特許 7567613 ドライアイスブラスト装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-07

(45)【発行日】2024-10-16

(54)【発明の名称】ドライアイスブラスト装置

(51)【国際特許分類】

   B24C 1/00 20060101AFI20241008BHJP

   B24C 5/02 20060101ALI20241008BHJP

   B24C 7/00 20060101ALI20241008BHJP

   B24C 11/00 20060101ALI20241008BHJP

【ＦＩ】

B24C1/00 A

B24C5/02 A

B24C7/00 E

B24C11/00 E

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2021053367

(22)【出願日】2021-03-26

(65)【公開番号】P2022150667

(43)【公開日】2022-10-07

【審査請求日】2023-11-01

(73)【特許権者】

【識別番号】000005083

【氏名又は名称】株式会社プロテリアル

(74)【代理人】

【識別番号】110002066

【氏名又は名称】弁理士法人筒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】佐川 英之

(72)【発明者】

【氏名】楯 尚史

(72)【発明者】

【氏名】杉山 剛博

(72)【発明者】

【氏名】南畝 秀樹

(72)【発明者】

【氏名】末永 和史

(72)【発明者】

【氏名】李 ▲金▼偉龍

【審査官】マキロイ 寛済

(56)【参考文献】

【文献】特開２０２１－０２８０９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１８５５６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０４－０５７６７１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２４Ｃ １／００

Ｂ２４Ｃ ５／０２

Ｂ２４Ｃ ７／００

Ｂ２４Ｃ １１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ドライアイス粒が噴射されるノズルと、
ドライアイスペレットを粉砕して前記ドライアイス粒を生成する粉砕部と、
前記ドライアイスペレットを前記粉砕部に搬送する搬送部と、を有し、
前記搬送部は、前記ドライアイスペレットが載せられるトレイと、前記トレイを振動させる駆動源としての電磁石と、を含み、前記トレイ上の前記ドライアイスペレットを振動させながら前記粉砕部に搬送し、
前記ドライアイスペレットと接する前記トレイの表面に、前記ドライアイスペレットよりも小さい凸部と凹部との少なくとも何れか一方が複数個形成されている、
ドライアイスブラスト装置。

【請求項2】

前記トレイが樹脂製、セラミクス製又は木製である、請求項１に記載のドライアイスブラスト装置。

【請求項3】

前記ノズルから噴射される前記ドライアイス粒の量の変化を検知する検知部をさらに有し、
前記搬送部は、前記検知部の検知結果に基づいて前記ドライアイスペレットの搬送量を制御する、請求項１又は２に記載のドライアイスブラスト装置。

【請求項4】

前記搬送部は、前記検知部の検知結果に基づいて前記電磁石の通電状態を変更して前記トレイの振動状態を変更する制御部を備える、請求項３に記載のドライアイスブラスト装置。

【請求項5】

ドライアイス粒が噴射されるノズルと、
ドライアイスペレットを粉砕して前記ドライアイス粒を生成する粉砕部と、
前記ドライアイスペレットが載せられるトレイと、前記トレイを振動させる駆動源としての電磁石と、を含み、前記トレイ上の前記ドライアイスペレットを振動させながら前記粉砕部に搬送する搬送部と、
前記ノズルから噴射される前記ドライアイス粒の量の変化を検知する検知部と、を有し、
前記搬送部は、前記検知部の検知結果に基づいて前記電磁石の通電状態を変更して前記トレイの振動状態を変更し、前記ドライアイスペレットの搬送量を制御する、
ドライアイスブラスト装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、粒状や粉状のドライアイスを噴射するドライアイスブラスト装置に関する。

【背景技術】

【0002】

粒状や粉状のドライアイス（以下、“ドライアイス粒”と総称する場合がある。）をノズルの先端から噴射するドライアイスブラスト装置が知られている（特許文献１参照）。

【0003】

上記のようなドライアイスブラスト装置は、例えば、ワークの表面処理（ワーク表面の洗浄や粗化など）に用いられる。具体的には、ドライアイスブラスト装置のノズル先端から噴射されるドライアイス粒をシリコンウエハの表面に吹き付けることにより、シリコンウエハの表面に付着している粒子状物質や汚染物質などが除去される。また、ドライアイスブラスト装置のノズル先端から噴射されるドライアイス粒を電線の絶縁被覆の表面に吹き付けることにより、絶縁被覆の表面に微細な凹凸が形成される。

【0004】

ドライアイスブラスト装置は、ドライアイスの塊を粉砕してドライアイス粒を生成する粉砕手段を備えている。以下の説明では、粉砕手段によって粉砕される前のドライアイスの塊を“ドライアイスペレット”と呼んでドライアイス粒と区別する場合がある。ドライアイスブラスト装置は、ドライアイスペレットが供給されるホッパーと、ホッパーに供給されたドライアイスペレットを粉砕手段に搬送する搬送手段と、をさらに備えている。

【0005】

従来のドライアイスブラスト装置の１つでは、スクリューフィーダによって搬送手段が構成されている。搬送手段を構成するスクリューフィーダは、螺旋状の羽根が形成されたスクリューを備えている。スクリューフィーダは、ホッパーから送り出されるドライアイスペレットを回転するスクリューによって粉砕手段に搬送する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２０００－１１９８４０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

スクリューフィーダの搬送量は、スクリューに形成されている羽根のピッチやスクリューの回転速度などによって決定される。よって、ホッパーからスクリューフィーダに送り込まれるドライアイスペレットの量が一定であり、かつ、スクリューの回転速度も一定であれば、常に一定量のドライアイスペレットが粉砕手段に供給され続けるはずである。

【0008】

しかし、実際に粉砕手段に供給されるドライアイスペレットの量（ペレット供給量）は常に一定とはならない。例えば、１分毎のペレット供給量（総量）は一定であったとしても、０．５秒毎や１秒毎のペレット供給量は必ずしも一定ではない。要するに、スクリューフィーダによって粉砕手段に供給されるドライアイスペレットの量にはばらつきがある。そして、ペレット供給量のばらつきが大きくなると、ドライアイス粒の噴射が不安定になる。具体的には、ドライアイス粒の噴射量が増減したり、一時的に噴射が途絶えたりする。

【0009】

さらに、ドライアイス粒の噴射が不安定であると、ワークの表面処理が不均一になる虞がある。特に、ノズルやワークを素早く移動させながら表面処理を行う場合、処理ムラや未処理領域が発生する虞が高まる。

【0010】

本発明の目的は、ドライアイス粒が安定的に噴射されるドライアイスブラスト装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明のドライアイスブラスト装置は、ドライアイス粒が噴射されるノズルと、ドライアイスペレットを粉砕して前記ドライアイス粒を生成する粉砕部と、前記ドライアイスペレットを前記粉砕部に搬送する搬送部と、を有する。前記搬送部は、前記ドライアイスペレットが載せられるトレイと、前記トレイを振動させる駆動源としての電磁石と、を含み、前記トレイ上の前記ドライアイスペレットを振動させながら前記粉砕部に搬送する。

【0012】

本発明の一態様では、前記トレイは、樹脂製、セラミクス製又は木製である。

【0013】

本発明の他の一態様では、前記ドライアイスペレットと接する前記トレイの表面に、前記ドライアイスペレットよりも小さい凸部と凹部との少なくとも何れか一方が複数個形成される。

【0014】

本発明の他の一態様では、前記ノズルから噴射される前記ドライアイス粒の量の変化を検知する検知部が設けられる。そして、前記搬送部は、前記検知部の検知結果に基づいて前記ドライアイスペレットの搬送量を制御する。

【0015】

本発明の他の一態様では、前記搬送部は、前記検知部の検知結果に基づいて前記電磁石の通電状態を変更して前記トレイの振動状態を変更する制御部を備える。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、ドライアイス粒が安定的に噴射されるドライアイスブラスト装置が実現される。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】一実施形態のドライアイスブラスト装置の構成を示す図である。

【図2】図１に示されている粉砕部の構成を示す図である。

【図3】図１に示されているトレイの構成を示す図である。

【図4】試験１－１の結果を示す図である。

【図5】試験１－２の結果を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、図面を参照しながら本発明のドライアイスブラスト装置の実施形態の一例について説明する。尚、同一又は実質的に同一の構成や要素には同一の符号を用い、原則として再度の説明は行わない。

【0019】

＜全体構成＞
図１に示されているドライアイスブラスト装置１Ａは、装置本体１０と、圧縮空気供給部２０と、噴射部３０と、を有する。装置本体１０は、ドライアイス粒１００ｂを噴射部３０に供給し、圧縮空気供給部２０は、圧縮空気を噴射部３０に供給する。噴射部３０は、装置本体１０から供給されるドライアイス粒１００ｂと圧縮空気供給部２０から供給される圧縮空気とを一緒に噴射する。別の見方をすると、装置本体１０から供給されるドライアイス粒１００ｂは、圧縮空気供給部２０から供給される圧縮空気に合流される。圧縮空気に合流されたドライアイス粒１００ｂは、圧縮空気の圧力により、ワークＷに向かって噴射される。つまり、本実施形態に係るドライアイスブラスト装置１Ａは、サイフォン式である。

【0020】

＜装置本体＞
装置本体１０は、ホッパー１１，搬送部１２，粉砕部１３，中継パイプ１４及びドライアイス供給チューブ１５を有する。

【0021】

ホッパー１１には、ドライアイスの塊であるドライアイスペレット１００ａが供給（投入）される。例えば、直径が３ｍｍ前後のドライアイスペレット１００ａがホッパー１１に投入される。

【0022】

ホッパー１１は、上面の大きさに比べて下面の大きさが小さい箱形形状を有し、全体としてすり鉢状の外観を呈している。また、ホッパー１１の上面には上方開口部１１ａが設けられており、ホッパー１１の下面には下方開口部１１ｂが設けられている。ドライアイスペレット１００ａは、上方開口部１１ａからホッパー１１の内部に投入される。ホッパー１１内に投入されたドライアイスペレット１００ａは、下方開口部１１ｂからホッパー１１の外部に排出される。そこで、以下の説明では、上方開口部１１ａを“投入口１１ａ”と呼び、下方開口部１１ｂを“排出口１１ｂ”と呼ぶ場合がある。

【0023】

＜搬送部＞
搬送部１２は、ホッパー１１の排出口１１ｂから排出されるドライアイスペレット１００ａを粉砕部１３に搬送する。より特定的には、搬送部１２は、電磁振動方式の搬送手段であり、ドライアイスペレット１００ａを振動させながら粉砕部１３に定量搬送する。搬送部１２の詳細については後に改めて説明する。

【0024】

＜粉砕部＞
粉砕部１３は、搬送部１２により搬送されたドライアイスペレット１００ａを粉砕し、所定の大きさのドライアイスの粒であるドライアイス粒１００ｂを生成する。

【0025】

図２に示されるように、粉砕部１３は、一対の粉砕ローラ１３ａ，１３ｂを備えている。粉砕ローラ１３ａ，１３ｂは、金属製のローラであって、回転軸に固定されている。また、粉砕ローラ１３ａ，１３ｂは、隙間を介して対向しており、かつ、互いに逆方向に回転駆動される。ドライアイスペレット１００ａは、粉砕ローラ１３ａ，１３ｂの間に落下し、回転する粉砕ローラ１３ａ，１３ｂによってすりつぶされる。よって、粉砕ローラ１３ａと粉砕ローラ１３ｂとの間の隙間を変更することにより、粉砕部１３において生成されるドライアイス粒１００ｂの大きさ（粒径）を調節することができる。

【0026】

再び図１を参照する。粉砕部１３において生成されるドライアイス粒１００ｂの粒径は、ワークＷの種類やワークＷに施す処理の内容などに応じて決定されたり、調節されたりする。例えば、ワークＷの硬度が高い場合には、ドライアイス粒１００ｂの粒径が大きくされる。また、ワークＷの硬度が低い場合やワークＷの表面を傷付けたくない場合には、ドライアイス粒１００ｂが小さくされる。

【0027】

尚、粉砕部１３において生成されたドライアイス粒１００ｂの粒径は、噴射部３０から噴射されるまでの間に縮小する可能性がある。例えば、粉砕部１３から噴射部３０に搬送される過程でドライアイス粒１００ｂの一部が昇華し、ドライアイス粒１００ｂが小さくなる可能性がある。そこで、粉砕部１３において生成するドライアイス粒１００ｂの粒径は、その後の縮小を見越して決定されることもある。

【0028】

＜中継パイプ及びドライアイス供給チューブ＞
図１に示されている中継パイプ１４及びドライアイス供給チューブ１５は、粉砕部１３で生成されたドライアイス粒１００ｂを噴射部３０に供給するための流路（ドライアイス流路）を形成する。具体的には、中継パイプ１４は、ドライアイス流路の一部を形成し、ドライアイス供給チューブ１５は、ドライアイス流路の他の一部を形成する。

【0029】

中継パイプ１４は、ドライアイス粒１００ｂの粒径よりも大きな内径を有する樹脂製または金属製のパイプである。中継パイプ１４の一端（基端）は、粉砕部１３に接続され、中継パイプ１４の他端（先端）は、ドライアイス供給チューブ１５の一端（基端）に接続されている。

【0030】

ドライアイス供給チューブ１５は、ゴム等の弾性材料によって形成されており、ドライアイス粒１００ｂの粒径よりも大きな内径を有する。ドライアイス供給チューブ１５は、ドライアイス粒１００ｂによって冷却されても弾性や可撓性を損なわない弾性材料によって形成されている。また、ドライアイス供給チューブ１５は、内圧が所定圧力を下回った場合にも変形しない硬さ（耐圧性能）を備えている。尚、ドライアイス供給チューブ１５を形成する弾性材料の一例としては、ガラス転移点がドライアイスの昇華点（摂氏マイナス７８．５度）以下の弾性材料が挙げられる。

【0031】

ドライアイス供給チューブ１５の先端側は、ホッパー１１，搬送部１２，粉砕部１３等が収容されている筐体１０ａを貫通して筐体１０ａの外に引き出され、噴射部３０に接続されている。図示は省略されているが、筐体１０ａの側面には連通孔が設けられており、この連通孔を通じてドライアイス供給チューブ１５が筐体１０ａの外に引き出されている。尚、ドライアイス供給チューブ１５と連通孔との間に、隙間を塞ぐシール部材などを設けてもよい。

【0032】

＜圧縮空気供給部＞
圧縮空気供給部２０は、コンプレッサ２１と、コンプレッサ２１と噴射部３０とを繋ぐ空気供給チューブ２２と、を備えている。コンプレッサ２１によって生成された圧縮空気は、空気供給チューブ２２を介して噴射部３０に送られる。つまり、空気供給チューブ２２は、コンプレッサ２１で生成された圧縮空気を噴射部３０に供給するための流路（空気流路）を形成する。そこで、空気供給チューブ２２は、圧縮空気の圧力によって変形しない硬さ（耐圧性能）を備えている。

【0033】

尚、本実施形態のコンプレッサ２１は、アネスト岩田社製のオイルフリースクロールコンプレッサ（Think Air SLP-75EFD）である。もっとも、コンプレッサ２１は特定のコンプレッサに限定されるものではない。例えば、コンプレッサ２１は、スクロール式を含む回転式（ロータリータイプ）ではなく、ピストン式やダイヤフラム式などの往復式（レシプロタイプ）であってもよい。

【0034】

＜噴射部＞
噴射部３０は、合流部３１およびノズル３２を備える。噴射部３０には、装置本体１０及び圧縮空気供給部２０が接続されている。より特定的には、ドライアイス供給チューブ１５及び空気供給チューブ２２が合流部３１に接続されている。合流部３１は、ドライアイス供給チューブ１５を介して供給されるドライアイス粒１００ｂと、空気供給チューブ２２を介して供給される圧縮空気と、を合流させる。別の見方をすると、図２に示されているドライアイス粒１００ｂは、図１に示されている合流部３１において圧縮空気に合流される。

【0035】

ノズル３２の一端は合流部３１に接続されており、ノズル３２の他端にはノズル開口３２ａが設けられている。合流部３１において圧縮空気に合流されたドライアイス粒１００ｂは、圧縮空気と一緒にノズル３２の先端（ノズル開口３２ａ）から噴射される。よって、ノズル開口３２ａをワークＷの表面に向けると、ノズル開口３２ａから噴射されるドライアイス粒１００ｂがワークＷの表面に吹き付けられ、ワークＷの表面が処理される。具体的には、ワークＷの表面が洗浄されたり、ワークＷの表面に微細な凹凸が形成されたりする。尚、ノズル３２は、ノズル開口３２ａをワークＷの表面に向けやすくするために、略Ｌ字形に曲げられている。

【0036】

＜搬送部＞
搬送部１２は、ベース４０，トレイ４１，駆動部４２、制御部４３および支持部４４を少なくとも含んでいる。搬送部１２は、トレイ４１を振動させることにより、当該トレイ４１に載せられているドライアイスペレット１００ａを振動させながら搬送する。

【0037】

トレイ４１は金属製である。具体的には、トレイ４１は、所定形状に折り曲げられた１枚の板金によって形成されている。図３に示されるように、トレイ４１は、矩形の底部４１ａと、底部４１ａのそれぞれの長辺から立ち上がる側面部４１ｂ，４１ｃと、底部４１ａの一方の短辺から立ち上がる背面部４１ｄと、有する。さらに、トレイ４１の表面には、ドライアイスペレット１００ａよりも小さい凸部４１ｅが複数個形成されている。より特定的には、複数の凸部４１ｅが底部４１ａの内面に所定間隔で形成されている。

【0038】

再び図１を参照する。トレイ４１は、ベース４０の上方に当該ベース４０と重なるように配置されている。また、トレイ４１は、支持部４４によって支持されている。支持部４４は、板バネ等の弾性体であり、一端がベース４０に連結され、他端がトレイ４１に連結されている。つまり、トレイ４１は、ベース４０に対して揺動可能に保持されている。

【0039】

図１に示されるように、ベース４０及びトレイ４１は、ホッパー１１の下に配置されている。よって、ホッパー１１に投入されたドライアイスペレット１００ａは、ホッパー１１の排出口１１ｂからトレイ４１内（底部４１ａ上）に落下する。尚、トレイは“トラフ”と呼ばれることもある。

【0040】

駆動部４２は、駆動源（振動源）としての電磁石４２ａを備えている。制御部４３から電磁石４２ａに電力が供給され、電磁石４２ａが励磁されると、トレイ４１が駆動部４２に近接する方向（図中左側／後方）に移動する（引き付けられる）。その後、制御部４３から電磁石４２ａへの電力の供給が途絶え、電磁石４２ａが消磁されると、支持部４４の復元力によってトレイ４１が駆動部４２から離間する方向（図中右側／前方）に移動する（引き戻される）。

【0041】

つまり、制御部４３から電磁石４２ａに電力が断続的に供給されると、トレイ４１が主に前後に振動する。言い換えれば、電磁石４２ａに脈動電流が流されると、トレイ４１が主に前後に振動する。この結果、トレイ４１上のドライアイスペレット１００ａが振動しながら前方に向かって（粉砕部１３に向かって）移動する。このとき、振動しながら移動するトレイ４１上の複数のドライアイスペレット１００ａは、次第に整列する。また、幾つかのドライアイスペレット１００ａが互いに接着していた場合、それらドライアイスペレット１００ａが分離される。

【0042】

また、ドライアイスペレット１００ａと接するトレイ４１の表面（底部４１ａの内面）に形成されている複数個の凸部４１ｅ（図３）により、ドライアイスペレット１００ａの滑りが防止または抑制される。尚、それぞれの凸部４１ｅがドライアイスペレット１００ａよりも小さいので、隣接する凸部４１ｅの間にドライアイスペレット１００ａが挟まったり、詰まったりすることはない。

【0043】

図１に示されている制御部４３は、電磁石４２ａの通電状態を変更することにより、トレイ４１の振動状態を変更することができる。具体的には、電磁石４２ａに供給される電流の周波数や大きさを変更することにより、トレイ４１の振動の周波数や振幅を変更することができる。そして、トレイ４１の振動の周波数や振幅が変更されると、トレイ４１によるドライアイスペレット１００ａの搬送能力が変化する。例えば、トレイ４１の振幅が大きくなると、ドライアイスペレット１００ａの搬送量が増加する。

【0044】

本実施形態のドライアイスブラスト装置１Ａには、噴射部３０のノズル３２から噴射されるドライアイス粒１００ｂの量（噴射量）の変化を検知する検知部が設けられている。具体的には、ドライアイスブラスト装置１Ａは、ノズル開口３２ａの近傍に配置されたレーザ５０およびパワーメータ５１を備えている。レーザ５０は、所定波長のレーザ光を出力する。パワーメータ５１は、レーザ５０から出力されたレーザ光を受光し、受光量（エネルギー）に応じた電圧（検知信号）を出力する。

【0045】

レーザ５０とパワーメータ５１とは、ノズル開口３２ａを挟んで対向しており、ノズル開口３２ａから吐出されたドライアイス粒１００ｂは、レーザ５０とパワーメータ５１との間を通過する。したがって、ノズル３２から噴射されるドライアイス粒１００ｂの量が多いほど、パワーメータ５１の受光量が減少する。一方、ノズル３２から噴射されるドライアイス粒１００ｂの量が少ないほど、パワーメータ５１の受光量が増大する。つまり、パワーメータ５１の出力の変化に基づいてドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化を検知することができる。尚、本実施形態のレーザ５０は、ヘリウムネオンレーザ（ＨｅＮｅレーザ）であるが、レーザ５０はガスレーザに限られない。

【0046】

搬送部１２は、検知部（レーザ５０及びパワーメータ５１）による噴射量の検知結果に基づいて、ドライアイスペレット１００ａの搬送量を制御する。具体的には、制御部４３は、パワーメータ５１の出力の変化に基づいて電磁石４２ａの通電状態を変更してトレイ４１の振動状態を変更する。より具体的には、制御部４３は、パワーメータ５１の出力が低下すると、ドライアイスペレット１００ａの搬送量が減少するように、トレイ４１の振動状態を変更する。また、制御部４３は、パワーメータ５１の出力が上昇すると、ドライアイスペレット１００ａの搬送量が増加するように、トレイ４１の振動状態を変更する。尚、トレイ４１の振動の周波数や振幅が変更されると、トレイ４１によるドライアイスペレット１００ａの搬送能力が変化することは既述のとおりである。

【0047】

次に、本発明の効果を確認するために、本実施形態に係るドライアイスブラスト装置１Ａを用いて本件発明者が行った試験について説明する。

【0048】

＜試験１－１＞
本試験では、１分間に搬送部１２から粉砕部１３に供給されるドライアイスペレット１００ａの量［g/min］、トレイ４１の振動の周波数［Hz］及び振幅［mm］を次のように設定し、パワーメータ５１の受光量［V］に基づいてドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化を測定した。尚、ドライアイスペレット１００ａの供給量［g/min］は、トレイ４１の出口の下に配置した重量計によって予め計測するとともに、試験中は重量計を撤去した。

【0049】

供給量：50［g/min］
周波数：80［Hz］
振 幅：0.7［mm］（最大振幅の70%）
図４に、試験１－１における測定結果を示す。図４に示されているグラフの縦軸はパワーメータ５１の受光量［V］であり、横軸は時間［sec］である。また、グラフ中の基準線Ｘは、ドライアイス粒１００ｂの噴射量が零（ゼロ）のときのパワーメータ５１の受光量（0.681［V］）を示している。つまり、パワーメータ５１の受光量［V］が基準線Ｘを下回っているときには、ドライアイス粒１００ｂが噴射されている。一方、パワーメータ５１の受光量［V］が基準線Ｘを上回っているときには、ドライアイス粒１００ｂが噴射されていない。

【0050】

図４に示されているグラフより、実質的に全期間（20秒）に亘ってドライアイス粒１００ｂが噴射され続けたことがわかる。また、パワーメータ５１の受光量［V］を基準としたとき、ドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化が0.63［V］～0.69［V］の範囲内に収まっていることがわかる。つまり、全期間（20秒）に亘って安定的にドライアイス粒１００ｂが噴射され続けたことがわかる。

【0051】

＜試験１－２＞
本試験では、ドライアイスペレット１００ａの供給量［g/min］，トレイ４１の振動の周波数［Hz］及び振幅［mm］を次のように変更した以外、上記試験１－１と同一の条件および方法でドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化を測定した。

【0052】

供給量：80［g/min］
周波数：70［Hz］
振 幅：0.55［mm］（最大振幅の55%）
図５に、試験１－２における測定結果を示す。図５に示されているグラフの縦軸はパワーメータ５１の受光量［V］であり、横軸は時間［sec］である。また、グラフ中の基準線Ｘは、ドライアイス粒１００ｂの噴射量が零（ゼロ）のときのパワーメータ５１の受光量（0.705［V］）を示している。

【0053】

図５に示されているグラフより、全期間（20秒）に亘ってドライアイス粒１００ｂが噴射され続け、噴射が途絶えることは無かったことがわかる。また、パワーメータ５１の受光量［V］を基準としたとき、ドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化が0.65［V］～0.71［V］の範囲内に収まっていることがわかる。つまり、全期間（20秒）に亘って安定的にドライアイス粒１００ｂが噴射され続けたことがわかる。

【0054】

＜試験２－１＞
本試験では、本実施形態に係るドライアイスブラスト装置１Ａを用いて電線の絶縁被覆の表面に粗化処理を施し、その結果を確認した。具体的には、１分間に搬送部１２から粉砕部１３に供給されるドライアイスペレット１００ａの量［g/min］や、ノズル３２から噴射されるドライアイス粒１００ｂの圧力（噴射圧）［MPa］などを次のように設定して粗化処理を行った。次いで、粗化処理が施された絶縁被覆表面上の複数の測定エリアの算術平均粗さ（Ra）をレーザ顕微鏡によって測定した。

【0055】

供給量：50［g/min］
噴射圧：0.4［MPa］
レーザ顕微鏡：キーエンス社製レーザ顕微鏡（VK-8510）
各測定エリアの大きさ：200×100［mm］
測定アリアの数：６つ（電線の長手方向に約10mm間隔で並ぶ）
ここで、絶縁被覆の表面にめっきを施す場合、絶縁被覆表面とめっきとを十分に密着させるためには、絶縁被覆表面の算術平均粗さ（Ra）の平均値が3.0［μm］以上であり、かつ、下限値が2.0［μm］以上であることが好ましい。

【0056】

試験２－１では、６つの測定エリアの算術平均粗さ（Ra）の平均値は3.0［μm］以上であり、かつ、下限値は2.0［μm］以上であった。

【0057】

＜試験２－２＞
本試験では、１分間に搬送部１２から粉砕部１３に供給されるドライアイスペレット１００ａの量を80［g/min］に変更した以外、上記試験２－１と同一の条件および方法で絶縁被覆の表面に粗化処理を施し、粗化処理が施された絶縁被覆表面の算術平均粗さ（Ra）を測定した。その結果、６つの測定エリアの算術平均粗さ（Ra）の平均値は3.0［μm］以上であり、かつ、下限値も3.0［μm］以上であった。

【0058】

上記試験により、電磁振動方式の搬送部１２を有する本実施形態のドライアイスブラスト装置１Ａでは、ドライアイス粒が安定的に噴射されることが確認された。別の見方をすると、本実施形態のドライアイスブラスト装置１Ａを用いれば、ワーク表面を均一に処理可能であることが確認された。

【0059】

本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、搬送部１２の構成は、適宜変更することができる。例えば、トレイ４１の形状，大きさ，振動周波数，振幅などは、必要に応じて適宜変更することができる。また、上記実施形態におけるトレイ４１は金属製であったが、トレイ４１の素材は特定の素材に限定されない。もっとも、ドライアイスペレット１００ａが直に接するトレイ４１の熱伝導率は、なるべく低い方が好ましい。かかる観点からは、トレイ４１を樹脂製、セラミクス製又は木製とすることが好ましい。

【0060】

上記実施形態では、トレイ４１の表面の一部（底部４１ａの内面）に凸部４１ｅが形成されていた。しかし、底部４１ａの内面以外の場所に凸部４１ｅを形成してもよい。また、凸部４１ｅを凹部に置換してもよい。さらに、凸部および凹部の双方を形成してもよい。但し、ドライアイスペレット１００ａの詰まりを防止する観点からは、凹部がドライアイスペレット１００ａよりも小さいことが好ましい。

【0061】

検知部の構成も必要に応じて適宜変更することができる。例えば、上記実施形態におけるレーザ５０は発光ダイオードに置換可能であり、パワーメータ５１はフォトダイオードに置換可能である。また、ノズル３２から噴射されるドライアイス粒１００ｂを撮影した画像に基づいてドライアイス粒１００ｂの噴射量の変化を検知することもできる。

【0062】

本発明は、サイフォン式のドライアイスブラスト装置だけでなく、直噴式のドライアイスブラスト装置にも適用することができる。

【符号の説明】

【0063】

１Ａ…ドライアイスブラスト装置，１０…装置本体，１０ａ…筐体，１１…ホッパー，１１ａ…上方開口部（投入口），１１ｂ…下方開口部（排出口），１２…搬送部，１３…粉砕部，１３ａ（１３ｂ）…粉砕ローラ，１４…中継パイプ，１５…ドライアイス供給チューブ，２０…圧縮空気供給部，２１…コンプレッサ，２２…空気供給チューブ，３０…噴射部，３１…合流部，３２…ノズル，３２ａ…ノズル開口，４０…ベース，４１…トレイ，４１ａ…底部，４１ｂ（４１ｃ）…側面部，４１ｄ…背面部，４１ｅ…凸部，４２…駆動部，４２ａ…電磁石，４３…制御部，４４…支持部，５０…レーザ，５１…パワーメータ，１００ａ…ドライアイスペレット，１００ｂ…ドライアイス粒，Ｗ…ワーク

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】