等に起因する環境変化に晒されたり、様々な温湿度環境下で保存されることが想定される。環境変化の一例としては、低湿下での高温から低温への温度変化が挙げられる。また、温湿度環境の一例としては、低温低湿環境が挙げられる。したがって、そのような環境変化後およびそのような温湿度環境での保存後にも、ドライブ内で磁気記録媒体の走行を安定化できることは望ましい。
【0006】
ところで、磁気記録媒体は、一般に非磁性支持体と強磁性粉末を含む磁性層とを有する構成を有する。また、特開平９－２２７８８３号公報（特許文献１）の請求項２に記載されているように、磁気記録媒体の非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を設けることも行われている。非磁性支持体については、例えば特開平９－２２７８８３号公報（特許文献１）の段落００６２には、非磁性支持体として使用可能な各種フィルムが挙げられている。
【0007】
以上の点に関して、本発明者が検討したところ、非磁性支持体として芳香族ポリエステル支持体を含む磁気記録媒体は、低湿下において高温から低温への温度変化が生じた後に低温低湿環境下で保存されると、走行安定性が低下する現象が発生することが明らかとなった。
【0008】
本発明の一態様は、芳香族ポリエステル支持体を含む磁気記録媒体において、低湿下での高温から低温への温度変化後であって更に低温低湿環境下で保存された後の走行安定性の低下を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の一態様は、
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、
上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄後に光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄前に光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）（以下、「エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）」または単に「差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）」とも記載する。）は０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下であり、かつ
上記非磁性支持体は、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体である磁気記録媒体、
に関する。
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、
上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄後に光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄前に光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）（以下、「エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）」または単に「差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）」とも記載する。）は０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下であり、かつ
上記非磁性支持体は、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体である磁気記録媒体、
に関する。
【0010】
一態様では、上記差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、１．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下であることができる。
【0011】
一態様では、上記差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、２．０ｎｍ以上１３．０ｎｍ以下であることができる。
【0012】
一態様では、上記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、０．１％以上０．３％以下であることができる。
【0013】
一態様では、上記磁気記録媒体は、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に、非磁性粉末を含む非磁性層を有することができる。
【0014】
一態様では、上記磁気記録媒体は、磁気テープであることができる。
【0015】
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を含む磁気記録再生装置に関する。
【発明の効果】
【0016】
本発明の一態様によれば、芳香族ポリエステル支持体を含み、低湿下での高温から低温への温度変化後に低温低湿環境下で保存されても走行安定性の低下が少ない磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を含む磁気記録再生装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0017】
本発明の一態様は、非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末を含むバックコート層を有する磁気記録媒体であって、上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄後に光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと上記バックコート層の表面においてエタノール洗浄前に光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下であり、かつ上記非磁性支持体は、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体である磁気記録媒体に関する。
【0018】
本発明および本明細書において、「エタノール洗浄」とは、磁気記録媒体から切り出した試料片を液温２０～２５℃のエタノール（２００ｇ）に浸漬して１００秒間超音波洗浄（超音波出力：４０ｋＨｚ）することをいうものとする。洗浄対象の磁気記録媒体が磁気テープの場合には、長さ５ｃｍの試料片を切り出してエタノール洗浄に付す。磁気テープの幅および磁気テープから切り出される試料片の幅は、通常、１／２インチである。１インチ＝０．０２５４メートルである。１／２インチ幅以外の磁気テープについても、長さ５ｃｍの試料片を切り出してエタノール洗浄に付せばよい。洗浄対象の磁気記録媒体が磁気ディスクの場合には、５ｃｍ×１．２７ｃｍのサイズの試料片を切り出してエタノール洗浄に付す。以下に詳述するエタノール洗浄後のスペーシングの測定は、エタノール洗浄後の試料片を、温度２３℃相対湿度５０％の環境下に２４時間放置した後に行うものとする。
【0019】
本発明および本明細書において、磁気記録媒体の「バックコート層（の）表面」とは、磁気記録媒体のバックコート層側表面と同義である。
【0020】
本発明および本明細書において、磁気記録媒体のバックコート層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気記録媒体（詳しくは上記の試料片。以下同様。）と透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気記録媒体のバックコート層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気記録媒体のバックコート層側とは反対側から０．５ａｔｍ（１ａｔｍ＝１０１３２５Ｐａ（パスカル））の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気記録媒体のバックコート層表面に光を照射し（照射領域：１５００００～２０００００μｍ２）、磁気記録媒体のバックコート層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気記録媒体のバックコート層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長の光または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長の光または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００～７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気記録媒体に光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光が透過する透明性を有する部材であればよい。
上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気記録媒体のバックコート層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムにおける最頻値を、スペーシングとする。差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、上記３０００００ポイントにおけるエタノール洗浄後の最頻値からエタノール洗浄前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
同じ磁気記録媒体から２つの試料片を切り出し、一方をエタノール洗浄なしで上記スペーシングの値Ｓｂｅｆｏｒｅを求め、他方をエタノール洗浄に付した後に上記スペーシングの値Ｓａｆｔｅｒを求めることによって、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めてもよい。または、エタノール洗浄前に上記スペーシングの値を求めた試料片を、その後にエタノール洗浄に付した後に上記スペーシングの値を求めることによって差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めてもよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ；ＴＳＡ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
磁気記録媒体（詳しくは上記の試料片。以下同様。）と透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気記録媒体のバックコート層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気記録媒体のバックコート層側とは反対側から０．５ａｔｍ（１ａｔｍ＝１０１３２５Ｐａ（パスカル））の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気記録媒体のバックコート層表面に光を照射し（照射領域：１５００００～２０００００μｍ２）、磁気記録媒体のバックコート層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気記録媒体のバックコート層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長の光または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長の光または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００～７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気記録媒体に光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光が透過する透明性を有する部材であればよい。
上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気記録媒体のバックコート層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムにおける最頻値を、スペーシングとする。差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、上記３０００００ポイントにおけるエタノール洗浄後の最頻値からエタノール洗浄前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
同じ磁気記録媒体から２つの試料片を切り出し、一方をエタノール洗浄なしで上記スペーシングの値Ｓｂｅｆｏｒｅを求め、他方をエタノール洗浄に付した後に上記スペーシングの値Ｓａｆｔｅｒを求めることによって、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めてもよい。または、エタノール洗浄前に上記スペーシングの値を求めた試料片を、その後にエタノール洗浄に付した後に上記スペーシングの値を求めることによって差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めてもよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ；ＴＳＡ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
【0021】
本発明および本明細書において、「芳香族ポリエステル」とは、芳香族骨格および複数のエステル結合を含む樹脂を意味し、「芳香族ポリエステル支持体」とは、少なくとも１層の芳香族ポリエステルフィルムを含む支持体を意味する。「芳香族ポリエステルフィルム」とは、このフィルムを構成する成分の中で質量基準で最も多くを占める成分が芳香族ポリエステルであるフィルムをいうものとする。本発明および本明細書における「芳香族ポリエステル支持体」には、この支持体に含まれる樹脂フィルムがすべて芳香族ポリエステルフィルムであるものと、芳香族ポリエステルフィルムと他の樹脂フィルムとを含むものとが包含される。芳香族ポリエステル支持体の具体的態様としては、単層の芳香族ポリエステルフィルム、構成成分が同じ２層以上の芳香族ポリエステルフィルムの積層フィルム、構成成分が異なる２層以上の芳香族ポリエステルフィルムの積層フィルム、１層以上の芳香族ポリエステルフィルムおよび１層以上の芳香族ポリエステル以外の樹脂フィルムを含む積層フィルム等を挙げることができる。積層フィルムにおいて隣り合う２層の間に接着層等が任意に含まれていてもよい。また、芳香族ポリエステル支持体には、一方または両方の表面に蒸着等によって形成された金属膜および／または金属酸化物膜が任意に含まれていてもよい。
【0022】
本発明および本明細書において、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、以下の方法により求められる値である。
吸湿率を測定する対象の芳香族ポリエステル支持体から切り出した試料片（例えば数グラムの質量の試料片）を、温度１８０℃圧力１００Ｐａ以下の真空乾燥器内で恒量になるまで乾燥させる。こうして乾燥させた試料片の質量をＷ１とする。Ｗ１は、上記真空乾燥器から取り出した後に３０秒以内に温度２３℃相対湿度５０％の測定環境において測定される値である。次に、この試料片を温度２５℃相対湿度７５％の環境下に４８時間置いた後の質量をＷ２とする。Ｗ２は、上記環境から取り出した後に３０秒以内に温度２３℃相対湿度５０％の測定環境において測定される値である。吸湿率は、以下の式により算出される。
吸湿率（％）＝［（Ｗ２－Ｗ１）／Ｗ１］×１００
例えば、磁気記録媒体から磁性層等の芳香族ポリエステル支持体以外の部分を公知の方法（例えば有機溶媒を使用した脱膜等）によって除去した後、上記方法によって芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を求めることもできる。
吸湿率を測定する対象の芳香族ポリエステル支持体から切り出した試料片（例えば数グラムの質量の試料片）を、温度１８０℃圧力１００Ｐａ以下の真空乾燥器内で恒量になるまで乾燥させる。こうして乾燥させた試料片の質量をＷ１とする。Ｗ１は、上記真空乾燥器から取り出した後に３０秒以内に温度２３℃相対湿度５０％の測定環境において測定される値である。次に、この試料片を温度２５℃相対湿度７５％の環境下に４８時間置いた後の質量をＷ２とする。Ｗ２は、上記環境から取り出した後に３０秒以内に温度２３℃相対湿度５０％の測定環境において測定される値である。吸湿率は、以下の式により算出される。
吸湿率（％）＝［（Ｗ２－Ｗ１）／Ｗ１］×１００
例えば、磁気記録媒体から磁性層等の芳香族ポリエステル支持体以外の部分を公知の方法（例えば有機溶媒を使用した脱膜等）によって除去した後、上記方法によって芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を求めることもできる。
【0023】
以下、低湿下での高温から低温への温度変化後であって更に低温低湿環境下で保存された後の走行安定性の低下（以下、単に「走行安定性の低下」とも記載する。）を抑制することが上記磁気記録媒体によって可能になることについて、本発明者の推察を記載する。
【0024】
磁気テープへのデータの記録および記録されたデータの再生は、一般に、磁気記録媒体をドライブ内で走行させて行われる。通常、かかる走行時にバックコート層表面は、ドライブ内でドライブ構成部材と接触する。ここでバックコート層表面とドライブ構成部材との接触状態が不安定になると、ドライブ内での磁気記録媒体の走行安定性は低下してしまうと考えられる。
一方、低湿高温下では、バックコート層表面に有機成分が浸み出やすいと考えられる。そして低湿下で高温から低温への温度変化が生じると、バックコート層表面に浸み出ていた有機成分が固化または高粘度化すると推察される。このような固化または高粘度化した有機成分がバックコート層表面とドライブ構成部材との接触時の接触状態を不安定にすると推察される。したがって、低湿下において高温から低温への温度変化が生じる際に固化または高粘度化する有機成分の量を低減することができれば、走行安定性の低下を抑制することにつながると考えられる。
ところで、バックコート層表面には、通常、バックコート層表面とドライブ構成部材とが接触する際にドライブ構成部材と主に接触（いわゆる真実接触）する部分（突起）と、この部分より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）とが存在する。先に説明したスペーシングは、バックコート層表面とドライブ構成部材とが接触する際のドライブ構成部材と素地部分との距離の指標になる値であると考えられる。ただしバックコート層表面上に何らかの成分が存在していると、素地部分とドライブ構成部材との間に介在している上記成分の量が多いほど、スペーシングは狭くなると考えられる。他方、この成分がエタノール洗浄によって除去されるとスペーシングが広がるため、エタノール洗浄後のスペーシングＳａｆｔｅｒの値が、エタノール洗浄前のスペーシングＳｂｅｆｏｒｅの値より大きくなる。したがって、エタノール洗浄前後の上記スペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、素地部分とドライブ構成部材との間に介在する上記成分の量の指標とすることができると考えられる。
以上の点に関して本発明者は、エタノール洗浄によって除去される成分が、上記のように低湿下での高温から低温への温度変化によりバックコート層表面で固化または高粘度化する有機成分であると考えている。そのため、エタノール洗浄前後の上記スペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を小さくすること、即ち上記成分量を低減することは、低湿下における高温から低温への温度変化に起因する走行安定性の低下を抑制することにつながると考えられる。これに対し、本発明者の検討によれば、エタノール以外の溶媒、例えばｎ－ヘキサン、を用いる洗浄の前後のスペーシングの差分の値とエタノール洗浄前後のスペーシングの差分の値との間には、相関は見られなかった。これは、ｎ－ヘキサン洗浄では、上記成分を除去できないか十分に除去できないことによるものと推察される。
上記成分の詳細は明らかではない。あくまでも推察として、本発明者は、上記成分は、バックコート層に添加剤（例えば潤滑剤）として通常添加される有機成分および／または結合剤に由来する成分ではないかと考えている。結合剤に由来する成分については、結合剤として使用される樹脂（通常、分子量分布を有する。）の中で比較的低分子量の成分が、低湿高温下でバックコート層表面に浸み出しやすいのではないかと本発明者は推察している。
一方、低湿高温下では、バックコート層表面に有機成分が浸み出やすいと考えられる。そして低湿下で高温から低温への温度変化が生じると、バックコート層表面に浸み出ていた有機成分が固化または高粘度化すると推察される。このような固化または高粘度化した有機成分がバックコート層表面とドライブ構成部材との接触時の接触状態を不安定にすると推察される。したがって、低湿下において高温から低温への温度変化が生じる際に固化または高粘度化する有機成分の量を低減することができれば、走行安定性の低下を抑制することにつながると考えられる。
ところで、バックコート層表面には、通常、バックコート層表面とドライブ構成部材とが接触する際にドライブ構成部材と主に接触（いわゆる真実接触）する部分（突起）と、この部分より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）とが存在する。先に説明したスペーシングは、バックコート層表面とドライブ構成部材とが接触する際のドライブ構成部材と素地部分との距離の指標になる値であると考えられる。ただしバックコート層表面上に何らかの成分が存在していると、素地部分とドライブ構成部材との間に介在している上記成分の量が多いほど、スペーシングは狭くなると考えられる。他方、この成分がエタノール洗浄によって除去されるとスペーシングが広がるため、エタノール洗浄後のスペーシングＳａｆｔｅｒの値が、エタノール洗浄前のスペーシングＳｂｅｆｏｒｅの値より大きくなる。したがって、エタノール洗浄前後の上記スペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、素地部分とドライブ構成部材との間に介在する上記成分の量の指標とすることができると考えられる。
以上の点に関して本発明者は、エタノール洗浄によって除去される成分が、上記のように低湿下での高温から低温への温度変化によりバックコート層表面で固化または高粘度化する有機成分であると考えている。そのため、エタノール洗浄前後の上記スペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を小さくすること、即ち上記成分量を低減することは、低湿下における高温から低温への温度変化に起因する走行安定性の低下を抑制することにつながると考えられる。これに対し、本発明者の検討によれば、エタノール以外の溶媒、例えばｎ－ヘキサン、を用いる洗浄の前後のスペーシングの差分の値とエタノール洗浄前後のスペーシングの差分の値との間には、相関は見られなかった。これは、ｎ－ヘキサン洗浄では、上記成分を除去できないか十分に除去できないことによるものと推察される。
上記成分の詳細は明らかではない。あくまでも推察として、本発明者は、上記成分は、バックコート層に添加剤（例えば潤滑剤）として通常添加される有機成分および／または結合剤に由来する成分ではないかと考えている。結合剤に由来する成分については、結合剤として使用される樹脂（通常、分子量分布を有する。）の中で比較的低分子量の成分が、低湿高温下でバックコート層表面に浸み出しやすいのではないかと本発明者は推察している。
【0025】
また、上記温度変化後の低温低湿環境下での保存中に芳香族ポリエステル支持体が多くの水分を吸収してしまうと、この支持体を含む磁気記録媒体のバックコート層表面とドライブ構成部材との接触時の摩擦係数は上昇してしまうと考えられる。このことが、上記温度変化後に更に低温低湿環境下で保存された後に走行安定性が低下する一因になると考えられる。これに対し、上記磁気記録媒体は、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率が０．３％以下であるため、上記保存中に芳香族ポリエステル支持体に吸収される水分量は少ないと考えられる。このことも、走行安定性の低下を抑制することに寄与すると推察される。
【0026】
ただし以上は推察であって、本発明を何ら限定するものではない。以下、上記磁気記録媒体について、更に詳細に説明する。
【0027】
＜非磁性支持体＞
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体として、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体を含む。走行安定性の低下を抑制する観点から、上記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は０．３％以下であり、０．２％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。上記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、例えば、０％以上、０％超または０．１％以上であることもできる。走行安定性の低下を抑制する観点からは、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率が低いことは好ましいため、上記吸湿率は０％であることもできる。また、磁気記録媒体の非磁性支持体として低吸湿率の芳香族ポリエステル支持体を使用することは、長期保存後の磁気記録媒体の変形を抑制する観点からも好ましい。例えば、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）が低吸湿率の芳香族ポリエステル支持体を含むことは、長期保存後の磁気テープのテープ幅方向での変形を抑制する観点から好ましい。また、磁気テープにおいて、芳香族ポリエステル支持体のヤング率は、長手方向において３０００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、幅方向において４０００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましい。磁気記録媒体の高容量化の観点からは、芳香族ポリエステル支持体の一方または両方の表面の表面粗さは、中心線平均粗さＲａとして、１０ｎｍ以下であることが好ましい。
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体として、吸湿率が０．３％以下の芳香族ポリエステル支持体を含む。走行安定性の低下を抑制する観点から、上記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は０．３％以下であり、０．２％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。上記芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、例えば、０％以上、０％超または０．１％以上であることもできる。走行安定性の低下を抑制する観点からは、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率が低いことは好ましいため、上記吸湿率は０％であることもできる。また、磁気記録媒体の非磁性支持体として低吸湿率の芳香族ポリエステル支持体を使用することは、長期保存後の磁気記録媒体の変形を抑制する観点からも好ましい。例えば、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）が低吸湿率の芳香族ポリエステル支持体を含むことは、長期保存後の磁気テープのテープ幅方向での変形を抑制する観点から好ましい。また、磁気テープにおいて、芳香族ポリエステル支持体のヤング率は、長手方向において３０００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、幅方向において４０００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましい。磁気記録媒体の高容量化の観点からは、芳香族ポリエステル支持体の一方または両方の表面の表面粗さは、中心線平均粗さＲａとして、１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0028】
芳香族ポリエステルが有する芳香族骨格に含まれる芳香環は特に限定されるものではない。芳香環の具体例としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等を挙げることができる。
例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）は、ベンゼン環を含むポリエステルであって、エチレングリコールとテレフタル酸および／またはテレフタル酸ジメチルとの重縮合によって得られる樹脂である。本発明および本明細書における「ポリエチレンテレフタレート」には、上記成分に加えて一種以上の他の成分（例えば、共重合成分、末端または側鎖に導入される成分等）を有する構造のものも包含される。以下では、芳香族ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレートを含む芳香族ポリエステルフィルムを、ポリエチレンテレフタレートフィルムと呼ぶことがある。
ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）は、ナフタレン環を含むポリエステルであって、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールとのエステル化反応を行い、その後にエステル交換反応および重縮合反応を行って得られる樹脂である。本発明および本明細書における「ポリエチレンナフタレート」には、上記成分に加えて一種以上の他の成分（例えば、共重合成分、末端または側鎖に導入される成分等）を有する構造のものも包含される。以下では、芳香族ポリエステルとしてポリエチレンナフタレートを含む芳香族ポリエステルフィルムを、ポリエチレンナフタレートフィルムと呼ぶことがある。
芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、例えば、芳香族ポリエステルを構成する成分の種類、割合等によって制御できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の芳香族ポリエステルは、共重合成分として疎水性成分を用いて合成された樹脂であることができ、側鎖および／または末端に疎水性成分が導入されたものであることもできる。疎水性成分としては長鎖アルキル基含有成分、フッ素含有成分等を挙げることができる。芳香族ポリエステルが疎水性成分を含むことによって、芳香族ポリエステルフィルムの吸湿率を低下させることができ、疎水性成分が占める割合を高めることによって吸湿率をより低下させることができる。芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を低下させるための手段としては、このように、芳香族ポリエステルフィルムの吸湿率を低下させることが挙げられる。また、芳香族ポリエステル支持体が１層以上の芳香族ポリエステルフィルムと１層以上の他の樹脂フィルムとの積層フィルムである場合、他の樹脂フィルムとして吸湿率が低い樹脂フィルムを使用することによって、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を低下させることもできる。そのような芳香族ポリエステル支持体としては、例えば特開２０１１－８４０３６号公報に記載されている積層フィルムを挙げることができる。かかる積層フィルムの詳細については、同公報の段落００１４～００６１および同公報の実施例の記載等を参照できる。また、芳香族ポリエステル支持体は、二軸延伸フィルムであることができ、コロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等が施されたフィルムであってもよい。
例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）は、ベンゼン環を含むポリエステルであって、エチレングリコールとテレフタル酸および／またはテレフタル酸ジメチルとの重縮合によって得られる樹脂である。本発明および本明細書における「ポリエチレンテレフタレート」には、上記成分に加えて一種以上の他の成分（例えば、共重合成分、末端または側鎖に導入される成分等）を有する構造のものも包含される。以下では、芳香族ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレートを含む芳香族ポリエステルフィルムを、ポリエチレンテレフタレートフィルムと呼ぶことがある。
ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）は、ナフタレン環を含むポリエステルであって、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールとのエステル化反応を行い、その後にエステル交換反応および重縮合反応を行って得られる樹脂である。本発明および本明細書における「ポリエチレンナフタレート」には、上記成分に加えて一種以上の他の成分（例えば、共重合成分、末端または側鎖に導入される成分等）を有する構造のものも包含される。以下では、芳香族ポリエステルとしてポリエチレンナフタレートを含む芳香族ポリエステルフィルムを、ポリエチレンナフタレートフィルムと呼ぶことがある。
芳香族ポリエステル支持体の吸湿率は、例えば、芳香族ポリエステルを構成する成分の種類、割合等によって制御できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の芳香族ポリエステルは、共重合成分として疎水性成分を用いて合成された樹脂であることができ、側鎖および／または末端に疎水性成分が導入されたものであることもできる。疎水性成分としては長鎖アルキル基含有成分、フッ素含有成分等を挙げることができる。芳香族ポリエステルが疎水性成分を含むことによって、芳香族ポリエステルフィルムの吸湿率を低下させることができ、疎水性成分が占める割合を高めることによって吸湿率をより低下させることができる。芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を低下させるための手段としては、このように、芳香族ポリエステルフィルムの吸湿率を低下させることが挙げられる。また、芳香族ポリエステル支持体が１層以上の芳香族ポリエステルフィルムと１層以上の他の樹脂フィルムとの積層フィルムである場合、他の樹脂フィルムとして吸湿率が低い樹脂フィルムを使用することによって、芳香族ポリエステル支持体の吸湿率を低下させることもできる。そのような芳香族ポリエステル支持体としては、例えば特開２０１１－８４０３６号公報に記載されている積層フィルムを挙げることができる。かかる積層フィルムの詳細については、同公報の段落００１４～００６１および同公報の実施例の記載等を参照できる。また、芳香族ポリエステル支持体は、二軸延伸フィルムであることができ、コロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等が施されたフィルムであってもよい。
【0029】
＜磁性層＞
（エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ））
上記磁気記録媒体のバックコート層表面において光学干渉法により測定されるエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下である。差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が１５．０ｎｍ以下であることは、上記磁気記録媒体の走行安定性の低下を抑制することに寄与し得る。この点から、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は１５．０ｎｍ以下であり、１４．０ｎｍ以下であることが好ましく、１３．０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１１．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、１０．０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。詳細を後述するように、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は磁気記録媒体の製造工程におけるバックコート層の表面処理等によって制御することができる。
また、エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が０ｎｍになるほどバックコート層の表面処理を実施してしまうと、走行安定性の向上に寄与する成分（例えば潤滑剤）が磁気記録媒体から多量に除去されてしまうと推察される。ただし、これは推察であって、本発明を何ら限定するものではない。この点から、上記磁気記録媒体のエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超であり、１．０ｎｍ以上であることが好ましく、２．０ｎｍ以上であることがより好ましい。
（エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ））
上記磁気記録媒体のバックコート層表面において光学干渉法により測定されるエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下である。差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が１５．０ｎｍ以下であることは、上記磁気記録媒体の走行安定性の低下を抑制することに寄与し得る。この点から、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は１５．０ｎｍ以下であり、１４．０ｎｍ以下であることが好ましく、１３．０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１１．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、１０．０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。詳細を後述するように、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は磁気記録媒体の製造工程におけるバックコート層の表面処理等によって制御することができる。
また、エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が０ｎｍになるほどバックコート層の表面処理を実施してしまうと、走行安定性の向上に寄与する成分（例えば潤滑剤）が磁気記録媒体から多量に除去されてしまうと推察される。ただし、これは推察であって、本発明を何ら限定するものではない。この点から、上記磁気記録媒体のエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超であり、１．０ｎｍ以上であることが好ましく、２．０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【0030】
（強磁性粉末）
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において用いられる強磁性粉末として公知の強磁性粉末を一種または二種以上組み合わせて使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末の平均粒子サイズは５０ｎｍ以下であることが好ましく、４５ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３５ｎｍ以下であることが一層好ましく、３０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、２５ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、２０ｎｍ以下であることがなお一層好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは５ｎｍ以上であることが好ましく、８ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることが更に好ましく、１５ｎｍ以上であることが一層好ましく、２０ｎｍ以上であることがより一層好ましい。
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において用いられる強磁性粉末として公知の強磁性粉末を一種または二種以上組み合わせて使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末の平均粒子サイズは５０ｎｍ以下であることが好ましく、４５ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３５ｎｍ以下であることが一層好ましく、３０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、２５ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、２０ｎｍ以下であることがなお一層好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは５ｎｍ以上であることが好ましく、８ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることが更に好ましく、１５ｎｍ以上であることが一層好ましく、２０ｎｍ以上であることがより一層好ましい。
【0031】
六方晶フェライト粉末
強磁性粉末の好ましい具体例としては、六方晶フェライト粉末を挙げることができる。六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１－２２５４１７号公報の段落００１２～００３０、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３４～０１３６、特開２０１２－２０４７２６号公報の段落００１３～００３０および特開２０１５－１２７９８５号公報の段落００２９～００８４を参照できる。
強磁性粉末の好ましい具体例としては、六方晶フェライト粉末を挙げることができる。六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１－２２５４１７号公報の段落００１２～００３０、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３４～０１３６、特開２０１２－２０４７２６号公報の段落００１３～００３０および特開２０１５－１２７９８５号公報の段落００２９～００８４を参照できる。
【0032】
本発明および本明細書において、「六方晶フェライト粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相として六方晶フェライト型の結晶構造が検出される強磁性粉末をいうものとする。主相とは、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが帰属する構造をいう。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが六方晶フェライト型の結晶構造に帰属される場合、六方晶フェライト型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。Ｘ線回折分析によって単一の構造のみが検出された場合には、この検出された構造を主相とする。六方晶フェライト型の結晶構造は、構成原子として、少なくとも鉄原子、二価金属原子および酸素原子を含む。二価金属原子とは、イオンとして二価のカチオンになり得る金属原子であり、ストロンチウム原子、バリウム原子、カルシウム原子等のアルカリ土類金属原子、鉛原子等を挙げることができる。本発明および本明細書において、六方晶ストロンチウムフェライト粉末とは、この粉末に含まれる主な二価金属原子がストロンチウム原子であるものをいい、六方晶バリウムフェライト粉末とは、この粉末に含まれる主な二価金属原子がバリウム原子であるものをいう。主な二価金属原子とは、この粉末に含まれる二価金属原子の中で、原子％基準で最も多くを占める二価金属原子をいうものとする。ただし、上記の二価金属原子には、希土類原子は包含されないものとする。本発明および本明細書における「希土類原子」は、スカンジウム原子（Ｓｃ）、イットリウム原子（Ｙ）、およびランタノイド原子からなる群から選択される。ランタノイド原子は、ランタン原子（Ｌａ）、セリウム原子（Ｃｅ）、プラセオジム原子（Ｐｒ）、ネオジム原子（Ｎｄ）、プロメチウム原子（Ｐｍ）、サマリウム原子（Ｓｍ）、ユウロピウム原子（Ｅｕ）、ガドリニウム原子（Ｇｄ）、テルビウム原子（Ｔｂ）、ジスプロシウム原子（Ｄｙ）、ホルミウム原子（Ｈｏ）、エルビウム原子（Ｅｒ）、ツリウム原子（Ｔｍ）、イッテルビウム原子（Ｙｂ）、およびルテチウム原子（Ｌｕ）からなる群から選択される。
【0033】
以下に、六方晶フェライト粉末の一態様である六方晶ストロンチウムフェライト粉末について、更に詳細に説明する。
【0034】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、好ましくは８００～１６００ｎｍ３の範囲である。上記範囲の活性化体積を示す微粒子化された六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、優れた電磁変換特性を発揮する磁気記録媒体の作製のために好適である。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、好ましくは８００ｎｍ３以上であり、例えば８５０ｎｍ３以上であることもできる。また、電磁変換特性の更なる向上の観点から、六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、１５００ｎｍ３以下であることがより好ましく、１４００ｎｍ３以下であることが更に好ましく、１３００ｎｍ３以下であることが一層好ましく、１２００ｎｍ３以下であることがより一層好ましく、１１００ｎｍ３以下であることが更により一層好ましい。六方晶バリウムフェライト粉末の活性化体積についても、同様である。
【0035】
「活性化体積」とは、磁化反転の単位であって、粒子の磁気的な大きさを示す指標である。本発明および本明細書に記載の活性化体積および後述の異方性定数Ｋｕは、振動試料型磁力計を用いて保磁力Ｈｃ測定部の磁場スイープ速度３分と３０分とで測定し（測定温度：２３℃±１℃）、以下のＨｃと活性化体積Ｖとの関係式から求められる値である。なお異方性定数Ｋｕの単位に関して、１ｅｒｇ／ｃｃ＝１．０×１０－１Ｊ／ｍ３である。
Ｈｃ＝２Ｋｕ／Ｍｓ｛１－［（ｋＴ／ＫｕＶ）ｌｎ（Ａｔ／０．６９３）］１／２｝
［上記式中、Ｋｕ：異方性定数（単位：Ｊ／ｍ３）、Ｍｓ：飽和磁化（単位：ｋＡ／ｍ）、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：絶対温度（単位：Ｋ）、Ｖ：活性化体積（単位：ｃｍ３）、Ａ：スピン歳差周波数（単位：ｓ－１）、ｔ：磁界反転時間（単位：ｓ）］
Ｈｃ＝２Ｋｕ／Ｍｓ｛１－［（ｋＴ／ＫｕＶ）ｌｎ（Ａｔ／０．６９３）］１／２｝
［上記式中、Ｋｕ：異方性定数（単位：Ｊ／ｍ３）、Ｍｓ：飽和磁化（単位：ｋＡ／ｍ）、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：絶対温度（単位：Ｋ）、Ｖ：活性化体積（単位：ｃｍ３）、Ａ：スピン歳差周波数（単位：ｓ－１）、ｔ：磁界反転時間（単位：ｓ）］
【0036】
熱揺らぎの低減、換言すれば熱的安定性の向上の指標としては、異方性定数Ｋｕを挙げることができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、好ましくは１．８×１０５Ｊ／ｍ３以上のＫｕを有することができ、より好ましくは２．０×１０５Ｊ／ｍ３以上のＫｕを有することができる。また、六方晶ストロンチウムフェライト粉末のＫｕは、例えば２．５×１０５Ｊ／ｍ３以下であることができる。ただしＫｕが高いほど熱的安定性が高いことを意味し好ましいため、上記例示した値に限定されるものではない。
【0037】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子を含んでいてもよく、含まなくてもよい。六方晶ストロンチウムフェライト粉末が希土類原子を含む場合、鉄原子１００原子％に対して、０．５～５．０原子％の含有率（バルク含有率）で希土類原子を含むことが好ましい。希土類原子を含む六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、一態様では、希土類原子表層部偏在性を有することができる。本発明および本明細書における「希土類原子表層部偏在性」とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を酸により部分溶解して得られた溶解液中の鉄原子１００原子％に対する希土類原子含有率（以下、「希土類原子表層部含有率」または希土類原子に関して単に「表層部含有率」と記載する。）が、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を酸により全溶解して得られた溶解液中の鉄原子１００原子％に対する希土類原子含有率（以下、「希土類原子バルク含有率」または希土類原子に関して単に「バルク含有率」と記載する。）と、
希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０
の比率を満たすことを意味する。後述の六方晶ストロンチウムフェライト粉末の希土類原子含有率とは、希土類原子バルク含有率と同義である。これに対し、酸を用いる部分溶解は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部を溶解するため、部分溶解により得られる溶解液中の希土類原子含有率とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部における希土類原子含有率である。希土類原子表層部含有率が、「希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０」の比率を満たすことは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子において、希土類原子が表層部に偏在（即ち内部より多く存在）していることを意味する。本発明および本明細書における表層部とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面から内部に向かう一部領域を意味する。
希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０
の比率を満たすことを意味する。後述の六方晶ストロンチウムフェライト粉末の希土類原子含有率とは、希土類原子バルク含有率と同義である。これに対し、酸を用いる部分溶解は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部を溶解するため、部分溶解により得られる溶解液中の希土類原子含有率とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部における希土類原子含有率である。希土類原子表層部含有率が、「希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０」の比率を満たすことは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子において、希土類原子が表層部に偏在（即ち内部より多く存在）していることを意味する。本発明および本明細書における表層部とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面から内部に向かう一部領域を意味する。
【0038】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末が希土類原子を含む場合、希土類原子含有率（バルク含有率）は、鉄原子１００原子％に対して０．５～５．０原子％の範囲であることが好ましい。上記範囲のバルク含有率で希土類原子を含み、かつ六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に希土類原子が偏在していることは、繰り返し再生における再生出力の低下を抑制することに寄与すると考えられる。これは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末が上記範囲のバルク含有率で希土類原子を含み、かつ六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に希土類原子が偏在していることにより、異方性定数Ｋｕを高めることができるためと推察される。異方性定数Ｋｕは、この値が高いほど、いわゆる熱揺らぎと呼ばれる現象の発生を抑制すること（換言すれば熱的安定性を向上させること）ができる。熱揺らぎの発生が抑制されることにより、繰り返し再生における再生出力の低下を抑制することができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の粒子表層部に希土類原子が偏在することが、表層部の結晶格子内の鉄（Ｆｅ）のサイトのスピンを安定化することに寄与し、これにより異方性定数Ｋｕが高まるのではないかと推察される。
また、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末を磁性層の強磁性粉末として用いることは、磁気ヘッドとの摺動によって磁性層表面が削れることを抑制することにも寄与すると推察される。即ち、磁気記録媒体の走行耐久性の向上にも、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末が寄与し得ると推察される。これは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面に希土類原子が偏在することが、粒子表面と磁性層に含まれる有機物質（例えば、結合剤および／または添加剤）との相互作用の向上に寄与し、その結果、磁性層の強度が向上するためではないかと推察される。
繰り返し再生における再生出力の低下をより一層抑制する観点および／または走行耐久性の更なる向上の観点からは、希土類原子含有率（バルク含有率）は、０．５～４．５原子％の範囲であることがより好ましく、１．０～４．５原子％の範囲であることが更に好ましく、１．５～４．５原子％の範囲であることが一層好ましい。
また、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末を磁性層の強磁性粉末として用いることは、磁気ヘッドとの摺動によって磁性層表面が削れることを抑制することにも寄与すると推察される。即ち、磁気記録媒体の走行耐久性の向上にも、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末が寄与し得ると推察される。これは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面に希土類原子が偏在することが、粒子表面と磁性層に含まれる有機物質（例えば、結合剤および／または添加剤）との相互作用の向上に寄与し、その結果、磁性層の強度が向上するためではないかと推察される。
繰り返し再生における再生出力の低下をより一層抑制する観点および／または走行耐久性の更なる向上の観点からは、希土類原子含有率（バルク含有率）は、０．５～４．５原子％の範囲であることがより好ましく、１．０～４．５原子％の範囲であることが更に好ましく、１．５～４．５原子％の範囲であることが一層好ましい。
【0039】
上記バルク含有率は、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められる含有率である。なお本発明および本明細書において、特記しない限り、原子について含有率とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められるバルク含有率をいうものとする。希土類原子を含む六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子として一種の希土類原子のみ含んでもよく、二種以上の希土類原子を含んでもよい。二種以上の希土類原子を含む場合の上記バルク含有率とは、二種以上の希土類原子の合計について求められる。この点は、本発明および本明細書における他の成分についても同様である。即ち、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく、二種以上用いてもよい。二種以上用いられる場合の含有量または含有率とは、二種以上の合計についていうものとする。
【0040】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末が希土類原子を含む場合、含まれる希土類原子は、希土類原子のいずれか一種以上であればよい。繰り返し再生における再生出力の低下をより一層抑制する観点から好ましい希土類原子としては、ネオジム原子、サマリウム原子、イットリウム原子およびジスプロシウム原子を挙げることができ、ネオジム原子、サマリウム原子およびイットリウム原子がより好ましく、ネオジム原子が更に好ましい。
【0041】
希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末において、希土類原子は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に偏在していればよく、偏在の程度は限定されるものではない。例えば、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末について、後述する溶解条件で部分溶解して求められた希土類原子の表層部含有率と後述する溶解条件で全溶解して求められた希土類原子のバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は１．０超であり、１．５以上であることができる。「表層部含有率／バルク含有率」が１．０より大きいことは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子において、希土類原子が表層部に偏在（即ち内部より多く存在）していることを意味する。また、後述する溶解条件で部分溶解して求められた希土類原子の表層部含有率と後述する溶解条件で全溶解して求められた希土類原子のバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は、例えば、１０．０以下、９．０以下、８．０以下、７．０以下、６．０以下、５．０以下、または４．０以下であることができる。ただし、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末において、希土類原子は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に偏在していればよく、上記の「表層部含有率／バルク含有率」は、例示した上限または下限に限定されるものではない。
【0042】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末の部分溶解および全溶解について、以下に説明する。粉末として存在している六方晶ストロンチウムフェライト粉末については、部分溶解および全溶解する試料粉末は、同一ロットの粉末から採取する。一方、磁気記録媒体の磁性層に含まれている六方晶ストロンチウムフェライト粉末については、磁性層から取り出した六方晶ストロンチウムフェライト粉末の一部を部分溶解に付し、他の一部を全溶解に付す。磁性層からの六方晶ストロンチウムフェライト粉末の取り出しは、例えば、特開２０１５－９１７４７号公報の段落００３２に記載の方法によって行うことができる。
上記部分溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認できる程度に溶解することをいう。例えば、部分溶解により、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子について、粒子全体を１００質量％として１０～２０質量％の領域を溶解することができる。一方、上記全溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認されない状態まで溶解することをいう。
上記部分溶解および表層部含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。ただし、下記の試料粉末量等の溶解条件は例示であって、部分溶解および全溶解が可能な溶解条件を任意に採用できる。
試料粉末１２ｍｇおよび１ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍＬを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度７０℃のホットプレート上で１時間保持する。得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタでろ過する。こうして得られたろ液の元素分析を誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）分析装置によって行う。こうして、鉄原子１００原子％に対する希土類原子の表層部含有率を求めることができる。元素分析により複数種の希土類原子が検出された場合には、全希土類原子の合計含有率を、表層部含有率とする。この点は、バルク含有率の測定においても、同様である。
一方、上記全溶解およびバルク含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。
試料粉末１２ｍｇおよび４ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍＬを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持する。その後は上記の部分溶解および表層部含有率の測定と同様に行い、鉄原子１００原子％に対するバルク含有率を求めることができる。
上記部分溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認できる程度に溶解することをいう。例えば、部分溶解により、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子について、粒子全体を１００質量％として１０～２０質量％の領域を溶解することができる。一方、上記全溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認されない状態まで溶解することをいう。
上記部分溶解および表層部含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。ただし、下記の試料粉末量等の溶解条件は例示であって、部分溶解および全溶解が可能な溶解条件を任意に採用できる。
試料粉末１２ｍｇおよび１ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍＬを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度７０℃のホットプレート上で１時間保持する。得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタでろ過する。こうして得られたろ液の元素分析を誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）分析装置によって行う。こうして、鉄原子１００原子％に対する希土類原子の表層部含有率を求めることができる。元素分析により複数種の希土類原子が検出された場合には、全希土類原子の合計含有率を、表層部含有率とする。この点は、バルク含有率の測定においても、同様である。
一方、上記全溶解およびバルク含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。
試料粉末１２ｍｇおよび４ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍＬを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持する。その後は上記の部分溶解および表層部含有率の測定と同様に行い、鉄原子１００原子％に対するバルク含有率を求めることができる。
【0043】
磁気記録媒体に記録されたデータを再生する際の再生出力を高める観点から、磁気記録媒体に含まれる強磁性粉末の質量磁化σｓが高いことは望ましい。この点に関して、希土類原子を含むものの希土類原子表層部偏在性を持たない六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子を含まない六方晶ストロンチウムフェライト粉末と比べてσｓが大きく低下する傾向が見られた。これに対し、そのようなσｓの大きな低下を抑制するうえでも、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末は好ましいと考えられる。一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末のσｓは、４５Ａ・ｍ２／ｋｇ以上であることができ、４７Ａ・ｍ２／ｋｇ以上であることもできる。一方、σｓは、ノイズ低減の観点からは、８０Ａ・ｍ２／ｋｇ以下であることが好ましく、６０Ａ・ｍ２／ｋｇ以下であることがより好ましい。σｓは、振動試料型磁力計等の磁気特性を測定可能な公知の測定装置を用いて測定することができる。本発明および本明細書において、特記しない限り、質量磁化σｓは、磁場強度１５ｋＯｅで測定される値とする。１ｋＯｅ＝（１０６／４π）Ａ／ｍである。
【0044】
六方晶ストロンチウムフェライト粉末の構成原子の含有率（バルク含有率）に関して、ストロンチウム原子含有率は、鉄原子１００原子％に対して、例えば２．０～１５．０原子％の範囲であることができる。一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、この粉末に含まれる二価金属原子がストロンチウム原子のみであることができる。また他の一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、ストロンチウム原子に加えて一種以上の他の二価金属原子を含むこともできる。例えば、バリウム原子および／またはカルシウム原子を含むことができる。ストロンチウム原子以外の他の二価金属原子が含まれる場合、六方晶ストロンチウムフェライト粉末におけるバリウム原子含有率およびカルシウム原子含有率は、それぞれ、例えば、鉄原子１００原子％に対して、０．０５～５．０原子％の範囲であることができる。
【0045】
六方晶フェライトの結晶構造としては、マグネトプランバイト型（「Ｍ型」とも呼ばれる。）、Ｗ型、Ｙ型およびＺ型が知られている。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、いずれの結晶構造を取るものであってもよい。結晶構造は、Ｘ線回折分析によって確認することができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、Ｘ線回折分析によって、単一の結晶構造または二種以上の結晶構造が検出されるものであることができる。例えば一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、Ｘ線回折分析によってＭ型の結晶構造のみが検出されるものであることができる。例えば、Ｍ型の六方晶フェライトは、ＡＦｅ１２Ｏ１９の組成式で表される。ここでＡは二価金属原子を表し、六方晶ストロンチウムフェライト粉末がＭ型である場合、Ａはストロンチウム原子（Ｓｒ）のみであるか、またはＡとして複数の二価金属原子が含まれる場合には、上記の通り原子％基準で最も多くをストロンチウム原子（Ｓｒ）が占める。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の二価金属原子含有率は、通常、六方晶フェライトの結晶構造の種類により定まるものであり、特に限定されるものではない。鉄原子含有率および酸素原子含有率についても、同様である。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、少なくとも、鉄原子、ストロンチウム原子および酸素原子を含み、更に希土類原子を含むこともできる。更に、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、これら原子以外の原子を含んでもよく、含まなくてもよい。一例として、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、アルミニウム原子（Ａｌ）を含むものであってもよい。アルミニウム原子の含有率は、鉄原子１００原子％に対して、例えば０．５～１０．０原子％であることができる。繰り返し再生における再生出力低下をより一層抑制する観点からは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、鉄原子、ストロンチウム原子、酸素原子および希土類原子を含み、これら原子以外の原子の含有率が、鉄原子１００原子％に対して、１０．０原子％以下であることが好ましく、０～５．０原子％の範囲であることがより好ましく、０原子％であってもよい。即ち、一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、鉄原子、ストロンチウム原子、酸素原子および希土類原子以外の原子を含まなくてもよい。上記の原子％で表示される含有率は、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められる各原子の含有率（単位：質量％）を、各原子の原子量を用いて原子％表示の値に換算して求められる。また、本発明および本明細書において、ある原子について「含まない」とは、全溶解してＩＣＰ分析装置により測定される含有率が０質量％であることをいう。ＩＣＰ分析装置の検出限界は、通常、質量基準で０．０１ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下である。上記の「含まない」とは、ＩＣＰ分析装置の検出限界未満の量で含まれることを包含する意味で用いるものとする。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、一態様では、ビスマス原子（Ｂｉ）を含まないものであることができる。
【0046】
金属粉末
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３７～０１４１および特開２００５－２５１３５１号公報の段落０００９～００２３を参照できる。
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３７～０１４１および特開２００５－２５１３５１号公報の段落０００９～００２３を参照できる。
【0047】
ε－酸化鉄粉末
強磁性粉末の好ましい具体例としては、ε－酸化鉄粉末を挙げることもできる。本発明および本明細書において、「ε－酸化鉄粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相としてε－酸化鉄型の結晶構造が検出される強磁性粉末をいうものとする。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークがε－酸化鉄型の結晶構造に帰属される場合、ε－酸化鉄型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。ε－酸化鉄粉末の製造方法としては、ゲーサイトから作製する方法、逆ミセル法等が知られている。上記製造方法は、いずれも公知である。また、Ｆｅの一部がＧａ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｒｈ等の置換原子によって置換されたε－酸化鉄粉末を製造する方法については、例えば、Ｊ． Ｊｐｎ． Ｓｏｃ． Ｐｏｗｄｅｒ Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｙ Ｖｏｌ． ６１ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ， Ｎｏ． Ｓ１， ｐｐ． Ｓ２８０－Ｓ２８４、Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｃｈｅｍ． Ｃ， ２０１３， １， ｐｐ．５２００－５２０６等を参照できる。ただし、上記磁気記録媒体の磁性層において強磁性粉末として使用可能なε－酸化鉄粉末の製造方法は、ここで挙げた方法に限定されない。
強磁性粉末の好ましい具体例としては、ε－酸化鉄粉末を挙げることもできる。本発明および本明細書において、「ε－酸化鉄粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相としてε－酸化鉄型の結晶構造が検出される強磁性粉末をいうものとする。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークがε－酸化鉄型の結晶構造に帰属される場合、ε－酸化鉄型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。ε－酸化鉄粉末の製造方法としては、ゲーサイトから作製する方法、逆ミセル法等が知られている。上記製造方法は、いずれも公知である。また、Ｆｅの一部がＧａ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｒｈ等の置換原子によって置換されたε－酸化鉄粉末を製造する方法については、例えば、Ｊ． Ｊｐｎ． Ｓｏｃ． Ｐｏｗｄｅｒ Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｙ Ｖｏｌ． ６１ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ， Ｎｏ． Ｓ１， ｐｐ． Ｓ２８０－Ｓ２８４、Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｃｈｅｍ． Ｃ， ２０１３， １， ｐｐ．５２００－５２０６等を参照できる。ただし、上記磁気記録媒体の磁性層において強磁性粉末として使用可能なε－酸化鉄粉末の製造方法は、ここで挙げた方法に限定されない。
【0048】
ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、好ましくは３００～１５００ｎｍ３の範囲である。上記範囲の活性化体積を示す微粒子化されたε－酸化鉄粉末は、優れた電磁変換特性を発揮する磁気記録媒体の作製のために好適である。ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、好ましくは３００ｎｍ３以上であり、例えば５００ｎｍ３以上であることもできる。また、電磁変換特性の更なる向上の観点から、ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、１４００ｎｍ３以下であることがより好ましく、１３００ｎｍ３以下であることが更に好ましく、１２００ｎｍ３以下であることが一層好ましく、１１００ｎｍ３以下であることがより一層好ましい。
【0049】
熱揺らぎの低減、換言すれば熱的安定性の向上の指標としては、異方性定数Ｋｕを挙げることができる。ε－酸化鉄粉末は、好ましくは３．０×１０４Ｊ／ｍ３以上のＫｕを有することができ、より好ましくは８．０×１０４Ｊ／ｍ３以上のＫｕを有することができる。また、ε－酸化鉄粉末のＫｕは、例えば３．０×１０５Ｊ／ｍ３以下であることができる。ただしＫｕが高いほど熱的安定性が高いことを意味し、好ましいため、上記例示した値に限定されるものではない。
【0050】
磁気記録媒体に記録されたデータを再生する際の再生出力を高める観点から、磁気記録媒体に含まれる強磁性粉末の質量磁化σｓが高いことは望ましい。この点に関して、一態様では、ε－酸化鉄粉末のσｓは、８Ａ・ｍ２／ｋｇ以上であることができ、１２Ａ・ｍ２／ｋｇ以上であることもできる。一方、ε－酸化鉄粉末のσｓは、ノイズ低減の観点からは、４０Ａ・ｍ２／ｋｇ以下であることが好ましく、３５Ａ・ｍ２／ｋｇ以下であることがより好ましい。
【0051】
本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントするか、またはディスプレイに表示する等して粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントするか、またはディスプレイに表示する等して粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。
【0052】
粒子サイズ測定のために磁気記録媒体から試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【0053】
本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【0054】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【0055】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【0056】
（結合剤、硬化剤）
上記磁気記録媒体は、塗布型磁気記録媒体であることができ、磁性層に結合剤を含むことができる。結合剤とは、一種以上の樹脂である。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。これらの樹脂は、バックコート層および／または後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。
以上の結合剤については、例えば、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００２８～００３１を参照できる。磁性層の結合剤の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、例えば１．０～３０．０質量部であることができる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。後述の実施例に示す結合剤の重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
上記磁気記録媒体は、塗布型磁気記録媒体であることができ、磁性層に結合剤を含むことができる。結合剤とは、一種以上の樹脂である。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。これらの樹脂は、バックコート層および／または後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。
以上の結合剤については、例えば、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００２８～００３１を参照できる。磁性層の結合剤の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、例えば１．０～３０．０質量部であることができる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。後述の実施例に示す結合剤の重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
【0057】
また、結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。この点は、他の層を形成するために用いられる組成物が硬化剤を含む場合に、この組成物を用いて形成される層についても同様である。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１２４～０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０～８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０～８０．０質量部の量で使用することができる。
【0058】
以上の結合剤および硬化剤に関する記載は、バックコート層および／または非磁性層についても適用することができる。その場合、含有量に関する上記記載は、強磁性粉末を非磁性粉末に読み替えて適用することができる。エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を小さくする観点からは、結合剤に由来する成分が低湿高温下でバックコート層表面に浸み出す量を低減することが好ましい。この点から、バックコート層形成に用いる結合剤の使用量を減量することを、エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を小さくする手段の１つとして挙げることができる。
【0059】
（添加剤）
磁性層には、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれる添加剤としては、非磁性粉末（例えば無機粉末、カーボンブラック等）、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。また、非磁性粉末としては、研磨剤として機能することができる非磁性粉末、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（例えば非磁性コロイド粒子等）等が挙げられる。なお後述の実施例に示すコロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）の平均粒子サイズは、特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められた値である。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３－１３１２８５号公報の段落００１２～００２２に記載の分散剤を、研磨剤の分散性を向上するための分散剤として挙げることができる。例えば、潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０～００３３、００３５および００３６を参照できる。非磁性層に潤滑剤が含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０、００３１、００３４、００３５および００３６を参照できる。分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１を参照できる。また、分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１、ならびに特開２０１７－０１６７２１号公報の段落００３５も参照できる。磁性層の添加剤については、特開２０１６－５１４９３号公報の段落００３５～００７７も参照できる。
分散剤は、非磁性層に含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１を参照できる。
各種添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。
磁性層には、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれる添加剤としては、非磁性粉末（例えば無機粉末、カーボンブラック等）、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。また、非磁性粉末としては、研磨剤として機能することができる非磁性粉末、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（例えば非磁性コロイド粒子等）等が挙げられる。なお後述の実施例に示すコロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）の平均粒子サイズは、特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められた値である。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３－１３１２８５号公報の段落００１２～００２２に記載の分散剤を、研磨剤の分散性を向上するための分散剤として挙げることができる。例えば、潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０～００３３、００３５および００３６を参照できる。非磁性層に潤滑剤が含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０、００３１、００３４、００３５および００３６を参照できる。分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１を参照できる。また、分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１、ならびに特開２０１７－０１６７２１号公報の段落００３５も参照できる。磁性層の添加剤については、特開２０１６－５１４９３号公報の段落００３５～００７７も参照できる。
分散剤は、非磁性層に含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１を参照できる。
各種添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。
【0060】
以上説明した磁性層は、非磁性支持体表面上に直接、または非磁性層を介して間接的に、設けることができる。
【0061】
＜非磁性層＞
次に非磁性層について説明する。上記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性粉末を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質の粉末でも有機物質の粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１４６～０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００４０～００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。
次に非磁性層について説明する。上記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性粉末を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質の粉末でも有機物質の粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１４６～０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００４０～００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。
【0062】
非磁性層は、結合剤を含むことができ、添加剤を含むこともできる。非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細については、非磁性層に関する公知技術を適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。
【0063】
本発明および本明細書において、非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が１００Ｏｅ以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が１００Ｏｅ以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
【0064】
＜バックコート層＞
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末を含むバックコート層を有する。バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類については、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する記載を参照することができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末は、好ましくは無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末であることができる。上記磁気記録媒体は、例えば、バックコート層の非磁性粉末の主粉末（非磁性粉末の中で質量基準で最も多く含まれる非磁性粉末）として、無機粉末を含むことができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末が無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である場合、非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、例えば５０．０質量部超～１００．０質量部の範囲であることができ、６０．０質量部～１００．０質量部の範囲であることが好ましい。非磁性粉末に占める無機粉末の割合を高くすると差分（ａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値が小さくなる傾向が見られる場合もある。
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末を含むバックコート層を有する。バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類については、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する記載を参照することができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末は、好ましくは無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末であることができる。上記磁気記録媒体は、例えば、バックコート層の非磁性粉末の主粉末（非磁性粉末の中で質量基準で最も多く含まれる非磁性粉末）として、無機粉末を含むことができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末が無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である場合、非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、例えば５０．０質量部超～１００．０質量部の範囲であることができ、６０．０質量部～１００．０質量部の範囲であることが好ましい。非磁性粉末に占める無機粉末の割合を高くすると差分（ａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値が小さくなる傾向が見られる場合もある。
【0065】
非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば１０～２００ｎｍの範囲であることができる。無機粉末の平均粒子サイズは、好ましくは５０～２００ｎｍの範囲であり、より好ましくは８０～１５０ｎｍの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、好ましくは１０～５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは１５～３０ｎｍの範囲である。
【0066】
バックコート層は、結合剤を含むことができ、添加剤を含むこともできる。添加剤の一例としては、非磁性粉末の分散性向上に寄与し得る公知の分散剤を挙げることができる。
【0067】
また、添加剤の一例としては、潤滑剤も挙げられる。
例えば潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドを挙げることができ、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選択される一種以上を用いて磁性層を形成することができる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
バックコート層の脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０～１０．０質量部であり、好ましくは０．１～１０．０質量部であり、より好ましくは１．０～７．０質量部である。バックコート層の脂肪酸エステル含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１～１０．０質量部であり、好ましくは１．０～５．０質量部である。バックコート層の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０～３．０質量部であり、好ましくは０～２．０質量部であり、より好ましくは０～１．０質量部である。
本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。ある成分が二種以上用いられる場合の含有量とは、これら二種以上の合計含有量をいうものとする。
例えば潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドを挙げることができ、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選択される一種以上を用いて磁性層を形成することができる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
バックコート層の脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０～１０．０質量部であり、好ましくは０．１～１０．０質量部であり、より好ましくは１．０～７．０質量部である。バックコート層の脂肪酸エステル含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１～１０．０質量部であり、好ましくは１．０～５．０質量部である。バックコート層の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０～３．０質量部であり、好ましくは０～２．０質量部であり、より好ましくは０～１．０質量部である。
本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。ある成分が二種以上用いられる場合の含有量とは、これら二種以上の合計含有量をいうものとする。
【0068】
バックコート層の結合剤、添加剤等については、バックコート層に関する公知技術を適用することもでき、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することもできる。例えば、特開２００６－３３１６２５号公報の段落００１８～００２０および米国特許第７０２９７７４号明細書の第４欄６５行目～第５欄３８行目の記載を、バックコート層について参照できる。
【0069】
＜各種厚み＞
上記磁気記録媒体の非磁性支持体の厚みは、例えば３．０～８０．０μｍであり、好ましくは３．０～５０．０μｍの範囲であり、より好ましくは３．０～１０．０μｍの範囲である。非磁性支持体の厚みとは、非磁性支持体が単層の芳香族ポリエステルフィルムのみからなる場合にはこのフィルムの厚みであり、その他の場合には非磁性支持体の総厚である。
上記磁気記録媒体の非磁性支持体の厚みは、例えば３．０～８０．０μｍであり、好ましくは３．０～５０．０μｍの範囲であり、より好ましくは３．０～１０．０μｍの範囲である。非磁性支持体の厚みとは、非磁性支持体が単層の芳香族ポリエステルフィルムのみからなる場合にはこのフィルムの厚みであり、その他の場合には非磁性支持体の総厚である。
【0070】
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化することができ、例えば１０ｎｍ～１００ｎｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは２０～９０ｎｍの範囲であり、更に好ましくは３０～７０ｎｍの範囲である。磁性層は少なくとも１層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
【0071】
非磁性層の厚みは、例えば５０ｎｍ以上であり、好ましくは７０ｎｍ以上であり、より好ましくは１００ｎｍ以上である。一方、非磁性層の厚みは、８００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0072】
バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１～０．７μｍの範囲であることが更に好ましい。
【0073】
磁気記録媒体の各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行う。断面観察において任意の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【0074】
＜製造方法＞
（各層形成用組成物の調製）
磁性層、バックコート層および非磁性層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体を製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。各層形成のために使用される各種成分は、どの工程の最初または途中で添加してもよい。また、個々の成分を２つ以上の工程で分割して添加してもよい。
（各層形成用組成物の調製）
磁性層、バックコート層および非磁性層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体を製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。各層形成のために使用される各種成分は、どの工程の最初または途中で添加してもよい。また、個々の成分を２つ以上の工程で分割して添加してもよい。
【0075】
各層形成用組成物を調製するためには、公知技術を用いることができる。混練工程では、オープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については、特開平１－１０６３３８号公報および特開平１－７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、分散メディアとして、ガラスビーズおよびその他の分散ビーズからなる群から選ばれる一種以上の分散ビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズの粒径（ビーズ径）および充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を、塗布工程に付す前に公知の方法によってろ過してもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１～３μｍのフィルタ（例えばガラス繊維製フィルタ、ポリプロピレン製フィルタ等）を用いることができる。
【0076】
（塗布工程）
磁性層は、磁性層形成用組成物を、例えば、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５１を参照できる。
磁性層は、磁性層形成用組成物を、例えば、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５１を参照できる。
【0077】
（その他の工程）
塗布工程後には、乾燥処理、磁性層の配向処理、表面平滑化処理（カレンダ処理）等の各種処理を行うことができる。各種工程については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５２～００５７を参照できる。例えば、垂直配向処理は、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法によって行うことができる。配向ゾーンでは、乾燥風の温度、風量および／または配向ゾーンにおける搬送速度によって塗布層の乾燥速度を制御することができる。また、配向ゾーンに搬送する前に塗布層を予備乾燥させてもよい。
塗布工程後には、乾燥処理、磁性層の配向処理、表面平滑化処理（カレンダ処理）等の各種処理を行うことができる。各種工程については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５２～００５７を参照できる。例えば、垂直配向処理は、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法によって行うことができる。配向ゾーンでは、乾燥風の温度、風量および／または配向ゾーンにおける搬送速度によって塗布層の乾燥速度を制御することができる。また、配向ゾーンに搬送する前に塗布層を予備乾燥させてもよい。
【0078】
バックコート層形成用組成物の塗布工程後の任意の段階で、バックコート層形成用組成物を塗布して形成された塗布層の加熱処理を行うことが好ましい。この加熱処理は、一例として、カレンダ処理の前および／または後に実施することができる。加熱処理は、例えば、上記バックコート層形成用組成物の塗布層が形成された支持体を加熱雰囲気下に置くことにより実施することができる。加熱雰囲気は、雰囲気温度６５～９０℃の雰囲気であることができ、雰囲気温度６５～７５℃の雰囲気であることがより好ましい。この雰囲気は、例えば大気雰囲気であることができる。加熱雰囲気下での加熱処理は、例えば２０～５０時間実施することができる。一態様では、この加熱処理により、硬化剤の硬化性官能基の硬化反応を進行させることができる。
【0079】
（製造方法の一態様）
上記磁気記録媒体の製造方法の一態様としては、バックコート層表面を、好ましくは上記加熱処理の後に、アルコールを浸潤させたワイピング材によって拭き取ること（以下、「アルコール拭き取り処理」とも記載する。）を含む製造方法を挙げることができる。このアルコール拭き取り処理によって除去可能な成分が、低湿高温下でバックコート層表面に浸み出し、高温から低温への温度変化によりバックコート層表面で固化または高粘度化することが、先に記載したように、低湿下での高温から低温への温度変化に起因する走行安定性の低下を引き起こす原因と考えられる。アルコール拭き取り処理に使用するアルコールとしては、炭素数２～４のアルコールが好ましく、エタノール、１－プロパノールおよび２－プロパノールがより好ましく、エタノールが更に好ましい。アルコール拭き取り処理は、磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される乾式拭き取り処理に準じて、乾式拭き取り処理で使用されるワイピング材に代えて、アルコールを浸潤させたワイピング材を用いて実施することができる。例えば、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）については、磁気テープを磁気テープカートリッジに収容する幅にスリットした後またはスリットする前に、磁気テープを送り出しローラーと巻き取ローラーとの間で走行させ、走行中の磁気テープのバックコート層表面にアルコールを浸潤させたワイピング材（例えば布（例えば不織布）または紙（例えばティッシュペーパー））を押し付けることにより、バックコート層表面のアルコール拭き取り処理を行うことができる。上記走行における磁気テープの走行速度およびバックコート層表面の長手方向に与えられる張力（以下、単に「張力」と記載する。）は、磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される乾式拭き取り処理で一般に採用されている処理条件と同様にすることができる。例えば、アルコール拭き取り処理における磁気テープの走行速度は、６０～６００ｍ／分程度とすることができ、張力は、０．１９６～３．９２０Ｎ（ニュートン）程度とすることができる。また、アルコール拭き取り処理は、少なくとも１回行うことができる。エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下になるように、アルコール拭き取り処理の処理条件および処理回数を設定することが好ましい。
また、アルコール拭き取り処理の前および／または後に、バックコート層表面に、塗布型磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される研磨処理および／または乾式拭き取り処理（以下、これらを「乾式表面処理」と記載する。）を１回以上行うこともできる。乾式表面処理によれば、例えばスリットにより発生した切り屑等の製造工程中で発生してバックコート層表面に付着している異物を除去することができる。
以上ではテープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）を例に説明した。ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）についても、上記記載を参照して各種処理を実施することができる。
上記磁気記録媒体の製造方法の一態様としては、バックコート層表面を、好ましくは上記加熱処理の後に、アルコールを浸潤させたワイピング材によって拭き取ること（以下、「アルコール拭き取り処理」とも記載する。）を含む製造方法を挙げることができる。このアルコール拭き取り処理によって除去可能な成分が、低湿高温下でバックコート層表面に浸み出し、高温から低温への温度変化によりバックコート層表面で固化または高粘度化することが、先に記載したように、低湿下での高温から低温への温度変化に起因する走行安定性の低下を引き起こす原因と考えられる。アルコール拭き取り処理に使用するアルコールとしては、炭素数２～４のアルコールが好ましく、エタノール、１－プロパノールおよび２－プロパノールがより好ましく、エタノールが更に好ましい。アルコール拭き取り処理は、磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される乾式拭き取り処理に準じて、乾式拭き取り処理で使用されるワイピング材に代えて、アルコールを浸潤させたワイピング材を用いて実施することができる。例えば、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）については、磁気テープを磁気テープカートリッジに収容する幅にスリットした後またはスリットする前に、磁気テープを送り出しローラーと巻き取ローラーとの間で走行させ、走行中の磁気テープのバックコート層表面にアルコールを浸潤させたワイピング材（例えば布（例えば不織布）または紙（例えばティッシュペーパー））を押し付けることにより、バックコート層表面のアルコール拭き取り処理を行うことができる。上記走行における磁気テープの走行速度およびバックコート層表面の長手方向に与えられる張力（以下、単に「張力」と記載する。）は、磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される乾式拭き取り処理で一般に採用されている処理条件と同様にすることができる。例えば、アルコール拭き取り処理における磁気テープの走行速度は、６０～６００ｍ／分程度とすることができ、張力は、０．１９６～３．９２０Ｎ（ニュートン）程度とすることができる。また、アルコール拭き取り処理は、少なくとも１回行うことができる。エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）が０ｎｍ超１５．０ｎｍ以下になるように、アルコール拭き取り処理の処理条件および処理回数を設定することが好ましい。
また、アルコール拭き取り処理の前および／または後に、バックコート層表面に、塗布型磁気記録媒体の製造工程において一般に実施される研磨処理および／または乾式拭き取り処理（以下、これらを「乾式表面処理」と記載する。）を１回以上行うこともできる。乾式表面処理によれば、例えばスリットにより発生した切り屑等の製造工程中で発生してバックコート層表面に付着している異物を除去することができる。
以上ではテープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）を例に説明した。ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）についても、上記記載を参照して各種処理を実施することができる。
【0080】
以上説明した本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は、芳香族ポリエステル支持体を含む磁気記録媒体であって、低湿下での高温から低温への温度変化後に低温低湿環境下で保存されても走行安定性の低下が少ない磁気記録媒体であることができる。低湿下での高温から低温への温度変化とは、例えば、相対湿度０％～３０％の環境下における３０℃～５０℃の高温から０℃超～１５℃の低温への温度変化であることができる。また、低温低湿環境下での保存とは、例えば、温度０℃超～１５℃相対湿度０～３０％の環境下での保存であることができる。
【0081】
上記磁気記録媒体は、例えばテープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）であることができる。磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容されて流通され、使用される。磁気テープカートリッジを磁気記録再生装置に装着し、磁気テープを磁気記録再生装置内で走行させて磁気テープ表面（磁性層表面）と磁気ヘッドとを接触させ摺動させることにより、磁気テープへのデータの記録および再生を行うことができる。ただし、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は、磁気テープに限定されるものではない。摺動型の磁気記録再生装置において使用される各種磁気記録媒体（磁気テープ、ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）等）として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は好適である。上記の摺動型の装置とは、磁気記録媒体へのデータの記録および／または記録されたデータの再生を行う際に磁性層表面とヘッドとが接触し摺動する装置をいう。
【0082】
上記のように製造された磁気記録媒体には、磁気記録再生装置における磁気ヘッドのトラッキング制御、磁気記録媒体の走行速度の制御等を可能とするために、公知の方法によってサーボパターンを形成することができる。「サーボパターンの形成」は、「サーボ信号の記録」ということもできる。上記磁気記録媒体は、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）であってもよく、ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）であってもよい。以下では、磁気テープを例にサーボパターンの形成について説明する。
【0083】
サーボパターンは、通常、磁気テープの長手方向に沿って形成される。サーボ信号を利用する制御（サーボ制御）の方式としては、タイミングベースサーボ（ＴＢＳ）、アンプリチュードサーボ、周波数サーボ等が挙げられる。
【0084】
ＥＣＭＡ（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）―３１９に示される通り、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ－Ｏｐｅｎ）規格に準拠した磁気テープ（一般に「ＬＴＯテープ」と呼ばれる。）では、タイミングベースサーボ方式が採用されている。このタイミングベースサーボ方式において、サーボパターンは、互いに非平行な一対の磁気ストライプ（「サーボストライプ」とも呼ばれる。）が、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置されることによって構成されている。上記のように、サーボパターンが互いに非平行な一対の磁気ストライプにより構成される理由は、サーボパターン上を通過するサーボ信号読み取り素子に、その通過位置を教えるためである。具体的には、上記の一対の磁気ストライプは、その間隔が磁気テープの幅方向に沿って連続的に変化するように形成されており、サーボ信号読み取り素子がその間隔を読み取ることによって、サーボパターンとサーボ信号読み取り素子との相対位置を知ることができる。この相対位置の情報が、データトラックのトラッキングを可能にする。そのために、サーボパターン上には、通常、磁気テープの幅方向に沿って、複数のサーボトラックが設定されている。
【0085】
サーボバンドは、磁気テープの長手方向に連続するサーボ信号により構成される。このサーボバンドは、通常、磁気テープに複数本設けられる。例えば、ＬＴＯテープにおいて、その数は５本である。隣接する２本のサーボバンドに挟まれた領域は、データバンドと呼ばれる。データバンドは、複数のデータトラックで構成されており、各データトラックは、各サーボトラックに対応している。
【0086】
また、一態様では、特開２００４－３１８９８３号公報に示されているように、各サーボバンドには、サーボバンドの番号を示す情報（「サーボバンドＩＤ（ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）」または「ＵＤＩＭ（Ｕｎｉｑｕｅ ＤａｔａＢａｎｄ Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ）情報」とも呼ばれる。）が埋め込まれている。このサーボバンドＩＤは、サーボバンド中に複数ある一対のサーボストライプのうちの特定のものを、その位置が磁気テープの長手方向に相対的に変位するように、ずらすことによって記録されている。具体的には、複数ある一対のサーボストライプのうちの特定のもののずらし方を、サーボバンド毎に変えている。これにより、記録されたサーボバンドＩＤはサーボバンド毎にユニークなものとなるため、一つのサーボバンドをサーボ信号読み取り素子で読み取るだけで、そのサーボバンドを一意に（ｕｎｉｑｕｅｌｙ）特定することができる。
【0087】
なお、サーボバンドを一意に特定する方法には、ＥＣＭＡ―３１９に示されているようなスタッガード方式を用いたものもある。このスタッガード方式では、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置された、互いに非平行な一対の磁気ストライプ（サーボストライプ）の群を、サーボバンド毎に磁気テープの長手方向にずらすように記録する。隣接するサーボバンド間における、このずらし方の組み合わせは、磁気テープ全体においてユニークなものとされているため、２つのサーボ信号読み取り素子によりサーボパターンを読み取る際に、サーボバンドを一意に特定することも可能となっている。
【0088】
また、各サーボバンドには、ＥＣＭＡ―３１９に示されている通り、通常、磁気テープの長手方向の位置を示す情報（「ＬＰＯＳ（Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）情報」とも呼ばれる。）も埋め込まれている。このＬＰＯＳ情報も、ＵＤＩＭ情報と同様に、一対のサーボストライプの位置を、磁気テープの長手方向にずらすことによって記録されている。ただし、ＵＤＩＭ情報とは異なり、このＬＰＯＳ情報では、各サーボバンドに同じ信号が記録されている。
【0089】
上記のＵＤＩＭ情報およびＬＰＯＳ情報とは異なる他の情報を、サーボバンドに埋め込むことも可能である。この場合、埋め込まれる情報は、ＵＤＩＭ情報のようにサーボバンド毎に異なるものであってもよいし、ＬＰＯＳ情報のようにすべてのサーボバンドに共通のものであってもよい。
また、サーボバンドに情報を埋め込む方法としては、上記以外の方法を採用することも可能である。例えば、一対のサーボストライプの群の中から、所定の対を間引くことによって、所定のコードを記録するようにしてもよい。
また、サーボバンドに情報を埋め込む方法としては、上記以外の方法を採用することも可能である。例えば、一対のサーボストライプの群の中から、所定の対を間引くことによって、所定のコードを記録するようにしてもよい。
【0090】
サーボパターン形成用ヘッドは、サーボライトヘッドと呼ばれる。サーボライトヘッドは、上記一対の磁気ストライプに対応した一対のギャップを、サーボバンドの数だけ有する。通常、各一対のギャップには、それぞれコアとコイルが接続されており、コイルに電流パルスを供給することによって、コアに発生した磁界が、一対のギャップに漏れ磁界を生じさせることができる。サーボパターンの形成の際には、サーボライトヘッド上に磁気テープを走行させながら電流パルスを入力することによって、一対のギャップに対応した磁気パターンを磁気テープに転写させて、サーボパターンを形成することができる。各ギャップの幅は、形成されるサーボパターンの密度に応じて適宜設定することができる。各ギャップの幅は、例えば、１μｍ以下、１～１０μｍ、１０μｍ以上等に設定可能である。
【0091】
磁気テープにサーボパターンを形成する前には、磁気テープに対して、通常、消磁（イレース）処理が施される。このイレース処理は、直流磁石または交流磁石を用いて、磁気テープに一様な磁界を加えることによって行うことができる。イレース処理には、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとＡＣ（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとがある。ＡＣイレースは、磁気テープに印加する磁界の方向を反転させながら、その磁界の強度を徐々に下げることによって行われる。一方、ＤＣイレースは、磁気テープに一方向の磁界を加えることによって行われる。ＤＣイレースには、更に２つの方法がある。第一の方法は、磁気テープの長手方向に沿って一方向の磁界を加える、水平ＤＣイレースである。第二の方法は、磁気テープの厚み方向に沿って一方向の磁界を加える、垂直ＤＣイレースである。イレース処理は、磁気テープ全体に対して行ってもよいし、磁気テープのサーボバンド毎に行ってもよい。
【0092】
形成されるサーボパターンの磁界の向きは、イレースの向きに応じて決まる。例えば、磁気テープに水平ＤＣイレースが施されている場合、サーボパターンの形成は、磁界の向きがイレースの向きと反対になるように行われる。これにより、サーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号の出力を、大きくすることができる。なお、特開２０１２－５３９４０号公報に示されている通り、垂直ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いた磁気パターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、単極パルス形状となる。一方、水平ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いた磁気パターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、双極パルス形状となる。
【0093】
［磁気記録再生装置］
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を含む磁気記録再生装置に関する。
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を含む磁気記録再生装置に関する。
【0094】
本発明および本明細書において、「磁気記録再生装置」とは、磁気記録媒体へのデータの記録および磁気記録媒体に記録されたデータの再生の少なくとも一方を行うことができる装置を意味するものとする。かかる装置は、一般にドライブと呼ばれる。上記磁気記録再生装置は、摺動型の磁気記録再生装置であることができる。上記磁気記録再生装置に含まれる磁気ヘッドは、磁気記録媒体へのデータの記録を行うことができる記録ヘッドであることができ、磁気記録媒体に記録されたデータの再生を行うことができる再生ヘッドであることもできる。また、上記磁気記録再生装置は、一態様では、別々の磁気ヘッドとして、記録ヘッドと再生ヘッドの両方を含むことができる。他の一態様では、上記磁気記録再生装置に含まれる磁気ヘッドは、記録素子と再生素子の両方を１つの磁気ヘッドに備えた構成を有することもできる。再生ヘッドとしては、磁気記録媒体に記録されたデータを感度よく読み取ることができる磁気抵抗効果型（ＭＲ；Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）素子を再生素子として含む磁気ヘッド（ＭＲヘッド）が好ましい。ＭＲヘッドとしては、公知の各種ＭＲヘッドを用いることができる。また、データの記録および／またはデータの再生を行う磁気ヘッドには、サーボパターン読み取り素子が含まれていてもよい。または、データの記録および／またはデータの再生を行う磁気ヘッドとは別のヘッドとして、サーボパターン読み取り素子を備えた磁気ヘッド（サーボヘッド）が上記磁気記録再生装置に含まれていてもよい。
【0095】
上記磁気記録再生装置において、磁気記録媒体へのデータの記録および磁気記録媒体に記録されたデータの再生は、磁気記録媒体の磁性層表面と磁気ヘッドとを接触させて摺動させることにより行うことができる。上記磁気記録再生装置は、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含むものであればよく、その他については公知技術を適用することができる。
【実施例】
【0096】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。ｅｑは当量（ ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ）であり、ＳＩ単位に換算不可の単位である。また、以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度２３℃±１℃の環境において行った。
【0097】
［実施例１］
各層形成用組成物の処方を、下記に示す。
各層形成用組成物の処方を、下記に示す。
【0098】
＜磁性層形成用組成物の処方＞
（磁性液）
強磁性粉末（表１参照）：１００．０部
オレイン酸：２.０部
塩化ビニル共重合体（カネカ社製ＭＲ－１０４）：１０.０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：４.０部
（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.０７ｍｅｑ／ｇ）
ポリアルキレンイミン系ポリマー（特開２０１６－５１４９３号公報の段落０１１５～０１２３に記載の方法により得られた合成品）：６.０部
メチルエチルケトン：１５０.０部
シクロヘキサノン：１５０.０部
（研磨剤液）
α－アルミナ（ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ－Ｅｍｍｅｔｔ－Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積１９ｍ２／ｇ）：６.０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：０.６部
（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.１ｍｅｑ／ｇ）
２，３－ジヒドロキシナフタレン：０.６部
シクロヘキサノン：２３.０部
（突起形成剤液）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１２０ｎｍ）：２．０部
メチルエチルケトン：８.０部
（その他の成分）
ステアリン酸：３.０部
ステアリン酸アミド：０.３部
ステアリン酸ブチル：６.０部
メチルエチルケトン：１１０.０部
シクロヘキサノン：１１０.０部
ポリイソシアネート（東ソー社製コロネート（登録商標）Ｌ）：３．０部
（磁性液）
強磁性粉末（表１参照）：１００．０部
オレイン酸：２.０部
塩化ビニル共重合体（カネカ社製ＭＲ－１０４）：１０.０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：４.０部
（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.０７ｍｅｑ／ｇ）
ポリアルキレンイミン系ポリマー（特開２０１６－５１４９３号公報の段落０１１５～０１２３に記載の方法により得られた合成品）：６.０部
メチルエチルケトン：１５０.０部
シクロヘキサノン：１５０.０部
（研磨剤液）
α－アルミナ（ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ－Ｅｍｍｅｔｔ－Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積１９ｍ２／ｇ）：６.０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：０.６部
（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.１ｍｅｑ／ｇ）
２，３－ジヒドロキシナフタレン：０.６部
シクロヘキサノン：２３.０部
（突起形成剤液）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１２０ｎｍ）：２．０部
メチルエチルケトン：８.０部
（その他の成分）
ステアリン酸：３.０部
ステアリン酸アミド：０.３部
ステアリン酸ブチル：６.０部
メチルエチルケトン：１１０.０部
シクロヘキサノン：１１０.０部
ポリイソシアネート（東ソー社製コロネート（登録商標）Ｌ）：３．０部
【0099】
＜非磁性層形成用組成物の処方＞
非磁性無機粉末（種類：α－酸化鉄、平均粒子サイズ：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：７５ｍ２／ｇ）：１００．０部
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２５．０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.２ｍｅｑ/ｇ）：１８．０部
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部
非磁性無機粉末（種類：α－酸化鉄、平均粒子サイズ：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：７５ｍ２／ｇ）：１００．０部
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２５．０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０.２ｍｅｑ/ｇ）：１８．０部
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部
【0100】
＜バックコート層形成用組成物の処方＞
非磁性粉末：１００．０部
α－酸化鉄：混合比について表１参照（質量比）
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１５０ｎｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック：混合比について表１参照（質量比）
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体（カネカ社製ＭＲ－１０４）：表１参照
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ステアリン酸ブチル：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部
非磁性粉末：１００．０部
α－酸化鉄：混合比について表１参照（質量比）
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１５０ｎｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック：混合比について表１参照（質量比）
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体（カネカ社製ＭＲ－１０４）：表１参照
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ステアリン酸ブチル：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部
【0101】
＜磁性層形成用組成物の調製＞
磁性層形成用組成物を、以下の方法によって調製した。
上記磁性液の各種成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより、磁性液を調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用した。
研磨剤液は、上記の研磨剤液の各種成分を混合してビーズ径０．３ｍｍのジルコニアビーズとともに横型ビーズミル分散機に入れ、［ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）］×１００が８０％になるように調整し、ビーズミル分散処理を１２０分間行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散ろ過装置を用いて、超音波分散ろ過処理を施した。こうして研磨剤液を調製した。
調製した磁性液および研磨剤液、ならびに上記の突起形成剤液およびその他の成分をディゾルバー撹拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間撹拌した後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で３パス処理した後に、孔径１μｍのフィルタでろ過して磁性層形成用組成物を調製した。
磁性層形成用組成物を、以下の方法によって調製した。
上記磁性液の各種成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより、磁性液を調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用した。
研磨剤液は、上記の研磨剤液の各種成分を混合してビーズ径０．３ｍｍのジルコニアビーズとともに横型ビーズミル分散機に入れ、［ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）］×１００が８０％になるように調整し、ビーズミル分散処理を１２０分間行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散ろ過装置を用いて、超音波分散ろ過処理を施した。こうして研磨剤液を調製した。
調製した磁性液および研磨剤液、ならびに上記の突起形成剤液およびその他の成分をディゾルバー撹拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間撹拌した後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で３パス処理した後に、孔径１μｍのフィルタでろ過して磁性層形成用組成物を調製した。
【0102】
＜非磁性層形成用組成物の調製＞
上記の非磁性層形成用組成物の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径０.１ｍｍのジルコニアビーズを使用して２４時間分散し、その後、孔径０.５μｍのフィルタでろ過して非磁性層形成用組成物を調製した。
上記の非磁性層形成用組成物の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径０.１ｍｍのジルコニアビーズを使用して２４時間分散し、その後、孔径０.５μｍのフィルタでろ過して非磁性層形成用組成物を調製した。
【0103】
＜バックコート層形成用組成物の調製＞
上記のバックコート層形成用組成物の各種成分のうち潤滑剤（ステアリン酸およびステアリン酸ブチル）、ポリイソシアネートおよび２００．０部のシクロヘキサノンを除いた成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機によりビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で１パス滞留時間を２分間とし、１２パスの分散処理に供した。その後、上記の残りの成分を添加してディゾルバーで撹拌し、得られた分散液を孔径１μｍのフィルタでろ過してバックコート層形成用組成物を調製した。
上記のバックコート層形成用組成物の各種成分のうち潤滑剤（ステアリン酸およびステアリン酸ブチル）、ポリイソシアネートおよび２００．０部のシクロヘキサノンを除いた成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機によりビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で１パス滞留時間を２分間とし、１２パスの分散処理に供した。その後、上記の残りの成分を添加してディゾルバーで撹拌し、得られた分散液を孔径１μｍのフィルタでろ過してバックコート層形成用組成物を調製した。
【0104】
＜磁気テープの作製＞
芳香族ポリエステル支持体（表１参照）の表面上に、乾燥後の厚みが４００ｎｍになるように上記で調製した非磁性層形成用組成物を塗布および乾燥させて非磁性層を形成した後、非磁性層の表面上に乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように上記で調製した磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。この磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤（未乾燥）状態にあるうちに、磁場強度０.３Ｔの磁場を塗布層の表面に対し垂直方向に印加する垂直配向処理を施し、乾燥させた。その後、この支持体の反対面に乾燥後の厚みが０.４μｍになるように上記で調製したバックコート層形成用組成物を塗布し、乾燥させた。こうして磁気テープ原反を作製した。
作製された磁気テープ原反に対し、金属ロールのみから構成されるカレンダにより、速度１００ｍ／分、線圧２９４ｋＮ／ｍ、カレンダロールの表面温度１００℃でカレンダ処理（表面平滑化処理）し、その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間、加熱処理を施した。加熱処理後、磁気テープ原反を裁断機によりスリットし、１／２インチ幅の磁気テープを得た。この磁気テープを送り出しローラーと巻き取りローラーとの間で走行させながら（走行速度１２０ｍ／分、張力：表１参照）、バックコート層表面のブレード研磨、乾式拭き取り処理およびアルコール拭き取り処理としてエタノール拭き取り処理をこの順で実施した。具体的には、上記２つのローラーの間にサファイアブレード、乾いたワイピング材（東レ社製トレシー（登録商標））およびエタノールを浸潤させたワイピング材（東レ社製トレシー（登録商標））を配置し、上記２つのローラー間で走行している磁気テープのバックコート層表面にサファイアブレードを押し当ててブレード研磨し、その後に上記の乾いたワイピング材によりバックコート層表面の乾式拭き取り処理を行い、その後に上記のエタノールを浸潤させたワイピング材によりバックコート層表面のエタノール拭き取り処理を行った。以上により、ブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理がそれぞれ１回バックコート層表面に施された。
作製した磁気テープの磁性層を消磁した状態で、サーボライターに搭載されたサーボライトヘッドによって、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ－Ｏｐｅｎ） Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを磁性層に形成した。こうして、磁性層に、ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置でデータバンド、サーボバンド、およびガイドバンドを有し、かつサーボバンド上にＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを有する磁気テープを得た。
こうして実施例１の磁気テープを得た。
芳香族ポリエステル支持体（表１参照）の表面上に、乾燥後の厚みが４００ｎｍになるように上記で調製した非磁性層形成用組成物を塗布および乾燥させて非磁性層を形成した後、非磁性層の表面上に乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように上記で調製した磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。この磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤（未乾燥）状態にあるうちに、磁場強度０.３Ｔの磁場を塗布層の表面に対し垂直方向に印加する垂直配向処理を施し、乾燥させた。その後、この支持体の反対面に乾燥後の厚みが０.４μｍになるように上記で調製したバックコート層形成用組成物を塗布し、乾燥させた。こうして磁気テープ原反を作製した。
作製された磁気テープ原反に対し、金属ロールのみから構成されるカレンダにより、速度１００ｍ／分、線圧２９４ｋＮ／ｍ、カレンダロールの表面温度１００℃でカレンダ処理（表面平滑化処理）し、その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間、加熱処理を施した。加熱処理後、磁気テープ原反を裁断機によりスリットし、１／２インチ幅の磁気テープを得た。この磁気テープを送り出しローラーと巻き取りローラーとの間で走行させながら（走行速度１２０ｍ／分、張力：表１参照）、バックコート層表面のブレード研磨、乾式拭き取り処理およびアルコール拭き取り処理としてエタノール拭き取り処理をこの順で実施した。具体的には、上記２つのローラーの間にサファイアブレード、乾いたワイピング材（東レ社製トレシー（登録商標））およびエタノールを浸潤させたワイピング材（東レ社製トレシー（登録商標））を配置し、上記２つのローラー間で走行している磁気テープのバックコート層表面にサファイアブレードを押し当ててブレード研磨し、その後に上記の乾いたワイピング材によりバックコート層表面の乾式拭き取り処理を行い、その後に上記のエタノールを浸潤させたワイピング材によりバックコート層表面のエタノール拭き取り処理を行った。以上により、ブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理がそれぞれ１回バックコート層表面に施された。
作製した磁気テープの磁性層を消磁した状態で、サーボライターに搭載されたサーボライトヘッドによって、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ－Ｏｐｅｎ） Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを磁性層に形成した。こうして、磁性層に、ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置でデータバンド、サーボバンド、およびガイドバンドを有し、かつサーボバンド上にＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを有する磁気テープを得た。
こうして実施例１の磁気テープを得た。
【0105】
［実施例２～１１、比較例１～９］
表１に示すように各種条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。
スリット後のバックコート層表面の表面処理については、実施例２～１１および比較例１～９では、それぞれ以下の表面処理を実施した。
実施例２～４、７、９～１１、比較例４および５では、実施例１と同様にブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理を実施した。
実施例５、６、８、比較例６および９では、張力を変更した点以外、実施例１と同様にブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理を実施した。
比較例１～３、７および８では、ブレード研磨および乾式拭き取り処理は実施例１と同様に実施し、エタノール拭き取り処理は実施しなかった。
表１に示すように各種条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。
スリット後のバックコート層表面の表面処理については、実施例２～１１および比較例１～９では、それぞれ以下の表面処理を実施した。
実施例２～４、７、９～１１、比較例４および５では、実施例１と同様にブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理を実施した。
実施例５、６、８、比較例６および９では、張力を変更した点以外、実施例１と同様にブレード研磨、乾式拭き取り処理およびエタノール拭き取り処理を実施した。
比較例１～３、７および８では、ブレード研磨および乾式拭き取り処理は実施例１と同様に実施し、エタノール拭き取り処理は実施しなかった。
【0106】
表１中、「ＢａＦｅ」は、平均粒子サイズ（平均板径）２１ｎｍの六方晶バリウムフェライト粉末である。
【0107】
表１中、「ＳｒＦｅ１」は、以下の方法により作製された六方晶ストロンチウムフェライト粉末である。
ＳｒＣＯ３を１７０７ｇ、Ｈ３ＢＯ３を６８７ｇ、Ｆｅ２Ｏ３を１１２０ｇ、Ａｌ（ＯＨ）３を４５ｇ、ＢａＣＯ３を２４ｇ、ＣａＣＯ３を１３ｇ、およびＮｄ２Ｏ３を２３５ｇ秤量し、ミキサーにて混合し原料混合物を得た。
得られた原料混合物を、白金ルツボで溶融温度１３９０℃で溶融し、融液を撹拌しつつ白金ルツボの底に設けた出湯口を加熱し、融液を約６ｇ／秒で棒状に出湯させた。出湯液を水冷双ローラーで圧延急冷して非晶質体を作製した。
作製した非晶質体２８０ｇを電気炉に仕込み、昇温速度３．５℃／分にて６３５℃（結晶化温度）まで昇温し、同温度で５時間保持して六方晶ストロンチウムフェライト粒子を析出（結晶化）させた。
次いで六方晶ストロンチウムフェライト粒子を含む上記で得られた結晶化物を乳鉢で粗粉砕し、ガラス瓶に粒径１ｍｍのジルコニアビーズ１０００ｇおよび濃度１％の酢酸水溶液８００ｍｌを加えてペイントシェーカーにて３時間分散処理を行った。その後、得られた分散液をビーズと分離させステンレスビーカーに入れた。分散液を液温１００℃で３時間静置させてガラス成分の溶解処理を行った後、遠心分離器で沈澱させてデカンテーションを繰り返して洗浄し、炉内温度１１０℃の加熱炉内で６時間乾燥させて六方晶ストロンチウムフェライト粉末を得た。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の平均粒子サイズは１８ｎｍ、活性化体積は９０２ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは２.２×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは４９Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末から試料粉末を１２ｍｇ採取し、この試料粉末を先に例示した溶解条件によって部分溶解して得られたろ液の元素分析をＩＣＰ分析装置によって行い、ネオジム原子の表層部含有率を求めた。
別途、上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末から試料粉末を１２ｍｇ採取し、この試料粉末を先に例示した溶解条件によって全溶解して得られたろ液の元素分析をＩＣＰ分析装置によって行い、ネオジム原子のバルク含有率を求めた。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の鉄原子１００原子％に対するネオジム原子の含有率（バルク含有率）は、２．９原子％であった。また、ネオジム原子の表層部含有率は８．０原子％であった。表層部含有率とバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は２．８であり、ネオジム原子が粒子の表層に偏在していることが確認された。
上記で得られた粉末が六方晶フェライトの結晶構造を示すことは、ＣｕＫα線を電圧４５ｋＶかつ強度４０ｍＡの条件で走査し、下記条件でＸ線回折パターンを測定すること（Ｘ線回折分析）により確認した。上記で得られた粉末は、マグネトプランバイト型（Ｍ型）の六方晶フェライトの結晶構造を示した。また、Ｘ線回折分析により検出された結晶相は、マグネトプランバイト型の単一相であった。
ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ Ｘ’Ｐｅｒｔ Ｐｒｏ回折計、ＰＩＸｃｅｌ検出器
入射ビームおよび回折ビームのＳｏｌｌｅｒスリット：０．０１７ラジアン
分散スリットの固定角：１／４度
マスク：１０ｍｍ
散乱防止スリット：１／４度
測定モード：連続
１段階あたりの測定時間：３秒
測定速度：毎秒０．０１７度
測定ステップ：０．０５度
ＳｒＣＯ３を１７０７ｇ、Ｈ３ＢＯ３を６８７ｇ、Ｆｅ２Ｏ３を１１２０ｇ、Ａｌ（ＯＨ）３を４５ｇ、ＢａＣＯ３を２４ｇ、ＣａＣＯ３を１３ｇ、およびＮｄ２Ｏ３を２３５ｇ秤量し、ミキサーにて混合し原料混合物を得た。
得られた原料混合物を、白金ルツボで溶融温度１３９０℃で溶融し、融液を撹拌しつつ白金ルツボの底に設けた出湯口を加熱し、融液を約６ｇ／秒で棒状に出湯させた。出湯液を水冷双ローラーで圧延急冷して非晶質体を作製した。
作製した非晶質体２８０ｇを電気炉に仕込み、昇温速度３．５℃／分にて６３５℃（結晶化温度）まで昇温し、同温度で５時間保持して六方晶ストロンチウムフェライト粒子を析出（結晶化）させた。
次いで六方晶ストロンチウムフェライト粒子を含む上記で得られた結晶化物を乳鉢で粗粉砕し、ガラス瓶に粒径１ｍｍのジルコニアビーズ１０００ｇおよび濃度１％の酢酸水溶液８００ｍｌを加えてペイントシェーカーにて３時間分散処理を行った。その後、得られた分散液をビーズと分離させステンレスビーカーに入れた。分散液を液温１００℃で３時間静置させてガラス成分の溶解処理を行った後、遠心分離器で沈澱させてデカンテーションを繰り返して洗浄し、炉内温度１１０℃の加熱炉内で６時間乾燥させて六方晶ストロンチウムフェライト粉末を得た。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の平均粒子サイズは１８ｎｍ、活性化体積は９０２ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは２.２×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは４９Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末から試料粉末を１２ｍｇ採取し、この試料粉末を先に例示した溶解条件によって部分溶解して得られたろ液の元素分析をＩＣＰ分析装置によって行い、ネオジム原子の表層部含有率を求めた。
別途、上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末から試料粉末を１２ｍｇ採取し、この試料粉末を先に例示した溶解条件によって全溶解して得られたろ液の元素分析をＩＣＰ分析装置によって行い、ネオジム原子のバルク含有率を求めた。
上記で得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の鉄原子１００原子％に対するネオジム原子の含有率（バルク含有率）は、２．９原子％であった。また、ネオジム原子の表層部含有率は８．０原子％であった。表層部含有率とバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は２．８であり、ネオジム原子が粒子の表層に偏在していることが確認された。
上記で得られた粉末が六方晶フェライトの結晶構造を示すことは、ＣｕＫα線を電圧４５ｋＶかつ強度４０ｍＡの条件で走査し、下記条件でＸ線回折パターンを測定すること（Ｘ線回折分析）により確認した。上記で得られた粉末は、マグネトプランバイト型（Ｍ型）の六方晶フェライトの結晶構造を示した。また、Ｘ線回折分析により検出された結晶相は、マグネトプランバイト型の単一相であった。
ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ Ｘ’Ｐｅｒｔ Ｐｒｏ回折計、ＰＩＸｃｅｌ検出器
入射ビームおよび回折ビームのＳｏｌｌｅｒスリット：０．０１７ラジアン
分散スリットの固定角：１／４度
マスク：１０ｍｍ
散乱防止スリット：１／４度
測定モード：連続
１段階あたりの測定時間：３秒
測定速度：毎秒０．０１７度
測定ステップ：０．０５度
【0108】
表１中、「ＳｒＦｅ２」は、以下の方法により作製された六方晶ストロンチウムフェライト粉末である。
ＳｒＣＯ３を１７２５ｇ、Ｈ３ＢＯ３を６６６ｇ、Ｆｅ２Ｏ３を１３３２ｇ、Ａｌ（ＯＨ）３を５２ｇ、ＣａＣＯ３を３４ｇ、ＢａＣＯ３を１４１ｇ秤量し、ミキサーにて混合し原料混合物を得た。
得られた原料混合物を、白金ルツボで溶融温度１３８０℃で溶融し、融液を撹拌しつつ白金ルツボの底に設けた出湯口を加熱し、融液を約６ｇ／秒で棒状に出湯させた。出湯液を水冷双ロールで急冷圧延して非晶質体を作製した。
得られた非晶質体２８０ｇを電気炉に仕込み、６４５℃（結晶化温度）まで昇温し、同温度で５時間保持し六方晶ストロンチウムフェライト粒子を析出（結晶化）させた。
次いで六方晶ストロンチウムフェライト粒子を含む上記で得られた結晶化物を乳鉢で粗粉砕し、ガラス瓶に粒径１ｍｍのジルコニアビーズ１０００ｇおよび濃度１％の酢酸水溶液８００ｍｌを加えてペイントシェーカーにて３時間分散処理を行った。その後、得られた分散液をビーズと分離させステンレスビーカーに入れた。分散液を液温１００℃で３時間静置させてガラス成分の溶解処理を行った後、遠心分離器で沈澱させてデカンテーションを繰り返して洗浄し、炉内温度１１０℃の加熱炉内で６時間乾燥させて六方晶ストロンチウムフェライト粉末を得た。
得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の平均粒子サイズは１９ｎｍ、活性化体積は１１０２ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは２.０×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは５０Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
ＳｒＣＯ３を１７２５ｇ、Ｈ３ＢＯ３を６６６ｇ、Ｆｅ２Ｏ３を１３３２ｇ、Ａｌ（ＯＨ）３を５２ｇ、ＣａＣＯ３を３４ｇ、ＢａＣＯ３を１４１ｇ秤量し、ミキサーにて混合し原料混合物を得た。
得られた原料混合物を、白金ルツボで溶融温度１３８０℃で溶融し、融液を撹拌しつつ白金ルツボの底に設けた出湯口を加熱し、融液を約６ｇ／秒で棒状に出湯させた。出湯液を水冷双ロールで急冷圧延して非晶質体を作製した。
得られた非晶質体２８０ｇを電気炉に仕込み、６４５℃（結晶化温度）まで昇温し、同温度で５時間保持し六方晶ストロンチウムフェライト粒子を析出（結晶化）させた。
次いで六方晶ストロンチウムフェライト粒子を含む上記で得られた結晶化物を乳鉢で粗粉砕し、ガラス瓶に粒径１ｍｍのジルコニアビーズ１０００ｇおよび濃度１％の酢酸水溶液８００ｍｌを加えてペイントシェーカーにて３時間分散処理を行った。その後、得られた分散液をビーズと分離させステンレスビーカーに入れた。分散液を液温１００℃で３時間静置させてガラス成分の溶解処理を行った後、遠心分離器で沈澱させてデカンテーションを繰り返して洗浄し、炉内温度１１０℃の加熱炉内で６時間乾燥させて六方晶ストロンチウムフェライト粉末を得た。
得られた六方晶ストロンチウムフェライト粉末の平均粒子サイズは１９ｎｍ、活性化体積は１１０２ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは２.０×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは５０Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
【0109】
表１中、「ε－酸化鉄」は、以下の方法により作製されたε－酸化鉄粉末である。
純水９０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．３ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１９０ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１５０ｍｇ、およびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。得られた溶液に、クエン酸１ｇを純水９ｇに溶解させて得たクエン酸溶液を加え、１時間撹拌した。撹拌後に沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で乾燥させた。
乾燥させた粉末に純水８００ｇを加えて再度粉末を水に分散させて分散液を得た。得られた分散液を液温５０℃に昇温し、撹拌しながら濃度２５％アンモニア水溶液を４０ｇ滴下した。５０℃の温度を保ったまま１時間撹拌した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１４ｍＬを滴下し、２４時間撹拌した。得られた反応溶液に、硫酸アンモニウム５０ｇを加え、沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で２４時間乾燥させ、強磁性粉末の前駆体を得た。
得られた強磁性粉末の前駆体を、大気雰囲気下、炉内温度１０００℃の加熱炉内に装填し、４時間の加熱処理を施した。
加熱処理した強磁性粉末の前駆体を、４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温を７０℃に維持して２４時間撹拌することにより、加熱処理した強磁性粉末の前駆体から不純物であるケイ酸化合物を除去した。
その後、遠心分離処理により、ケイ酸化合物を除去した強磁性粉末を採集し、純水で洗浄を行い、強磁性粉末を得た。
得られた強磁性粉末の組成を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析(ＩＣＰ－ＯＥＳ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により確認したところ、Ｇａ、ＣｏおよびＴｉ置換型ε－酸化鉄（ε－Ｇａ０．２８Ｃｏ０．０５Ｔｉ０．０５Ｆｅ１．６２Ｏ３）であった。また、先にＳｒＦｅ１について記載した条件と同様の条件でＸ線回折分析を行い、Ｘ線回折パターンのピークから、得られた強磁性粉末が、α相およびγ相の結晶構造を含まない、ε相の単相の結晶構造（ε－酸化鉄型の結晶構造）を有することを確認した。
得られたε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは１２ｎｍ、活性化体積は７４６ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは１．２×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは１６Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
純水９０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．３ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１９０ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１５０ｍｇ、およびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。得られた溶液に、クエン酸１ｇを純水９ｇに溶解させて得たクエン酸溶液を加え、１時間撹拌した。撹拌後に沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で乾燥させた。
乾燥させた粉末に純水８００ｇを加えて再度粉末を水に分散させて分散液を得た。得られた分散液を液温５０℃に昇温し、撹拌しながら濃度２５％アンモニア水溶液を４０ｇ滴下した。５０℃の温度を保ったまま１時間撹拌した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１４ｍＬを滴下し、２４時間撹拌した。得られた反応溶液に、硫酸アンモニウム５０ｇを加え、沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で２４時間乾燥させ、強磁性粉末の前駆体を得た。
得られた強磁性粉末の前駆体を、大気雰囲気下、炉内温度１０００℃の加熱炉内に装填し、４時間の加熱処理を施した。
加熱処理した強磁性粉末の前駆体を、４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温を７０℃に維持して２４時間撹拌することにより、加熱処理した強磁性粉末の前駆体から不純物であるケイ酸化合物を除去した。
その後、遠心分離処理により、ケイ酸化合物を除去した強磁性粉末を採集し、純水で洗浄を行い、強磁性粉末を得た。
得られた強磁性粉末の組成を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析(ＩＣＰ－ＯＥＳ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により確認したところ、Ｇａ、ＣｏおよびＴｉ置換型ε－酸化鉄（ε－Ｇａ０．２８Ｃｏ０．０５Ｔｉ０．０５Ｆｅ１．６２Ｏ３）であった。また、先にＳｒＦｅ１について記載した条件と同様の条件でＸ線回折分析を行い、Ｘ線回折パターンのピークから、得られた強磁性粉末が、α相およびγ相の結晶構造を含まない、ε相の単相の結晶構造（ε－酸化鉄型の結晶構造）を有することを確認した。
得られたε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは１２ｎｍ、活性化体積は７４６ｎｍ３、異方性定数Ｋｕは１．２×１０５Ｊ／ｍ３、質量磁化σｓは１６Ａ・ｍ２／ｋｇであった。
【0110】
上記の六方晶ストロンチウムフェライト粉末およびε－酸化鉄粉末の活性化体積および異方性定数Ｋｕは、各強磁性粉末について、振動試料型磁力計（東英工業社製）を用いて、先に記載の方法により求められた値である。
また、質量磁化σｓは、振動試料型磁力計（東英工業社製）を用いて磁場強度１５ｋＯｅで測定された値である。
また、質量磁化σｓは、振動試料型磁力計（東英工業社製）を用いて磁場強度１５ｋＯｅで測定された値である。
【0111】
表１中、「支持体１」は、特開２０１１－８４０３６号公報の実施例２に記載の方法により作製された芳香族ポリエステルフィルムである。支持体１は、ポリエチレンナフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
「支持体２」は、特開２０１１－８４０３６号公報の実施例１に記載の方法により作製された芳香族ポリエステルフィルムである。支持体２は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは５．０μｍである。
「支持体３」は、特開２０１１－８４０３６号公報の実施例６に記載の方法により作製された芳香族ポリエステルフィルムである。支持体３は、ポリエチレンナフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
「支持体４」は、ポリエチレンナフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
「支持体５」は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
各芳香族ポリエステル支持体から数グラムの試料片を切り出し、その吸湿率を先に記載の方法によって求めたところ、表１に示す値であった。
「支持体２」は、特開２０１１－８４０３６号公報の実施例１に記載の方法により作製された芳香族ポリエステルフィルムである。支持体２は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは５．０μｍである。
「支持体３」は、特開２０１１－８４０３６号公報の実施例６に記載の方法により作製された芳香族ポリエステルフィルムである。支持体３は、ポリエチレンナフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
「支持体４」は、ポリエチレンナフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
「支持体５」は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む積層フィルムであり、支持体の厚みは４．２μｍである。
各芳香族ポリエステル支持体から数グラムの試料片を切り出し、その吸湿率を先に記載の方法によって求めたところ、表１に示す値であった。
【0112】
［評価方法］
（１）エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
実施例および比較例の各磁気テープから長さ５ｃｍの試料片を２つ切り出し、一方の試料片についてはエタノール洗浄を行わずに、以下の方法によりスペーシング（Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。他方の試料片については先に記載した方法によりエタノール洗浄を行った後に、以下の方法によりスペーシング（Ｓａｆｔｅｒ）を求めた。
磁気テープ（詳しくは上記試料片）のバックコート層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板（Ｔｈｏｒｌａｂｓ，Ｉｎｃ．社製ガラス板（型番：ＷＧ１０５３０））を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープの磁性層表面に、０．５ａｔｍの圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープのバックコート層表面の一定領域（１５００００～２０００００μｍ２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光が選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ－Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープのバックコート層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、エタノール洗浄後の試料片について得られたヒストグラムの最頻値Ｓａｆｔｅｒから、エタノール洗浄なしの試料片について得られたヒストグラムの最頻値Ｓｂｅｆｏｒｅを差し引いて、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
（１）エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、エタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
実施例および比較例の各磁気テープから長さ５ｃｍの試料片を２つ切り出し、一方の試料片についてはエタノール洗浄を行わずに、以下の方法によりスペーシング（Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。他方の試料片については先に記載した方法によりエタノール洗浄を行った後に、以下の方法によりスペーシング（Ｓａｆｔｅｒ）を求めた。
磁気テープ（詳しくは上記試料片）のバックコート層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板（Ｔｈｏｒｌａｂｓ，Ｉｎｃ．社製ガラス板（型番：ＷＧ１０５３０））を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープの磁性層表面に、０．５ａｔｍの圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープのバックコート層表面の一定領域（１５００００～２０００００μｍ２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光が選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ－Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープのバックコート層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、エタノール洗浄後の試料片について得られたヒストグラムの最頻値Ｓａｆｔｅｒから、エタノール洗浄なしの試料片について得られたヒストグラムの最頻値Ｓｂｅｆｏｒｅを差し引いて、差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
【0113】
（２）ｎ－ヘキサン洗浄前後のスペーシング差分（Ｓｒｅｆｅｒｅｎｃｅ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）（参考値）
実施例および比較例の各磁気テープから長さ５ｃｍの試料片を更に１つ切り出し、エタノールに代えてｎ－ヘキサンを用いた点以外は上記と同様に洗浄した後に上記と同様にｎ－ヘキサン洗浄後のスペーシングを求めた。参考値として、ここで求められたスペーシングＳｒｅｆｅｒｅｎｃｅと上記（１）で求めた洗浄なしの試料片について得られたスペーシングＳｂｅｆｏｒｅの差分（Ｓｒｅｆｅｒｅｎｃｅ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
実施例および比較例の各磁気テープから長さ５ｃｍの試料片を更に１つ切り出し、エタノールに代えてｎ－ヘキサンを用いた点以外は上記と同様に洗浄した後に上記と同様にｎ－ヘキサン洗浄後のスペーシングを求めた。参考値として、ここで求められたスペーシングＳｒｅｆｅｒｅｎｃｅと上記（１）で求めた洗浄なしの試料片について得られたスペーシングＳｂｅｆｏｒｅの差分（Ｓｒｅｆｅｒｅｎｃｅ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めた。
【0114】
（３）走行安定性の低下評価
実施例および比較例の各磁気テープを、内部が温度３２℃相対湿度２０％に保たれたサーモボックスに３時間保存した。その後、磁気テープをサーモボックスから取出し（外気は温度２３℃相対湿度５０％）、１分以内に内部が温度１０℃相対湿度２０％に保たれたサーモルームに移して１週間保存した後に、このサーモルームにおいて以下の方法によりＰＥＳ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｅｒｒｏｒ Ｓｉｇｎａｌ）を求めた。
実施例および比較例の各磁気テープについて、サーボパターンの形成に用いたサーボライター上のベリファイ（ｖｅｒｉｆｙ）ヘッドでサーボパターンを読み取った。ベリファイヘッドは、磁気テープに形成されたサーボパターンの品質を確認するための読取用磁気ヘッドであり、公知の磁気テープ装置（ドライブ）の磁気ヘッドと同様に、サーボパターンの位置（磁気テープの幅方向の位置）に対応した位置に読取用の素子が配置されている。
ベリファイヘッドには、ベリファイヘッドでサーボパターンを読み取って得た電気信号から、サーボシステムにおけるヘッド位置決め精度をＰＥＳとして演算する公知のＰＥＳ演算回路が接続されている。ＰＥＳ演算回路は、入力された電気信号（パルス信号）から磁気テープの幅方向への変位を随時計算し、この変位の時間的変化情報（信号）に対してハイパスフィルタ（カットオフ：５００ｃｙｃｌｅｓ／ｍ）を適用した値を、ＰＥＳとして算出した。ＰＥＳは走行安定性の指標とすることができ、上記で算出されたＰＥＳの値が１５ｎｍ以下であれば、低湿下での高温から低温への温度変化後に低温低湿環境下で保存された後の走行安定性の低下が抑制されていると評価することができる。
実施例および比較例の各磁気テープを、内部が温度３２℃相対湿度２０％に保たれたサーモボックスに３時間保存した。その後、磁気テープをサーモボックスから取出し（外気は温度２３℃相対湿度５０％）、１分以内に内部が温度１０℃相対湿度２０％に保たれたサーモルームに移して１週間保存した後に、このサーモルームにおいて以下の方法によりＰＥＳ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｅｒｒｏｒ Ｓｉｇｎａｌ）を求めた。
実施例および比較例の各磁気テープについて、サーボパターンの形成に用いたサーボライター上のベリファイ（ｖｅｒｉｆｙ）ヘッドでサーボパターンを読み取った。ベリファイヘッドは、磁気テープに形成されたサーボパターンの品質を確認するための読取用磁気ヘッドであり、公知の磁気テープ装置（ドライブ）の磁気ヘッドと同様に、サーボパターンの位置（磁気テープの幅方向の位置）に対応した位置に読取用の素子が配置されている。
ベリファイヘッドには、ベリファイヘッドでサーボパターンを読み取って得た電気信号から、サーボシステムにおけるヘッド位置決め精度をＰＥＳとして演算する公知のＰＥＳ演算回路が接続されている。ＰＥＳ演算回路は、入力された電気信号（パルス信号）から磁気テープの幅方向への変位を随時計算し、この変位の時間的変化情報（信号）に対してハイパスフィルタ（カットオフ：５００ｃｙｃｌｅｓ／ｍ）を適用した値を、ＰＥＳとして算出した。ＰＥＳは走行安定性の指標とすることができ、上記で算出されたＰＥＳの値が１５ｎｍ以下であれば、低湿下での高温から低温への温度変化後に低温低湿環境下で保存された後の走行安定性の低下が抑制されていると評価することができる。
【0115】
以上の結果を表１（表１－１～表１－４）に示す。
【0116】
【表1-1】
【0117】
【表1-2】
【0118】
【表1-3】
【0119】
【表1-4】
【0120】
実施例の磁気テープは、芳香族ポリエステル支持体を有する磁気テープである。表１中のＰＥＳの値から、実施例の磁気テープでは、低湿下での高温から低温への温度変化後に低温低湿環境下で保存された後の走行安定性の低下が抑制されていることが確認できる。
なお、表１に示すように、ｎ－ヘキサン洗浄前後のスペーシング差分（Ｓｒｅｆｅｒｅｎｃｅ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値とエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値との間には相関は見られなかった。
なお、表１に示すように、ｎ－ヘキサン洗浄前後のスペーシング差分（Ｓｒｅｆｅｒｅｎｃｅ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値とエタノール洗浄前後のスペーシング差分（Ｓａｆｔｅｒ－Ｓｂｅｆｏｒｅ）の値との間には相関は見られなかった。
【産業上の利用可能性】
【0121】
本発明の一態様は、各種データストレージ用磁気記録媒体の技術分野において有用である。